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JPH02148901A - Integrated circuit device and its mounting method - Google Patents

Integrated circuit device and its mounting method

Info

Publication number
JPH02148901A
JPH02148901A JP63299700A JP29970088A JPH02148901A JP H02148901 A JPH02148901 A JP H02148901A JP 63299700 A JP63299700 A JP 63299700A JP 29970088 A JP29970088 A JP 29970088A JP H02148901 A JPH02148901 A JP H02148901A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring board
line
chip
package
integrated circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63299700A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Iwata
穆 岩田
Noboru Ishihara
昇 石原
Hideaki Kanefuji
金藤 英明
Taichi Kon
昆 太一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP63299700A priority Critical patent/JPH02148901A/en
Publication of JPH02148901A publication Critical patent/JPH02148901A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/48137Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
    • HELECTRICITY
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    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
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    • H01L2924/301Electrical effects
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    • HELECTRICITY
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    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PURPOSE:To cope with fast speed tendency of devices by providing a line for a signal input and output comprising a coplaner transmission line, a low impedance power line having a large static capacitance between ground and a ground line with a low inductance. CONSTITUTION:A wiring board 9 is put in a package 1 and a chip 5 and a wiring board 9 and the wiring board 9 and the package 1 are connected respec tively by a bonding wire 10. The wiring board 9 is made of a signal line part 12 of multi-layer structure formed by laminating a metallic layer and a ceramic layer in multiple on a metallic board 11, a signal line 14 on the wiring board 9 is matched with impedance and a coaxial line or a coplaner line is employed to improve the isolation between the lines. The ground is connected to the metallic board 11 through a via hole to be connected just close to the chip and low impedance processing is attained. Thus, high speed operation is attained in a logic integrated circuit.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は10GHz以上の周波数領域の半導体集積回
路あるいは混成集積回路装置とその実装方法に関するも
のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a semiconductor integrated circuit or hybrid integrated circuit device in a frequency range of 10 GHz or higher, and a method for mounting the same.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、集積回路装置にはセラミックパッケージあるいは
メタルパッケージと、ワイヤボンディングによる接続技
術が用いられていた。第6図に従来の実装例を示す。
Conventionally, integrated circuit devices have used ceramic packages or metal packages and connection techniques using wire bonding. FIG. 6 shows a conventional implementation example.

この図で、1は多層セラミックあるいはメタルパッケー
ジ等のパッケージ、2は入出力の信号端子、3は電源供
給端子あるいはグランド端子、4はチップ搭載部である
。このパッケージ1のチップ搭載部4に半導体ICチッ
プを搭載し、ボンデインクした状態の部分拡大断面図を
第7図に示す。
In this figure, 1 is a package such as a multilayer ceramic or metal package, 2 is an input/output signal terminal, 3 is a power supply terminal or a ground terminal, and 4 is a chip mounting section. FIG. 7 shows a partially enlarged cross-sectional view of a state in which a semiconductor IC chip is mounted on the chip mounting portion 4 of this package 1 and bonded.

第7図において、5は半導体ICチップ(以下単にチッ
プという)、6はボンディングワイヤであ◆、電源供給
線のインピーダンスを下げるためのチップコンデンサ7
や線路を終端するためのチップ抵抗(図示せず)をチッ
プ5の直近に配置し、ボンディングする場合もある。第
7図でチップ5やチップコンデンサ7などをパッケージ
1に搭載する際に、機械的な条件や接着用材料が広がる
ために寸法余裕が必要であった。また、ボンディングす
る各端子の高さをそろえることが困難であった。
In FIG. 7, 5 is a semiconductor IC chip (hereinafter simply referred to as a chip), 6 is a bonding wire ◆, and a chip capacitor 7 is used to lower the impedance of the power supply line.
In some cases, a chip resistor (not shown) for terminating the line or line is placed in the immediate vicinity of the chip 5 and bonded to it. When mounting the chip 5, chip capacitor 7, etc. on the package 1 in FIG. 7, a dimensional margin was required due to mechanical conditions and the spread of the adhesive material. Furthermore, it was difficult to align the heights of the terminals to be bonded.

このような構造であるのでボンディングワイヤ6が長く
なるため、第8図に示すように寄生のイノ ンダクタンス8が発生する。このインダクタンスのため ■ ボンディングワイヤのインダクタンス8による電源
ラインやグランドラインにおける信号による共振現象が
起る。
With such a structure, the bonding wire 6 becomes long, so that a parasitic inductance 8 is generated as shown in FIG. Because of this inductance, a resonance phenomenon occurs due to signals in the power supply line and ground line due to the inductance 8 of the bonding wire.

