JPH02165154A - 電子写真感光体 - Google Patents
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の分野〕
本発明は電子写真感光体に係わるものであり。
更に詳しくは良好な感度を示すとともに耐環境性に優れ
、しかも耐久性にも優れた電子写真感光体に関する。
、しかも耐久性にも優れた電子写真感光体に関する。
従来から電子写真感光体の光導電素材として知られてい
るものにセレン、硫化カドミウム、酸化亜鉛などの無機
物質がある6しかしながら、これら無機物質は電子写真
感光体として要求される光感度、熱安定性、耐久性等の
特性及び製造条件において必ずしも満足できるものでは
ない1例えば、セレンは熱、汚れ等により結晶化しやす
く特性が劣化しやすい、又、製造コスト、耐衝撃性、毒
性等取り扱い上の注意を要するなどの欠点がある。
るものにセレン、硫化カドミウム、酸化亜鉛などの無機
物質がある6しかしながら、これら無機物質は電子写真
感光体として要求される光感度、熱安定性、耐久性等の
特性及び製造条件において必ずしも満足できるものでは
ない1例えば、セレンは熱、汚れ等により結晶化しやす
く特性が劣化しやすい、又、製造コスト、耐衝撃性、毒
性等取り扱い上の注意を要するなどの欠点がある。
硫化カドミウムを用いた感光体は耐湿性、耐久性に劣り
、又、毒性等の開運がある。酸化亜鉛も、耐湿性、耐久
性に劣るという欠点をもつ。
、又、毒性等の開運がある。酸化亜鉛も、耐湿性、耐久
性に劣るという欠点をもつ。
これら無機光導電素材を用いた電子写真感光体に対し、
有機光導電性物質を用いた感光体は軽量性、成膜容易性
、製造コストあるいは有機化合物としてのバリエーショ
ンの広さから、活発に研究開発が行なわれるようになっ
ている1例えば、初期には特公昭50−10496号公
報記載のポリビニルカルバゾールと2.4.7−ドリニ
トロー9−フルオレノンを含有した感光体、特公昭4g
−25658号公報記載のポリビニルカルバゾールをビ
リリウム塩基色素で増感した感光体、又は、共晶錯体を
主成分とする感光体が提案された。しかしながら、これ
らの感光体は感度、耐久性の面で十分なものではない。
有機光導電性物質を用いた感光体は軽量性、成膜容易性
、製造コストあるいは有機化合物としてのバリエーショ
ンの広さから、活発に研究開発が行なわれるようになっ
ている1例えば、初期には特公昭50−10496号公
報記載のポリビニルカルバゾールと2.4.7−ドリニ
トロー9−フルオレノンを含有した感光体、特公昭4g
−25658号公報記載のポリビニルカルバゾールをビ
リリウム塩基色素で増感した感光体、又は、共晶錯体を
主成分とする感光体が提案された。しかしながら、これ
らの感光体は感度、耐久性の面で十分なものではない。
そこで近年では、電荷発生層と電荷輸送層を分離した機
能分離型の感光体が提案され、特公昭55−42380
号記載のクロルダイアンブルーとヒドラゾン化合物を組
み合わせた感光体、電荷発生物質としてはビスアゾ化合
物として特開昭53−133445号公報記載、特開昭
54−21728号公報記載、特開昭$4−22834
号公報記載、電荷輸送物質としては特開昭58−198
043特開昭58−199352等記載のものが知られ
ている。
能分離型の感光体が提案され、特公昭55−42380
号記載のクロルダイアンブルーとヒドラゾン化合物を組
み合わせた感光体、電荷発生物質としてはビスアゾ化合
物として特開昭53−133445号公報記載、特開昭
54−21728号公報記載、特開昭$4−22834
号公報記載、電荷輸送物質としては特開昭58−198
043特開昭58−199352等記載のものが知られ
ている。
しかしながら、これら機能分離型感光体においても特に
耐久性においては満足できるものではなく。
耐久性においては満足できるものではなく。
近年、増々耐久性に対する要求が高まってくる中で、帯
電安定性を確保することが無視できない問題となってい
る。すなわち、帯電性が低下した場合、複写機ではコピ
ーの画像濃度低下をひきおこし、反転現像方式を用いて
いるレーザープリンターの場合は地肌汚れを発生する等
の画像品質の低下をひきおこす、これらの問題を解決す
るために、導電性基板と感光層との間に中間層を設ける
事が提案されている。しかしながら中間層は、帯電性を
安定させるために、バリアー性の高い高抵抗材料を用い
た場合、帯電性は向1−するものの、光感度が低下し、
残留電位が上昇するという欠点がある。また残留電位が
上昇しないような比較的抵抗の低1い材料を用いた場合
は、帯電安定性が不十分となる。
電安定性を確保することが無視できない問題となってい
る。すなわち、帯電性が低下した場合、複写機ではコピ
ーの画像濃度低下をひきおこし、反転現像方式を用いて
いるレーザープリンターの場合は地肌汚れを発生する等
の画像品質の低下をひきおこす、これらの問題を解決す
るために、導電性基板と感光層との間に中間層を設ける
事が提案されている。しかしながら中間層は、帯電性を
安定させるために、バリアー性の高い高抵抗材料を用い
た場合、帯電性は向1−するものの、光感度が低下し、
残留電位が上昇するという欠点がある。また残留電位が
上昇しないような比較的抵抗の低1い材料を用いた場合
は、帯電安定性が不十分となる。
−・方、電荷発生層は基本的に電荷発生物質である有機
顔料と結着剤であるバインダーから構成される。このよ
うなバインダーの例としてはポリビニルブチラール(特
開昭58−105154号)、脂肪酸セルロースエステ
ル(特開昭58−166353号)、Tgが70℃以下
で酸価数10〜40のアクリル樹脂(特開昭58−19
2040号)、 Tgが70を以下の樹脂とTgが75
℃以上の樹脂を混合したもの(特開昭58−19354
9号)、電荷発生物質−樹脂−溶剤の系に相溶性のより
低い樹脂−溶剤系を加えて再分散したもの(特開昭56
−12646号)、ポリビニルピロリドン(特開昭56
−113140号)、ポリビニルホルマール(特開昭6
1〜235844号)等の樹脂を用いたものが挙げられ
る。しかしながら、゛従来の電荷発生層のバインダーに
対する見方は電荷発生物質の結着剤であって1分散性、
分散安定性及び他の層との接着性をもたせるといったも
のがほとんでである。そのため、従来の機能分離型電子
゛ダ真感光体は、残留電位、電位変動などの電位特性の
面で十分なものではない。
顔料と結着剤であるバインダーから構成される。このよ
うなバインダーの例としてはポリビニルブチラール(特
開昭58−105154号)、脂肪酸セルロースエステ
ル(特開昭58−166353号)、Tgが70℃以下
で酸価数10〜40のアクリル樹脂(特開昭58−19
2040号)、 Tgが70を以下の樹脂とTgが75
℃以上の樹脂を混合したもの(特開昭58−19354
