JPH02153080A - Enameled board also acting as marker screen and production thereof - Google Patents
Enameled board also acting as marker screen and production thereofInfo
- Publication number
- JPH02153080A JPH02153080A JP63307094A JP30709488A JPH02153080A JP H02153080 A JPH02153080 A JP H02153080A JP 63307094 A JP63307094 A JP 63307094A JP 30709488 A JP30709488 A JP 30709488A JP H02153080 A JPH02153080 A JP H02153080A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- parts
- board
- marker
- glaze
- sio
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000003550 marker Substances 0.000 title claims abstract description 45
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 claims abstract description 26
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 14
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 7
- 238000003801 milling Methods 0.000 claims description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 6
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 3
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910004742 Na2 O Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/22—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions containing two or more distinct frits having different compositions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Drawing Aids And Blackboards (AREA)
- Overhead Projectors And Projection Screens (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、マーカーボードとオーバーヘッドプロジェク
タ−やスライドなどに用いるスクリーンとを兼用するボ
ードとその製造方法についての提案である。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention is a proposal for a board that serves both as a marker board and a screen used for an overhead projector, a slide, etc., and a method for manufacturing the same.
マーカーボード用の表面素材としては、(1)マーカー
で書きやすいこと、(2)消しやすいこと(消去性)
、<31見やすいこと、(4)耐汚染性にすぐれること
、(5)耐久性(耐摩耗性)にすぐれること、(6)耐
候性(耐薬品性)にすぐれること、(7)デザインが良
いこと、などの特性が要求される。こうした要求に応え
られるマーカーボード用の素材としては、ほうろうや塗
装S板、プラスチック等が用いられている。The surface material for markerboards should be (1) easy to write on with a marker, and (2) easy to erase (erasability).
, <31 Easy to see, (4) Excellent stain resistance, (5) Excellent durability (wear resistance), (6) Excellent weather resistance (chemical resistance), (7) Characteristics such as good design are required. Materials used for marker boards that meet these demands include enamel, painted S-board, and plastic.
これらの素材のうち、最近、ほうろう製マーカーボード
が脚光を浴びており、その需要も年々増加している。こ
のほうろう製マーカーボードの場合、上記特性のうち(
1)と(2)が重要であり、これらが製品化へのポイン
トとなっている。とりわけ、消去性は板面の平滑さに関
係し、そして、板面の平滑さは板面の鏡面光沢度と密接
な関係があり、平滑な面はど光沢度が高くなることが知
られている。Among these materials, enamel marker boards have recently been in the spotlight, and the demand for them is increasing year by year. In the case of this enamel marker board, among the above characteristics (
1) and (2) are important and are the key to commercialization. In particular, erasability is related to the smoothness of the board surface, and the smoothness of the board surface is closely related to the specular gloss of the board surface, and it is known that the smoother the surface, the higher the glossiness. There is.
一般に、こうしたほうろう製マーカーボードの場合、必
要な消去性を確保するには、板面の光沢度がGS (4
5°)で60%以上のものが必要とされていた。Generally, in the case of such enamel markerboards, the gloss level of the board surface is GS (4
5°) was required to be 60% or more.
一方、オーバーヘッドプロジェクタ−やスライド用のス
クリーンは、(1)広範囲の場所からみることができる
こと、(2)色の再現が正確であること、(3)明る(
見やすいこと、(4)板面が平滑であること、(5)耐
久性に優れること、(6)機能的であること、等の特性
が要求される。On the other hand, overhead projectors and slide screens require (1) visibility from a wide range of locations, (2) accurate color reproduction, and (3) brightness (
It is required to have characteristics such as being easy to see, (4) having a smooth plate surface, (5) having excellent durability, and (6) being functional.
上記(4)〜(6)は、前記マーカーボードに要求され
る特性と類似しているが、(1)〜(3)は異なる特性
である。すなわち、オーバーヘッドプロジェクタ−やス
ライドプロジェクタ−から出る光が一定方向に反射する
と、その場所では映像が見えなくなるので、板面として
は、光を拡散反射させることが望ましい。これが前記特
性の(1)である。ところが、光を拡散反射させるため
には、前記マーカーボードとは反対に鏡面光沢度の低い
方が好ましいと云える。また、前記(21,(31の特
性は、光源の明るさによっても異なるが、板面光沢度が
高い方がよく、見やすくするためには板面の反射輝度が
高く、どのような角度でも反射輝度が変わらないことが
重要である。The above (4) to (6) are similar to the characteristics required of the marker board, but (1) to (3) are different characteristics. That is, if the light emitted from an overhead projector or slide projector is reflected in a certain direction, the image will not be visible at that location, so it is desirable that the board surface diffusely reflect the light. This is characteristic (1). However, in order to diffuse and reflect light, it can be said that, contrary to the marker board, it is preferable that the specular gloss is low. In addition, the characteristics of (21, (31) differ depending on the brightness of the light source, but the higher the glossiness of the board surface, the better. In order to make it easier to see, the reflective brightness of the board surface is high, and the reflection at any angle is It is important that the brightness remains unchanged.
こうした要求に応えられるスクリーンボードとしては、
従来、シルバー塗料を施した金属光沢(高光沢度)を有
するものについて、その表面を凹凸加工して板面を半光
沢にすることにより、0゜方向で異常な高輝度(まぶし
く見える)が出るのを防止したものが提案されている。As a screen board that can meet these demands,
Conventionally, silver paint with metallic luster (high gloss) is treated with irregularities on its surface to make it semi-glossy, resulting in abnormally high brightness (dazzling appearance) in the 0° direction. A method has been proposed to prevent this.
