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JPH02254308A - 外観検査方法 - Google Patents

外観検査方法

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Publication number
JPH02254308A
JPH02254308A JP7786189A JP7786189A JPH02254308A JP H02254308 A JPH02254308 A JP H02254308A JP 7786189 A JP7786189 A JP 7786189A JP 7786189 A JP7786189 A JP 7786189A JP H02254308 A JPH02254308 A JP H02254308A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inspected
inspection
items
illumination light
illumination
Prior art date
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Granted
Application number
JP7786189A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2922214B2 (ja
Inventor
Tatsuo Sugimoto
辰男 杉本
Tsutomu Mimata
巳亦 力
Makoto Ariga
有賀 誠
Takashi Okabe
隆史 岡部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP7786189A priority Critical patent/JP2922214B2/ja
Publication of JPH02254308A publication Critical patent/JPH02254308A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2922214B2 publication Critical patent/JP2922214B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
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  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体装置あるいは他の電子部品等の外観検
査、特に多項目の外観検査を効率的に行うことのできる
技術に関する。
〔従来の技術〕
この種の技術について記載されている例としては、特開
昭62−103548号公報、あるいは特開昭62−1
56547号公報等がある。
半導体装置等の製造においては、パッケージの外観が品
質に大きく影響する場合が多い。すなわち、当該製品に
おいてリードを含むパッケージ不良が生じていると視覚
的に印象が悪いというばかりでな(、実装不良あるいは
水分の侵入等による特性劣化を来し易い場合が多い。そ
のために、製造工程の最終段階ではこれらの外観が一定
基準を満たしているかを検査する外観検査工程が行われ
ている。
かかる外観検査は、上記の各公報にも記載されているよ
うに、ICパッケージ等の被検査対象に対してできるだ
け均一な照度を有する照明系を用意し、被検査対象とし
てのパッケージ表面あるいはリードからの反射光を検出
してこれを検査者の視覚を通じて認識し、製品の良否を
判定するものが一般的である。
ところで、上記外観検査における検査項目としては、リ
ードに関するものだけでもたとえば、リード曲がり、リ
ードの欠落、リード平坦度、表面の傷、打痕、メツキ状
態等多岐にわたっており、この他にパッケージに関する
項目としてはモールドくぼみ、ボイド、パッケージ欠け
、割れ、さらにはパッケージ表面のマークの印字状態に
至るまで多種の検査項目がある。これらの複数種類の検
査項目に対して、検査手段としては被検査物体に対して
一律的な照明光の照射を行うことによって行っていた。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、上記のように多種の検査項目間において、最
適な検査条件、特に照明条件は一定なものではなく、検
査項目毎に照明条件が及ぼす影響、たとえば不良検出率
等が大きく異なることが本発明者によって見い出された
。すなわち、上記従来技術においては、パッケージ本体
表面とリード表面とのように光の反射率の大きく異なる
被検査対象部位間であっても一定の照明条件下しか設定
せずに、多種にわたる検査項目を実施していたため、項
目によっては必然的に不良検出率が低下し、精度の高い
