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JPH02202871A - ３―フェニルピロール誘導体の製造方法 - Google Patents

３―フェニルピロール誘導体の製造方法

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Publication number
JPH02202871A
JPH02202871A JP1322471A JP32247189A JPH02202871A JP H02202871 A JPH02202871 A JP H02202871A JP 1322471 A JP1322471 A JP 1322471A JP 32247189 A JP32247189 A JP 32247189A JP H02202871 A JPH02202871 A JP H02202871A
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JP
Japan
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group
tolylsulfonyl
formula
reaction
carbon atoms
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Application number
JP1322471A
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JPH0717598B2 (ja
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Rudolf W Pfluger
ルドルフ　ワルター　プフルガー
Jean Indermuehle
ジャン　インダーミューレ
Franz Felix
フランツ　フェリックス
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Novartis AG
Original Assignee
Ciba Geigy AG
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Publication date
Application filed by Ciba Geigy AG filed Critical Ciba Geigy AG
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Publication of JPH0717598B2 publication Critical patent/JPH0717598B2/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、次式■ （式中、 Ｘはシアノ基、−Ｃｏ−Ｒｓ、　　−ＣＯ−Ｏ鳥または
−Ｃ−ＮＨ−Ｒ，を表わし、 Ｒ工と几、は互に他と独立して水素原子、炭素原子数が
１乃至６のアルキル基、炭素原子数が１乃至６のアルコ
キシ基、炭素原子数が１乃至６のアルキルチオ基、ニト
ロ基、シアノ基、ノ１０ゲン原子または炭素原子数が１
乃至６のノ＼ロアルキル基を表わすか、または Ｒ□とＲＪ、は一緒になって、メチレンジオキシ基また
はジフルオロメチレンジオキシ基を表わし、へは炭素原
子数が１乃至６のアルキル基、炭素ｉ子ａが１乃至６の
ハロアルキル基、フェニル基、またはベンジル基、もし
くは各々ノ・ロゲン原子、メチル基、メトキシ基または
メチルチオ基によジ置換されたフェニル基またはベンジ
ル基を表わし、 Ｂ、は水素原子、炭素原子数１乃至６のアルキル基、炭
素原子数１乃至乙のノ・ロアルキル基、フェニル基また
はベンジル基もしくは各々ノ・ロゲン原子、メチル基、
メトキシ基またはメチルチオ基によジ置換されたフェニ
ル基またはベンジル基を表わす。） で表わされる３−フェニルピロール誘導体の新規な製造
方法に関する。
式■で表わされる化合物に於て、 アルキル基は直鎖または分枝鎖アルキル基を意味するも
のとして理解されるであろう。
適当な炭素原子数１乃至６のアルキル基の例は、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、イソブチル基、第２ブチル基、第３ブチル基
、ｎ−ペンチル基またはペンチル異性体、ヘキシル基ま
たはヘキシル異性体である。
好ましいアルキル基は４より多くない炭素原子を含有す
るものである。
ハロゲン原子それ自身または例えばノ・ロベンジル基、
ハロフェニルＪｌたはハロアルキル基のような置換基の
一部としてのノ・ロゲン原子は弗素原子、塩素原子また
は臭素原子、好ましくは弗素原子または塩素原子を意味
するものとして理解されるであろう。
ハロアルキル基は、典型的にはクロロメチル基、フルオ
ロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル
