JPH0134939B2 - - Google Patents
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- JPH0134939B2 JPH0134939B2 JP56019438A JP1943881A JPH0134939B2 JP H0134939 B2 JPH0134939 B2 JP H0134939B2 JP 56019438 A JP56019438 A JP 56019438A JP 1943881 A JP1943881 A JP 1943881A JP H0134939 B2 JPH0134939 B2 JP H0134939B2
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- optical fiber
- metal
- metal coating
- vacuum chamber
- coating layer
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Landscapes
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は金属被覆光フアイバの製造方法に関す
る。
る。
耐熱性、耐水性、機械的強度等を満足させる光
フアイバ被覆層として、金属被覆が有力視されて
おり、従来でも各種の態様で金属被覆手段が実施
されているが、まだ改善の余地は残されている。
フアイバ被覆層として、金属被覆が有力視されて
おり、従来でも各種の態様で金属被覆手段が実施
されているが、まだ改善の余地は残されている。
例えば溶融メツキ法の場合、溶融金属の粘性抵
抗によつて光フアイバが断線される虞れがあるの
で高速被覆が望めず、しかも得られる被覆層が冷
却固化による鋳造組織であるためその厚さを充分
に設定しないとポーラスになつて防湿性が得られ
ず、また、スケール等が付着するといつたことも
問題になつていた。
抗によつて光フアイバが断線される虞れがあるの
で高速被覆が望めず、しかも得られる被覆層が冷
却固化による鋳造組織であるためその厚さを充分
に設定しないとポーラスになつて防湿性が得られ
ず、また、スケール等が付着するといつたことも
問題になつていた。
一方、イオンプレーテイングやスパツタリング
などの真空メツキ法では、その金属被覆層とガラ
ス質である光フアイバとの密着性が良好であると
いえども、該被覆層の膜質が硬いため被覆後にお
ける光フアイバの可撓性が損なわれ、実用時に光
フアイバを小さな曲率半径で曲げることができな
い難点があり、さらに後述する真空蒸着の手段に
比較し、高周波発振器や高周波コイル等の部品を
さらに必要とし、設備が高価になる難点があつ
た。
などの真空メツキ法では、その金属被覆層とガラ
ス質である光フアイバとの密着性が良好であると
いえども、該被覆層の膜質が硬いため被覆後にお
ける光フアイバの可撓性が損なわれ、実用時に光
フアイバを小さな曲率半径で曲げることができな
い難点があり、さらに後述する真空蒸着の手段に
比較し、高周波発振器や高周波コイル等の部品を
さらに必要とし、設備が高価になる難点があつ
た。
さらに真空蒸着の場合ではその金属被覆層と光
フアイバとの密着性が悪いために充分な光フアイ
バ補強効果が得られず、また、金属フオーミング
加工ではその造管加工時に光フアイバ外周を傷つ
けないようにするとか、造管加工後におけるパイ
プ状金属被覆層のシーム溶接が具合よく行なえな
いといつた点で問題が残されていた。
フアイバとの密着性が悪いために充分な光フアイ
バ補強効果が得られず、また、金属フオーミング
加工ではその造管加工時に光フアイバ外周を傷つ
けないようにするとか、造管加工後におけるパイ
プ状金属被覆層のシーム溶接が具合よく行なえな
いといつた点で問題が残されていた。
本発明では紡糸後の光フアイバを金属被覆する
にあたり、真空メツキ手段と設備の構成が安価な
真空蒸着手段とを併用して光フアイバ被覆するこ
とによりこれら両手段の個々の問題ならびに前述
の諸問題を解消し、耐熱性、耐水性、可撓性、機
械的強度等に優れる金属被覆光フアイバを製造せ
んとするものである。
にあたり、真空メツキ手段と設備の構成が安価な
真空蒸着手段とを併用して光フアイバ被覆するこ
とによりこれら両手段の個々の問題ならびに前述
の諸問題を解消し、耐熱性、耐水性、可撓性、機
械的強度等に優れる金属被覆光フアイバを製造せ
んとするものである。
