JPH01313452A - カルボン酸クロリドの製法 - Google Patents
カルボン酸クロリドの製法Info
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- JPH01313452A JPH01313452A JP1109242A JP10924289A JPH01313452A JP H01313452 A JPH01313452 A JP H01313452A JP 1109242 A JP1109242 A JP 1109242A JP 10924289 A JP10924289 A JP 10924289A JP H01313452 A JPH01313452 A JP H01313452A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/58—Preparation of carboxylic acid halides
- C07C51/60—Preparation of carboxylic acid halides by conversion of carboxylic acids or their anhydrides or esters, lactones, salts into halides with the same carboxylic acid part
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、カルボン酸又はその無水物をホスゲンと、カ
ルボン酸アミドの存在下に反応させることによる酸クロ
リドの製法に関する。
ルボン酸アミドの存在下に反応させることによる酸クロ
リドの製法に関する。
BE−PS620385及びDE−O82057956
には、触媒としてのジアルキルカルボン酸アミドの存在
下に反応を行うと、カルボン酸をカルボニルクロリドに
より、対応する酸クロリドに変えうろことが開示されて
いる。
には、触媒としてのジアルキルカルボン酸アミドの存在
下に反応を行うと、カルボン酸をカルボニルクロリドに
より、対応する酸クロリドに変えうろことが開示されて
いる。
この方法による酸クロリドの工業的製造においては、E
P−PS31504に詳細に記載されている困難が生じ
る。この特許明細書には、ジアルキルホルムアミド触媒
としてジインブチルホルムアミドを用いるとき、前記の
困難を避け、工業的に満足できる手段で酸クロリドが得
られると記載されている。
P−PS31504に詳細に記載されている困難が生じ
る。この特許明細書には、ジアルキルホルムアミド触媒
としてジインブチルホルムアミドを用いるとき、前記の
困難を避け、工業的に満足できる手段で酸クロリドが得
られると記載されている。
本発明者らは、カルボン酸アミドの存在下にカルボン酸
又はその無水物をホスゲンと反応させることによる酸ク
ロリドの製造において、カルボン酸アミドとして一般式 〜9個の炭素原子を有するアルキル基、R3は2〜9個
の炭素原子を有するアルキル基、R4及びR5は水素原
子又は1〜9個の炭素原子を有するアルキル基を意味し
、R1とR2の両方は分子部分−N−CH−R3を完成
して複素環構造を形成する炭化水素残基であってもよく
、前記のアルキル基及び炭化水素残基は反応条件下で不
活性な置換基を有していてもよい)で表わされる化合物
を用いるとき、著しく良好な結果が得られることを見出
した。
又はその無水物をホスゲンと反応させることによる酸ク
ロリドの製造において、カルボン酸アミドとして一般式 〜9個の炭素原子を有するアルキル基、R3は2〜9個
の炭素原子を有するアルキル基、R4及びR5は水素原
子又は1〜9個の炭素原子を有するアルキル基を意味し
、R1とR2の両方は分子部分−N−CH−R3を完成
して複素環構造を形成する炭化水素残基であってもよく
、前記のアルキル基及び炭化水素残基は反応条件下で不
活性な置換基を有していてもよい)で表わされる化合物
を用いるとき、著しく良好な結果が得られることを見出
した。
既に使用されているジアルキルアミドと異なり、窒素原
子上に二級炭素原子−CH,を有する本発明に用いられ
るカルボン酸アミドは、驚くべきことに酸クロリドをよ
り高い収率及び純度で製造することを可能にする。これ
らの触媒の他の予想外の利点は、所定の製造設備におい
てより高い導通量を可能にすることである。さらにこれ
らはきわめて低濃度においても良好な活性を有し、その
ため触媒による欠点、例えば普通のジアルキルカルボン
酸アミドを用いる場合に生ずる固形物の沈殿、樹脂の沈
着、強く着色した触媒分解物による粗生成物の汚染は、
全く生じないか又は著しく限定された形でしか起こらな
いことである。本発明に用いられる触媒の他の利点は、
不足量又はきわめて小さい過剰量のホスゲンを用いる場
合にも高い反応速度を生じさせるので、本方法を低エネ
ルギー消費により行うことができることである。
子上に二級炭素原子−CH,を有する本発明に用いられ