■ ボンディングワイヤのインダクタンス8等による信
号ラインのインピーダンス不整合が起る。
■ Signal line impedance mismatch occurs due to bonding wire inductance 8, etc.

■ ボンディングワイヤが長くなるために信号入出力線
間の容量結合による信号の漏れが起る。
■ As bonding wires become longer, signal leakage occurs due to capacitive coupling between signal input and output lines.

(発明が解決しようとする課題) これらの現象をICの特性から見ると ■の共振現象による特性劣化は、アンプでは周波数特性
が平坦でなくなり、ゲインのピークや谷が生じる。この
ため動作が不安定になったり、位相特性が劣化する。論
理回路では波形が乱れ立上り立下りが遅くなる。これが
もつと極端な場合、発振に至り、回路動作をしなくなる
(Problems to be Solved by the Invention) When looking at these phenomena from the viewpoint of IC characteristics, characteristic deterioration due to the resonance phenomenon (2) causes the frequency characteristics of the amplifier to become uneven, and gain peaks and valleys occur. As a result, the operation becomes unstable and the phase characteristics deteriorate. In logic circuits, the waveform is distorted and the rise and fall are delayed. In extreme cases, this will lead to oscillation and the circuit will no longer function.

第9図に共振により、伝送特性521(ゲイン)に谷が
生じた例を示す。この谷の周波数fdはボンディングワ
イヤのインダクタンスをL1チップのパッドの寄生容量
をCとすると、1/(2πF[で)となる。このように
従来の技術では2〜5GHz程度で共振を起こしやすか
った。
FIG. 9 shows an example in which a valley occurs in the transmission characteristic 521 (gain) due to resonance. The frequency fd of this valley is 1/(2πF) where the inductance of the bonding wire is C and the parasitic capacitance of the pad of the L1 chip is C. As described above, the conventional technology tends to cause resonance at about 2 to 5 GHz.

■のインピーダンス不整合による特性劣化は論理回路に
おける波形の立上り立ち下り時間の増大となり、アンプ
における歪の増大と反射雑音の発生によるS/N比の減
少となる。
Characteristic deterioration due to impedance mismatch (2) increases the rise and fall times of waveforms in the logic circuit, increases distortion in the amplifier, and decreases the S/N ratio due to reflection noise.

■の信号の漏れによる劣化は入力から出力へ帰還し、動
作が不安定となり、さらには発振を起こす。第10図に
従来技術のアイソレーション特性の例を示す。5GHz
程度で20dB程度に劣化している。
Deterioration due to signal leakage (2) feeds back from the input to the output, making the operation unstable and even causing oscillation. FIG. 10 shows an example of the isolation characteristics of the prior art. 5GHz
It has deteriorated by about 20 dB.

このように従来技術は超高周波、超広帯域、超高速の集
積回路の実装には欠点の多いものであった。
As described above, the conventional technology has many drawbacks when it comes to implementing ultra-high frequency, ultra-wideband, and ultra-high speed integrated circuits.

この発明は、デバイスの高速化、高周波化に対応できる
実装技術を提供することを目的としており、従来の問題
点であった実装ボンディングワイヤの寄生効果による集
積回路の性能劣化を除去した集積回路装置およびその実
装方法を提供することを目的とする。
The purpose of this invention is to provide a mounting technology that can handle higher speeds and higher frequencies of devices, and eliminates the conventional problem of deterioration in the performance of integrated circuits due to the parasitic effects of mounting bonding wires. and its implementation method.

(課題を解決するための手段) この発明にかかる集積回路装置は、メタル層とセラミッ
ク層の多層構造で形成されるか、あるいはメタル板の上
に積層されたセラミック層あるいは有機絶縁層と・メタ
ル層の多層構造で形成された共平面伝送線路、同軸線路
あるいはマイクロストリップ線路で構成された信号入出
力用の線路と、グランドとの間に大容量の静電容量をも
つ低インピーダンスの電源線と、低インダクタンスのグ
ランド線を有し、かつ半導体ICチップを配置するため
の開孔部を有する配線板と、この配線板および半導体I
Cチップとを内部に接着した、パッケージとからなるも
のである。
(Means for Solving the Problems) An integrated circuit device according to the present invention is formed with a multilayer structure of a metal layer and a ceramic layer, or a ceramic layer or an organic insulating layer laminated on a metal plate. A signal input/output line consisting of a coplanar transmission line, coaxial line, or microstrip line formed of a multilayer structure, and a low impedance power line with a large capacitance between it and the ground. , a wiring board having a low inductance ground line and an opening for arranging a semiconductor IC chip, and this wiring board and a semiconductor I
It consists of a package with a C-chip glued inside.

