JPH02108218A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH02108218A JPH02108218A JP26007888A JP26007888A JPH02108218A JP H02108218 A JPH02108218 A JP H02108218A JP 26007888 A JP26007888 A JP 26007888A JP 26007888 A JP26007888 A JP 26007888A JP H02108218 A JPH02108218 A JP H02108218A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、電子計算機の記憶装置、ＶＴＲ等に用いられ
る磁気ディスク、磁気テープ等における高密度記録に適
した金属薄膜型磁気記録媒体に関する。
る磁気ディスク、磁気テープ等における高密度記録に適
した金属薄膜型磁気記録媒体に関する。
従来の技術
］メルト。ニッケル、鉄またはそれらを主成分とする強
磁性金属薄膜を、真空蒸着、スパッタリング、イオンブ
レーティングなどの真空中製膜法によりポリエステルフ
ィルム、ポリイミドフィルムなどの高分子フィルムや、
アルミ合金板、ガラス板などから成る基板上に形成して
成る強磁性金属薄膜型磁気記録媒体は、従来の塗布型磁
気記録媒体に比べて記録密度を飛躍的に向上せしめるこ
とが可能であるが、反面、磁性層が非常に薄いこと、媒
体の表面平滑性を良好ならしめる必要があることなどか
ら、媒体の耐久信頼性を確保するために塗布型媒体とは
別の技術が必要となる。たとえば、電子計算機の外部記
憶装置に用いられる磁気ディスク装置においては、一般
に、磁気ディスク稼動時には磁気ヘッドがディスク面よ
り浮上し停止時にはディスク面に接触するいわゆるコン
タクトスタートストップ（ａＳＳ）方式が採用されてい
る５、この場合、スタート時まだはストップ時における
磁気へノド・スライダーとディスク表面との繰り返し接
触摺動に耐えるよう１通常、ディスク表面には基板表面
のテキスヂャ加工により生じるおう突形状が設けられて
おり、さらに、強磁性金属薄膜上にはグラフアイ） 、
Ｓ１０．等を主体とする保護層と潤滑剤層とが設けら
れている。そして、その潤滑剤層には、パー７０ロポリ
エーテルまたは、その分子末端を変性したものの使用が
提案されている。（たとえば、米国特許第３７７８３０
８号、特開昭６０−１０９０２８号公報） 発明が解決しようとする課題 記録密度向上のだめには、磁気へ、ラド浮上距離を低減
せしめることが必要であるが、その際、テキスチャ加工
により生じる突起形状の高さを低減して表面形状を改善
せしめるとＯＪ ３耐久性が悪くなり、あわせて、ディ
スク装置停！Ｆ時にデイ７７゜り表面の潤滑剤が磁気ヘ
ッドとディスクとの間に集合し、ディスク面に磁気ヘッ
ドが固着されるいわゆる吸着現象が発生・するようにな
る１、ディスク表面の潤滑剤層における潤滑剤の役割と
１．では、−そ・、・′）１丁の保護膜表面と磁気ヘッ
ド表面とに強く付着（７そｉｚらの表面に潤滑剤による
被覆層を形成゛するとともにそれらの被覆層の接点、す
なわち、デ１スクと磁気ヘット晃の摺動面にふ・いては
５潤滑剤分子間で容易にせん断されることが重要である
。ハ・−・フロロポリエーデ刀−はその分子表面のほと
んどすべてがフッ素原子で覆わｔでいるために分子間の
せん断性は良好であるがディスク表面あるいは磁気ヘッ
ド表面に付着する力（了弱い。その欠点を改善するため
に分子末端に各種の極性基を導入したものが提案されて
いるが、パーフロロポリエーテル自体の分子量が少なく
とｔ３０００、通常４０００またはそれ以上と大きいた
