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JPH02108660A - Styrene sulfonate compound and composition containing the compound - Google Patents

Styrene sulfonate compound and composition containing the compound

Info

Publication number
JPH02108660A
JPH02108660A JP26058288A JP26058288A JPH02108660A JP H02108660 A JPH02108660 A JP H02108660A JP 26058288 A JP26058288 A JP 26058288A JP 26058288 A JP26058288 A JP 26058288A JP H02108660 A JPH02108660 A JP H02108660A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
compound
styrene sulfonate
styrene
meth
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP26058288A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shuichi Okuzono
修一 奥園
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tosoh Corp
Original Assignee
Tosoh Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tosoh Corp filed Critical Tosoh Corp
Priority to JP26058288A priority Critical patent/JPH02108660A/en
Publication of JPH02108660A publication Critical patent/JPH02108660A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

NEW MATERIAL:The compound of formula (R is H, halogen or hydrocarbon group; Z is >=2-valent alcohol residue containing a large number of C atoms; n is >=2). EXAMPLE:Triethylene glycol distyrene sulfonate. USE:Useful as a paint, coating agent, lining agent, adhesive, etc. A composition containing a styrene sulfonate compounds has high rate of cure and scratch resistance and is curable by the irradiation of energy radiation (especially light, electron ray, etc.). PREPARATION:The objective compound can be produced by reacting styrene sulfonic acid with sulfonyl chloride and reacting the resultant styrene sulfonyl chloride with a polyhydric alcohol.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は、塗料、コーティング剤、ライニング剤、接着
剤等に好適に使用されるスチレンスルホネート化合物、
及び硬化可能な組成物に関するものであって、特に、光
、電子線などのエネルギー線の照射で硬化可能な組成物
に関する。
Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention provides a styrene sulfonate compound suitable for use in paints, coating agents, lining agents, adhesives, etc.
The present invention relates to a curable composition, and particularly to a composition curable by irradiation with energy rays such as light and electron beams.

[従来の技術] エチレン性不飽和結合を1分子中に2個以上有する化合
物またはオリゴマーからなる硬化可能な組成物は公知で
ある。特に、光反応開始剤を添加してなる光硬化型組成
物は、熱硬化型の組成物に比べ、一般に硬化速度が大き
く、得られる硬化物の耐擦傷性、耐溶剤性などが優れて
いるなどの特徴がある。エチレン性不飽和結合としては
、アリルエーテル基、アリルウレタン基、アリルエステ
ル基などのアリル基、アクリロイル基、およびメタクリ
ロイル基などが挙げられる。
[Prior Art] Curable compositions comprising compounds or oligomers having two or more ethylenically unsaturated bonds in one molecule are known. In particular, photocurable compositions containing a photoreaction initiator generally have a faster curing speed than thermosetting compositions, and the resulting cured product has excellent scratch resistance, solvent resistance, etc. It has such characteristics. Examples of the ethylenically unsaturated bond include allyl groups such as allyl ether groups, allyl urethane groups, and allyl ester groups, acryloyl groups, and methacryloyl groups.

しかしながら、近年、被覆工程の短縮化による生産性の
向上と被覆製品の品質の向上に対する要求が高くなり、
より大きな硬化速度とより高い硬度、すなわち、より高
い耐擦傷性が要求されるようになってきている。
However, in recent years, demands have increased for improving productivity by shortening the coating process and improving the quality of coated products.
There is a growing demand for higher curing speeds and higher hardness, ie, higher scratch resistance.

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、従来の硬化可能な組成物は、硬化速度及
び硬化物の硬度などの点で未だ不十分であり、特に、酸
素存在下すなわち空気中では硬化が遅いか、十分に硬化
しないこともあり、また、顔料など光を透過しにくい添
加剤を配合した場合、十分に硬化しないなどの問題点が
あった。そこで、より大きな硬化速度を有し、硬化物の
硬度がより一層高い組成物が望まれている。
[Problems to be Solved by the Invention] However, conventional curable compositions are still insufficient in terms of curing speed and hardness of cured products, and in particular, curing is slow in the presence of oxygen, that is, in air. However, there are also problems in that it may not harden sufficiently, and if additives such as pigments that are difficult to transmit light are added, it will not harden sufficiently. Therefore, there is a desire for a composition that has a faster curing rate and provides a cured product with even higher hardness.