9号)、電荷発生物質−樹脂−溶剤の系に相溶性のより
低い樹脂−溶剤系を加えて再分散したもの(特開昭56
−12646号)、ポリビニルピロリドン(特開昭56
−113140号)、ポリビニルホルマール(特開昭6
1〜235844号)等の樹脂を用いたものが挙げられ
る。しかしながら、゛従来の電荷発生層のバインダーに
対する見方は電荷発生物質の結着剤であって1分散性、
分散安定性及び他の層との接着性をもたせるといったも
のがほとんでである。そのため、従来の機能分離型電子
゛ダ真感光体は、残留電位、電位変動などの電位特性の
面で十分なものではない。
本発明は上記従来技術の実情に鑑みてなされたものであ
って、その目的は、良好な感度を示し、耐環境性に優れ
、かつ耐久性の高い電子写真用感光体を提供することに
ある。
って、その目的は、良好な感度を示し、耐環境性に優れ
、かつ耐久性の高い電子写真用感光体を提供することに
ある。
さらに、本発明の他の目的は半導体レーザープリンター
用感光体を提供するとともに、また製造も容易な機能分
離型感光体を提供することにある。
用感光体を提供するとともに、また製造も容易な機能分
離型感光体を提供することにある。
本発明によれば、導電性支持体上に少なくとも電荷発生
層及び電荷輸送J轢を積層してなる機能分離型電子写真
感光体において、電荷発生層中に結着剤としてレゾール
型フェノール樹脂を含有させたことを特徴とする電子写
真感光体が提供される。
層及び電荷輸送J轢を積層してなる機能分離型電子写真
感光体において、電荷発生層中に結着剤としてレゾール
型フェノール樹脂を含有させたことを特徴とする電子写
真感光体が提供される。
本発明の電子写真感光体は、電荷発生層中に結着剤とし
てレゾール型フェノール樹脂を含有させたことから繰り
返し7使用による帯電性の低下が抑制され、高寿命、高
信頼性、かつ高感度なものである。
てレゾール型フェノール樹脂を含有させたことから繰り
返し7使用による帯電性の低下が抑制され、高寿命、高
信頼性、かつ高感度なものである。
また、本発明においては電荷発生物質として下記一般式
(1)で示されるトリスアゾ顔料を用いた場合には更に
上記効果をより一渭高めることができる。
(1)で示されるトリスアゾ顔料を用いた場合には更に
上記効果をより一渭高めることができる。
■
番
(式中、Aはフェノール性OR基を有するカプラー残基
を表わす、) 本発明においては、前記したように電荷発生層の結着剤
としてレゾール型フェノール樹脂を用いるものであるが
、このようなレゾール型フェノール樹脂としては従来公
知のものが任意に使用でき。
を表わす、) 本発明においては、前記したように電荷発生層の結着剤
としてレゾール型フェノール樹脂を用いるものであるが
、このようなレゾール型フェノール樹脂としては従来公
知のものが任意に使用でき。
その具的例としては、たとえばブライオーフェンTD−
447、ブライオーフェンJ−325(大日本インキ化
学社製)等の市販品を挙げることができる。
447、ブライオーフェンJ−325(大日本インキ化
学社製)等の市販品を挙げることができる。
また、かかるレゾール型フェノール樹脂は結着剤として
単独で用いることもできるが、ポリビニルブチラール樹
脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウ
レタン樹脂、尿素樹脂等の樹脂と併用して電荷発生層の
結着剤としてもよい。
単独で用いることもできるが、ポリビニルブチラール樹
脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウ
レタン樹脂、尿素樹脂等の樹脂と併用して電荷発生層の
結着剤としてもよい。
本発明においては、*を荷発生物質として好ましくは前
記一般式(1)で示されるトリスアゾ顔料が用いられる
が、カップラー残基(A)が以下のような基であるもの
を用いることが好ましい。
記一般式(1)で示されるトリスアゾ顔料が用いられる
が、カップラー残基(A)が以下のような基であるもの
を用いることが好ましい。
l−
’ x −’
7・Y!、
/’Y!S
’−zノ
’ z −’
(式中、Xはベンゼン環と縮合してなるナフタレン環、
アントラセン環、カルバゾール環、ベンズカルバゾール
環、ジベンゾフラン環及びジフェニレンサルファイド環
から選ばれる多環芳香環又はへテロ環を形成するに必要
な残基を示し、R6及びR6は水素原子、置換、非置換
のアルキル、アラルキル、アリール及びヘテロ環基から
選ばれる基を示し、R,、R,は結合する窒素原子とと
もに環状アミノ基を形成してもよい* RvJsは置換
、非置換のフルキル基、アラルキル基及びアリール基か
ら選ばれる基を、Y′は芳香族炭化水素の2価の基又は
窒素原子を環内に含むヘテロ環の2価の基を、R1゜、
。JII、RIヨは水素原子、置換、非置換のアルキル
基、アラルキル基、アリール基及びヘテロ環基から選ば
れる基を示し、またLxtRiaは5員あるいよ6員環
を形成してもよく、この場合この5員ある・鴬は6員環
は縮合芳香族環を有してもよい。
アントラセン環、カルバゾール環、ベンズカルバゾール
環、ジベンゾフラン環及びジフェニレンサルファイド環
から選ばれる多環芳香環又はへテロ環を形成するに必要
な残基を示し、R6及びR6は水素原子、置換、非置換
のアルキル、アラルキル、アリール及びヘテロ環基から
選ばれる基を示し、R,、R,は結合する窒素原子とと
もに環状アミノ基を形成してもよい* RvJsは置換
、非置換のフルキル基、アラルキル基及びアリール基か
ら選ばれる基を、Y′は芳香族炭化水素の2価の基又は
窒素原子を環内に含むヘテロ環の2価の基を、R1゜、
。JII、RIヨは水素原子、置換、非置換のアルキル
基、アラルキル基、アリール基及びヘテロ環基から選ば
れる基を示し、またLxtRiaは5員あるいよ6員環
を形成してもよく、この場合この5員ある・鴬は6員環
は縮合芳香族環を有してもよい。
2はベンゼン環と縮合してなるナフタレン環、アントラ
セン環、カルバゾール環、ベンズカルバゾール環、ジベ
ンゾフラン環、ベンゾナフトフラン環及びジフェニレン
サルファイド環から選ばれる多環芳香環又はヘテロ環を
形成するに必要な残基を示す、 ArいAr、はベンゼ
ン環、ナフタレン環などの芳香環及びそれらの置換体、
nza −R14は水素、低級アルキル基、カルボキシ
ル基またはそのエステルを示す、) 本発明で用いることのできる一般式(1)で示されるト
リスアゾ顔料の具体例を以下に示す。
セン環、カルバゾール環、ベンズカルバゾール環、ジベ
ンゾフラン環、ベンゾナフトフラン環及びジフェニレン
サルファイド環から選ばれる多環芳香環又はヘテロ環を
形成するに必要な残基を示す、 ArいAr、はベンゼ
ン環、ナフタレン環などの芳香環及びそれらの置換体、
nza −R14は水素、低級アルキル基、カルボキシ