外観検査を実施することが困難な状況となっていた。
また、上記の如く検査者の目視に依存した検査基準によ
っては客観的な良否判定が′難しく、これも検査精度を
低下させる要因であった。
さらに、照明光量等の条件を異なったものに設定した複
数の検査装置を用意することも考えられるが、検査効率
を著しく低下させるおそれがあり、現実的ではなかった
本発明は、上記課題に着目してなされたものであり、そ
の目的は、多種の項目にわたる外観検査を高精度かつ効
率的に行うことのできる技術を提供することにある。
本発明の上記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
〔課題を解決するための手段〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、概ね次のとおりである。
すなわち、被検査対象に対して照明条件を可変にして多
種の検査項目に対してそれぞれ最適な照明状態の設定を
行うものである。
また、被検査対象に対してあらかじめ照明光源の照明条
件設定のために用意されたパラメータを種々に変更して
多種の検査項目を実施する際に、検査項目を完全不良項
目と再生可能不良項目とに分け、完全不良項目を検査し
た後に再生可能不良項目を検査するものである。
〔作用〕
上記した手段によれば、多種の検査項目に対してそれぞ
れ最適な照明状態の設定を可能とすることにより、パッ
ケージ本体表面とリード表面とのように光の反射率の異
なる被検査部位間においても不良検出率が変化すること
なく、常に高精度な検出を行うことができる。
また、検査項目を完全不良項目と再生可能不良項目とに
分け、完全不良項目を検査した後に再生可能不良項目を
検査することによって、完全不良項目に該当する不良の
検出された被検査対象物はこの段階で排除されるため、
次の再生可能不良項目の検査を効率的に行うことができ
、外観検査の効率化を図ることができる。
〔実施例〕
第1図は本発明の一実施例である外観検査装置の光学系
を示す説明図、第2図はその処理系を示すブロック図、
第3図は照明光源を示す斜視図、第4図は照明光源の移
動による変化の状態を示す説明図、第5図はリング照明
の断面構造を示す断面図、第6図は被検査対象の移動手
順を説明するためのブロック図、第7図は装置構成の外
観を示す斜視図、第8図(a)〜(r)はそれぞれ被検
査対象のリード部における不良項目を具体的に示す説明
図、第9図(a)〜(1)はそれぞれ被検査対象のモー
ルド部における不良項目を具体的に示す説明図、第10
図(a)〜(C)はそれぞれ被検査対象のパッケージ表
面のマーキング部における不良項目を具体的に示す説明
図、第11図は外観検査装置内における被検査物体の移
動手順を具体的に示す説明図、第12図はリード平坦度
修正部の機構を示す断面図、第13図(a)〜(6)は
検査部における被検査物体と検査ヘッドとの位置関係を
示す説明図、第14図は検査ヘッドの内部における光学
系を示す説明図、第15図は実施例の実験結果を説明す
るための光学系とリング照明と被検査物体である半導体
装置の配置状態を示す説明図、第16図〜第22図は実
施例の説明のために、本発明者の実験によって得られた
各検査項目における不良検出精度(縦軸)と照明光の入
射角度θ(横軸)との関係を示す説明図である。
本実施例における外観検査装置1は第7図に示すように
、装置本体2と、これを制御するパソコンシステム等か
らなる制御部3とで構成されており、制御部3には同図
に図示されているプリンタ装置4および制御情報を表示
するためのデイスプレィ5の他に同図では図示されてい
ないが外部記憶手段として磁気ディスク装置6等が備え
られている。
本実施例で用いられる照明光源は照明本体がリング状に
構成された、いわゆるリング照明7であり、第3図に示
すようなランプハウス8を有している。ランプハウス8
には図示しないハロゲンランプなどの照明光源が内蔵さ
れており、この照明光源によって発生された照明光が束
状に構成された光フアイバケーブル10を経由してリン
グ照明7に伝えられる構成となっている。
第1図は、上記リング照明7を2重構造としたものを示
しており、外周側のリング照明7aと内周側のリング照
明7bとで照灯の切り換えを行うことによって、被検査
対象物である半導体装置11に対して照射される照明光
の照明角度θを変更可能となっている。このような、2
重構造のリング照明7は、第5図に示すように大径のリ
ング照明7aと小径のリング照明7bとで各々独立した
照明が可能な構造とされており、各リング照明7内には
たとえば光ファイバが埋め込まれた構造を有している。
なお、照明条件の変更方法として、第1図に示した大径
のリング照明7aと小径のリング照明7bとの照灯の切
り換えによるものの他、第4図に示すように単一のリン
グ照明7を用意し、このリング照明7を半導体装置11
に対して上下動させる構造としてもよい。
上記照明光源からの照明光は、半導体装置110表面で
