JPH01500468A - A collection of two or more integrated semiconductor circuits - Google Patents
A collection of two or more integrated semiconductor circuitsInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。 (57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】 集積半導体メモリおよびそのような集積半導体メモリを有する集積信号プロセッ サ 本発明は、少なくともアドレス指定されたメモリセルからデータを読出すために そのメモリセルをアドレス指定するためのマトリックス状の周辺回路に配される メモリセルを具える集積半導体メモリに関するものである。本発明はまた、この ような集積半導体メモリを有する集積信号プロセッサに関するものである。[Detailed description of the invention] integrated semiconductor memories and integrated signal processors having such integrated semiconductor memories; sa The present invention provides a method for reading data from at least an addressed memory cell. Arranged in a matrix of peripheral circuits to address the memory cells. The present invention relates to integrated semiconductor memories comprising memory cells. The present invention also provides this The present invention relates to an integrated signal processor having such an integrated semiconductor memory.
集積製品の同族概念内において、好ましくは種々の記憶容量を有する製品の別形 が利用可能にされる。集積メモリの増加した記憶容量はメモリセル数の増加およ びそのメモリの周辺のアドレスデコード回路のアドレス指定容量の増加を意味す る。この場合において、基板の表面域は実質的に線形的に増加する。これは、再 設計することを必要とするために、通常広範囲に及ぶ結果となる。Within the homologous concept of integrated products, variants of the product preferably with different storage capacities is made available. The increased storage capacity of integrated memory is due to the increase in the number of memory cells and This means an increase in the addressing capacity of the address decoding circuits around the memory. Ru. In this case, the surface area of the substrate increases substantially linearly. This is again Because of the need to design, there are usually far-reaching consequences.
記憶容量の拡張は、メモリが信号プロセッサとともに基板上に集積される場合に は、かなり広範囲に及ぶ結果となる。メモリだけではなくメモリのまわりに配さ れるプロセッサの部分も“移動”される。したがって、完全に新しい配置は集積 プロセッサおよび関連メモリに対して成されねばならない。集積製品の再設計は 高価であって、同一基板上に集積されるメモリの記憶容量の拡張に必要とされる 信号プロセッサの再設計は非常な不利益であることが見出されている。Expansion of storage capacity is achieved when memory is integrated on the board along with a signal processor. has fairly wide-ranging consequences. Not only the memory, but also the area around the memory. The parts of the processor that are used are also "moved". Therefore, a completely new arrangement is must be done for the processor and associated memory. Redesigning integrated products Expensive and required to expand storage capacity of memory integrated on the same board Redesigning the signal processor has been found to be a significant disadvantage.
本発明の目的は、記憶容量が増大されるような場合には、メモリの配置に対して 既に存在する制限内において集積されるそのメモリを有する集積半導体メモリお よび集積信号プロセッサを提供することである。It is an object of the present invention to improve the memory arrangement when the storage capacity is increased. Integrated semiconductor memory or integrated semiconductor memory with its memory integrated within already existing limits. and an integrated signal processor.
本発明による集積半導体メモリは、前記アドレス指定可能なメモリセルの数が、 前記周辺回路によって潜在的にアドレス指定可能なメモリセルの数から実質的に ずれる(deviate)ことを特徴とするものである。The integrated semiconductor memory according to the invention is characterized in that the number of addressable memory cells is from the number of memory cells potentially addressable by said peripheral circuitry. It is characterized by deviating.