基、２−クロロエチル基、２、２．２−　）リフルオロ
エチル基、１．１．２．２−テトラフルオロエチル基、
ペンタフルオロエチル基、１，１．２−）リフルオロ−
２−クロロエチル基、２．２．２−　）リフルオロ−１
，１−ジクロロエチル基、ペンタクロロエチル基、３Ｉ
３．３−トリフルオロプロピル基、２．３−ジクロロプ
ロピル基、１．１．２．３．３．５−へキサフルオロプ
ロピル基、１−クロロペンチル基、１−クロロヘキシル
基及び特別にはフルオロメチル基、クロロメチル基、ジ
フルオロメチル基またはトリフルオロメチル基である。
置換ベンジル及びフェニル基の例は；２−クロロフェニ
ル基、”　−クロロフェニル基、’−クロロフェニルｉ
、２．４−ジクロロフェニル基、３、４−ジクロロフェ
ニル基、２．３−ジクロロフェニル基、２．４．６−ト
リクロロフエニル基、２．５−ジクロロベンジル基、４
−フルオロフェニル基、２−フルオロベンジル基、４−
メチルフェニル基、２．４−ジメチルフェニル基、４−
トリフルオロメチルフェニル基Ｎ４−ブロモベンジル基
、４−メトキシフェニル基、２．４−ジメトキシフェニ
ル基及び４−メチルチオフェニル基である。
アルコキシ基は典型的には、メトキシ基、エトキシ基、
ｎ−プロポキシ基、インプロポキシ基または４つのブト
キシ異性体、ｎ−ペンチルオキシ基またはペンチルオキ
シ異１１体、ｎ−ヘキシルオキシ基またはへキシルオキ
シ異性体であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基
またはイソプロポキシ基である。
アルキルチオ基は、例えば、メチルチオ基、エチルチオ
基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基または４
つのブチルチオ異性体、ｎ−ペンチルチオ基またはその
ペンチルチオ異性体、ｎ−へキシルチオ基まタハそのヘ
キシルチオ異性体であわ、好ましくはメチルチオ基であ
る。
（従来の技術及び発明が解決しようとする課題）式■で
表わされる３−フェニルビロール誘４体で夷と八が一緒
罠なってジフルオロメチレンジオキシ基を表わし、Ｘが
シアノ基を表わす化合物は殺菌剤としてヨーロッパ特許
出願Ａ−２０６９９９に開示されている。
テトラヘドロンレター（ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔ
ｔｅｒｓ　）、　　１９７２．　５２　５５３７〜５３
４０に開示された方法に従って、 次式■： で表わされるシンナモニトリルは 次式■： メトキシ基またはメチルチオ基を表わし、Ｘがシアノ基
を表わす化合物は、殺菌剤の合成のための中間体として
ヨーロッパ特許出ｆｉＡ−１３５２４７に開示されてい
る。ヨーロッパ特許出願Ａ−２５６２７２に於ては、 式Ｉで表わさ扛る化合物に於てＲ１，が２−クロロ基を
表わし、八が３−クロロ基を表わし、そしてＸがシアノ
基を表わす化合物が顕著な殺真菌活性を有するものとし
て開示さｎている。
で表わされる（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシア
ナイド（ＴＯ８ＭＩＣ）でもって、水素化す）　＋７ウ
ムのような強塩基の存在下でルに環化される。
工業的な規模に於ける合成としては、非常に低い、わず
か６５％程度の収率である点は別にして、この方法の本
質的な欠点はこの方法が単離され、再結晶化した（ｐ−
トリルスルホニル）−メチル−イソシアナイドでもって
のみしか実施することができないという点にある。
単離され、再結晶化した（ｐ−トリルスルホニル）メチ
ルイソシアナイドは高められた温度に於て爆発的に分解
しやすいため、該化合物の取扱には非常に高い安全性に
ついての保障を併なう。
更に、反応が実施されるのに必要な完全に無水の条件は
上述の工程を、費用がかかりそして複雑なものとしてい
る。
これらの欠点のため、上記方法は、式■で表わされる３
−フェニルピロールの工業的製法としては不適当である
。
特開昭６１−３０５７１号公報には、次式■（式中： Ｚはハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アル
キルアミノ基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基また
はメチレンジオキシ基を表わし、そしてｎは０，１．ま
たは２を表わす。）で表わされる４−シアノ−３−７エ
ニルビロールを、 次式■ ｎ （式中、Ｚ及びｎは上記定義と同じであり、そして凡は
水素原子またはアルキル基を表わす。）で表わされるシ
アノシンナメートと（ｐ−１リルスルホニル）メチルイ
ソシアナイドとを塩基の存在下で反応させることにより
製造する方法が開示されている。
前述の方法と同様に、この方法も満足する収率で式■で
表わされる化合物を合成するためには、単離され、精製
され、再結晶化した（ｐ−トリルスルホニル）メチルイ
ソシアナイドしが使用することができないという重大な
欠点を有する。既に述べたように、結晶化（ｐ　−）　