反射した後、リング照明7の上方に位置するTVカメラ
13によって光電変換される。T■カメラ13の撮像信
号は、概略的には第2図に示すように、まずA/D変換
部14においてA/D変換された後、多値化部19にお
いて2値化あるいは多値化されて一旦メモリ15に格納
された後、検出部16において、予めサンプリングされ
た基準信号と比較されて外観不良の有無が検出される。
第6図は、半導体装置11の移動手順を示しており、同
図に示すように、ローダ・アンローダ17より供給され
、位置決めの行われた半導体装置11は、まずリード平
坦度修正部18においてリード20の平坦度が修正され
た後、検査部21 (同図では第1検査部21a〜第3
検査部21cまでを図示)において所定の検査が実施さ
れ、搬送部22によってローダ・アンローダ17に戻さ
れる。
上記の半導体装置11の移動は、たとえばコンベア等の
搬送手段により行われ、これらは第6図に示す駆動機構
制御部23によって制御されている。検査部21は各々
画像処理部24に接続されており、検査部21より得ら
れた画像信号はこの画像処理部24で処理されるととも
にCRT等のモニタ25によってオペレータの目視によ
る監視が可能となっている。上記画像処理部24は、制
御部3によって制御される構成となっている。
上記構成を装置上のレイアウトで示したものが第11図
である。半導体装置11である半導体装置11は、収納
トレイ26に収容された状態でローダ・アンローダ17
に°供給され、該収納トレイ26より順次1個ずつ取り
出されて位置決め部9にてパッケージの位置決めが行わ
れた後、リード平坦度修正部18に送られる。リード平
坦度修正部18では、第12図(a)およびら)に示す
ように、押上機構27と押下機構28とを備えており、
両機構27.28は共に半導体装置11のパッケージ面
を固定する真空吸引口3“0を備えた吸着ステージ31
を有している。押上機構27における吸着ステージ31
の上方にはリード押え32が半導体装置11の側面より
突出されたリード20の根元部分を同図上方より支持す
るように設けられている。上記リード20に対してその
下方には押上型33が配置されており、上記リード20
の先端部分を下方から上方に一定距離だけ押し上げる構
造となっている。
一方、押下機構28は、第12図ら)に示すように吸着
ステージ31の側方に配置され、半導体装置11の側面
から突出されたリード20の根元部分を同図下方より支
持するリード押え32と、その上方に配置された押下型
34を有しており、上記リード20の先端部分を上方よ
り下方に一定距離だけ押し下げる構造となっている。
上記押上機構27ふよび押下機構28の押上型33およ
び押下型34は、マイクロメータヘッド等により定量的
な移動が可能な構造となっており、同図のようにガルウ
ィング状にリード20が形成された製品に対して、リー
ド20の押し下げおよび押し上げの2工程を通じて平坦
度の修正を行うものである。
上記リード平坦度修正部18においてリード20の平坦
度修正の行われた半導体装置11は、検査IfB21に
送られて所定の外観検査が実施される。
第13図(a)〜(6)はそれぞれ第1〜第4検査部(
21a〜21d)における半導体装W111と検査ヘッ
ド35との位置関係を示したものである。すなわち、第
1検査部21a (第13図(a))では半導体装置1
1の側面方向に検査ヘッド35.35が配置されており
、リード20の平坦度、パッケージ側面のボイド、リー
ド20の根元部分の半田付着等が検査される。第2検査
部21b(第13図(ハ))では、検査へラド35は半
導体装置11の上方に配置されてふり、主としてパッケ
ージ表面のボイド、異物付着、パッケージの欠け/クポ
ミ、パフケージクラック、マーキング状態、リード20
0曲がり等が検査される。第3検査部21c(第13図
(C))では、半導体装置11の下方に検査ヘッド35
が配置されており、半導体装置11の下面側から上記第
13図(社)で説明したものと同様の検査項目を実施す
る。なお、前述の第6図では図示していないが、第4検
査部21d(第13図(社))として検査ヘッド35を
半導体装置IIの側面方向に配置して、リード20の平
坦度および曲がり等をさらに精密に検査するかあるいは
第1検査部21a〜第3検査部2ICで検査することが
出来ない部分(リード裏側)の検査を行うようにしても
よい。
第14図は、上記検査へγド35の構成を示している。
第14図の検査ヘッド35の配置は第13図(b)の検
査へラド35の配置状態に対応しているものとする。こ
の配置状態において、リング照明7の上方に位置する検
査へラド35の内部には、レンズ36を経てガルバノミ
ラ−37が配置されており、このガルバノミラ−37に
よって反射された反射光が例えば2048画素のCCD
リニアセンサによって構成された受光素子38に入光さ
れ、半導体装置11からの反射光を画像信号に変換する
構成となっている。なお、上記ガルバノミラ−37は、