ル基またはそのエステルを示す、) 本発明で用いることのできる一般式(1)で示されるト
リスアゾ顔料の具体例を以下に示す。
また、本発明で用いることができる他の電荷発生物質と
しては、カルバゾール骨核を有するアゾ顔料(特開昭5
3−95033号公報に記載)、ジスチリルベンゼン骨
核を有するアゾ顔料(特開昭53−133445号公報
に記載)、トリフェニルアミン骨核を有するアゾ顔料(
特σば昭53−132347号公報に記載)、ジベンゾ
チオフェン骨核を有するアゾ顔料(特開昭54−217
28号公報に記fi)、オキサジアゾール骨核を有する
アゾ顔料(特開昭54−12742号公報に記載)、フ
ルオレノン骨核を有するアゾ顔料(特開昭54−228
34号公報に記載)、ビススチルベン骨核を有するアゾ
顔料(特開昭54−17733号公報に記載)、ジスチ
リルオキサジアゾール骨核を有するアゾ顔料(特開昭5
4−2129号公報に記ff)ジスチリルカルバゾール
骨核を有するアゾ顔料(特開昭54−14967号公報
に記載)などのアゾ顔料等がある。
しては、カルバゾール骨核を有するアゾ顔料(特開昭5
3−95033号公報に記載)、ジスチリルベンゼン骨
核を有するアゾ顔料(特開昭53−133445号公報
に記載)、トリフェニルアミン骨核を有するアゾ顔料(
特σば昭53−132347号公報に記載)、ジベンゾ
チオフェン骨核を有するアゾ顔料(特開昭54−217
28号公報に記fi)、オキサジアゾール骨核を有する
アゾ顔料(特開昭54−12742号公報に記載)、フ
ルオレノン骨核を有するアゾ顔料(特開昭54−228
34号公報に記載)、ビススチルベン骨核を有するアゾ
顔料(特開昭54−17733号公報に記載)、ジスチ
リルオキサジアゾール骨核を有するアゾ顔料(特開昭5
4−2129号公報に記ff)ジスチリルカルバゾール
骨核を有するアゾ顔料(特開昭54−14967号公報
に記載)などのアゾ顔料等がある。
また、本発明においては、電荷発生物質と共に電荷輸送
物質を用いるが、この電荷輸送物質には正孔輸送物質と
電子輸送物質がある。正孔輸送物質としては、たとえば
以下の一般式(1)〜(12)に示されるような化合物
が例示できる。
物質を用いるが、この電荷輸送物質には正孔輸送物質と
電子輸送物質がある。正孔輸送物質としては、たとえば
以下の一般式(1)〜(12)に示されるような化合物
が例示できる。
〔式中、R1はメチル基、エチル基、2−ヒドロキシエ
チル基又は2−クロルエチル基を表わし、R2はメチル
基、エチル基、ベンジル基又はフェニル基を表わし、R
3は水素、塩素、臭素、炭素数1−4のアルキル基、炭
素数1−4のアルコキシル基、ジアルキルアミノ基又は
ニトロ基を表わす、〕〔式中、Arはナフタレン類、ア
ントラセン類、スチリル基及びそれらの置換体あるいは
ピリジン類、フラン類、チオフェン類を表わし、Rはア
ルキル基又はベンジル基を表わす、〕 〔式中、R8はアルキル基、ベンジル基、フェニル基、
ナフチル基を表わし、R2は水素、炭素数1〜3のアル
キル基、炭素数1〜3のアルコキシル、ジアルキルアミ
ノ基、ジアラルキルアミノ基またはジアリールアミノ基
を表わし、nは1〜4の整数を表わし、nが2以上のと
きはR2は同じでも異なっていてもよい、R3は水素ま
たはメトキシ基を表わす、〕m 〔式中、R8は炭素数1−11のアルキル基、置換もし
くは無置換のフェニル基又は複素環基を表わし、R1、
R5はそれぞれ同一でも異なっていてもよく水素、炭素
数1〜4のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、クロル
アルキル基、置換又は無置換のアラルキル基を表わし、
また、RつとR3は互いに結合し窒素を含む複素環を形
成していてもよい、R4は同一でも異なっていてもよく
水素、炭素数1−4のアルキル基、アルコキシ基又はハ
ロゲンを表わす。〕〔式中、Rは水素またはハロゲン原
子を表わし、Arは置換または無置換のフェニル基、ナ
フチル基、アントリル基あるいはカルバゾリル基を表わ
す。〕〔式中、R□は水素、ハロゲン、シアノ基、炭素
数1〜4のアルコキシ基または炭素数1〜4のアルキル
基を表わし、Arは R1は炭素数1−4のアルキル基を表わし、R,、R3
は水素、ハロゲン、炭素数1−4のアルキル基、炭素数
1〜4のアルコキシ基またはジアルキルアミノ基を表わ
し、nは1または2であって、nが2のときはR1は同
一でも異なってもよく、R4およびR1は水素、炭素数
1−4の置換または無置換のアルキル基あるいは置換ま
たは無置換のベンジル基を表わす。〕〔式中、Hはカル
バゾリル基、ピリジン基、チエニル基、インドリル基、
フリル基或いは置換もしくは非置換のフェニル基、スチ
リル基、ナフチル基またはアントリル基であって、これ
らの置換基がジアルキルアミノ基、アルキル基、アルニ
゛1キシ基、カルボキシ基又はそのエステル、ハロゲン
原子、シアノ基、アラルキルアミノ基、N−アルキル−
N−アラルキルアミノ基、アミノ基、二1−目基および
アセチルアミノ基からなる群から選ばれた基を表わす、
〕 (R) 〔式中、R1は低級アルキル基またはベンジル基又は置
換もしくは非置換のアリール基を表わし、R2は水素原
子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子
、二1−ロ基、アミノ基あるいは低級アルキル基または
ベンジル基で置換されたアミノ基を表わし、nは1また
は2の整数を表わす、〕〔式中、R1は水素原子、アル
キル基、アルコキシ基またはハロゲン原子を表わし、R
7およびR3はアルキル基、置換または無置換の7ラル
キル基あるいは置換または無置換アリール基を表わし、
R,は水′M原子または置換もしくは無置換のフェニル
基を表わし、また、Arはフェニル基またはナフチル基
を表わす。〕 〔式中、nはOまたは1の整数、R,、R,、R3は水
14 ))”X子、アルキル基または置換もしくは無置
換のフェニル基を示し、Aは 9−アントリル基または置換もしくは無置換のN−アル
キルカルバゾリル基を表わし、ここでR4は水素原子、
アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン〃;(了アルキル
基、置換または無?1換のアラルキル基、置換または無
置換のアリ一ル基を示し、R7および肌は環を形成して
もよい)を表わし、票は0,1.2または3の整数であ
って、mが2以上のときはR4は同一でも異なってもよ
い、〕 〔式中、R1,R,およびR1は水素、低級アルキル基
、低級アルコキシ基、ジアルキルアミノ基またはノAロ
ゲン原子を表わし、nは0または1を表わす、〕〔式中
、R1は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲ
ン原子を表わし、Rs、R,は同一でも異なっていても
