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JPH02137221A - 横型拡散炉 - Google Patents

横型拡散炉

Info

Publication number
JPH02137221A
JPH02137221A JP29140488A JP29140488A JPH02137221A JP H02137221 A JPH02137221 A JP H02137221A JP 29140488 A JP29140488 A JP 29140488A JP 29140488 A JP29140488 A JP 29140488A JP H02137221 A JPH02137221 A JP H02137221A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
core tube
heater
temperature
sub
horizontal diffusion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP29140488A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsuyuki Sasahara
笹原 勝之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Kyushu Ltd
Original Assignee
NEC Kyushu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Kyushu Ltd filed Critical NEC Kyushu Ltd
Priority to JP29140488A priority Critical patent/JPH02137221A/ja
Publication of JPH02137221A publication Critical patent/JPH02137221A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置の製造工程で用いられる横型拡散炉
に関する。
〔従来の技術〕
従来、この種の横型拡散炉に於ては、炉芯管内の横方向
に温度差を設け、その調整をすることができる機構とな
っているが、炉芯管内の上下方向での温度差を調整出来
る様な構造にはなっていなかった。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来の横型拡散炉は、炉芯管内の上下方向の温
度差を調整出来る構造になっていないなめ、半導体基板
を熱処理する際に、半導体基板の上部と下部に温度差を
生じていた。このため、半導体基板の面内における酸化
膜の厚さにばらつきが生じたりし、半導体装置の特性に
大きなばらつきを生ずるという欠点があった。
本発明の目的は、炉芯管内の上下方向における温度を均
一にすることができる横型拡散炉を提供することにある
〔課題を解決するための手段〕
本発明の横型拡散炉は、外筒の内部に順次設けられた断
熱材層とヒータと炉芯管とを有する横型拡散炉であって
、前記外筒の内部に炉芯管内の上下方向における温度差
を調整するためのサブヒータまたは冷却管を設けたもの
である。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
第1図(a)、(b)は本発明の第1の実施例の一部切
り欠き正面図及びA−A’線断面図である。
第1図(a)、(b)において、横型拡散炉は外筒4と
その内部に順次設けられた断熱材3とスパイラル状に回
かれたメインヒータ1及び炉芯管2とから主に構成され
ている。そして特にメインヒータ1の下部にはサブヒー
タ6が設けられている。
このように構成された第1の実施例によれば、メインヒ
ータ用端子台5を通してメインヒータ1に電流を流して
加熱した場合、炉芯管内の上下方向に温度差を生じるが
、サブヒータ用端子台7を通してサブヒータ6に電流を
流すことにより、この炉芯管内の温度差を調整し、均一
にすることができる。従って炉芯管2内で熱処理される
半導体基板の温度は、上部及び下部共均−になるため、
例えば、半導体基板表面に形成される酸化膜の厚さは一
定となる。
第2図は本発明の第2の実施例の断面図である。
上部の断熱材3の内部に耐熱材で作られた空冷管8が挿
入されており、この中に空気を流す事により上部のみを
強制的に空冷できるようになっている。その結果炉芯管
内の上下間での温度の均一を図る事が出来る。
尚、上記実施例においては、サブヒータまたは冷却管を
単独に用いた場合について説明したが、−緒に用いても
よい。またサブヒータや冷却管は複数をあってもよいこ
とは勿論である。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、横型の拡散炉内に、炉芯
管内の上下方向における温度差を調整するためのサブヒ
ータまたは冷却管を設けることにより、炉芯管内の上下
方向の温度を均一にすることができる。従って半導体基
板の処理もばらつきなく行うことができるため、炉芯管
内の温度差に起因する酸化膜の厚さのばらつきや特性の
ばらつきをなくすことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)、(b)は本発明の第1の実施例の一部切
り欠き正面図及びA−A’線断面図、第2図は本発明の
第2の実施例の断面図である。 1・・・メインヒータ、2・・・炉芯管、3・・・断熱
材、4・・・外筒、5・・・メインヒータ用端子台、7
・・・サブヒータ用端子台、8・・・空冷管。 j′メインヒータ 2−、F見管 3 断熱材 4外間 メインヒータ用端子台 サブヒータ ツブじ一夕用禍子色 空冷管

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 外筒の内部に順次設けられた断熱材層とヒータと炉芯管
    とを有する横型拡散炉において、前記外筒の内部に炉芯
    管内の上下方向における温度差を調整するためのサブヒ
    ータまたは冷却管を設けたことを特徴とする横型拡散炉
JP29140488A 1988-11-17 1988-11-17 横型拡散炉 Pending JPH02137221A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29140488A JPH02137221A (ja) 1988-11-17 1988-11-17 横型拡散炉

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29140488A JPH02137221A (ja) 1988-11-17 1988-11-17 横型拡散炉

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02137221A true JPH02137221A (ja) 1990-05-25

Family

ID=17768457

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29140488A Pending JPH02137221A (ja) 1988-11-17 1988-11-17 横型拡散炉

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02137221A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5603772A (en) * 1994-08-16 1997-02-18 Nec Corporation Furnace equipped with independently controllable heater elements for uniformly heating semiconductor wafers

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5603772A (en) * 1994-08-16 1997-02-18 Nec Corporation Furnace equipped with independently controllable heater elements for uniformly heating semiconductor wafers

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