JPH02250865A - 23位に酸素官能基を有するステロイド誘導体 - Google Patents
23位に酸素官能基を有するステロイド誘導体Info
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- JPH02250865A JPH02250865A JP1073062A JP7306289A JPH02250865A JP H02250865 A JPH02250865 A JP H02250865A JP 1073062 A JP1073062 A JP 1073062A JP 7306289 A JP7306289 A JP 7306289A JP H02250865 A JPH02250865 A JP H02250865A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Steroid Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野コ
本発明は新規な23位に酸素官能基を有するステロイド
誘導体に関する。本発明の23位に酸素官能基を有する
ステロイド誘導体は慢性腎不全、副甲状腺機能低下症、
骨軟化症などのカルシウム代謝の欠陥症の治療にH効で
あることか知られているlα、25−ジヒドロキシビタ
ミンD3、またビタミンD様の活性を有することが知ら
れているlα−ヒドロキシビタミンD3などのlα位に
水酸基を有するビタミンD、誘導体の合成中間体として
有用である。
誘導体に関する。本発明の23位に酸素官能基を有する
ステロイド誘導体は慢性腎不全、副甲状腺機能低下症、
骨軟化症などのカルシウム代謝の欠陥症の治療にH効で
あることか知られているlα、25−ジヒドロキシビタ
ミンD3、またビタミンD様の活性を有することが知ら
れているlα−ヒドロキシビタミンD3などのlα位に
水酸基を有するビタミンD、誘導体の合成中間体として
有用である。
[従来の技術]
従来、1α位に水酸基を有するビタミンD、誘導体の製
造方法としては、例えば、コレステロールを原料として
使用することにより!α−ヒドロキシビタミンD、を製
造する方法(特開昭48−62750号公報参照)、コ
レスタ−1,4,6−)ジエン−3−オン−25−オー
ルを原料とする1α、25−ジヒドロキシビタミンDs
を製造する方法(特開昭5t−100056号公報参照
)などが知られている。
造方法としては、例えば、コレステロールを原料として
使用することにより!α−ヒドロキシビタミンD、を製
造する方法(特開昭48−62750号公報参照)、コ
レスタ−1,4,6−)ジエン−3−オン−25−オー
ルを原料とする1α、25−ジヒドロキシビタミンDs
を製造する方法(特開昭5t−100056号公報参照
)などが知られている。
[R明が解決しようとする課題]
上記の通り、1α位に水酸基を有するビタミンD、誘導
体の製造方法は種々知られているが、該lα位に水酸基
を有するビタミンD1y4導体を製造するに際し、合成
中間体として使用できる化合物を多くの化合物の中から
選択することができれば、原料事情に応じてその製造プ
ロセスを適宜変更することが可能となり好ましい。
体の製造方法は種々知られているが、該lα位に水酸基
を有するビタミンD1y4導体を製造するに際し、合成
中間体として使用できる化合物を多くの化合物の中から
選択することができれば、原料事情に応じてその製造プ
ロセスを適宜変更することが可能となり好ましい。
しかして、本発明の・・・目的は、種々のlα位に水酸
基を有するビタミンD、誘導体の合成中間体となり得る
新規なステロイド誘導体を堤供することにある。
基を有するビタミンD、誘導体の合成中間体となり得る
新規なステロイド誘導体を堤供することにある。
[課題を解決するための手段]
本発明によれば、上記の目的は
(1)−殺伐
(式中、R1、R9及びXは前記定義の通りである)で
示される23−ヒドロキシコレスタ−5,7−ジエン誘
導体(II)、及び (3)−殺伐 (式中、R1及びR″はそれぞれ水素原子又は水酸基の
保護基を表わし、Xは水素原子又は−〇Y基を表わし、
Yは水素原子又は水酸基の保護基を表わす) で示される23−オクソコレスター5.7−ジエン誘導
体(1)、 (2)−殺伐 (式中、R1及びR茸は前記定義の通りであろ)で示さ
れる23−オフソー9,10−セココレスタ−5゜7、
1(1(19)−= トリエン誘導体(m−A >を提
供することにより達成される。
示される23−ヒドロキシコレスタ−5,7−ジエン誘
導体(II)、及び (3)−殺伐 (式中、R1及びR″はそれぞれ水素原子又は水酸基の
保護基を表わし、Xは水素原子又は−〇Y基を表わし、
Yは水素原子又は水酸基の保護基を表わす) で示される23−オクソコレスター5.7−ジエン誘導
体(1)、 (2)−殺伐 (式中、R1及びR茸は前記定義の通りであろ)で示さ
れる23−オフソー9,10−セココレスタ−5゜7、
1(1(19)−= トリエン誘導体(m−A >を提
供することにより達成される。
上記−殺伐(1)、−殺伐(II)及び−殺伐(III
−A)で示される化合物を以後それぞれ下記の様に称す
ることがある。
−A)で示される化合物を以後それぞれ下記の様に称す
ることがある。
(+) ステロイド誘導体(1)(■) ス
テロイド誘導体([I)上記各−最大におけろR1%R
1及びYを以下に詳しく説明する。
テロイド誘導体([I)上記各−最大におけろR1%R
1及びYを以下に詳しく説明する。
R1、R3及びYが表わす水酸基の保護基としては、水
酸基の保護の目的を達成するかぎり、通常用いられてい
るいずれの保護基でも良いが、具体的には三置換シリル
基、置換基を有していても良いアルコキシメチル基など
が挙げられる。ここで、三置換シリル基としては、トリ
メチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソ′プロ
ピルシリル基、【−ブチルジメチルシリル基などのトリ
アルキルシリル基;t−ブチルジフェニルシリル基など
のジアリールアルキルシリル基などが挙げられ、置換基
を有していても良いアルコキシメチル基としては、メト
キシメチル基、メトキシエトキシメチル基などのアルコ
キシメチル基;1−エトキシエチル基、l−メトキシ−
!−メチルエチル基などのアルキル置換アルコキシメチ
ル基;テトラヒドロフラン−2−イル基、テトロヒドロ
ビラン−2−イル基などの2−オキサシクロアルキル基
などが挙げられる。
酸基の保護の目的を達成するかぎり、通常用いられてい
るいずれの保護基でも良いが、具体的には三置換シリル
基、置換基を有していても良いアルコキシメチル基など
が挙げられる。ここで、三置換シリル基としては、トリ
メチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソ′プロ
ピルシリル基、【−ブチルジメチルシリル基などのトリ
アルキルシリル基;t−ブチルジフェニルシリル基など
のジアリールアルキルシリル基などが挙げられ、置換基
を有していても良いアルコキシメチル基としては、メト
キシメチル基、メトキシエトキシメチル基などのアルコ
キシメチル基;1−エトキシエチル基、l−メトキシ−
!−メチルエチル基などのアルキル置換アルコキシメチ
ル基;テトラヒドロフラン−2−イル基、テトロヒドロ
ビラン−2−イル基などの2−オキサシクロアルキル基
などが挙げられる。
ステロイド誘導体(1)は例えば以下の方法により製造
することができる。
することができる。
以下余白
(上記の式において、R1,R*およびXは前記定義の
通りであり、R3及びR′はそれぞれ水素原子又は水酸
基の保護基を表わし、R6は水酸基の保護基を表わし、
R1は低級アルキル基又はアリール基を表わし、Acは
アセチル基を表わし、Phはフェニル基を表わす) 上記式(V)、式(Vl−1)、−最大(Vl−2)、
−最大(■)、−最大(■)及び−最大(II)で示さ
れる化合物を以後それぞれ下記のように称することここ
でR3、R4及びRoが表わす水酸基の保護基としては
、水酸基の保護の目的を達成するかぎり、通常用いられ
ているいずれの保護基でら良いが、具体的にはR1が表
わす基などが挙げられろ。R11が表わす低級アルキル
基としては、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピ
ル基などが挙げられ、(Vl−1) アルデヒ
r (Vl−1>(Vl−2) アルデヒド(
Vl−2)(■) アルコール(■) (■) スルホナート(■) さらに、−最大(V[−2)において、R3及びR4が
下記の基を表わすことによって示される化合物を以後下
記の様に称することかある。
通りであり、R3及びR′はそれぞれ水素原子又は水酸
基の保護基を表わし、R6は水酸基の保護基を表わし、
R1は低級アルキル基又はアリール基を表わし、Acは
アセチル基を表わし、Phはフェニル基を表わす) 上記式(V)、式(Vl−1)、−最大(Vl−2)、
−最大(■)、−最大(■)及び−最大(II)で示さ
れる化合物を以後それぞれ下記のように称することここ
でR3、R4及びRoが表わす水酸基の保護基としては
、水酸基の保護の目的を達成するかぎり、通常用いられ
ているいずれの保護基でら良いが、具体的にはR1が表
わす基などが挙げられろ。R11が表わす低級アルキル
基としては、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピ
ル基などが挙げられ、(Vl−1) アルデヒ
r (Vl−1>(Vl−2) アルデヒド(
Vl−2)(■) アルコール(■) (■) スルホナート(■) さらに、−最大(V[−2)において、R3及びR4が
下記の基を表わすことによって示される化合物を以後下
記の様に称することかある。
れる。 まず、Il、 Saiらの方法[ケミカル・フ
ァーマシュー゛ティカル・ヲルテン(Chew、 Ph
arm、 Bull、) 32巻3866〜3872ペ
ージC1984年)参照]に従って調製した化合物(V
)をアルデヒド(V[−1)に変換するが、この変換は
化合物(VT)の側鎖の炭素−炭素二重結合を選択的に
オゾン酸化し、得られるオシニドを還元的に処理し、さ
らに5,7−ジエン及び水酸基の保護基を除去すること
により行る。すなわち化合物(V)の溶液に冷却下オゾ
ンガスを通じるか、あるいは予め調製したオゾンの飽和
溶液を化合物CV)の溶液の冷却下に加えることにより
、オゾン化が行われ、次いで適当な還元剤を加えろこと
によって還元的後処理が行われろ。
ァーマシュー゛ティカル・ヲルテン(Chew、 Ph
arm、 Bull、) 32巻3866〜3872ペ
ージC1984年)参照]に従って調製した化合物(V
)をアルデヒド(V[−1)に変換するが、この変換は
化合物(VT)の側鎖の炭素−炭素二重結合を選択的に
オゾン酸化し、得られるオシニドを還元的に処理し、さ
らに5,7−ジエン及び水酸基の保護基を除去すること
により行る。すなわち化合物(V)の溶液に冷却下オゾ
ンガスを通じるか、あるいは予め調製したオゾンの飽和
溶液を化合物CV)の溶液の冷却下に加えることにより
、オゾン化が行われ、次いで適当な還元剤を加えろこと
によって還元的後処理が行われろ。
使用するオゾンガスのmは通常化合物(■)1モルに対
して約0.1〜10モル、好ましくは約0.5〜0.8
モルである。この反応は、塩化メチレン、メタノールな
どの反応に関与しない溶媒中で行われ、その使用量は通
常化合物(V)に対して約10〜200倍重量である。
して約0.1〜10モル、好ましくは約0.5〜0.8
モルである。この反応は、塩化メチレン、メタノールな
どの反応に関与しない溶媒中で行われ、その使用量は通
常化合物(V)に対して約10〜200倍重量である。
またこの溶液中に約1%のピリジンを共存させることも
可能である。オゾン化反応は通常約0℃以下の温度下で
行われ、好ましくは約−jO〜−100℃の範囲内の温
度で行われる。還元的後処理は通常的−1OO〜30℃
の範囲内の温度で行われる。反応は、ドライアイス−ア
セトン浴中で冷却した化合物(V ) 1モルに対して
約0.5〜0.8モルのオゾン及び1%ピリジンを含む
塩化メチレン溶液をドライアイス−アセトン浴中で冷却
した化合物(V)の溶液に加え、オゾンの青色が消えた
ことを確認した後に、約20モルのジメチルスルフィド
を加え、ドライアイス−アセトン浴を除去し、室温まで
加温することにより実施するのが簡便である。次いで、
反応液を冷希塩酸、食塩水で順次洗浄した後、乾燥・a
tmL徂生成吻合放物後、通常用いられている方法に従
ってジエンの脱保護を行うと同時に水酸基の脱アセチル
化を行うことにより化合物(Vl−1>が得られる。こ
の脱保護・脱アセチル化の方法としては、エタノール中
水酸化カリウムで処理する方法などが挙げられるが、使
用するエタノールの量は化合物(V)に対して約1〜2
00倍重量であり、また使用する水酸化カリウムの量は
化合物(■)1モルに対して約10〜500モル、好ま
しくは50〜200モルである。
可能である。オゾン化反応は通常約0℃以下の温度下で
行われ、好ましくは約−jO〜−100℃の範囲内の温
度で行われる。還元的後処理は通常的−1OO〜30℃
