JPH02140721A - Liquid crystal display device - Google Patents
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 31
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 16
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 4
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- DMIUGJLERMOBNT-UHFFFAOYSA-N 4-amino-n-(3-methoxypyrazin-2-yl)benzenesulfonamide;5-[(3,4,5-trimethoxyphenyl)methyl]pyrimidine-2,4-diamine Chemical compound COC1=NC=CN=C1NS(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1.COC1=C(OC)C(OC)=CC(CC=2C(=NC(N)=NC=2)N)=C1 DMIUGJLERMOBNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 8
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 6
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 238000005067 remediation Methods 0.000 description 1
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- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、表示画面を構成する複数の絵素毎にスイッチ
ング用の非線形素子が付加されたいわゆるアクティブマ
トリックス型液晶表示装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to a so-called active matrix liquid crystal display device in which a nonlinear element for switching is added to each of a plurality of picture elements constituting a display screen.
〈従来の技術〉
従来、この種のアクティブマトリックス型液晶表示装置
として、例えば第3図に示すようなものがある。このア
クティブマトリックス型液晶表示装置31は、マトリッ
クス状に配列された複数の絵素電極32により表示画面
が構成される。そして、各絵素電極32毎にスイッチン
グ用の非線形素子である薄膜トランジスタ3が配設され
ており、各絵素電極32間に上記薄膜トランジスタ3を
駆動するためのゲートパスライン4とソースパスライン
5が交互に交差するように配設されている。<Prior Art> Conventionally, as this type of active matrix liquid crystal display device, there is one shown in FIG. 3, for example. In this active matrix type liquid crystal display device 31, a display screen is constituted by a plurality of picture element electrodes 32 arranged in a matrix. A thin film transistor 3, which is a nonlinear element for switching, is arranged for each picture element electrode 32, and a gate pass line 4 and a source pass line 5 for driving the thin film transistor 3 are alternately arranged between each picture element electrode 32. It is arranged so that it intersects with the
上記薄膜トランジスタ3は、第4図に示すように、ガラ
ス基板6上に上記ゲートパスライン4に連なるゲート電
極7を形成し、このゲート電極7上にゲート絶縁膜8.
9を介して半導体」0を形成し、さらにこの半導体lθ
上に上記ソースパスライン5に連なる第1ソース電極!
Iとt52ソース電極12を形成するとともに、絵素電
極32に接続された第1ドレイン電極」3と第2ドレイ
ン電極14を形成してなる。かかる構造の薄膜トランジ
スタ3を各絵素毎に設けた上記アクティブマトリックス
型液晶表示装置31は、極めて複雑な製造工程を経て製
造されることになるから、一部の薄膜トランジスタ3の
電気的特性の不良や劣化による絵素欠陥が発生しやすい
。従って、製品の欠陥部分の検査や解析を十分に行い、
品質管理を徹底させる必要がある。そのため、検査で発
見された欠陥絵素電極の位置特定か必須となる。そこで
、製造工程でガラス基板6上にゲートパスライン4ある
いはソースパスライン5を形成する際に、各絵素電極3
2内にパスラインと同一のメタル材料で位置特定のため
の通し番号33を第3図の“I5.16,301,30
2″の如く形成している(実願昭61−7425号)。As shown in FIG. 4, the thin film transistor 3 includes a gate electrode 7 formed on a glass substrate 6 and connected to the gate pass line 4, and a gate insulating film 8.
9 to form a semiconductor '0', and further this semiconductor lθ
Above is the first source electrode connected to the source pass line 5!
I and T52 source electrodes 12 are formed, and a first drain electrode 3 connected to the picture element electrode 32 and a second drain electrode 14 are formed. The active matrix type liquid crystal display device 31 in which a thin film transistor 3 having such a structure is provided for each pixel is manufactured through an extremely complicated manufacturing process. Pixel defects are likely to occur due to deterioration. Therefore, we thoroughly inspect and analyze the defective parts of the product,
It is necessary to ensure thorough quality control. Therefore, it is essential to locate defective pixel electrodes discovered during inspection. Therefore, when forming the gate pass line 4 or the source pass line 5 on the glass substrate 6 in the manufacturing process, each pixel electrode 3
2, the serial number 33 for position identification is made of the same metal material as the pass line.