よく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン
原子を表わす、〕 一般般式1)で表わされる化合物には、たとえば9−エ
チルカルバゾール−3−アルデヒド−1−メチル−1−
フェニルヒドラゾン、9−エチル力ルノ(ゾール−3−
アルデヒド−1−ベンジル−1−フェニルヒドラゾン、
9−エチルカルバゾール−3−アルデヒド−1,1−ジ
フェニルヒドラゾンなどである。
チル基又は2−クロルエチル基を表わし、R2はメチル
基、エチル基、ベンジル基又はフェニル基を表わし、R
3は水素、塩素、臭素、炭素数1−4のアルキル基、炭
素数1−4のアルコキシル基、ジアルキルアミノ基又は
ニトロ基を表わす、〕〔式中、Arはナフタレン類、ア
ントラセン類、スチリル基及びそれらの置換体あるいは
ピリジン類、フラン類、チオフェン類を表わし、Rはア
ルキル基又はベンジル基を表わす、〕 〔式中、R8はアルキル基、ベンジル基、フェニル基、
ナフチル基を表わし、R2は水素、炭素数1〜3のアル
キル基、炭素数1〜3のアルコキシル、ジアルキルアミ
ノ基、ジアラルキルアミノ基またはジアリールアミノ基
を表わし、nは1〜4の整数を表わし、nが2以上のと
きはR2は同じでも異なっていてもよい、R3は水素ま
たはメトキシ基を表わす、〕m 〔式中、R8は炭素数1−11のアルキル基、置換もし
くは無置換のフェニル基又は複素環基を表わし、R1、
R5はそれぞれ同一でも異なっていてもよく水素、炭素
数1〜4のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、クロル
アルキル基、置換又は無置換のアラルキル基を表わし、
また、RつとR3は互いに結合し窒素を含む複素環を形
成していてもよい、R4は同一でも異なっていてもよく
水素、炭素数1−4のアルキル基、アルコキシ基又はハ
ロゲンを表わす。〕〔式中、Rは水素またはハロゲン原
子を表わし、Arは置換または無置換のフェニル基、ナ
フチル基、アントリル基あるいはカルバゾリル基を表わ
す。〕〔式中、R□は水素、ハロゲン、シアノ基、炭素
数1〜4のアルコキシ基または炭素数1〜4のアルキル
基を表わし、Arは R1は炭素数1−4のアルキル基を表わし、R,、R3
は水素、ハロゲン、炭素数1−4のアルキル基、炭素数
1〜4のアルコキシ基またはジアルキルアミノ基を表わ
し、nは1または2であって、nが2のときはR1は同
一でも異なってもよく、R4およびR1は水素、炭素数
1−4の置換または無置換のアルキル基あるいは置換ま
たは無置換のベンジル基を表わす。〕〔式中、Hはカル
バゾリル基、ピリジン基、チエニル基、インドリル基、
フリル基或いは置換もしくは非置換のフェニル基、スチ
リル基、ナフチル基またはアントリル基であって、これ
らの置換基がジアルキルアミノ基、アルキル基、アルニ
゛1キシ基、カルボキシ基又はそのエステル、ハロゲン
原子、シアノ基、アラルキルアミノ基、N−アルキル−
N−アラルキルアミノ基、アミノ基、二1−目基および
アセチルアミノ基からなる群から選ばれた基を表わす、
〕 (R) 〔式中、R1は低級アルキル基またはベンジル基又は置
換もしくは非置換のアリール基を表わし、R2は水素原
子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子
、二1−ロ基、アミノ基あるいは低級アルキル基または
ベンジル基で置換されたアミノ基を表わし、nは1また
は2の整数を表わす、〕〔式中、R1は水素原子、アル
キル基、アルコキシ基またはハロゲン原子を表わし、R
7およびR3はアルキル基、置換または無置換の7ラル
キル基あるいは置換または無置換アリール基を表わし、
R,は水′M原子または置換もしくは無置換のフェニル
基を表わし、また、Arはフェニル基またはナフチル基
を表わす。〕 〔式中、nはOまたは1の整数、R,、R,、R3は水
14 ))”X子、アルキル基または置換もしくは無置
換のフェニル基を示し、Aは 9−アントリル基または置換もしくは無置換のN−アル
キルカルバゾリル基を表わし、ここでR4は水素原子、
アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン〃;(了アルキル
基、置換または無?1換のアラルキル基、置換または無
置換のアリ一ル基を示し、R7および肌は環を形成して
もよい)を表わし、票は0,1.2または3の整数であ
って、mが2以上のときはR4は同一でも異なってもよ
い、〕 〔式中、R1,R,およびR1は水素、低級アルキル基
、低級アルコキシ基、ジアルキルアミノ基またはノAロ
ゲン原子を表わし、nは0または1を表わす、〕〔式中
、R1は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲ
ン原子を表わし、Rs、R,は同一でも異なっていても
よく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン
原子を表わす、〕 一般般式1)で表わされる化合物には、たとえば9−エ
チルカルバゾール−3−アルデヒド−1−メチル−1−
フェニルヒドラゾン、9−エチル力ルノ(ゾール−3−
アルデヒド−1−ベンジル−1−フェニルヒドラゾン、
9−エチルカルバゾール−3−アルデヒド−1,1−ジ
フェニルヒドラゾンなどである。
一般式(2)で表わされる化合物には、たとえば4−ジ
エチルアミノスチレン−β−アルデヒド−1−メチル−
1−フェニルヒドラゾン、4−メトキシナフタレン−1
−アルデヒド−1−ベンジル−1−フェニルヒドラゾン
などがある。
エチルアミノスチレン−β−アルデヒド−1−メチル−
1−フェニルヒドラゾン、4−メトキシナフタレン−1
−アルデヒド−1−ベンジル−1−フェニルヒドラゾン
などがある。
一般式(3)で表わされる化合物にはたとえば、4−メ
トキシベンズアルデヒド−1−メチル−1−フェニルヒ
ドラゾン、2,4−ジメトキシベンズアルデビドーl−
ベンジル−1−フェニルヒドラゾン、4−ジエチルアミ
ノベンズアルデヒド−1,1−ジフェニルヒドラゾン、
4−メトキシベンズアルデヒド−1−ベンジル−1−(
4−メトキシ)フェニルヒドラゾン、4−ジフェニルア
ミノベンズアルデヒド−1−ベンジル−1−フェニルヒ
ドラゾン、4−ジベンジルアミノベンズアルデヒド− 1,1−ジフェニルヒドラゾンなどがある。
トキシベンズアルデヒド−1−メチル−1−フェニルヒ
ドラゾン、2,4−ジメトキシベンズアルデビドーl−
ベンジル−1−フェニルヒドラゾン、4−ジエチルアミ
ノベンズアルデヒド−1,1−ジフェニルヒドラゾン、
4−メトキシベンズアルデヒド−1−ベンジル−1−(
4−メトキシ)フェニルヒドラゾン、4−ジフェニルア
ミノベンズアルデヒド−1−ベンジル−1−フェニルヒ