以下、その具体的方法を図示の実施例により説
明すると、第1図において1,2,3は第1真空
室、第2真空室、第3真空室、であり、これら各
室1,2,3の隔壁および底壁には通孔4,5,
6が開設されていると共に下段の該通孔6にはシ
ール部7が設けられ、かつ、各真空室1,2,3
の外周ならびに通孔4,5の周囲にはこれら各室
1,2,3内の温度を一定に保つためパイプや穿
設路等による冷媒通孔8,8,8……が設けられ
ている。
明すると、第1図において1,2,3は第1真空
室、第2真空室、第3真空室、であり、これら各
室1,2,3の隔壁および底壁には通孔4,5,
6が開設されていると共に下段の該通孔6にはシ
ール部7が設けられ、かつ、各真空室1,2,3
の外周ならびに通孔4,5の周囲にはこれら各室
1,2,3内の温度を一定に保つためパイプや穿
設路等による冷媒通孔8,8,8……が設けられ
ている。
上記における第1真空室1内には、後述のプリ
フオームロツドを挾持して上下動する母材供給機
構(図示せず)の挾持具9と、該挾持具9の下位
に配置された筒形の加熱炉10とが装備され、さ
らに第2真空室2内には、交流電源11に接続さ
れた下位の蒸発皿12と、高周波電源13に接続
された上位の高周波コイル14とが配置され、か
つ蒸発皿12内には金属被覆材料15が収容され
ている。
フオームロツドを挾持して上下動する母材供給機
構(図示せず)の挾持具9と、該挾持具9の下位
に配置された筒形の加熱炉10とが装備され、さ
らに第2真空室2内には、交流電源11に接続さ
れた下位の蒸発皿12と、高周波電源13に接続
された上位の高周波コイル14とが配置され、か
つ蒸発皿12内には金属被覆材料15が収容され
ている。
また、第3真空室3には交流電源16に接続さ
れた蒸発皿17が配置されており、該蒸発皿17
内にも金属被覆材料18が収容されている。
れた蒸発皿17が配置されており、該蒸発皿17
内にも金属被覆材料18が収容されている。
本発明では上記における第1真空室1を8×
10-4torr程度に減圧し、さらに第2真空室2内に
はアルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で6×
10-5torr程度に減圧すると共に第3真空室3内も
同様の不活性ガス雰囲気下で3×10-4torr程度に
減圧する。
10-4torr程度に減圧し、さらに第2真空室2内に
はアルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で6×
10-5torr程度に減圧すると共に第3真空室3内も
同様の不活性ガス雰囲気下で3×10-4torr程度に
減圧する。
こうした状態において、第1真空室1内では母
材供給機構の挾持具9により挾持されている石英
系のプリフオームロツドAを加熱炉10内へと降
下させていき、該加熱炉10により溶融されたプ
リフオームロツドAの下端を線引して光フアイバ
Bへと連続的に紡糸すると共に紡糸後の該光フア
イバBを第2真空室2内へ導入する。
材供給機構の挾持具9により挾持されている石英
系のプリフオームロツドAを加熱炉10内へと降
下させていき、該加熱炉10により溶融されたプ
リフオームロツドAの下端を線引して光フアイバ
Bへと連続的に紡糸すると共に紡糸後の該光フア
イバBを第2真空室2内へ導入する。
第2真空室2内では、Al、Cr、Ti、Niなどの
中から選択された任意の金属被覆材料15が蒸発
皿12内で溶融されて蒸発し、かつこの蒸発金属
が高周波放電している高周波コイル14により励
起されるといつたイオンプレーテイングの雰囲気
にあり、したがつて前記において当該第2真空室
2内へ導入した光フアイバBは、そのコイル14
中を通過するときに1次金属被覆されることにな
る。
中から選択された任意の金属被覆材料15が蒸発
皿12内で溶融されて蒸発し、かつこの蒸発金属
が高周波放電している高周波コイル14により励
起されるといつたイオンプレーテイングの雰囲気
にあり、したがつて前記において当該第2真空室
2内へ導入した光フアイバBは、そのコイル14
中を通過するときに1次金属被覆されることにな
る。
この際の1次金属被覆はイオンプレーテイング
法に代わるスパツタリング法であつてもよいが、
当該1次金属被覆光フアイバCの被覆層厚は1μ
m以下とする。
法に代わるスパツタリング法であつてもよいが、
当該1次金属被覆光フアイバCの被覆層厚は1μ
m以下とする。
第2真空室2内で形成された1次金属光フアイ