次に、図面を参照して本発明の詳細な説明する。Next, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
なお、図面において、 第1図は信号プロセッサの配置を示し、第2A図および第2B図は2つの異なる タイプの静的メモリセルを示し、 第3図は本発明による(集積半導体)メモリの組立てを図式的に示し、 第4図はメモリの回路の一部を示し、 第5図は本発明による(集積半導体)メモリに対するアドレスデコード回路の一 部を示し、 第6A図および第6B図は低セル密度および高セル密度夫々を有するメモリ部分 を示すとともに、 第7図は第6A図および第6B図に示されているメモリ部分のアドレス指定のた めの真理値表を示す。In addition, in the drawing, Figure 1 shows the arrangement of the signal processor, Figures 2A and 2B show two different indicates a type of static memory cell, FIG. 3 schematically shows the assembly of an (integrated semiconductor) memory according to the invention, Figure 4 shows part of the memory circuit, FIG. 5 shows an example of an address decoding circuit for an (integrated semiconductor) memory according to the present invention. part, FIGS. 6A and 6B show memory sections with low and high cell densities, respectively. In addition to showing FIG. 7 illustrates the addressing of the memory portions shown in FIGS. 6A and 6B. The truth table for
第1図において、信号プロセッサ1の配置が示されている。この信号プロセッサ 1は入力レジスタ3と、累算器および乗算器を有する算術および論理ユニット5 と、出力レジスタ7と、リードオンリメモリ9、リード/ライトメモIJ11と 、タイマユニット13を有している。また、信号プロセッサ1の所定応用にもっ と記憶容量が必要とされる場合には、リード/ライトメモ1月1が一層大きな表 面領域を占有するために、信号プロセッサ1の全配置を再考または再設計するこ とが必要である。In FIG. 1, the arrangement of a signal processor 1 is shown. This signal processor 1 has an input register 3 and an arithmetic and logic unit 5 with an accumulator and a multiplier , output register 7, read-only memory 9, read/write memo IJ11 , and a timer unit 13. Also, it is suitable for a given application of the signal processor 1. Read/Write Memo January 1 is a larger table when The entire arrangement of the signal processor 1 may be reconsidered or redesigned in order to occupy the surface area. is necessary.
大きさが異なるタイプのメモリセルを用いることによって、また最大蓄積容量( 言い換えれば、この場合に(表面領域に関して)最小メモリで充たされたメモリ マトリックス)に適したデコード回路を作ることによって、信号プロセッサ1は 、集積プロセッサの配置の変更を必要とすることなく、種々の蓄積容量を有する ように構成することができる。これは、図面を参照して後述する。By using memory cell types of different sizes, the maximum storage capacity ( In other words, the memory filled with the minimum memory (in terms of surface area) in this case By creating a decoding circuit suitable for the matrix), the signal processor 1 can , with various storage capacities without requiring changes in the arrangement of integrated processors. It can be configured as follows. This will be described later with reference to the drawings.
第2A図において、既知の6−ドランジスタメモリセル2Aが示されている。こ の6−ドランジスタメモリセル2Aは、電源端子■。。および電源端子VssO 間に接続され、2個のPMO3)ランジスタPi、 P2と2個のNMOS ) ランジスタN1. N2を具えるCMOS−)ランジスタフリップフロップを有 している。この6−ドランジスタメモリセル2Aはまた2個のNMOSアクセス トランジスタN3. N4も有している。CMOS−トランジスタフリップフロ ップの出力Q、 Qは、NMOSアクセストランジスタN3. N4がワードラ イン畦を介して適切な制御信号を受け取る場合に、ビットラインBLおよび集積 (反転)ビットラインBL夫々に接続される。この種の6−ドランジスタメモリ セル2Aの大きさは、例えば40.5x 40.75μ1112である。In FIG. 2A, a known 6-transistor memory cell 2A is shown. child The 6-transistor memory cell 2A is the power supply terminal ■. . and power supply terminal VssO connected between two PMO3) transistors Pi, P2 and two NMOS) Ransistor N1. CMOS with N2) has a transistor flip-flop are doing. This 6-transistor memory cell 2A also has two NMOS accesses. Transistor N3. It also has N4. CMOS-transistor flip flow The outputs Q, Q of NMOS access transistors N3. N4 is wordra The bit line BL and the integrated (Inverted) connected to each bit line BL. This kind of 6-transistor memory The size of the cell 2A is, for example, 40.5×40.75μ1112.
i2B図において、既知の4−トランジスタメモリセル2Bが示されている。6 −トランジスタメモリセル2Aに対応する部分は、同一番号が付されている。2 個の大きなPMOS トランジスタ (PI、 P2. 第2A図)に替えて、 4−トランジスタメモリセル2Bのフリップフロップは多結晶シリコン抵抗R1 ,R2を用いている。これら多結晶シリコン抵抗R1,R2はより難しい技術を 必要とするが、25.5 X 25.5μm2の大きさの表面領域を有する4− トランジスタメモリセル2Bになる。In the i2B diagram, a known 4-transistor memory cell 2B is shown. 6 - Portions corresponding to the transistor memory cell 2A are given the same numbers. 2 Instead of a large PMOS transistor (PI, P2. Fig. 2A), 4-The flip-flop of transistor memory cell 2B is a polycrystalline silicon resistor R1 , R2 are used. These polycrystalline silicon resistors R1 and R2 require more difficult technology. but with a surface area of size 25.5 x 25.5 μm2 It becomes a transistor memory cell 2B.
