JPH0212939A - Semiconductor wafer transport equipment - Google Patents
Semiconductor wafer transport equipmentInfo
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- JPH0212939A JPH0212939A JP63163857A JP16385788A JPH0212939A JP H0212939 A JPH0212939 A JP H0212939A JP 63163857 A JP63163857 A JP 63163857A JP 16385788 A JP16385788 A JP 16385788A JP H0212939 A JPH0212939 A JP H0212939A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレジストのスピンコーティングを行なうため半
導体ウェーハを回転ステージ上に搬送する装置に係り、
特に半導体ウェーハの重心を回転ステージの回転中心に
一致させることが可能な搬送装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an apparatus for transporting a semiconductor wafer onto a rotating stage for spin coating of resist.
In particular, the present invention relates to a transfer device capable of aligning the center of gravity of a semiconductor wafer with the center of rotation of a rotary stage.
半導体装置の製造では、半導体ウェーハ上にレジストを
塗布する工程を複数行なう必要があり、ウェーハカセッ
トから取り出された半導体ウェーハをスピンコードのた
めの回転ステージに搬送する搬送装置が製造ラインに組
み込まれている。従来の搬送装置は、半導体ウェーハを
回転ステージ近辺まで搬送する搬送ベルトと、搬送され
た半導体ウェー八を搬送ベルトから取り出して回転ステ
ージ上に移し替える移替部材とを備えている。この搬送
装置の作動は、搬送ベルトで搬送された半導体ウェーハ
を持ち上げ位置で停止させ、次に移替部材が半導体ウェ
ーハを搬送ベルトから取り出して回転ステージ上に移し
替えるように行なわれる。回転ステージへの移し替えは
回転ステージの回転中心と半導体ウェーへの中心とが一
致するように行なわれており、回転ステージはこのよう
にして移し替えられた半導体ウェーハを真空吸引などに
よってチャッキングして高速回転し、レジストのスピン
コードが行なわれる。In the manufacturing of semiconductor devices, it is necessary to perform multiple steps to apply resist onto semiconductor wafers, and a transport device that transports the semiconductor wafer taken out of the wafer cassette to a rotation stage for spin cording is incorporated into the manufacturing line. There is. A conventional transport device includes a transport belt that transports a semiconductor wafer to the vicinity of a rotation stage, and a transfer member that takes out the transported semiconductor wafer from the transport belt and transfers it onto the rotation stage. The operation of this transport device is such that the semiconductor wafer transported by the transport belt is stopped at a lifted position, and then the transfer member takes out the semiconductor wafer from the transport belt and transfers it onto the rotating stage. The transfer to the rotating stage is performed so that the center of rotation of the rotating stage and the center of the semiconductor wafer coincide, and the rotating stage chucks the semiconductor wafer thus transferred by vacuum suction or the like. The resist is rotated at high speed, and the resist is spin-coded.
ところで、半導体ウェーハには一般にオリニーテンショ
ンフラットが形成されており、このような場合には、オ
リニーテンションフラットから削除された部分により重
心の偏位が生じる。第2図はこのようなオリニーテンシ
ョンフラット31が形成された半導体ウェーハ30を示
し、円としての中心WCに対して重心Gcはオリニーテ
ンションフラット31と反対側に移動している。このよ
うな重心Gcと円中心Weとがずれた半導体ウェーハに
スピンコードを行なう場合、従来装置では回転ステージ
の回転中心に半導体ウエーノ\の円中心Wcを一致させ
るため、回転ステージの回転中心に半導体ウェーハの重
心が一致せず回転が不安定となる。これによりレジスト
が均一に拡散せず、レジスト膜の膜厚が不均一となる。Incidentally, a semiconductor wafer generally has an orientation tension flat formed therein, and in such a case, the center of gravity shifts due to the portion removed from the orientation tension flat. FIG. 2 shows a semiconductor wafer 30 on which such an ori-nee tension flat 31 is formed, and the center of gravity Gc has moved to the opposite side of the ori-nee tension flat 31 with respect to the center WC of a circle. When spin coding is performed on a semiconductor wafer in which the center of gravity Gc and the circle center We are misaligned, in conventional equipment, in order to align the circle center Wc of the semiconductor wafer with the rotation center of the rotation stage, the semiconductor wafer is aligned with the rotation center of the rotation stage. The centers of gravity of the wafers do not match and rotation becomes unstable. As a result, the resist is not uniformly diffused, and the thickness of the resist film becomes non-uniform.