るカルボン酸アミドは、驚くべきことに酸クロリドをよ
り高い収率及び純度で製造することを可能にする。これ
らの触媒の他の予想外の利点は、所定の製造設備におい
てより高い導通量を可能にすることである。さらにこれ
らはきわめて低濃度においても良好な活性を有し、その
ため触媒による欠点、例えば普通のジアルキルカルボン
酸アミドを用いる場合に生ずる固形物の沈殿、樹脂の沈
着、強く着色した触媒分解物による粗生成物の汚染は、
全く生じないか又は著しく限定された形でしか起こらな
いことである。本発明に用いられる触媒の他の利点は、
不足量又はきわめて小さい過剰量のホスゲンを用いる場
合にも高い反応速度を生じさせるので、本方法を低エネ
ルギー消費により行うことができることである。
本発明に用いられる式■のジアルキルカルボン酸アミド
において、アルキル基は直鎖状でも分岐状でもよく、1
〜9個の炭素原子を有する。
において、アルキル基は直鎖状でも分岐状でもよく、1
〜9個の炭素原子を有する。
その例はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチル、ペンチル及びヘキシルである。アル
キル基並びにR1及びR2により形成される炭化水素残
基は、反応条件下で不活性な置換基、例えばハロゲン原
子例えば塩素原子又は臭素原子、アルコキシ基例えばメ
トキシ基又はエトキシ基、アルコキシカルボニル基例え
ばメトキシカルボニル基又はエトキシカルボニル基を有
していてもよい。複素環を形成する炭化水素残基は、さ
らにアルキル基例えばメチル基又はエチル基を有してい
てもよい。好適な複素環の例はピロリジン環、ピペリジ
ン環及びヘキサメチレンイミン環である。
チル、イソブチル、ペンチル及びヘキシルである。アル
キル基並びにR1及びR2により形成される炭化水素残
基は、反応条件下で不活性な置換基、例えばハロゲン原
子例えば塩素原子又は臭素原子、アルコキシ基例えばメ
トキシ基又はエトキシ基、アルコキシカルボニル基例え
ばメトキシカルボニル基又はエトキシカルボニル基を有
していてもよい。複素環を形成する炭化水素残基は、さ
らにアルキル基例えばメチル基又はエチル基を有してい
てもよい。好適な複素環の例はピロリジン環、ピペリジ
ン環及びヘキサメチレンイミン環である。
アルキル基妃;R3及びR5が1〜4個の炭素原子を有
する式■のカルボン酸アミドが好ましい。
する式■のカルボン酸アミドが好ましい。
一般式
(式中R6は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基、
R7は2〜4個の炭素原子を有するアルキル基、R8は
水素原子又は1〜6個の炭素原子を有するアルキル基を
意味する)で表わされるジアルキルカルボン酸アミドな
用いることが工業上特に重要である。ジアルキルカルボ
ン酸アミドとしては、例えば次の化合物があげられる。
R7は2〜4個の炭素原子を有するアルキル基、R8は
水素原子又は1〜6個の炭素原子を有するアルキル基を
意味する)で表わされるジアルキルカルボン酸アミドな
用いることが工業上特に重要である。ジアルキルカルボ
ン酸アミドとしては、例えば次の化合物があげられる。
92級ブチルホルムアミド、′ 。
・ ・ 、ジ
ー 3− ペンチルホルムアミド、3−ペンチルイソプ
ロピルホルムアミド、1−ホルミル−2,6−シメチル
ピペリジン、1−ホルミル−2,5−ジメチルピロリジ
ン及び1−プロピオニル−2,6−シメチルピペリジン
。
ロピルホルムアミド、1−ホルミル−2,6−シメチル
ピペリジン、1−ホルミル−2,5−ジメチルピロリジ
ン及び1−プロピオニル−2,6−シメチルピペリジン
。
好ましい出発物質は脂肪族カルボン酸又はその無水物で
ある。例えば一般式R−COOH(式中Rは1〜18個
の炭素原子を有するアルキル基を意味する)で表わされ
るカルボン酸が出発物質として用いられる。このアルキ
ル基はさらに反応条件下で不活性な置換基、例えば塩素
原子、1〜4個の炭素原子を有するアルコキシ基又はア
ルコキシカルボニル基を有していてもよい。
ある。例えば一般式R−COOH(式中Rは1〜18個
の炭素原子を有するアルキル基を意味する)で表わされ
るカルボン酸が出発物質として用いられる。このアルキ
ル基はさらに反応条件下で不活性な置換基、例えば塩素
原子、1〜4個の炭素原子を有するアルコキシ基又はア
ルコキシカルボニル基を有していてもよい。
出発物質としては例えば次の化合物があげられる。酢酸
、モノ−、ジー及びトリクロロ酢酸、プロピオン酸、酪
酸、吉草酸、ラウリン酸、ステアリン酸、カプロン酸、
イソ吉草酸、パルミチン酸、2−エチルヘキサンカルボ
ン酸及びメトキシ酢酸。
、モノ−、ジー及びトリクロロ酢酸、プロピオン酸、酪
酸、吉草酸、ラウリン酸、ステアリン酸、カプロン酸、
イソ吉草酸、パルミチン酸、2−エチルヘキサンカルボ
ン酸及びメトキシ酢酸。
脂肪族カルボン酸を化学量論量又は好ましくは過剰のホ
スゲンと、好ましくは出発酸1モルに対し1,1〜1.