の範囲内の温度で行われる。反応は、ドライアイス−ア
セトン浴中で冷却した化合物(V ) 1モルに対して
約0.5〜0.8モルのオゾン及び1%ピリジンを含む
塩化メチレン溶液をドライアイス−アセトン浴中で冷却
した化合物(V)の溶液に加え、オゾンの青色が消えた
ことを確認した後に、約20モルのジメチルスルフィド
を加え、ドライアイス−アセトン浴を除去し、室温まで
加温することにより実施するのが簡便である。次いで、
反応液を冷希塩酸、食塩水で順次洗浄した後、乾燥・a
tmL徂生成吻合放物後、通常用いられている方法に従
ってジエンの脱保護を行うと同時に水酸基の脱アセチル
化を行うことにより化合物(Vl−1>が得られる。こ
の脱保護・脱アセチル化の方法としては、エタノール中
水酸化カリウムで処理する方法などが挙げられるが、使
用するエタノールの量は化合物(V)に対して約1〜2
00倍重量であり、また使用する水酸化カリウムの量は
化合物(■)1モルに対して約10〜500モル、好ま
しくは50〜200モルである。
反応は、化合物(■)1モルに対して約100モルの水
酸化カリウムを含む約2規定のエタノール溶液を加え、
約1.5時間加熱還流することにより行うのが簡便であ
る。
酸化カリウムを含む約2規定のエタノール溶液を加え、
約1.5時間加熱還流することにより行うのが簡便であ
る。
反応混合物からのアルデヒド(VT−1)の単離・精製
は、通常の有機反応において行われている単離・精製法
と同様にして行われる。例えば、反応液を冷却後水にあ
け、酢酸エチルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重
曹水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を
得、再結晶・クロマトグラフィーなどにより精製するこ
とによってアルデヒド(Vl−1)を得ろことができる
。
は、通常の有機反応において行われている単離・精製法
と同様にして行われる。例えば、反応液を冷却後水にあ
け、酢酸エチルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重
曹水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を
得、再結晶・クロマトグラフィーなどにより精製するこ
とによってアルデヒド(Vl−1)を得ろことができる
。
この様にして得られたアルデヒド(Vl−1)は、必要
に応じて常法に従い1位および3位の水酸基の保護を行
い、アルデヒド(Vl−2)に変換されろ。この際、1
位または3位の水酸基を選択的に保護し、ジオールのモ
ノ保護体を得た後に、再び保護反応を行うことにより、
アルデヒド(W−2)に変換することもできる。
に応じて常法に従い1位および3位の水酸基の保護を行
い、アルデヒド(Vl−2)に変換されろ。この際、1
位または3位の水酸基を選択的に保護し、ジオールのモ
ノ保護体を得た後に、再び保護反応を行うことにより、
アルデヒド(W−2)に変換することもできる。
アルデヒド(Vl−1)からアルデヒド(Vl−2−1
)への変換は常法に従い、例えば塩基性物質の存在下に
塩化三置換シリルを作用させることにより行うことがで
きる。反応に用いられる塩化三置換シリルとしては、塩
化トリメチルシリル、塩化トリエチルシリル、塩化トリ
イソプロピルシリル、塩化t−ブチルジメチルシリル、
塩化1−ブチルジフェニルシリルなどが挙げられる。塩
化三置換シリルの使用量は、通常アルデヒド(Vl−り
1モル対して約2〜50モル、好ましくは5〜20モル
である0反応に用いられろ塩基性物質としては、ピリジ
ン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
ジエチルアニリン、イミダゾールなどの有機アミン、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物、
水素化ナトリウムなどの金属水素化物などが挙げられる
。塩基性物質の使用量は、通常アルデヒド(Vl−1)
1モル対して約2〜200モルであり、好ましくは約5
〜lOOモルである。この反応は通常溶媒中で実施され
るが、使用する有機塩基を溶媒として用いることも可能
であり、また塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジメ
チルホルムアミドなどの反応に関与しない溶媒を用いる
ことも可能である。溶媒の使用量は、通常アルデヒド(
Vl−1’)に対して約5〜200倍重量である0反応
は通常的−20−100℃の範囲内の温度、好ましくは
約O〜30℃の範囲内の温度で行われる。
)への変換は常法に従い、例えば塩基性物質の存在下に
塩化三置換シリルを作用させることにより行うことがで
きる。反応に用いられる塩化三置換シリルとしては、塩
化トリメチルシリル、塩化トリエチルシリル、塩化トリ
イソプロピルシリル、塩化t−ブチルジメチルシリル、
塩化1−ブチルジフェニルシリルなどが挙げられる。塩
化三置換シリルの使用量は、通常アルデヒド(Vl−り
1モル対して約2〜50モル、好ましくは5〜20モル
である0反応に用いられろ塩基性物質としては、ピリジ
ン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
ジエチルアニリン、イミダゾールなどの有機アミン、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物、
水素化ナトリウムなどの金属水素化物などが挙げられる
。塩基性物質の使用量は、通常アルデヒド(Vl−1)
1モル対して約2〜200モルであり、好ましくは約5
〜lOOモルである。この反応は通常溶媒中で実施され
るが、使用する有機塩基を溶媒として用いることも可能
であり、また塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジメ
チルホルムアミドなどの反応に関与しない溶媒を用いる
ことも可能である。溶媒の使用量は、通常アルデヒド(
Vl−1’)に対して約5〜200倍重量である0反応
は通常的−20−100℃の範囲内の温度、好ましくは
約O〜30℃の範囲内の温度で行われる。
この様にして得られたアルデヒド(Vl−2−1)の反
応混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において
行われている単離・精製法と同様にして行われる。例え
ば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの
有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重蕾水・食塩水で順次洗
浄し、乾燥後a縮して粗生成物を得、再結晶・クロマト
グラフィーなどにより精製することによりアルデヒド(
Vl−2−1)を得ることができる。
応混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において
行われている単離・精製法と同様にして行われる。例え
ば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの
有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重蕾水・食塩水で順次洗
浄し、乾燥後a縮して粗生成物を得、再結晶・クロマト
グラフィーなどにより精製することによりアルデヒド(
Vl−2−1)を得ることができる。
アルデヒド(Vl−1)のアルデヒド(Vl−2−2)
への変換は、常法に従い、例えば、塩基性物質の存在下
にクロルメチルエーテルを作用させるか、あるいは酸触
媒下にビニルエーテルを作用させろことにより行われる
。反応に用いられるクロルメチルエーテルとしては、ク
ロルメチルメチルエーテル、塩化メトキシエトキシメチ
ルなどが挙げられ、ビニルエーテルとしては、エチルビ
ニルエーテル、メチルイソプロペニルエーテル、ジヒド
ロピランなどが挙げられる。クロルメチルエーテルまた
はビニルエーテルの使用量は、通常アルデヒド(Vl−
1)1モルに対して約2〜50モル、好ましくは約5〜
20モルである。反応に用いられろ塩基性物質としては
、ピリジン、トキエチル・アミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン、ジエチルアニリン、イミダゾールなどの有機
アミン、水素化ナトリウムなどの金属水素化物などが挙
げられろ。塩基性物質の使用量は、通常アルデヒド(■
−t)tモルに対して約2〜200モルであり、好まし
くは約5〜100モルである。使用する酸触媒としては
、p−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸など
のスルホン酸、p−トルエンスルホン酸ピリジニウムな
どのスルホン酸塩、塩酸、硫酸などの鉱酸などが挙げら
れる。酸触媒の使用量は、アルデヒド(Vl−1)1モ
ルに対して、通常的0.05〜0.2モルである。この
反応は通常溶媒中で実施されるが、使用する有機塩基ま
たはビニルエーテルを溶媒として用いることら可能であ
り、また塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジメチル
ホルムアミドなどの反応に関与しない溶媒を用いること
も可能である。溶媒の使用量は、通常アルデヒド(Vl
−1)に対して、約5〜200倍重量である0反応は通
常的−20−100℃の範囲内の温度、好ましくは約O
〜30℃の範囲内の温度で行われる。
への変換は、常法に従い、例えば、塩基性物質の存在下
にクロルメチルエーテルを作用させるか、あるいは酸触
媒下にビニルエーテルを作用させろことにより行われる
。反応に用いられるクロルメチルエーテルとしては、ク
ロルメチルメチルエーテル、塩化メトキシエトキシメチ
ルなどが挙げられ、ビニルエーテルとしては、エチルビ
ニルエーテル、メチルイソプロペニルエーテル、ジヒド
ロピランなどが挙げられる。クロルメチルエーテルまた
はビニルエーテルの使用量は、通常アルデヒド(Vl−
1)1モルに対して約2〜50モル、好ましくは約5〜
20モルである。反応に用いられろ塩基性物質としては
、ピリジン、トキエチル・アミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン、ジエチルアニリン、イミダゾールなどの有機
アミン、水素化ナトリウムなどの金属水素化物などが挙
げられろ。塩基性物質の使用量は、通常アルデヒド(■
−t)tモルに対して約2〜200モルであり、好まし
くは約5〜100モルである。使用する酸触媒としては
、p−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸など
のスルホン酸、p−トルエンスルホン酸ピリジニウムな
どのスルホン酸塩、塩酸、硫酸などの鉱酸などが挙げら
れる。酸触媒の使用量は、アルデヒド(Vl−1)1モ
ルに対して、通常的0.05〜0.2モルである。この
反応は通常溶媒中で実施されるが、使用する有機塩基ま
たはビニルエーテルを溶媒として用いることら可能であ
り、また塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジメチル
ホルムアミドなどの反応に関与しない溶媒を用いること
も可能である。溶媒の使用量は、通常アルデヒド(Vl
−1)に対して、約5〜200倍重量である0反応は通
常的−20−100℃の範囲内の温度、好ましくは約O
〜30℃の範囲内の温度で行われる。
この様にして得られたアルデヒド(Vl−2−2)の反
応混合液からの単離・精製は通常の有機反応において行
われている単離・精製法と同様にして行われる。例えば
、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの有
機溶媒で抽出し、有機アミンを用いている場合には冷希
塩酸で洗浄し、重曹水・食塩水で順次洗浄した後に乾燥
・濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフィー
などにより精製することによりアルデヒド(■−2−2
)を得ることができる。
応混合液からの単離・精製は通常の有機反応において行
われている単離・精製法と同様にして行われる。例えば
、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの有
機溶媒で抽出し、有機アミンを用いている場合には冷希
塩酸で洗浄し、重曹水・食塩水で順次洗浄した後に乾燥
・濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフィー
などにより精製することによりアルデヒド(■−2−2
)を得ることができる。
アルデヒド(Vl−2−1)またはアルデヒド(Vl−
2−2)のアルコール(■)への変換は常法に従い還元
反応に付することにより行われる。この還元反応に使用
される還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素
化ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化トリエチ
ルホウ素リチウム、水素化アルミニウムリチウム、水素
化ビス(メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム、
水素化トリ5ea−ブチルホウ素リチウム、水素化トリ
513e−ブチルホウ素カリウムなどの金属水素化物錯
体、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化アルミニ
ウムなどの金属水素化物などが挙げられ、その使用量は
アルデヒド(Vl−2−1)またはアルデヒド1I−2
−2)1モルに対して約0.25〜50モル、好ましく
は約0.5〜20モルである。反応は通常溶媒中で行わ
れ、使用される溶媒は用いる還元剤によっても異なるが
、エタノール、メタノール、ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジメトキシエタンなどが挙げられ、その
使用量は、通常アルデヒド(Vl−2−1)またはアル
デヒド(■−2−2)に対して約5〜200@重量であ
る。反応は通常的−100〜80℃の範囲内の温度、好
ましくは約−30〜30℃の範囲内の温度で行われる。
2−2)のアルコール(■)への変換は常法に従い還元
反応に付することにより行われる。この還元反応に使用
される還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素
化ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化トリエチ
ルホウ素リチウム、水素化アルミニウムリチウム、水素
化ビス(メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム、
水素化トリ5ea−ブチルホウ素リチウム、水素化トリ
513e−ブチルホウ素カリウムなどの金属水素化物錯
体、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化アルミニ
ウムなどの金属水素化物などが挙げられ、その使用量は
アルデヒド(Vl−2−1)またはアルデヒド1I−2
−2)1モルに対して約0.25〜50モル、好ましく
は約0.5〜20モルである。反応は通常溶媒中で行わ
れ、使用される溶媒は用いる還元剤によっても異なるが
、エタノール、メタノール、ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジメトキシエタンなどが挙げられ、その
使用量は、通常アルデヒド(Vl−2−1)またはアル
デヒド(■−2−2)に対して約5〜200@重量であ
る。反応は通常的−100〜80℃の範囲内の温度、好
ましくは約−30〜30℃の範囲内の温度で行われる。
この様にして得られたアルコール(■)の反応混合物か
らの単離・精製は、通常の有機反応において行われてい
る単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反応混
合物に冷却下、水・硫酸ナトリウム水溶液・希塩酸・メ
タノールなどを加えることにより、過剰の還元剤を分解
し、必要に応じて水で希釈し、濾過または抽出・洗浄な
どの操作により有機溶媒に不溶なものを除き、濃縮して
粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフィーなどにより
精製することによってアルコール(■)を得ることがで
きる。
らの単離・精製は、通常の有機反応において行われてい
る単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反応混
合物に冷却下、水・硫酸ナトリウム水溶液・希塩酸・メ
タノールなどを加えることにより、過剰の還元剤を分解
し、必要に応じて水で希釈し、濾過または抽出・洗浄な
どの操作により有機溶媒に不溶なものを除き、濃縮して
粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフィーなどにより
精製することによってアルコール(■)を得ることがで
きる。
アルコール(、■)からスルホナート(■)への変換は
、アルコールをスルホナートに変換する一般的な方法に
よって実施することができる。例えば、塩基性、物質の
存在下に塩化スルホニルを作用させることにより行われ
る。反応に用いられろ塩化スルホニルとしては、塩化メ
タンスルホニル、塩化p−)ルエ・ンスルホニル、塩化
p−ブロムベンゼンスルホニル、塩化ベンゼンスルホニ
ルなどが挙げられ、その使用量はアルコール(■)1モ
ルに対して約1.1〜20モルである。反応に用いられ
る塩基性物質としては、ピリジン、トリエチルアミン、
ジイソプロピルエチルアミンなどの有機アミン、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物、水素
化ナトリウムなどの金属水素化物、n−ブチルリチウム
などの有機金属化合物などが挙げられ、その使用量は通
常アルコール(■)1モルに対して約[〜toooモル
である。この反応は通常溶媒中で行イ)れろが、使用さ
れろ有機アミンを溶媒として使用することも可能であり
、塩化メチレン、クロロホルムなどの反応に関与しない
溶媒を用いろことも可能である。溶媒の使用量は、通常
アルコール(■)に対して約5〜200倍重量である。
、アルコールをスルホナートに変換する一般的な方法に
よって実施することができる。例えば、塩基性、物質の
存在下に塩化スルホニルを作用させることにより行われ
る。反応に用いられろ塩化スルホニルとしては、塩化メ
タンスルホニル、塩化p−)ルエ・ンスルホニル、塩化
p−ブロムベンゼンスルホニル、塩化ベンゼンスルホニ
ルなどが挙げられ、その使用量はアルコール(■)1モ
ルに対して約1.1〜20モルである。反応に用いられ
る塩基性物質としては、ピリジン、トリエチルアミン、
ジイソプロピルエチルアミンなどの有機アミン、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物、水素
化ナトリウムなどの金属水素化物、n−ブチルリチウム
などの有機金属化合物などが挙げられ、その使用量は通
常アルコール(■)1モルに対して約[〜toooモル
である。この反応は通常溶媒中で行イ)れろが、使用さ
れろ有機アミンを溶媒として使用することも可能であり
、塩化メチレン、クロロホルムなどの反応に関与しない
溶媒を用いろことも可能である。溶媒の使用量は、通常
アルコール(■)に対して約5〜200倍重量である。
反応は通常的−20〜30℃の範囲内の温度、好ましく
は約0〜20℃の範囲内の温度で行われる。
は約0〜20℃の範囲内の温度で行われる。
この様にして得られたスルホナート(■)の反応混合物
からの単離・精製は、通常の有機反応において行われて
いる単離・精製法と同様にして行われろ。例えば、反応
混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの有機溶媒
で抽出し、冷希塩酸重曹水・食塩水で順次洗浄し、乾燥
後1縮して粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフィー
などにより精製することによりスルホナート(■)を得
ろことができる。
からの単離・精製は、通常の有機反応において行われて
いる単離・精製法と同様にして行われろ。例えば、反応
混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの有機溶媒
で抽出し、冷希塩酸重曹水・食塩水で順次洗浄し、乾燥
後1縮して粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフィー
などにより精製することによりスルホナート(■)を得
ろことができる。
スルホナート(■)からステロイド誘導体(1)への変
換は、塩基性物質存在下に公知の方法[0゜5tork
及びり、 Maladonado、ジャーナル・オブ・
アメリカン・ケミカル・ソシエテイ(J、 Amer。
換は、塩基性物質存在下に公知の方法[0゜5tork
及びり、 Maladonado、ジャーナル・オブ・
アメリカン・ケミカル・ソシエテイ(J、 Amer。
Chew、 Soc、) 93@5286〜528?ペ
ージなど参照]によって調製されたシアノヒドリン誘導
体(IX)を反応させた後、側鎖シアノヒドリンの水酸
基の脱保護を行い、アルカリ処理をした後、必要に応じ
て水酸基の保護を行うことによって実施される。シアノ
ヒドリン誘導体(IK)の使用量はスルホナート(■)
1モルに対して約0.8〜50モル、好ましくは約1〜
10モルである。使用される塩基性物質としては、メチ
ルリチウム、n−ブチルリチウム、フェニルリチウムな
どの有機金属化合物、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ムなどの金属水素化物、リチウムアミド、ナトリウムア
ミド、カリウムアミド、リチウムジイソプロピルアミド
、リチウムテトラメチルピペラジド、リチウムへキサメ
チルジシラジド、ナトリウムへキサメチルジシラジド、
カリウムへキサメチルジシラジドなどの金属アミドなど
が挙げ、られ、その使用量はシアノヒドリン誘導(■)
1モルに対して約0.5〜5モル、好ましくは約0.8
〜2モルである。この反応は通常溶媒中で行われ、用い
られろ溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジメトキシエタンなどのエーテル
系溶媒、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶
媒など反応に関与しない溶媒が挙げられ、その使用量は
通常スルホナート(■)に対して約5〜200倍重量で
ある0反応は通常−100℃〜100℃の温度範囲内で
行われる。
ージなど参照]によって調製されたシアノヒドリン誘導
体(IX)を反応させた後、側鎖シアノヒドリンの水酸
基の脱保護を行い、アルカリ処理をした後、必要に応じ
て水酸基の保護を行うことによって実施される。シアノ
ヒドリン誘導体(IK)の使用量はスルホナート(■)
1モルに対して約0.8〜50モル、好ましくは約1〜
10モルである。使用される塩基性物質としては、メチ
ルリチウム、n−ブチルリチウム、フェニルリチウムな
どの有機金属化合物、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ムなどの金属水素化物、リチウムアミド、ナトリウムア
ミド、カリウムアミド、リチウムジイソプロピルアミド
、リチウムテトラメチルピペラジド、リチウムへキサメ
チルジシラジド、ナトリウムへキサメチルジシラジド、
カリウムへキサメチルジシラジドなどの金属アミドなど
が挙げ、られ、その使用量はシアノヒドリン誘導(■)
1モルに対して約0.5〜5モル、好ましくは約0.8
〜2モルである。この反応は通常溶媒中で行われ、用い
られろ溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジメトキシエタンなどのエーテル
系溶媒、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶
媒など反応に関与しない溶媒が挙げられ、その使用量は
通常スルホナート(■)に対して約5〜200倍重量で
ある0反応は通常−100℃〜100℃の温度範囲内で
行われる。
反応の形懇としては、まずシアノヒドリン誘導体(IX
)と塩基性物質を反応させ、シアノヒドリン誘導体(I
X)の塩とした後スルホナート(IV)を加える方法、
塩基、性物質の溶液にスルホナート(■)及びシアノヒ
ドリン誘導体(ff)の混合溶液を加える方法、または
スルホナート(fV)及びシアノヒドリン(IX)の混
合溶液に塩基性物質の溶液を加える方法などが挙げられ
るが、いずれを採用することもできる0次いで反応混合
物を氷水にあけ、ジエチルエーテル、酢酸エチル、塩化
メチレンなどの有機溶媒で抽出し、食塩水で洗浄した後
に乾燥・濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロマトグラ
フィーなどによって精製し、さらに側鎖の保護されたシ
アノヒドリン誘導°体の水酸基の保護基の脱保護を行っ
た後、アルカリ処理し、必要に応じて水酸基の保護を行
うことによってステロイド誘導体(1)が得られろ。
)と塩基性物質を反応させ、シアノヒドリン誘導体(I
X)の塩とした後スルホナート(IV)を加える方法、
塩基、性物質の溶液にスルホナート(■)及びシアノヒ
ドリン誘導体(ff)の混合溶液を加える方法、または
スルホナート(fV)及びシアノヒドリン(IX)の混
合溶液に塩基性物質の溶液を加える方法などが挙げられ
るが、いずれを採用することもできる0次いで反応混合
物を氷水にあけ、ジエチルエーテル、酢酸エチル、塩化
メチレンなどの有機溶媒で抽出し、食塩水で洗浄した後
に乾燥・濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロマトグラ
フィーなどによって精製し、さらに側鎖の保護されたシ