バCは、同室2から第3真空室3内へと導入され
る。この第3真空室3内では、Al、Cu、Snなど
の中から選択された任意の金属被覆材料18が蒸
発皿17で溶融され、蒸発している。
バCは、同室2から第3真空室3内へと導入され
る。この第3真空室3内では、Al、Cu、Snなど
の中から選択された任意の金属被覆材料18が蒸
発皿17で溶融され、蒸発している。
なおこの際、蒸発皿17および金属被覆材料1
8は積層することにより上記蒸発量を多くできる
こととなる。
8は積層することにより上記蒸発量を多くできる
こととなる。
したがつて、前記においてこの第3真空室3内
へ導入された1次金属被覆光フアイバCの外周に
は同室2内の蒸発金属が2〜8μm程度の厚さで
真空蒸着され、これにより所望の2次金属被覆光
フアイバDが得られる。
へ導入された1次金属被覆光フアイバCの外周に
は同室2内の蒸発金属が2〜8μm程度の厚さで
真空蒸着され、これにより所望の2次金属被覆光
フアイバDが得られる。
以下、第3真空室3外へ出た2次金属被覆光フ
アイバは図示しない引取機により引きとられ、巻
取機へ巻きとられる。
アイバは図示しない引取機により引きとられ、巻
取機へ巻きとられる。
なお、上記における紡糸工程、1次金属被覆工
程2次金属被覆工程(特に両金属被覆工程)は図
示のごとくタンデムに並らべたことにより紡糸か
ら金属被覆までの各工程が連続的に実施でき、各
部の真空シールも簡易に行なえるようになる。
程2次金属被覆工程(特に両金属被覆工程)は図
示のごとくタンデムに並らべたことにより紡糸か
ら金属被覆までの各工程が連続的に実施でき、各
部の真空シールも簡易に行なえるようになる。
一方、上記において金属被覆材料15,18を
高融点材料(例えばCr、Ti、Niなど)とすると
き、これの加熱蒸発手段として電子ビームを採用
することもある。
高融点材料(例えばCr、Ti、Niなど)とすると
き、これの加熱蒸発手段として電子ビームを採用
することもある。
第2図は上記のようにして製造された金属被覆
光フアイバの断面図であり、この金属被覆光フア
イバはつぎのような特性を有している。
光フアイバの断面図であり、この金属被覆光フア
イバはつぎのような特性を有している。
まず、光フアイバBの外周にはイオンプレーテ
イング、スパツタリング等の真空メツキ手段によ
り極薄の1次金属被覆層を形成するから、該金属
被覆層と光フアイバとの密着性は充分に確保で
き、また該金属被覆層は硬質であつても極薄であ
るから光フアイバの可撓性を損うことがない。
イング、スパツタリング等の真空メツキ手段によ
り極薄の1次金属被覆層を形成するから、該金属
被覆層と光フアイバとの密着性は充分に確保で
き、また該金属被覆層は硬質であつても極薄であ
るから光フアイバの可撓性を損うことがない。
したがつて1次金属被覆の状態においてすでに
耐熱性や耐水性のある被覆層が得られ、可撓性も
満足させることになる。
耐熱性や耐水性のある被覆層が得られ、可撓性も
満足させることになる。
さらに1次金属被覆光フアイバの外周には真空
蒸着による比較的厚い2次金属被覆層を形成する
から、前記1次被覆層だけでは不充分な機械的強
度がこれにより増補されることになる。
蒸着による比較的厚い2次金属被覆層を形成する
から、前記1次被覆層だけでは不充分な機械的強
度がこれにより増補されることになる。
しかもこの2次金属被覆層は真空蒸着によるも
のであるため、可撓性は充分あり、また光フアイ
バとの密着性が悪い該2次金属被覆層であつても
前記1次金属被覆層とはよく密着するから、密着
不良による強度低下は生ぜず、さらに両金属被覆
層が一体となつたことにより前述した耐熱性、耐
水性はより一層向上することになる。
のであるため、可撓性は充分あり、また光フアイ
バとの密着性が悪い該2次金属被覆層であつても
前記1次金属被覆層とはよく密着するから、密着
不良による強度低下は生ぜず、さらに両金属被覆
層が一体となつたことにより前述した耐熱性、耐
水性はより一層向上することになる。
また、加工上の難度を伴なうことなく肉厚均等
な金属被覆が行なえるから、金属被覆光フアイバ
としての品質も高いものとなる。
な金属被覆が行なえるから、金属被覆光フアイバ
としての品質も高いものとなる。
以上説明した通り、本発明が特徴としている製
造方法によれば、耐熱性、耐水性、可撓性、機械
的強度等を満足させ得る金属被覆光フアイバが提
供でき、さらに真空メツキ手段と真空蒸着手段と
を連続して行うので、製造装置の構成が容易にで