多結晶シリコン抵抗R1,R2は択一的に除去され得て、4−トランジスタメモ リセル2Bの製造に用いられる技術を簡素化し、準静的メモリセルとなる。CM OSの6−トランジスタメモリセル2Aおよび4−トランジスタメモリセル2B の表面領域はほぼ2:1の関係がある。しかしながら、6−トランジスタメモリ セル2Aおよび4−トランジスタメモリセル2Bの2つのタイプはほぼ四角形で あり、またそれら2つのタイプの長さくおよび巾)の割合は3:2である。2× 2CMO3)ランジスツメモリセル群の替わりに、多結晶シリコン抵抗R1,R 2を有する3×3メモリセル群は同一基板の表面領域に設けることができる。し たがって、記憶容量は2倍以上になる。記憶容量を2倍にすることは、アドレス 指定が、単一ビットによって増加されているビット長さを有するアドレスを必要 とすることを意味する。Polycrystalline silicon resistors R1, R2 can be alternatively removed and the 4-transistor memory The technology used to manufacture the recell 2B is simplified and becomes a quasi-static memory cell. CM OS 6-transistor memory cell 2A and 4-transistor memory cell 2B There is an approximately 2:1 relationship between the surface areas of . However, 6-transistor memory The two types of cell 2A and 4-transistor memory cell 2B are approximately rectangular. The ratio of length and width of these two types is 3:2. 2× 2CMO3) Polycrystalline silicon resistors R1, R instead of the transistor memory cell group A 3×3 memory cell group with 2 can be provided on the surface area of the same substrate. death Therefore, the storage capacity is more than doubled. Doubling the storage capacity means addressing The specification requires an address whose bit length is increased by a single bit. means to do so.
第3図において、本発明によるメモリ30の配置が図形的に示されている。この メモリ30は、メモリセルが行および列に配されるメモリセルの2個のマトリッ クス31A、 31Bを有している。メモリセルはアドレス信号叶r Yo、 Xa、 L+x、、 x、、 x、、 x、によってアドレス指定される。CM OS )ランジスタメモリセルが用いられる場合に、後述されるようにアドレス 信号OPを現実的に不要にすることができる。アドレス信号X2. Xs、 X −、XsがX−プレ選択回路33Aに供給される。このX−プレ選択回路33A から、8ビツト巾を有する連結35を介してX−選択回路37に供給される8個 の選択信号が導出される。アドレス信号OP、 XO,Xiは、3個のX−プレ 選択信号および3個のY−プレ選択信号を発生させるX/Y−プレ選択回路33 Bに供給される。これらのX−プレ選択信号およびY−プレ選択信号はX−ポス トデコード回路39およびY−選択回路41夫々に供給される。このY−選択回 路41はまたアドレス信号Y0を受け取る。X−選択回路37の出力はX−ポス トデコード回路39の他の入力に接続されている。したがって、両ワードライン 駆動回路43A。In FIG. 3, the arrangement of a memory 30 according to the invention is shown diagrammatically. this Memory 30 consists of two matrices of memory cells arranged in rows and columns. 31A and 31B. The memory cell receives the address signal Yo, Addressed by Xa, L+x, , x, , x, , x,. CM OS) When transistor memory cells are used, address The signal OP can actually be made unnecessary. Address signal X2. Xs, X -, Xs are supplied to the X-pre selection circuit 33A. This X-pre selection circuit 33A are supplied to the X-selection circuit 37 via a link 35 having a width of 8 bits. A selection signal is derived. The address signals OP, XO, Xi are the three X/Y-pre selection circuit 33 that generates a selection signal and three Y-pre selection signals B is supplied. These X-pre selection signals and Y-pre selection signals are The signal is supplied to the Y-decode circuit 39 and the Y-selection circuit 41, respectively. This Y-selection time Path 41 also receives address signal Y0. The output of the X-selection circuit 37 is It is connected to the other input of the decode circuit 39. Therefore, both word lines Drive circuit 43A.