これらの要求を満足するために、種々の化合物や硬化系
が提案されているが、いずれも、エチレン性不飽和結合
として、上記のアリル基あるいは(メタ)アクリロイル
基を有する化合物であり、今以上の飛躍は難しいのが現
状であった。
Various compounds and curing systems have been proposed to meet these demands, but all of them are compounds that have the above-mentioned allyl group or (meth)acryloyl group as an ethylenically unsaturated bond. The current situation is that it is difficult to make a leap forward.

そこで、本発明は、硬化速度が大きく、硬化物の硬度(
耐擦傷性)が高い硬化可能な組成物を提供することを目
的とするものである。
Therefore, the present invention has a high curing speed and hardness of the cured product (
The object of the present invention is to provide a curable composition with high scratch resistance.

[課題を解決するための手段] 本発明者は、上記の問題点を解決すべく鋭意研究した結
果、エチレン性不飽和結合を1分子中に2個以上有する
化合物またはオリゴマーとして、次式(1); [式中、Rは水素原子、ハロゲン原子あるいは炭化水素
基を表し、Zは多数の炭素原子を含む2価以上のアルコ
ール残基を表し、nは2以上の数を示す。]で示される
スチレンスルホネート化合物を用いることにより、硬化
速度が大きく、硬化物の硬度(耐擦傷性)が高い組成物
を提供出来ることを見出すに至った。
[Means for Solving the Problems] As a result of intensive research to solve the above problems, the present inventors have determined that the following formula (1 ); [In the formula, R represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a hydrocarbon group, Z represents a divalent or higher alcohol residue containing a large number of carbon atoms, and n represents a number of 2 or more. ] It has been discovered that by using the styrene sulfonate compound represented by the formula, it is possible to provide a composition with a high curing speed and high hardness (scratch resistance) of the cured product.

すなわち、本発明は次式(1): [式中、Rは水素原子、ハロゲン原子あるいは炭化水素
基を表し、Zは多数の炭素原子を含む2価以上のアルコ
ール残基を表し、nは2以上の数を示す。]で示される
スチレンスルホネート化合物、及び式(1)で示される
スチレンスルホネート化合物の少なくとも一種を含有す
ることを特徴とする硬化可能な組成物を提供するもので
ある。
That is, the present invention is based on the following formula (1): [wherein R represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a hydrocarbon group, Z represents a divalent or higher alcohol residue containing a large number of carbon atoms, and n represents 2 Indicates the above number. ] and at least one of the styrene sulfonate compounds represented by formula (1).

式中Rの意味は上記の通りであるが、その中でハロゲン
原子としては、フッ素、塩素、臭素等、炭化水素基とし
ては、メチル、エチル又はそれらの誘導体であるI・リ
フルオロメチル、シアノ基等を挙げることができる。
In the formula, the meaning of R is as above, but examples of halogen atoms include fluorine, chlorine, bromine, etc., and examples of hydrocarbon groups include methyl, ethyl, and their derivatives, such as I.lifluoromethyl and cyano. Examples include groups.

式中、Zは、多数の炭素原子を含む多価のアルコール残
基を表し、これは置換されたもしくは置換されないアル
キレン残基、または置換されたもしくは置換されない、
さらには水添されたもしくは水添されていないアリレー
ン残基又は−CH−2、−C(CH3) 2− −CO
O−−CO−−NHCO−−802−−0−イミド等の
基あるいは直接結合によって結ばれた複数のアリレーン
残基等を含むアルコール残基が挙げられる。
where Z represents a polyhydric alcohol residue containing a large number of carbon atoms, which can be a substituted or unsubstituted alkylene residue, or a substituted or unsubstituted alkylene residue,
Furthermore, hydrogenated or unhydrogenated arylene residues or -CH-2, -C(CH3) 2- -CO
Examples include alcohol residues containing a group such as O--CO--NHCO--802--0-imide or a plurality of arylene residues connected by direct bonds.

例えば、多価の脂肪族アルコールおよび芳香族アルコー
ルが挙げられる。
Examples include polyhydric aliphatic alcohols and aromatic alcohols.

