JPH02214828A - Integrated optical waveguide device - Google Patents
Integrated optical waveguide deviceInfo
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- JPH02214828A JPH02214828A JP3696189A JP3696189A JPH02214828A JP H02214828 A JPH02214828 A JP H02214828A JP 3696189 A JP3696189 A JP 3696189A JP 3696189 A JP3696189 A JP 3696189A JP H02214828 A JPH02214828 A JP H02214828A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
複数の光制御素子を存する集積化光導波路デバイスに関
し、
光制御電極に印加された制御用電圧によって基板に励振
された弾性波に起因する、相隣接する光制御電極間の電
気的クロストークを除去することを目的とし、
平面に加工した電気光学効果を有する基板と、前記基板
の上に形成された複数の光制御導波路部を有する光導波
路と、前記複数の光制御導波路部の上に設けられた複数
の光制御電極と、前記複数の光制御電極の中の、相隣接
する光制御電極の間の前記基板上に設けられた、弾性波
伝播阻止手段とを少なくとも備えるように集積化光導波
路デバイスを構成する。[Detailed Description of the Invention] [Summary] Regarding an integrated optical waveguide device including a plurality of light control elements, adjacent light waves caused by elastic waves excited in a substrate by a control voltage applied to a light control electrode A planar substrate having an electro-optic effect, an optical waveguide having a plurality of optical control waveguide sections formed on the substrate, and an optical waveguide for the purpose of eliminating electrical crosstalk between control electrodes; A plurality of light control electrodes provided on a plurality of light control waveguide sections, and an elastic wave propagation provided on the substrate between adjacent light control electrodes among the plurality of light control electrodes. The integrated optical waveguide device is configured to include at least blocking means.
本発明は、1枚の基板上に複数の光制御素子を有する集
積化光導波路デバイスの構成に関する。The present invention relates to the configuration of an integrated optical waveguide device having a plurality of optical control elements on one substrate.
近年、光ファイバやレーザ光源の進歩・発達に伴い、光
通信をはじめ光波術を応用した各種のシステム、デバイ
スが実用化され広く利用されるようになる一方、ますま
す、その高度技術開発への要請が強まってきた。In recent years, with the progress and development of optical fibers and laser light sources, various systems and devices that apply light wave technology, including optical communication, have been put into practical use and widely used. The demand has become stronger.
とくに、最近の光通信システムの高速化の要求から、光
信号を送受信する光送受信器においても、高速で光を変
調するための光変調器や、多数の時分割多重光入力信号
を順次切り換えて多数本の出力に接続するための高速の
光スイツチアレイなど集積型の光制御デバイスが必要に
なってきた。In particular, due to the recent demand for higher speed optical communication systems, optical transceivers that transmit and receive optical signals require optical modulators to modulate light at high speed and sequential switching of multiple time-division multiplexed optical input signals. Integrated optical control devices such as high-speed optical switch arrays to connect multiple outputs have become necessary.
これらの光制御デバイスは、電気光学効果を有する1枚
の基板の上に、平面的に導波路を形成して、その上に進
行波型電極を組み合わせることによって、多数の高速光
制御素子を集積した、いわゆる光集積回路であり、光信
号処理デバイスの小形化と高速化を図るための本命の技
術として期待されている。These optical control devices integrate a large number of high-speed optical control elements by forming a planar waveguide on a single substrate with an electro-optic effect and combining traveling wave electrodes on the waveguide. This is a so-called optical integrated circuit, and is expected to be a promising technology for miniaturizing and increasing the speed of optical signal processing devices.
しかし、この技術は未だ開発途上にあるものが多く、解
決すべき課題を抱えており、今後ますます大容量・長距
離通信の要求が強まってくる状況から、より高速、かつ
安定で信頼性の高い集積化光導波路デバイスの開発が求
められている。However, much of this technology is still in the development stage, and there are many issues that need to be resolved.As the demand for large-capacity and long-distance communications becomes stronger in the future, faster, more stable, and more reliable There is a need for the development of highly integrated optical waveguide devices.
