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JPH02118064A - 真空蒸着装置 - Google Patents

真空蒸着装置

Info

Publication number
JPH02118064A
JPH02118064A JP26949388A JP26949388A JPH02118064A JP H02118064 A JPH02118064 A JP H02118064A JP 26949388 A JP26949388 A JP 26949388A JP 26949388 A JP26949388 A JP 26949388A JP H02118064 A JPH02118064 A JP H02118064A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum
deposition chamber
crucible
aluminum
vapor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP26949388A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshio Taguchi
田口 俊夫
Hajime Okita
沖田 肇
Heizaburo Furukawa
古川 平三郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP26949388A priority Critical patent/JPH02118064A/ja
Publication of JPH02118064A publication Critical patent/JPH02118064A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/246Replenishment of source material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は、プラスチックフィルム例えばポリエステル等
のフィルムにアルミニウム等の金属あるいはセラミック
ス等の非金属を蒸着する真空蒸着装置や、プラスチック
以外の各種の非金属材料または金°属材料に金属材料ま
たは非金属材料を蒸着する真空蒸着装置に関する。
〔従来の技術] 第3図は、プラス千ツクフィルムにアルミニウムを蒸着
する従来の真空蒸着装置の一例を示す。
隔板りで仕切られた上室「と下室(蒸着室)gとからな
る真空槽aの中で、コイル状に巻いたフィルムbを巻出
glcから繰出しながら、下室gのるつぼjから原発す
るアルミニウム蒸気を冷却ロール(蒸着ロール)1部で
蒸着し、巻取機eで巻取る。lコイルの蒸着が完了する
と真空槽dを大気に開放し、コイル状に巻かれた新しい
フィルノ、bを装着し替えた移・、再度ポンプに、  
ffiで真空に排気して蒸着する作業を行なう。るつぼ
j内のアルミニウムは、1回に消費する盟が約1kg程
度であり連続供給を行う必要はないが、大気開放時には
、るつぼjの破1員防止のため、その都度排出し、るつ
ぼj内の手入れを行った後、新しいアルミニウムを装填
する。このように、第3図の真空痕着装置による蒸着作
業は、フィルムの装着、るつぼの手入れ、新しい蒸着材
の装填、真空引き、加熱、走行、蒸着、大気開放を繰返
すパンチ作業となるので、極めて非能率的であった。
そこで、本発明の発明者らは、さきに、連続真空蒸着装
置に用いて好適な、第4図に示される真空シール装置を
発明し、特願昭62−271923号として特許出願し
た。これは前記第3図で説明したと同様の蒸着室(2)
の上方に設けられ、フィルム(1)を大気中から連続し
て真空中に供給する差圧システムであって、3本11J
Iのシールロール(S−1a) 、 (S2a)(S3
a) ; (Slb) 、 (S2b) 、 (S3b
) : (Slc) 、 (S2c) 、 (S3c)
 ;と隔壁(S4a) 、 (S4b) 、 (S4c
) ニーによって仕切られる複数の差圧室(2a) 、
 (2b) 、 (2c) +  を有し、それら差圧
室(2a)、(2b)、(2c)、−に接続された排気
ポンプユニット(10a) 、 (lob) 、 (1
0c) 、−により、大気圧側から蒸着室(2)に至る
まで段階的に圧力勾配を発生させ、蒸着室(2)を所定
の真空度に保つものである。
そして、上記3本のシールロールが形成する2か所のロ
ール間隙のうらlか所に大気中から真空の蒸着室(2)
へ向かうフィルム(1)を通し、もう1か所には蒸着室
(2)から大気中へ向かうフィルムを通すことによって
、入側シール装置と出側シール装置とを一体化する。即
ち、1組3本のシールロルのうち、第10−ル(Sla
) 、 (Slb) 、 (Slc) 、−と第20−
ル(S2a) 、 (S2b) 、 (S2c) 、−
との隙間に大気圧側から真空側へ走行するフィルム(1
)を通過させ、第20−ル(S2a) 、 (S2b)
 、 (S2c) 、−と第30−ル(S3a) 、 
(S3b) 、 (S3c) 、−との隙間に真空側か
ら大気圧側へ逆行するフィルムを通過させるような、シ