43Bにおけるワードライン駆動回路は、X−ポストデコード回路39の出力を 介して3個のプレ選択信号の組合わせによって制御され得る。両ワードライン駆 動回路43A、 43Bにおける各ワードライン駆動回路はメモリセルマトリッ クス31A、 31B夫々のワードラインを制御する。Y−選択回路41は2個 のマルチプレジス回路45A、 45Bを制御する。これらマルチプレジス回路 45A、 45Bによって、いつもメモリセルの8個の列が同時に各メモリセル マトリックス31A、 31Bにおいて選択される。これらメモリセルマトリッ クス31A、 31Bにあけるメモリセルの8個の選択された列は、マルチプレ ジス回路45A、 45Bを介して入力回路47Aおよび出力回路47Bにおけ る読出し回路および書込み回路の対応する番号に接続されている。これら入力回 路47Aおよび出力回路47Bは、後述される信号RWNおよび信号φprec hによって制御される。この信号φprechはまたプレチャージ/ホールド回 路49A、 49Bに供給される。これらプレチャージ/ホールド回路49A、 49Bによって、ビットラインBLおよび反転ビットライン肛は各続出しまた は書込み動作に対してチャージされる。The word line drive circuit in 43B receives the output of the X-post decode circuit 39. can be controlled by a combination of three pre-select signals via the pre-select signal. both word line drive Each word line drive circuit in the drive circuits 43A and 43B is a memory cell matrix. control the word lines of each of the boxes 31A and 31B. There are two Y-selection circuits 41. control the multi-pressure circuits 45A and 45B. These multi-press circuits 45A and 45B, eight columns of memory cells are always connected to each memory cell at the same time. Selected in matrices 31A and 31B. These memory cell matrices The eight selected columns of memory cells in boxes 31A and 31B are In the input circuit 47A and output circuit 47B via the digital circuits 45A and 45B. are connected to corresponding numbers of read and write circuits. These input times The circuit 47A and the output circuit 47B are connected to a signal RWN and a signal φprec, which will be described later. Controlled by h. This signal φprech is also used as a precharge/hold circuit. It is supplied to paths 49A and 49B. These precharge/hold circuits 49A, By 49B, the bit line BL and the inverted bit line is charged for write operations.
第4図において、第3図の細部、言い換えれば例えばプレチャージ/ホールド回 路49Aのようなプレチャージ/ホールド回路49、メモリセルマトリックス3 1Aのメモリセル51、マルチプレジス回路45Aの部分45、および入力回路 47Aの読出し・書込み回路47が示されている。メモリ30はプレチャージ/ サンプルクロックパルスに同期して動作する。In Figure 4, the details of Figure 3, in other words, for example, the precharge/hold circuit. Precharge/hold circuit 49, such as line 49A, memory cell matrix 3 1A memory cell 51, part 45 of multi-pressure circuit 45A, and input circuit 47A read/write circuit 47 is shown. Memory 30 is precharged/ Operates in synchronization with sample clock pulses.
信号φprechが“旧gh”の場合、ビットライン引、および反転ビットライ ン託は同一電位にチャージされる。また、NMOSトランジスタ5’;−、53 ,54はターン・オンされる。さらに、反転信号p prechがトランジスタ 56のゲートに供給されるために、読出し増巾器55はスイッチ・オフされる。When the signal φprech is “old gh”, the bit line pull and the inverted bit line The two terminals are charged to the same potential. Also, the NMOS transistor 5';-, 53 , 54 are turned on. Furthermore, the inverted signal p prech is connected to the transistor 56, the read amplifier 55 is switched off.
書込み回路57もまた、信号φprech 、 RWNから導出される信号HI Zがトランジスタ58.59.61.62をターン・オフするために動作してい ない。パスラインBus、 BIISは、信号φprechによって制御される NMOS )ランジスタロ3.64を介してVon−VTHにチャージされる。The write circuit 57 also receives a signal HI derived from the signals φprech and RWN. Z is operating to turn off transistors 58, 59, 61, 62. do not have. Pass lines Bus and BIIS are controlled by signal φprech NMOS) Charged to Von-VTH via Ranjistaro 3.64.
これらパスラインBtlS、 BIISはマルチプレジス回路45A、 45B の出力を入力回路47A1出力回路47B夫々に接続する。These pass lines BtlS and BIIS are connected to multi-press circuits 45A and 45B. The outputs of are connected to the input circuit 47A1 and the output circuit 47B, respectively.