ガルバノミラ−制御部40によって反射角度を移動でき
る構造とされており、半導体装置11のパッケージ表面
を所定の範囲で走査可能となっている。
次に、本実施例における主な検査項目について第8図〜
第10図を用いて具体的に説明する。
第8図(a)〜(r)は半導体装11i!11のリード
部における不良項目を各々示している。
同図(a)はフラットパッケージ、(b)はJリードパ
ッケージのリード平坦度に関する不良状態を示しており
、同図中に示すばらつきΔaが所定値、たとえば数十μ
m以上の場合にはリード平坦度不良とされるものである
同図(C)および(6)は、リード曲がり不良、すなわ
ちリード20の水平方向のずれを示しており、このずれ
量Δaが一定値以上となった場合が不良とされる。
同図(e)はリード不揃い不良、同図げ〕はダム切断不
良、同図((至)はリード打痕不良、同図(社)はレジ
ンフラッシュ不良、同図(i)はリードキズ不良、同図
(J)はめっき不良、同図(資)は半田濡れ不良、同図
(1)は半田ブリッジ不良、同図■は半田ヒゲおよび半
田ツララ不良、同図(n)〜(ロ)はそれぞれ半田突起
/過多/粒不良、同図(6)は異物付着不良、同図(r
)は汚れ不良をそれぞれ示している。これらの各検査項
目は同一の検査部21で同時に検査可能なものも多い。
たとえば、同図(e)〜同図0)等の項目については同
時に検査可能である。
第9 図(a)〜(i)は、モールド部における不良項
目をそれぞれ示している。
すなわち、同図(a)および(b)は、半導体装置11
のパッケージ表面におけるボイド不良を示しており、同
図(C)は主としてレジンクズ等による異物付着不良、
同図(6)および(e)はカケ/クボミ不良、同図(f
)はパッケージクラック不良、同図(8)はキズ不良、
同図(社)は汚れ/シミ不良、同図(りは半田付着不良
をそれぞれ示している。なお、同図では(1)のみDI
P形のパッケージ構造で示しているが、他のパッケージ
構造であっても検査項目はほぼ同様である。
第10図(a)〜(C)は、それぞれマーキング不良の
態様を示しており、同図(a)は文字の一部が欠けてい
る状態のマーク欠は不良、同図ら)は文字が消えている
マーク消え不良、同図(C)はマーキングの濃淡が異常
となっている濃淡不良をそれぞれ示している。なおマー
キング不良に関してはこの他にも図示していないが、イ
ンク付着、位置ズレ、ダブリマーキング等の不良項目が
ある。
なお、第10図にそれぞれ示したマーキング不良の検査
に関しては、先の第8図におけるリード部の検査あるい
はモールド部の検査等において同時に実施することが可
、能である。
また、上記第8図〜第10図で説明した検査項目は完全
不良項目と再生可能不良項目とに分類することができる
。すなわち、前者はその不良が再加工によって補填でき
ない程度のものであり、当該不良が発見されるとその製
品はライン上から廃棄してしまう以外にないものを指す
。これらに該当するものとしては、リードの不揃い不良
(第8図(e)) 、リード打痕不良(第8図(〕)、
めっき不良(第8図(社))、ボイド不良(第9図(a
))、パッケージクラック不良(第9図(f))等があ
る。また、後者の再生可能不良は、不良箇所の修正によ
って再生可能な項目であり、リード平坦度不良(第8図
(a)および(b))、リード曲がり不良(第8図(C
)および(6))、半田濡れ不良(第8図Ck)) 、
半田ブリッジ不良(第8図(1))、等がある。
本実施例の検査部21で行われる不良項目の検査に際し
ては、まず前者の完全不良項目についての検査を行い、
続いて再生可能不良項目の検査を行うことにより、完全
不良項目該当製品をラインから強制的に排除した後に、
効率的に再生可能不良項目の検査を行うことができ、検
査重複の無駄を低減することができる。
次に、本実施例により得られた不良検出率の変化につい
て本発明者の実験結果を基に説明する。
本実験において、本発明者は第15図に示すように、被
検査物体である半導体装置11の上方りの高さに上下動
可能な直径rのリング照明7を配置し、その上方に光学
系41を配置した。このとき、リング照明7からの入射
光と基準光軸lとで構成される角度をθとしてリング照
明7の高さhを変化させることによりこの角度θを変化
させて不良検出率の変化を測定した。
なお、第16図〜第22図において、◎、O1△、Xは
不良検出率の度合を示しており、◎は最適な画像認識に
より不良検出が最適な状態で行われた場合、Oは概ね適
正な状態となっている場合、△は検出にやや難がある場
合、×は検出が困難な場合をそれぞれ示している。
第16図は第9図(a)もしくは(b)に示すようなパ
ッケージ表面におけるボイドの検出を行った実験結果を
示しており、予めφ=200〜300μm程度のボイド
不良を生じている製品を試料として用意し、不良検出率
をθ= 12.3°〜40.9°の範囲でモニタ25上
における認識画像によって検査した。この結果、同図に