ドラゾン、4−ジベンジルアミノベンズアルデヒド− 1,1−ジフェニルヒドラゾンなどがある。
一般式(4)で表わされる化合物には、たとえば1.1
−ビス(4−ジベンジルアミノフェニル)プロパン、ト
リス(4−ジエチルアミノフェニル)メタン、 1.1
−ビス(4−ジベンジルアミノフェニル)プロパン、2
.2′−ジメチル−4,4′−ビス(ジエチルアミノ)
−トリフェニルメタンなどがある。
−ビス(4−ジベンジルアミノフェニル)プロパン、ト
リス(4−ジエチルアミノフェニル)メタン、 1.1
−ビス(4−ジベンジルアミノフェニル)プロパン、2
.2′−ジメチル−4,4′−ビス(ジエチルアミノ)
−トリフェニルメタンなどがある。
一般式(5)で表わされる化合物には、たとえば9−(
4−ジエチルアミノスチリル)アントラセン、9−プロ
ムー1O−(4−ジエチルアミノスチリル)アントラセ
ンなどがある。
4−ジエチルアミノスチリル)アントラセン、9−プロ
ムー1O−(4−ジエチルアミノスチリル)アントラセ
ンなどがある。
一般式(6)で表わされる化合物には、たとえば9−(
4−ジメチルアミノベンジリデン)フルオレン、3−(
9−フルオレニリデン)−9−エチルカルバゾールなど
がある。
4−ジメチルアミノベンジリデン)フルオレン、3−(
9−フルオレニリデン)−9−エチルカルバゾールなど
がある。
一般式(7)で表わされる化合物には、たとえば1.2
−ビス(4−ジエチルアミノスチリル)ベンゼン、1.
2−ビス(2,4−ジメトキシスチリル)ベンゼンがあ
る。
−ビス(4−ジエチルアミノスチリル)ベンゼン、1.
2−ビス(2,4−ジメトキシスチリル)ベンゼンがあ
る。
一般式(8)で表わされる化合物には、たとえば3−ス
チリル−9−エチルカルバゾール、3−(4−メトキシ
スチリル)−9−エチルカルバゾールなどがある。
チリル−9−エチルカルバゾール、3−(4−メトキシ
スチリル)−9−エチルカルバゾールなどがある。
一般式(9)で表わされる化合物には、たとえば4−ジ
フェニルアミノスチルベン、4−ジベンジルアミノスチ
ルベン、4−ジトリルアミノスチルベン。
フェニルアミノスチルベン、4−ジベンジルアミノスチ
ルベン、4−ジトリルアミノスチルベン。
1−(4−ジフェニルアミノスチリル)ナフタレン、1
−(4−ジエチルアミノスチリル)ナフチレンなどかあ
る。
−(4−ジエチルアミノスチリル)ナフチレンなどかあ
る。
一般式(10)で表わされる化合物には、たとえば4′
−ジフェニルアミノ−α−フェニルスチルベン、4′−
メチルフェニルアミノ−α−フェニルスチルベンなどが
ある。
−ジフェニルアミノ−α−フェニルスチルベン、4′−
メチルフェニルアミノ−α−フェニルスチルベンなどが
ある。
一般式(11)で表わされる化合物には、たとえばl−
フェニル−3−(4−ジエチルアミノスチリル)−5−
(4−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1−フェ
ニル−3−(4−ジメチルアミノスチリル)−5−(4
−ジメチルアミノフェニル)ピラゾリンなどがある。
フェニル−3−(4−ジエチルアミノスチリル)−5−
(4−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1−フェ
ニル−3−(4−ジメチルアミノスチリル)−5−(4
−ジメチルアミノフェニル)ピラゾリンなどがある。
一般式(12)で表わされる化合物には、N、N’−ジ
フェニル−N、N’−ビス(3−メチルフェニル)−(
1,,1’−ビスフェニル)−4,4’−ジアミン、N
、N’ジフェニル−N、N’−ビス(クロロフェニル)
−(1,1’−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン、3
,3′−ジメチルベンジジンなどがある。
フェニル−N、N’−ビス(3−メチルフェニル)−(
1,,1’−ビスフェニル)−4,4’−ジアミン、N
、N’ジフェニル−N、N’−ビス(クロロフェニル)
−(1,1’−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン、3
,3′−ジメチルベンジジンなどがある。
この他の正孔輸送物質としては、たとえば2,5−ビス
(4−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサ
ジアゾール、2,5−ビス(4−(4−ジエチルアミノ
スチリル)フェニル)−1,3,4−オキシジアゾール
、2− (9−エチルカルバゾリル−3−)−5−(4
−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジア
ゾールなどのオキサジアゾール化合物、2−ビニル−4
−(2−クロロフェニル)−5−(4−ジエチルアミノ
フェニル)オキサゾール、2−(4−ジエチルアミノフ
ェニル)−4−フェニルオキサゾールなどのオキサゾー
ル化合物などの低分子化合物がある。また、ポリ−Nル
ビニルカルバゾール、ハロゲン化ポリ−N−ビニルカル
バゾール、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン
、ピレンホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾールホ
ルムアルデヒド樹脂などの高分子化合物も使用できる。
(4−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサ
ジアゾール、2,5−ビス(4−(4−ジエチルアミノ
スチリル)フェニル)−1,3,4−オキシジアゾール
、2− (9−エチルカルバゾリル−3−)−5−(4
−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジア
ゾールなどのオキサジアゾール化合物、2−ビニル−4
−(2−クロロフェニル)−5−(4−ジエチルアミノ
フェニル)オキサゾール、2−(4−ジエチルアミノフ
ェニル)−4−フェニルオキサゾールなどのオキサゾー
ル化合物などの低分子化合物がある。また、ポリ−Nル
ビニルカルバゾール、ハロゲン化ポリ−N−ビニルカル
バゾール、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン
、ピレンホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾールホ
ルムアルデヒド樹脂などの高分子化合物も使用できる。
電子輸送物質としては、たとえば、クロルアニル、ブロ
ムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノン
ジメタン、2,4.7−ドリニトロー9−フルオレノン