信号φprechの″High’状態の間に、入力叶、YO,XO〜x5に供給 されるアドレスはまたX−ポストデコード回路39までデコードされる。信号φ prechの終了後(信号φprechがLow”になる。・)において、メモ リ30はサンプル−モードに入る。X−ポストデコード回路39を介して、ワー ドラインはそのワードラインに接続されるセルをビットラインBL、 BLに接 続するように動作される。NMOS )ランジスタロ5を介して電源VDDに接 続された交差接続されるPMOS )ランジスタロ6、67は、メモリセル51 からのデータがビットラタはPMOS )ランジスタ81.84およびPMOS )ランジスタ82゜83のゲート夫々に到達するとともに、またNMOS ) ランジスタ88.87夫々に到達する。読出し増巾器55はまた2つの交差接続 されるPMOS )ランジスタ85.86を有している。これら2つの交差接続 されたPMOS )ランジスタ85.86のゲートおよび主電極の接合夫々がP MOS )ランジスタ83とNMOS l−ランジスタ87との間の接続の1つ に、また2問O3)ランジスタ84とNMOS )ランジスタ88との間の接続 の1つに夫々接続され、データに対して出力OUTおよび反転出力OUTを形成 する。During the “High” state of the signal φprech, the input signals YO, XO to x5 are supplied. The addressed address is also decoded by the X-post decode circuit 39. signal φ After prech ends (signal φprech goes Low.), the memo 30 enters sample mode. Through the X-post decode circuit 39, the word The word line connects the cells connected to that word line to the bit lines BL and BL. It is operated to continue. NMOS) Connect to power supply VDD via transistor 5. The transistors 6 and 67 are connected to the memory cell 51. The data from the bit rate is PMOS) transistor 81.84 and PMOS ) reaches each gate of transistors 82 and 83, and also NMOS) It reaches transistors 88 and 87, respectively. The readout amplifier 55 also has two cross-connects. PMOS) has transistors 85 and 86. These two cross connections PMOS) The gate and main electrode junctions of transistors 85 and 86 are each connected to P One of the connections between MOS) transistor 83 and NMOS l-transistor 87 2 more questions O3) Connection between transistor 84 and NMOS) transistor 88 are connected to one of the two, respectively, to form an output OUT and an inverted output OUT for data. do.
新しいデータがメモリセル51に書込まれるようである場合に、信号旧Zは“旧 gh′″となる。したがって、入力DATAINにおけるデータは2つのブツシ ュプル増巾器を構成する4個のトランジスタ71〜74を介してパスラインBU S、 BtlSに供給される。When new data is to be written to the memory cell 51, the signal old Z becomes “old”. Therefore, the data at input DATAIN is divided into two bushes. The pass line BU is connected to the S, supplied to BtlS.
第5図には、X−プレ選択回路33A SX/Y−プレ選択回路338 SX− 選択回路37、X−ボストデコード回路39およびY−選択回路41の細部が示 されている。このX−プレ選択回路33Aは、8個の2人力NORゲート33A Nおよび8個のインバータ33AIを有している。アドレス信号X2. X2. X3゜x3の4つの実行可能な組合わせは、4個のNORゲー) 33ANに 供給される。他の4個のNORゲー) 33ANはアドレス信号X4. X4. X5. X5の4つの実行可能な組合わせを受け取り、8個のNOR出力信号 がインバータ33Alを介してX−選択回路3702人力NORゲート37Nに 供給される。このインバータ33A1の出力は16個のNORゲート37Nに供 給されて、アドレス信号X2. X2. X3. X3の各論理の組合わせはア ドレス信号X4. r4. X5. X5の各論理の組合わせと結合される。FIG. 5 shows the X-pre selection circuit 33A, SX/Y-pre selection circuit 338, SX- Details of the selection circuit 37, the X-bost decode circuit 39 and the Y-selection circuit 41 are shown. has been done. This X-pre selection circuit 33A consists of eight two-person NOR gates 33A. N and eight inverters 33AI. Address signal X2. X2. The four viable combinations of x3゜x3 are four NOR games) Supplied. (Other four NOR games) 33AN is the address signal X4. X4. X5. Receives 4 possible combinations of X5 and outputs 8 NOR output signals is passed through the inverter 33Al to the X-selection circuit 3702 and the human-powered NOR gate 37N. Supplied. The output of this inverter 33A1 is supplied to 16 NOR gates 37N. and the address signal X2. X2. X3. The combination of each logic of X3 is a Dress signal X4. r4. X5. It is combined with each logic combination of X5.