より具体的には、多価の脂肪族アルコールとしでは、例
えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブ
タンジオール、ネオペンチルグリコール等のHO(CR
2) nOH[nは1以上の数、Rは水素原子あるいは
メチル基などの炭化水素基を示すコで表される化合物、
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等
のHO(CH2CHRO) 。H[nは2以上の数、R
は水素原子あるいはメチル基などの炭化水素基を表す]
で表される化合物、あるいはグリセリン等の3価以上の
脂肪族アルコール等が挙げられる。多価の芳香族アルコ
ールとしては、例えば、芳香族ジオールとして、HO−
[+CH2CH(OH) l   A r  (X  
A r ) m+0−CH(OH) −CH2) 。−
〇] p−H(nは0あるいは1、mは0あるいは1以
上の数、pは1あるいは2以上の数を示す、Xは−CH
−2、C(CH)   −−C(CF3)  2COO
−CO−N HCOS O−、,5O2NH−−0−イ
ミド等の基を示し、Arはフェニル基、ビフェニル基、
ターフェニル基等を示す)で示すことができ、例えば、
ビスフェノールA1ビスフエノールF1ビスフエノール
S1とスフエノールAF、ビフェニルジオール、ターフ
ェニルジオール、ハイドロキノン、レゾルシン、ビスフ
ェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジ
グリシジルエーテル縮合物等が挙げられる。
More specifically, examples of polyhydric aliphatic alcohols include HO(CR) such as ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, and neopentyl glycol.
2) A compound represented by nOH [n is a number of 1 or more, R is a hydrogen atom or a hydrocarbon group such as a methyl group,
HO (CH2CHRO) such as polyethylene glycol and polypropylene glycol. H[n is a number greater than or equal to 2, R
represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group such as a methyl group]
Examples include compounds represented by the above, trivalent or higher aliphatic alcohols such as glycerin, and the like. Examples of polyhydric aromatic alcohols include aromatic diols such as HO-
[+CH2CH(OH) l A r (X
A r ) m+0-CH(OH)-CH2). −
〇] p-H (n is 0 or 1, m is 0 or a number of 1 or more, p is 1 or a number of 2 or more, X is -CH
-2, C(CH) --C(CF3) 2COO
-CO-N HCOS O-, ,5O2NH--0-imide, etc., Ar is a phenyl group, a biphenyl group,
terphenyl group, etc.), for example,
Examples include bisphenol A1 bisphenol F1 bisphenol S1 and suphenol AF, biphenyl diol, terphenyl diol, hydroquinone, resorcinol, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether condensate, and the like.

本発明の式(1)で表される化合物は、例えば、次の方
法で製造することができる。まず、メチ1ノンスルホン
酸またはその塩を塩化スルホニルと反応させ、スチレン
スルホニルクロライドを合成し、次に、この中間体を、
上記に述べたような多価アルコールと反応させて、本発
明のスチレンスルホネート化合物を得ることができる。
The compound represented by formula (1) of the present invention can be produced, for example, by the following method. First, methynone sulfonic acid or its salt is reacted with sulfonyl chloride to synthesize styrene sulfonyl chloride, and then this intermediate is
The styrene sulfonate compound of the present invention can be obtained by reaction with a polyhydric alcohol as described above.

これらの中では、芳容族環に直接スチレンスルホネート
基が結合した化合物が、耐加水分解性の点で特に好適で
ある。
Among these, compounds in which a styrene sulfonate group is directly bonded to an aromatic ring are particularly preferred in terms of hydrolysis resistance.