また、この発明の集積回路装置の実装方法は、配線板に
半導体ICチップをボンディングした後、配線板とチッ
プとを同時にパッケージに挿入接着し、その後、配線板
の配線の端子間を導体で接続し、さらに、半導体ICチ
ップの各端子と配線板の端子とを導体で接続するもので
ある。
In addition, the method for mounting an integrated circuit device of the present invention includes bonding a semiconductor IC chip to a wiring board, inserting and bonding the wiring board and chip into a package at the same time, and then connecting terminals of wiring on the wiring board with a conductor. Furthermore, each terminal of the semiconductor IC chip and the terminal of the wiring board are connected by a conductor.

(作用) この発明の集積回路装置は、電源線が大容量の静電容量
を有するため低インピーダンスとなり、また、配線板と
半導体ICチップおよびパッケージの3点で構成できる
ため組立が簡単となる。
(Function) The integrated circuit device of the present invention has low impedance because the power supply line has a large capacitance, and is easy to assemble because it can be composed of three parts: a wiring board, a semiconductor IC chip, and a package.

また、この発明の集積回路装置の実装方法によれば、位
置合せが容易で、寸法の余裕が少なくてよい。
Further, according to the integrated circuit device mounting method of the present invention, alignment is easy and dimensional margins may be small.

〔実施例〕〔Example〕

第1図(a)、(b)、(c)にこの発明の第1の実施
例を示す。第1図(a)は配線板9の平面図、第1図(
b)、 (C)は、第1図(a)のA−A ’線、B−
B’線による断面とパッケージとの関係を示す図である
。なお、第1図(a)には第1図(b)、(C)の接続
導体等10は省略しである。信号入出力端子2、電源供
給端子3を有する従来技術のパッケージ1のなかに、こ
の発明の主要部をなす配線板9を入れ、ボンディングワ
イヤあるいはリボンあるいはこれに代る接続部材10で
、チップ5と配線板9間と、配線板9とパッケージ1間
を接続する。配線板9はメタル基板11の上にメタル層
とセラミック層あるいはメタル層とポリイミド層等を多
層に積層化して形成した多層構造の信号線部12により
形成し、内部のチップ搭載位置にチップ5よりわずかに
大きい開孔部13を設け、ボンディングワイヤをできる
だけ短くできるような構造と寸法とする。配線板9上の
信号線14はインピーダンス整合がとれ、線間のアイソ
レーションを良くするように同軸線路あるいは共平面線
路とする。共平面線路には下部にグランド層を有する構
造や、上部にもグランド層(第1図(a)では省略)を
有するトリプレート型構造などが適用でき、これらの線
路は多層セラミックあるいは多層ポリイミド等の技術に
より形成できる。同軸線路はバイアホール技術により擬
似的同軸構造が実現でき、ポリイミドなどの有機絶縁膜
を用いる場合はフォト加工、エツチング技術による完全
な同軸構造が実現可能である。
A first embodiment of the present invention is shown in FIGS. 1(a), (b), and (c). FIG. 1(a) is a plan view of the wiring board 9, FIG.
b), (C) are lines AA' and B- in Figure 1 (a).
FIG. 3 is a diagram showing the relationship between a cross section taken along line B' and a package. Note that the connecting conductor 10 shown in FIGS. 1(b) and 1(C) is omitted from FIG. 1(a). A wiring board 9, which is the main part of the present invention, is placed in a prior art package 1 having signal input/output terminals 2 and power supply terminals 3, and the chip 5 is connected to the chip 5 using bonding wires, ribbons, or an alternative connecting member 10. and wiring board 9, and between wiring board 9 and package 1. The wiring board 9 is formed of a multilayer signal line part 12 formed by laminating a metal layer and a ceramic layer or a metal layer and a polyimide layer in multiple layers on a metal substrate 11, and has a signal line part 12 with a multilayer structure formed by laminating a metal layer and a ceramic layer or a metal layer and a polyimide layer, etc., on a metal substrate 11. A slightly larger opening 13 is provided, and the structure and dimensions are such that the bonding wire can be made as short as possible. The signal lines 14 on the wiring board 9 are coaxial lines or coplanar lines so that impedance matching can be achieved and isolation between the lines is improved. A structure with a ground layer at the bottom or a triplate structure with a ground layer (omitted in Figure 1 (a)) at the top can be applied to the coplanar line, and these lines are made of multilayer ceramic, multilayer polyimide, etc. It can be formed using this technology. For coaxial lines, a pseudo-coaxial structure can be realized using via hole technology, and when an organic insulating film such as polyimide is used, a complete coaxial structure can be realized using photo processing and etching techniques.