めに極性基導入の効果があまり得られずディスク耐久性
向上の効果も顕著ではない。極性基の効果を高めるため
にパーフロロポリエーテル自体の分子量を低減するとそ
の分子間の相互作用が小さいためにディスクの高速回転
によるスピンアウトやそれ自体の蒸発が生じるようにな
る。したがって分子量低減は実質的に困難である。他方
、ステアリン酸で代表されるような極性基付脂肪族炭化
水素は各種表面への付着強度１分子配向性等に優れてい
るがフッ素化炭化水素に比べれば分子間の相互作用が大
きいために、これらを潤滑剤に使用した場合には所望の
耐久性能が得られ難い。ただし、磁気ヘッド吸着性に関
しては、極性基の効果によりハーフ０ロポリエーテル系
に比べて大幅に改善される。以上のことを考慮し種々検
討した結果、同一分子内に、脂肪族炭化水素基と、フッ
素化炭化水素基と、極性基とを有する有機化合物がディ
スク上のカーボン保護膜に対する潤滑剤として最適であ
るという結論に達した。
磁性金属薄膜を、真空蒸着、スパッタリング、イオンブ
レーティングなどの真空中製膜法によりポリエステルフ
ィルム、ポリイミドフィルムなどの高分子フィルムや、
アルミ合金板、ガラス板などから成る基板上に形成して
成る強磁性金属薄膜型磁気記録媒体は、従来の塗布型磁
気記録媒体に比べて記録密度を飛躍的に向上せしめるこ
とが可能であるが、反面、磁性層が非常に薄いこと、媒
体の表面平滑性を良好ならしめる必要があることなどか
ら、媒体の耐久信頼性を確保するために塗布型媒体とは
別の技術が必要となる。たとえば、電子計算機の外部記
憶装置に用いられる磁気ディスク装置においては、一般
に、磁気ディスク稼動時には磁気ヘッドがディスク面よ
り浮上し停止時にはディスク面に接触するいわゆるコン
タクトスタートストップ（ａＳＳ）方式が採用されてい
る５、この場合、スタート時まだはストップ時における
磁気へノド・スライダーとディスク表面との繰り返し接
触摺動に耐えるよう１通常、ディスク表面には基板表面
のテキスヂャ加工により生じるおう突形状が設けられて
おり、さらに、強磁性金属薄膜上にはグラフアイ） 、
Ｓ１０．等を主体とする保護層と潤滑剤層とが設けら
れている。そして、その潤滑剤層には、パー７０ロポリ
エーテルまたは、その分子末端を変性したものの使用が
提案されている。（たとえば、米国特許第３７７８３０
８号、特開昭６０−１０９０２８号公報） 発明が解決しようとする課題 記録密度向上のだめには、磁気へ、ラド浮上距離を低減
せしめることが必要であるが、その際、テキスチャ加工
により生じる突起形状の高さを低減して表面形状を改善
せしめるとＯＪ ３耐久性が悪くなり、あわせて、ディ
スク装置停！Ｆ時にデイ７７゜り表面の潤滑剤が磁気ヘ
ッドとディスクとの間に集合し、ディスク面に磁気ヘッ
ドが固着されるいわゆる吸着現象が発生・するようにな
る１、ディスク表面の潤滑剤層における潤滑剤の役割と
１．では、−そ・、・′）１丁の保護膜表面と磁気ヘッ
ド表面とに強く付着（７そｉｚらの表面に潤滑剤による
被覆層を形成゛するとともにそれらの被覆層の接点、す
なわち、デ１スクと磁気ヘット晃の摺動面にふ・いては
５潤滑剤分子間で容易にせん断されることが重要である
。ハ・−・フロロポリエーデ刀−はその分子表面のほと
んどすべてがフッ素原子で覆わｔでいるために分子間の
せん断性は良好であるがディスク表面あるいは磁気ヘッ
ド表面に付着する力（了弱い。その欠点を改善するため
に分子末端に各種の極性基を導入したものが提案されて
いるが、パーフロロポリエーテル自体の分子量が少なく
とｔ３０００、通常４０００またはそれ以上と大きいた
めに極性基導入の効果があまり得られずディスク耐久性
向上の効果も顕著ではない。極性基の効果を高めるため