NORゲート37Nの各出力は(1つだけが示されている)X−ポストデコード 回路39の3個のNANDゲート39Bの入力に接続されている。これらNAN Oゲート39B夫々は、第2人力において反転信号φprechを受け取る。各 NANDゲー1−39Bの出力はワードライン駆動回路43Dの入力に接続され ている。3個のNANDゲー) 39Bの第3人力はX−プレ選択信号xpo Xx−プレ選択信号XP!またはX−プレ選択信号XP2のいずれかを受け取る 。図面にはX−プレ選択信号χP1を受け取る1個のNANDゲート39Eだけ が示されている。Y−選択回路41は6個の2人力NANDゲー) 49Bを有 している。Each output of NOR gate 37N (only one shown) is an X-post decode It is connected to the inputs of three NAND gates 39B of circuit 39. These NAN Each of the O gates 39B receives the inverted signal φprech in the second input. each The output of the NAND gate 1-39B is connected to the input of the word line drive circuit 43D. ing. 3 NAND games) The third human power of 39B is the X-pre selection signal xpo Xx-Pre selection signal XP! or receive either the X-pre selection signal XP2 . Only one NAND gate 39E receiving the X-pre selection signal χP1 is shown in the drawing. It is shown. The Y-selection circuit 41 has six two-person NAND games) 49B. are doing.
これら2人力NANDゲート49Eのうちの3個は、アドレス信号YOおよびY −プレ選択信号YPO,YPl、 YF3のうちの1つを受け取る。他の3個の NANDゲー1−49Eはアドレス信号質およびY−プレ選択信号YPO,YP I、 YF3の1つを受け取る。Three of these two human-powered NAND gates 49E are connected to address signals YO and Y. - Receive one of the pre-selection signals YPO, YPl, YF3. the other three NAND game 1-49E has address signal quality and Y-pre selection signals YPO, YP. I, receive one of YF3.
NANDゲー) 49Bの出力はインバータ491を介してマルチプレクス回路 45A、 45Bのマルチプレクストランジスタ(第4図参照、トランジスタ6 8.69)を制御する。NAND game) 49B output is sent to multiplex circuit via inverter 491 45A, 45B multiplex transistor (see Figure 4, transistor 6 8.69).
前述された選択方法は、次のことを達成することを目的とする。アドレス信号x 2〜x5を用いる場合に、8個または18個のメモリセルのブロックが選択され (第6A図および第6B図参照)、アドレス信号のDP、 XO,XI、 YO が関連ブロックのいずれのセルがアドレス指定されるかを定める。メモl730 (第3図)がCMOS )ランジスタメモリセルを有する場合には、信号x2〜 x5によって選択されたブロックは8個のセルを有するとともに、アドレス信号 叶は残るアドレス信号XO,Xi、 YOによってブロックからセルを選択する ために常に“零”であるべきである(第6A図参照)。選択信号xSELによっ て選択されたブロックにおけるセルは0から7まで番号が付される。セル0の選 択のために、信号XPO,YPO。The selection method described above aims to achieve the following: address signal x When using 2 to x5, blocks of 8 or 18 memory cells are selected. (See Figures 6A and 6B), address signals DP, XO, XI, YO determines which cell of the associated block is addressed. Memo l730 (Fig. 3) has CMOS) transistor memory cells, the signals x2 to The block selected by x5 has 8 cells and an address signal Leaf selects a cell from the block using the remaining address signals XO, Xi, and YO. Therefore, it should always be "zero" (see Figure 6A). By selection signal xSEL The cells in the selected block are numbered from 0 to 7. Cell 0 selection For selection, the signals XPO, YPO.
YOは”High″であるべきである(信号YOが”High”である場合に、 セル1は選択される。)。セル5の選択のために、信号XP2. YF3. Y Oは“High”であるべきである。この手順は第7図の表によって説明する。YO should be “High” (if signal YO is “High”, Cell 1 is selected. ). For selection of cell 5, signals XP2. YF3. Y O should be "High". This procedure will be explained using the table in FIG.
この表において、アドレス信号DP、 XO,Xi、 YO、プレ選択信号XP O,XPl、 YPO,YPI。In this table, address signals DP, XO, Xi, YO, pre-selection signal XP O, XPl, YPO, YPI.