アノヒドリン誘導°体の水酸基の保護基の脱保護を行っ
た後、アルカリ処理し、必要に応じて水酸基の保護を行
うことによってステロイド誘導体(1)が得られろ。
脱保護反応は、常法に従って行われろ。例えば、R@が
三置換シリル基である場合にはフッ化物イオン化合物で
処理する方法などが挙げられ、置換基を有していても良
いアルコキシメチル基である場合には、酸触媒下水ある
いは低級アルコールによって加溶媒分解する方法などが
挙げられろ。用いられるフッ化物イオン化合物としては
、フッ化テトラブチルアンモニウム、フッ化水素酸、フ
ッ化ピリジニウムなどがあげられ、その使用量はスルホ
ナート(■)1モルに対して通常約O,OS〜2モルで
ある。用いられる酸触媒としては、塩酸、硫酸などの鉱
酸、p−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸な
どのスル、ホン酸、p−トルみンスルホン酸ピリジニウ
ムなどのスルホン酸塩、酢酸、トリフルオロ酢酸などの
カルボン酸などが挙げられ、その使用量は使用する酸触
媒によっても異なるが、スルホナート(■)1モルに対
して通常的0.05〜lOモルである。この反応は通常
溶媒中で行われ、使用される溶媒としては、テトラヒド
ロフランなどのエーテル系の溶媒、メタノール、エタノ
ールなどのアルコール系溶媒などが挙げられ、その使用
量は通常スルホナート(■)に対して約5〜200倍重
量である。加溶媒分解に用いられる低級アルコールとし
ては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ルなどが挙げられ、その使用量は通常スルホナート(■
)に対して約5〜200倍重量である。反応は通常−1
0〜70℃の範囲内の温度で行われろ。アルカリ処理に
おいて用いられるアルカリとしては、水酸化ナトリウム
、水酸化カリウ、ムなどの金属水酸化物などが挙げられ
る。具体的な反応方法としては、例えば、スルホナート
(■)1モ°ルに対して約1〜100モルの約1〜10
%のアルカリ水溶液を上述の脱保護されたシアノヒドリ
ンの溶液に加え、室温で5分〜6時間撹拌あるいは振盪
するなどの方法が挙げられろ。
三置換シリル基である場合にはフッ化物イオン化合物で
処理する方法などが挙げられ、置換基を有していても良
いアルコキシメチル基である場合には、酸触媒下水ある
いは低級アルコールによって加溶媒分解する方法などが
挙げられろ。用いられるフッ化物イオン化合物としては
、フッ化テトラブチルアンモニウム、フッ化水素酸、フ
ッ化ピリジニウムなどがあげられ、その使用量はスルホ
ナート(■)1モルに対して通常約O,OS〜2モルで
ある。用いられる酸触媒としては、塩酸、硫酸などの鉱
酸、p−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸な
どのスル、ホン酸、p−トルみンスルホン酸ピリジニウ
ムなどのスルホン酸塩、酢酸、トリフルオロ酢酸などの
カルボン酸などが挙げられ、その使用量は使用する酸触
媒によっても異なるが、スルホナート(■)1モルに対
して通常的0.05〜lOモルである。この反応は通常
溶媒中で行われ、使用される溶媒としては、テトラヒド
ロフランなどのエーテル系の溶媒、メタノール、エタノ
ールなどのアルコール系溶媒などが挙げられ、その使用
量は通常スルホナート(■)に対して約5〜200倍重
量である。加溶媒分解に用いられる低級アルコールとし
ては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ルなどが挙げられ、その使用量は通常スルホナート(■
)に対して約5〜200倍重量である。反応は通常−1
0〜70℃の範囲内の温度で行われろ。アルカリ処理に
おいて用いられるアルカリとしては、水酸化ナトリウム
、水酸化カリウ、ムなどの金属水酸化物などが挙げられ
る。具体的な反応方法としては、例えば、スルホナート
(■)1モ°ルに対して約1〜100モルの約1〜10
%のアルカリ水溶液を上述の脱保護されたシアノヒドリ
ンの溶液に加え、室温で5分〜6時間撹拌あるいは振盪
するなどの方法が挙げられろ。
水a基の保護は常法に従って行われる。例えば、アルデ
ヒド(Vl−1)からアルデヒド(Vl−2)への変換
の際に用いられた方法などが採用されろ。
ヒド(Vl−1)からアルデヒド(Vl−2)への変換
の際に用いられた方法などが採用されろ。
このようにして得られたステロイド誘導体(1)の反応
混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において用
いられる単離・精製法と同様にして行うことができる。
混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において用
いられる単離・精製法と同様にして行うことができる。
例えば、反応混合物を水で希釈し、ジエチルエーテル、
酢酸エチル、塩化メチレンなどの育41!溶媒で抽出し
、抽出液を食塩水で洗浄した後に、乾燥・濃縮すること
によって粗生成物を得、クロマトグラフィー、再結晶な
どによって精製することによりステロイド誘導体(1)
を得ることかできる。
酢酸エチル、塩化メチレンなどの育41!溶媒で抽出し
、抽出液を食塩水で洗浄した後に、乾燥・濃縮すること
によって粗生成物を得、クロマトグラフィー、再結晶な
どによって精製することによりステロイド誘導体(1)
を得ることかできる。
ステロイド誘導体(■)およびセコステロイド誘導体(
1)はステロイド誘導体(1)から例えば次のようにし
て製造され、さらに下記式で示されるセコステロイド誘
導体(IV)に誘導される。
1)はステロイド誘導体(1)から例えば次のようにし
て製造され、さらに下記式で示されるセコステロイド誘
導体(IV)に誘導される。
(ff)
(ff)
(上記式中、R’、 R”及びXは前記定義の通りであ
る) ステロイド誘導体(りは常法に従って還元反応に付する
ことによりステロイド誘導体([r)に変換することか
できる。この反応に用いられろ還元剤としては、水素化
ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素
化ビス(メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム、
水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化トリ
エチルホウ素ナトリウム、水素化トリ5ea−ブチルリ
チウム、水素化トリ5ee−ブチルカリウムなどの金属
水素化物錯体、水素化アルミニウム、水素化ジイソブチ
ルアルミニウムなどの金属水素化物などが挙げられ、そ
の使用量は用いる還元剤の性質によっても異なるが・、
−通常ステロイド誘導体(I)1モルに対して、約0.
25〜20モルである。この反応は通常溶媒中で行われ
、用いられる溶媒としては、使用される還元剤によって
も異なるが、メタノール、エタノールなどのアルコール
系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどの
エーテル系溶媒などが挙げられ、その使用量は通常ステ
ロイド誘導体(りに対して約5〜200倍重量である。
る) ステロイド誘導体(りは常法に従って還元反応に付する
ことによりステロイド誘導体([r)に変換することか
できる。この反応に用いられろ還元剤としては、水素化
ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素
化ビス(メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム、
水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化トリ
エチルホウ素ナトリウム、水素化トリ5ea−ブチルリ
チウム、水素化トリ5ee−ブチルカリウムなどの金属
水素化物錯体、水素化アルミニウム、水素化ジイソブチ
ルアルミニウムなどの金属水素化物などが挙げられ、そ
の使用量は用いる還元剤の性質によっても異なるが・、
−通常ステロイド誘導体(I)1モルに対して、約0.
25〜20モルである。この反応は通常溶媒中で行われ
、用いられる溶媒としては、使用される還元剤によって
も異なるが、メタノール、エタノールなどのアルコール
系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどの
エーテル系溶媒などが挙げられ、その使用量は通常ステ
ロイド誘導体(りに対して約5〜200倍重量である。
この反応は通常約−30〜30℃の範囲内の温度で行わ
れろ。
れろ。
この様にして得られたステロイド誘導体(■)の反応混
合物からの単離・精製は通常の有向反応において用いら
れる単離・精製法と同様にして行われろ。例えば、反応
混合物に水・希塩酸・飽和硫酸ナトリウム水溶液、酢酸
エチルなどを加え、過剰の還元剤を分解した後、濾過又
は抽出・洗浄などで有機溶媒に不溶なものを除き、乾燥
・濃縮することにより粗生成物を得、クロマトグラフィ
ー・再結晶などにより精製して、ステロイド誘導体([
I)を得ることができろ。
合物からの単離・精製は通常の有向反応において用いら
れる単離・精製法と同様にして行われろ。例えば、反応
混合物に水・希塩酸・飽和硫酸ナトリウム水溶液、酢酸
エチルなどを加え、過剰の還元剤を分解した後、濾過又
は抽出・洗浄などで有機溶媒に不溶なものを除き、乾燥
・濃縮することにより粗生成物を得、クロマトグラフィ
ー・再結晶などにより精製して、ステロイド誘導体([
I)を得ることができろ。
ステロイド誘導体(1)又はステロイド誘導体(■)は
、常法に従い紫外線を照射した後熱異性化させることに
よりそれぞれセコステロイド誘導体([)及びセコステ
ロイド誘導体(■)に変換されろ。
、常法に従い紫外線を照射した後熱異性化させることに
よりそれぞれセコステロイド誘導体([)及びセコステ
ロイド誘導体(■)に変換されろ。
使用されろ紫外線としては、約200〜36Qnaの波
長範囲、のらのであり、好ましくは、約260〜310
nsの波長範囲のものである。この反応は、通常溶媒中
で行われ、用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタ
ン、シクロヘキサン、リグロイン、ベンゼン、トルエン
、キシレンなどの炭化水素系溶媒、ブロムベンゼン、ク
ロルベンゼン、四塩化炭素、1.2−ジクロルエタン、
1.2−ジブロムエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶
媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、エチルセロソルブなどのエーテル系溶媒、メタノー
ル、エタノール、プロパツールなどのアルコール系溶媒
などが挙げられる0反応は約−20〜120℃の範囲内
の温度、好ましくは約−10〜20℃の範囲内の温度で
行われる。
長範囲、のらのであり、好ましくは、約260〜310
nsの波長範囲のものである。この反応は、通常溶媒中
で行われ、用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタ
ン、シクロヘキサン、リグロイン、ベンゼン、トルエン
、キシレンなどの炭化水素系溶媒、ブロムベンゼン、ク
ロルベンゼン、四塩化炭素、1.2−ジクロルエタン、
1.2−ジブロムエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶
媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、エチルセロソルブなどのエーテル系溶媒、メタノー
ル、エタノール、プロパツールなどのアルコール系溶媒
などが挙げられる0反応は約−20〜120℃の範囲内
の温度、好ましくは約−10〜20℃の範囲内の温度で
行われる。
熟エネルギーによる異性化反応は、約O〜120℃の範
囲内の温度、好ましくは約2o−too℃の範囲内の温
度で行われろ。この反応は通常溶媒中で行われ、用いら
れる溶媒としては、前述の紫外線照射において用いられ
る溶媒などが挙げられる。
囲内の温度、好ましくは約2o−too℃の範囲内の温
度で行われろ。この反応は通常溶媒中で行われ、用いら
れる溶媒としては、前述の紫外線照射において用いられ
る溶媒などが挙げられる。
この様にして得られたセコステロイド誘導体(III)
又はセコステロイド誘導体(It/)の反応混合物から
の単層・精製は通常の有機反応ζこお−1て用も1られ
る単離・精製法と同様にして行われる。例工ば、反応液
を減圧下に濃縮し、得られる粗生成物を再結晶・クロマ
トグラフィーなどにより精製することによりセコステロ
イド誘導体([[I)又はセコステロイド誘導体(■)
を得ろことができる。
又はセコステロイド誘導体(It/)の反応混合物から
の単層・精製は通常の有機反応ζこお−1て用も1られ
る単離・精製法と同様にして行われる。例工ば、反応液
を減圧下に濃縮し、得られる粗生成物を再結晶・クロマ
トグラフィーなどにより精製することによりセコステロ
イド誘導体([[I)又はセコステロイド誘導体(■)
を得ろことができる。