5モルの比率で反応させる。式■のカルボン酸アミドは
、カルボン酸に対し、0、[1[15〜1モル%好まし
くは0.02〜0.3モル%の量で用いられる。より多
量のカルボン酸アミド例えば5モル%以下も用いること
もできる。しかしできるだけ少量のカルボン酸アミドを
用いることが有利である。なぜならば得られるカルボン
酸クロリドのその後の加工が容易になるからである。反
応は60〜150℃好ましくは50〜100℃の温度で
、常圧又は加圧下に非連続的又は連続的に行われる。
スゲンと、好ましくは出発酸1モルに対し1,1〜1.
5モルの比率で反応させる。式■のカルボン酸アミドは
、カルボン酸に対し、0、[1[15〜1モル%好まし
くは0.02〜0.3モル%の量で用いられる。より多
量のカルボン酸アミド例えば5モル%以下も用いること
もできる。しかしできるだけ少量のカルボン酸アミドを
用いることが有利である。なぜならば得られるカルボン
酸クロリドのその後の加工が容易になるからである。反
応は60〜150℃好ましくは50〜100℃の温度で
、常圧又は加圧下に非連続的又は連続的に行われる。
カルボン酸クロリドを回分的に製造する場合には、次の
ように操作する。例えば液状又は溶融したカルボン酸を
適当な攪拌式容器に装入し、これにカルボン酸アミドを
溶解し、そして混合物を反応温度に加熱する。ホスゲン
の供給は、すでに加熱の間に始めることができる。化学
量論量のホスゲンを供給するとすぐに、単位時間当りの
供給量を最初の量の10〜30%に減少する。反応の終
了はホスゲンの激しい還流によって示される。粗生成物
を蒸留により仕上げ処理し、その際カルボン酸クロリド
の最初の両分は、過剰に用いたカルボニルクロリドを含
有する。この画分は後続の混合物中で、装入されたカル
ボン酸と、ホスゲンの供給が開始されるとすぐに徐々に
反応する。
ように操作する。例えば液状又は溶融したカルボン酸を
適当な攪拌式容器に装入し、これにカルボン酸アミドを
溶解し、そして混合物を反応温度に加熱する。ホスゲン
の供給は、すでに加熱の間に始めることができる。化学
量論量のホスゲンを供給するとすぐに、単位時間当りの
供給量を最初の量の10〜30%に減少する。反応の終
了はホスゲンの激しい還流によって示される。粗生成物
を蒸留により仕上げ処理し、その際カルボン酸クロリド
の最初の両分は、過剰に用いたカルボニルクロリドを含
有する。この画分は後続の混合物中で、装入されたカル
ボン酸と、ホスゲンの供給が開始されるとすぐに徐々に
反応する。
連続的操作法においては、反応器にまずカルボン酸及び
触媒をほぼ溢流するまで満たす。次いでカルボン酸をカ
ルボニルクロリドと所望の反応温度で反応させる。カル
ボン酸、カルボン酸アミド及びホスゲンを同時にかつ連
続的に反応益に供給する。一般に反応容積の10〜40
%であるカルボン酸の1時間当りの流量は、分子量がよ
り高いカルボン酸の場合は反応容積の50〜80%に増
加することができる。
触媒をほぼ溢流するまで満たす。次いでカルボン酸をカ
ルボニルクロリドと所望の反応温度で反応させる。カル
ボン酸、カルボン酸アミド及びホスゲンを同時にかつ連
続的に反応益に供給する。一般に反応容積の10〜40
%であるカルボン酸の1時間当りの流量は、分子量がよ
り高いカルボン酸の場合は反応容積の50〜80%に増
加することができる。
カルボン酸アミドは連続的に添加される。酸アミドをあ
らかじめカルボン酸に溶解し、これと−緒に反応器に供
給することもできる。連続的操作法においてホスゲンの
量は、化学量論量より数モル%多い量に制限できる。な
ぜならば反応器の後に接続されたカラム中で過剰のホス
ゲンは分離され、直ちに反応器に返送されるからである
。
らかじめカルボン酸に溶解し、これと−緒に反応器に供
給することもできる。連続的操作法においてホスゲンの
量は、化学量論量より数モル%多い量に制限できる。な