示すように、θが12゜3°〜23.6°の間では上記
ボイドが鮮明に検出可能であったが、27.5 @〜3
3.0°の間では検出に難があり、39.1°以上では
検出不可能であった。この結果、パッケージ表面のボイ
ドの検出においては、θが小さい値、すなわちhを比較
的高い位置に配置する方が検出率が高くなることが判明
した。
第17図は、第8図(1〕に示したようなり−ドキズ不
良を検出する場合を示してふり、この場合には同図に示
すように、12.3 ’〜16.3 ’の狭い範囲で検
出率が高いことが明かとなった。
第18図は、第8図(g)に示したようなり−ド打痕不
良の検出を示しており、このような検査項目においては
22.1°〜40.9°の比較的θの大きくなる範囲、
すなわちhの値が小さくなるように半導体装置11に対
してリング照明7を降下・接近させた位置に配置するこ
とにより不良検出率が高くなることが明らかになった。
第19図は、第8図(社)に示したレジンフラッシュ不
良の検出を示しており、この種の検査項目では12.3
°〜33,0°の比較的広範囲で高い検出率が得られて
いる。
第20図は、半導体装置11のパッケージに右けるモー
ルドキズ不良(第9図(g))の検出率の変化を示して
おり、当該検査項目については、22゜5゛〜40.9
 @の範囲における検出率が高くなっている。
第21図は、半導体装置11のパッケージに右けるモー
ルド異物付着(第9図(C))の検出率の変化を示して
おり、同図によればθ= 12.3°〜40.9°の範
囲で概ね適正な検出率を維持できている。
第22図は、半導体装置11におけるパッケージ表面の
マーキング不良を示しており、22.1゜〜40.9°
の範囲で高い・検出率が得られている。
以上第16図〜第22図で示したように、各検査項目に
よって高い検出率の得られる角度θの範囲は異なってお
り、検査項目毎に最高検出率の得られるように角度θを
設定する必要のあることが理解できる。
上記角度θの設定は、先に説明したように、第151!
lに示した高さhを変化させることによって可能である
。な右、第15図ではリング照明7を上下動させて高さ
hを変化させ、これにともなって角度θを変化させる場
合で説明したが、これに限らず第1図で説明したように
、大径と小径のリング照明7a、7bを用意し、これら
の照灯を切り換えることによって角度θを2段階あるい
は数段階に変化させてもよい。
さらに、上記以外にも、リング照明7を高さhの異なる
位置に複数系統設けた構成として、これらの照灯を切換
制御することによって角度θを段階的に変更する機構と
してもよい。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。たとえば、照明条件の変
更としては、被検査対象に対する照明光源の照射角度を
変更する場合について説明したが、これに限らず他の照
明条件の変更、たとえば照明光量の変更等を行うことに
してもよい。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその利用分野である、いわゆる半導体装置製造におけ
るパッケージ組立後の外観検査技術に適用した場合につ
いて説明したが、これに限定されるものではなく、たと
えば半導体ウェハ状態における外観検査、さらには他の
電子部品等における外観検査に広く適用できる。
〔発明の効果〕
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
すなわち、多種の検査項目に対してそれぞれ最適な照明
状態の設定を可能とすることにより、光の反射率の異な
る被検査部位間にふいても不良検出率が変化することな
く、常に高精度な検出を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例である外観検査装置の光学系
を示す説明図、 第2図はその処理系を示すブロック図、第3図は上記実
施例における照明光源を示す斜視図、 第4図は同じく照明光源の移動による変化の状態を示す
説明図、 第5図はリング照明の断面構造を示す断面図、第6図は
本実施例における被検査対象の移動手順を説明するため
のブロック図、 第7図は装置構成の外観を示す斜視図、第8図(a)〜
(r)はそれぞれ被検査対象のリード部における不良項
目を具体的に示す説明図、第9図(a)〜(1)はそれ
ぞれ被検査対象のモールド部における不良項目を具体的
に示す説明図、第10図(a)〜(C)はそれぞれ被検
査対象のパッケージ表面のマーキング部における不良項
目を具体的に示す説明図、 第11図は実施例の外観検査装置内における被検査物体
の移動手順を具体的に示す説明図、第12図(a)およ
び(5)は実施例のリード平坦度修正部の機構を示す断
面図、 第13図(a)〜(d)は各検査部における被検査物体
と検査ヘッドとの位置関係を示す説明図、第14図は実
施例における検査ヘッドの内部における光学系を示す説
明図、 第15図は本実施例の実験結果を説明するための光学系