高速光制御デバイスとしては、半導体レーザ光を外部で
変調する外部変調器や、光導波路型光スイッチが知られ
ている。As high-speed optical control devices, external modulators that externally modulate semiconductor laser light and optical waveguide type optical switches are known.
何れの場合も、電気光学効果を有する基板上に光導波路
を設け、進行波型光制御電極を用いて駆動する方式が最
も有力視されており、集積度の向上に伴って1枚の基板
上に形成される光制御電極数も増加しそれらの間隔も狭
くなってきた。In either case, the most promising method is to provide an optical waveguide on a substrate with an electro-optic effect and drive it using a traveling wave type optical control electrode. The number of light control electrodes formed has also increased, and the spacing between them has become narrower.
第5図は従来の方向性結合器型光スイッチを説明する図
で、同図(イ)は平面図、同図(ロ)は断面図〔同図(
イ)のx −y断面〕である。Figure 5 is a diagram explaining a conventional directional coupler type optical switch, in which (a) is a plan view and (b) is a cross-sectional view.
b) x-y cross section].
図中、1は電気光学効果を有する基板、たとえば、Li
NbO3のZ板、2は光導波路で中間に3つの方向性結
合器型平行光導波路2A、2Bが形成され、この2つの
平行光導波路で光制御導波路部2が構成されている。こ
の光導波路は通常LiNbO3基板の表面にTiなどの
金属を、光導波路部分だけに選択的に拡散させ、その部
分の屈折率を回りの部分よりも少し大きくなるようにし
である。In the figure, 1 is a substrate having an electro-optic effect, for example, Li
The NbO3 Z plate 2 is an optical waveguide, and three directional coupler type parallel optical waveguides 2A and 2B are formed in the middle, and the optical control waveguide section 2 is constituted by these two parallel optical waveguides. This optical waveguide is usually made by selectively diffusing a metal such as Ti on the surface of a LiNbO3 substrate only to the optical waveguide portion, so that the refractive index of that portion is slightly larger than that of the surrounding portions.
なお、平行光導波路2a、2mの間隔と長さはたとえば
、数GHz帯の光スィッチにおいては、それぞれ6μm
および15mmと言った程度の、伝播光のモード結合が
行われるような数値に設計されている。Note that the distance and length of the parallel optical waveguides 2a and 2m are, for example, 6 μm each in an optical switch of several GHz band.
It is designed to have a value of about 15 mm, which allows mode coupling of propagating light.
4は光制御電極で進行波型の制御用電極(4A)と、接
地電極(4B)とから構成されており、それぞれ平行光
導波路2a、2Il上に、バッファ層3を介してAuな
どの金属を蒸着あるいはめっきによって形成している。Reference numeral 4 denotes a light control electrode, which is composed of a traveling wave type control electrode (4A) and a ground electrode (4B). is formed by vapor deposition or plating.
バッファ層3は光導波路上の金属電極層への光の吸収を
小さくするために設けたもので、通常、SiO2などの
薄膜が用いられている。The buffer layer 3 is provided to reduce the absorption of light into the metal electrode layer on the optical waveguide, and is usually made of a thin film of SiO2 or the like.
SWI、SW2および舖3は、それぞれ方向性結合器型
光スイッチを示し、光制御電極4により駆動制御される
。SWI, SW2, and SW3 each indicate a directional coupler type optical switch, and are driven and controlled by the optical control electrode 4.
■は光の入力端、■、■、■および■は光の出力端で、
したがって、この例は、いわゆる、■×4の光スイツチ
アレイの場合を示している。光ファイバとの接続はルビ
ービーズを用いたり、凸構造のファイバアレイを用いて
行われている。■ is the light input end, ■, ■, ■ and ■ are the light output ends,
Therefore, this example shows the case of a so-called x4 optical switch array. Connection with optical fibers is performed using ruby beads or a fiber array with a convex structure.