しかし、表面に凹凸加工を施すと、マーカー等での書き
やすさや消去性が損なわれ、マーカーボードとして使用
不能となる欠陥があった。However, when the surface is textured, the ease of writing and erasing with a marker etc. is impaired, resulting in the defect that the board cannot be used as a marker board.
以上説明したように、一般にマーカーボードとスクリー
ンボードとでは、要求される特性が相反するものとなっ
ており、このため従来は上述した兼用ボードの製造は難
しいこととされていたのである。As explained above, the characteristics required for marker boards and screen boards are generally contradictory, and for this reason, it has conventionally been difficult to manufacture the above-mentioned dual-purpose boards.
しかしながら、オーバーヘッドプロジェクタ−やスライ
ドを用いる場合、その都度スクリーンの準備や後片づけ
が必要であり、一方では、使用に際し説明をしながら画
面(ス、クリーン)の中に書き込みをしたいという要望
もあり、こうした場合に両方の機能を持ったボード(マ
ーカーおよびスクリーン兼用ボード)が望まれていた。However, when using an overhead projector or slide, it is necessary to prepare the screen and clean up after each use, and on the other hand, there is also a desire to write on the screen while explaining the use. In such cases, a board (marker and screen board) that has both functions has been desired.
こうした実情に鑑み、従来、ほうろう表面の光沢度を制
御する方法として、(1)ほうろう製黒板(GS75°
<15%)を得るために無光沢釉薬を施釉する方法、(
2)ミル添加物としての珪石や粘土を増量したフリット
を施釉する方法、などが知られている。これらの従来技
術は、ほうろう面の光沢度を確実に低下させることがで
るものの、表面に未溶解物が出て、マーカーの書きやす
さや消去性が阻害されたり、一方では全反射率が低いた
め、スクリーンボードに使用する場合には映像が暗くな
るという欠点があった。In view of these circumstances, conventional methods for controlling the glossiness of the enamel surface include (1) enamel blackboard (GS75°
Method of applying matte glaze to obtain (<15%), (
2) A method of glazing a frit with an increased amount of silica or clay as a mill additive is known. Although these conventional techniques can reliably reduce the glossiness of the enamel surface, undissolved substances appear on the surface, hindering the ease of writing and erasing the marker, and on the other hand, the total reflectance is low. However, when used on a screen board, there was a drawback that the image became dark.
さらに、光沢度を制御する他の既知方法として、特開昭
63−230537号公報および特開昭63−2305
38号公報に開示されているものなどが挙げられる。Furthermore, other known methods for controlling glossiness include JP-A-63-230537 and JP-A-63-2305.
Examples include those disclosed in Publication No. 38.
これらの既知方法は、釉薬の成分組成が5int/Ti
0zは65/35〜40/60の範囲にあり、しかも焼
成後に平滑さを確保するために、Lid、、 P、0.
やZrO。In these known methods, the composition of the glaze is 5 int/Ti.
0z is in the range of 65/35 to 40/60, and in order to ensure smoothness after firing, Lid, P, 0.
Ya ZrO.
を添加することを特徴としている。しかし、焼成後の光
沢度GS(75’ )は50%以下(#G545° :
25%)であり、そのために全反射率が低く、スクリー
ンボードとして使用した場合、映像が暗くなること、お
よびLid、やZr0zを使用するため、釉薬が高くな
るという欠点があった。It is characterized by the addition of However, the gloss level GS (75') after firing is less than 50% (#G545°:
25%), which resulted in a low total reflectance, resulting in a dark image when used as a screen board, and the use of Lid and Zr0z, which resulted in a high glaze.
そこで、本発明は、上述したような相反する特性を同時
に克服できるボードの開発を目的として案出したもので
あって、オーバーヘッドプロジェクタ−やスライドを写
した時にハレーションが少なく、広い範囲で見ることが
でき、その上、マーカーの消去性も従来材と全く変わら
ない程度に優れたほうろう表面を形成するための技術を
提案する。Therefore, the present invention was devised for the purpose of developing a board that can overcome the contradictory characteristics mentioned above at the same time. We propose a technology for forming an enamel surface that has excellent marker erasability and is no different from conventional materials.
上述した目的を実現すべ(鋭意努力した結果、本発明者
らは次の事項を要旨構成とする製造方法およびその方法
によって形成されるほうろう表面を有するボードに想到
した。すなわち、(1) 下引釉のあるボード基板上
に、下記成分組成のTi上白釉(A)と、Tt無光沢釉
(B)とを、A/B比が674〜4/6の範囲内となる
ような割合で配合したスリップまたは、さらに下記ミル
添加物(C)を外枠量で20%以下添加したスリップ、
を使って施釉焼成し、ほうろう表面の光沢度GS(45
°)を30〜60%の範囲にすることにより、マーカー
の消去性に優れると共に同時に優れたスクリーン機能を
持たせたことを特徴とするほうろう製のマーカー・スク
リーン兼用ボード、A:SiO□:35〜60部、AI
!01 : 3部以下、Btus : t5〜20部
、TiO□ :16〜22部、Na2O+ K2O:
16〜22部
B:SiO□:25〜35部、AIto! : 16〜
25部、Bt03:4〜12部、TtOz : 16
〜22部、NagO+K2O: 18〜24部
C:StO□:5部、 T)Ot : 25〜35部、
5b2O+ : 30〜40部、CaO: 20〜30
部を提案する。As a result of diligent efforts to achieve the above-mentioned object, the present inventors have come up with a manufacturing method and a board with an enamel surface formed by the method, which has the following features. Namely, (1) Undercoating On a glazed board substrate, a Ti white glaze (A) with the following component composition and a Tt matte glaze (B) are placed in a ratio such that the A/B ratio is within the range of 674 to 4/6. A blended slip or a slip to which the following mill additive (C) is added in an amount of 20% or less in the outer frame amount,
The gloss level of the enamel surface is GS (45
A:SiO□:35 An enamel marker/screen board, characterized by its excellent marker erasability and excellent screen function by setting the angle (°) in the range of 30 to 60%. ~60 copies, AI
! 01: 3 parts or less, Btus: t5-20 parts, TiO□: 16-22 parts, Na2O+K2O:
16-22 parts B: SiO□: 25-35 parts, AIto! : 16~
25 parts, Bt03: 4-12 parts, TtOz: 16
~22 parts, NagO+K2O: 18-24 parts C:StO□: 5 parts, T)Ot: 25-35 parts,
5b2O+: 30-40 parts, CaO: 20-30
Suggest a section.