ＩＪルスルホニル）メチルイソシアナイドは熱的に不安
定でアシ、爆燃しやすく、爆発の鋭敏な危険性のため、
工業的規模で実施される合成に於てはかなシの危険源で
ある。
（課題を解決するための手段） 今や工業的規模に於て、良好の収率で、危険を伴うこと
なく、経済的に有利な方法に於て式■で表わされる化合
物を製造することを可能とする新規な方法が見出された
。
式Ｉで表わされる３−フェニルピロール誘導体を製造す
るための本発明の新規な方法は、ａ）Ｎ−（ｐ−トリル
スルホニル）メチルホルムアミドを不活性溶媒中で、有
機塩基の存在下に、ホスホロオキシクロライドと反応さ
せ、反応溶液を水と混合し、得られた二相混合物の水性
層を分離し、そして ｂ）（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイドを
含有する有機相を、次式■ （式中、Ｘ、　Ｒ□およびへは式Ｉの定義と同じであり
、Ｙは−ＣＯ−ＮＨＲ，、−ＣＯ−鴇または−８−Ｒ，
を表わし、鳥は炭素原子数１乃至６のアルキル基、炭素
原子数が１乃至乙のハロアルギル基、フェニル基または
ベンジル基モジくは、各々ハロゲン原子、メチル基、メ
トキシ基またはメチルチオ基で置換されたフェニル基ま
たはベンジル基を表わし、そしてＲ１は式Ｉの定義と同
じである。） で表わされる化合物と、塩基の存在下で、直接反応させ
ることからなる。
適当な不活性溶媒の例は、開鎖または環状エーテルの詳
例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、１
，２−ジメトキシメタン：またはクロロアルカン類の群
例えばメチレンクロライド、クロロホルムまたは四塩化
炭素；から選・ばれた化合物または化合物の混合物；或
いは、ケトン類の群、例えばアセトン、メチルエチルケ
トン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソ
プロピルケトンまたはメチルイソブチルケトンｔたは低
級カルボン酸のアルキルエステルの群、例えば酢酸メチ
ルエステル、酢酸エチルエステル、またはプロピオン酸
のエチルエステルから選ばれた化合物である。
好ましい溶剤は、テトラヒドロ７ラン、ジオキサン、ジ
メトキシメタン、酢酸エチルエステル及び１．２−ジメ
トキシエタンである。
特に好ましい溶剤は１．２−ジメトキシエタン及び酢酸
エチルエステルである。
Ｎ−（ｐｉリルスルホニル）メチルホルムアミドから（
ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイドを製造す
るための適当な有機塩基は、例えば、キノリン、ピリジ
ン、ジイソプロピルアミン、好ましくは、キヌクリジン
、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン ジメチルアミノピリジン、Ｎ−メチルピロリジンまたは
Ｎ、　Ｎ、　Ｎ’、　Ｎ’−テトラメチルエチレンジア
ミンのような第３級アミン、そして最も好ましくは、ト
リエチルアミンまたはトリーｎ−プロピルアミンである
。トリエチルアミンが特に好ましい。
（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイドと式Ｉ
Ｉで表わされる化合物との反応のための適当な塩基の例
は、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の酸化物、水
素化物、水酸化物、炭酸塩、カルボン酸塩またはアルコ
レート：トリアルキルアミンまたはピリジン塩基である
。特に適当な塩基は、ナトリウムメチレート、ナトリウ
ムメチレート、−水性水酸化ナトリウム、水性水酸化カ
リウム、メタノール中の水酸化ナトリウム、メタノール
中の水酸化カリウム、炭酸す）　ＩＪウムまたは炭酸カ
リウムである。
特に好ましい塩基は、水性水酸化す）　ＩＪウム、メタ
ノール中の水酸化ナトリウム、水性水酸化カルシウム、
メタノール中の水酸化カルシウム及びナトリウムメチレ
ートである。
本発明の方法の好ましい態様に於ては、式■の化合物は
（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイドの溶液
に添加され、そして続いて反応混合物に塩基が添加さ九
る。
式■の化合物と（ｐ　−）　ＩＪルスルホニル）メチル
イソシアナイドとの反応のためには、塩基は通常式■の
化合物１モル尚シ２〜３モル、好ましくは２〜２．４モ
ルの量に於て添加される。式Ｈの化合物と（ｐ　−トリ
ルスルホニル）メチルイソシアナイドとの反応は、通常
−２５°〜＋２５℃の温度範囲、好ましくは一１０°〜
＋１０℃の温度範囲で生じる。
式■の化合物及び（ｐ　−）　Ｑルスルホニル）メチル
イソシアナイドは通常は等モル量に於て、または式■の
化合物が１０〜２０モル％過剰に使用される。
等モル量使用することが特に好ましい。
工程ａ）に於て、不活性溶媒として、ケトン類または低
級カルボン酸のアルキルエステル類が使用される場合に
は、塩基の水性溶液を有機層に添加し、引き続いて、工
