JPH0225668B2 - - Google Patents
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- JPH0225668B2 JPH0225668B2 JP19777184A JP19777184A JPH0225668B2 JP H0225668 B2 JPH0225668 B2 JP H0225668B2 JP 19777184 A JP19777184 A JP 19777184A JP 19777184 A JP19777184 A JP 19777184A JP H0225668 B2 JPH0225668 B2 JP H0225668B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- synthetic resin
- raw material
- resin molded
- film
- scratch
- Prior art date
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、傷がつきにくく、かつノングレア性
に優れた合成樹脂成型品の製造方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a method for manufacturing a synthetic resin molded product that is hard to be scratched and has excellent non-glare properties.
(従来の技術)
今日、マイクロコンピユータ及びワードプロセ
ツサー等の急速な普及のためにCRT使用機器が
急増している。このCRTの急増により、CRT使
用時に遭遇するその前面での反射光の存在による
不快感あるいは作業能率の低下という問題点が浮
かび上がつている。こうした問題点に対処するた
めに反射光によるまぶしさが抑えられた。すなわ
ちノングレア性を付与された透明合成樹脂に対す
る要望が大きい。さらに、表面に耐擦傷性も付与
されていることにより、透視性及びノングレア性
とともに耐久性のある合成樹脂は極めて商品価値
の高いものとなつている。(Prior Art) Today, due to the rapid spread of microcomputers, word processors, etc., the number of devices using CRTs is rapidly increasing. The rapid increase in the use of CRTs has brought to light the problem of discomfort and decreased work efficiency due to the presence of reflected light from the front surface of CRTs encountered when using them. To address these issues, glare caused by reflected light was suppressed. That is, there is a strong demand for transparent synthetic resins that have non-glare properties. Furthermore, synthetic resins that have transparency and non-glare properties as well as durability have become extremely valuable as commercial products because of their surface scratch resistance.
こうしたノングレア性と耐擦傷性が付与された
合成樹脂成形品を製造する方法として、合成樹脂
基材の硬化後に、ノングレア性と耐擦傷性を有す
る皮膜を形成する原料を合成樹脂基材に塗布し、
硬化させてノングレア性と耐擦傷性を付与させる
方法が提案されている。すなわち、例えば、特開
昭56−84729号にはシリコン系化合物を主原料と
する皮膜形成原料を適用する方法が、また、特開
昭57−156832号等には分子中に複数のアクリロイ
ルオキシ基を有する化合物を主原料とする皮膜形
成原料を適用する方法が開示されている。しかし
ながら、これらの方法には皮膜形成原料の塗布・
硬化時に局部的に表面凹凸が乱れて商品価値を損
ねたり、また、表面の凹凸の程度の再現性が得ら
れにくいという問題点がある。 As a method for manufacturing synthetic resin molded products with non-glare and scratch resistance, after the synthetic resin base material has hardened, a raw material that forms a film with non-glare and scratch resistance is applied to the synthetic resin base material. ,
A method of curing to impart non-glare properties and scratch resistance has been proposed. That is, for example, JP-A No. 56-84729 discloses a method using a film-forming raw material whose main raw material is a silicon-based compound, and JP-A No. 57-156832 discloses a method using a film-forming raw material containing silicon compounds as the main raw material, and JP-A No. 57-156832, etc. A method is disclosed in which a film-forming raw material containing a compound having the following as a main raw material is applied. However, these methods require coating and coating of film-forming raw materials.
There are problems in that the surface irregularities are locally disturbed during curing, which impairs commercial value, and it is difficult to obtain reproducibility of the degree of surface irregularities.
(発明が解決しようとする問題点)
本発明の目的は、従来技術の問題点を克服し、
局部的な表面凹凸の乱れを生ずることなく表面凹
凸の再現性の良い、ノングレア性と耐擦傷性に優
れた合成樹脂成形品を提供することにある。(Problems to be Solved by the Invention) An object of the present invention is to overcome the problems of the prior art,
It is an object of the present invention to provide a synthetic resin molded product that has good reproducibility of surface irregularities without causing local irregularities in surface irregularities, and has excellent non-glare properties and scratch resistance.
(問題点を解決するための手段)
本発明は、従来技術のごとく自由表面から重合
硬化により微小な表面凹凸を形成させてノングレ
ア性を付与する方法に比べて、耐擦傷性皮膜形成
原料をあらかじめ適当に微小な凹凸が形成された
表面上で重合させてその表面を写し取らせた方が
局部的な表面凹凸の乱れを生ずることなく表面凹
凸の再現性の良いノングレア性の表面の得られる
との知見に基づいて完成されたものである。(Means for Solving the Problems) The present invention provides a method in which raw materials for forming an abrasion-resistant film are prepared in advance, compared to the conventional method in which fine surface irregularities are formed from a free surface by polymerization curing to impart non-glare properties. It is possible to obtain a non-glare surface with good reproducibility of surface irregularities by polymerizing on a surface with appropriately minute irregularities and copying the surface without causing local disturbance of the surface irregularities. It was completed based on the knowledge of
すなわち、本発明に係るノングレア性と耐擦傷
性に優れた合成樹脂成形品の製造方法は、あらか
じめ微小な凹凸が形成された鋳型成形面と合成樹
脂基材との間に耐擦傷性皮膜形成原料を介在させ
た状態で該原料重合硬化させ、次いで、該耐擦傷
性皮膜を合成樹脂基材と一体として鋳型成形面か
ら剥離することを特徴とする。 In other words, the method for producing a synthetic resin molded product with excellent non-glare and scratch resistance according to the present invention uses a raw material for forming a scratch-resistant film between a molding surface on which fine irregularities are formed in advance and a synthetic resin base material. It is characterized in that the raw material is polymerized and cured in a state in which the synthetic resin substrate is interposed, and then the scratch-resistant coating is peeled off from the molding surface as one piece with the synthetic resin base material.