また、本発明は上記のボードを製造する方法として、
(2) ミル引きに際し、下記成分組成のTi上白釉
(A)と、Ti無光沢釉(B)とを、A/B比が674
〜4/6の範囲内となるような割合で配合したスリップ
またはさらに下記ミル添加物(C)を外枠量で20%以
下添加したスリップを調整し、このスリップを下引釉を
施釉焼成したボード基板上に施釉した後焼成することを
特徴とするマーカーおよびスクリーン兼用ボードの製造
方法、A:SiO□:35〜60部、A1□03: 3
部以下、BzCh : 15〜20部、TiO□ :1
6〜22部、Na2O+K2O: 16〜22部
B:SiO□:25〜35部、A1□o、 : 16〜
25部、B、0. : 4〜12部、TiO□ :16
〜22部、Na、0+に20 : 18〜24部
C:SiO□:5部、 TiO□:25〜35部、5b
z03: 30〜40部、Cab:20〜30部を提案
する。In addition, the present invention provides a method for manufacturing the above-mentioned board, as follows: (2) During milling, a Ti overglaze (A) having the following component composition and a Ti matte glaze (B) are mixed with an A/B ratio of 674.
A slip blended in a ratio within the range of ~4/6 or a slip with the following mill additive (C) added in an amount of 20% or less in the outer frame amount was prepared, and this slip was glazed and fired with a subglaze. A method for manufacturing a board that serves as both a marker and a screen, characterized by applying a glaze onto a board and then firing it, A: SiO□: 35 to 60 parts, A1□03: 3
Parts or less, BzCh: 15 to 20 parts, TiO□: 1
6 to 22 parts, Na2O+K2O: 16 to 22 parts B:SiO□: 25 to 35 parts, A1□o, : 16 to
25 parts, B, 0. : 4 to 12 parts, TiO□ : 16
~22 parts, Na, 20 to 0+: 18-24 parts C: SiO□: 5 parts, TiO□: 25-35 parts, 5b
z03: 30-40 parts, Cab: 20-30 parts are suggested.
本発明において、マーカーボードと映写用スクリーンと
を兼用できるボードが得られる理由は、板面に施釉した
ほうろう面を、マーカーボードに要求される平滑性と、
映写用スクリーンに要求される明るさならびに反射輝度
分布とがバランスするようにフリットの成分組成と光沢
度とを上述のように工周整したことによる。In the present invention, the reason why a board that can be used both as a marker board and a projection screen is obtained is that the glazed enamel surface of the board has the smoothness required for a marker board,
This is because the component composition and glossiness of the frit are adjusted as described above so that the brightness and reflected luminance distribution required for a projection screen are balanced.
すなわち、従来は、それぞれ単独に使用されていたTi
上上白色Ti無無光沢色を、本発明では混合フリットと
して使用することにより、無光沢軸のみを使う場合に見
られる凹凸や亀裂を、前記Ti上上白色埋めるように作
用させ、それによって低光沢度でも平滑な面を形成する
ことによるのである。In other words, Ti
By using the top white Ti matte color as a mixed frit in the present invention, the Ti top white color acts to fill in the unevenness and cracks that are seen when only the matte shaft is used, thereby reducing the The gloss level also depends on the formation of a smooth surface.
そこで、以下に、本発明において、このようなTi上上
白色よびTt無光沢釉からなる混合フリットが有効な理
由について説明する。Therefore, in the present invention, the reason why such a mixed frit consisting of Ti top white and Tt matte glaze is effective will be explained below.
表2は、表1に示した種々の成分組成からなるT+上上
白色Ti無無光沢色、515の割合で配合し、施釉、焼
成した後、得られたほうろう表面の光沢度GS (45
°)を測定した結果である。この表2から判るように、
配合によっては、光沢度が高過ぎたり、低くなり過ぎた
りしており、またほうろう表面に“ザラツキ”や“泡欠
陥”が発生している。Table 2 shows the gloss level GS (45
This is the result of measuring .°). As can be seen from this Table 2,
Depending on the formulation, the gloss may be too high or too low, and "roughness" or "bubble defects" may occur on the enamel surface.
例えば、Ti上白釉中のSiO□が53部と高い磁3フ
リットでは、その多くはほうろう表面がザラツいたり泡
欠陥が多く発生している。特に、Ti無無光沢色SiO
□が低い11h9 、1.0の配合例の、泡欠陥が顕著
である。一方、Ti上上白色5in2が低いフリット阻
5の場合、はとんど泡欠陥が発生する。For example, many of the magnetic 3 frits with a high SiO□ content of 53 parts in the Ti overglaze have rough enamel surfaces and many bubble defects. In particular, Ti matte color SiO
Foam defects are noticeable in the formulation examples of 11h9 and 1.0, which have a low □. On the other hand, in the case of a frit layer 5 with a low Ti top white 5in2, bubble defects occur most often.