にパーフロロポリエーテル自体の分子量を低減するとそ
の分子間の相互作用が小さいためにディスクの高速回転
によるスピンアウトやそれ自体の蒸発が生じるようにな
る。したがって分子量低減は実質的に困難である。他方
、ステアリン酸で代表されるような極性基付脂肪族炭化
水素は各種表面への付着強度１分子配向性等に優れてい
るがフッ素化炭化水素に比べれば分子間の相互作用が大
きいために、これらを潤滑剤に使用した場合には所望の
耐久性能が得られ難い。ただし、磁気ヘッド吸着性に関
しては、極性基の効果によりハーフ０ロポリエーテル系
に比べて大幅に改善される。以上のことを考慮し種々検
討した結果、同一分子内に、脂肪族炭化水素基と、フッ
素化炭化水素基と、極性基とを有する有機化合物がディ
スク上のカーボン保護膜に対する潤滑剤として最適であ
るという結論に達した。
本発明は、上述のＣ８Ｓ耐久性の低下とヘッド吸着を改
善することを目的とする。
善することを目的とする。
課題を解決するだめの手段
すなわち、本発明は、非磁性支持体上に強磁性金属薄膜
が形成されている磁気記録媒体において、前記強磁性金
属薄膜上にカーボン保護層を介して、すくなくとも、炭
素数８以上の飽和または不飽和の脂肪族炭化水素末端基
と炭素数３以上のフッ素化炭化水素末端基とを各１個以
上と、−０Ｈ，−８Ｈ，。
が形成されている磁気記録媒体において、前記強磁性金
属薄膜上にカーボン保護層を介して、すくなくとも、炭
素数８以上の飽和または不飽和の脂肪族炭化水素末端基
と炭素数３以上のフッ素化炭化水素末端基とを各１個以
上と、−０Ｈ，−８Ｈ，。
れぞれ硫黄または酸素原子を表わ［７、ｌ、ｍ、ｎおよ
びｋはそれぞれＯ’Ｅたは１の整数を表わす。）の中か
ら選ばれた１個の極付基とを有する有機化合物を、すく
なくとも１種以上含有する潤滑剤層が形成されているこ
とを特徴とする。
びｋはそれぞれＯ’Ｅたは１の整数を表わす。）の中か
ら選ばれた１個の極付基とを有する有機化合物を、すく
なくとも１種以上含有する潤滑剤層が形成されているこ
とを特徴とする。
作用
本発明において潤滑剤に含有せしめる前記有機化合物は
、その分子内に脂肪族炭化水素末端基とフッ素化炭化水
素末端基と特定の極性基とを有してお夛、分子量が数１
００〜２０００程度であるために極性基の効果が充分発
揮され、強磁性金属薄膜上に設けたカーボン保護膜表面
にこの極性基が強く付着する。また、炭化水素末端基は
隣接する別の分子の炭化水素末端基との間の適度の相互
作用により配向しその配向層表面に無極性末端部分を露
出させ低摩擦摺動面を形成し、併せて、その分子間相互
作用によシその有機化合物分子の蒸発が防止される。ま
た、フッ素化炭化水素末端基も表面に露出して表面の低
エネルギー化に寄与し、低摩擦摺動面を形成する。以上
のごとき３種類の基の作用によりＣ３３耐久性が良好で
ヘッド吸着性の改善された潤滑剤層が得られる。
、その分子内に脂肪族炭化水素末端基とフッ素化炭化水
素末端基と特定の極性基とを有してお夛、分子量が数１
００〜２０００程度であるために極性基の効果が充分発
揮され、強磁性金属薄膜上に設けたカーボン保護膜表面
にこの極性基が強く付着する。また、炭化水素末端基は
隣接する別の分子の炭化水素末端基との間の適度の相互
作用により配向しその配向層表面に無極性末端部分を露
出させ低摩擦摺動面を形成し、併せて、その分子間相互
作用によシその有機化合物分子の蒸発が防止される。ま
た、フッ素化炭化水素末端基も表面に露出して表面の低
エネルギー化に寄与し、低摩擦摺動面を形成する。以上
のごとき３種類の基の作用によりＣ３３耐久性が良好で
ヘッド吸着性の改善された潤滑剤層が得られる。
実施例
以下、本発明の実施例について図面を参照にしながら説