以下、本発明の合成樹脂成形品の製造方法をさ
らに詳細に説明する。 Hereinafter, the method for producing a synthetic resin molded article of the present invention will be explained in more detail.
本発明であらかじめ微小な凹凸が形成された鋳
型成形面を構成する材料の具体例としては、ガラ
ス、ステンレス鋼あるいはアルミニウム等の金属
及びそれらの表面処理されたもの、または合成樹
脂等があげられる。これらの中で、傷がつきにく
く耐久性のあるガラス及び表面処理された金属が
好ましい具体例として挙げられる。また、その形
状は板状のもの及びドラムまたは円筒体のものを
具体例として挙げることができる。これら鋳型成
形面にあらかじめ微小な凹凸を形成させること自
体は既に広く行なわれており、それらの従来技術
の中から適当な方法を適宜選択して鋳型成形面に
微小な凹凸を形成させればよい。 In the present invention, specific examples of the material constituting the molding surface on which minute irregularities are formed include glass, metals such as stainless steel or aluminum, and surface-treated materials thereof, and synthetic resins. Among these, preferred specific examples include scratch-resistant and durable glass and surface-treated metal. Specific examples of the shape include a plate-like shape, a drum shape, and a cylindrical shape. Forming minute irregularities on the molding surface of a mold in advance is already widely practiced, and it is only necessary to select an appropriate method from among these conventional techniques to form minute irregularities on the molding surface of the mold. .
鋳型成形面にあらかじめ形成させる微小な凹凸
の形態は特に限定されるものでなく目的に応じて
適当に選択すれば良い。但し、本発明の目的を達
するために、その凹凸表面を写し取ることにより
製造された合成樹脂成形器の光沢度が、ノングレ
ア性付与処理前の合成樹脂基材の光沢度より少な
くとも20%低下する程度に、鋳型成形面に微小な
凹凸が形成されていることが好ましい。なお、本
発明で表わされる光沢度は、JIS−Z−8741の方
法2で測定した60度における鏡面光沢度を示す。 The form of minute irregularities formed in advance on the molding surface is not particularly limited, and may be appropriately selected depending on the purpose. However, in order to achieve the purpose of the present invention, the gloss of the synthetic resin molding machine manufactured by copying the uneven surface must be at least 20% lower than the gloss of the synthetic resin base material before non-glare imparting treatment. Preferably, minute irregularities are formed on the molding surface. Note that the glossiness expressed in the present invention refers to the specular glossiness at 60 degrees measured by method 2 of JIS-Z-8741.
本発明で用いられる合成樹脂基材としては、室
温で剛性をもつ透視性の優れた透明合成樹脂が、
特にCRT前面板等への使用に適するので好まし
い。その具体例としては、ポリメタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸メチルを主構成単位とする重合
体、ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチ
ル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合
体、ポリカーボネート、セルロース・アセテー
ト・ブチレート等を挙げることができる。 The synthetic resin base material used in the present invention is a transparent synthetic resin that is rigid at room temperature and has excellent transparency.
It is particularly suitable for use in CRT front panels and the like. Specific examples include polymethyl methacrylate, polymers whose main constituent unit is methyl methacrylate, polystyrene, styrene-methyl methacrylate copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, polycarbonate, cellulose acetate butyrate, etc. can be mentioned.
上記合成樹脂基材は板状品であることが好まし
く、その厚みは通常0.2〜20mmである。 The synthetic resin base material is preferably a plate-shaped product, and its thickness is usually 0.2 to 20 mm.
本発明で用いられる耐擦傷性皮膜形成原料の好
ましい具体例としては、分子中に2個以上のアク
リロイルオキシ基もしくはメタクリロイルオキシ
基を有する化合物または該化合物を50重量%以上
含有する重合性組成物を挙げることができる。こ
れらの化合物および重合性組成物が好ましいとさ
れる理由は、これらが耐擦傷性に優れた皮膜を形
成するばかりでなく、光増感剤の存在下に紫外線
を照射することにより急速に重合硬化させること
ができ生産性が極めて高いことに基づく。とりわ
け、分子中に2個以上のアクリロイルオキシ基を
有する化合物は光増感剤の存在下に紫外線を照射
することにより極めて急速に重合硬化して耐擦傷
性に優れた皮膜を形成するので特に好ましい。 Preferred specific examples of the scratch-resistant film-forming raw material used in the present invention include compounds having two or more acryloyloxy groups or methacryloyloxy groups in the molecule, or polymerizable compositions containing 50% by weight or more of such compounds. can be mentioned. These compounds and polymerizable compositions are preferred because they not only form a film with excellent scratch resistance, but also rapidly polymerize and cure when irradiated with ultraviolet light in the presence of a photosensitizer. This is based on the fact that it is possible to increase productivity and have extremely high productivity. In particular, compounds having two or more acryloyloxy groups in the molecule are particularly preferred because they polymerize and cure extremely rapidly when irradiated with ultraviolet rays in the presence of a photosensitizer, forming a film with excellent scratch resistance. .