この点、Ti上上白色組成が、本発明の範囲内であるフ
リットNll 、 2 、4でも、Ti無無光沢色組成
中のAl2O3が低いフリット患8を配合したものでは
、泡に起因する凹凸が発生し、またAt、O,が高いフ
リットNa1Oでは、ほうろう表面にザラツキが認めら
れ、マーカーボードとしての消去性が阻害されることが
わかる。In this regard, even if the frits N11, 2, and 4 have a Ti top white composition that is within the scope of the present invention, the frit No. It can be seen that in the frit Na1O, which has a high At, O, and has a high At, O, roughness is observed on the enamel surface, and the erasability as a marker board is inhibited.
以上の結果から、表面性状を安定させるためには、 T
i上上白色成分組成としては、SiO□:35〜50部
、A1□0,20〜3部、B20. : 15〜20部
、Ti0g : 16””22部、Na2O+K2O:
16〜22部の範囲にすることが必要であり、また、
Ti無無光沢色成分組成としては、Sing : 25
〜35部、Altos : 16〜25部、B、0.
: 4〜12部、Ti(h : 16〜22部、Na2
O+K2O:18〜24部の範囲であることが必要であ
る。From the above results, in order to stabilize the surface quality, T
i Upper white component composition: SiO□: 35 to 50 parts, A1□0.20 to 3 parts, B20. : 15-20 parts, Ti0g: 16''22 parts, Na2O+K2O:
It is necessary to keep the amount in the range of 16 to 22 parts, and
The Ti matte color component composition is Sing: 25
~35 parts, Altos: 16-25 parts, B, 0.
: 4-12 parts, Ti (h: 16-22 parts, Na2
O+K2O: Must be in the range of 18 to 24 parts.
表 1
(部)
*光沢度GS(45’ ”)
また、本発明においては、上記フリット配合物にたいし
て、さらにミル添加物を用いる。このミル添加物のうち
TiO□やCaOは、表面光沢を低下させる作用があり
、またsb、o、は、表面を平滑にさせる作用がある。Table 1 (parts) *Glossiness GS (45''') In the present invention, mill additives are further used in the above frit composition. Among these mill additives, TiO□ and CaO reduce the surface gloss. sb and o have the effect of smoothing the surface.
すなわち、TiO□やCaOが適性範囲を外れる(多過
ぎたり、低すぎる場合)と、未溶解物による凹凸が発生
する。一方、SbgOiは、前記TiO□やCaOにバ
ランスするように配合される範囲である。したがって、
本発明では、ミル添加物(C)の組成としては、SiO
□:5部、TiO□:25〜35部、5b2Os :
30〜40部、CaO:25〜30部の範囲が好適で
ある。That is, if TiO□ or CaO is out of the appropriate range (too much or too low), unevenness will occur due to undissolved matter. On the other hand, SbgOi is blended in a balanced manner with the TiO□ and CaO. therefore,
In the present invention, the composition of the mill additive (C) is SiO
□: 5 parts, TiO□: 25-35 parts, 5b2Os:
Suitable ranges are 30 to 40 parts and CaO: 25 to 30 parts.
なお、この添加物は、ミル引き時に添加することが好ま
しく、ミル引き後に添加したのでは十分に混合できず、
したがって、再混合が必要となるために攪拌作業工程が
増えてコスト高となる。It should be noted that it is preferable to add this additive at the time of milling; if it is added after milling, sufficient mixing will not be possible.
Therefore, remixing is required, which increases the number of stirring steps and increases costs.
つぎに、本発明において、スクリーン機能として必要と
される特性、すなわち反射輝度を特定する理由について
、各種のボードの例と比較して第1図にもとづき説明す
る。Next, in the present invention, the reason for specifying the characteristics required for the screen function, that is, the reflected brightness, will be explained based on FIG. 1 in comparison with examples of various boards.
この反射輝度の測定は、光源としてキャビンのAF −
250で0°方向(2m)から投影し、同じ<2m離れ
た位置における一75゛から+75°での反射輝度(輝
度計ミノルタ製LS−100)測定値である。This reflected brightness measurement is performed using the cabin AF − as the light source.
250, projected from the 0° direction (2 m), and reflected luminance measured from -75° to +75° (luminance meter LS-100 manufactured by Minolta) at the same position <2 m away.
第1図に明らかなように、(イ)鏡面光沢度GS(60
’ )が5%と低いチョーク用の黒板の場合は、輝度の
バラツキは小さいが反射輝度も低く、スライドを映した
時に画面がかなり暗いものとなった。As is clear from Figure 1, (a) Specular gloss GS (60
In the case of a chalk blackboard with a low luminance of 5%, the variation in brightness was small, but the reflected brightness was also low, making the screen quite dark when slides were projected.
([+)鏡面光沢度GS (60°)が94%と高いほ
うろう製のマーカーボードの場合は、O°方向でかなり
輝度が高< (9500cd/rn”)ハレーションを
おこしてまぶしく見えた。(ハ)全反射を示すといわれ
る!4go板の場合は、輝度も高く、その分布も平滑で
あり、スライド用としては好適と思われる。ついで、(
ニ)スクリーン専用として使われている表面に凹凸加工
したシルバーは、0°付近にやや高い輝度分布(285
cd/m”)が見られた。([+) In the case of an enamel marker board with a high specular gloss GS (60°) of 94%, the brightness was quite high in the 0° direction (9500 cd/rn"), causing halation and looking dazzling. ( c) In the case of the !4go board, which is said to exhibit total internal reflection, its brightness is high and its distribution is smooth, so it seems to be suitable for slides.
d) Silver with a textured surface that is used exclusively for screens has a slightly high brightness distribution near 0° (285
cd/m”) was observed.