電源線はセラミックあるいは有機絶縁膜をうずくし、ま
た多層構造にすることにより、大容量のバイパスコンデ
ンサ15を形成することもマきる。有機絶縁膜では、1
0μm厚位、セラミックでは50μm厚位までうずくで
きるので1平方mmあたり2〜3pFは実現できる。グ
ランドはバイアホールでメタル基板11と接続すること
によりチップ直近で接続することができ、低インピーダ
ンス化が図れる。ここで、配線板9を設計するときに信
号線部12のボンディング端子の高さと電源線部のコン
デンサの上部接続端子の高さをチップのポンディングパ
ッドの高さとそろえることによりボンディングワイヤを
短くすることができる。
A large capacity bypass capacitor 15 can be formed by forming the power supply line using a ceramic or organic insulating film and by forming it into a multilayer structure. In organic insulating films, 1
Since it can be applied up to a thickness of about 0 μm, and up to about 50 μm in the case of ceramic, it is possible to achieve a value of 2 to 3 pF per square mm. By connecting the ground to the metal substrate 11 through a via hole, it can be connected close to the chip, and impedance can be reduced. When designing the wiring board 9, the bonding wires can be shortened by aligning the height of the bonding terminal of the signal line section 12 and the height of the upper connection terminal of the capacitor of the power supply line section with the height of the bonding pad of the chip. be able to.

半導体ICチップ5の厚さは0.3〜0.4mm、高誘
電率基板によるバイパスコンデンサ15の厚さは〜0.
2mmであるので、メタル基板11を厚さ0.2mm、
配線部の多層構造配線12の厚さ0.1〜0.2mmと
すれば良い。
The thickness of the semiconductor IC chip 5 is 0.3 to 0.4 mm, and the thickness of the bypass capacitor 15 made of a high dielectric constant substrate is 0.3 to 0.4 mm.
2mm, so the metal substrate 11 is made with a thickness of 0.2mm,
The thickness of the multilayer structure wiring 12 in the wiring portion may be set to 0.1 to 0.2 mm.

チップ5の配線板9、パッケージ1との搭載順序は種々
可能である。
Various mounting orders are possible for mounting the chip 5 on the wiring board 9 and the package 1.

(1)配線板9にチップ5をボンディングした後、配線
板9とチップ5を同時にパッケージ1に挿入接着し、そ
の後配線板9とパッケージ1の各端子2.3をボンディ
ングする方法、 (2)配線板9をパッケージ1に接着後チップ5を接着
し、ボンディングする方法である。
(1) A method of bonding the chip 5 to the wiring board 9, then inserting and bonding the wiring board 9 and the chip 5 into the package 1 at the same time, and then bonding each terminal 2.3 of the wiring board 9 and the package 1; (2) In this method, after bonding the wiring board 9 to the package 1, the chip 5 is bonded.

位置合わせが容易で寸法の余裕が小さくてよいことから
 (1)が適する。ボンディング材としては従来からの
ボンディングワイヤ、ボンディングリボンのほかにT 
A B (Tape Automated Bondi
ng)技術が容易に適用でき、線長の減少、線幅の増大
などによりそのインダクタンスを大幅に減少させること
ができる。たとえば、通常の25μφのボンディングワ
イヤでは1mm当り〜inHのインダクタンスがあった
が100μ幅、25mm厚のリボン状のボンディング材
では0.5nH以下にすることができる。
(1) is suitable because alignment is easy and dimensional margins are small. In addition to conventional bonding wire and bonding ribbon, T
A B (Tape Automated Bondi
ng) technology can be easily applied, and the inductance can be significantly reduced by reducing the line length, increasing the line width, etc. For example, a normal 25 μΦ bonding wire has an inductance of ~inH per 1 mm, but a ribbon-shaped bonding material with a width of 100 μ and a thickness of 25 mm can reduce the inductance to 0.5 nH or less.