とリング照明と被検査物体である半導体装置の配置状態
を示す説明図、 第16図〜第22図は実施例の説明のために、本発明者
の実験によって得られた各検査項目における不良検出精
度(縦軸)と照明光の入射角度θ(横軸)との関係を示
す説明図である。 1・・・外観検査装置、2・・・装置本体、3・・・制
御部、4・・・プリンタ装置、5・・・デイスプレィ、
7・・・リング照明、7a・・・リング照明、7b・・
・リング照明、8・・・ランプハウス、9・・・位置決
め部、10・・・光フアイバケーブル、11・・・半導
体装置、13・・・TVカメラ、14・・・A/D変換
部、15・・・メモリ、16・・・検出部、17・・・
ローダ・アンローダ、18・・・リード平坦度修正部、
19・・・多値化部、20・・・リード、21・・・検
査部、21a・・・第1検査部、21b・・・第2検査
部、21c・・・第3検査部、21d・・・第4検査部
、22・・・搬送部、23・・・駆動機構制御部、24
・・・画像処理部、25・・・モニタ、26・・・収納
トレイ、27・・・押上機構、28・・・押下機構、3
0・・・真空吸引口、31・・・吸着ステージ、32・
・・リード押え、33・・・押上型、34・・・押下型
、35・・・検査ヘッド、36・・・レンズ、37・・
・ガルバノミラ−38・・・受光、l、40・・・ガル
バノミラ−制御部、41・・・光学系、θ・・・入射角
度。 代理人 弁理士 筒 井 大 和 第 図 第 図 第2 11面の浄書 第7図 図面の浄; 第 図 図面の浄書 第 図 (a) (b) 第10図 第 図 (a) (b) 第 図 図面の浄書 (C) (d) 第14 図 第 図 第17 図 第18 図 第19 図 第20図 第 図 第22 図 手続補正書 (方式) %式% 発明の名称 外観検査方法および装置 3゜ 補正をする者 事件との関係 名称(510)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、被検査対象に対して照明光を照射し、この反射光に
    よって外観状態を検査する外観検査であって、照明条件
    を可変にして多種の検査項目に対してそれぞれ最適な照
    明状態の設定を可能とすることを特徴とする外観検査方
    法。 2、上記照明条件の変更は被検査対象に対する照明光源
    の照射角度を連続的に変化させることにより行うことを
    特徴とする請求項1記載の外観検査方法。 3、上記照明条件の変更は被検査対象に対する照明光源
    の照射角度を段階的に変化させることにより行うことを
    特徴とする請求項1記載の外観検査方法。 4、所定の被検査対象に対してあらかじめ照明光源の照
    明条件設定のために用意されたパラメータを種々に変更
    して多種の検査項目を実施する際に、検査項目を完全不
    良項目と再生可能不良項目とに分け、完全不良項目を検
    査した後に再生可能不良項目を検査することを特徴とす
    る外観検査方法。 5、被検査対象に対して相対的に移動可能な照明光源と
    、2以上の検査項目の変更にしたがって被検査対象と照
    明光源との位置を予め定められた最適値に設定する制御
    手段とを備えた外観検査装置。 6、被検査対象に対して切換照灯が可能な2以上の照明
    光源と、2以上の検査項目の変更にしたがって2以上の
    照明光源のうちから最適な照明光源を選択して照灯させ
    る制御手段とを備えた外観検査装置。 7、上記2以上の照明光源は、被検査対象に対して配置
    されたリング径の異なる2以上のリング照明からなるこ
    とを特徴とする請求項6記載の外観検査装置。 8、上記2以上の照明光源は、被検査対象に対して高さ
    位置の異なる2以上のリング照明からなることを特徴と
    する請求項6記載の外観検査装置。 9、照明光源と光学系と面像認識手段とをそれぞれ備え
    た2以上の画像入力部を有しており、各画像入力部では
    各々異なる照明配置によって認識された被検査対象から
    の認識画像を得ることを特徴とする外観検査装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05248820A (ja) * 1992-03-10 1993-09-28 Nec Toyama Ltd 照明装置
JP2006220427A (ja) * 2005-02-08 2006-08-24 Omron Corp 基板検査装置
JP2012015230A (ja) * 2010-06-30 2012-01-19 Daiichi Jitsugyo Viswill Co Ltd チップled検査装置
KR101324969B1 (ko) * 2012-03-07 2013-11-05 한미반도체 주식회사 반도체 패키지 검사장치

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