そこで本発明は、回転ステージの安定した回転を行なう
ため、回転ステージの回転中心に半導体ウェーハの重心
を一致させるように搬送することが可能な半導体ウェー
ハの搬送装置を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor wafer transport device that can transport a semiconductor wafer so that the center of gravity of the semiconductor wafer coincides with the center of rotation of the rotary stage in order to ensure stable rotation of the rotary stage.
本発明に係る半導体ウェーハの搬送装置は、半導体ウェ
ーハを所定の持ち上げ位置まで搬送する搬送手段と、半
導体ウェーハの重力を受ける少なくとも3の圧力センサ
を有し、持ち上げ位置で半導体ウェーハの持ち上げおよ
び引き下ろしを行なうと共に、圧力センサの重力情報に
基いて持ち上げ中心が半導体ウェーハの重心と一致する
ように3次元方向に移動制御される重心検出手段と、重
心が検出された半導体ウェーハを持ち上げ位置から取り
出して回転ステージの回転中心に半導体ウェーハの重心
を一致させるように移し替える移替手段とを備えている
ことを特徴とする。A semiconductor wafer transport device according to the present invention includes a transport means for transporting a semiconductor wafer to a predetermined lifting position, and at least three pressure sensors that receive the gravity of the semiconductor wafer, and lifts and lowers the semiconductor wafer at the lifting position. At the same time, the center of gravity detection means is controlled to move in a three-dimensional direction so that the lifting center coincides with the center of gravity of the semiconductor wafer based on gravity information from the pressure sensor, and the semiconductor wafer whose center of gravity has been detected is removed from the lifted position and rotated. The present invention is characterized by comprising a transfer means for transferring the semiconductor wafer so that the center of gravity of the semiconductor wafer coincides with the center of rotation of the stage.
本発明に係る搬送装置は、以上の通りに構成されるので
、圧力センサの情報に基いて3次元方向に移動する重心
検出手段は、その持ち上げ中心と半導体ウェーハの重心
との一致を図り、移替手段は検出された半導体ウェーハ
の重心を回転ステージの回転中心と一致させるように作
用する。Since the transfer device according to the present invention is configured as described above, the center of gravity detection means that moves in three-dimensional directions based on information from the pressure sensor aligns the lifting center with the center of gravity of the semiconductor wafer and transfers it. The alternative means operates to align the detected center of gravity of the semiconductor wafer with the center of rotation of the rotation stage.
以下、本発明を添付図面に基いて詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be explained in detail based on the accompanying drawings.
第1図は本発明の実施例に係る搬送装置の斜視図を示す
。ウェーハカセット(図示せず)から取り出された半導
体ウェーハ30を搬送する搬送手段1と、搬送手段1の
終端付近に設けられた高速回転によってレジストのスピ
ンコーティングを行なう回転ステージ2と、半導体ウェ
ーハ30の重心を検出する重心検出手段4と、半導体ウ
ェーハ30を回転ステージ2上に移し替える手段5を備
えて構成される。FIG. 1 shows a perspective view of a conveying device according to an embodiment of the present invention. A transport means 1 transports a semiconductor wafer 30 taken out from a wafer cassette (not shown), a rotation stage 2 provided near the end of the transport means 1 and performs resist spin coating by high-speed rotation, and a rotation stage 2 for performing resist spin coating on the semiconductor wafer 30 It is configured to include center of gravity detection means 4 for detecting the center of gravity, and means 5 for transferring the semiconductor wafer 30 onto the rotation stage 2.