程ｂ）を実施する前に混合物から水性層を分離すること
が好ましい。
この工程の変形のための適当な塩基は、例えば水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素
ナトリウム及び炭酸カリウム、しかし特に水酸化ナトリ
ウム及び炭酸ナトリウムである。
酢酸エチルエステルは、この工程の変形のための不活性
溶媒媒として特に好ましいものである。
本発明の工程の特に好ましい態様は、１．２−ジメトキ
シエタン中のＮ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホル
ムアミドをホスホロオキシクロライドとトリエチルアミ
ンの存在下に反応させ、反応混合物を、α５〜０．７倍
容敏の水と混合し、得られる二相反応混合物から水性層
を分離し、そして、（ｐ−トリルスルホニル）メチルイ
ソシアナイドを含む有機層を、塩基の存在下に式■の化
合物と直接反応させることからなる。
片に好ましい本発明の工程の態様は、不活性溶媒として
ジオキサンを使用し、Ｎ−（１）−トリルスルホニル）
メチルホルムアミドとホスホロオキシクロライドとの反
応によシ得られる反応混合物を、α２〜α３５倍容量の
水と混合することからなる。
本発明の工程の他の変形は溶媒としてテトラヒドロフラ
ンを使用し、Ｎ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホル
ムアミドとホスホロオキシクロライドとの反応によシ得
られる反応混合物をａ３〜α８倍容量の水と混合するこ
とからなる。
更に、本発明の工程の変形は、不活性溶媒としてジメト
キシメタンを使用し、Ｎ　−（ｐ　−トリルスルホニル
）メチルホルムアミドとホスホロオキシクロライドとの
反応によシ得られる反応混合物を０．３〜１．２倍容量
の水と混合することからなる。
上述した本発明の工程の態様に於ては、Ｙが一〇〇−Ｎ
Ｈ人または一〇〇−几、。
Ｒ４が水素原子またはメチル基。
Ｒ５がメチル基またはフェニル基。
Ｒ□と鳥が互に他と独立して、水素原子または塩素原子
、または一緒になってメチレンジオキシ基または、ジフ
ルオロメチレンジオキシ基、Ｘがシアノ基、−Ｃｏ−Ｒ
，または−〇〇　−ＯＲ，、及び、Ｒｓがメチル基であ
る式■の化合物を使用することが好ましい。
（発明の効果） 本発明の工程は、式Ｉの化合物を良好な収率で、簡単な
方法で製造することを可能にする。
本発明の工程の特別の利点は、中間体として得うれる（
ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイドを反応媒
体から単離し、式■の化合物との反応のために、精製す
る必要がないということである。（ｐ−トリルスルホニ
ル）メチルイソシアナイドの単離及び精製に於て、乾燥
した結晶化物の可能性のある廖発の発生に於てこうむる
安全性に対する危険は本発明の工程に於て完全に避ける
ことができる。
無水条件下で反応を行う費用のかかるやシ方なしですま
すことができる点に加うるに本発明の工程により与えら
れる（ｐ−トリルスルホニル）インシアナイドの実質的
に簡単な取扱が、先行技術の工程より、安全性に対する
手段がより少くてすむという点は、特記されるべきこと
として、抜擢されなければならない。
更に本発明の工程の利点は、反応混合物が水の添加に対
して二相、即ち望む中間体を含む有機層と、副産物を含
む水性層に分離する点である。かくして、二相の分離後
の中間体は使用された溶媒中の溶液の形態で直接的に得
られる。
（実施例） 次の実施例は本発明の方法をよシ詳細に説明するもので
ある。
製造実施例 ４１．５ｆ（α２７モル）のホスホロオキシクロライド
を、５５．４Ｍ’（０，２６モル）のＮ−（ｐ−トリル
スルホニル）メチルホルムアミド、１２４ｆのトリエチ
ルアミン及び１５５２の１．２−ジメトキシエタンを含
む溶液に、０℃の温度に於て、２〜３時間にわたって滴
下する。反応混合物を０℃で１時間攪拌し、次いで水２
２０ｄと、冷却しながら混合する。反応混合物の温度を
＋２０℃まで上昇させ、その後得られた二相混合物の下
方の水性相を分離し、生成物を２３．２重量％（理論値
の７２％）を含有する（ｐ−トリルスルホニル）メチル
イソシアナイドの１．２−ジメトキシエタン溶液１５７
ｔを得る。
ｂ）４ａ３Ｐのα−シアノ−２，３−ジクロロシンナミ
ドをａ）によシ製造された（Ｔ）−トリルスルホニル）
メチルイソシアナイドの溶液１５７ｖに対して、攪拌し
ながら添加する。
反応混合物を０℃まで冷却し、次いで５５．３ｒ（ａ４
モル）の３０％水性水酸化す）　ＩＪウムを攪拌しなが
ら２時間にわたって滴下する。０℃で２時間攪拌を続は
次いで２００ｔの水を添加する。次いで反応溶液を＋７
０℃／２００ｍｂａｒにて濃縮し、室温で水３００２を
加えた後、生成物を濾過によシ単離する。
濾過残渣をトルエン８０２で洗滌し、真空下で乾燥し、
１４９℃で溶融する、４−シアノ−５−（２，５−ジク
ロロフェニル）ピロール４４．５１（理論値の９７％）
を得る。
２４、９９のα−シアノ−２，３−メチレンジオキシシ