YF3およびそれらによって選択されるセル間の関係は上部4行に書かれている 。信号XPI、 YPIにどんな動きもないために、実際には2個のワードライ ン駆動回路4300.43D2だけが存在する必要がある。ワードライン駆動回 路43D1は破線で示されている。この理由は、このワードライン駆動回路43 D1が単一配置に集積されているためである。しかしなから、接続されてい、な い。さらに、必要とされるマルチプレクス回路45は4個の制御信号だ、けを受 け取る(4から1までのマルチブレク゛す)。したがって、組合わせ(YPI、 YO)および組合わせ(YPI、’ YO)によって制御される多くのトラン ジスタが本実施例において現実には除去されることができる。The relationships between YF3 and the cells selected by them are written in the top four rows. . Since there is no movement on the signals XPI, YPI, there are actually two word drivers. Only one driver circuit 4300.43D2 needs to be present. Word line drive times The path 43D1 is shown in broken lines. The reason for this is that this word line drive circuit 43 This is because D1 is integrated in a single arrangement. But why is it connected? stomach. Furthermore, the required multiplex circuit 45 receives only four control signals. (Multiple break from 4 to 1). Therefore, the combination (YPI, YO) and combinations (YPI, ’YO) The jitter can actually be removed in this embodiment.
第6B図には、メモリ30が多結晶シリコン抵抗(R1,R2、i2B図参照) を有する小さいメモリセルを構成するマトリックスから構成される場合が示され ている。信号“X5EL”を用いる場合に、18個のメモリセルから成るブロッ クは選択される。これらのうちの16個のメモリセルは、ワードライン駆動回路 4300.4301.4302を制御する3個のNANDゲート39Eを介して アドレス信号DP、 XO,Xi、 YOによって選択することができる。プレ 選択信号YPO,YPI、 YF3は、アドレス信号YOに関連して、Y−選択 回路41を介して6から1までのマルチプレクス回路45を制御する。Xによっ て示されているセルはアドレス指定することができないことに注意するべきであ る。アドレス指定できるセルは0から15までの番号が付されている。最後の2 列と、第7図の表におけるアドレス信号DP、 XO〜X5およびYO(7) ”)Iigh (= 1 )”および“Low(=O)”の値とから、この場合 にプレ選択信号xPO〜XP2. YPO〜YP2が所定セルの選択に対して動 き得ることが推定され得る。また、表から、所望のプレ選択信号を形成するため に、どのようにアドレス信号DP、 XO。In Figure 6B, the memory 30 is a polycrystalline silicon resistor (R1, R2, i2, see Figure 6B). A case is shown in which the matrix consists of a small memory cell with ing. When using the signal “X5EL”, a block consisting of 18 memory cells selected. 16 of these memory cells are connected to the word line drive circuit Through three NAND gates 39E controlling 4300.4301.4302 It can be selected by address signals DP, XO, Xi, and YO. pre Selection signals YPO, YPI, YF3 are Y-selection in relation to address signal YO. Via circuit 41, multiplex circuits 45 from 6 to 1 are controlled. By X It should be noted that cells shown as cannot be addressed. Ru. Addressable cells are numbered from 0 to 15. last 2 column and address signals DP, XO to X5 and YO (7) in the table of FIG. In this case, from the values of “)Ihigh (= 1)” and “Low (=O)” Pre-selection signals xPO to XP2. YPO~YP2 moves in response to the selection of a predetermined cell. It can be estimated that this is possible. Also, from the table, to form the desired pre-selection signal , how address signals DP, XO.
xlが論理的に組合わされねばならないかが推定できる。It can be estimated whether xl must be logically combined.
アドレス信号XO,XI、また信号DPはメモリ容量が2倍になる時に、ワード ライン選択(行選択)とビットライン選択(列選択)に用いられることは注意さ れるべきである。Address signals XO, XI, and signal DP are used when the memory capacity is doubled. Note that it is used for line selection (row selection) and bitline selection (column selection). Should be.
各ブロックにおいてXで示されているダミーセルは、当然に他のアドレスビット がアドレス信号DPに加えて用いられる場合に、アドレス指定することができる 。しかしながら、この場合に、この付加的アドレスビットのアドレス指定容量の 178だけが用いられる。The dummy cells indicated by X in each block naturally contain other address bits. can be addressed if is used in addition to the address signal DP . However, in this case the addressing capacity of this additional address bit is Only 178 are used.
国際調査報告 AJINEXTo′lIl:EINτ=虹+Ar工orぐALSEARCHRE E≧0RTt、)Ninternational search report AJINEEXTo'lIl:EINτ=Rainbow+Ar engineering ALSEARCHRE E≧0RTt,)N
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