いま、たとえば時分割多重信号光が左側の入力端■から
光導波路2に入り、SWIの平行光導波路2Aに達する
と、それと平行に所要の間隔で所要の長さで配置された
平行光導波路28との間のモード結合により、光の進行
に伴って対称・非対称両モードの位相差がπになる位置
で、光は全て平行光導波路2Bに移行する(電子情報通
信学会績二電子情報通信ハンドブック、 p1051.
1988年発行参照〕。Now, for example, when time-division multiplexed signal light enters the optical waveguide 2 from the left input end 2 and reaches the parallel optical waveguide 2A of the SWI, parallel optical waveguides 28 are arranged parallel to it at a required interval and a required length. Due to the mode coupling between the , p1051.
(see 1988 publication).
しかし、もし、この時Skiの光制御電極4に高周波パ
ルス電圧を印加すると、電気光学効果を有する基板1上
に設けられた前記平行光導波路2A211における電気
光学効果によって、屈折率の変化が生じ対称・非対称両
モードの位相差もπがらずれてくる。この従来例の場合
では、印加電圧を4〜5vに選ぶことによって、平行導
波路2Aから2Bへの光の移行を完全に阻止することが
できる。すなわち、光制御電極4への高周波パルス電圧
の印加の有無によって、光を高速でスイッチングさせる
ことができる構成になっている。However, if a high-frequency pulse voltage is applied to the optical control electrode 4 of Ski at this time, the refractive index changes due to the electro-optic effect in the parallel optical waveguide 2A211 provided on the substrate 1 having an electro-optic effect, resulting in a symmetrical・The phase difference between the two asymmetric modes also shifts in π. In the case of this conventional example, by selecting the applied voltage to be 4 to 5 V, it is possible to completely prevent light from moving from the parallel waveguide 2A to 2B. That is, the configuration is such that light can be switched at high speed depending on whether or not a high frequency pulse voltage is applied to the light control electrode 4.
SW2およびSW3においても、全(同様に機能させ、
全体として、IX4の高速光スイッチアレイを構成して
いる。In SW2 and SW3, all (function in the same way,
As a whole, it constitutes an IX4 high-speed optical switch array.
さらに、集積度を上げスイッチ素子数を増加して、高速
光マトリクススイッチを構成し、高速・多重光通信シス
テムに使用しようという試みがなされている。Furthermore, attempts have been made to increase the degree of integration and increase the number of switch elements to construct a high-speed optical matrix switch and use it in a high-speed, multiplex optical communication system.
しかし、このような構成の光スイツチアレイにおいて、
集積度を上げていくと、第5図かられかるように、たと
えば、SW2とSW3との間隔が狭くなっていくことに
なる。一方、電気光学効果を有する基板1は、必ず圧電
性を示すためSW2と針3との間には、なにがしかの弾
性表面波、あるいは擬似弾性表面波が励振される場合が
多い。However, in an optical switch array with such a configuration,
As the degree of integration increases, for example, the distance between SW2 and SW3 becomes narrower, as shown in FIG. On the other hand, since the substrate 1 having an electro-optic effect always exhibits piezoelectricity, some kind of surface acoustic wave or pseudo surface acoustic wave is often excited between the SW 2 and the needle 3.
第4図は従来の方向性結合器型光スイッチのクロストー
ク・伝送損失特性図で、前記従来例の構成において舖2
とSW3との間隔が300μmの時のSW2の伝送損失
特性と、SW2から針3への電気的クロストークを示し
たものである。Figure 4 is a crosstalk/transmission loss characteristic diagram of a conventional directional coupler type optical switch.
This figure shows the transmission loss characteristics of SW2 and electrical crosstalk from SW2 to needle 3 when the distance between SW2 and SW3 is 300 μm.
伝送損失の測定はSW2の制御用電極4Aと接地電極4
.の入力端にネットワーク・アナライザから出力される
高周波掃引された正弦波電圧を印加し、他端はネットワ
ーク・アナライザの検出器側に接続して行った。クロス
トークの測定は同様にSW3の制御用電極4Aと接地電
極4Bの出力端にネットワーク、アナライザを接続して
行った。Measurement of transmission loss is performed using control electrode 4A and ground electrode 4 of SW2.