明する。
明する。
図は本発明の一実施例における磁気記録媒体の基本構成
を示す。図において、１は非磁性支持体、２は強磁性金
属薄膜、３は保護膜、４は潤滑剤層である。
を示す。図において、１は非磁性支持体、２は強磁性金
属薄膜、３は保護膜、４は潤滑剤層である。
潤滑剤層４は、すくなくとも炭素数８以上の飽和または
不飽和の脂肪族炭化水素末端基と炭素数３以上のフッ素
化炭化水素末端基とを各１個以上およびＷはそれぞれ硫
黄または＃１．素原子を表わし、１、ｒ！Ｉ、ｎおよび
ｋはそれぞれＯまたは１の整数を表わす。）の中から選
ばれる１個の極性基とを有する有機化合物を、すくなく
とも１種以上含有する薄層で構成される。
不飽和の脂肪族炭化水素末端基と炭素数３以上のフッ素
化炭化水素末端基とを各１個以上およびＷはそれぞれ硫
黄または＃１．素原子を表わし、１、ｒ！Ｉ、ｎおよび
ｋはそれぞれＯまたは１の整数を表わす。）の中から選
ばれる１個の極性基とを有する有機化合物を、すくなく
とも１種以上含有する薄層で構成される。
本発明に使用する上記有機化合物としては、たとえば、
脂肪族炭化水素末端として、 ＣｎＨ２ｎ七［ ０ｎＨ２ｎ。
脂肪族炭化水素末端として、 ＣｎＨ２ｎ七［ ０ｎＨ２ｎ。
ＣｎＨ２ｎ−３
（ただしｎ＝ｓ〜３０）
フッ素化炭化水素末端基として、
Ｃｎ ７２ ｎ−）−ｔ （ＣＨ２）ｍ 。
Ｈ（ＣＦ２）２ｎ（ＣＨ２）Ｉｎ−
Ｒ
Ｒ
日
Ｏｎ Ｆ ２ ｎ−）−＋ ＯＮ （ＣＨ２）ｍ−１Ｃ
ｎＦ２ｎ、０（ＯＨ２）、＋。
ｎＦ２ｎ、０（ＯＨ２）、＋。
Ｒ
Ｒ
（ただし、ｎ ＝３”２０ 、 ＩＩ ＝０〜３０ 、
ＲはＨ８０Ｍ３またはＣ２Ｈ３）等があり、前記有機
化合物の分子全体の構成としては、これらの各末端基と
極性基とが直接、あるいは、下記の例のごとき各種結合
基を介して結合せしめた形をとるものである。
ＲはＨ８０Ｍ３またはＣ２Ｈ３）等があり、前記有機
化合物の分子全体の構成としては、これらの各末端基と
極性基とが直接、あるいは、下記の例のごとき各種結合
基を介して結合せしめた形をとるものである。
Ｈｏ ＨＯ）！ ０−
Ｃ−Ｃ−０−、−８−Ｃｉ−Ｃ−０−、−８−Ｃ−（Ｃ
Ｈ２）、−〇−０−０Ｈ２（Ｈ２ Ｓ−Ｎ−（ｃｕ２）ｍ− ＩＩ Ｒ Ｆ −υす （ただし、ｍ＝０〜１０．ＲはＣＨ，またはＣ２Ｈ３）
なお、前記脂肪族末端基としては、炭素数８以上、さら
に好ましくは１０以上の飽和または不飽和の直鎖または
分岐アルキル基が適しており、炭素数７以下ではＣ８Ｓ
耐久性が低下する。フッ素化炭化水素末端基としては、
フッ素原子を所有する炭素原子の数が少なくとも３以上
、さらに好ましくは６以上の飽和、または不飽和の直鎖
１分岐のパーフロロまたはフロロアルキル基、パーフロ
ロまたはフロロアリル基等の骨格を有する末端基が適し
ており、フッ素原子を所有する炭素原子が２以下の場合
には、やはりＣ８Ｓ耐久性が低下する。
Ｃ−Ｃ−０−、−８−Ｃｉ−Ｃ−０−、−８−Ｃ−（Ｃ
Ｈ２）、−〇−０−０Ｈ２（Ｈ２ Ｓ−Ｎ−（ｃｕ２）ｍ− ＩＩ Ｒ Ｆ −υす （ただし、ｍ＝０〜１０．ＲはＣＨ，またはＣ２Ｈ３）
なお、前記脂肪族末端基としては、炭素数８以上、さら
に好ましくは１０以上の飽和または不飽和の直鎖または
分岐アルキル基が適しており、炭素数７以下ではＣ８Ｓ
耐久性が低下する。フッ素化炭化水素末端基としては、
フッ素原子を所有する炭素原子の数が少なくとも３以上
、さらに好ましくは６以上の飽和、または不飽和の直鎖
１分岐のパーフロロまたはフロロアルキル基、パーフロ
ロまたはフロロアリル基等の骨格を有する末端基が適し
ており、フッ素原子を所有する炭素原子が２以下の場合
には、やはりＣ８Ｓ耐久性が低下する。
本発明に用いる前記有機化合物としては、前記脂肪族末