、2,4,5.7−テトラニトロ−9−フルオレノン、
2,4,5.7−チトラニトロキサントン、2,4゜8
−トリニドロチオキサントン、 2,6.8−トリニト
ロ−4H−インデノ(1,2−b)チオフェン−4−オ
ン、1,3.7−トリニトロジベンゾチオフエンー5,
5−ジオキサイドなどがある。
ムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノン
ジメタン、2,4.7−ドリニトロー9−フルオレノン
、2,4,5.7−テトラニトロ−9−フルオレノン、
2,4,5.7−チトラニトロキサントン、2,4゜8
−トリニドロチオキサントン、 2,6.8−トリニト
ロ−4H−インデノ(1,2−b)チオフェン−4−オ
ン、1,3.7−トリニトロジベンゾチオフエンー5,
5−ジオキサイドなどがある。
本発明の電子写真感光体の感光層は、電荷発生層、電荷
輸送層を組み合わせて、正常電型もしくは、負帯電の機
能分離型をとることができる。
輸送層を組み合わせて、正常電型もしくは、負帯電の機
能分離型をとることができる。
負帯電型の場合は、基体上に電荷発生物質及び結着剤を
含む電荷発生層、その上に電荷輸送物質及び結着剤を含
む電荷輸送層を形成するものであるが、正IE電型とす
る場合には、電荷発生層、電荷輸送層を逆に積層する。
含む電荷発生層、その上に電荷輸送物質及び結着剤を含
む電荷輸送層を形成するものであるが、正IE電型とす
る場合には、電荷発生層、電荷輸送層を逆に積層する。
なお、電荷発生層中に電荷輸送物質を含有させてもよい
、特に正帯電構成の場合感度が良好となる。
、特に正帯電構成の場合感度が良好となる。
又、接着性、電荷ブロッキング性を向トさせるために感
光層と基体との間に中間層を設けてもよい、さらに耐摩
耗性等、機械的耐久性を向上させるために感光層上に保
護層を設けてもよい。電荷輸送層に用いる結着剤として
は、ポリカーボネート(ビスフェノールAタイプ、ビス
フェノールAタイプ)、ポリエステル、メタクリル樹脂
、アクリル樹脂、ポリエチレン、塩化ビニル、酢酸ビニ
ル。
光層と基体との間に中間層を設けてもよい、さらに耐摩
耗性等、機械的耐久性を向上させるために感光層上に保
護層を設けてもよい。電荷輸送層に用いる結着剤として
は、ポリカーボネート(ビスフェノールAタイプ、ビス
フェノールAタイプ)、ポリエステル、メタクリル樹脂
、アクリル樹脂、ポリエチレン、塩化ビニル、酢酸ビニ
ル。
ポリスチレン、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウ
レタン、塩化ビニリデン、アルキッド樹脂。
レタン、塩化ビニリデン、アルキッド樹脂。
シリコン樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルブ
チラール、ポリビニルホルマール、ボリアリレート、ポ
リアクリルアミド、ポリアミド、フェノキシ樹脂などが
用いられる。これらのバインダーは単独又は2種以りの
混合物として用いることができる。
チラール、ポリビニルホルマール、ボリアリレート、ポ
リアクリルアミド、ポリアミド、フェノキシ樹脂などが
用いられる。これらのバインダーは単独又は2種以りの
混合物として用いることができる。
以上のような層構成、物質を用いて感光体を作成する場
合には、膜厚、物質の割合に好ましい範囲がある、 負帯電型(基体/電荷発生層711を荷輸送層の積層)
の場合、電荷発生層において、結着剤に対する電荷発生
物質の割合は20〜500重量%、膜厚は0.1〜57
mが好ましい、電荷輸送Iげにおいては結着剤に対する
電荷輸送物質の割合は、20〜200重量%、膜厚は5
〜50戸とするのが好ましい。
合には、膜厚、物質の割合に好ましい範囲がある、 負帯電型(基体/電荷発生層711を荷輸送層の積層)
の場合、電荷発生層において、結着剤に対する電荷発生
物質の割合は20〜500重量%、膜厚は0.1〜57
mが好ましい、電荷輸送Iげにおいては結着剤に対する
電荷輸送物質の割合は、20〜200重量%、膜厚は5
〜50戸とするのが好ましい。
正帯電型(基体/電荷輸送M/f!1荷発生層の積層)
の場合、電荷輸送層においては、結着剤に対する電荷輸
送物質の割合は、20〜200重量%、膜厚は5〜50
μ■とするのが好ましい、電荷発生層においては電荷発
生物質を結着剤に対し10〜100重量%含有すること
が好ましい、さらに電荷発生層中には電荷輸送物質を含
有させることが好ましく、含有させることにより残留電
位の抑制、感度の向上に対し効果をもつ、この場合の電
荷輸送物質は結着剤り、対し20〜200重量%含有さ
せることが好ましい。
の場合、電荷輸送層においては、結着剤に対する電荷輸
送物質の割合は、20〜200重量%、膜厚は5〜50
μ■とするのが好ましい、電荷発生層においては電荷発
生物質を結着剤に対し10〜100重量%含有すること
が好ましい、さらに電荷発生層中には電荷輸送物質を含
有させることが好ましく、含有させることにより残留電
位の抑制、感度の向上に対し効果をもつ、この場合の電
荷輸送物質は結着剤り、対し20〜200重量%含有さ
せることが好ましい。
必要に応じて設けられる中間層としては、一般には樹脂
配主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶
剤で塗布することを考えると。
配主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶
剤で塗布することを考えると。
般の有機溶剤に対して耐溶剤性の高い樹脂であることが
望ましい、このような樹脂としては、ポリビニルアルコ
ール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性
樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等の
アルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、
フェノール樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形
成する硬化型樹脂などが挙げられる。
望ましい、このような樹脂としては、ポリビニルアルコ
ール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性
樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等の
アルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、
フェノール樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形
成する硬化型樹脂などが挙げられる。