これに比べ、(ネ)本発明である兼用ボード範囲にある
光沢度GS (60″#42%)にあるものは、輝度は
シルバーよりやや高い(370cd/m”)ものの、そ
の分布状態はシルバー材とほぼ同様の傾向を示しており
、スクリーンボードとして充分使用できるものであるこ
とが判る。したがって、ほうろう表面の光沢度は、GS
(60°)で42%を含むGS (45°)30〜6
0%が有効である。In comparison, (n) the dual-purpose board of the present invention with gloss level GS (60″#42%) has a brightness slightly higher than silver (370 cd/m″), but its distribution state is silver. It shows almost the same tendency as the wood, and it can be seen that it can be used satisfactorily as a screen board. Therefore, the gloss level of the enamel surface is GS
GS containing 42% at (60°) (45°) 30~6
0% is valid.
以下に、光沢度GS (45°)30〜60%が有効で
ある理由とその効果について、実施例にもとづいて説明
する。The reason why the glossiness GS (45°) of 30 to 60% is effective and its effects will be explained below based on Examples.
実施例−1
下引釉を施釉焼成したボード基板上に、表3に示した組
成からなるTi上白釉(A)とTi無光沢釉(B)とを
配合比1010〜0/10の範囲内で配合した混合フリ
ットを調整し、この混合フリットをミル引きしてスリッ
プとし、このスリップを施釉し焼成した。比較材として
、光沢度を低下させるためにミル添加物としての珪石を
、5.10%添加したスリップを施釉したものを用いた
。ほうろう焼成後、鏡面光沢度、マーカー消去性、スラ
イド映写時のハレーションの程度および表面状況を観察
した。Example-1 A Ti upper white glaze (A) and a Ti matte glaze (B) having the compositions shown in Table 3 were placed on a board substrate on which a lower glaze was applied and fired at a blending ratio of 1010 to 0/10. A mixed frit was prepared by mixing the frit, milled to form a slip, and the slip was glazed and fired. As a comparative material, a slip glaze with 5.10% of silica stone added as a mill additive was used to reduce gloss. After firing the enamel, specular gloss, marker erasability, degree of halation during slide projection, and surface condition were observed.
鏡面光沢度は、日本重色工業製の変角光沢度計(VGS
−ID)を用い、GS (45°)で測定した。マーカ
ーの消去性は、市販のマーカーを用い、ほうろう表面に
描写した後24時間放置し、市販のイレーサー上に60
0gのおもりを乗せ1往復した時のマーカーの残存程度
を目視判定し、マーカーが完全に消えたものを(○)と
し、かすかに残ったものを(△)とし、かなり残ったも
のを(×)とした。また、スライド映写時のハレーショ
ンは、キャビン工業製スライドプロジェクタ−(AF−
250)でスライドを投影し、正面から観察した時、ス
ライドの光源が見えず、像が鮮明に見えるものを(○)
とし、光源が若干みえ像がややぼけたものを(Δ)とし
、光源がはっきり見え、まぶしく像がぼけたものを(×
)として判定した。その結果を表4に示す。Specular gloss was measured using a variable angle gloss meter (VGS) manufactured by Nippon Heavy Industries.
-ID) and measured at GS (45°). The erasability of the marker is determined by using a commercially available marker, leaving it for 24 hours after drawing on the enamel surface, and then writing it on a commercially available eraser for 60 minutes.
A weight of 0 g is placed on the marker and the marker remains after one round trip. Visually judge the degree of remaining marker. Markers that have completely disappeared are marked (○), marks that remain faintly (△), and marks that remain considerably (x). ). In addition, halation during slide projection can be reduced using Cabin Industrial's slide projector (AF-
250) and when viewed from the front, the light source of the slide is not visible and the image is clear (○)
If the light source is slightly visible and the image is slightly blurred, it is (Δ), and if the light source is clearly visible and the image is dazzling and blurred, it is (×
). The results are shown in Table 4.
鏡面光沢度が60%以上(A/B > 7/3)では板
面がハレーシロンをおこし、20%以下(A/B <
3/7)になると表面がザラツキ、マーカーの消去性も
悪くなった。また、ミル添加物としての珪石を多量に添
加したサンプルIVh3は、光沢度は低下するが表面に
未溶解物による凹凸が現出し、消去性が劣化した。If the specular gloss is 60% or more (A/B > 7/3), the board surface will suffer from scratches, and if it is 20% or less (A/B <
3/7), the surface became rough and the erasability of the marker deteriorated. In addition, in sample IVh3 to which a large amount of silica stone was added as a mill additive, the gloss level decreased, but unevenness due to undissolved matter appeared on the surface, and erasability deteriorated.
珪石を添加していないサンプル1lh7〜9は光沢度は
低下するが表面が平滑であるためマーカーの消去性も良
く、スライド映写でのハレーションもなく良好なボード
が得られた。すなわち、マーカーボードおよびスクリー
ン兼用ボードとしては、Ti上白釉/Ti無光沢釉の配
合比を674〜4/6の範囲にすることが有効である。Samples 1lh7 to 1lh9 to which silica stone was not added had lower glossiness, but because the surface was smooth, marker erasability was good, and good boards were obtained without halation during slide projection. That is, for a marker board and a screen board, it is effective to set the blending ratio of Ti overglaze/Ti matte glaze in the range of 674 to 4/6.