本発明の組成物は、式(1)で示されるスチレンスルホ
ネート化合物のみから構成されていてもよく、または、
スチレンスルホネート化合物と共重合することができる
他の化合物との混合物であってもよい。このような他の
化合物としては、エチレン性不飽和結合を有する化合物
またはオリゴマーを挙げることができる。例えば、多価
アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステルまたは部
分エステルである(ジ)エチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ブロビレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、グ
リセリントリ (メタ)アクリレート、トリメチロール
プロパントリ (メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ (メタ)アクリレート等;エポキシ樹脂と
(メタ)アクリル酸との反応生成物であるエポキシ(メ
タ)アクリレート等、または1分子中に(メタ)アクリ
ロイルオキシ基を1個以上有するポリエステル(メタ)
アクリレート、ポリウレタン(メタ)アクリレート等を
挙げることができる。また、その他、エチレン性不飽和
ポリカルボン酸もしくはエチレン性不飽和ポリカルボン
酸と飽和ポリカルボン酸との混合物と多fd[iアルコ
ールとのエステルである不飽和ポリエステル等を挙げる
ことができる。また、メチル(メタ)アクリレート、エ
チル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレ
ート、ブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(
メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート
、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ジメチルア
ミノエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルア
ミド、(メタ)アクリロニトリル、スチレン等のエチレ
ン性不飽和結合を1個有する化合物を希釈剤として用い
てもよい。
The composition of the present invention may be composed only of the styrene sulfonate compound represented by formula (1), or
It may also be a mixture of the styrene sulfonate compound and other compounds that can be copolymerized. Such other compounds include compounds or oligomers having ethylenically unsaturated bonds. For example, (di)ethylene glycol di(meth) which is an ester or partial ester of polyhydric alcohol and (meth)acrylic acid.
Acrylate, brobylene glycol di(meth)acrylate, hexanediol di(meth)acrylate, glycerin tri(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, etc.; Epoxy resin and (meth)acrylate Epoxy (meth)acrylate, etc., which is a reaction product with acrylic acid, or polyester (meth) having one or more (meth)acryloyloxy groups in one molecule
Examples include acrylate, polyurethane (meth)acrylate, and the like. Other examples include unsaturated polyesters, which are esters of ethylenically unsaturated polycarboxylic acids or mixtures of ethylenically unsaturated polycarboxylic acids and saturated polycarboxylic acids, and polyfd[i alcohols. Also, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, cyclohexyl (
Diluting compounds with one ethylenically unsaturated bond such as meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, hydroxyethyl (meth)acrylate, dimethylaminoethyl (meth)acrylate, (meth)acrylamide, (meth)acrylonitrile, and styrene. It may also be used as an agent.

また、本発明の組成物には、必要に応じて粘度1週節剤
、表面張力低下剤、すべり助剤、補強剤、染料、顔料等
の容色剤の他、種々のポリマーや無機化合物等の充填剤
を配合することもできる。また、希釈のために溶剤を使
用してもよい。
In addition, the composition of the present invention may contain various polymers, inorganic compounds, etc., in addition to coloring agents such as viscosity moderators, surface tension reducers, slip aids, reinforcing agents, dyes, and pigments, as necessary. Fillers can also be blended. Additionally, a solvent may be used for dilution.

本発明の組成物を硬化させるには、単に加熱する方法で
も良いが、好適には活性エネルギー線を照射する方法が
有効に利用できる。活性エネルギー線としては、例えば
、紫外線、電子線、γ線、X線等を挙げることができる
が、これらの中でも紫外線、電子線が好ましい。
To cure the composition of the present invention, a method of simply heating may be used, but a method of irradiating with active energy rays can be effectively used. Examples of active energy rays include ultraviolet rays, electron beams, gamma rays, and X-rays, among which ultraviolet rays and electron beams are preferred.

活性エネルギー線として紫外線を用いる場合には、通常
組成物中に光反応開始剤として、光増感剤または光反応
促進剤等のI PI以上からなる光触媒系を含有させる
ことが好ましい。光増感剤としては、例えば、ベンゾフ
ェノン、アセトフェノンベンジル、ベンジルジメチルケ
トン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インエチルエーテル、ジメトキシアセトフェノン、ジェ
トキシアセトフェノン、ジメトキシフェニルアセトフェ
ノン、ジフェニルサルファイド、α−アルキルベンゾイ
ン等が挙げられる。光反応促進剤としては、第3級アミ
ン等が挙げられる。これら該開始剤の添加配合量は0.
01重量%以上、好ましくは、0.5〜10重量26で
ある。本発明の組成物を電子線照射で硬化せしめる場合
には、必ずしも増感剤の添加を必要とはしない。
When ultraviolet rays are used as active energy rays, it is usually preferable to include a photocatalytic system such as a photosensitizer or a photoreaction accelerator having an IPI or higher as a photoreaction initiator in the composition. Examples of the photosensitizer include benzophenone, benzyl acetophenone, benzyl dimethyl ketone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, dimethoxyacetophenone, jetoxyacetophenone, dimethoxyphenylacetophenone, diphenyl sulfide, α-alkylbenzoin, and the like. . Examples of the photoreaction accelerator include tertiary amines and the like. The amount of these initiators added is 0.
0.01% by weight or more, preferably 0.5 to 10% by weight26. When the composition of the present invention is cured by electron beam irradiation, it is not necessarily necessary to add a sensitizer.