ンナミドを実施例Ｐ１ａ）に従って製造された（ｐ−ト
リルスルホニル）メチルイソシアナイド２＆２重ｔ％溶
液９１．９９に対して攪拌しながら添加する。次いで、
ナトリウムメチレートの３０％メタノール溶液４１．４
９を２時間にわたって添加する。混合物を３０分間攪拌
し、次いで水３００ｄを滴下し、そして生成物を濾過に
ょシ単離する。濾過残渣をトルエンで洗滌し、真空下で
乾燥し、２０６〜２０８℃で溶融する４−シナノー３−
（２，３−メチレンジオキシフェニル）ピロール２１ｆ
（理論値の８６．５％）を得る。
２０２の１．１−ジ（メチルカルボニル）−２−（２，
５−ジクロロフェニル）−エテンヲ、実施例Ｐ１ａ）に
従って製造された（　ｐ　−）　ＩＪルスルホニル）メ
チルイソシアナイドの２＆２重量％溶液６５ｆに対して
、０℃で攪拌しながら添加する。次いでナトリウムメチ
レートの３０％メタノール溶液２ａ１２を３時間にわた
って滴下する。混合物を＋１０℃の温度で６０分間攪拌
し、次いで１７０ｄの水を滴下しそして反応生成物を濾
過により単離する。濾過残渣をメタノール／エタノール
の１：１混合物から再結晶し、次いで真空下で乾燥する
と１９２〜１９４℃で溶融する４−メチルカルボニル−
３−（２，５−ジクロロフェニル）ピロールａ３２（理
論量の５０％）１ｒ得る。
ニル）ピロール ２ａ８１のα−シアノ−４−クロロシンナミドを実施例
Ｐ１ａ）に従って製造された（　ｐ　−）　ＩＪルース
ルホニル）メチルイソシアナイドの２＆２重量％溶液１
１７．４　ｆに対して、０℃の温度で攪拌しながら添加
する。次いでメタノール中ナトリウムメチレート３０％
溶液５０．４２を、＋５℃の温度で３時間満願する。混
合物を２時間攪拌し、次いで水７０ゴを添加する。次い
で、溶剤混合物５０９を、５０℃で真空下に反応混合物
を濃縮することにより除去する。
更に１４０−の水を添加した後、反応混合物を濾過し、
濾過残渣をトルエン３０ｄで洗滌する。
乾燥濾過残渣をトルエンから再結晶し、１４７〜１４８
℃に於て溶融する、４−シアノ−３−（４−クロロフェ
ニル）ピロール２５．４９（理論値の８９５％）を得る
。
２０ｔのメチルα−メチルカルボニル−２，３−ジクロ
ロシンナメートを、実施例Ｐ１ａ）に従って製造された
（　ｐ　−）　メチルイソシアナイドの２２重量％溶液
に０℃で攪拌しながら添加する。次いでメタノール中ナ
トリウムメチレート３０％溶液２６３ｔを２時間にわた
って添加する。
混合物を２時間攪拌後、水５５ｒｄを滴加する。
反応混合物は＋５０℃で真空下に濃縮する。
７０ｄの水を添加した後、反応混合物は再度真空下に濃
縮し、次いで濾過する。濾過残渣をトルエンで洗滌し、
エタノールから再結晶すると、２００〜２０１℃で溶融
する４−メトキシカルボニル−５−（２，５−ジクロロ
フェニル）−ピロール１０．１１（理論値の５８％）が
得られる。
ａ）４４．５ｒのホスホロオキシトリクロライドを５９
、６９　（０，２８モル）のＮ−（ｐ−トリルスルホニ
ル）メチルホルムアミド、１３４ｐのトリエチルアミン
及び１６８１のテトラヒドロフランからなる溶液に一５
℃の温度に於て２時間にわたって滴加する。０℃で１時
間攪拌の後、反応混合物を３００−の水と、滴下混合す
る。
この滴下添加の間に温度を＋２０℃まで上昇することを
許す。得られる二相混合物の下部の水性相を分離し、生
成物を３３９含有する（ｐ−トリルスルホニル）メチル
イソシアナイドのテトラヒドロフラン溶液１９８１を得
る。
ｂ）４６．９ｆのα−シアノ−２，５−ジクロロシンナ
ミドをａ）によシ製造された（ｐ−トリルスルホニル）
メチルイソシアナイドの溶液１９８２に攪拌しながら添
加する。反応混合物を＋５℃に冷却し、次いて攪拌しな
がら、水酸化カリウム５０％溶液４五６２を９０分にわ
たシ温潤する。混合物を２時間攪拌し、次いで水８０Ｉ
ＩＬｌを添加する。次いで溶媒混合物５０ｄを蒸溜によ
シ除去する。
更に水１５０ｒＩＬｌを添加した後、反応混合物を再度
濃縮し、次いで濾過する。濾過残渣をトルエンで洗滌し
、メタノールから再結晶すると、１４６〜１４８℃で溶
融する４−シアノ−３−（２，３−ジクロロフェニル）
ピロール３４．２２（理論値の８５％）を得る。
３１．５Ｆのホスホロオキシクロライドを、４３ｔ（α
２モル）のＮ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホルム
アミド、９２．１９のトリエチルアミン及び１４５ｔの
酢酸エチルエステルからなる溶液に０〜５℃の温度で２
時間にわたって滴加する。
反応混合物を０〜５℃で３０分間攪拌し、次いで１５０
−の水と混合する。攪拌を＋２０℃で１０分間続け、そ
の後水性相を分離する。
１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液１００ｄを添加し、１０
分間攪拌を続ける。水性相を分離し、その後有機相を５
０ａｔ／の水で洗滌し、生成物５１５Ｆを含有する（ｐ
−トリルスルホニル）メチルイソシアナイドの酢酸エチ
ルエステル溶液１５０ｆを得る。