分子中に2個以上のアクリロイルオキシ基又は
メタクリロイルオキシ基を有する化合物の具体例
としては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸
(アクリル酸またはメタクリル酸を意味する。以
下同様)またはそれらの誘導体から得られるエス
テル化物、あるいは多価アルコールと多価カルボ
ン酸と(メタ)アクリル酸またはそれらの誘導体
とから得られるエステル化物が挙げられる。 Specific examples of compounds having two or more acryloyloxy groups or methacryloyloxy groups in the molecule include polyhydric alcohols and (meth)acrylic acid (meaning acrylic acid or methacrylic acid, hereinafter the same) or derivatives thereof. Examples thereof include esterified products obtained from polyhydric alcohols, polyhydric carboxylic acids, and (meth)acrylic acids or derivatives thereof.
多価アルコールとしては、例えばエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、テトラエチレングリコール、平均分子
量が約300〜約1000のポリエチレングリコール、
プロピレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタン
ジオール、2,3−ブタンジオール、1,4−ブ
タンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,
6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール
(2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオー
ル)、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、
2,2′−チオジエタノール、1,4−シクロヘキ
サンジメタノール等の2価のアルコール、その他
トリメチロールプロパン(1,1,1−トリメチ
ロールプロパン)、ペンタグリセロール(1,1,
1−トリメチロールエタン)、グリセロール、ペ
ンタエリスリトール(2,2−ビスヒドロキシメ
チル−1,3−プロパンジオール)、ジグリセロ
ール、ジペンタグリセロール等がある。 Examples of polyhydric alcohols include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol with an average molecular weight of about 300 to about 1000,
Propylene glycol, dipropylene glycol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 2,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,
6-hexanediol, neopentyl glycol (2,2-dimethyl-1,3-propanediol), 2-ethyl-1,3-hexanediol,
Dihydric alcohols such as 2,2'-thiodiethanol and 1,4-cyclohexanedimethanol, other trimethylolpropane (1,1,1-trimethylolpropane), pentaglycerol (1,1,
1-trimethylolethane), glycerol, pentaerythritol (2,2-bishydroxymethyl-1,3-propanediol), diglycerol, dipentaglycerol, and the like.
これらと(メタ)アクリル酸とから得られる、
特に好ましい化合物としては、ジエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−
ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサ
ンジオールジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリ(メタ)アクリレート、トリメチロール
エタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタ
グリセロールペンタ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタグリセロールヘキサ(メタ)アクリレート等
を挙げることができる。 Obtained from these and (meth)acrylic acid,
Particularly preferred compounds include diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, tetraethylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, 1,4-
Butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, trimethylolethane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaglycerol penta(meth)acrylate, di Examples include pentaglycerol hexa(meth)acrylate.
また、多価アルコールと多価カルボン酸と(メ
タ)アクリル酸もしくはそれらの誘導体とから得
られる架橋重合性化合物は、基本的には多価アル
コールのヒドロキシル基と多価カルボン酸及び
(メタ)アクリル酸両者のカルボキシル基とが最
終的には当量となるような混合物を反応させるこ
とによつて得られる。 In addition, cross-linked polymerizable compounds obtained from polyhydric alcohols, polycarboxylic acids, (meth)acrylic acids, or their derivatives are basically the hydroxyl groups of polyhydric alcohols, polyhydric carboxylic acids, and (meth)acrylic acids. It is obtained by reacting a mixture such that the carboxyl groups of both acids are ultimately equivalent.
好ましい化合物としては、多価アルコールとし
て2価のアルコールもしくは3価のアルコールま
たは2価のアルコールと3価のアルコールの混合
物を用い、多価カルボン酸として2価カルボン酸
を用いて得られたエステル化物があげられる。3
価のアルコールと2価のアルコールの混合物を用
いる場合、3価のアルコールと2価のアルコール
とのモル比は任意に選ぶことができる。また、2
価カルボン酸と(メタ)アクリル酸とのモル比
は、2価カルボン酸のカルボキシル基と(メタ)
アクリル酸のカルボキシル基との当量比が2:1
〜0:1の範囲であることが好ましい。2価カル
ボン酸が上記の範囲より過剰の場合には、生成す
るエステルの粘度が高くなりすぎて塗膜の形成に
困難を生ずるようになる。 Preferred compounds include esterified products obtained by using dihydric alcohol, trihydric alcohol, or a mixture of dihydric alcohol and trihydric alcohol as the polyhydric alcohol, and using a dihydric carboxylic acid as the polyhydric carboxylic acid. can be given. 3
When using a mixture of a dihydric alcohol and a dihydric alcohol, the molar ratio of the trihydric alcohol to the dihydric alcohol can be arbitrarily selected. Also, 2
The molar ratio of divalent carboxylic acid and (meth)acrylic acid is the carboxyl group of divalent carboxylic acid and (meth)acrylic acid.
The equivalent ratio of acrylic acid to carboxyl group is 2:1
It is preferable that it is in the range of ~0:1. If the divalent carboxylic acid is in excess of the above range, the viscosity of the resulting ester becomes too high, making it difficult to form a coating film.
2価カルボン酸としては、例えばコハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸などの脂肪族ジカルボン
酸、テトラヒドロフタル酸、3,6−エンドメチ
レンテトラヒドロフタル酸などの脂環族ジカルボ
ン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸な
どの芳香族ジカルボン酸、チオジグリコール酸、
チオジバレリン酸、ジグリコール酸あるいはマレ
イン酸、フマル酸、イタコン酸などまたはこれら
の塩化物、無水物及びエステルを用いることがで
きる。 Examples of divalent carboxylic acids include aliphatic dicarboxylic acids such as succinic acid, adipic acid, and sebacic acid; alicyclic dicarboxylic acids such as tetrahydrophthalic acid and 3,6-endomethylenetetrahydrophthalic acid; phthalic acid; isophthalic acid; Aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, thiodiglycolic acid,
Thiodivaleric acid, diglycolic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, etc., or their chlorides, anhydrides, and esters can be used.