2" (Utility Application No. 7425, 1983).
〈発明が解決しようとする課題〉
ところが、このようなメタル材料からなる番号33は、
ポトリソグラフィ法でパスライン4または5と同時に形
成される際、パターンがくずれたり異物が生じたりする
と、ゲートパスライン4あるいはソースパスライン5と
番号33が接触し、液晶駆動時にリークによる表示不良
を生じる虞れがある。また、絵素電極32内に不透明な
メタルで番号を形成しているため、開口率が低下して表
示品位を悪化させるという欠点がある。<Problem to be solved by the invention> However, the number 33 made of such a metal material is
When pass lines 4 or 5 are formed simultaneously using the photolithography method, if the pattern is distorted or foreign matter is generated, number 33 will come into contact with gate pass line 4 or source pass line 5, causing display defects due to leakage when driving the liquid crystal. There is a risk. Furthermore, since the numbers are formed in the picture element electrodes 32 using opaque metal, there is a drawback that the aperture ratio decreases and the display quality deteriorates.
そこで、本発明の目的は、各絵素電極に開口率を低下さ
せずに絵素電極に位置特定のための番号を形成すること
によって、表示不良の虞れのない高品位表示を行うこと
のできる液晶表示装置を提供することである。Therefore, an object of the present invention is to provide high-quality display without the risk of display defects by forming numbers for position identification on each picture element electrode without reducing the aperture ratio. The object of the present invention is to provide a liquid crystal display device that can be used.
〈課題を解決するための手段〉
上記目的を達成するため、本発明の第1の液晶表示装置
は、非線形素子を備えたアクティブマトリックス型のも
のにおいて、各絵素電極内に、夫々抜きパターンで番号
が形成されていることを特徴とする。また、本発明の第
2の液晶表示装置は、非線形素子を備えたアクティブマ
トリックス型のものにおいて、各絵素電極内に、夫々透
明電極膜を用いて残しパターンで番号が形成されている
ことを特徴とする。<Means for Solving the Problems> In order to achieve the above object, the first liquid crystal display device of the present invention is an active matrix type liquid crystal display device equipped with a nonlinear element, in which each pixel electrode is provided with a punched pattern. It is characterized by the formation of numbers. Further, the second liquid crystal display device of the present invention is an active matrix type device equipped with a nonlinear element, and a number is formed in each picture element electrode in a pattern using a transparent electrode film. Features.
〈作用〉
本発明の第1.第2の液晶表示装置において、透明な各
絵素電極内には、従来のメタル材料による残しパターン
でなく、絵素電極を貫通する抜きパターンあるいは例え
ば絵素電極下の透明電極膜による残しパターンで夫々番
号が形成されているので、この番号がパスラインに接触
して駆動時にリークを生じることがなく、また絵素電極
の開口率が向上して、表示不良のない高品位表示ができ
る。また、上記抜きパターンあるいは残しパターンによ
り番号とその周辺素地間に適度なコントラストが得られ
、絵素電極に個有の上記番号が目視確認できるから、製
品検査時に見つかった欠陥箇所の位置がこの番号で明確
になり、適切な修理。<Function> The first aspect of the present invention. In the second liquid crystal display device, each transparent picture element electrode has a punched pattern that penetrates the picture element electrode, or a pattern left behind by a transparent electrode film under the picture element electrode, instead of the conventional pattern left by a metal material. Since numbers are formed on each panel, the numbers do not come into contact with the pass lines and cause leakage during driving, and the aperture ratio of the picture element electrodes is improved, allowing high-quality display without display defects. In addition, the above-mentioned punching pattern or leaving pattern provides a suitable contrast between the number and the surrounding substrate, and the above-mentioned number, which is unique to the picture element electrode, can be visually confirmed, so the position of the defective part found during product inspection can be determined by this number. clarified and appropriate repairs.