端基と前記フッ素化炭化水素末端基とを各少なくとも１
個以上有し、さらに、 −ＯＨ，−３Ｈ。
端基と前記フッ素化炭化水素末端基とを各少なくとも１
個以上有し、さらに、 −ＯＨ，−３Ｈ。
（＝Ｗ）ｋ （ただし、Ｘ、Ｙ、Ｚお！びｗＨそれぞ
れ硫黄または酸素原子を表わし、ｌ、ｍ、ｎおよびｋは
それぞれ０または１の整数を表わす。）の中から選ばれ
る１個の極性基とを同一分子内に有していることが必要
であり、上記３種類の基の中のいずれかの１種類のみま
たは２種類のみの基を有する有機化合物を混合して混合
状態として上記３種類の基を取り揃えたとしても本発明
と同様の効果を得ることは困難である。また、上記以外
の末端基（たとえば、ＯＨ，−、Ｃ２Ｈ５−等の炭素数
が７以下の炭化水素基、 ＨＣＦ２−．０２Ｆ５−等の
炭素数２以下のフロロアルキル基等）を存在せしめるこ
とも可能である。
れ硫黄または酸素原子を表わし、ｌ、ｍ、ｎおよびｋは
それぞれ０または１の整数を表わす。）の中から選ばれ
る１個の極性基とを同一分子内に有していることが必要
であり、上記３種類の基の中のいずれかの１種類のみま
たは２種類のみの基を有する有機化合物を混合して混合
状態として上記３種類の基を取り揃えたとしても本発明
と同様の効果を得ることは困難である。また、上記以外
の末端基（たとえば、ＯＨ，−、Ｃ２Ｈ５−等の炭素数
が７以下の炭化水素基、 ＨＣＦ２−．０２Ｆ５−等の
炭素数２以下のフロロアルキル基等）を存在せしめるこ
とも可能である。
本発明に使用する前記有機化合物の分子量としては、３
０００以下、さらに好ましくは２０００以下が適当であ
る。分子量が３０００以上であると極性基の効果が発揮
され難くなり所望の性能が得られない。
０００以下、さらに好ましくは２０００以下が適当であ
る。分子量が３０００以上であると極性基の効果が発揮
され難くなり所望の性能が得られない。
前記有機化合物中における各末端基の比率としては、原
子団量比率で、脂肪族炭化水素末端基が１０〜８０％、
フッ素化炭化水素末端基が１０〜８０％、極性基が３〜
２０％が適当である。この範囲以外ではＣ８Ｓ耐久性改
善効果が得られ難い。
子団量比率で、脂肪族炭化水素末端基が１０〜８０％、
フッ素化炭化水素末端基が１０〜８０％、極性基が３〜
２０％が適当である。この範囲以外ではＣ８Ｓ耐久性改
善効果が得られ難い。
保護膜上には、前記有機化合物を、表面１ｒｒｌ当り、
０．０６〜３００ＩＩｇさらに好ましくは０．１〜１６
０１１Ｆの割合でそれらのみ、あるいは、他の潤滑剤、
防錆剤等を添加して薄層状に存在せしめる。
０．０６〜３００ＩＩｇさらに好ましくは０．１〜１６
０１１Ｆの割合でそれらのみ、あるいは、他の潤滑剤、
防錆剤等を添加して薄層状に存在せしめる。
また、その方法としては、湿式および乾式の公知の塗布
法が適用可能である。
法が適用可能である。
本発明の効果は、前記有機化合物を含む潤滑剤層を、カ
ーボン保護膜上に形成することにより得られるものであ
るが、その、カーボン保護膜としては、スパッタリング
、プラズマＣＶＤ等の方法で得られる、アモルファス状
、グラファイト状。
ーボン保護膜上に形成することにより得られるものであ
るが、その、カーボン保護膜としては、スパッタリング
、プラズマＣＶＤ等の方法で得られる、アモルファス状
、グラファイト状。
ダイアモンド状あるいはそれらの混合状態、積層状態の
カーボン薄膜が適用でき、その厚さとしては、６０〜５
００人が適当である。
カーボン薄膜が適用でき、その厚さとしては、６０〜５
００人が適当である。
強磁性金属薄膜としては、Ｇｏ−Ｎｉ、Ｇｏ−Ｏｒ。
Ｃｏ−Ｎｉ−１Ｏｒ 、Ｃｏ−Ｎｉ −Ｐ 、 Ｆｅ−