本発明の耐擦傷性皮膜形成原料中に配合するこ
とができる、上記した分子中に2個以上のアクリ
ロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基を
有する化合物と共重合可能な化合物としては(メ
タ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸アルキルエ
ステル、(メタ)アクリロキシエチルフオスフエ
ート等の重合性酸性リン酸エステル等を挙げるこ
とができる。本発明を実施するにあたつては皮膜
形成原料中に重合開始剤を添加することが好まし
い。一方、皮膜形成原料の重合硬化は、装置が比
較的に簡単なこと、生産性が高いことから、紫外
線照射による光重合で行なうことが好ましい。従
つて、皮膜形成原料に添加する重合開始剤として
は光増感剤が好ましい。このような光増感剤の具
体例としては、たとえばベンゾイン、ベンゾイン
メチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンゾインプロピルエーテル、アセトイン、ベンジ
ル、ベンゾフエノン、p−メトキシベンゾフエノ
ンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラ
ムモノスルフイド、テトラメチルチウラムジスル
フイドなどの硫黄化合物等を挙げることができ
る。 Compounds that can be copolymerized with the above-mentioned compound having two or more acryloyloxy groups or methacryloyloxy groups in the molecule that can be blended into the scratch-resistant film forming raw material of the present invention include (meth)acrylic acid; Examples include polymerizable acidic phosphate esters such as (meth)acrylic acid alkyl esters and (meth)acryloxyethyl phosphates. When carrying out the present invention, it is preferable to add a polymerization initiator to the film-forming raw material. On the other hand, polymerization and curing of the film-forming raw material is preferably carried out by photopolymerization using ultraviolet irradiation because the equipment is relatively simple and productivity is high. Therefore, a photosensitizer is preferable as the polymerization initiator added to the film-forming raw material. Specific examples of such photosensitizers include carbonyl compounds such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, acetoin, benzyl, benzophenone, p-methoxybenzophenone, and tetramethylthiuram monosulfur. Examples include sulfur compounds such as fluoride, tetramethylthiuram disulfide, and the like.
これら光増感剤の添加量は皮膜形成原料中の不
飽和重合性化合物100重量部に対して0.1〜10重量
部であることが好ましい。光増感剤の添加量が少
な過ぎると皮膜の重合硬化が遅いために生産性が
低い。他方、添加量が多過ぎると皮膜の耐候性の
低下等をひき起こしがちである。 The amount of these photosensitizers added is preferably 0.1 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the unsaturated polymerizable compound in the film-forming raw material. If the amount of photosensitizer added is too small, the polymerization and curing of the film will be slow, resulting in low productivity. On the other hand, if the amount added is too large, it tends to cause a decrease in the weather resistance of the film.
本発明の皮膜形成原料の重合硬化の具体的方法
は特に限定されないが、前述したごとく、装置が
比較的に簡単なこと、生産性が高いことから、光
増感剤の存在下における紫外線照射による光重合
方法が特に好ましい。 The specific method for polymerizing and curing the film-forming raw material of the present invention is not particularly limited, but as mentioned above, since the equipment is relatively simple and the productivity is high, UV irradiation in the presence of a photosensitizer is used. Particularly preferred are photopolymerization methods.
本発明のノングレア性と耐擦傷性を与える皮膜
の厚みは、1〜100ミクロンの範囲にあることが
好ましい。膜厚が1ミクロンに達しないときは場
合によつては耐擦傷性が十分にもたらされないこ
とが生ずるので好ましくない。他方、膜厚が100
ミクロンを越えるときは皮膜を表面にもつ合成樹
脂成形品がもろくなることが多く好ましくない。
さらに上記の範囲内で3〜20ミクロンであること
がより好ましい。 The thickness of the coating that provides non-glare and scratch resistance of the present invention is preferably in the range of 1 to 100 microns. When the film thickness is less than 1 micron, it is not preferable because sufficient scratch resistance may not be provided in some cases. On the other hand, the film thickness is 100
When it exceeds microns, the synthetic resin molded product having the film on its surface tends to become brittle, which is undesirable.
Furthermore, within the above range, it is more preferably 3 to 20 microns.
鋳型成形面と合成樹脂基材との間に、皮膜形成
原料を存在させる方法としては、鋳型成形面ある
いは合成樹脂基材に皮膜形成原料を塗布した後、
他方をプレスロール等で皮膜形成原料上に押圧
し、気泡を除きながら皮膜厚を調整する方法等が
具体的な例として挙げられる。 As a method for making the film forming raw material exist between the molding surface and the synthetic resin base material, after applying the film forming raw material to the molding surface or the synthetic resin base material,
Specific examples include a method in which the other material is pressed onto the film-forming raw material using a press roll or the like, and the film thickness is adjusted while removing air bubbles.
こうして存在させた皮膜形成原料の光重合を行
なうとき、合成樹脂基材を通して紫外線を照射す
る方法が一般に有効である。しかしながら、紫外
線不透過性の合成樹脂基材を用いるときは鋳型と
してガラスを用い、ガラスを通して紫外線を照射
する方法が有効である。 When photopolymerizing the film-forming raw material thus present, it is generally effective to irradiate ultraviolet rays through the synthetic resin base material. However, when using a synthetic resin base material that is opaque to ultraviolet rays, it is effective to use glass as a mold and irradiate ultraviolet rays through the glass.