なお、Ti無光沢釉は透明系の釉薬に顔料を添加しても
ハレーションがなくマーカーの消去性の良好な板面が得
られるが、色再現等を考えるとTi系の無光沢釉の方が
好ましい。Note that even if pigments are added to a transparent glaze, Ti matte glaze does not cause halation and provides a plate surface with good marker erasability, but when considering color reproduction, etc., Ti-based matte glaze is better. preferable.
表 3 (部)
実施例2
前記実施例1と同様にして、表1に示した釉薬の配合比
をサンプルI*l14〜28のように1010〜2/8
に変え、5i(h (5部) Ti1t(30部)
−Sb、03 (35部)−Cab(30部)からなる
添加物(C)を外枠1”i?10〜30%の範囲で添加
したスリップを施釉し、焼成した。Table 3 (Part) Example 2 In the same manner as in Example 1, the blending ratio of the glaze shown in Table 1 was changed to 1010 to 2/8 as in Sample I*l14 to 28.
Change to 5i(h (5 parts) Ti1t (30 parts)
A slip to which an additive (C) consisting of -Sb, 03 (35 parts) and -Cab (30 parts) was added in a range of 10 to 30% per inch of the outer frame was glazed and fired.
焼成後、鏡面光沢度、マーカーの消去性、スライド映写
時のハレーションの程度および表面性状を上述した方法
で観察した。その結果を表5に示す。After baking, specular gloss, marker erasability, degree of halation during slide projection, and surface texture were observed using the methods described above. The results are shown in Table 5.
添加物(C)を添加することにより、鏡面光沢度が低下
しハレーションも解消されているが、添加量が30%以
上になると、表面がややザラツキ、マーカーの消去性が
若干低下した。また、釉薬の配合比を見ると、ミル添加
物による光沢度低下が期待される結果、Ti上白釉のみ
でもハレーションがなく、マーカーの消去性の良い板面
が得られることが判った。しかし、その添加量が少ない
と、光沢度が高くハレーションが目立った(サンプル1
3)。By adding the additive (C), the specular gloss level decreased and halation was eliminated, but when the amount added exceeded 30%, the surface became slightly rough and the erasability of the marker decreased slightly. Furthermore, looking at the blending ratio of the glaze, it was found that as a result of the expected reduction in gloss due to mill additives, a plate surface with no halation and good marker erasability could be obtained even with just a white Ti glaze. However, when the amount added was small, the gloss was high and halation was noticeable (Sample 1
3).
また、無光沢釉の配合が60部以上になるとマーカーの
消去性が劣化した。Furthermore, when the content of the matte glaze exceeded 60 parts, the erasability of the marker deteriorated.
以上の結果から、マーカーの消去性が良く、スライド映
写時にハレーションがない兼用ボードを得るためには、
Ti上白釉(A)とTi無光沢釉(B)の配合比をto
10〜6/4の範囲で配合し、かつ添加物(C)を20
%以下の範囲で添加すればよいことが判った。From the above results, in order to obtain a dual-purpose board with good marker erasability and no halation during slide projection,
The mixing ratio of Ti white glaze (A) and Ti matte glaze (B) is to
Blended in the range of 10 to 6/4, and the additive (C) is 20
% or less.
上述したように本発明によれば、マーカーボードに要求
される平滑性と映写用スクリーンに要求される明るさな
らびに反射輝度とが良好な、いわゆる消去性とノンハレ
ーションとを同時に実現することができる。したがって
、マーカーボードと映写用スクリーンとを兼用できるボ
ードを有効に製造できる。As described above, according to the present invention, it is possible to simultaneously achieve so-called erasability and non-halation, which have good smoothness required for a marker board and good brightness and reflective luminance required for a projection screen. . Therefore, it is possible to effectively manufacture a board that can serve both as a marker board and a projection screen.
第1図は、各種ボードの反射輝度の分布を示すグラフで
ある。
特許出願人 川鉄金属工業株式会社
代理人 弁理士 小 川 順 三
同 弁理士 中 村 盛 夫FIG. 1 is a graph showing the distribution of reflected luminance of various boards. Patent applicant Kawatetsu Metal Industry Co., Ltd. Agent Patent attorney Jun Ogawa Sando Patent attorney Morio Nakamura
Claims (4)
i上白釉(A)と、Ti無光沢釉(B)とを、A/B比
が6/4〜4/6の範囲内となるような割合で配合した
スリップを使って施釉焼成し、ほうろう表面の光沢度G
S(45゜)を30〜60%の範囲にすることにより、
マーカーの消去性に優れると共に同時に優れたスクリー
ン機能を持たせたことを特徴とするほうろう製のマーカ
ー・スクリーン兼用ボード。 A:SiO_2:35〜60部、Al_2O_3:3部
以下、B_2O_3:15〜20部、TiO_2:16
〜22部、Na_2O+K_2O:16〜22部 B:SiO_2:25〜35部、Al_2O_3:16
〜25部、B_2O_3:4〜12部、TiO_2:1
6〜22部、Na_2O+K_2O:18〜24部(1) On a board with underglaze, T with the following composition
Glaze and fire using a slip containing i-white glaze (A) and Ti matte glaze (B) in a ratio such that the A/B ratio is within the range of 6/4 to 4/6, Glossiness G of the enamel surface
By setting S (45°) in the range of 30 to 60%,
An enamel marker/screen board that is characterized by its excellent marker erasability and at the same time has an excellent screen function. A: SiO_2: 35 to 60 parts, Al_2O_3: 3 parts or less, B_2O_3: 15 to 20 parts, TiO_2: 16
~22 parts, Na_2O + K_2O: 16-22 parts B: SiO_2: 25-35 parts, Al_2O_3: 16
~25 parts, B_2O_3:4-12 parts, TiO_2:1
6 to 22 parts, Na_2O+K_2O: 18 to 24 parts
i上白釉(A)と、Ti無光沢釉(B)とを、A/B比
が6/4〜4/6の範囲内となるような割合で配合し、
かつ下記ミル添加物(C)を外枠量で20%以下添加し
たスリップを使って施釉焼成し、ほうろう表面の光沢度
GS(45゜)を30〜60%の範囲にすることにより
、マーカーの消去性に優れると共に同時に優れたスクリ
ーン機能を持たせたことを特徴とするほうろう製マーカ