[発明の効果] 本発明のスチレンスルホネート化合物組成物は、エチレ
ン性不飽和結合を1分子中に2個以上有する化合物また
はオリゴマーからなる硬化可能な組成物に比べ、硬化速
度が大きく、得られる硬化物の硬度も大きいという特徴
を有する。特に活性エネルギー線による硬化を実施する
場合、本発明の組成物は、酸素存在下においても大きな
重合速度を有するものである。したがって、空気中で光
硬化可能な組成物として有用なものである。また、本発
明の組成物は硬化速度が大きいことから、顔料等の光を
透過しにくい添加剤を配合しても、十分な硬化ができる
という特徴も有する。
[Effects of the Invention] The styrene sulfonate compound composition of the present invention has a higher curing speed than a curable composition consisting of a compound or oligomer having two or more ethylenically unsaturated bonds in one molecule, and the resulting curing is faster. It is characterized by its high hardness. In particular, when curing with active energy rays, the composition of the present invention has a high polymerization rate even in the presence of oxygen. Therefore, it is useful as a composition that can be photocured in air. Furthermore, since the composition of the present invention has a high curing speed, it also has the characteristic that sufficient curing can be achieved even if additives such as pigments that are difficult to transmit light are added.

本発明による組成物は、インキ、プラスチック塗料、紙
印刷、フィルムコーティング、金属コーティング、家具
塗装などの種々のコーテイング材、FRP、ライニング
、さらにはエレクトロニクス分野における絶縁フェス、
絶縁シート、積層板、プリント基板、レジストインキ、
半導体封止材等多くの分野へ応用できる。
The composition according to the present invention can be used in various coating materials such as ink, plastic paint, paper printing, film coating, metal coating, furniture painting, FRP, lining, and even insulation panels in the electronics field.
Insulating sheets, laminates, printed circuit boards, resist inks,
It can be applied to many fields such as semiconductor encapsulation materials.

[実施例] 以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明するが
、本発明はこれらの実施例の記載によって、その範囲を
なんら限定されるものではない。
[Examples] Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the scope of the present invention is not limited in any way by the description of these Examples.

実施例1 3000 mlの容器に、乾燥したスチレンスルホン酸
ソーダ500g、ジメチルホルムアミド350g、t−
ブチルカテコール0.05g及びクロロホルム1000
 mlを仕込み、窒素雰囲気下、撹拌しながら、0℃で
塩化チオニル569.7gの滴下を開始し、系内の湿度
を5℃以下に保つように少量ずつ滴下した。滴下終了後
、内温を30℃に上げ、撹拌しながら、3時間保ち、反
応終了後、反応液を冷水2000 mlに撹拌しながら
加えた。この時、内温か10℃以下になるよう保った。
Example 1 In a 3000 ml container, 500 g of dry sodium styrene sulfonate, 350 g of dimethylformamide, and t-
Butylcatechol 0.05g and chloroform 1000g
ml of thionyl chloride was added, and while stirring under a nitrogen atmosphere, 569.7 g of thionyl chloride was started dropwise at 0°C, and was added little by little so as to keep the humidity in the system below 5°C. After the completion of the dropwise addition, the internal temperature was raised to 30° C. and maintained for 3 hours with stirring. After the reaction was completed, the reaction solution was added to 2000 ml of cold water with stirring. At this time, the internal temperature was maintained at 10°C or less.

滴下終了30分後、有機層を分離した。引き続き、分離
した有機層を冷水10100Oで3回洗浄後、ゼオラム
で脱水した後、t−ブチルカテコール0.05gを加え
、クロロホルムを減圧蒸留すると、スチレンスルホン酸
クロライド403gが得られた。
Thirty minutes after the completion of the dropwise addition, the organic layer was separated. Subsequently, the separated organic layer was washed three times with cold water at 10,100 O and then dehydrated with zeolum. Then, 0.05 g of t-butylcatechol was added and chloroform was distilled under reduced pressure to obtain 403 g of styrene sulfonic acid chloride.