また中間層にはモアレ防止、残留電位の低ζ々等のため
に酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、
酸化スズ、酸化インジウム等で例示できる金属酸化物の
微粉末顔料を加えてもよい。
に酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、
酸化スズ、酸化インジウム等で例示できる金属酸化物の
微粉末顔料を加えてもよい。
また電荷発生層、電荷輸送層を形成するに際し使用され
る溶剤あるいは分散媒としては、N、N’−ジメチルホ
ルムアミド、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘ
キサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホル
ム、1,2−ジクロロエタン。
る溶剤あるいは分散媒としては、N、N’−ジメチルホ
ルムアミド、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘ
キサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホル
ム、1,2−ジクロロエタン。
ジクロロメタン、モノクロルベンゼン、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、イソプロ
パツール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキ
シド等を挙げることができる。
ラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、イソプロ
パツール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキ
シド等を挙げることができる。
感光層を形成する方法としては電荷発生層、電荷輸送層
の塗工液に基体を浸漬する方法、塗工液を基体にスプレ
ーする方法などが用いられる。
の塗工液に基体を浸漬する方法、塗工液を基体にスプレ
ーする方法などが用いられる。
本発明の電子写真感光体に用いられる基体としては、ア
ルミニウム、黄銅、ステンレス、ニッケルなどの金属ド
ラム及びシート、ポリエチレンテレフタレート、ポリプ
ロピレン、ナイロン、紙などの材料にアルミニウム、ニ
ッケルなどの金属を蒸着するか、あるいは酸化チタン、
酸化スズ、カーボンブラックなどの導電性物質を適当な
バインダーとともに塗布して導電処理したプラスチック
、紙等のシート状または円筒状基体があげられる。
ルミニウム、黄銅、ステンレス、ニッケルなどの金属ド
ラム及びシート、ポリエチレンテレフタレート、ポリプ
ロピレン、ナイロン、紙などの材料にアルミニウム、ニ
ッケルなどの金属を蒸着するか、あるいは酸化チタン、
酸化スズ、カーボンブラックなどの導電性物質を適当な
バインダーとともに塗布して導電処理したプラスチック
、紙等のシート状または円筒状基体があげられる。
本発明の電子写真感光体は、前記構成からなるので長期
の繰り返し使用によっても帯電性等の感光体特性が劣化
せず、高耐久性で保存性が良好であるため、その実用的
価値が極めて高いものである。
の繰り返し使用によっても帯電性等の感光体特性が劣化
せず、高耐久性で保存性が良好であるため、その実用的
価値が極めて高いものである。
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。
実施例1
をメチルエチルケトン50重量部に溶解し、これに酸化
チタン粉末〔タイベークCR−IEL(石Ji(114
業!II)390重址部を加え、ボールミルで12時間
分散し、中間層用塗布液を作成した。これを直径80m
m、長さ360mのアルミニウムドラム上に塗布し、1
40℃で20分間乾燥し、厚さ2−の中間層を形成した
。
チタン粉末〔タイベークCR−IEL(石Ji(114
業!II)390重址部を加え、ボールミルで12時間
分散し、中間層用塗布液を作成した。これを直径80m
m、長さ360mのアルミニウムドラム上に塗布し、1
40℃で20分間乾燥し、厚さ2−の中間層を形成した
。
次に、レゾール型フェノール樹脂(ブライオーフェンT
O−447(大日本インキ化学工業社製))6.7重量
部をシクロへキサノン147.3重量部に溶解し。
O−447(大日本インキ化学工業社製))6.7重量
部をシクロへキサノン147.3重量部に溶解し。
これに例示化合物&42のトリスアゾ顔料10重量部を
加え、ボールミルにて48時間分散し、更にシクロへキ
サノン210重量部を加えて3時間分散を行った。これ
を容器に取り出し固型分が1.5重量%になるようにシ
クロヘキサノンで希釈した。こうして得られた電荷発生
層用塗布液を前記中間層上に浸漬塗工法で塗布130℃
で20分間乾燥し、厚さ0.27711の電荷発生層を
形成した。
加え、ボールミルにて48時間分散し、更にシクロへキ
サノン210重量部を加えて3時間分散を行った。これ
を容器に取り出し固型分が1.5重量%になるようにシ
クロヘキサノンで希釈した。こうして得られた電荷発生
層用塗布液を前記中間層上に浸漬塗工法で塗布130℃
で20分間乾燥し、厚さ0.27711の電荷発生層を
形成した。
さらに下記構造式(U)で示される電荷輸送物質8重量
部 ポリカーボネート樹脂〔パンライトに−1300(帝人
化成社!11))10重量部、シリコンオイル(KF−
50(信越化学工業社111))0.002重量部を塩
化メチレン85重址部に溶解し、it電荷送N塗布液を
作成した。これを前記電荷発生層に浸漬塗工法で塗布、
110℃で20分間乾燥し、膜厚20μ署の電荷輸送層
を形成した。
部 ポリカーボネート樹脂〔パンライトに−1300(帝人
化成社!11))10重量部、シリコンオイル(KF−
50(信越化学工業社111))0.002重量部を塩
化メチレン85重址部に溶解し、it電荷送N塗布液を
作成した。これを前記電荷発生層に浸漬塗工法で塗布、
110℃で20分間乾燥し、膜厚20μ署の電荷輸送層
を形成した。
このようにして本発明の電子写真感光体を作成した。
実施例2
実施例1において、レゾール型フェノール樹脂(ブライ
オーフェンTO−447:大日本インキ化学工業社製)
6.7重量部をレゾール型フェノール樹脂(プライオー
フェンTO−447:大日本インキ化学工業社fa)5
.3!m1(f[を部及びポリビニルブチラール[エス
レック0L−1(積木化学工業Il! )]00.8重
量に代え、またシクロへキサノン147.3重量部をシ
クロへキサノン147.9重量部に代えた以外は実施例
1と同様にして電子写真感光体を作成した。
オーフェンTO−447:大日本インキ化学工業社製)
6.7重量部をレゾール型フェノール樹脂(プライオー