ールロールの組を複数組、間隙をへだでて配設し、それ
らの組の間が差圧室(2a) 、 (2b) 、 (2
c) 、 −を形成しているのである。
上記真空ソール装置においては、第20−ル(S2a)
 、 (S2b) 、 (S2c) 、−−を入側と出
側とで兼用するので、ロール数が少なくてすみ、またロ
ール間隙の数も少なくなって、シール性能が向上する。
したがって排気系の容量を大幅に低減することができ、
併せてシール装置のコンパクト化とコスト低減を達成で
きる。
なお第4図中(3)は冷却ロール(M着ロール)、(5
)は蒸着材を収納するるつぼである。
〔発明が解決しようとする課題〕
前記第4図に示された連続真空蒸着装置では、前記第3
図に示されたパンチ式の真空蒸着装置と比較して、1回
の運転で処理するプラスチックフィルムの量が300倍
程度となり、同時に消費するアルミニウム等蒸着材の璽
も300 kgとなる。そこで、真空室内にアルミニウ
ムワイヤ等の連続供給装置を設け、真空室内で連続供給
を行なう方法も考えられるが、そのような方法では、 ■ 真空室が大型化する。
■ 真空室内の蒸着材供給装置が故障した場合には連続
具−空蒸着装置全体を停止しなければならない。また、
大気中でるつぼ内の蒸着材を排出すると、るつぼが70
0〜800°Cの温度で大気にさらされるため、るつぼ
が焼を具する。
等の問題があった。
本発明は、真空蒸着室を開放することなく、同1着室内
の展着材容器へ真空蒸着室外から蒸着材を供給したり、
逆に容器内の蒸着材を外部へ排出したりできるような、
真空蒸着装置を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、I)11記目的を達成するために、真空の1
若室内で蒸着材容器の蒸着材を基板に蒸着させるように
した真空蒸着装rにおいて、上記蒸着室の外部に気密性
の溶解槽を配置し、上記熔解槽を宙封したまま同溶解槽
内に蒸着材を供給する手段と上記溶解槽の内部を排気す
る手段と上記)容解槽を加熱する手段とを設けるととも
に、上記溶解槽の底部と上記蒸着材容器の底部とをサイ
ホン管ににより連通さゼたことを特徴とする真空蒸着装
置、および上記蒸着材容器を昇降させる手段を設けたこ
とを特徴とする真空蒸8装置を堤案するものである。
[作用〕 本発明においては、蒸着室の外に設けた溶解槽と蒸着室
との間に圧力差を付けることにより、蒸石室を開放する
ことなく、サイホン管を通して蒸着材を供給、排出する
ことができる。また、真空中でるつぼ(蒸着材容器)内
の蒸着材をfJl−出することができるため、高温(7
00〜800°C)の状態でるつぼを大気にさらすこと
が無くなる。
〔実施例] 第1図は本発明の一実施例を示す縦断側面Vである。本
実施例では、プラスチックのフィルムを蒸着基板とし、
これにアルミニウムを真空蒸着する場合について説明す
るが、本発明はこれに限らず、他の非金属あるいは金属
材料を蒸着基板とし、これらにアルミニウムその他の金
属あるいは非金属を蒸着する場合も、本実施例とほぼ同
様である。
第1図図示の真空蒸着装置において、コイル状のフィル
ム(1)はまず、大気中に置かれたアンコイラ(図示せ
ず)から払い出される0次に、シールロール(図示せず
)によって仕切られて順次高真空となるよう差動排気さ
れた複数の差圧室(図示せず)の中を通過し、真空の蒸
着室(2)に導入される。そして冷却ロール(蒸着ロー
ル)(3)に巻付き、この冷却ロール(3)を通過する
間に蒸着材容器(るつぼ)(5)から蒸発したアルミニ
ウムが基若される。
それから再度上記差圧室を通り、大気中に設けたコイラ
(巻取装置)(図示せず)に巻取られる。
蒸着室(2)内には、アルミニウム(4a)が入れられ
たるつぼ(5)の他、同るつぼ(5)を加熱するための
誘導加熱コイル(6)や、るつぼ(5)と蒸着室(2)
外部に配された真空溶解炉(8)とを連結するサイホン
管(7)の−部等が有る。
次に、真空溶解炉(8)について説明する。(9)は気
密性の溶解槽、(10)はバルブ(vl)を介して同溶
解槽(9)に接続された真空ポンプである。(11)は
アルミニウムベレット(4b)を貯めておくためのホッ
パであって、中間ホッパ(12)を介して、上記溶解槽
(9)の上部に接続されている。ホッパ(11)と中間
ホッパ(12)との間および中間ホッパ(12)と溶解
槽(9)との間には、真空シール機能とアルミニウムベ
レノ) (4b)の供給量を調節する機能とを持った上
部ダンパ(13a)および下部ダンパ(13b)が、そ
れぞれ設けられている。中間ホッパ(12)もバルブ(
ν2)を介して上記真空ポンプ(lO)に接続されてい
る。
(LV)は溶解槽(9)内の圧力を調節するためのリー
ク弁である。(I4)は溶解槽(9)およびその中のア
ルミニウム(4a)を加熱するためのヒータである。ン
容解漕(9)の底部は、前記サイホン管(7)によって
、前記るつぼ(5)の底部と連通している。
このような装置において、溶解槽(9)にアルミニウム
ベレット(4b)を供給するには、次のようにする。ま
ず下部ダンパ(13b)を閉じ、上部ダンパ(13a)
を開いて、中間ホッパ(12)内にアルミニウムベレッ
トを充填する。次に上部ダンパ(13a)を閉じ、バル