ぜならば反応器の後に接続されたカラム中で過剰のホス
ゲンは分離され、直ちに反応器に返送されるからである
。
本発明方法により製造される化合物は溶剤であり、ある
いは溶剤、香料、可塑剤、洗浄剤、過酸化物、媒染剤及
び有害生物駆除剤製造のための有用な出発材料である。
いは溶剤、香料、可塑剤、洗浄剤、過酸化物、媒染剤及
び有害生物駆除剤製造のための有用な出発材料である。
これらの使用に関しては、前記の刊行物及びUllma
nns Ehicyklo%dieder techn
ischen Chemie、 5巻100頁以下及び
393頁以下が参照される。
nns Ehicyklo%dieder techn
ischen Chemie、 5巻100頁以下及び
393頁以下が参照される。
例1
流出口、還流冷却器及び供給装置を備え、流出口までの
容積が300容量部である攪拌式容器中に、2−エチル
ヘキサン酸144重量部及びジ2級ブチルホルムアミド
0.31重量部(0゜2モル%)を装入する。ホスゲン
を70℃で導入することにより、2−エチルヘキサン酸
を完全に酸クロリドに変化させる。還流冷却器の冷却液
の温度は一70℃である。毎時、92級ブチルホルムア
ミド0.2そル%を溶解した2−エチルヘキサン酸18
4重量部及びホスゲン145重量部を、反応混合物中に
70℃で導入する。
容積が300容量部である攪拌式容器中に、2−エチル
ヘキサン酸144重量部及びジ2級ブチルホルムアミド
0.31重量部(0゜2モル%)を装入する。ホスゲン
を70℃で導入することにより、2−エチルヘキサン酸
を完全に酸クロリドに変化させる。還流冷却器の冷却液
の温度は一70℃である。毎時、92級ブチルホルムア
ミド0.2そル%を溶解した2−エチルヘキサン酸18
4重量部及びホスゲン145重量部を、反応混合物中に
70℃で導入する。
粗反応生成物が攪拌式反応器の流出口から貯蔵容器中に
流出し、そこから次の加工に供給される。粗2−エチル
ヘキサン酸クロリドが999%の純度で得られ、これは
80の沃素色価を有する。
流出し、そこから次の加工に供給される。粗2−エチル
ヘキサン酸クロリドが999%の純度で得られ、これは
80の沃素色価を有する。
例2〜4
同様にして下記表に記載の酸を、表中の反応条件下で酸
クロリドに変える。過剰に用いたホスゲンを仕上げ処理
段階で凝縮させ、そして反応段階に返送する場合には、
新しいホスゲンの供給を実質的に化学量論量に減少させ
る。
クロリドに変える。過剰に用いたホスゲンを仕上げ処理
段階で凝縮させ、そして反応段階に返送する場合には、
新しいホスゲンの供給を実質的に化学量論量に減少させ
る。
仕上げ処理段階において、生成物の揮発性からみて可能
ならば、反応生成物を蒸留により精製する。難揮発性化
合物の場合は、活性炭による精製を行うことができる。
ならば、反応生成物を蒸留により精製する。難揮発性化
合物の場合は、活性炭による精製を行うことができる。
しかし粗生成物の良好な品質の故に、多くの場合これ以
上の精製は必要でない。
上の精製は必要でない。
例4において触媒量を0.1モル%又は0.05モ煽又
は0.025モル%と段階的に半減すると、粗牛脂脂肪
酸クロリドの沃素色価は段階的に減少して30となる。
は0.025モル%と段階的に半減すると、粗牛脂脂肪
酸クロリドの沃素色価は段階的に減少して30となる。
この場合の反応温度は70℃、80℃又は100℃であ
る。
る。
例5(比較例)
例1の装置内で同様にして、2−エチルへキサン酸14
4重量部及びジイソブチルホルムアミド0.61重量部
(0,2モル%)を、ホスゲンにより70°Cで完全に
酸クロリドに変える。毎時、ジイソブチルホルムアミド
0.2モル%を溶解した2−エチルヘキサン酸81.5
重量部及びホスゲン65重量部を反応混合物中に70℃
で導入する。得られた粗生成物は2−エチルヘキサン酸
クロリド992%及び2−エチルヘキサン酸無水物0.