第2図(a)〜(C)に第2の実施例を示す。A second embodiment is shown in FIGS. 2(a) to 2(C).

これらの図は第1図(a)〜(C)にそれぞれ対応する
。第1図の第1の実施例では電源線を形成するメタルと
セラミックあるいはメタルと有機絶縁膜の多層構造で大
容量のバイパスコンデンサ15を形成するものであった
が、高誘電率基板16により形成されたコンデンサをメ
タル基板11の上に接着し、高誘電率基板16の上部電
極17を電源線とする。この構造により、大容量のバイ
パスコンデンサ15をチップ近くに接続でき、電源線の
インピーダンスを下げることができる。また、バイパス
コンデンサ15の占有面積を小さくできるので実装を小
型化できるとともに、パッケージ1の空洞共振周波数を
下げることができる。
These figures correspond to FIGS. 1(a) to (C), respectively. In the first embodiment shown in FIG. 1, a large-capacity bypass capacitor 15 is formed with a multilayer structure of metal and ceramic or metal and an organic insulating film that forms the power supply line, but it is formed with a high dielectric constant substrate 16. The capacitor thus prepared is bonded onto the metal substrate 11, and the upper electrode 17 of the high dielectric constant substrate 16 is used as a power supply line. With this structure, a large-capacity bypass capacitor 15 can be connected close to the chip, and the impedance of the power supply line can be lowered. Furthermore, since the area occupied by the bypass capacitor 15 can be reduced, the packaging can be downsized and the cavity resonance frequency of the package 1 can be lowered.

これまでアナログのアンプの場合について述べたが、多
端子の論理ICやLSIチップなどでチップ直近にバイ
パスコンデンサ15を必要としない場合は、電源線を細
くて、その分、入出力信号線部を多くとり、多ピン化す
ることも可能である。
I have described the case of analog amplifiers so far, but if you do not need the bypass capacitor 15 close to the chip, such as a multi-terminal logic IC or LSI chip, the power supply line is thin and the input/output signal line section is reduced accordingly. It is also possible to increase the number of pins.

第3図(a)、(b)に第3の実施例を示す。A third embodiment is shown in FIGS. 3(a) and 3(b).

これらの図は第1図(b)にそれぞれ対応する。These figures correspond to FIG. 1(b), respectively.

配線板9のメタル基板11のチップ搭載用の開孔部13
あるいは周辺部にテーバ18あるいは段19を設けて下
部のパッケージ1と接着される面でのチップ端面と配線
板端面あるいは配線板端面とパッケージ側壁との寸法余
裕を大きくする。これによりチップ5とパッケージ1、
配線板とパッケージとを接着用材で接着するとき、余分
な接着剤の逃げる部分をつくることができる。上部ボン
ディング面での寸法余裕を小さくシ、ボンディングの長
さを短くすることを可能とするものである。
Hole 13 for chip mounting in metal substrate 11 of wiring board 9
Alternatively, a taper 18 or a step 19 is provided in the peripheral portion to increase the dimensional margin between the chip end face and the wiring board end face or the wiring board end face and the package side wall on the surface to be bonded to the lower package 1. As a result, chip 5 and package 1,
When bonding the wiring board and package with an adhesive, a portion can be created for excess adhesive to escape. This makes it possible to reduce the dimensional margin on the upper bonding surface and shorten the bonding length.

第4図に第4の実施例を示す。これは第1図(b)に対
応する。配線板9の信号線部14の上部グランドにメタ
ル板20を接着したものである。これによりチップ5上
にグランド層を形成する。グランドが高周波で完全なも
のであれば信号の入出力間の一アイソレーションを向上
することができる。また、このメタル板20によりチッ
プ5上の空間を小さく制御することにより空洞共振周波
数を高めることもできる。
FIG. 4 shows a fourth embodiment. This corresponds to FIG. 1(b). A metal plate 20 is bonded to the upper ground of the signal line portion 14 of the wiring board 9. As a result, a ground layer is formed on the chip 5. If the ground is high frequency and perfect, isolation between signal input and output can be improved. Furthermore, by controlling the space above the chip 5 to be small using the metal plate 20, the cavity resonance frequency can be increased.

第5図(a)〜(C)に第5の実施例を示す。A fifth embodiment is shown in FIGS. 5(a) to 5(C).