補修等の措置をとることができる。Measures such as repairs can be taken.
〈実施例〉 以下、本発明を図示の実施例により詳細に説明する。<Example> Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to illustrated embodiments.
第1図は本発明の第1の液晶表示装置の一例を示す平面
図である。このアクティブマトリックス型液晶表示装置
1は、ガラス基板上に縦横に等間隔をおいて格子状に設
けられたソースパスライン5とゲートライン4で囲まれ
る各矩形領域に、ITo(酸化インジウム)からなる透
明の絵素電極2をマトリックス状に配設するとともに、
各絵素電極2の左上隅に、この絵素電極2に連なるドレ
イン電極り、上記ソースパスライン5に連なるソース電
極S、上記ゲートパスライン4に連なるゲート電極Gお
よび半導体IOからなる非線形素子としての薄膜トラン
ジスタ3を夫々配設している。FIG. 1 is a plan view showing an example of a first liquid crystal display device of the present invention. This active matrix type liquid crystal display device 1 is made of ITo (indium oxide) in each rectangular area surrounded by source pass lines 5 and gate lines 4, which are provided in a lattice shape at equal intervals in the vertical and horizontal directions on a glass substrate. In addition to arranging transparent picture element electrodes 2 in a matrix,
At the upper left corner of each picture element electrode 2, there is a nonlinear element consisting of a drain electrode connected to this picture element electrode 2, a source electrode S connected to the source pass line 5, a gate electrode G connected to the gate pass line 4, and a semiconductor IO. Thin film transistors 3 are arranged respectively.
上記各部材は、絵素電極2を除いて第3図で述べた従来
の液晶表示装置と同じものであり、同じ部材には同一番
号を付して説明を省略する。また、上記薄膜トランジス
タ3の構造も、第4図で述べたものと全く同じである。Each of the above-mentioned members is the same as the conventional liquid crystal display device described in FIG. 3, except for the picture element electrode 2, and the same members are given the same numbers and the description thereof will be omitted. Further, the structure of the thin film transistor 3 is also exactly the same as that described in FIG.
上記絵素電極2内には、その絵素電極に個有の識別番号
20を、絵素電極形成と同時にホトリソグラフィ法によ
る抜きパターンにて第1図の“15.16,301,3
02”の如く通し番号で形成している。An identification number 20 unique to the picture element electrode 2 is stamped into the picture element electrode 2 with a pattern of "15.16, 301, 3" in FIG.
It is formed with a serial number such as 02".
上記構成の液晶表示装置における各絵素電極2の上記識
別番号20の作用は、次のとおりである。The function of the identification number 20 of each picture element electrode 2 in the liquid crystal display device having the above structure is as follows.
上記識別番号20は、従来のようにパスラインと同じメ
タル材料によるパターンでなく、透明な絵素電極2を貫
通する抜きパターンで形成されているので、形成時にパ
ターンがくずれるなどしてこれがゲート、ソースパスラ
イン4.5に接触したとしても、導電性がないから液晶
駆動時にリークが生じず、表示不良が発生しない。また
、抜きパターンだから光を遮らず、絵素電極2の開口率
が向上して高品位表示ができる。さらに、抜きパターン
により識別番号20とその周辺素地(2)間に適度なコ
ントラストが得られ、識別番号20が容易に目視確認で
きるので、製品検査時に見つかった欠陥箇所の位置が明
確になり、適切な修理、補修等の措置を直ちにとること
ができる。つまり、各絵素電極2に抜きパターンで形成
された識別番号20によって、表示不良のない高表示品
位の液晶表示装置を提供することが可能になるのである
。The identification number 20 is not formed of a pattern made of the same metal material as the pass line as in the past, but is formed of a punched pattern that penetrates the transparent picture element electrode 2. Therefore, the pattern may be distorted during formation, and this may cause the gate or Even if it comes into contact with the source path line 4.5, since there is no conductivity, no leakage will occur during driving of the liquid crystal, and no display defects will occur. Furthermore, since it is a punched pattern, light is not blocked, and the aperture ratio of the picture element electrode 2 is improved, allowing high-quality display. Furthermore, the cutout pattern provides a suitable contrast between the identification number 20 and the surrounding substrate (2), making it easy to visually confirm the identification number 20, making it easier to locate defects found during product inspection and to Measures such as repairs and remediation can be taken immediately. In other words, the identification numbers 20 formed in the punched pattern on each picture element electrode 2 make it possible to provide a liquid crystal display device with high display quality and no display defects.
