JPH01303921A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents
Semiconductor integrated circuit deviceInfo
- Publication number
- JPH01303921A JPH01303921A JP63135866A JP13586688A JPH01303921A JP H01303921 A JPH01303921 A JP H01303921A JP 63135866 A JP63135866 A JP 63135866A JP 13586688 A JP13586688 A JP 13586688A JP H01303921 A JPH01303921 A JP H01303921A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mos
- transistor
- power supply
- integrated circuit
- voltage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000002784 hot electron Substances 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000004335 scaling law Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Logic Circuits (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体集積回路装置に関し、特に同一チップ内
にバイポーラトランジスタとMOS)ラジスタとが混在
するいわゆるB 1−MO3集積回路に電源電圧を供給
する半導体集積回路装置に関する。[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and particularly to supplying a power supply voltage to a so-called B1-MO3 integrated circuit in which a bipolar transistor and a MOS (MOS) radiator are mixed in the same chip. The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device.
従来、この種のB i −MO3集積回路装置は出力バ
ッファ基本回路や内部論理ゲート回路等に数多く使用さ
れている。Conventionally, many B i -MO3 integrated circuit devices of this type have been used for output buffer basic circuits, internal logic gate circuits, and the like.
第4図はかかる従来の一例を説明するための出力バッフ
ァ回路図である。FIG. 4 is an output buffer circuit diagram for explaining an example of such a conventional device.
第4図に示すように、この出力バッファ回路は入力端子
1にハイレベルの信号が入力されたとき出力端子2には
ローレベルを出力し、逆に入力端子1にローレベルの信
号が入力されたときには出力端子2にハイレベルを出力
するというインバータの論理が実現されている。As shown in Figure 4, this output buffer circuit outputs a low level signal to output terminal 2 when a high level signal is input to input terminal 1, and conversely, when a low level signal is input to input terminal 1. The logic of the inverter is realized in which a high level is output to the output terminal 2 when the voltage is off.
これを回路素子単位にみると、入力端子1にローレベル
信号が入力されたとき、PチャネルMOS)ランジスタ
(以下、P−MOS)−ランジスタと称す)4,5はO
Nし、NチャネルMOSトランジスタ(以下、N−MO
S)ランジスタと称す)7.8がOFFする。この時、
NPNショットキートランジスタ12にはベース電流が
供給されるのでONする一方、P−MO9)−ランジス
タロが0FFL且つN−MO8)ランジスタ9.10が
ONすることにより、NPNショットキートランジスタ
11はそのベース電流が供給されないためOFFする。Looking at this in terms of circuit elements, when a low level signal is input to input terminal 1, P-channel MOS) transistors (hereinafter referred to as P-MOS) transistors 4 and 5 are turned off.
N-channel MOS transistor (hereinafter referred to as N-MO
S) 7.8 (referred to as transistor) turns OFF. At this time,
Since the base current is supplied to the NPN Schottky transistor 12, it is turned on. On the other hand, since the P-MO9)-rangistaro is 0FFL and the N-MO8) transistor 9.10 is turned on, the NPN Schottky transistor 11 has its base current turned on. is not supplied, so it turns OFF.
さらにNPNショットキートランジスタ13はそのベー
ス電流が供給されないためOFFとなり、NPNショッ
トキートランジスタ12と13とでトーテムポール構成
された出力端子2にはハイレベルが出力される。この時
、N−MO3)ランジスタフ、8は■。D電源電圧から
P−MO8)ランジスタ4,5はON抵抗による電圧降
下分を差し引いた電圧をクランプし、またN−MOSト
ランジスタ9,10にはそれぞれNPNショットキート
ランジスタ11゜12のベースに蓄積された電荷を引き
抜くときの電流が流れることになる。すなわち、N−M
OSトランジスタ7.8.9のソース・ドレイン間には
いずれも外部より供給される電源電圧値に近い電圧が印
加されるときがある。Further, since the NPN Schottky transistor 13 is not supplied with its base current, it is turned off, and a high level is output to the output terminal 2 formed by the totem pole of the NPN Schottky transistors 12 and 13. At this time, N-MO3) Langistav, 8 is ■. The P-MO transistors 4 and 5 clamp the voltage obtained by subtracting the voltage drop due to the ON resistance from the D power supply voltage, and the N-MOS transistors 9 and 10 accumulate the voltage at the bases of the NPN Schottky transistors 11 and 12, respectively. A current flows when the accumulated charge is extracted. That is, N-M
There are times when a voltage close to the power supply voltage value supplied from the outside is applied between the source and drain of the OS transistors 7.8.9.