ーおよびスクリーン兼用ボード。 A:SiO_2:35〜60部、Al_2O_3:3部
以下、B_2O_3:15〜20部、TiO_2:16
〜22部、Na_2O+K_2O:16〜22部 B:SiO_2:25〜35部、Al_2O_3:16
〜25部、B_2O_3:4〜12部、TiO_2:1
6〜22部、Na_2O+K_2O:18〜24部 C:SiO_2:5部、TiO_2:25〜35部、S
b_2O_3:30〜40部、CaO:20〜30部(2) On the board substrate with underglaze, T with the following composition
Blending the i-top white glaze (A) and the Ti matte glaze (B) in a ratio such that the A/B ratio is within the range of 6/4 to 4/6,
And by glazing and firing using a slip to which 20% or less of the following mill additive (C) has been added in terms of outer frame amount, the gloss level GS (45°) of the enamel surface is in the range of 30 to 60%. An enamel marker and screen board that is characterized by its excellent erasability and at the same time has an excellent screen function. A: SiO_2: 35 to 60 parts, Al_2O_3: 3 parts or less, B_2O_3: 15 to 20 parts, TiO_2: 16
~22 parts, Na_2O + K_2O: 16-22 parts B: SiO_2: 25-35 parts, Al_2O_3: 16
~25 parts, B_2O_3:4-12 parts, TiO_2:1
6 to 22 parts, Na_2O + K_2O: 18 to 24 parts C: SiO_2: 5 parts, TiO_2: 25 to 35 parts, S
b_2O_3: 30-40 parts, CaO: 20-30 parts
)と、Ti無光沢釉(B)とを、A/B比が6/4〜4
/6の範囲内となるような割合で配合したスリップを調
整し、このスリップを下引釉を施釉焼成したボード基板
上に施釉した後焼成することを特徴とするマーカーおよ
びスクリーン兼用ボードの製造方法。 A:SiO_2:35〜60部、Al_2O_3:3部
以下、B_2O_3:15〜20部、TiO_2:16
〜22部、Na_2O+K_2O:16〜22部 B:SiO_2:25〜35部、Al_2O_3:16
〜25部、B_2O_3:4〜12部、TiO_2:1
6〜22部、Na_2O+K_2O:18〜24部(3) When milling, Ti overglaze (A
) and Ti matte glaze (B) with an A/B ratio of 6/4 to 4.
A method for manufacturing a board that can be used as a marker and a screen, which comprises adjusting a slip blended in a ratio within the range of /6, applying this slip onto a board substrate that has been glazed and fired with an underglaze, and then firing it. . A: SiO_2: 35 to 60 parts, Al_2O_3: 3 parts or less, B_2O_3: 15 to 20 parts, TiO_2: 16
~22 parts, Na_2O + K_2O: 16-22 parts B: SiO_2: 25-35 parts, Al_2O_3: 16
~25 parts, B_2O_3:4-12 parts, TiO_2:1
6 to 22 parts, Na_2O+K_2O: 18 to 24 parts
無光沢釉(B)とを、A/B比が10/0〜6/4の範
囲内となるような割合すると同時に、さらにミル添加物
(C)を外枠量で20%以下添加したスリップを調整し
、このスリップを下引釉を施釉焼成したボード基板上に
施釉した後焼成することを特徴とするほうろう製のマー
カー・スクリーン兼用ボードの製造方法。 A:SiO_2:35〜60部、Al_2O_3:3部
以下、B_2O_3:15〜20部、TiO_2:16
〜22部、Na_2O+K_2O:16〜22部 B:SiO_2:25〜35部、Al_2O_3:16
〜25部、B_2O_3:4〜12部、TiO_2:1
6〜22部、Na_2O+K_2O:18〜24部 C:SiO_2:5部、TiO_2:25〜35部、S
b_2O_3:30〜40部、CaO:20〜30部(4) When milling, use the following Ti white glaze (A) and the Ti
A slip in which the matte glaze (B) is mixed in a ratio such that the A/B ratio is within the range of 10/0 to 6/4, and at the same time, 20% or less of the mill additive (C) is added in the outer frame amount. A method for manufacturing a board made of enamel that can be used as a marker and screen, which comprises adjusting the slip, applying a glaze on a board substrate which has been glazed and fired, and then firing the slip. A: SiO_2: 35 to 60 parts, Al_2O_3: 3 parts or less, B_2O_3: 15 to 20 parts, TiO_2: 16
~22 parts, Na_2O + K_2O: 16-22 parts B: SiO_2: 25-35 parts, Al_2O_3: 16
~25 parts, B_2O_3:4-12 parts, TiO_2:1
6 to 22 parts, Na_2O + K_2O: 18 to 24 parts C: SiO_2: 5 parts, TiO_2: 25 to 35 parts, S
b_2O_3: 30-40 parts, CaO: 20-30 parts
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63307094A JPH02153080A (en) | 1988-12-05 | 1988-12-05 | Enameled board also acting as marker screen and production thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63307094A JPH02153080A (en) | 1988-12-05 | 1988-12-05 | Enameled board also acting as marker screen and production thereof |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02153080A true JPH02153080A (en) | 1990-06-12 |
Family
ID=17964953
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63307094A Expired - Lifetime JPH02153080A (en) | 1988-12-05 | 1988-12-05 | Enameled board also acting as marker screen and production thereof |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02153080A (en) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000000666A1 (en) * | 1998-06-26 | 2000-01-06 | Alliance Europe, Naamloze Vennootschap | Enamelled projection screen and method for the manufacturing thereof |
WO2007029351A1 (en) | 2005-09-02 | 2007-03-15 | Jfe Metal Products & Engineering Inc. | Projection blackboard and process for producing the same |
CN101870223A (en) * | 2009-04-21 | 2010-10-27 | 王志明 | Enameled intelligent white board |
WO2012006690A3 (en) * | 2010-07-12 | 2012-03-22 | Polyvision, Naamloze Vennootschap | Rewritable enameled visual communication board |