セコステロイド誘導体(1)はステロイド誘導体(1)
をステロイド誘導体([)に変換したと同様の方法によ
りセコステロイド誘導体C■)に変換することができる
。
をステロイド誘導体([)に変換したと同様の方法によ
りセコステロイド誘導体C■)に変換することができる
。
セコステロイド誘導体(■)は以下のような方法により
ビタミンo*N導体に変換される。 以下余白(IV
) (X−1) (上記式中、「、R1及びXは前記定義の通りであり、
R7は低級アルキル基又はアリール基を表わし、Yは水
素原子又は水酸基を表わす) 上記式中、R?が表わす低級アルキル基及びアリール基
としては、それぞれR5が表わす低級アルキル基又はア
リ−、ル基などが挙げられる。
ビタミンo*N導体に変換される。 以下余白(IV
) (X−1) (上記式中、「、R1及びXは前記定義の通りであり、
R7は低級アルキル基又はアリール基を表わし、Yは水
素原子又は水酸基を表わす) 上記式中、R?が表わす低級アルキル基及びアリール基
としては、それぞれR5が表わす低級アルキル基又はア
リ−、ル基などが挙げられる。
一般式(X−1)及び一般式(X−2)で示されろ化合
物を以後下記のように称することがある。
物を以後下記のように称することがある。
(X−1) スルホナート(X−1)(X−2)
y−og・・・La、tS−ジヒドロキシビタミンDa
Y■H・・・la−辷ドaキシビタミンD。
Y■H・・・la−辷ドaキシビタミンD。
セコステロイド誘導体(IV)は常法に従ってスルホニ
ル化することによりスルホナート(X−1)に変換され
゛る。例えば、アル・コール(■)をスルホナート(■
)へ変換したと同様の方法を用いることにより実施され
る。
ル化することによりスルホナート(X−1)に変換され
゛る。例えば、アル・コール(■)をスルホナート(■
)へ変換したと同様の方法を用いることにより実施され
る。
スルホナート(X−1)はスルホニルオキシ基を還元的
に除去することによりビタミン誘導体(X−2)に変換
される。この反応に用いられる還元剤としては、水素化
アルミニウムリチウム、水素化トリエチルホウ素ナトリ
ウム、水素化ビス(メトキシエトキシ)アルミニウムナ
トリウムなどの金属水素化物錯体などが挙げられ、その
使用量はスルホナート(X−1)1モルに対して、通常
約0.5〜20モルである。この反応は通常溶媒中で行
われ、使用されろ溶媒としては、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどが挙げられ、
その使用量は、スルホナート(X−1)に対して通常約
5〜200倍重量である。
に除去することによりビタミン誘導体(X−2)に変換
される。この反応に用いられる還元剤としては、水素化
アルミニウムリチウム、水素化トリエチルホウ素ナトリ
ウム、水素化ビス(メトキシエトキシ)アルミニウムナ
トリウムなどの金属水素化物錯体などが挙げられ、その
使用量はスルホナート(X−1)1モルに対して、通常
約0.5〜20モルである。この反応は通常溶媒中で行
われ、使用されろ溶媒としては、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどが挙げられ、
その使用量は、スルホナート(X−1)に対して通常約
5〜200倍重量である。
反応は通常−20〜80℃の範囲内の温度で行われる。
この様にして得られたビタミン誘導体(X−2)の反応
混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において用
いられる単離・精製法と同様にして行われる。例えば、
反応混合物に、冷却下、水、希塩酸、飽和硫酸ナトリウ
ム水溶液、酢酸エチルなどを加え、過剰の還元剤を分解
し、必要に応じて水で希釈し、濾過又は抽出・洗浄など
の操作により有機溶媒に不溶な物を除き、濃縮して粗生
成物を得、再結晶・クロマトグラフィーなどにより精製
することによりビタミン誘導体(X−2)を得ることが
できる。
混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において用
いられる単離・精製法と同様にして行われる。例えば、
反応混合物に、冷却下、水、希塩酸、飽和硫酸ナトリウ
ム水溶液、酢酸エチルなどを加え、過剰の還元剤を分解
し、必要に応じて水で希釈し、濾過又は抽出・洗浄など
の操作により有機溶媒に不溶な物を除き、濃縮して粗生
成物を得、再結晶・クロマトグラフィーなどにより精製
することによりビタミン誘導体(X−2)を得ることが
できる。
ビタミン誘導体(X−2)は必要に応じて、常法に従い
水酸基の脱保護を行うことにより、ビタミンD、誘導体
に変換されろ。例えば、保護基か三置換シリル基である
場合には、フッ化物イオン化合物で処理する方法などが
挙げられ、置換基を有していてら良いアルコキシメチル
基である場合には、酸触媒下水あるいは低級アルコール
によって加溶媒分解する方法などが挙げられろ。用いら
れろフッ化物イオン化合物としては、フッ化テトラブチ
ルアンモニウム、フッ化水素酸、フッ化ピリジニウムな
どが挙げられ、その使用量はビタミン誘導体(X−2)
1モルに対して通常0.05〜2モルである。用いられ
る酸触媒としては、塩酸、硫酸などの鉱酸、p−トルエ
ンスルホン酸、カンファースルホン酸などのスルホン酸
、p−トルエンスルホン酸ピリジニウムなどのスルホン
酸塩、酢酸、トリフルオロ酢酸などのカルボン酸などが
挙げられ、その使用量は使用する酸触媒によっても異な
るが、ビタミン誘導体(X−1)1モルに対して通常約
0.05〜lOモルである。加溶媒分解反応に用いられ
ろ低級アルコールとしては、メタノール、エタノール、
イソプロピルアルコールなどが挙げられ、その使用量は
、ビタミン誘導体(X−2)に対して通常約5〜200
倍Ii!である。この脱保護反応は、通常溶媒中で行わ
れ、使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンなどのエーテル系溶媒、メタノール、エタノー
ルなどのアルコール系溶媒などが挙げられ、その使用量
は、ビタミン誘導体(X−2)に対して、通常約5〜2
00倍重量である。
水酸基の脱保護を行うことにより、ビタミンD、誘導体
に変換されろ。例えば、保護基か三置換シリル基である
場合には、フッ化物イオン化合物で処理する方法などが
挙げられ、置換基を有していてら良いアルコキシメチル
基である場合には、酸触媒下水あるいは低級アルコール
によって加溶媒分解する方法などが挙げられろ。用いら
れろフッ化物イオン化合物としては、フッ化テトラブチ
ルアンモニウム、フッ化水素酸、フッ化ピリジニウムな
どが挙げられ、その使用量はビタミン誘導体(X−2)
1モルに対して通常0.05〜2モルである。用いられ
る酸触媒としては、塩酸、硫酸などの鉱酸、p−トルエ
ンスルホン酸、カンファースルホン酸などのスルホン酸
、p−トルエンスルホン酸ピリジニウムなどのスルホン
酸塩、酢酸、トリフルオロ酢酸などのカルボン酸などが
挙げられ、その使用量は使用する酸触媒によっても異な
るが、ビタミン誘導体(X−1)1モルに対して通常約
0.05〜lOモルである。加溶媒分解反応に用いられ
ろ低級アルコールとしては、メタノール、エタノール、
イソプロピルアルコールなどが挙げられ、その使用量は
、ビタミン誘導体(X−2)に対して通常約5〜200
倍Ii!である。この脱保護反応は、通常溶媒中で行わ
れ、使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンなどのエーテル系溶媒、メタノール、エタノー
ルなどのアルコール系溶媒などが挙げられ、その使用量
は、ビタミン誘導体(X−2)に対して、通常約5〜2
00倍重量である。
この様にして得られたビタミンD、誘導体のうち、′Y
が水酸基であるものは、慢性腎不全、副甲状腺機能低下
症、骨軟化症などのカルシウム代謝の欠陥症の治療1G
有効であることが知られているlα。
が水酸基であるものは、慢性腎不全、副甲状腺機能低下
症、骨軟化症などのカルシウム代謝の欠陥症の治療1G
有効であることが知られているlα。
25−ジヒドロキシビタミンD、であり、Yが水素原子
であるものはビタミンD様の活性を持ち、同様にカルシ
ウム代謝の欠陥症の治療に有効であることが知られてい
る1α−ヒドロキシビタミンD、である。
であるものはビタミンD様の活性を持ち、同様にカルシ
ウム代謝の欠陥症の治療に有効であることが知られてい
る1α−ヒドロキシビタミンD、である。
[実施例]
以下、本発明を実施例により具体的に説明するか、本発
明はこれらの実施例により限定されるしのではない。な
お・、これらの実施例中、核磁気共鳴(N M R)ス
ペクトルは重クロロホルムを溶媒とし、テトラブチルシ
ランを内部標準として111+1定した。
明はこれらの実施例により限定されるしのではない。な
お・、これらの実施例中、核磁気共鳴(N M R)ス
ペクトルは重クロロホルムを溶媒とし、テトラブチルシ
ランを内部標準として111+1定した。
参考例1
1α、3β−ジアセトキシ−5α、8α−(3,5−ジ
オキソ−4−フェニル−1,2,4−トリアシリジノ)
−コレスタ−6,22−ジエン−24−オール2.74
gを1%のピリジンを含む塩化メチレン100−に溶解
し、ドライアイス−アセトン浴中にて冷却しながら撹拌
した。この溶液にドライアイス−アセトン浴中にて冷却
しながらオゾンガスを吹き込んで飽和させた1%ピリジ
ンを含む塩化メチレン425m12を加えた。オゾンの
青色が消えたことを確認した後、ジメチルスルフィド5
鳳Q加え、浴を除き、室温になるまで放置した。冷2%
塩酸および水で順次洗浄した後、硫酸ナトリウム上で乾
燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製することにより、1α、3β−ジアセトキ
シ−5α。
オキソ−4−フェニル−1,2,4−トリアシリジノ)
−コレスタ−6,22−ジエン−24−オール2.74
gを1%のピリジンを含む塩化メチレン100−に溶解
し、ドライアイス−アセトン浴中にて冷却しながら撹拌
した。この溶液にドライアイス−アセトン浴中にて冷却
しながらオゾンガスを吹き込んで飽和させた1%ピリジ
ンを含む塩化メチレン425m12を加えた。オゾンの
青色が消えたことを確認した後、ジメチルスルフィド5
鳳Q加え、浴を除き、室温になるまで放置した。冷2%
塩酸および水で順次洗浄した後、硫酸ナトリウム上で乾
燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製することにより、1α、3β−ジアセトキ
シ−5α。
8α−(3,5−ジオキソ−4−フェニル−1,2,4
−)リアシリジノ)−6−プレグネン−20−カルブア
ルデヒドを880mgを得た。
−)リアシリジノ)−6−プレグネン−20−カルブア
ルデヒドを880mgを得た。
’HNMRスヘクトル(90111H2)δ: O40
(s。
(s。
311) 、 1.01(s、 3B) 、 1.17
(d、 J=7Hz。
(d、 J=7Hz。
311) 、 1.97および1.98 (いずれらs
、 6H) 。
、 6H) 。
5.03 (鳳、 IH)、 5.84(m、
IH)、 6.28゜6.41 (ABq、 J=
8Hz、 2B) 、 7.2〜7.6 (s。
IH)、 6.28゜6.41 (ABq、 J=
8Hz、 2B) 、 7.2〜7.6 (s。
5!I) 、 9.58(d、 J=4Hz、 IH)
参考例2 1α、3β−ジアセトキシ−5α、8α−(3,5−ジ
オキソ−4−フェニル−1,2,4−)リアシリジノ)
−6−プレグネン−20−カルブアルデヒド31DBに
2.1規定の水酸化カリウムを含む95%エタノール溶
液5m12を加え、アルゴン雰囲気下に1.5時間加熱
還流した1反応液を冷却後、水にあけ、ジエチルエーテ
ルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した。濃縮後、残渣をジエチルエーテルより
再結晶することにより精製し、lα、3β−ジヒドロキ
シプレグナ−5,7−ノニン−20−カルブアルデヒド
を163mgflた。
参考例2 1α、3β−ジアセトキシ−5α、8α−(3,5−ジ
オキソ−4−フェニル−1,2,4−)リアシリジノ)
−6−プレグネン−20−カルブアルデヒド31DBに
2.1規定の水酸化カリウムを含む95%エタノール溶
液5m12を加え、アルゴン雰囲気下に1.5時間加熱
還流した1反応液を冷却後、水にあけ、ジエチルエーテ
ルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した。濃縮後、残渣をジエチルエーテルより
再結晶することにより精製し、lα、3β−ジヒドロキ
シプレグナ−5,7−ノニン−20−カルブアルデヒド
を163mgflた。
’ I−I N M RXペクトA、 (901al
lZ)δ: 0.71 (1゜311) 、 0.92
(s、 3H) 、 1.06(d、 J=?IIz。
lZ)δ: 0.71 (1゜311) 、 0.92
(s、 3H) 、 1.06(d、 J=?IIz。
311) 、 3.2〜3.8(a、 IH) 、 4
.0〜4.3 (s。