2%を含有する。これは150の沃素色価を有する。
4重量部及びジイソブチルホルムアミド0.61重量部
(0,2モル%)を、ホスゲンにより70°Cで完全に
酸クロリドに変える。毎時、ジイソブチルホルムアミド
0.2モル%を溶解した2−エチルヘキサン酸81.5
重量部及びホスゲン65重量部を反応混合物中に70℃
で導入する。得られた粗生成物は2−エチルヘキサン酸
クロリド992%及び2−エチルヘキサン酸無水物0.
2%を含有する。これは150の沃素色価を有する。
例6〜8(比較例)
同様にして下記表に記載の酸を、表中の反応条件下で酸
クロリドに変える。
クロリドに変える。
例9
内容500容量部の攪拌式反応器中に、牛脂脂肪酸27
6重量部及びジー 3−ペンチルホルムアミド0.19
重量部(0,1モル%)を装入し、次いで反応器内容物
を90℃に加熱し、この温度でホスゲンを、6時間かけ
て反応混合物中に浸漬した管により導入する。同じ温度
でさらに30分間ホスゲンの還流下に攪拌し、次いで過
剰のホスゲンを窒素により追出す。20の沃素色価を有
する粗牛脂脂肪酸クロリドが292重量部得られる。こ
の酸クロリドは998%の純度を有する。収率は995
モル%である。
6重量部及びジー 3−ペンチルホルムアミド0.19
重量部(0,1モル%)を装入し、次いで反応器内容物
を90℃に加熱し、この温度でホスゲンを、6時間かけ
て反応混合物中に浸漬した管により導入する。同じ温度
でさらに30分間ホスゲンの還流下に攪拌し、次いで過
剰のホスゲンを窒素により追出す。20の沃素色価を有
する粗牛脂脂肪酸クロリドが292重量部得られる。こ
の酸クロリドは998%の純度を有する。収率は995
モル%である。
例10
例1の装置内で2−エチルヘキサン酸144重量部を、
ジー3−ペンチルホルムアミド0.185重量部(0,
1モル%)の存在下に80℃でカルボニルクロリドと完
全に反応させて酸クロリドにする。毎時、ジー3−ペン
チルホルムアミド0.348部を溶解した2−エチルヘ
キサン酸271重量部及びホスゲン205重量部を、反
応混合物中に80℃で導入する。こうして得られた粗2
−エチルヘキサン酸クロリドは998%の純度及び40
の沃素色価を有する。蒸留により、水のように澄んだ生
成物が実際上定量的に得られる。
ジー3−ペンチルホルムアミド0.185重量部(0,
1モル%)の存在下に80℃でカルボニルクロリドと完
全に反応させて酸クロリドにする。毎時、ジー3−ペン
チルホルムアミド0.348部を溶解した2−エチルヘ
キサン酸271重量部及びホスゲン205重量部を、反
応混合物中に80℃で導入する。こうして得られた粗2
−エチルヘキサン酸クロリドは998%の純度及び40
の沃素色価を有する。蒸留により、水のように澄んだ生
成物が実際上定量的に得られる。
出願人 ビーニーニスエフ・アクチェンゲゼルシャ
フト代理人 弁理士 高 橋 淳 −1゜
フト代理人 弁理士 高 橋 淳 −1゜
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、カルボン酸又はその無水物をホスゲンと、カルボン
酸アミドの存在下に反応させ、その際カルボン酸アミド
として一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I (式中R^1は基▲数式、化学式、表等があります▼又
は−CH_2−R^5、R^2は1〜9個の炭素原子を
有するアルキル基、R^3は2〜9個の炭素原子を有す
るアルキル基、R^4及びR^5は水素原子又は1〜9
個の炭素原子を有するアルキル基を意味し、R^1とR
^2の両方は分子部分▲数式、化学式、表等があります
▼を完成して複素環構造を形成する 炭化水素残基であつてもよく、前記のアルキル基及び炭
化水素残基は反応条件下で不活性な置換基を有していて
もよい)で表わされる化合物を用いることを特徴とする
、酸クロリドの製法。 2、アルキル基R^3及びR^5が1〜4個の炭素原子
を有する式 I のカルボン酸アミドを用いることを特徴
とする、第1請求項に記載の方法。 3、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼II (式中R^6は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基
、R^7は2〜4個の炭素原子を有するアルキル基、R
^8は水素原子又は1〜6個の炭素原子を有するアルキ
ル基を意味する)で表わされるカルボン酸ジアルキルア
ミドを用いることを特徴とする、第1請求項に記載の方
法。 4、反応を30〜150℃の温度で行うことを特徴とす
る、第1請求項に記載の方法。 5、カルボン酸に対し、少なくとも化学量論量のホスゲ
ンを用いることを特徴とする、第1請求項に記載の方法
。 6、式 I のカルボン酸アミドをカルボン酸に対し0.