JP2013237889A (en) * | 2012-05-14 | 2013-11-28 | Jfe Metal Products & Engineering Inc | Marker board for short focus projector friendly to eye |
JP2015161689A (en) * | 2014-02-26 | 2015-09-07 | Jfe建材株式会社 | Marker board and its manufacturing method |
JP2019081271A (en) * | 2017-10-30 | 2019-05-30 | クラレプラスチックス株式会社 | Whiteboard and projection screen combined film |
CN112174529A (en) * | 2020-10-26 | 2021-01-05 | 广东清远蒙娜丽莎建陶有限公司 | Non-light dry particle glaze, ceramic tile with non-light dry particle glaze effect and preparation method thereof |
-
1988
- 1988-12-05 JP JP63307094A patent/JPH02153080A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000000666A1 (en) * | 1998-06-26 | 2000-01-06 | Alliance Europe, Naamloze Vennootschap | Enamelled projection screen and method for the manufacturing thereof |
BE1012996A3 (en) * | 1998-06-26 | 2001-07-03 | Alliance Europ Nv | Enamelled projection screen and method of manufacturing it. |
US6476964B1 (en) | 1998-06-26 | 2002-11-05 | Poly Vision, Naamloze Vennootschap | Enamelled projection screen and method for the manufacturing thereof |
WO2007029351A1 (en) | 2005-09-02 | 2007-03-15 | Jfe Metal Products & Engineering Inc. | Projection blackboard and process for producing the same |
CN101870223A (en) * | 2009-04-21 | 2010-10-27 | 王志明 | Enameled intelligent white board |
WO2012006690A3 (en) * | 2010-07-12 | 2012-03-22 | Polyvision, Naamloze Vennootschap | Rewritable enameled visual communication board |
BE1019415A3 (en) * | 2010-07-12 | 2012-07-03 | Polyvision Naamloze Vennooschap | ENAMELED VISUAL COMMUNICATION BOARD. |
JP2013237889A (en) * | 2012-05-14 | 2013-11-28 | Jfe Metal Products & Engineering Inc | Marker board for short focus projector friendly to eye |
JP2015161689A (en) * | 2014-02-26 | 2015-09-07 | Jfe建材株式会社 | Marker board and its manufacturing method |
JP2019081271A (en) * | 2017-10-30 | 2019-05-30 | クラレプラスチックス株式会社 | Whiteboard and projection screen combined film |
JP2022066281A (en) * | 2017-10-30 | 2022-04-28 | クラレプラスチックス株式会社 | Whiteboard and projection screen combined film |
CN112174529A (en) * | 2020-10-26 | 2021-01-05 | 广东清远蒙娜丽莎建陶有限公司 | Non-light dry particle glaze, ceramic tile with non-light dry particle glaze effect and preparation method thereof |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5741844A (en) | Coating composition, plaster material, method for making fresco-like plaster wall finish and plaster wall, ceiling, or surface formed thereby | |
US9168566B2 (en) | Process for producing a projection blackboard | |
US20100323162A1 (en) | Glass ceramic panel with a pleasing black decoration applied with a decorative paint | |
JPH02153080A (en) | Enameled board also acting as marker screen and production thereof | |
US3846011A (en) | Chalkboard usable as a rear projection screen | |
US6063856A (en) | Plaster material for making fresco-like finish | |
JP4771880B2 (en) | Projection blackboard and manufacturing method thereof | |
JP2922208B2 (en) | Resin coater | |
EP1097256B1 (en) | Enamelled projection screen and method for the manufacturing thereof | |
JP2002006399A (en) | Reflection screen and method for manufacturing the same | |
JPH08302239A (en) | Transparent coating | |
JP2564439Y2 (en) | Chalk board surface material and chalk board using the same | |
JP2510809B2 (en) | A projection / writing board and its coating material | |
JP5868777B2 (en) | Marker board for short focus projector | |
US11780770B2 (en) | Glass element comprising enamel coating and use thereof, coating agent for making same, and method for producing the coating agent | |
JP2023083873A (en) | chalk board | |
JP2001058890A (en) | Sanitary ware | |
KR102286142B1 (en) | Method of manufacturing Glass blackboard usable as a screen with anti-reflection and self-cleaning properties | |
JP6275509B2 (en) | Marker board and manufacturing method thereof | |
JPH0860043A (en) | Film-forming composition and method of forming film | |
JP2564438Y2 (en) | Surface material for white marker pen board and board for white marker pen using the same | |
JP5702052B2 (en) | Coating composition and finishing method | |
JPH10337997A (en) | Decorative paper | |
JPS59193967A (en) | Vinyl chloride resin dispersion coating material | |
JPH08259860A (en) | Stone-like coating composition and method for forming stone-like pattern |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090430 Year of fee payment: 10 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090430 Year of fee payment: 10 |