.0〜4.3 (s。
l11) 、、 5.3〜5.5(−、III) 、
5.6〜5.8 (1111) 、 9.54 (”d
”青)参考例3 1α、3β−ジヒドロキシプレグナ−5,7−ジエン1
0−カルブアルデヒド69−gをII、It−ジメチル
ホルムアミドl―eに溶解し、イミダゾール0.2g、
次いで塩化t−ブチルジメチルシリル0.2gを加え、
室温で20時間撹拌した。反応混合液を水にあけ、ジエ
チルエーテルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにより精製し、!α、3β−
ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−5,7−ノ
ニン−20−カルブアルデヒドを75−g得た。
5.6〜5.8 (1111) 、 9.54 (”d
”青)参考例3 1α、3β−ジヒドロキシプレグナ−5,7−ジエン1
0−カルブアルデヒド69−gをII、It−ジメチル
ホルムアミドl―eに溶解し、イミダゾール0.2g、
次いで塩化t−ブチルジメチルシリル0.2gを加え、
室温で20時間撹拌した。反応混合液を水にあけ、ジエ
チルエーテルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにより精製し、!α、3β−
ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−5,7−ノ
ニン−20−カルブアルデヒドを75−g得た。
’H
NMRスペクトル(90MIIz)δ: 0.11およ
び0.13(それぞれs、 121) 、 0.70
(s。
び0.13(それぞれs、 121) 、 0.70
(s。
3H) 、 0.88(s、 311) 、 0.95
および0.96(それぞれs、 18H) 、 1.1
5 (d、 J−6,411z。
および0.96(それぞれs、 18H) 、 1.1
5 (d、 J−6,411z。
311)、4.1〜4.5(211)、5.39(s+
、 IH)。
、 IH)。
5.64(s、IH)、9.55(d、J=3.5Hz
、III)参考例4 1α、3β−ジヒドロキシプレグナ−5,7−ノニン−
20−カルブアルデヒド71Bを塩化メチレン1m&に
溶解し、エチルビニルエーテル0.2m(!を加え、水
冷下撹拌した。触媒量のp−)ルエンスルホン酸を加え
、さらに水冷下10分間撹拌した。反応混合液を重曹水
にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を食塩水
で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮後、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、
lα、3β−ビス(エトキシエチルオキシ)−5,?−
ジエンー20−カルブアルデヒドを73−g得た。
、III)参考例4 1α、3β−ジヒドロキシプレグナ−5,7−ノニン−
20−カルブアルデヒド71Bを塩化メチレン1m&に
溶解し、エチルビニルエーテル0.2m(!を加え、水
冷下撹拌した。触媒量のp−)ルエンスルホン酸を加え
、さらに水冷下10分間撹拌した。反応混合液を重曹水
にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を食塩水
で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮後、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、
lα、3β−ビス(エトキシエチルオキシ)−5,?−
ジエンー20−カルブアルデヒドを73−g得た。
’HNMRスペクトル(90MHz)δ: 0.70(
s、 311) 、 0.88(s、 311) 、
3J〜4.1(all)、 4.5〜4.8 (21
1)、 5.30 (1゜III) 、 5.5
0(s、 III) 、 9.54(d、 J
=3.511z、 IH) 参考例5 1α、3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)
プレグナ−5,7−ノニン−20−カルブアルデヒドl
ooagをエタノール2−一に溶解し、水素化ホウ素ナ
トリウム20Bを水冷下で加え、そのまま30分間撹拌
した。反応混合物に水冷下で希塩酸を加えて中和し、水
で希釈した後、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を
重曹水および食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥した。減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製し、20−メチル−1α、
3β−ビス(【−ブチルジメチルシリルオキシ)プレグ
ナ−5,7−ジエン−21−オールを91mg得た。
s、 311) 、 0.88(s、 311) 、
3J〜4.1(all)、 4.5〜4.8 (21
1)、 5.30 (1゜III) 、 5.5
0(s、 III) 、 9.54(d、 J
=3.511z、 IH) 参考例5 1α、3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)
プレグナ−5,7−ノニン−20−カルブアルデヒドl
ooagをエタノール2−一に溶解し、水素化ホウ素ナ
トリウム20Bを水冷下で加え、そのまま30分間撹拌
した。反応混合物に水冷下で希塩酸を加えて中和し、水
で希釈した後、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を
重曹水および食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥した。減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製し、20−メチル−1α、
3β−ビス(【−ブチルジメチルシリルオキシ)プレグ
ナ−5,7−ジエン−21−オールを91mg得た。
’ HN M n スペクトル(90MIIZ)δ:
0.11 (s。
0.11 (s。
311) 、 0.12(g、 31) 、 0.H(
g、 3M) 。
g、 3M) 。
0.15(s、 3R) 、 0.74(s、 3H)
、0.95(s、 9B) 、 0.97(s、 9
1) 、 1.01(s。
、0.95(s、 9B) 、 0.97(s、 9
1) 、 1.01(s。
311) 、 1.01(d、 J=7Hz、
311) 、 3.52(a。
311) 、 3.52(a。
2H)、 4.1〜4.5(2H)、 5.38(
−、il+)。
−、il+)。
5.64 (腸、 lB)
参考例6
参考f!7115において、lα、3β−ビス(【−ブ
チルジメチルシリルオキシ)プレグナ−5,7−ノニン
−20−カルブアルデヒド100−gの代わり1こlα
。
チルジメチルシリルオキシ)プレグナ−5,7−ノニン
−20−カルブアルデヒド100−gの代わり1こlα
。
3β−ビス(エトキシエチルオキシ)プレグナ−5,7
−ノニン−20−カルブアルデヒドを用いろ以外は同様
にして操作を行うことにより、20−メチル−1α、3
β−ビス(エトキシエチルオキシ)プレグナ−5,7−
ジエン−21−オール89mgを得た。
−ノニン−20−カルブアルデヒドを用いろ以外は同様
にして操作を行うことにより、20−メチル−1α、3
β−ビス(エトキシエチルオキシ)プレグナ−5,7−
ジエン−21−オール89mgを得た。
’HNMRスペクトル(90Mf[z)δ: 0.71
(s。
(s。
311)、0.88(s、 3EI) 、 2.9〜4
.1(8Fl) 。
.1(8Fl) 。
4.5〜4.8(2H) 、 5.29(m、 l1l
) 、 5.50(m、III) 参考例7 20−メチル−1α、3β−ビス(t−ブチルジメチル
シリルオキシ)プレグナ−5,7−シエンー21−オー
ル90mgをピリジン1a12に溶解し、ジメチルアミ
ノピリジン5mgを加え、水冷下に撹拌した。
) 、 5.50(m、III) 参考例7 20−メチル−1α、3β−ビス(t−ブチルジメチル
シリルオキシ)プレグナ−5,7−シエンー21−オー
ル90mgをピリジン1a12に溶解し、ジメチルアミ
ノピリジン5mgを加え、水冷下に撹拌した。
塩化p−トルエンスルホニル70−gを加え、室温で5
時間撹拌した。反応混合物を冷希塩酸にあけ、ジエチル
エーテルで抽出した。抽出液を水、重曹水、食塩水で順
次洗浄し、VLi!2ナトリウム上で乾燥したa減圧下
にa縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより精製し、2o−メチル−1α、3β−ビス(
t−ブチルジメチルシリルオキシ)−21−p−)ルエ
ンスルホニルオキシプレグナ−5,7−ジエン95−g
を得た。
時間撹拌した。反応混合物を冷希塩酸にあけ、ジエチル
エーテルで抽出した。抽出液を水、重曹水、食塩水で順
次洗浄し、VLi!2ナトリウム上で乾燥したa減圧下
にa縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより精製し、2o−メチル−1α、3β−ビス(
t−ブチルジメチルシリルオキシ)−21−p−)ルエ
ンスルホニルオキシプレグナ−5,7−ジエン95−g
を得た。
’HNMRスペクトル(90M)lz)δ: (1,1
1(s。
1(s。
311) 、 0.12(s、 311) 、 0.1
3(s、 311) 。
3(s、 311) 。
0.15(s、 311) 、 0.75Cs、 31
1) 、0.95(s、 911) 、 0.97(s
、 9H) 、 1.01 (s。
1) 、0.95(s、 911) 、 0.97(s
、 9H) 、 1.01 (s。
311) 、 1.Gl (d、 J=711z、 3
11) 、 2.40Cs。
11) 、 2.40Cs。
310 、.3.83 (at 2H) 、 4.1〜
4.5 (211) 。
4.5 (211) 。
5.38(a、 III) 、 5.84 (*、 I
II) 、 7.36(d、 J=FHIz、 211
) 、 7.82Cd、 J=FNIz。
II) 、 7.36(d、 J=FHIz、 211
) 、 7.82Cd、 J=FNIz。
参考例8
参考例7において20−メチル−1α、3β−ビス(t
−ブチルジメチルシリルオキシ)プレグナ−5,7−ノ
ニン−21−オール90Bの代わりに20−メチル−1
α、3β−ビス(エトキシエチルオキシ)プレグナ−5
,7−ノニン−21−オール771gを用いろ以外は同
様にして操作を行うことによりlα。
−ブチルジメチルシリルオキシ)プレグナ−5,7−ノ
ニン−21−オール90Bの代わりに20−メチル−1
α、3β−ビス(エトキシエチルオキシ)プレグナ−5
,7−ノニン−21−オール771gを用いろ以外は同
様にして操作を行うことによりlα。
3β−ビス(エトキシエチルオキシ)−20−メチル−
21−p−トルエンスルホニルオキシプレグナ−5,7
−:)′エン85−gを得た。
21−p−トルエンスルホニルオキシプレグナ−5,7
−:)′エン85−gを得た。
’HNMRスペクトル(90MHz)δ: 0.59
(s。
(s。
3H) 、 0.92 (s、30) 、 1.01
(d、 J= 711z。
(d、 J= 711z。
3H) 、 2.311(II、 3H) 、 3.2
〜4.1 (8H) 。
〜4.1 (8H) 。
4.6〜4.9 (21)、 5.30 (麿、
l1l)、 5.62(m、 IH) 、 7.3
7 (d、 J=8Hz、 211) 。
l1l)、 5.62(m、 IH) 、 7.3
7 (d、 J=8Hz、 211) 。
7.84 (d、 J= 811.z、 2H)実施例
! ナトリウムへキサメチルジシラジドC0,66規定ベン
ゼン溶液) 0.47−ρをベンゼン4s!2で希釈し
、アルゴン雰囲気下60℃で加熱撹拌した。 l−(1
−エトキシ)エトキシ−1−シアノ−3−メチルブタン
57−gおよび20−メチル−1α、3β−ビス(1−
ブチルジメチルシリルオキシ)−21−p−トルエンス
ルホニルオキシプレグナ−5,7−ジエン21mgをベ
ンゼン41に溶解し、上記のナトリウムへキサメチルノ
ンラジド溶液に1時間かけて滴下した。
! ナトリウムへキサメチルジシラジドC0,66規定ベン
ゼン溶液) 0.47−ρをベンゼン4s!2で希釈し
、アルゴン雰囲気下60℃で加熱撹拌した。 l−(1
−エトキシ)エトキシ−1−シアノ−3−メチルブタン
57−gおよび20−メチル−1α、3β−ビス(1−
ブチルジメチルシリルオキシ)−21−p−トルエンス
ルホニルオキシプレグナ−5,7−ジエン21mgをベ
ンゼン41に溶解し、上記のナトリウムへキサメチルノ
ンラジド溶液に1時間かけて滴下した。
滴下終了後、冷塩化アンモニウム水溶液にあけ、5分間
撹拌した。有機層を分け、水層をジエチルエーテルで抽
出した。有機層を合わけ、食塩水で洗浄し硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した。減圧下a縮後、残渣をメタノール5m