合成樹脂基材および/または皮膜形成原料を加
熱した状態で両者を接触させることにより飛躍的
に皮膜と合成樹脂基材との密着性が向上する場合
も認められる。特に、ポリメタクリル酸メチルお
よびメタクリル酸メチルを主構成単位とする重合
体についてはこの加温の密着性向上への効果が著
しい。 There are cases in which the adhesion between the film and the synthetic resin base material is dramatically improved by bringing the synthetic resin base material and/or film-forming raw material into contact in a heated state. In particular, for polymethyl methacrylate and polymers having methyl methacrylate as the main constituent unit, this heating has a remarkable effect on improving adhesion.
(発明の効果)
本発明によれば、あらかじめ鋳型成形面に形成
された凹凸表面を写し取るので、得られる合成樹
脂成形品は局部的な表面凹凸の乱れを生ずること
がなく表面凹凸の再現性が非常によい。また、形
成された皮膜は耐擦傷性を有しているので、鋳型
成形面から合成樹脂基材と一体として剥離すると
きに微小な表面の擦傷を生ずることがない。(Effects of the Invention) According to the present invention, since the uneven surface formed in advance on the molding surface is copied, the resulting synthetic resin molded product does not have local disturbances in the surface unevenness and has high reproducibility of the surface unevenness. Very good. Furthermore, since the formed film has scratch resistance, it does not cause minute surface scratches when it is peeled off from the molding surface as one piece with the synthetic resin base material.
かくして、本発明方法により得られる合成樹脂
成形品は優れたノングレア性と耐擦傷性を兼備す
るため、反射光の存在が不快感を与えたり作業能
率の低下をもたらすためにノングレア性が要求さ
れ、また、耐擦傷性が要求される製品、例えば
CRTの前面板、メータカバー等として好適に用
いられる。 Thus, since the synthetic resin molded product obtained by the method of the present invention has both excellent non-glare properties and scratch resistance, non-glare properties are required because the presence of reflected light causes discomfort and reduces work efficiency. In addition, products that require scratch resistance, such as
Suitable for use as CRT front plates, meter covers, etc.
(実施例)
以下、実施例について本発明を更に詳細に説明
する。実施例中の部は重量部を表わす。(Example) Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. Parts in the examples represent parts by weight.
耐擦傷性の評価は以下に示す落砂法での曇価の
増加で示す。すなわち、あらかじめ試験片を水平
方向と45゜の角度に傾斜させて、鉛直軸のまわり
に11R.P.M.の速度で回転させておき、試験片の
70cm上方から60メツシユのカーボランダム300g
を150g/分の速度で落下させ、落砂後の曇価か
ら落砂前の曇価を差し引いた値が曇価の増加を表
わす。 The scratch resistance is evaluated by the increase in haze value determined by the falling sand method shown below. That is, the test piece is tilted at an angle of 45° with the horizontal direction and rotated around the vertical axis at a speed of 11 R.PM.
300g of 60 mesh carborundum from 70cm above
is dropped at a speed of 150 g/min, and the increase in haze value is calculated by subtracting the haze value before sand fall from the haze value after sand fall.
なお、曇価は次の式で示される。 Note that the haze value is expressed by the following formula.
曇価(%)=全光線透過率−平行光線透過率/全光線透過
率×100
曇価の増加の小さいもの程、耐擦傷性はすぐれ
る。Haze value (%) = total light transmittance - parallel light transmittance / total light transmittance x 100 The smaller the increase in haze value, the better the scratch resistance.
試料の表面あらさはポリエステル樹脂中に埋め
込んだ試料の断面の観察図を巾方向に圧縮して示
した図(第2,3および4図)で表わした。 The surface roughness of the sample was expressed by the cross-sectional view of the sample embedded in the polyester resin compressed in the width direction (Figures 2, 3 and 4).
実施例 1
トリメチロールプロパントリアクリレート 70部
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 30部
ベンゾインエチルエーテル 3部
よりなる皮膜形成原料を、面積約610mm×460mm、
厚さ6mmを有し、表面に微小な凹凸が形成された
強化ガラス面上に流延させ、その上に厚さ1mmの
無色透明なポリカーボネート樹脂板(三菱レイヨ
ン(株)製ダイアライト1001)を置き、上からローラ
ーにより樹脂板とガラスとの間に気泡が残らない
ように展延し、皮膜形成原料の厚さが約8ミクロ
ンになるようにした。そのような状態のものを、
まず75mm間隔で10本配列させた螢光ケミカルラン
プ(東芝製FL−20BL)で6cmの高さからガラス
側から1分間照射した。その後、ガラス板を皮膜
が形成されたポリカーボネート樹脂板から剥離
し、引き続き400mm間隔で2本配列させた高圧水
銀灯(東芝H2000L)を用いて20cmの高さから、
皮膜の形成された面側を30秒間照射して皮膜の後
硬化を行なつた。Example 1 A film-forming raw material consisting of 70 parts of trimethylolpropane triacrylate, 30 parts of 1,6-hexanediol diacrylate, and 3 parts of benzoin ethyl ether was prepared in an area of approximately 610 mm x 460 mm.