ｂ）３ａ６ｆのα−シアノ−２，３−ジクロロシンナミ
ドをａ）によシ製造された（ｐ−トリルスルホニル）メ
チルイソシアナイドの溶液１５０２に添加する。反応混
合物を０℃に冷却し、次いでメタノール中３０％ナトリ
ウムメタレート溶液６＆２２を３時間にわたって攪拌し
ながら滴加する。水１００ｄを添加後、攪拌を１５分間
続け、その後水性相を分離する。
水を添加後、溶媒を５０〜６０℃の温度で減圧下に完全
に除去する。残存する分散液を室温に冷却し、生成物を
濾過により単離する。濾過残香をトルエン２００ｄで洗
滌し、乾燥し、１４８℃で溶融する４−シアノ−３−（
２，３−ジクロロフェニル）ピロールｓ　１ｔ　（理Ｐ
Ｉｉｔ値の８２％）を得る。
ａ）（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイドの
溶液の製造 ３１．８ｆ（ＩｌｌＬ２０８モル）のホスホロオキシク
ロライドを４２．６９（０，２モル）のＮ−（ｐ−トリ
ルスルホニル）メチルホルムアミド、９６２のトリエチ
ルアミン及び１６０２の酢酸エチルエステルからなる溶
液に０〜５℃の温度で１〜２時間にわたって滴加する。
反応混合物を０〜５℃で１時間攪拌し、次いで水１５０
ｍ１と混合する。反応混合物の温度を＋２０℃まで上昇
することを許し、その後低部の水性相を分離する。１０
％炭酸ナトリウム水溶液１００ｄを添加し、１０分間攪
拌を続ける。その後水性相を分離し、生成物３３２１（
理論値の８５％）を含有する（　ｐ−）　リルスルホニ
ル）メチルイソシアナイドの酢酸エチルエステル溶液２
１０２を得る。
ｂ）　　４ｚ８ｆｉｆのα−シアノ−２，６−シフルオ
ロメチレンジオキシシンナミドをａ）によシ製造された
（ｐ−トリルスルホニル）−メチルイソシアナイド溶液
２１０ｆに攪拌しながら添加する。反応混合物を０〜５
℃に冷却し、次いでメタノール中３５％の水酸化ナトリ
ウム溶液４５．８２（（１２０４モル）を攪拌しながら
１時間にわたって滴加する。攪拌を＋２０℃で１時間続
ける。製造は次の方法の１つによって経続される。
方法１：　　１２０ｄの酢酸エチルエステル／メタノー
ル混合物を６５〜７０℃の温度で蒸溜によシ除く。３０
０ｄのメタノールを添加した後、反応混合物を再度１７
０ｄの溶媒を蒸発することによシ濃縮する。水９０ゴを
添加した後、反応混合物をＦ遁する。濾過残渣をメタノ
ール／水混合物で洗滌し、１９０〜１９５℃で溶融する
４−シアノ−３−（２，３−ジフルオロメチレンジオキ
シフェニル）ピロール５５．８？（理論値の８５％）を
得る。
方法２：　　１２０ｄの酢酸エチルエステル／メタノー
ル混合物を６５〜７０℃の温度で蒸溜によシ除く。１２
０ゴの水を添加した後、反応混合物を再度蒸溜によシ、
濃縮する。メタノール１２０ｄを添加した後、反応混合
物を濾過する。
濾過残渣をメタノール／水の混合物で洗滌し、１９０〜
１９５℃で溶融する４−シアノ−５−（２゜３−ジフル
オロメチレンジオキシ）ピロール３４．３ｆ（理論値の
８３％）を得る。
方法３：　　２００ｍｇの水を添加し、水性相を分離し
た後、１２０Ｒ１の酢酸エチルエステルを蒸溜によシ除
く。残渣に対してメタノール３００ｄを添加後、反応混
合物を再度１７０ｄの溶媒を蒸発させることにより濃縮
する。９０ｄの水を添加後、反応混合物を濾過する。濾
過残渣をメタノール／水の混合物で洗滌し、１９０〜１
９５℃で溶融する４−シアノ−５−（２，３−ジフルオ
ロメチレンジオキシフェニル）ピロール３４．５？（理
論値の８３％）を得る。

Claims (26)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）次式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、 Ｘは、シアノ基、−ＣＯ−Ｒ＿３、−ＣＯ−ＯＲ＿３ま
    たは▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、 Ｒ＿１とＲ＿２は互に他と独立して、水素原子、炭素原
    子数が１乃至６のアルキル基、炭素原子数が１乃至６の
    アルコキシ基、炭素原子数が１乃至６のアルキルチオ基
    、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子または炭素原子数
    が１乃至６のハロアルキル基を表わすか、またはＲ＿１
    とＲ＿２は一緒になって、メチレンジオキシ基またはジ
    フルオロメチレンジオキシ基を表わし、Ｒ＿３は炭素原
    子数が１乃至６のアルキル基、炭素原子数が１乃至６の
    ハロアルキル基、フェニル基、またはベンジル基、もし
    くは各々ハロゲン原子、メチル基、メトキシ基またはメ
    チルチオ基により置換されたフェニル基またはベンジル
    基を表わし、 Ｒ＿４は水素原子、炭素原子数１乃至６のアルキル基、
    炭素原子数１乃至６のハロアルキル基、フェニル基また
    はベンジル基もしくは各々ハロゲン原子、メチル基、メ