.. A high-frequency swept sinusoidal voltage output from a network analyzer was applied to the input end of the network analyzer, and the other end was connected to the detector side of the network analyzer. Crosstalk was similarly measured by connecting a network and an analyzer to the output terminals of the control electrode 4A and ground electrode 4B of SW3.
図かられかるように、1.2.2.8.および4.6
GHzにおいて、SW2の伝送特性にデイツプが見られ
、それらに対応する周波数において、SW2からSW3
への大きなりロストークが生じている。As you can see from the figure, 1.2.2.8. and 4.6
At GHz, dips can be seen in the transmission characteristics of SW2, and at the corresponding frequencies, SW2 to SW3
A large amount of loss talk is occurring.
このようなりロストークが大きくなると、信号光のS/
Nを低下させ、信号のエラーレートを増加させるという
問題があり、その解決が必要であった。When the losstalk increases like this, the signal light S/
There is a problem in that N is decreased and the signal error rate is increased, and a solution to this problem is required.
上記の課題は、平面に加工した電気光学効果を有する基
板1と、前記基板1の上に形成された複数の光制御導波
路部2゛を有する光導波路2と、前記複数の光制御導波
路部2゛の上に設けられた複数の光制御電極4と、前記
複数の光制御電極4の中の、相隣接する光制御電極4の
間の前記基板1上に設けられた、弾性波伝播阻止手段5
とを少なくとも備えた集積化光導波路デバイスにより解
決することができる。The above-mentioned problems include a substrate 1 having an electro-optic effect processed into a flat surface, an optical waveguide 2 having a plurality of optically controlled waveguide sections 2 formed on the substrate 1, and a plurality of optically controlled waveguides formed on the substrate 1. A plurality of light control electrodes 4 provided on the part 2' and an elastic wave propagation layer provided on the substrate 1 between adjacent light control electrodes 4 among the plurality of light control electrodes 4. Prevention means 5
This can be solved by an integrated optical waveguide device comprising at least the following.
本発明の構成によれば、相隣接する光スィッチ例えば、
舖2と舖3の間の基板1の上に弾性波伝播阻止手段5を
設けであるので、主として基板表面近傍を伝播する弾性
波を介して発生する、SW2からSW3への電気的クロ
ストークを除去することができるのである。According to the configuration of the present invention, adjacent optical switches, for example,
Since the elastic wave propagation blocking means 5 is provided on the substrate 1 between the sides 2 and 3, electrical crosstalk from SW2 to SW3, which occurs mainly through elastic waves propagating near the substrate surface, can be prevented. It can be removed.
第1図は本発明による方向性結合器型光スイッチの平面
図で、従来例の構成と異なるところは相隣接する光スィ
ッチ、たとえば、SW2とSW3の間の基板1に弾性波
伝播阻止手段5を設けである点である。FIG. 1 is a plan view of a directional coupler type optical switch according to the present invention. The difference from the conventional structure is that an elastic wave propagation blocking means 5 is attached to a substrate 1 between adjacent optical switches, for example, SW2 and SW3. This is a point that is established.
基板1は大きさ60mmX8 mm、厚さ1mmのLi
NbO3のZ板の表面を鏡面研磨して使用した。The substrate 1 is made of Li with a size of 60 mm x 8 mm and a thickness of 1 mm.
The surface of the NbO3 Z plate was mirror polished and used.
この基板の上にTiを約70nmの厚さに真空蒸着し、
3つの光制御導波路部2”、すなわち、3対の平行光導
波路2Aおよび2Ilを含む光導波路2に相当する部分
にTiが残るように通常のホトエツチング法で処理した
後、約1035°Cで8h酸素中で加熱し、TiをLi
NbO3中に熱拡散して全光導波路2を形成した。On this substrate, Ti was vacuum-deposited to a thickness of about 70 nm.
