JPH02137221A - 横型拡散炉 - Google Patents
横型拡散炉Info
- Publication number
- JPH02137221A JPH02137221A JP29140488A JP29140488A JPH02137221A JP H02137221 A JPH02137221 A JP H02137221A JP 29140488 A JP29140488 A JP 29140488A JP 29140488 A JP29140488 A JP 29140488A JP H02137221 A JPH02137221 A JP H02137221A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core tube
- heater
- temperature
- sub
- horizontal diffusion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 8
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 description 1
- 239000012774 insulation material Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置の製造工程で用いられる横型拡散炉
に関する。
に関する。
従来、この種の横型拡散炉に於ては、炉芯管内の横方向
に温度差を設け、その調整をすることができる機構とな
っているが、炉芯管内の上下方向での温度差を調整出来
る様な構造にはなっていなかった。
に温度差を設け、その調整をすることができる機構とな
っているが、炉芯管内の上下方向での温度差を調整出来
る様な構造にはなっていなかった。
上述した従来の横型拡散炉は、炉芯管内の上下方向の温
度差を調整出来る構造になっていないなめ、半導体基板
を熱処理する際に、半導体基板の上部と下部に温度差を
生じていた。このため、半導体基板の面内における酸化
膜の厚さにばらつきが生じたりし、半導体装置の特性に
大きなばらつきを生ずるという欠点があった。
度差を調整出来る構造になっていないなめ、半導体基板
を熱処理する際に、半導体基板の上部と下部に温度差を
生じていた。このため、半導体基板の面内における酸化
膜の厚さにばらつきが生じたりし、半導体装置の特性に
大きなばらつきを生ずるという欠点があった。
本発明の目的は、炉芯管内の上下方向における温度を均
一にすることができる横型拡散炉を提供することにある
。
一にすることができる横型拡散炉を提供することにある
。
本発明の横型拡散炉は、外筒の内部に順次設けられた断
熱材層とヒータと炉芯管とを有する横型拡散炉であって
、前記外筒の内部に炉芯管内の上下方向における温度差
を調整するためのサブヒータまたは冷却管を設けたもの
である。
熱材層とヒータと炉芯管とを有する横型拡散炉であって
、前記外筒の内部に炉芯管内の上下方向における温度差
を調整するためのサブヒータまたは冷却管を設けたもの
である。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第1図(a)、(b)は本発明の第1の実施例の一部切
り欠き正面図及びA−A’線断面図である。
り欠き正面図及びA−A’線断面図である。
第1図(a)、(b)において、横型拡散炉は外筒4と
その内部に順次設けられた断熱材3とスパイラル状に回
かれたメインヒータ1及び炉芯管2とから主に構成され
ている。そして特にメインヒータ1の下部にはサブヒー
タ6が設けられている。
その内部に順次設けられた断熱材3とスパイラル状に回
かれたメインヒータ1及び炉芯管2とから主に構成され
ている。そして特にメインヒータ1の下部にはサブヒー
タ6が設けられている。
このように構成された第1の実施例によれば、メインヒ
ータ用端子台5を通してメインヒータ1に電流を流して
加熱した場合、炉芯管内の上下方向に温度差を生じるが
、サブヒータ用端子台7を通してサブヒータ6に電流を
流すことにより、この炉芯管内の温度差を調整し、均一
にすることができる。従って炉芯管2内で熱処理される
半導体基板の温度は、上部及び下部共均−になるため、
例えば、半導体基板表面に形成される酸化膜の厚さは一
定となる。
ータ用端子台5を通してメインヒータ1に電流を流して
加熱した場合、炉芯管内の上下方向に温度差を生じるが
、サブヒータ用端子台7を通してサブヒータ6に電流を
流すことにより、この炉芯管内の温度差を調整し、均一
にすることができる。従って炉芯管2内で熱処理される
半導体基板の温度は、上部及び下部共均−になるため、
例えば、半導体基板表面に形成される酸化膜の厚さは一
定となる。
第2図は本発明の第2の実施例の断面図である。
上部の断熱材3の内部に耐熱材で作られた空冷管8が挿
入されており、この中に空気を流す事により上部のみを
強制的に空冷できるようになっている。その結果炉芯管
内の上下間での温度の均一を図る事が出来る。
入されており、この中に空気を流す事により上部のみを
強制的に空冷できるようになっている。その結果炉芯管
内の上下間での温度の均一を図る事が出来る。
尚、上記実施例においては、サブヒータまたは冷却管を
単独に用いた場合について説明したが、−緒に用いても
よい。またサブヒータや冷却管は複数をあってもよいこ
とは勿論である。
単独に用いた場合について説明したが、−緒に用いても
よい。またサブヒータや冷却管は複数をあってもよいこ
とは勿論である。
以上説明したように本発明は、横型の拡散炉内に、炉芯
管内の上下方向における温度差を調整するためのサブヒ
ータまたは冷却管を設けることにより、炉芯管内の上下
方向の温度を均一にすることができる。従って半導体基
板の処理もばらつきなく行うことができるため、炉芯管
内の温度差に起因する酸化膜の厚さのばらつきや特性の
ばらつきをなくすことができる。
管内の上下方向における温度差を調整するためのサブヒ
ータまたは冷却管を設けることにより、炉芯管内の上下
方向の温度を均一にすることができる。従って半導体基
板の処理もばらつきなく行うことができるため、炉芯管
内の温度差に起因する酸化膜の厚さのばらつきや特性の
ばらつきをなくすことができる。
第1図(a)、(b)は本発明の第1の実施例の一部切
り欠き正面図及びA−A’線断面図、第2図は本発明の
第2の実施例の断面図である。 1・・・メインヒータ、2・・・炉芯管、3・・・断熱
材、4・・・外筒、5・・・メインヒータ用端子台、7
・・・サブヒータ用端子台、8・・・空冷管。 j′メインヒータ 2−、F見管 3 断熱材 4外間 メインヒータ用端子台 サブヒータ ツブじ一夕用禍子色 空冷管
り欠き正面図及びA−A’線断面図、第2図は本発明の
第2の実施例の断面図である。 1・・・メインヒータ、2・・・炉芯管、3・・・断熱
材、4・・・外筒、5・・・メインヒータ用端子台、7
・・・サブヒータ用端子台、8・・・空冷管。 j′メインヒータ 2−、F見管 3 断熱材 4外間 メインヒータ用端子台 サブヒータ ツブじ一夕用禍子色 空冷管
Claims (1)
- 外筒の内部に順次設けられた断熱材層とヒータと炉芯管
とを有する横型拡散炉において、前記外筒の内部に炉芯
管内の上下方向における温度差を調整するためのサブヒ
ータまたは冷却管を設けたことを特徴とする横型拡散炉
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29140488A JPH02137221A (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | 横型拡散炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29140488A JPH02137221A (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | 横型拡散炉 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02137221A true JPH02137221A (ja) | 1990-05-25 |
Family
ID=17768457
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29140488A Pending JPH02137221A (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | 横型拡散炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02137221A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5603772A (en) * | 1994-08-16 | 1997-02-18 | Nec Corporation | Furnace equipped with independently controllable heater elements for uniformly heating semiconductor wafers |
-
1988
- 1988-11-17 JP JP29140488A patent/JPH02137221A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5603772A (en) * | 1994-08-16 | 1997-02-18 | Nec Corporation | Furnace equipped with independently controllable heater elements for uniformly heating semiconductor wafers |
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