搬送手段1はプーリ11に掛は渡された平行な2本の無
端状の搬送ベルト12を備え、モータ(図示せず)の駆
動により半導体ウェーハ30を搬送する。この搬送は、
後述するように持ち上げ位置となる重心検出手段4の上
方に半導体ウェーハ30が達するまで行なわれ、持ち上
げ位置で半導体ウェーハ30の搬送は停止する。このた
め搬送ベルト12の上方には適宜のストッパ(図示せず
)が設けられ、半導体ウェーハ30はストッパに当接し
て搬送が停止されるようになっている。The conveying means 1 includes two parallel endless conveyor belts 12 that are passed around pulleys 11, and conveys the semiconductor wafer 30 by driving a motor (not shown). This transportation is
As will be described later, the conveyance of the semiconductor wafer 30 is continued until the semiconductor wafer 30 reaches above the center of gravity detecting means 4, which is the lifting position, and the transport of the semiconductor wafer 30 is stopped at the lifting position. For this purpose, an appropriate stopper (not shown) is provided above the conveyor belt 12, and the semiconductor wafer 30 comes into contact with the stopper to stop the conveyance.
なお、2本の搬送ベルト12は同一の速度で走行するよ
うに駆動され、搬送中における半導体つ工−ハ30の旋
回を防止している。The two conveyor belts 12 are driven to run at the same speed to prevent the semiconductor tool 30 from turning during conveyance.
回転ステージ2は回転軸21と、回転軸21上に取り付
けられた回転盤22を備える。回転盤22は半導体ウェ
ーハ30を真空吸着などによってチャッキングして半導
体ウェーハ30を高速回転させるものであり、その上方
にはレジストを滴下するレジストノズル(図示せず)が
設けられている。半導体ウェーハ30はこの回転盤22
上でレジストが滴下され、高速回転されることでレジス
トが拡散して全面にレジスト膜が形成される。The rotation stage 2 includes a rotation shaft 21 and a rotation disk 22 mounted on the rotation shaft 21. The rotary disk 22 chucks the semiconductor wafer 30 by vacuum suction or the like and rotates the semiconductor wafer 30 at high speed, and is provided above it with a resist nozzle (not shown) for dropping resist. The semiconductor wafer 30 is placed on this rotary disk 22.
Resist is dropped onto the surface and rotated at high speed to diffuse the resist and form a resist film over the entire surface.
ここで、回転盤22には3本のピン23が突出されてい
るが、このピン23は半導体ウェーハ30の載置で回転
盤30内に引き込むように作動するものである。Here, three pins 23 are protruded from the rotary disk 22, and these pins 23 operate so as to be pulled into the rotary disk 30 when the semiconductor wafer 30 is placed thereon.
重心検出手段4は移動軸41と、同軸41に支承された
持ち上げ体42を備え、2本の搬送ベルト12の間に位
置するように設けられる。この重心検出手段4は前述の
ストッパによつて搬送を停止させられた半導体ウェーハ
30を搬送ベルト12から持ち上げると共に、持ち上げ
た状態から搬送ベルト12上に引き下げるように上下動
する。The center of gravity detection means 4 includes a moving shaft 41 and a lifting body 42 supported on the same shaft 41, and is located between the two conveyor belts 12. The center of gravity detecting means 4 lifts the semiconductor wafer 30 whose conveyance has been stopped by the stopper described above from the conveyor belt 12, and also moves up and down so as to lower it onto the conveyor belt 12 from the lifted state.
さらに、重心検出手段4は搬送ベルト12内で前後およ
び左右方向に移動するように制御されており、半導体ウ
ェーハ30に対する相対的な変位を行なう。この変位は
半導体ウェーハ30の重心に持ち上げ中心が一致するよ
うに制御されるものであり、これにより半導体ウェー八
30の重心の検出を行なう。Further, the center of gravity detecting means 4 is controlled to move in the front and rear and left and right directions within the conveyor belt 12, and performs relative displacement with respect to the semiconductor wafer 30. This displacement is controlled so that the lifting center coincides with the center of gravity of the semiconductor wafer 30, thereby detecting the center of gravity of the semiconductor wafer 30.