これらの図は第1図(a)〜(C)にそれぞれ対応する
。第2図の第2の実施例において、高誘電率基板16の
上部電極17から直接チップ5にボンディングする構造
であったが、電源線を一度信号線部12と同一の多層構
造部に中継端子21を設け、これを通して高誘電率基板
16上の電極に接続する方法である。これにより中継端
子21でバタン幅を広げることができるので高屈電率基
板16上のバタン形成精度を緩和できる。
These figures correspond to FIGS. 1(a) to (C), respectively. In the second embodiment shown in FIG. 2, the structure is such that the upper electrode 17 of the high dielectric constant substrate 16 is directly bonded to the chip 5, but the power line is once connected to the relay terminal in the same multilayer structure as the signal line part 12. 21 is provided and connected to the electrode on the high dielectric constant substrate 16 through this. As a result, the batten width can be increased at the relay terminal 21, so that the precision of batten formation on the high refractive index substrate 16 can be relaxed.

(発明の効果) 以上説明したようにこの発明は、メタル層とセラミック
層の多層構造で形成されるか、あるいはメタル板の上に
積層されたセラミック層あるいは有機絶縁層とメタル層
の多層構造で形成された共平面伝送線路、同軸線路ある
いはマイクロストリップ線路で構成された信号入出力用
の線路と、グランドとの間に大容量の静電容量をもつ低
インピーダンスの電源線と、低インダクタンスのグラン
ド線を有し、かつ半導体ICチップを配置するための開
孔部を有する配線板と、この配線板および半導体ICチ
ップとを内部に接着した、パッケージとからなるので、
論理集積回路においては高速動作化、動作波形の改善、
雑音余裕の増加がはかれ、アンプなどのアナログ集積回
路においては回路の高周波化、広帯域化、高利得化が図
れる。具体的には10GHz以上の安定な動作を達成す
ることができる。
(Effects of the Invention) As explained above, the present invention has a multilayer structure of a metal layer and a ceramic layer, or a ceramic layer laminated on a metal plate, or a multilayer structure of an organic insulating layer and a metal layer. A low impedance power line with a large capacitance between the signal input/output line consisting of a coplanar transmission line, coaxial line or microstrip line and the ground, and a low inductance ground. It consists of a wiring board having wires and an opening for arranging a semiconductor IC chip, and a package in which the wiring board and the semiconductor IC chip are adhered.
In logic integrated circuits, high-speed operation, improvement of operating waveforms,
The noise margin is increased, and in analog integrated circuits such as amplifiers, higher frequencies, wider bands, and higher gains can be achieved. Specifically, stable operation at 10 GHz or higher can be achieved.