次に、2000第1の容器に、得られたスチレンスルホ
ン酸クロライド153g、クロロホルム300 g、ピ
リジン380第1.及びt−ブチルカテコール0.02
gを仕込み、窒素雰囲気下、撹拌しながら、0℃でトリ
エチレングリコール45.4g及びクロロホルム230
gの溶液を少量ずつ滴下した。2時間反応後、5規定の
硫酸水溶液950 mlを、内温か10℃以下を保つよ
うに滴下し、滴下終了後、有機層を分離した。分離した
有機層を水10100Oで3回洗浄後、ゼオラムで脱水
後、ハイドロキノン七ツメチルエーテル0.02gを加
え、クロロホルムを減圧蒸留すると、トリエチレングリ
コールeジスチレンスルホネート110gが得られた。
Next, 153 g of the obtained styrene sulfonic acid chloride, 300 g of chloroform, and 380 pyridine 1. and t-butylcatechol 0.02
45.4 g of triethylene glycol and 230 g of chloroform at 0°C while stirring under a nitrogen atmosphere.
A solution of g was added dropwise little by little. After the reaction for 2 hours, 950 ml of a 5N sulfuric acid aqueous solution was added dropwise to keep the internal temperature below 10°C, and after the addition was completed, the organic layer was separated. After washing the separated organic layer three times with 10,100 O of water and dehydrating it with Zeolum, 0.02 g of hydroquinone methyl ether was added and chloroform was distilled under reduced pressure to obtain 110 g of triethylene glycol e-distyrene sulfonate.

実施例2 2000 mlの容器に、ビスフェノールA69、og
及びクロロホルム300gを仕込み、次に、実施例1と
同様にして得られたスチレンスルホン酸クロライド15
3g、クロロホルム300g、及びt−ブチルカテコー
ル0.02gを°仕込んだ後、窒素雰囲気・下、撹拌し
ながら、室温でトリエチルアミン153gを少量ずつ滴
下した。2時間反応後、5規定の硫酸水溶液950 m
lを、内温か10℃以下を保つように滴下し、滴下終了
後、有機層を分離した。分離した有機層を水10100
Oで3回洗浄後、エタノール中へ注ぎ、生じた析出物を
濾過、洗浄、乾燥することにより、ビスフェノールA−
4,4−−ジスチレンスルホネート158gが得られた
Example 2 Bisphenol A69, og
and 300 g of chloroform, and then styrene sulfonic acid chloride 15 obtained in the same manner as in Example 1.
After charging 3 g of chloroform, 300 g of chloroform, and 0.02 g of t-butylcatechol, 153 g of triethylamine was added dropwise little by little at room temperature while stirring under a nitrogen atmosphere. After 2 hours of reaction, 950 m of 5N sulfuric acid aqueous solution
1 was added dropwise to keep the internal temperature below 10°C, and after the addition was completed, the organic layer was separated. Pour the separated organic layer into 10,100 ml of water.
After washing with O three times, pouring into ethanol and filtering, washing and drying the resulting precipitate, bisphenol A-
158 g of 4,4-distyrene sulfonate were obtained.

実施例3 実施例2に於いて、ビスフェノールAの代わりにビスフ
ェノールAジグリシジルエーテル103gを用い、反応
温度を50℃に高めた以外は、合成例2と同様にして実
施した。その結果、ビスフェノールAジグリシジルエー
テルのスチレンスルホン酸ジエステル160gが得られ
た。
Example 3 Example 2 was carried out in the same manner as Synthesis Example 2, except that 103 g of bisphenol A diglycidyl ether was used instead of bisphenol A and the reaction temperature was raised to 50°C. As a result, 160 g of styrene sulfonic acid diester of bisphenol A diglycidyl ether was obtained.

実施例4 実施例1で得られたトリエチレングリコール・ジスチレ
ンスルホネートに、増感剤としてベンゾインメチルエー
テル2重量%を添加し、ポリエステルフィルムにバーコ
ーターを用いて塗布し、高圧水銀灯ランプ(出力33W
/cm)を10分間照射したところ、硬化被膜を得た。
Example 4 To the triethylene glycol distyrene sulfonate obtained in Example 1, 2% by weight of benzoin methyl ether was added as a sensitizer, and the mixture was coated on a polyester film using a bar coater and heated using a high-pressure mercury lamp (output 33 W).
/cm) for 10 minutes, a cured film was obtained.