It was cast onto a tempered glass surface with a thickness of 6 mm and minute irregularities formed on the surface, and a colorless and transparent polycarbonate resin plate (Dialight 1001 manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) with a thickness of 1 mm was placed on top of it. The resin plate was placed on the plate and spread with a roller from above so that no air bubbles remained between the resin plate and the glass, so that the thickness of the film-forming raw material was approximately 8 microns. Things in such a state,
First, 10 fluorescent chemical lamps (Toshiba FL-20BL) arranged at 75 mm intervals were used to irradiate the glass side for 1 minute from a height of 6 cm. After that, the glass plate was peeled from the polycarbonate resin plate on which the film was formed, and then it was removed from a height of 20 cm using two high-pressure mercury lamps (Toshiba H2000L) arranged at 400 mm intervals.
The surface on which the film was formed was irradiated for 30 seconds to post-cure the film.
こうして得られた樹脂板には局部的な表面凹凸
の乱れは認められず、また、皮膜が形成された側
は、落砂法での曇価の増加が12%、光沢度が81%
であつて、ノングレア性と耐擦傷性が優れてい
た。この樹脂板の皮膜が形成された側の表面あら
さを測定したところ第2図に記載した結果が得ら
れていた。 No local irregularities in the surface irregularities were observed on the resin plate obtained in this way, and on the side where the film was formed, the haze value increased by 12% by the falling sand method, and the gloss level increased by 81%.
It had excellent non-glare properties and scratch resistance. When the surface roughness of this resin plate on the side on which the film was formed was measured, the results shown in FIG. 2 were obtained.
なお、皮膜を形成する前のポリカーボネート樹
脂板の落砂法での曇価の増加は67%であり、光沢
度は167%であつた。 In addition, the increase in haze value of the polycarbonate resin plate before forming the film by the sand drop method was 67%, and the gloss level was 167%.
比較例 1
皮膜原料を
メタクリル酸メチル部分重合物(重合体含有量
22%) 100部
ベンゾインエチルエーテル 3部
に代え、螢光ケミカルランプでの照射時間を10分
に代えた以外は実施例1の操作を繰り返すことに
より、ノングレア性の表面を有する合成樹脂成形
品を得た。Comparative Example 1 The film raw material was a methyl methacrylate partial polymer (polymer content
22%) 100 parts benzoin ethyl ether By repeating the procedure of Example 1 except for replacing 3 parts with 3 parts and changing the irradiation time with a fluorescent chemical lamp to 10 minutes, a synthetic resin molded product with a non-glare surface was produced. Obtained.
この合成樹脂成形品には、強化ガラス板から剥
離した際に発生したと考えられる、かなりの数の
長さ2〜3mmの小さな傷が発生しておりそのため
に表面凹凸の乱れが目立つた。 This synthetic resin molded product had a considerable number of small scratches of 2 to 3 mm in length, which were thought to have occurred when it was peeled off from the tempered glass plate, and as a result, the surface irregularities were noticeably disturbed.
実施例 2
1,4−ブタンジオールジアクリレート100部、
ベンゾインエチルエーテル1.5部を混合した皮膜
形成原料を、面積約610mm×460mm、厚さ6mmを有
し、表面に微小な凹凸が形成された強化ガラス面
上に流延させ、その上に45℃に加熱した厚さ3mm
の無色透明のメタクリ樹脂板(三菱レイヨン(株)製
アクリライトL#001)を置き、上からローラー
により樹脂板とガラスとの間に気泡が残らないよ
うに展延し、皮膜形成原料の厚さが約10ミクロン
になるようにした。そのような状態のものをま
ず、75mm間隔で10本配列させた螢光ケミカルラン
プ(東芝製FL−20BL)を用いて6cmの高さから
メタクリル樹脂板側から1分間照射した。その
後、ガラス板を皮膜が形成されたメタクリル樹脂
板から剥離し、引き続き400mm間隔で2本配列さ
せた高圧水銀灯(東芝製H2000L)を用いて20cm
の高さから皮膜が形成された面側を30秒間照射し
て皮膜の後硬化を行なつた。こうして得られた樹
脂板の皮膜が形成された側は、落砂法での曇価の
増加が11%、光沢度が79%であつて、ノングレア
性と耐擦傷性が優れていた。この樹脂板の皮膜が
形成された側の表面あらさを測定したところ第3
図に記載した結果が得られた。Example 2 100 parts of 1,4-butanediol diacrylate,
A film-forming raw material mixed with 1.5 parts of benzoin ethyl ether was cast onto a tempered glass surface with an area of approximately 610 mm x 460 mm and a thickness of 6 mm with minute irregularities formed on the surface, and then heated to 45°C. heated thickness 3mm
A colorless and transparent methacrylic resin plate (Acrylite L#001 manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) is placed on top, and the film is spread using a roller so that no air bubbles remain between the resin plate and the glass. The thickness was set to approximately 10 microns. The material in such a state was first irradiated from the methacrylic resin plate side for 1 minute from a height of 6 cm using 10 fluorescent chemical lamps (FL-20BL manufactured by Toshiba) arranged at 75 mm intervals. After that, the glass plate was peeled off from the methacrylic resin plate on which the film was formed, and then a 20 cm
The film was post-cured by irradiating the surface on which the film was formed from a height of 30 seconds for 30 seconds. The side of the thus obtained resin plate on which the film was formed had an increase in haze value of 11% by sand drop method, a gloss level of 79%, and was excellent in non-glare properties and scratch resistance. When we measured the surface roughness of this resin plate on the side where the film was formed, it was found that
The results shown in the figure were obtained.