符号43は持ち上げ体42の上面に設けられた圧電セン
サなどの圧力センサである。この圧力センサ43は正三
角形の各頂点に位置するように等間隔で持ち上げ体42
の上に配設されており、持ち上げ体42の上昇で半導体
ウェーハ30の重力を受け、この重力情報を電気信号な
どに変換して出力する。移動軸41はこの圧力センサ4
3からの重力情報に基いて、その持ち上げ中心が半導体
ウェーハ30の重心と一致するように変位する。Reference numeral 43 indicates a pressure sensor such as a piezoelectric sensor provided on the upper surface of the lifting body 42. This pressure sensor 43 is placed on the lifting body 42 at equal intervals so as to be located at each vertex of an equilateral triangle.
When the lifting body 42 rises, the gravitational force of the semiconductor wafer 30 is applied, and this gravitational information is converted into an electrical signal and output. The moving axis 41 is connected to this pressure sensor 4.
Based on the gravity information from 3, the lifting center is displaced to coincide with the center of gravity of the semiconductor wafer 30.
このため、各圧力センサ43は演算装置(図示せず)に
接続されると共に、移動軸41はその駆動源(図示せず
)が移動制御装置(図示せず)に接続される。このよう
な構成では、演算装置は各圧力センサ43からの重力情
報が入力され、全ての圧力センサ43の重力値が等しく
なるように移動軸41の移動方向およびその距離を算出
して制御装置に出力する。移動制御手段はその情報に基
いて移動軸41を前後または左右方向に移動制御するよ
うになついる。なお、かかる移動軸41による変位動作
を複数回行なう必要がある場合には、1回目の変位の終
了の後、移動軸41が下降して半導体ウェー八30を搬
送ベルト12上に載置して圧力センサ43の押圧を解除
し、その後上昇して半導体ウェーハ30を再び持ち上げ
て重力の検出を行ない、これらの動作を繰り返すように
駆動される。Therefore, each pressure sensor 43 is connected to a calculation device (not shown), and the drive source (not shown) of the moving shaft 41 is connected to a movement control device (not shown). In such a configuration, the calculation device receives gravity information from each pressure sensor 43, calculates the moving direction and distance of the moving axis 41 so that the gravity values of all pressure sensors 43 are equal, and sends the calculation device to the control device. Output. The movement control means controls the movement of the movement shaft 41 in the front and rear or left and right directions based on the information. Note that if it is necessary to perform the displacement operation by the moving shaft 41 multiple times, after the first displacement is completed, the moving shaft 41 is lowered to place the semiconductor wafer 30 on the conveyor belt 12. The device is driven to release the pressure on the pressure sensor 43, then rise, lift the semiconductor wafer 30 again, detect gravity, and repeat these operations.
移替手段5は2本の平行なフォーク51と、このフォー
ク51を駆動する駆動源(図示せず)を備える。フォー
ク51は重心が検出された半導体ウェーハ30を持上げ
体42から回転ステージ2に移し替えるように作動する
。従って、フォーク51は重心検出手段4による重心検
出中は搬送ベルト12から退避しており、重心検出後に
搬送ベルト12の方向に進出して持ち上げ体42上の半
導体ウェーハ30を下面から持ち上げる。そして、回転
ステージ2方向に水平移動し、検出された半導体ウェー
ハ30の重心を回転ステージ2の回転中心と一致させて
から、回転ステージ2上に半導体ウェー八30を移し替
えるようになっている。The transfer means 5 includes two parallel forks 51 and a drive source (not shown) for driving the forks 51. The fork 51 operates to transfer the semiconductor wafer 30 whose center of gravity has been detected from the lifting body 42 to the rotation stage 2. Therefore, the fork 51 is retracted from the conveyor belt 12 while the center of gravity is being detected by the center of gravity detecting means 4, and after the center of gravity is detected, it advances in the direction of the conveyor belt 12 and lifts the semiconductor wafer 30 on the lifting body 42 from below. Then, the semiconductor wafer 30 is moved horizontally in the direction of the rotary stage 2 to align the detected center of gravity of the semiconductor wafer 30 with the center of rotation of the rotary stage 2, and then the semiconductor wafer 30 is transferred onto the rotary stage 2.