ブm)、(ν2)を開いて、真空ポンプ(lO)を作動
させる。リーク弁(LV)は当然閉じておく。中間ホッ
パ(12)内の圧力P、と溶解槽(9)内の圧力P2と
が等しくなったら、バルブ(v2)を閉し下部ダンパ(
13b)を開くと、中間ホッパ(12)内のアルミニウ
ムベレット(4b)が溶解槽(9)内に入る。
その後下部ダンパ(13b)を閉し上部ダンパ(13a
)を開(と、次のアルミニウムベレットがホッパ(11
)から中間ホッパ(12)に入る。以下同様に繰返され
る。溶解槽(9)内に入ったアルミニウムベレットはヒ
ータ(14)により加熱され溶融する。
次に溶融したアルミニウム(4a)をるつぼ(5)へ(
」(給する方、去を説明する。まず、るつぼ(5)に設
けたレベル計(図示せず)によりるつぼ(5)内のアル
ミニウム(4a)のレベルを検出し、これが所定のレベ
ル以ドになったならば、下部ダンパ(13b)およびバ
ルブ(vl)を閉しる。次にリーク弁(LV)を開いて
溶解槽(9)内の圧力P2を蒸着室(2)内の圧力P。
よりも1盲くすることにより、78人11アルミニウム
(4a)をナイホン管(7)を経てるつぼ(5)内に押
し流し、るつぼ(5)内のアルミニウム(4a)のレベ
ルを上げる。
そして上記レベル計で検出したアルミニウム(4a)の
レベルが所定値になったならば、リーク弁(1,ν)を
閉しバルブ(vl)を開いて、溶解槽(9)内の圧力P
2を下げ、るつぼ(5)へのアルミニうムの供給を停止
する。
るつは′(5)内のアルミニウム(4a)を溶解槽(9
)にtlF出する場合には、上記とは逆に蒸着室(2)
内の圧力P、を溶解槽(9)内の圧力P2よりも高くず
ればよ次に溶解槽(9)からるつぼ(5)へ熔融アルミ
ニウムを押し流すに必要な圧力差について述べる。アル
ミニウム液面からサイホン管最上部までの高さを!]、
アルミニウムの比重をγとすると、P2 Po=r−H 11を仮に0.2mとすると、r −2300kg /
 m ’だから、P z  P o=460kg/Il
”Po=1.o Xl0−’Torrとすると、P O
−0,0014kg/m1−0だから、 P z=460kg/ll”=33.8Torrすなわ
ち、P2を33..8Torr以上にすれば良いことに
なる。
上記のように、本実施例の装置を用いれば、蒸着室(2
)内の圧力を上昇させることなく、長時間にわたりるつ
ぼ(5)にアルミニウムを供給することが可能となる。
第2図には本発明の他の実施例を示す縦断側面図である
。本実施例は、るつぼ(5)および誘導加熱コイル(6
)の両方もしくはるつぼ(5)のみを昇降台(I5)に
乗せ、必要に応じ昇降させることによって、サイホン管
(7)の先端部が高温のアルミニウム(4a)に長時間
接触することのないようにしたものである。これにより
、サイホン管の先端部が高温のアルミニウムと反応して
破損することが防止される。
〔発明の効果] 本発明によれば、蒸着室を開放することなく、したがっ
て蒸着室内の圧力を上昇させることなく、長時間連続し
て、蒸着室内の蒸着材容器に蒸着材を供給することがで
きる。また、参看終了時には高温の蒸着材を真空中で蒸
着材容器から取出すことができるから、蒸着材容器の焼
損も防止できる。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図はいずれも本発明の実施例を示す縦
断側面図、第3図および第4図はいずれも従来の真空演
着装置の例を示す縦断側面図である。 (+)−フィルム、    (2)−・蒸着室、(3)
−冷却ロール(蒸着ロール)、 (4a)−アルミニウム、 アルミニウムペレット、 るつぼ(M着付容器)、 誘導加熱コイル、 (7) 真空溶解炉、   (9) 真空ポンプ、  (11) 中間ホッパ、  (13a) 下部ダンパ、 (14) 昇降台、 (v2)−バルブ、 サイホン管、 溶解槽、 ホッパ、 上部ダンパ、 ヒータ、 (LV) −リーク弁。 (4b) (13b) (Vl) 第1図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)真空の蒸着室内で蒸着材容器の蒸着材を基板に蒸
    着させるようにした真空蒸着装置において、上記蒸着室
    の外部に気密性の溶解槽を配置し、上記溶解槽を密封し
    たまま同溶解槽内に蒸着材を供給する手段と上記溶解槽
    の内部を排気する手段と上記溶解槽を加熱する手段とを
    設けるとともに、上記溶解槽の底部と上記蒸着材容器の
    底部とをサイホン管により連通させたことを特徴とする
    真空蒸着装置。
  2. (2)蒸着材容器を昇降させる手段を設けたことを特徴
    とする請求項(1)記載の真空蒸着装置。
JP26949388A 1988-10-27 1988-10-27 真空蒸着装置 Pending JPH02118064A (ja)

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JP26949388A JPH02118064A (ja) 1988-10-27 1988-10-27 真空蒸着装置

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