なお、皮膜を形成する前のメタクリル樹脂板の
落砂法での曇価の増加は55%、光沢度は148%で
あつた。 Furthermore, before the film was formed, the haze value of the methacrylic resin plate measured by the sand drop method increased by 55%, and the gloss level increased by 148%.
実施例 3
第1図に示した装置を用い、常法に従つて予備
混合した
メタクリル酸メチル−アクリル酸メチル共重合体
100部
(メタクリル酸メチル/アクリル酸メチル構成
比
=94.2/5.8(重量比)
極限粘度数(25℃、クロロホルム溶媒)
=0.072/g)
チヌビンP(チバ・ガイギー(株)社製) 0.01部
を可塑化押出機1にて溶融混練し、ダイス2より
押し出してつや付けロール4,5を介して表面に
微小な凹凸が形成されたガラス製中空ロール6に
連続的に合成樹脂板3を供給した。Example 3 Methyl methacrylate-methyl acrylate copolymer premixed according to a conventional method using the apparatus shown in Figure 1.
100 parts (Methyl methacrylate/methyl acrylate composition ratio = 94.2/5.8 (weight ratio) Intrinsic viscosity number (25°C, chloroform solvent) = 0.072/g) Tinuvin P (manufactured by Ciba Geigy) 0.01 part The synthetic resin plate 3 was melt-kneaded in a plasticizing extruder 1, extruded from a die 2, and continuously supplied to a glass hollow roll 6 whose surface had minute irregularities via gloss rolls 4 and 5.
他方、ロールコータ8によつてロール6に連続
的に
トリメチロールプロパントリアクリレート 100部
ベンゾインエチルエーテル 2部
からなる皮膜形成原料7を、約15ミクロンの厚み
となるように供給することにより、合成樹脂板3
とロール6との間に介在させた。その後、高圧水
銀灯(東芝(株)製H2000L)9から紫外線を照射し
て皮膜形成原料を硬化させた。 On the other hand, a film-forming raw material 7 consisting of 100 parts of trimethylolpropane triacrylate and 2 parts of benzoin ethyl ether is continuously supplied to the roll 6 by a roll coater 8 so as to have a thickness of about 15 microns. Board 3
and roll 6. Thereafter, the film-forming raw material was cured by irradiating ultraviolet rays from a high-pressure mercury lamp (H2000L manufactured by Toshiba Corporation) 9.
こうすることにより表面に微細な凹凸をもつ耐
擦傷性の皮膜10が表面に形成された、厚さ3
mm、巾550mmのメタクリル系樹脂板11が得られ
た。 By doing this, a scratch-resistant film 10 having a thickness of 3 is formed on the surface with fine irregularities.
A methacrylic resin plate 11 with a width of 550 mm and a width of 550 mm was obtained.
こうして得られた樹脂板には局部的な表面凹凸
の乱れは認められず、また、皮膜の形成された側
は、落砂法での曇価の増加が13%、光沢度は55%
であつて、ノングレア性と耐擦傷性が優れてい
た。この樹脂板の皮膜が形成された側の表面あら
さを測定したところ第4図に記載した結果が得ら
れた。 In the thus obtained resin plate, no local disturbance of surface irregularities was observed, and on the side where the film was formed, the haze value increased by 13% by the falling sand method, and the gloss level increased by 55%.
It had excellent non-glare properties and scratch resistance. When the surface roughness of this resin plate on the side on which the film was formed was measured, the results shown in FIG. 4 were obtained.
比較例 2
実施例3で表面に微小な凹凸の形成されたロー
ル6に代えて鏡面光沢のガラス製中空ロールを用
いた以外は実施例3と同様の操作を繰り返すこと
により連続的に耐擦傷性メタクリル系樹脂板を得
た。Comparative Example 2 Scratch resistance was continuously improved by repeating the same operations as in Example 3, except that a mirror-glossy glass hollow roll was used in place of the roll 6 with minute irregularities formed on the surface in Example 3. A methacrylic resin plate was obtained.
この樹脂板の皮膜が形成された側の光沢度は
147%であつた。 The gloss level of this resin plate on the side where the film is formed is
It was 147%.
比較例 3
実施例3で、表面に微小な凹凸が形成されたロ
ール6に、皮膜形成原料7を供給せず、可塑化押
出機1より供給された合成樹脂板3をロール6に
直接押圧した以外は実施例3と同様の操作を繰り
返すことにより連続的にメタクリル系樹脂板を得
た。Comparative Example 3 In Example 3, the film-forming raw material 7 was not supplied to the roll 6 on which minute irregularities were formed, and the synthetic resin plate 3 supplied from the plasticizing extruder 1 was directly pressed onto the roll 6. Except for this, methacrylic resin plates were continuously obtained by repeating the same operations as in Example 3.
この樹脂板のロール6と接した面は実施例3で
得られた樹脂板と同様にノングレア性を有してい
たが、ロール6からの離型時に生じたと考えられ
る、樹脂板の引き取り方向と平行の多数の長さ1
〜2mmの小さな傷が発生しておりそのために表面
凹凸の乱れが目立つた。 The surface of this resin plate in contact with the roll 6 had non-glare properties similar to the resin plate obtained in Example 3, but the surface of the resin plate in contact with the roll 6 had a non-glare property, which was thought to have occurred when the resin plate was released from the roll 6. Parallel many lengths 1
Small scratches of ~2 mm were generated, which caused noticeable irregularities in the surface irregularities.