    トキシ基またはメチルチオ基により置換されたフェニル
    基またはベンジル基を表わす。） で表わされる３−フェニルピロール誘導体を製造するに
    際して、 ａ）Ｎ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホルムアミド
    を不活性溶媒中に於て、有機塩基 の存在下に、ホスホロオキシクロライドと 反応させ、反応溶液を水と混合し、得られ る二相混合物の水性相を分離し、そして ｂ）（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイドを
    含む有機相を、次式II ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中： Ｘ、Ｒ＿１及びＲ＿２は式 I で定義したのと同じ意味
    を表わし、 Ｙは−ＣＯ−ＮＨＲ＿４、−ＣＯ−Ｒ＿５または−Ｓ−
    Ｒ＿５を表わし、 Ｒ＿５は炭素原子数が１乃至６のアルキル基、炭素原子
    数が１乃至６のハロアルキル基、 フェニル基またはベンジル基、もしくは各 々ハロゲン原子、メチル基、メトキシ基ま たはメチルチオ基で置換されたフェニル基 またはベンジル基を表わし、そして Ｒ＿４は式 I で定義したのと同じ意味を表わす。）で
    表わされる化合物と、塩基の存在 下に直接反応させることを特徴とする、３ −フェニルピロール誘導体の製造方法。
  2. （２）ａ）式IIで表わされる化合物を（ｐ−トリルスル
    ホニル）メチルイソシアナイド溶液に添加し、そして ｂ）反応混合物に対して塩基を添加することからなる請
    求項（１）記載の方法。
  3. （３）（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイド
    と式IIで表わされる化合物の反応に於て、式IIで表わさ
    れる化合物の１モル当り２〜３モルの量の塩基を添加す
    ることからなる請求項（１）記載の方法。
  4. （４）Ｒ＿１とＲ＿２が各々他と独立して、水素原子、
    ハロゲン原子、メトキシ基またはメチルチオ基を表わす
    か、或いは一緒になってメチレンジオキシ基またはジフ
    ルオロメチレンジオキシ基を表わし、Ｒ＿３とＲ＿５が
    互に他を独立して炭素原子数１乃至４のアルキル基また
    は炭素原子数が１乃至４のハロアルキル基を表わし、Ｒ
    ＿４が水素原子、炭素原子数１乃至４のアルキル基また
    は炭素原子数１乃至４のハロアルキル基を表わし、そし
    てＹが−ＣＯ−ＮＨＲ＿４または−ＣＯ−Ｒ＿５を表わ
    す請求項（１）記載の方法。
  5. （５）式IIで表わされる化合物が（ｐ−トリルスルホニ
    ル）メチルイソシアナイドの量にもとづいて１０〜２０
    モル％過剰に使用される請求項（１）記載の方法。
  6. （６）（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイド
    と式IIで表わされる化合物が等モル量に於て使用される
    請求項（１）記載の方法。
  7. （７）不活性溶媒が開鎖または環状エーテル類、クロロ
    アルカン類、ケトン類からなる群、または低級カルボン
    酸のアルキルエステル類からなる群から選ばれた化合物
    また化合物の混合物である請求項（１）記載の方法。
  8. （８）不活性溶媒が開鎖または環状エーテル類からなる
    群またはクロロアルカン類からなる群から選ばれた化合
    物または化合物の混合物である請求項（１）記載の方法
    。
  9. （９）Ｎ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホルムアミ
    ドとホスホロオキシクロライドとの反応に於て、第３級
    アミンが塩基として使用される請求項（１）記載の方法
    。
  10. （１０）（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイ
    ドの溶液と式IIで表わされる化合物との反応のための塩
    基として、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の酸化
    物、水素化物、水酸化物、炭酸塩、カルボン酸塩または
    アルコレートもしくはトリアルキルアミン或いはピリジ
    ン塩基が使用される請求項（１）記載の方法。
  11. （１１）式IIで表わされる化合物と（ｐ−トリルスルホ
    ニル）メチルイソシアナイドとの反応が−２５〜＋２５
    ℃の範囲の温度で実施される請求項（１）記載の方法。
  12. （１２）式IIで表わされる化合物と（ｐ−トリルスルホ
    ニル）メチルイソシアナイドとの反応が−１０〜＋１０
    ℃の範囲の温度で実施される請求項（１）記載の方法。
  13. （１３）塩基がナトリウムメチレート、ナトリウムエチ