きる効果がある。
造方法によれば、耐熱性、耐水性、可撓性、機械
的強度等を満足させ得る金属被覆光フアイバが提
供でき、さらに真空メツキ手段と真空蒸着手段と
を連続して行うので、製造装置の構成が容易にで
きる効果がある。
第1図は本発明方法の1実施例を示した説明
図、第2図は同上の方法によりり製造された金属
被覆光フアイバの断面図である。 1……第1真空室、2……第2真空室、3……
第3真空室、10……加熱炉、11……金属の蒸
発皿、14……高周波コイル、15……金属被覆
材料、17……金属の蒸発皿、18……金属被覆
材料、B……光フアイバ、C……1次金属被覆光
フアイバ、D……2次金属被覆光フアイバ。
図、第2図は同上の方法によりり製造された金属
被覆光フアイバの断面図である。 1……第1真空室、2……第2真空室、3……
第3真空室、10……加熱炉、11……金属の蒸
発皿、14……高周波コイル、15……金属被覆
材料、17……金属の蒸発皿、18……金属被覆
材料、B……光フアイバ、C……1次金属被覆光
フアイバ、D……2次金属被覆光フアイバ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 紡糸後の光フアイバをイオンプレーテイン
グ、スパツタリングなどの真空メツキ手段により
1次金属被覆し、これに連続して第1次被覆後の
光フアイバ上に真空蒸着手段により該1次被覆厚
よりも厚く2次金属被覆することを特徴とした金
属被覆光フアイバの製造方法。 2 1次金属被覆層の厚さを1μm以下とし、2
次金属被覆層の厚さを2〜8μmとする特許請求
の範囲第1項記載の金属被覆光フアイバの製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56019438A JPS57145047A (en) | 1981-02-12 | 1981-02-12 | Manufacturing of metal-coated optical fiber |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56019438A JPS57145047A (en) | 1981-02-12 | 1981-02-12 | Manufacturing of metal-coated optical fiber |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57145047A JPS57145047A (en) | 1982-09-07 |
JPH0134939B2 true JPH0134939B2 (ja) | 1989-07-21 |
Family
ID=11999290
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56019438A Granted JPS57145047A (en) | 1981-02-12 | 1981-02-12 | Manufacturing of metal-coated optical fiber |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS57145047A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63144308A (ja) * | 1986-12-09 | 1988-06-16 | Bridgestone Corp | 光伝送ホ−ス |
JP2948678B2 (ja) * | 1991-04-24 | 1999-09-13 | 玄々化学工業株式会社 | 減圧塗装装置 |
DE102018118225A1 (de) * | 2018-07-27 | 2020-01-30 | Schott Ag | Optisch-elektrische Leiteranordnung mit Lichtwellenleiter und elektrischer Leitschicht |
-
1981
- 1981-02-12 JP JP56019438A patent/JPS57145047A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS57145047A (en) | 1982-09-07 |
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