次に、上記実施例の作動を説明する。Next, the operation of the above embodiment will be explained.
搬送手段1により半導体ウェーハ30が持ち上げ位置、
すなわち重心検出手段4の直上に搬送されると、ストッ
パによって半導体ウェー八30の搬送が停止する。次に
、重心検出手段4は第1回目の上昇を行なって半導体ウ
ェーハ30を持ち上げる。これにより、各圧力センサ4
3は半導体ウェーハ30の重力を受け、その情報を演算
装置に出力する。演算装置では各圧力センサ43の重力
値が一致するように重心検出手段4の変位方向および変
位量を算出して移動制御装置に出力する。The semiconductor wafer 30 is lifted up by the transport means 1,
That is, when the semiconductor wafer 30 is transported directly above the center of gravity detection means 4, the transport of the semiconductor wafer 30 is stopped by the stopper. Next, the center of gravity detection means 4 performs a first lift and lifts up the semiconductor wafer 30. As a result, each pressure sensor 4
3 receives the gravity of the semiconductor wafer 30 and outputs the information to the arithmetic device. The arithmetic device calculates the direction and amount of displacement of the center of gravity detection means 4 so that the gravity values of the pressure sensors 43 match, and outputs them to the movement control device.
一方、重心検出手段4は下降して半導体ウェーハ30を
搬送ベルト上に載置して待機状態となっている。移動制
御手段は演算装置からの変位方向および変位量に基いて
待機状態の重心検出手段4を移動制御した後、重心検出
手段4を再び上昇させ、重力検出手段4は半導体ウェー
ハ30を持ち上げる。これにより、各圧力センサ43は
半導体ウェーハ30の重力を検出し、演算装置に出力す
る。On the other hand, the center of gravity detecting means 4 is lowered to place the semiconductor wafer 30 on the conveyor belt and is in a standby state. The movement control means controls the movement of the center of gravity detection means 4 in a standby state based on the direction and amount of displacement from the arithmetic device, and then raises the center of gravity detection means 4 again, and the gravity detection means 4 lifts up the semiconductor wafer 30. Thereby, each pressure sensor 43 detects the gravity of the semiconductor wafer 30 and outputs it to the arithmetic device.
この重力値が全て等しい場合には、重力検出手段4の持
ち上げ中心と半導体ウェーハ30の重心とが一致した状
態である。また、重力値が異なる場合には重心検出手段
4の持ち上げ中心と半導体ウェーハ30の重心とが不一
致の状態であり、前述の変位動作を繰り返して、これら
の一致を行なう。そして、これらの一致が行なわれた後
、移替手段5はこの半導体ウェー八30を重力検出手段
4から取り出し、半導体ウェー八30の重心と回転ステ
ージ2の回転中心とが一致するように半導体ウェー八3
0を回転ステージ2に移し替える。If these gravity values are all equal, the center of lifting of the gravity detection means 4 and the center of gravity of the semiconductor wafer 30 are in alignment. If the gravity values are different, the lifting center of the center of gravity detection means 4 and the center of gravity of the semiconductor wafer 30 do not match, and the above-described displacement operation is repeated to make them coincide. After these coincidences have been made, the transfer means 5 takes out the semiconductor wafer 30 from the gravity detection means 4 and moves the semiconductor wafer so that the center of gravity of the semiconductor wafer 30 and the center of rotation of the rotation stage 2 coincide. 83
0 to rotation stage 2.
従って、回転ステージ2が高速回転しても、安定した回
転を確保できるため、レジストの均一なスピンコードが
可能であり、また、半導体ウェーハ30は回転ステージ
上に安定してチャッキングされる。Therefore, even if the rotation stage 2 rotates at high speed, stable rotation can be ensured, so that a uniform spin code of the resist is possible, and the semiconductor wafer 30 can be stably chucked onto the rotation stage.
本発明は上記実施例に限定されるものではなく、種々の
変形が可能である。The present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications are possible.