第2図は本発明の第2液晶表示装置の一例を示している
。この液晶表示装置21は、絵素電極22を除いて第1
図で述べた第1の液晶表示装置と同じ構成であり、同じ
部材には同一番号を付して説明を省略する。この液晶表
示装置の絵素電極22内には、その絵素電極に個有の識
別番号30を、絵素電極形成に先立ってITOやSno
wなどの透明電極材料を用いてホトリソグラフィ法によ
る残しパターンにて第2図の“l 5,16,301,
302”の如く通し番号で形成している。FIG. 2 shows an example of a second liquid crystal display device of the present invention. This liquid crystal display device 21 has a first
It has the same configuration as the first liquid crystal display device described in the figures, and the same members are given the same numbers and their explanations will be omitted. In the picture element electrode 22 of this liquid crystal display device, a unique identification number 30 is added to the picture element electrode using ITO or SNO prior to formation of the picture element electrode.
Using a transparent electrode material such as w, the remaining pattern is made by photolithography, and the "l 5, 16, 301,
It is formed with serial numbers such as 302''.
上記各絵素電極22の識別番号30の作用も、第1図の
場合と本質的に何ら異ならない。即ち、識別番号30は
、従来のようなメタル材料によるパターンでなく、絵素
電極22下の透明電極による残しパターンで形成されて
いるので、形成時にパターンがくずれても絵素電極上に
形成されるゲート、ソースパスライン4.5とは接触す
ることはなく、故に液晶駆動時にリークが生じず、表示
不良が発生しない。また、透明パターンだから光を遮ら
ず、絵素電極22の開口率が向上して高品位表示ができ
る。さらに、適度なコントラストで識別番号30が容易
に目視確認でき、欠陥箇所の適切な修理、補修ができる
のは、第1図の場合と同じである。つまり、この識別番
号30により、表示不良のない高表示品位の液晶表示装
置の提供が可能になる。The function of the identification number 30 of each picture element electrode 22 is essentially no different from that in FIG. 1. That is, since the identification number 30 is formed not by a pattern made of a metal material as in the past, but by a pattern left by a transparent electrode under the picture element electrode 22, even if the pattern is distorted during formation, it will not be formed on the picture element electrode. There is no contact with the gate and source path lines 4.5, and therefore no leakage occurs during liquid crystal driving and no display defects occur. Furthermore, since the pattern is transparent, light is not blocked, and the aperture ratio of the picture element electrode 22 is improved, allowing high-quality display. Further, as in the case of FIG. 1, the identification number 30 can be easily visually confirmed with appropriate contrast, and defective parts can be repaired appropriately. In other words, the identification number 30 makes it possible to provide a liquid crystal display device with high display quality and no display defects.
なお、上記実施例では、アクティブマトリックスを駆動
する非線形素子が薄膜トランジスタである場合について
述べたが、これがダイオード等である場合にも本発明を
適用することができる。また、本発明が図示の実施例に
限られないのはいうまでもない。In the above embodiments, a case has been described in which the nonlinear element that drives the active matrix is a thin film transistor, but the present invention can also be applied to a case where the nonlinear element that drives the active matrix is a diode or the like. Furthermore, it goes without saying that the present invention is not limited to the illustrated embodiment.