第1図は表面に微小な凹凸の形成されたガラス
製中空ロールを用いて連続的にノングレア性と耐
擦傷性に優れた合成樹脂板を製造する本発明方法
の実施に用いる装置を示す。第2図、第3図およ
び第4図はそれぞれ実施例1、実施例2および実
施例3で得られた合成樹脂板の皮膜の形成された
側の表面あらさを示す。第1図中の参照数字は以
下のとおりである。
1:可塑化押出機、2:ダイス、3:熱可塑性
合成樹脂板、4,5:つや付けロール、6:表面
に微小な凹凸が形成されたガラス製中空ロール、
7:皮膜形成原料、8:ロールコータ、9:水銀
灯、10:耐擦傷性硬化皮膜、11:ノングレア
性、耐擦傷性合成樹脂板。
FIG. 1 shows an apparatus used to carry out the method of the present invention for continuously producing a synthetic resin plate having excellent non-glare properties and scratch resistance using a glass hollow roll having minute irregularities formed on its surface. FIGS. 2, 3, and 4 show the surface roughness of the coated side of the synthetic resin plates obtained in Example 1, Example 2, and Example 3, respectively. Reference numbers in FIG. 1 are as follows. 1: Plasticizing extruder, 2: Dice, 3: Thermoplastic synthetic resin plate, 4, 5: Glazing roll, 6: Glass hollow roll with minute irregularities formed on the surface.
7: film-forming raw material, 8: roll coater, 9: mercury lamp, 10: scratch-resistant cured film, 11: non-glare, scratch-resistant synthetic resin plate.
Claims (1)
面と合成樹脂基材との間に耐擦傷性皮膜形成原料
を介在させた状態で該原料を重合硬化させ、次い
で、該耐擦傷性皮膜を合成樹脂基材と一体として
鋳型成形面から剥離することを特徴とする、ノン
グレア性と耐擦傷性に優れた表面を有する合成樹
脂成形品の製造方法。 2 合成樹脂基材がポリメタクリル酸メチル、メ
タクリル酸メチルを主構成単位とする重合体、ポ
リスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重
合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポ
リカーボネート、セルロース・アセテート・ブチ
レートよりなる群から選ばれたものである特許請
求の範囲第1項記載の合成樹脂成形品の製造方
法。 3 耐擦傷性皮膜形成原料が、分子中に2個以上
のアクリロイルオキシ基もしくはメタクリロイル
オキシ基を有する化合物または該化合物を50重量
%以上含有する重合性組成物である特許請求の範
囲第1項または第2項記載の合成樹脂成形品の製
造方法。 4 紫外線照射による光重合で耐擦傷性皮膜形成
原料を重合硬化せしめる特許請求の範囲第3項記
載の合成樹脂成形品の製造方法。 5 耐擦傷性皮膜の厚みが1ミクロン〜100ミク
ロンである特許請求の範囲第1項から第4項まで
のいずれかに記載の合成樹脂成形品の製造方法。 6 ノングレア性が付与された合成樹脂成形品表
面の光沢度が、ノングレア性付与処理前の合成樹
脂基材の光沢度より少なくとも20%低下する程度
に、鋳型成形面にあらかじめ微小な凹凸を形成す
る特許請求の範囲第1項記載の合成樹脂成形品の
製造方法。[Scope of Claims] 1. A raw material for forming a scratch-resistant film is interposed between a synthetic resin base material and a molding surface on which fine irregularities have been formed in advance, and the raw material is polymerized and cured, and then the scratch-resistant film-forming raw material is polymerized and cured. A method for manufacturing a synthetic resin molded product having a surface with excellent non-glare and scratch resistance, characterized by peeling an abrasion-resistant film from a molding surface integrally with a synthetic resin base material. 2 The synthetic resin base material is composed of polymethyl methacrylate, a polymer whose main constituent unit is methyl methacrylate, polystyrene, styrene-methyl methacrylate copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, polycarbonate, cellulose acetate butyrate A method for producing a synthetic resin molded article according to claim 1, wherein the synthetic resin molded article is selected from the group consisting of: 3. Claim 1, wherein the scratch-resistant film-forming raw material is a compound having two or more acryloyloxy groups or methacryloyloxy groups in the molecule, or a polymerizable composition containing 50% by weight or more of the compound, or 2. The method for producing a synthetic resin molded product according to item 2. 4. The method for producing a synthetic resin molded article according to claim 3, wherein the raw material for forming the scratch-resistant film is polymerized and cured by photopolymerization using ultraviolet irradiation. 5. The method for producing a synthetic resin molded article according to any one of claims 1 to 4, wherein the scratch-resistant coating has a thickness of 1 micron to 100 microns. 6. Forming minute irregularities on the molding surface in advance to the extent that the gloss of the surface of the synthetic resin molded product imparted with non-glare properties is at least 20% lower than the gloss of the synthetic resin base material before non-glare imparting treatment. A method for producing a synthetic resin molded article according to claim 1.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19777184A JPS6176328A (en) | 1984-09-22 | 1984-09-22 | Manufacture of synthetic-resin-molded article which is superior in surface charateristic |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPS6176328A JPS6176328A (en) | 1986-04-18 |
JPH0225668B2 true JPH0225668B2 (en) | 1990-06-05 |
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---|---|---|---|---|
JP2610463B2 (en) * | 1987-12-28 | 1997-05-14 | 大日本印刷株式会社 | Method of manufacturing an eraser film |
US5281371A (en) * | 1990-11-16 | 1994-01-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for forming substrate sheet for optical recording medium |
-
1984
- 1984-09-22 JP JP19777184A patent/JPS6176328A/en active Granted
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