フェンTO−447:大日本インキ化学工業社fa)5
.3!m1(f[を部及びポリビニルブチラール[エス
レック0L−1(積木化学工業Il! )]00.8重
量に代え、またシクロへキサノン147.3重量部をシ
クロへキサノン147.9重量部に代えた以外は実施例
1と同様にして電子写真感光体を作成した。
実施例3
実施例1において、レゾール型フェノール樹脂(ブライ
オーフェンTD−447)6.7重に部をレゾール型フ
ェノール樹脂(ブライオーフェンTD−447:人1−
j本インキ化学工業社製)5.3重11(部及びアルキ
ッド樹脂(M−6404−5重3大日本インキ化学工業
製)1.6重駄部に代え、またシクロへキサノン147
、3重量部をシクロへキサノン147.1重に部に代
えた以外は。
オーフェンTD−447)6.7重に部をレゾール型フ
ェノール樹脂(ブライオーフェンTD−447:人1−
j本インキ化学工業社製)5.3重11(部及びアルキ
ッド樹脂(M−6404−5重3大日本インキ化学工業
製)1.6重駄部に代え、またシクロへキサノン147
、3重量部をシクロへキサノン147.1重に部に代
えた以外は。
実施例1と同様にして電子写真感光体を作成した。
比較例1
実施例1において、レゾール型フェノール樹脂(ブライ
オーフェンTD−447:大日本インキ化学工業社製)
6.7重基部をアルキルフェノール樹脂(スーパーベッ
カサイh 1ool;大[」本インキ化学工業社製)4
重量部に代え、またシクロへキサノン147.:(重量
部をシクロへキサノン150重量部に代えた以外は実施
例1ど同様にして電子写真感光体を作成した。
オーフェンTD−447:大日本インキ化学工業社製)
6.7重基部をアルキルフェノール樹脂(スーパーベッ
カサイh 1ool;大[」本インキ化学工業社製)4
重量部に代え、またシクロへキサノン147.:(重量
部をシクロへキサノン150重量部に代えた以外は実施
例1ど同様にして電子写真感光体を作成した。
比較例2
実施例1において、1ノゾール型フエノール樹脂(ブラ
イオーフェンTD〜447:大日本インキ化学工業社製
)6.7重量部を塩化ビニール−酢酸ビニル−無水マ1
メイン酸樹脂(エスレックMF−10;積水化学工業社
製)4重駄部に代え、またシクロへキサノン147゜3
重漱部髪シクロへキサノン150重址部に代えた以外は
実施例1と同様にし2で電子写真感光体を作成した。
イオーフェンTD〜447:大日本インキ化学工業社製
)6.7重量部を塩化ビニール−酢酸ビニル−無水マ1
メイン酸樹脂(エスレックMF−10;積水化学工業社
製)4重駄部に代え、またシクロへキサノン147゜3
重漱部髪シクロへキサノン150重址部に代えた以外は
実施例1と同様にし2で電子写真感光体を作成した。
比較例3
実施例1において、レゾール型フェノール樹脂(ブライ
オーフェンTO−447:大日本インキ化学工業社製)
6゜7重量部をポリカーボネー1−(パンライ!−1,
1250;電入化成社製)4重量部に、またシクロへキ
サノン147.3重量部をシクロへキサノン50重量部
及びテトラヒドロフラン100重量部に代えた以外(木
実施例1と同様にして電子写真感光体を作成した。
オーフェンTO−447:大日本インキ化学工業社製)
6゜7重量部をポリカーボネー1−(パンライ!−1,
1250;電入化成社製)4重量部に、またシクロへキ
サノン147.3重量部をシクロへキサノン50重量部
及びテトラヒドロフラン100重量部に代えた以外(木
実施例1と同様にして電子写真感光体を作成した。
以−L得られた感光体をイマジ第320(リコー社製)
で3万枚のコピーし、初期と3万枚コピー後の表面電位
の評価を行った。その結果を表−1に示す。
で3万枚のコピーし、初期と3万枚コピー後の表面電位
の評価を行った。その結果を表−1に示す。
なお、表面電位の評価は現像位置に表面電位計を取り付
は露光部(VL)と非露光部(Vo)の表面電位を測定
することにより行った。
は露光部(VL)と非露光部(Vo)の表面電位を測定
することにより行った。
表−1
表−1の結果から明らかなように、本発明の電子写真感
光体は、帯電及び露光を繰り返し行なっても露光部と非
露光部の電位変動が小さく高耐久性をもつことがわかる
。
光体は、帯電及び露光を繰り返し行なっても露光部と非
露光部の電位変動が小さく高耐久性をもつことがわかる
。
特許出願人 株式会社 リ コ
Claims (1)
- (1)導電性支持体上に少なくとも電荷発生層及び電荷
輸送層を積層してなる機能分離型電子写真感光体におい
て、電荷発生層中に結着剤としてレゾール型フェノール
樹脂を含有させたことを特徴とする電子写真感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32020588A JPH02165154A (ja) | 1988-12-19 | 1988-12-19 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32020588A JPH02165154A (ja) | 1988-12-19 | 1988-12-19 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02165154A true JPH02165154A (ja) | 1990-06-26 |
Family
ID=18118884
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32020588A Pending JPH02165154A (ja) | 1988-12-19 | 1988-12-19 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02165154A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1097406A4 (en) * | 1998-07-21 | 2004-05-19 | Lexmark Int Inc | Photoconductor with charge generation binder blend |
-
1988
- 1988-12-19 JP JP32020588A patent/JPH02165154A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1097406A4 (en) * | 1998-07-21 | 2004-05-19 | Lexmark Int Inc | Photoconductor with charge generation binder blend |
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