また、この発明の実装方法は、配線板に半導体ICチッ
プをボンディングした後、配線板とチップとを同時にパ
ッケージに挿入接着し、その後、配線板の配線の端子間
を導体で接続し、さらに、半導体ICチップの各端子と
配線板の端子とを導体で接続するので、位置合せが容易
であり、寸法の余裕が小さくてよいため、全体の小型化
をはかれる利点がある。
Further, the mounting method of the present invention includes bonding a semiconductor IC chip to a wiring board, inserting and bonding the wiring board and chip into a package at the same time, and then connecting terminals of the wiring on the wiring board with a conductor, and further, Since each terminal of the semiconductor IC chip and the terminal of the wiring board are connected with a conductor, alignment is easy and a small dimensional margin is required, so there is an advantage that the overall size can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(a)、(b)、(c)、第2図(a)、(b)
、(c)はこの発明の第1.第2の実施例を示す平面図
およびそのA−A’線による断面およびB−B ’線に
よる断面とパッケージとの関係を示す図、第3図(a)
、(b)はこの発明の第3の実施例を示す要部の断面図
、第4図はこの発明の第4の実施例を示す要部の断面図
、第5図(a)、(b)、(C)はこの発明の第5の実
施例を示す平面図、そのA−A線による断面およびB−
B線による断面とパッケージとの関係を示す図、第6図
は従来の実装パッケージの一例を示す斜視図、第7図は
従来のパッケージの実装形態を説明するための要部の断
面図、第8図は同じく寄生インダクタンスの説明図、第
9図は同じくアンプの伝送特性を示す図、第10図は同
じくアイソレーション特性例を示す図である。 図中、1は多層セラミックあるいはメタルパッケージ、
2は人出力の信号端子、3は電源供給あるいはグランド
端子、4はチップ搭載部、5はチップ、6はボンディン
グワイヤ、7はチップコンデンサ、8は寄生のインダク
タンス、9は配線板、1oは接続部材、11はメタル基
板、12は信号線部、13はチップ搭載開孔部、14は
信号線、15はバイパスコンデンサ、16は高8電率基
板、17は電源線、18はテーバ、19は段、2oはメ
タル板、21は中継端子である。 17:tam 第 図 第 図 般 メタル板 第5区 アイソし−シ1ン((IB)
Figure 1 (a), (b), (c), Figure 2 (a), (b)
, (c) is the first aspect of this invention. FIG. 3(a) is a plan view showing the second embodiment and a diagram showing the relationship between the cross section taken along the line AA' and the cross section taken along the line B-B' and the package.
, (b) are sectional views of essential parts showing a third embodiment of the present invention, FIG. 4 is a sectional view of essential parts showing a fourth embodiment of this invention, and FIGS. ) and (C) are plan views showing the fifth embodiment of the present invention, a cross section taken along the line A-A, and a cross-section taken along the line B-
6 is a perspective view showing an example of a conventional mounting package; FIG. 7 is a sectional view of main parts for explaining the mounting form of a conventional package; FIG. 8 is an explanatory diagram of parasitic inductance, FIG. 9 is a diagram illustrating the transmission characteristics of the amplifier, and FIG. 10 is a diagram illustrating an example of isolation characteristics. In the figure, 1 is a multilayer ceramic or metal package,
2 is a human output signal terminal, 3 is a power supply or ground terminal, 4 is a chip mounting part, 5 is a chip, 6 is a bonding wire, 7 is a chip capacitor, 8 is a parasitic inductance, 9 is a wiring board, 1o is a connection Members, 11 is a metal board, 12 is a signal line part, 13 is a chip mounting hole, 14 is a signal line, 15 is a bypass capacitor, 16 is a high 8 current board, 17 is a power supply line, 18 is Taber, 19 is The stage 2o is a metal plate, and 21 is a relay terminal. 17: tam Figure Figure General Metal Plate Section 5 Iso-Shi 1 ((IB)

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)セラミックパッケージあるいはメタルパッケージ
を用いた集積回路の装置において、 メタル層とセラミック層の多層構造で形成されるか、あ
るいはメタル板の上に積層されたセラミック層あるいは
有機絶縁層とメタル層の多層構造で形成された共平面伝
送線路、同軸線路あるいはマイクロストリップ線路で構
成された信号入出力用の線路と、グランドとの間に大容
量の静電容量をもつ低インピーダンスの電源線と、低イ
ンダクタンスのグランド線を有し、かつ半導体ICチッ
プを配置するための開孔部を有する配線板と、この配線
板および前記半導体ICチップとを内部に接着したパッ
ケージと、 からなることを特徴とする集積回路装置。
(1) In an integrated circuit device using a ceramic package or a metal package, it is formed with a multilayer structure of a metal layer and a ceramic layer, or a ceramic layer laminated on a metal plate or an organic insulating layer and a metal layer. A signal input/output line consisting of a coplanar transmission line, coaxial line, or microstrip line formed in a multilayer structure, and a low impedance power line with a large capacitance between the ground and the A wiring board having an inductance ground line and an opening for arranging a semiconductor IC chip, and a package in which the wiring board and the semiconductor IC chip are adhered. Integrated circuit device.
(2)請求項(1)の集積回路装置において、配線板に
半導体ICチップをボンディングした後、前記配線板と
チップとを同時にパッケージに挿入接着し、その後、前
記配線板の配線の端子間を導体で接続し、さらに、前記
半導体ICチップの各端子と前記配線板の端子とを導体
で接続することを特徴とする集積回路装置の実装方法。
(2) In the integrated circuit device according to claim (1), after bonding the semiconductor IC chip to the wiring board, the wiring board and the chip are simultaneously inserted and bonded into a package, and then the terminals of the wiring of the wiring board are bonded. A method for mounting an integrated circuit device, comprising connecting each terminal of the semiconductor IC chip to a terminal of the wiring board using a conductor.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5557144A (en) * 1993-01-29 1996-09-17 Anadigics, Inc. Plastic packages for microwave frequency applications

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5557144A (en) * 1993-01-29 1996-09-17 Anadigics, Inc. Plastic packages for microwave frequency applications

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