例えば、搬送手段としてローラコンベア、ベルトコンベ
アなどを使用しても良く、移替手段として真空吸着力で
半導体ウェーハを移し替えるようにしても良い。また、
圧力センサを4個以上設けても良い。For example, a roller conveyor, a belt conveyor, etc. may be used as the conveyance means, and the semiconductor wafer may be transferred using vacuum suction force as the transfer means. Also,
Four or more pressure sensors may be provided.
以上、詳細に説明したように本発明によれば、半導体ウ
ェーへの重心を検出し、この重心を回転ステージの回転
中心と一致させるように移し替えるので、円滑且つ安定
した高速回転が可能となり、均一な膜厚のレジスト膜を
形成することができる。As described above in detail, according to the present invention, the center of gravity of the semiconductor wafer is detected and the center of gravity is moved to match the center of rotation of the rotation stage, so that smooth and stable high-speed rotation is possible. A resist film with a uniform thickness can be formed.
第1図は、本発明一実施例に係る搬送装置を示す斜視図
、第2図は、半導体ウェーハの一例を示す平面図である
。
1・・・搬送手段、2・・・回転ステージ、4・・・重
心検出手段、5・・・移替手段、30・・・半導体ウェ
ーハ、43・・・圧力センサ。FIG. 1 is a perspective view showing a transfer device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a plan view showing an example of a semiconductor wafer. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Conveyance means, 2... Rotation stage, 4... Center of gravity detection means, 5... Transfer means, 30... Semiconductor wafer, 43... Pressure sensor.
Claims (1)
手段と、 前記半導体ウェーハの重力を受ける少なくとも3の圧力
センサを有し、前記持ち上げ位置で前記半導体ウェーハ
の持ち上げおよび引き下ろしを行なうと共に、前記圧力
センサの重力情報に基いて持ち上げ中心が前記半導体ウ
ェーハの重心と一致するように3次元方向に移動制御さ
れる重心検出手段と、 重心が検出された前記半導体ウェーハを前記持ち上げ位
置から取り出して回転ステージの回転中心に半導体ウェ
ーハの重心を一致させるように移し替える移替手段と を備えていることを特徴とする半導体ウェーハの搬送装
置。[Scope of Claims] A transport means for transporting a semiconductor wafer to a predetermined lifting position; and at least three pressure sensors that receive the gravity of the semiconductor wafer, and lifting and lowering the semiconductor wafer at the lifting position and , a center of gravity detection means whose movement is controlled in a three-dimensional direction so that the lifting center coincides with the center of gravity of the semiconductor wafer based on gravity information from the pressure sensor; and removing the semiconductor wafer whose center of gravity has been detected from the lifting position. and a transfer means for transferring the semiconductor wafer so that the center of gravity of the semiconductor wafer coincides with the center of rotation of the rotation stage.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63163857A JPH0212939A (en) | 1988-06-30 | 1988-06-30 | Semiconductor wafer transport equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63163857A JPH0212939A (en) | 1988-06-30 | 1988-06-30 | Semiconductor wafer transport equipment |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0212939A true JPH0212939A (en) | 1990-01-17 |
Family
ID=15782075
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63163857A Pending JPH0212939A (en) | 1988-06-30 | 1988-06-30 | Semiconductor wafer transport equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0212939A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6123502A (en) * | 1997-07-08 | 2000-09-26 | Brooks Automation, Inc. | Substrate holder having vacuum holding and gravity holding |
CN103921548A (en) * | 2013-01-15 | 2014-07-16 | 神讯电脑(昆山)有限公司 | Automatic detecting device for double slices |
JP2017059747A (en) * | 2015-09-18 | 2017-03-23 | 株式会社東芝 | Manufacturing apparatus |
-
1988
- 1988-06-30 JP JP63163857A patent/JPH0212939A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6123502A (en) * | 1997-07-08 | 2000-09-26 | Brooks Automation, Inc. | Substrate holder having vacuum holding and gravity holding |
CN103921548A (en) * | 2013-01-15 | 2014-07-16 | 神讯电脑(昆山)有限公司 | Automatic detecting device for double slices |
JP2017059747A (en) * | 2015-09-18 | 2017-03-23 | 株式会社東芝 | Manufacturing apparatus |
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