005〜1モル%の量で用いることを特徴とする、第1
請求項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3814969.9 | 1988-05-03 | ||
DE3814969 | 1988-05-03 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01313452A true JPH01313452A (ja) | 1989-12-18 |
Family
ID=6353472
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1109242A Pending JPH01313452A (ja) | 1988-05-03 | 1989-05-01 | カルボン酸クロリドの製法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5623082A (ja) |
EP (1) | EP0340706B1 (ja) |
JP (1) | JPH01313452A (ja) |
DE (1) | DE58905874D1 (ja) |
HU (1) | HU202181B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005330283A (ja) * | 2004-05-17 | 2005-12-02 | Lanxess Deutschland Gmbh | 塩化フタロイルの製造方法 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5278328A (en) * | 1991-03-12 | 1994-01-11 | Nippon Oil & Fats Co., Ltd. | Process for producing carboxylic acid chloride |
KR100683274B1 (ko) * | 2004-02-12 | 2007-02-15 | 에스케이케미칼주식회사 | 치환된 벤조피란 화합물의 제조방법 |
EP2888226B2 (en) | 2012-08-23 | 2019-07-03 | Galaxy Surfactants Ltd. | Method to produce n-acyl amino acid surfactants using n-acyl amino acid surfactants or the corresponding anhydrides as catalysts |
EP3647303B1 (en) | 2018-10-31 | 2022-08-31 | Clariant International Ltd | Process for preparing fatty acid chlorides and n-acyl amino acid salts |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE620385A (ja) * | ||||
US3318950A (en) * | 1963-12-10 | 1967-05-09 | Du Pont | Process for preparing carboxylic acid chlorides |
DE2057956A1 (de) * | 1970-11-25 | 1972-06-08 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von aliphatischen Carbonsaeurechloriden |
DE2950155A1 (de) * | 1979-12-13 | 1981-07-02 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von carbonsaeurechloriden |
GB2085429A (en) * | 1980-10-10 | 1982-04-28 | Ciba Geigy Ag | Process for producing carboxylic acid chlorides |
DE3039999A1 (de) * | 1980-10-23 | 1982-05-27 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | N-alkylierte formamide, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
-
1989
- 1989-04-29 DE DE89107881T patent/DE58905874D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-04-29 EP EP89107881A patent/EP0340706B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-05-01 JP JP1109242A patent/JPH01313452A/ja active Pending
- 1989-05-02 HU HU892065A patent/HU202181B/hu not_active IP Right Cessation
-
1995
- 1995-07-11 US US08/488,923 patent/US5623082A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005330283A (ja) * | 2004-05-17 | 2005-12-02 | Lanxess Deutschland Gmbh | 塩化フタロイルの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
HU202181B (en) | 1991-02-28 |
US5623082A (en) | 1997-04-22 |
DE58905874D1 (de) | 1993-11-18 |
EP0340706A2 (de) | 1989-11-08 |
HUT50096A (en) | 1989-12-28 |
EP0340706B1 (de) | 1993-10-13 |
EP0340706A3 (de) | 1991-07-17 |
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