硬化物の硬度は、Hであった。また、塗布した液上にポ
リエステルフィルムを重ね、空気との接触を断つと10
秒間で硬化した。
The hardness of the cured product was H. In addition, if a polyester film is placed on top of the applied liquid to cut off contact with air,
Hardened in seconds.

比較例1 トリエチレングリコールジメタクリレートに、実施例4
と同様にベンゾインメチルエーテル2重量96を添加し
、ポリエステルフィルムにバーコーターを用いて塗布し
、高圧水銀灯ランプ(出力33W/Cm)を20分間照
射したが、硬化しなかった。また、実施例4と同様に塗
布した液上にポリエステルフィルムを重ね、空気との接
触を断つと10秒間で硬化した。この硬化物の硬度は、
Bであった。
Comparative Example 1 Example 4 was added to triethylene glycol dimethacrylate.
In the same manner as above, 2 parts by weight of benzoin methyl ether (96%) were added, and the mixture was coated on a polyester film using a bar coater, and was irradiated with a high-pressure mercury lamp (output 33 W/Cm) for 20 minutes, but it did not harden. Further, a polyester film was placed on top of the solution applied in the same manner as in Example 4, and when contact with air was cut off, the film was cured in 10 seconds. The hardness of this cured product is
It was B.

実施例5 実施例2で得られたビスフェノールA−4,4−ジスチ
レンスルホネートにメチルエチルケトン50重量%を加
え、実施例4と同様に増感剤としてベンゾインメチルエ
ーテル2重量%を添加し、ポリエステルフィルムにバー
コーターを用いて塗布し、高圧水銀灯ランプ(出力33
W/Cm)を10分間照射したところ、硬化被膜を得た
。硬化物の硬度は、3Hであった。また、塗布した液上
にポリエステルフィルムを重ね、空気との接触を断つと
10秒間で硬化した。
Example 5 50% by weight of methyl ethyl ketone was added to the bisphenol A-4,4-distyrene sulfonate obtained in Example 2, and 2% by weight of benzoin methyl ether was added as a sensitizer in the same manner as in Example 4 to form a polyester film. using a bar coater and applying it using a high-pressure mercury lamp (output 33).
When irradiated with W/Cm) for 10 minutes, a cured film was obtained. The hardness of the cured product was 3H. Furthermore, when a polyester film was placed on top of the applied solution and contact with air was cut off, the solution cured in 10 seconds.

硬化被膜を、煮沸水中に1時間浸漬しても、水酸化ナト
リウムの10重量%水溶液、あるいは塩酸の10重量%
水溶液に3日間浸漬しても、硬化物の加水分解は生じて
いなかった。一方、実施例4で得られた被膜では、加水
分解が生じた。
Even if the cured film is immersed in boiling water for 1 hour, it will not react with a 10% by weight aqueous solution of sodium hydroxide or 10% by weight of hydrochloric acid.
Even after being immersed in an aqueous solution for 3 days, no hydrolysis of the cured product occurred. On the other hand, in the film obtained in Example 4, hydrolysis occurred.

実施例6 実施例2で得られたビスフェノールA−4,4ジスチレ
ンスルホネートにメチルエチルケトン50重量%を加え
、実施例5と同様にベンゾインメチルエーテル4重量%
及び黄色顔料10重量%を添加し、ポリエステルフィル
ムにバーコーターを用いて塗布し、高圧水銀灯ランプ(
出力33W/ c m )を10分間照射したところ、
硬化被膜を得た。硬化物の硬度は、3Hであった。また
、塗布した液上にポリエステルフィルムを重ね、空気と
の接触を断つと10秒間で硬化した。
Example 6 50% by weight of methyl ethyl ketone was added to the bisphenol A-4,4 distyrene sulfonate obtained in Example 2, and 4% by weight of benzoin methyl ether was added in the same manner as in Example 5.
and 10% by weight of yellow pigment were added, coated on a polyester film using a bar coater, and heated using a high-pressure mercury lamp (
When irradiated with an output of 33 W/cm for 10 minutes,
A cured film was obtained. The hardness of the cured product was 3H. Furthermore, when a polyester film was placed on top of the applied solution and contact with air was cut off, the solution cured in 10 seconds.