Ｇｏ 、 Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ等の真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンブレーティング法、メツキ法等により
得られる薄膜が使用でき、必要に応じて、Ｏｒ、Ｔｉ等
の下地層を設けることも可能である。下地層を含めた強
磁性金属薄膜の厚みとしてはＳＯＯ〜６ＯｏＯ人が適当
である。
Ｇｏ 、 Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ等の真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンブレーティング法、メツキ法等により
得られる薄膜が使用でき、必要に応じて、Ｏｒ、Ｔｉ等
の下地層を設けることも可能である。下地層を含めた強
磁性金属薄膜の厚みとしてはＳＯＯ〜６ＯｏＯ人が適当
である。
なお、強磁性金属薄膜とカーボン薄膜との間に、必要に
応じて、Ｏｒ、Ｔｉ等の非磁性金属薄膜、有機プラズマ
重合膜等を形成することも可能である。
応じて、Ｏｒ、Ｔｉ等の非磁性金属薄膜、有機プラズマ
重合膜等を形成することも可能である。
非磁性支持体としては、その素材として、λｇ合金、Ｔ
ｉ合金等の金属、ガラス、セラミックス。
ｉ合金等の金属、ガラス、セラミックス。
ポリエステル類、ポリイミド類、ポリアミドイミド類、
ポリカーボネート、ボリアリレート類等のプラスチック
ス等を主体としその表面に必要に応じてＣｏ−Ｐメツキ
、ポリイミドコーテイング膜等を形成させたものや、表
面にテキスチャリング加工で生じる突起、微小粒状、山
状、波状等の突起を設けたものが使用でき、その形状と
しては、ディスク、シート、フィルム、カード、ドラム
等目的に応じて選定することができる。
ポリカーボネート、ボリアリレート類等のプラスチック
ス等を主体としその表面に必要に応じてＣｏ−Ｐメツキ
、ポリイミドコーテイング膜等を形成させたものや、表
面にテキスチャリング加工で生じる突起、微小粒状、山
状、波状等の突起を設けたものが使用でき、その形状と
しては、ディスク、シート、フィルム、カード、ドラム
等目的に応じて選定することができる。
そして、それらの支持体の表面粗さとしては、最大高さ
Ｒ工ａｘで１００〜８００人が適当である。
Ｒ工ａｘで１００〜８００人が適当である。
以下、実施例につきさらに具体的に説明する。
直径９６Ｂ、厚さ１．２朋のム１合金板の表面に厚さ２
６μｍの非磁性Ｎ−Ｐ合金メツキを施こしテキスチャ加
工により平均粗さ６０人、最大高さ３００人の突起を形
成せしめたものを非磁性基板とし、その上にスパッタリ
ングにより厚さ１３００人のＯｒ下地と厚さ６００人の
ＣｏＮｉ強磁性金属薄膜を形成、さらにその上に、スパ
ッタリングにより厚さ２ｏＯ人のグラファイト保護層を
形成させた。これを試料ムとする。前記においてグラフ
ァイト層の代りにプラズマＣＶＤ法により厚さ６０人の
ダイヤモンドライクカーボン保護層を形成させたものを
試料Ｂとする。同じく、厚さ３０人のダイヤモンドライ
クカーボン保護層を形成させたものを試料Ｃ，カーボン
保護層のないものを試料りとする。これらの各試料に、
前述の各種の有機化合物を各々別々に種々の膜厚に塗布
したものにつきＣ８Ｓ測定およびヘッド吸着性測定を行
なった。ａＳＳ耐久としては、摩擦係数が１．０を超え
た時点のＣ８Ｓ回数またはヘッドクラッシュ発生時のＣ
８Ｓ回数で評価し、これらの時点をＣ８Ｓ寿命とした。
６μｍの非磁性Ｎ−Ｐ合金メツキを施こしテキスチャ加
工により平均粗さ６０人、最大高さ３００人の突起を形
成せしめたものを非磁性基板とし、その上にスパッタリ
ングにより厚さ１３００人のＯｒ下地と厚さ６００人の
ＣｏＮｉ強磁性金属薄膜を形成、さらにその上に、スパ