    レート、水性水酸化ナトリウム、水性水酸化カリウム、
    炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムである請求項（１０
    ）記載の方法。
  14. （１４）塩基が式IIで表わされる化合物１モル当り２〜
    ２．４モルの量に於て使用される請求項（１０）記載の
    方法。
  15. （１５）塩基がトリエチルアミンである請求項（９）記
    載の方法。
  16. （１６）不活性溶媒がジメトキシメタン、１，２−ジメ
    トキシエタン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
    テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メチレンクロ
    ライド、クロロホルム、四塩化炭素または酢酸エチルエ
    ステルである請求項（１）記載の方法。
  17. （１７）不活性溶媒が、ジメトキシメタン、１，２−ジ
    メトキシエタン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
    ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メチレンク
    ロライド、クロロホルムまたは四塩化炭素である請求項
    （１）記載の方法。
  18. （１８）不活性溶媒が、ジメトキシメタン、１，２−ジ
    メトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサンまた
    は酢酸エチルエステルである請求項（１）記載の方法。
  19. （１９）不活性溶媒がジメトキシメタン、１，２−ジメ
    トキシエタン、テトラヒドロフランまたはジオキサンで
    ある請求項（１）記載の方法。
  20. （２０）不活性溶媒が、１，２−ジメトキシエタンであ
    り、Ｎ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホルムアミド
    とホスホロオキシクロライドとの反応の後に得られる反
    応混合物が０．５〜０．７倍容量の水と混合される請求
    項（１）記載の方法。
  21. （２１）不活性溶媒がジオキサンであり、Ｎ−（ｐ−ト
    リルスルホニル）メチルホルムアミドとホスホロオキシ
    クロライドとの反応から得られる反応混合物が０．２〜
    ０．３５倍容量の水と混合される請求項（１）記載の方
    法。
  22. （２２）不活性溶媒がテトラヒドロフランであり、Ｎ−
    （ｐ−トリルスルホニル）メチルホルムアミドとホスホ
    ロオキシクロライドとの反応から得られる反応混合物が
    ０．３〜０．８倍容量の水と混合される請求項（１）記
    載の方法。
  23. （２３）不活性溶媒がジメトキシメタンであり、Ｎ−（
    ｐ−トリルスルホニル）メチルホルムアミドとホスホロ
    オキシクロライドとの反応から得られる反応混合物が０
    ．３〜を２倍容量の水と混合される請求項（１）記載の
    方法。
  24. （２４）Ｘがシアノ基、−ＣＯ−ＯＲ＿３または−ＣＯ
    −Ｒ＿３を表わし、Ｒ＿１とＲ＿２が互に他と独立して
    水素原子、塩素原子を表わすか、または一緒になってメ
    チレンジオキシ基またはジフルオロメチレンジオキシ基
    を表わし、Ｒ＿３がメチル基を表わし、Ｙが−ＣＯ−Ｎ
    ＨＲ＿４または−ＣＯ−Ｒ＿５を表わし、Ｒ＿４が水素
    原子またはメチル基を表わし、そしてＲ＿５がメチル基
    またはフェニル基を表わす請求項（１）記載の方法。
  25. （２５）ａ）Ｎ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホル
    ムアミドとホスホロオキシクロライドと の反応を、１，２−ジメトキシエタン中でトリエチルア
    ミンの存在下に実施し、反応混 合物を０．５５〜０．６倍容量の水と混合し、得られる
    二相反応混合物から水性相を分離し、そして ｂ）（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイドを
    含有する有機相を（ｐ−トリル スルホニル）メチルイソシアナイドの量に もとづいて等モル量の式IIで表わされる化 合物と、式IIで表わされる化合物にもとづ いて２〜２．４モルの水性水酸化ナトリウムの存在下、
    −１０〜＋１０℃の範囲の温度に於て反応させることか
    らなる請求項（１）記載の方法。
  26. （２６）ａ）式IIで表わされる化合物を（ｐ−トリルス
    ルホニル）メチルイソシアナイドの溶液 に添加し、そして ｂ）反応混合物に対して、水性水酸ナトリウムを添加す
    ることからなる請求項（２２）記載の方法。
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