After processing with a normal photoetching method so that Ti remains in the three optical control waveguide sections 2'', that is, the portions corresponding to the optical waveguide 2 including the three pairs of parallel optical waveguides 2A and 2Il, it is heated at approximately 1035°C. Heated in oxygen for 8 hours to convert Ti to Li.
An all-optical waveguide 2 was formed by thermal diffusion into NbO3.
平行光導波路2.と2Bの間隔は6.4μm、長さは1
5mm、光導波路の幅は全て7μmになるように形成し
た。出力端における導波路間隔は180μmとした。Parallel optical waveguide 2. The distance between and 2B is 6.4 μm, and the length is 1
The width of each optical waveguide was 7 μm. The waveguide spacing at the output end was 180 μm.
次いで、バッファ層3として5in2を350nmの厚
さにCVD法で形成した。Next, a buffer layer 3 of 5 in 2 was formed to a thickness of 350 nm by CVD.
光制御用電極4はバッファ層3の上にT i −A u
合金膜を蒸着したのち、光導波路2の上に幅10μmの
電極形状にパターンエツチングし、さらに、その上に厚
さ3μmの^Uをめっきにより付着形成した。3対の平
行光導波路2Aおよび2B上の制御用電極4Aと接地電
極4Bとの間隔は5μmである。The light control electrode 4 is formed on the buffer layer 3 by T i -A u
After the alloy film was deposited, a pattern was etched onto the optical waveguide 2 to form an electrode having a width of 10 μm, and a 3 μm thick ^U was further deposited thereon by plating. The distance between the control electrode 4A and the ground electrode 4B on the three pairs of parallel optical waveguides 2A and 2B is 5 μm.
光スィッチSW2 とSW3の間隔は360 μm、
SWIとSW3との間隔は20mmである。The distance between optical switches SW2 and SW3 is 360 μm,
The distance between SWI and SW3 is 20 mm.
弾性波伝播阻止手段5としては、SW2とSW3との中
間に幅100μm、深さ200μm、長さ20mmの溝
をカッティングブレードにより形成した。As the elastic wave propagation blocking means 5, a groove having a width of 100 μm, a depth of 200 μm, and a length of 20 mm was formed between SW2 and SW3 using a cutting blade.
第2図は本発明による方向性結合器型光スイッチの断面
図で、同図(イ)に弾性波伝播阻止手段としての溝51
を示した。FIG. 2 is a sectional view of a directional coupler type optical switch according to the present invention, and (A) shows a groove 51 as an elastic wave propagation blocking means.
showed that.
第3図は本発明による方向性結合器型光スイッチのクロ
ストーク・伝送損失特性図で、測定方法などは前記従来
例の場合の測定と同様である。FIG. 3 is a crosstalk/transmission loss characteristic diagram of the directional coupler type optical switch according to the present invention, and the measurement method is the same as that of the conventional example.
図かられかるように、SW2の伝送損失特性にデイツプ
がほとんど見られず、SW2からSW3へのクロストー
クも第4図に示した従来例のそれに比較して著しく改善
された。As can be seen from the figure, there is almost no dip in the transmission loss characteristics of SW2, and the crosstalk from SW2 to SW3 is also significantly improved compared to that of the conventional example shown in FIG.
なお、上記実施例では弾性波伝播阻止手段として溝51
を使用したが、第2図(ロ)に示したように弾性波吸収
材52.たとえば、重金属粉末を混和したシリコーン樹
脂などを塗布、またはスクリーン印刷してもよいし、さ
らに、同図(ハ)に示した如く溝51の中に弾性波吸収
材52を埋めて、より効果を高めることもできる。In addition, in the above embodiment, the groove 51 is used as the elastic wave propagation blocking means.
However, as shown in FIG. 2 (b), an elastic wave absorbing material 52. For example, a silicone resin mixed with heavy metal powder may be applied or screen printed, or an elastic wave absorbing material 52 may be filled in the groove 51 as shown in FIG. It can also be increased.