ッタリングにより厚さ２ｏＯ人のグラファイト保護層を
形成させた。これを試料ムとする。前記においてグラフ
ァイト層の代りにプラズマＣＶＤ法により厚さ６０人の
ダイヤモンドライクカーボン保護層を形成させたものを
試料Ｂとする。同じく、厚さ３０人のダイヤモンドライ
クカーボン保護層を形成させたものを試料Ｃ，カーボン
保護層のないものを試料りとする。これらの各試料に、
前述の各種の有機化合物を各々別々に種々の膜厚に塗布
したものにつきＣ８Ｓ測定およびヘッド吸着性測定を行
なった。ａＳＳ耐久としては、摩擦係数が１．０を超え
た時点のＣ８Ｓ回数またはヘッドクラッシュ発生時のＣ
８Ｓ回数で評価し、これらの時点をＣ８Ｓ寿命とした。
また、吸着試験は、ディスク上にスライダーを固定した
状態で６０°Ｃ２４時間放置しその後室温にてディスク
を回転させた場合の始動時にスライダーに加わる力が異
常値を示した場合を吸着発生とみなした。
状態で６０°Ｃ２４時間放置しその後室温にてディスク
を回転させた場合の始動時にスライダーに加わる力が異
常値を示した場合を吸着発生とみなした。
上記の各試料につき、それらの試料の内容とａＳＳ試験
および吸着試験の結果を第１表にまとめて記した。なお
、表中、実施倒産に（）を付したものは比較例である。
および吸着試験の結果を第１表にまとめて記した。なお
、表中、実施倒産に（）を付したものは比較例である。
（以 下金 白）
第１表より、脂肪族炭化水素末端基のない場合またはそ
の炭素数が７以下の場合〔比較例（２６）。
の炭素数が７以下の場合〔比較例（２６）。
（２４）、ｌ−フッ素化炭化水素末端基のない場合ある
いはその炭素数が２以下の場合〔比較例（２７）、（２
６）−極性基がたとえば〇 四 −ｃｏ−のごとき付着力の弱い場合〔比較例（２Ｂ））
。
いはその炭素数が２以下の場合〔比較例（２７）、（２
６）−極性基がたとえば〇 四 −ｃｏ−のごとき付着力の弱い場合〔比較例（２Ｂ））
。
カーボン保護膜がない場合あるいは非常に薄い場合〔比
較例（３ｏ）、（２９））ＩＩには所望の性能が得られ
ないが、本願請求の範囲内であれば、ａＳＳ試験結果お
よび吸着試験結果がすべて良好であることがわかる。ま
だ、比較例（３１）より明らかなように、従来公知のパ
ー７０ロポリエーテルを潤滑剤層に使用した場合にも所
望の性能が得られなかった。
較例（３ｏ）、（２９））ＩＩには所望の性能が得られ
ないが、本願請求の範囲内であれば、ａＳＳ試験結果お
よび吸着試験結果がすべて良好であることがわかる。ま
だ、比較例（３１）より明らかなように、従来公知のパ
ー７０ロポリエーテルを潤滑剤層に使用した場合にも所
望の性能が得られなかった。
発明の効果
本発明によれば、記録密度向上のために表面突起高さを
低減せしめて表面性をかなり良好ならしめてもａＳＳ、
吸着等の性能が低下せず良好な耐久信頼性を有する磁気
記録媒体を得ることができるため、本発明は工業的に価
値の高いものである、
低減せしめて表面性をかなり良好ならしめてもａＳＳ、
吸着等の性能が低下せず良好な耐久信頼性を有する磁気
記録媒体を得ることができるため、本発明は工業的に価
値の高いものである、
図は本発明の実施例における磁気記録媒体の基本構成図
である。 １・・・・・・非磁性支持体、２・・・・・・強磁性金
属薄膜、３・・・・・・保護膜、４・・・・・・潤滑剤
層。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名４−
５間滑刑１
である。 １・・・・・・非磁性支持体、２・・・・・・強磁性金
属薄膜、３・・・・・・保護膜、４・・・・・・潤滑剤
層。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名４−