比較例2 トリエチレングリコールジメタクリレートに、実施例6
と同様にベンゾインメチルエーテル4重量%及び黄色顔
料10瓜瓜96を添加し、ポリエステルフィルムにバー
コーターを用いて塗布し、高圧水銀灯ランプ(出力33
 W / c m )を20分間照射したが、硬化しな
かった。そこで、塗布した液上にポリエステルフィルム
を重ね、空気との接触を断っても十分な硬化被膜は得ら
れなかった。
Comparative Example 2 Example 6 was added to triethylene glycol dimethacrylate.
Similarly, 4% by weight of benzoin methyl ether and 10% of yellow pigment and 96% of yellow pigment were added, coated on a polyester film using a bar coater, and heated with a high-pressure mercury lamp (output 33).
W/cm) was irradiated for 20 minutes, but no curing occurred. Therefore, even if a polyester film was placed on top of the applied solution to cut off contact with air, a sufficiently cured film could not be obtained.

実施例7 実施例3で得られたビスフェノールAジグリシジルエー
テルのスチレンスルホン酸ジエステルにメチルエチルケ
トン50重量%を加え、実施例4と同様に増感剤として
ベンゾインメチルエーテル2重量%を添加し、ポリエス
テルフィルムにバーコーターを用いて塗布し、高圧水銀
灯ランプ(出力33W/cm)を10分間照射したとこ
ろ、硬化被膜を得た。硬化物の硬度は、Hであった。ま
た、塗布した液上にポリエステルフィルムを重ね、空気
との接触を断つと10秒間で硬化した。
Example 7 50% by weight of methyl ethyl ketone was added to the styrene sulfonic acid diester of bisphenol A diglycidyl ether obtained in Example 3, and 2% by weight of benzoin methyl ether was added as a sensitizer in the same manner as in Example 4 to form a polyester film. A hardened film was obtained by coating the film using a bar coater and irradiating it with a high-pressure mercury lamp (output 33 W/cm) for 10 minutes. The hardness of the cured product was H. Furthermore, when a polyester film was placed on top of the applied solution and contact with air was cut off, the solution cured in 10 seconds.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)次式(1); ▲数式、化学式、表等があります▼(1) [式中、Rは水素原子、ハロゲン原子あるいは炭化水素
基を表し、Zは多数の炭素原子を含む2価以上のアルコ
ール残基を表し、nは2以上の数を示す。]で示される
スチレンスルホネート化合物、及び式(1)で示される
スチレンスルホネート化合物の少なくとも一種を含有す
ることを特徴とする組成物。
(1) The following formula (1); ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (1) [In the formula, R represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a hydrocarbon group, and Z represents a divalent group containing many carbon atoms. represents the above alcohol residue, and n represents a number of 2 or more. ] A composition comprising at least one of the styrene sulfonate compound represented by formula (1) and the styrene sulfonate compound represented by formula (1).
(2)式(1)で示されるRが水素原子であり、Zが2
価以上の多価の脂肪族アルコールである特許請求の範囲
第1項記載のスチレンスルホネート化合物、及び硬化可
能な組成物。
(2) R shown in formula (1) is a hydrogen atom, and Z is 2
The styrene sulfonate compound according to claim 1, which is a polyhydric aliphatic alcohol having a higher valence or higher, and a curable composition.
(3)式(1)で示されるRが水素原子であり、Zが2
価以上の多価の芳香族アルコールである特許請求の範囲
第1項記載のスチレンスルホネート化合物、及び硬化可
能な組成物。
(3) R shown in formula (1) is a hydrogen atom, and Z is 2
The styrene sulfonate compound according to claim 1, which is a polyhydric aromatic alcohol having a higher valence or higher, and a curable composition.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107814755A (en) * 2017-11-05 2018-03-20 青岛大学 A kind of anionic gemini surfactant and preparation method thereof
CN108383758A (en) * 2018-03-19 2018-08-10 青岛大学 A kind of preparation method of sulfonic group anionic gemini surfactant

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CN107814755B (en) * 2017-11-05 2021-10-29 青岛大学 A kind of anionic gemini surfactant and preparation method thereof
CN108383758A (en) * 2018-03-19 2018-08-10 青岛大学 A kind of preparation method of sulfonic group anionic gemini surfactant
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