Qに溶解し、触媒量のp−トルエンスルホン酸を加え、
室温で25分間撹拌した。反応混合物を塩化メチレンで
希釈し、食塩水にあけた。有機層を分け、水層を塩化メ
チレンで抽出し、有111を合わせて硫酸マグネシウム
上で乾燥した。減圧下a縮し、残渣をテトラヒドロフラ
ン20鋤eに溶解し、2%水酸化ナトリウム水溶液5@
l!を加えて激しく振盪した。有機層を分け、水層を酢
酸エチルで抽出した。有機層を合わせ、食塩水で洗浄し
、硫酸ナトリウム上で乾燥した。
撹拌した。有機層を分け、水層をジエチルエーテルで抽
出した。有機層を合わけ、食塩水で洗浄し硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した。減圧下a縮後、残渣をメタノール5m
Qに溶解し、触媒量のp−トルエンスルホン酸を加え、
室温で25分間撹拌した。反応混合物を塩化メチレンで
希釈し、食塩水にあけた。有機層を分け、水層を塩化メ
チレンで抽出し、有111を合わせて硫酸マグネシウム
上で乾燥した。減圧下a縮し、残渣をテトラヒドロフラ
ン20鋤eに溶解し、2%水酸化ナトリウム水溶液5@
l!を加えて激しく振盪した。有機層を分け、水層を酢
酸エチルで抽出した。有機層を合わせ、食塩水で洗浄し
、硫酸ナトリウム上で乾燥した。
減圧下awiし、残渣をシリカゲルカラムクaマトグラ
フィーにより精製し、1α、3β−ビス(1−ブチルジ
メチルシリルオキシ)コレスタ−5,7−ノニン−23
−オン15Bを得た。
フィーにより精製し、1α、3β−ビス(1−ブチルジ
メチルシリルオキシ)コレスタ−5,7−ノニン−23
−オン15Bを得た。
’HNMRスペクトル(90MH2)δ、 0.10
(8゜311) 、 0.12(s、 311) 、
0.13(s、 311) 。
(8゜311) 、 0.12(s、 311) 、
0.13(s、 311) 。
0.15(s、 311) 、 0.70(s、 3H
) 、 4.1〜4.6(2H)、 5.38(−、
III)、 5.64(a。
) 、 4.1〜4.6(2H)、 5.38(−、
III)、 5.64(a。
11り
実施例2
ナトリウム・キサメチルジシラジド(0,66規定ベン
ゼン溶液) 0.47麿Qをベンゼン4si2で希釈し
、アルゴン雰囲気下60℃で加熱撹拌した。1−(1−
’エトキシ)エトキシ−1−シアノ−3−メチル−3−
(2−テトラヒドロピラニル)オキシブタン89―gお
よびlα、3β−ビス(エトキシエチルオキシ)−20
−メチル−21−p −)ルエンスルホニルオキシプレ
グナ−5,7−ジエン19−gをベンゼン4−1!に溶
解し、上記のナトリウムへキサメチ、ルジシラジド溶液
に1時間かけて滴下した0滴下終了後、冷塩化アンモニ
ウム水溶液にあけ、5分間撹拌した。
ゼン溶液) 0.47麿Qをベンゼン4si2で希釈し
、アルゴン雰囲気下60℃で加熱撹拌した。1−(1−
’エトキシ)エトキシ−1−シアノ−3−メチル−3−
(2−テトラヒドロピラニル)オキシブタン89―gお
よびlα、3β−ビス(エトキシエチルオキシ)−20
−メチル−21−p −)ルエンスルホニルオキシプレ
グナ−5,7−ジエン19−gをベンゼン4−1!に溶
解し、上記のナトリウムへキサメチ、ルジシラジド溶液
に1時間かけて滴下した0滴下終了後、冷塩化アンモニ
ウム水溶液にあけ、5分間撹拌した。
有機層を分け、水層をジエチルエーテルで抽出した。有
機層を合わせ、食塩水で洗浄L%硫酸ナトリウム上で乾
燥した。減圧下awi後、残渣をメタノール5−aに溶
解し、触媒ff1p−トルエンスルホン酸を加え、水冷
下30分1m撹拌した。反応混合物を塩化メチレンで希
釈し、食塩水にあけた。有機層を分け、水層を塩化メチ
レンで抽出し、有機層を合わせて硫酸マグネシウム上で
乾燥した。減圧上濃縮し、残渣をテトラヒドロフラン2
0Jに溶解し、2%水酸・化ナトリウム水溶液5−1!
を加え、激しく振盪した。有機層を分け、水層を酢酸エ
チルで抽出した。有機層を合わせ、食塩水で洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥した。減圧上濃縮し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、25−
(2−テトラヒドロピラニル)オキシコレスタ−5,
7−ノニン−23−オン−1α、3β−ジオール12m
gを得た。
機層を合わせ、食塩水で洗浄L%硫酸ナトリウム上で乾
燥した。減圧下awi後、残渣をメタノール5−aに溶
解し、触媒ff1p−トルエンスルホン酸を加え、水冷
下30分1m撹拌した。反応混合物を塩化メチレンで希
釈し、食塩水にあけた。有機層を分け、水層を塩化メチ
レンで抽出し、有機層を合わせて硫酸マグネシウム上で
乾燥した。減圧上濃縮し、残渣をテトラヒドロフラン2
0Jに溶解し、2%水酸・化ナトリウム水溶液5−1!
を加え、激しく振盪した。有機層を分け、水層を酢酸エ
チルで抽出した。有機層を合わせ、食塩水で洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥した。減圧上濃縮し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、25−
(2−テトラヒドロピラニル)オキシコレスタ−5,
7−ノニン−23−オン−1α、3β−ジオール12m
gを得た。
’HNMRスペクトル(90Muz)δ: 0.6g
(s。
(s。
3H) 、 1.00(d、 J=8Hz、 38)
、 1.09(s。
、 1.09(s。
3H) 、 1.13(s、 311) 、 1.16
(g、 311) 、 3.5〜4.5(4H)、4.
72(br、s、III)、5.32(s、 1ll
)、 5.72(a、 ltl→実施例3 25−(2−テトラヒドロピラニル)オキシコレスタ−
5,7−ノニン−23−オン−1α、3β−ジオール1
2a+gを塩化メチレン2−Qに溶解し、エチルビニル
エーテル0.1sl!を加え、水冷下で撹拌した。触媒
量のp−)ルエンスルホン酸を加え、5分間撹拌した。
(g、 311) 、 3.5〜4.5(4H)、4.
72(br、s、III)、5.32(s、 1ll
)、 5.72(a、 ltl→実施例3 25−(2−テトラヒドロピラニル)オキシコレスタ−
5,7−ノニン−23−オン−1α、3β−ジオール1
2a+gを塩化メチレン2−Qに溶解し、エチルビニル
エーテル0.1sl!を加え、水冷下で撹拌した。触媒
量のp−)ルエンスルホン酸を加え、5分間撹拌した。
反応混合物に重曹水を加え、有機層を分け、水層を酢酸
エチルで抽出した。有機層を合わせ、食塩水で洗浄し、
硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧上濃縮後、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、lα、3
β−ビス(エトキシエチルオキシ)−25−(2−テト
ラヒドロピラニル)オキシコレスタ−5,7−ジエン−
23−オン14烏gを得た。
エチルで抽出した。有機層を合わせ、食塩水で洗浄し、
硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧上濃縮後、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、lα、3
β−ビス(エトキシエチルオキシ)−25−(2−テト
ラヒドロピラニル)オキシコレスタ−5,7−ジエン−
23−オン14烏gを得た。
’HNMRスペクトル(90MHz)δ: 0.68(
s、 3H) 、 3.1〜4.3(8H) 、 4.
3〜4.8(3H) 、 5.30(g+、 1B)
、5.64 (s、 1ff)実施例4 1α63β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)
コレスタ−5,7−ジエン−23−オン24−gをエタ
ノール3ml!に溶解し、水冷下撹拌した。水素化ホウ
素ナトリウム4mgを加え、室温で45分間撹拌した。
s、 3H) 、 3.1〜4.3(8H) 、 4.
3〜4.8(3H) 、 5.30(g+、 1B)
、5.64 (s、 1ff)実施例4 1α63β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)
コレスタ−5,7−ジエン−23−オン24−gをエタ
ノール3ml!に溶解し、水冷下撹拌した。水素化ホウ
素ナトリウム4mgを加え、室温で45分間撹拌した。
反応混合物を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液
を合わせ、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。減圧上濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製して!α、3β−ビス(t−ブチル
ジメチルシリルオキシ)コレスタ−5,7−ジエン−2
3−オール20−gを得た。
を合わせ、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。減圧上濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製して!α、3β−ビス(t−ブチル
ジメチルシリルオキシ)コレスタ−5,7−ジエン−2
3−オール20−gを得た。
’HNMRスペクトル(90MHz)δ: 0.10(
s、 311) 、 0.12(+、 61)
、 0.14(s。
s、 311) 、 0.12(+、 61)
、 0.14(s。
3H) 、 0.70(s、 3H) 、 3.
50(m、 1B) 。
50(m、 1B) 。
4.1〜4.6(211) 、 5.37(gi、
IH) 、 5.64(膳、IH) 実施例5 1α、3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)
コレスタ−5,7−ノニン−23−オン18−gをエタ
ノール300aeに溶解し、アルゴンガスを吹き込みな
がら水冷下4001高圧水銀灯を用いて10分間紫外線
照射した。照射終了後、アルゴン雰囲気下2時間加熱還
流した。減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
ドグラフイーにより精製し、lα、3β−ビス(t−ブ
チルジメチルシリルオキシ)−9,10−セココレスタ
−5,7,10(19)−トリエン−23−オン1.6
Bを得た。
IH) 、 5.64(膳、IH) 実施例5 1α、3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)
コレスタ−5,7−ノニン−23−オン18−gをエタ
ノール300aeに溶解し、アルゴンガスを吹き込みな
がら水冷下4001高圧水銀灯を用いて10分間紫外線
照射した。照射終了後、アルゴン雰囲気下2時間加熱還
流した。減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
ドグラフイーにより精製し、lα、3β−ビス(t−ブ
チルジメチルシリルオキシ)−9,10−セココレスタ
−5,7,10(19)−トリエン−23−オン1.6
Bを得た。
’HNMRスペクトル(90MHz)δ: 0.05(
s、 12H) 、 0.61(s、 3fl) 、
0.90(s。
s、 12H) 、 0.61(s、 3fl) 、
0.90(s。
188) 、 4.1〜4.6 (211) 、 5.
Go (br、 s。
Go (br、 s。
fil) 、 5J2(br、 s、 18) 、 6
.03(d、 J=!lHz、 IB) 、 649(
d、 J=11Hz、 10)参考例9 実施例5においてlα、3β−ビス(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)コレスタ−5,7−ノニン−23−オ
ン18mgの代わりに、lα、3β−ビス(t−ブチル
ジメチルシリルオキシ)コレスタ−5,7−ジエン−2
3−オール19−gを用いる以外は同様にして操作を行
うことにより、lα、3β−ビス(t−ブチルジメチル
シリルオキシ)−9,10−セココレスタ−5,7,t
o(19)−トリエン−23−オール1.9Bを得た。
.03(d、 J=!lHz、 IB) 、 649(
d、 J=11Hz、 10)参考例9 実施例5においてlα、3β−ビス(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)コレスタ−5,7−ノニン−23−オ
ン18mgの代わりに、lα、3β−ビス(t−ブチル
ジメチルシリルオキシ)コレスタ−5,7−ジエン−2
3−オール19−gを用いる以外は同様にして操作を行
うことにより、lα、3β−ビス(t−ブチルジメチル
シリルオキシ)−9,10−セココレスタ−5,7,t
o(19)−トリエン−23−オール1.9Bを得た。
’HNMRスペクトル(90MIIz)δ: 0.07
(s。
(s。
1211) 、 0.60(s、 311) 、 0.