５間滑刑１
Claims (1)
- 非磁性支持体上に強磁性金属薄膜が形成されている磁気
記録媒体において、前記強磁性金属薄膜上にカーボン保
護膜を介して、すくなくとも、炭素数８以上の飽和また
は不飽和の脂肪族炭化水素末端基と炭素数３以上のフッ
素化炭化水素末端基とを各１個以上と、−ＯＨ、−ＳＨ
、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式
、表等があります▼、−ＮＨ＿２、−ＮＨ、▲数式、化
学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があり
ます▼、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、
化学式、表等があります▼（ただし、Ｘ、Ｙ、Ｚおよび
Ｗはそれぞれ硫黄または酸素原子を表わし、ｌ、ｍ、ｎ
およびｋはそれぞれ０または１の整数を表わす。）の中
から選ばれた１個の極性基とを有する有機化合物を、す
くなくとも１種以上含有する潤滑剤層が形成されている
ことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26007888A JPH02108218A (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26007888A JPH02108218A (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02108218A true JPH02108218A (ja) | 1990-04-20 |
Family
ID=17342999
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26007888A Pending JPH02108218A (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02108218A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014191847A (ja) * | 2013-03-27 | 2014-10-06 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62141626A (ja) * | 1985-12-16 | 1987-06-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS62219314A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1988
- 1988-10-14 JP JP26007888A patent/JPH02108218A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62141626A (ja) * | 1985-12-16 | 1987-06-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS62219314A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014191847A (ja) * | 2013-03-27 | 2014-10-06 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法 |
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