〈発明の効果〉
以上の説明で明らかなように、本発明の液晶表示装置は
、非線形素子を備えたアクティブマトリックス型のもの
において、各絵素電極内に、抜きパターンあるいは透明
電極膜を用いた残しパターンで夫々個有の識別番号が形
成されているので、従来のメタル材料製のパターンの場
合のようなパスラインとの接触によるリークに起因する
表示不良が生じないうえ、パターンが透明ゆえ絵素電極
の開口率が向上して高品位表示ができ、さらに素地との
間に適度なコントラストが得られて、識別番号が容易に
確認できて、直ちに欠陥箇所の適切な修理ができる。<Effects of the Invention> As is clear from the above description, the liquid crystal display device of the present invention is an active matrix type device equipped with a nonlinear element, and a liquid crystal display device using a punched pattern or a transparent electrode film in each picture element electrode. Since each remaining pattern has a unique identification number, there is no display defect caused by leakage due to contact with the pass line, which is the case with conventional patterns made of metal materials. The aperture ratio of the elemental electrode is improved, allowing for high-quality display, and also providing a suitable contrast with the substrate, allowing for easy identification of the identification number and immediate and appropriate repair of defective areas.
第1図、第2図は夫々本発明の第1.第2の液晶表示装
置の一例を示す平面図、第3図は従来の液晶表示装置を
示す平面図、第4図は第3図の■■線断面図である。
1.21・・・液晶表示装置、2.22・・・絵素電極
、3・・・薄膜トランジスタ、4・・・ゲートパスライ
ン、5・・・ソースパスライン、
20.30・・・識別番号(抜きパターン、残しパター
ン)。FIG. 1 and FIG. 2 respectively show the first embodiment of the present invention. FIG. 3 is a plan view showing an example of a second liquid crystal display device, FIG. 3 is a plan view showing a conventional liquid crystal display device, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line ■■ in FIG. 3. 1.21...Liquid crystal display device, 2.22...Picture element electrode, 3...Thin film transistor, 4...Gate pass line, 5...Source pass line, 20.30...Identification number ( (cutting pattern, leaving pattern).
Claims (2)
晶表示装置において、 各絵素電極内に、夫々抜きパターンで番号が形成されて
いることを特徴とする液晶表示装置。(1) An active matrix liquid crystal display device equipped with a nonlinear element, characterized in that numbers are formed in each picture element electrode in a punched pattern.
晶表示装置において、 各絵素電極内に、夫々透明電極膜を用いて残しパターン
で番号が形成されていることを特徴とする液晶表示装置
。(2) An active matrix liquid crystal display device equipped with a nonlinear element, characterized in that numbers are formed in each picture element electrode in a pattern using a transparent electrode film.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63294220A JPH02140721A (en) | 1988-11-21 | 1988-11-21 | Liquid crystal display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63294220A JPH02140721A (en) | 1988-11-21 | 1988-11-21 | Liquid crystal display device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02140721A true JPH02140721A (en) | 1990-05-30 |
Family
ID=17804891
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63294220A Pending JPH02140721A (en) | 1988-11-21 | 1988-11-21 | Liquid crystal display device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02140721A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7088415B2 (en) | 2002-11-12 | 2006-08-08 | Seiko Epson Corporation | Electro-optic panel and manufacturing method thereof |
CN103760728A (en) * | 2014-01-29 | 2014-04-30 | 北京京东方显示技术有限公司 | Array substrate and display device thereof |
-
1988
- 1988-11-21 JP JP63294220A patent/JPH02140721A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7088415B2 (en) | 2002-11-12 | 2006-08-08 | Seiko Epson Corporation | Electro-optic panel and manufacturing method thereof |
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WO2015113392A1 (en) * | 2014-01-29 | 2015-08-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | Array substrate and display device |
CN103760728B (en) * | 2014-01-29 | 2016-08-17 | 北京京东方显示技术有限公司 | A kind of array base palte and display device thereof |
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