90(s、 1811) 。
90(s、 1811) 。
3.52 (m、 III) 、 4.1〜4.6 (
2H) 、 5.03(br、 s、 1ll) 、
5.35(br、 s、 1ft) 。
2H) 、 5.03(br、 s、 1ll) 、
5.35(br、 s、 1ft) 。
6.05(d、 J=1111z、 IH) 、 6.
40(d、J=1111z、 IH) 参考例10 ■ lα、3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)−9,10−セココレスタ−5,7,10(19)
−トリエン−23−オール1.9mgをピリジンleQ
に溶解し、N、N−ジメチルアミノピリジン触媒量を加
え、水冷下で撹拌した。塩化p−トルエンスルホニルI
Igを加え、室温で4時間撹拌した。反応混合物を水に
あけ、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を合わせ、
硫酸銅水溶液、水、重曹水、食塩水で洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥した。減圧下濃縮し、lα、3β−ビス
(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−23−p−)ル
エンスルホニルオキシ−9,10−セココレスタ−5,
7,1O(19)−)リエン2.3−gを得た。
40(d、J=1111z、 IH) 参考例10 ■ lα、3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)−9,10−セココレスタ−5,7,10(19)
−トリエン−23−オール1.9mgをピリジンleQ
に溶解し、N、N−ジメチルアミノピリジン触媒量を加
え、水冷下で撹拌した。塩化p−トルエンスルホニルI
Igを加え、室温で4時間撹拌した。反応混合物を水に
あけ、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を合わせ、
硫酸銅水溶液、水、重曹水、食塩水で洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥した。減圧下濃縮し、lα、3β−ビス
(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−23−p−)ル
エンスルホニルオキシ−9,10−セココレスタ−5,
7,1O(19)−)リエン2.3−gを得た。
■水素化アルミニウムリチウム20mgをテトラヒドロ
フラン111!に懸濁させ、水冷下撹拌した。
フラン111!に懸濁させ、水冷下撹拌した。
上記で得られた1α、3β−ビス(t−ブチルジメチル
シリルオキシ)−23−9−トルエンスルホニルオキシ
−9,10−セココレスタ−5,7,10(19)−)
リエン2.3mgをテトラヒドロフラン2m12に溶解
し、上記の懸濁液に加えた。2時間加熱還流した後、水
冷下でジエチルエーテルで希釈し、過剰の還元剤を飽和
硫酸ナトリウム水溶液を加えて分解し、セライトが遇し
た。残渣を酢酸エチルで充分に洗浄し、炉液に合わせ、
減圧下濃縮し、lα、3β−ビス(t−ブチルジメチル
シリルオキシ)−9,10−セココレスタ−5,?、1
0(19)−)リエン1.2膳gを得た。
シリルオキシ)−23−9−トルエンスルホニルオキシ
−9,10−セココレスタ−5,7,10(19)−)
リエン2.3mgをテトラヒドロフラン2m12に溶解
し、上記の懸濁液に加えた。2時間加熱還流した後、水
冷下でジエチルエーテルで希釈し、過剰の還元剤を飽和
硫酸ナトリウム水溶液を加えて分解し、セライトが遇し
た。残渣を酢酸エチルで充分に洗浄し、炉液に合わせ、
減圧下濃縮し、lα、3β−ビス(t−ブチルジメチル
シリルオキシ)−9,10−セココレスタ−5,?、1
0(19)−)リエン1.2膳gを得た。
■上記で得られたlα、3β−ビス(L−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)−9,10−セココレスタ−5,7,
10(19)−トリエン1.2mgにフッ化テトラブチ
ルア、ンモニウム(1モルテトラヒドロフラン溶液)l
aeを加え、室温で5時間撹拌した。反応混合物を水で
希釈し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を合わせ、水お
よび食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。残
渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィーにより精製し、
9.10−セココレスタ−5,7,10(19)−)リ
エンーlα、3β−ジオール(lα−ヒドロキシビタミ
ンDs) 0.8mgを得た。このらツノ物性値(UV
、NMR,MS)は文献値と一致した。
ルシリルオキシ)−9,10−セココレスタ−5,7,
10(19)−トリエン1.2mgにフッ化テトラブチ
ルア、ンモニウム(1モルテトラヒドロフラン溶液)l
aeを加え、室温で5時間撹拌した。反応混合物を水で
希釈し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を合わせ、水お
よび食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。残
渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィーにより精製し、
9.10−セココレスタ−5,7,10(19)−)リ
エンーlα、3β−ジオール(lα−ヒドロキシビタミ
ンDs) 0.8mgを得た。このらツノ物性値(UV
、NMR,MS)は文献値と一致した。
実施例6
実施N4において1α、3β−ビス(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)コレスタ−5,7−ノニン−23−オ
ン24mgの代わりにlα、3β−ビス(エトキシエチ
ルオキシ、) −25−(2−テトラヒドロピラニル)
オキシコレスタ−5,7−ノニン−23−オン20mg
を用いろ・以外は同様にして操作を行うことによりlα
、3β−ビス(エトキシエチルオキシ)−25−(2−
テトラヒドロピラニル)オキシコレスタ−5,7−ジエ
ン−23−オールflingを得た。
ルシリルオキシ)コレスタ−5,7−ノニン−23−オ
ン24mgの代わりにlα、3β−ビス(エトキシエチ
ルオキシ、) −25−(2−テトラヒドロピラニル)
オキシコレスタ−5,7−ノニン−23−オン20mg
を用いろ・以外は同様にして操作を行うことによりlα
、3β−ビス(エトキシエチルオキシ)−25−(2−
テトラヒドロピラニル)オキシコレスタ−5,7−ジエ
ン−23−オールflingを得た。
参考rI411
実施PI5においてlα、3β−ビス(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)コレスタ−5,7−シエンー23−
オン18mgの代わりにlα、3β−ビス(エトキシエ
チルオキシ) −25−(2−テトラヒドロピラニル)
オキシコレスタ−5,7−シエンー23−オン15Bを
用いろ以外は同様にして操作を行うことにより、lα、
、3β−ビス(エトキシエチルオキシ)−25−(2−
テトラヒドロピラニル)オキシ−9゜10− セ:7
コレX l −5,7,10(19)−) ’J x
7−23−オン1.2Bを得た。
チルシリルオキシ)コレスタ−5,7−シエンー23−
オン18mgの代わりにlα、3β−ビス(エトキシエ
チルオキシ) −25−(2−テトラヒドロピラニル)
オキシコレスタ−5,7−シエンー23−オン15Bを
用いろ以外は同様にして操作を行うことにより、lα、
、3β−ビス(エトキシエチルオキシ)−25−(2−
テトラヒドロピラニル)オキシ−9゜10− セ:7
コレX l −5,7,10(19)−) ’J x
7−23−オン1.2Bを得た。
参考例I2
実施例5において1α、3β−ビス(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)コレスタ−5,7−シエンー23−オ
ン18Bの代わりに1α、3β−ビス(エトキシエチル
オキシ)−25−(2−テトラヒドロピラニル)オキシ
コレスタ−5,7−シエンー23−オール19mgを用
いる以外は同様にして操作を行うことにより、lα、3
β−ビス(エトキシエチルオキシ)−25−(2−テト
ラヒドロピラニル)オキシ−9゜to−セココレスター
5.7.10(19)−)すx:/−23−オール2.
0mgを得た。
ルシリルオキシ)コレスタ−5,7−シエンー23−オ
ン18Bの代わりに1α、3β−ビス(エトキシエチル
オキシ)−25−(2−テトラヒドロピラニル)オキシ
コレスタ−5,7−シエンー23−オール19mgを用
いる以外は同様にして操作を行うことにより、lα、3
β−ビス(エトキシエチルオキシ)−25−(2−テト
ラヒドロピラニル)オキシ−9゜to−セココレスター
5.7.10(19)−)すx:/−23−オール2.
0mgを得た。
参考fiIl13
1α、3β−ビス(エトキシエチルオキシ)−25−(
2−テトラヒドロピラニル)オキシ−9,10−セココ
レスタ−5,7,10(19)−トリエン−23−オー
ル2.0自gをメタノール2−i2に溶解し、触媒量の
p−トルエンスルホン酸を加え、室温で12時間撹拌し
た。反応混合物を重曹水にあけ、酢酸エチルで抽出し、
食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウム上で乾燥した後、減
圧下濃縮し、残渣をメタノールにより再結晶し、9.1
0−セココレスタ−5,7,10(19)−トリエン−
1α、3βj3,25−テトラオール0.8mg得た。
2−テトラヒドロピラニル)オキシ−9,10−セココ
レスタ−5,7,10(19)−トリエン−23−オー
ル2.0自gをメタノール2−i2に溶解し、触媒量の
p−トルエンスルホン酸を加え、室温で12時間撹拌し
た。反応混合物を重曹水にあけ、酢酸エチルで抽出し、
食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウム上で乾燥した後、減
圧下濃縮し、残渣をメタノールにより再結晶し、9.1
0−セココレスタ−5,7,10(19)−トリエン−
1α、3βj3,25−テトラオール0.8mg得た。
[発明の効果]
本発明により23位に酸素官能基を有する新規なステロ
イド誘導体が提供される。
イド誘導体が提供される。
該新規なステロイド誘導体は、lα−ヒドロキシビタミ
ンD、を初めとするビタミンD3の誘導体の合成中間体
として有用である。
ンD、を初めとするビタミンD3の誘導体の合成中間体
として有用である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1及びR^2はそれぞれ水素原子又は水酸
基の保護基を表わし、Xは水素原子又は−OY基を表わ
し、Yは水素原子又は水酸基の保護基を表わす) で示される23−オクソコレスタ−5,7−ジエン誘導
体。 2、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2及びXはそれぞれ請求項1記載
のR^1、R^2及びXと同じである) で示される23−ヒドロキシコレスタ−5,7−ジエン
誘導体。 3、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1及びR^2はそれぞれ請求項1記載のR
^1及びR^2と同じである) で示される23−オクソ−9,10−セココレスタ−5
,7,10(19)−トリエン誘導体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1073062A JP2642190B2 (ja) | 1989-03-23 | 1989-03-23 | 23位に酸素官能基を有するステロイド誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1073062A JP2642190B2 (ja) | 1989-03-23 | 1989-03-23 | 23位に酸素官能基を有するステロイド誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02250865A true JPH02250865A (ja) | 1990-10-08 |
JP2642190B2 JP2642190B2 (ja) | 1997-08-20 |
Family
ID=13507489
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1073062A Expired - Lifetime JP2642190B2 (ja) | 1989-03-23 | 1989-03-23 | 23位に酸素官能基を有するステロイド誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2642190B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5429934A (en) * | 1990-08-18 | 1995-07-04 | Schering Aktiengesellschaft | Process for the production of 20-methyl-5,7-pregnadiene-3β,21-diol derivatives using mycobacterium |
-
1989
- 1989-03-23 JP JP1073062A patent/JP2642190B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5429934A (en) * | 1990-08-18 | 1995-07-04 | Schering Aktiengesellschaft | Process for the production of 20-methyl-5,7-pregnadiene-3β,21-diol derivatives using mycobacterium |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2642190B2 (ja) | 1997-08-20 |
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