本実施例ではSWIとSW2 、あるいはSWI とS
W3との間は約20mmと広く、クロストークは殆ど問
題とならなかったので、とくに弾性波伝播阻止手段は設
けなかったが、必要に応じそれを設けてもよいことは勿
論である。In this embodiment, SWI and SW2, or SWI and S
Since there was a wide distance from W3 of about 20 mm and crosstalk was hardly a problem, no elastic wave propagation blocking means was particularly provided, but it is of course possible to provide one if necessary.
また、本実施例では光スィッチの数は3つであったが、
4つ以上の多数の場合は勿論、光制御素子が方向性結合
器型光スイッチでな(、分岐干渉型光変調素子や光位相
変調素子の場合、あるいはそれらが混在している場合で
も、本発明方法が適用できることは言うまでもない。Also, in this example, the number of optical switches was three, but
Not only in the case of four or more optical control elements, but also in the case where the optical control element is not a directional coupler type optical switch (or a branching interference type optical modulation element or an optical phase modulation element, or a mixture of them), this book does not apply. It goes without saying that the invented method can be applied.
以上説明したように、本発明によれば複数の光制御電極
を同一基板の上に隣接して集積しても、相隣接する光制
御電極間の電気的クロストークを除去できるので、集積
化光導波路デバイスの性能向上に寄与するところが極め
て大きい。As explained above, according to the present invention, even if a plurality of light control electrodes are integrated adjacently on the same substrate, electrical crosstalk between adjacent light control electrodes can be eliminated, so that integrated light guide This greatly contributes to improving the performance of waveguide devices.
第1図は本発明による方向性結合器型光スイッチの平面
図、
第2図は本発明による方向性結合器型光スイッチの断面
図(x−y断面)、
第3図は本発明による方向性結合器型光スイッチのクロ
ストーク・伝送損失特性図、
第4図は従来の方向性結合器型光スイッチのクロストー
ク・伝送損失特性図、
第5図は従来の方向性結合器型光スイッチを説明する図
である。
図において、
1は基板、
は光導波路、
”は光制御導波路部、
はバッファ層、
は光制御電極、
は弾性波伝播阻止手段、
1は溝、
2は弾性波吸収材である。Fig. 1 is a plan view of a directional coupler type optical switch according to the present invention, Fig. 2 is a cross-sectional view (x-y section) of a directional coupler type optical switch according to the present invention, and Fig. 3 is a direction view according to the present invention. Figure 4 is a crosstalk/transmission loss characteristic diagram of a conventional directional coupler type optical switch. Figure 5 is a diagram of a conventional directional coupler type optical switch. FIG. In the figure, 1 is a substrate, is an optical waveguide, is an optical control waveguide section, is a buffer layer, is an optical control electrode, is an elastic wave propagation blocking means, 1 is a groove, and 2 is an elastic wave absorbing material.
Claims (1)
(2′)を有する光導波路(2)と、前記複数の光制御
導波路部(2′)の上に設けられた複数の光制御電極(
4)と、 前記複数の光制御電極(4)の中の、相隣接する光制御
電極(4)の間の前記基板(1)上に設けられた、弾性
波伝播阻止手段(5)とを少なくとも備えたことを特徴
とする集積化光導波路デバイス。[Claims] An optical waveguide (2) comprising: a substrate (1) having an electro-optic effect processed into a plane; and a plurality of optically controlled waveguide sections (2') formed on the substrate (1). and a plurality of light control electrodes (2') provided on the light control waveguide sections (2').
4), and an elastic wave propagation blocking means (5) provided on the substrate (1) between adjacent light control electrodes (4) among the plurality of light control electrodes (4). An integrated optical waveguide device comprising at least:
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1036961A JP2717980B2 (en) | 1989-02-16 | 1989-02-16 | Integrated optical waveguide device |
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JP1036961A JP2717980B2 (en) | 1989-02-16 | 1989-02-16 | Integrated optical waveguide device |
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JPH02214828A true JPH02214828A (en) | 1990-08-27 |
JP2717980B2 JP2717980B2 (en) | 1998-02-25 |
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