一方、入力端子1にハイレベル信号が入力されたときに
は、P−MOS )ランジスタ4.5が0FFL、N−
MOSトランジスタ7.8はONする。この時、NPN
ショットキートランジスタ12はそのベース電流が供給
されないためOFFとなる。また、P−MOS)ランジ
スタロがONL、且つN−MOSトランジスタ9,10
がOFFすることにより、NPNショットキートランジ
スタ11のベース電流が供給される。このNPNショッ
トキートランジスタ11がONすると、NPNショット
キートランジスタ13はそのベース電流が供給されるた
めONL、NPNショットキートランジスタ12とNP
Nショットキートランジスタ13とでトーテムポール構
成された出力端子2にはローレベルが出力される。この
時、N−MOS)ランジスタ9はVDD電源電圧からP
−MOS)ランジスタロのON抵抗による電圧降下分を
差し引いた電圧をクランプし、またN−MOSトランジ
スタ7.8はそれぞれP−MOSトランジスタ6とN−
MOS)ラジスタ9のゲート電荷およびNPNショット
キートランジスタ12のベース電荷を引き抜くときの電
流が流れることになる。尚、出力端子2とNPNショッ
トキートランジスタ12との間に接続されるダイオード
23は出力レベル調整用のダイオードである。すなわち
、N−MOS)ランジスタフ、8゜9のソース・ドレイ
ン間には、いずれも外部より供給される電源電圧値に近
い電圧が印加されるときがある。On the other hand, when a high level signal is input to input terminal 1, P-MOS) transistor 4.5 is set to 0FFL, N-
MOS transistor 7.8 is turned on. At this time, NPN
The Schottky transistor 12 is turned off because its base current is not supplied. In addition, the P-MOS) transistor is ONL, and the N-MOS transistors 9 and 10
By turning off, the base current of the NPN Schottky transistor 11 is supplied. When this NPN Schottky transistor 11 is turned on, the NPN Schottky transistor 13 is supplied with its base current, so that the NPN Schottky transistor 12 and NP
A low level is output to the output terminal 2 which is configured as a totem pole with the N Schottky transistor 13. At this time, the N-MOS) transistor 9 changes from the VDD power supply voltage to the P
-MOS) The voltage after subtracting the voltage drop due to the ON resistance of the transistor is clamped, and the N-MOS transistors 7 and 8 are respectively connected to the P-MOS transistors 6 and N-
A current flows when drawing out the gate charge of the MOS) radiator 9 and the base charge of the NPN Schottky transistor 12. Note that the diode 23 connected between the output terminal 2 and the NPN Schottky transistor 12 is a diode for adjusting the output level. That is, there are times when a voltage close to the power supply voltage value supplied from the outside is applied between the source and drain of the N-MOS transistor.
第5図は従来の他の例を説明するためのBiCMO8$
1回路に使用される内部論理ゲートの回路図である。Figure 5 shows BiCMO8$ for explaining another conventional example.
FIG. 2 is a circuit diagram of an internal logic gate used in one circuit.
第5図に示すように、かかる内部論理ゲート回路は入力
端子1にハイレベルの信号が入力したときに出力端子2
にローレベルが出力され、逆に入力端子1にローレベル
信号が入力したときには出力端子2にハイレベルが出力
されるインバータ論理を実現するものである。As shown in FIG. 5, when a high level signal is input to the input terminal 1, this internal logic gate circuit outputs the signal to the output terminal 2.
This realizes an inverter logic in which a low level signal is output to the input terminal 1 and, conversely, a high level signal is output to the output terminal 2 when a low level signal is input to the input terminal 1.
これを回路素子単位についてみると、入力端子1にロー
レベルの信号が入力したときには、P−MOSトランジ
スタ15がON、N−MOSトランジスタ16.17が
OFFになるため、NPNトランジスタ18がON、N
PN)ランジスタ19がOFFになり、NPNトランジ
スタ18と19とでトーテムポール構成された出力端子
2にハイレベルが出力される。この時、N−MOSトラ
ンジスタ16は外部より供給される電源電圧VDDから
P−MOS)ランジスタ15のON抵抗による電圧降下
分を差し引いた電圧をクランプし、N−MO3)ラジス
タ17は外部より供給される電源電圧VDDからNPN
トランジスタ18のベース・エミッタ間順方向電圧と
P−MOSトランジスタ15のON抵抗を差し引いた電
圧をクランプする。Looking at this in terms of circuit elements, when a low level signal is input to input terminal 1, P-MOS transistor 15 is turned on and N-MOS transistors 16 and 17 are turned off.
PN) transistor 19 is turned off, and a high level is output to output terminal 2 which is configured as a totem pole with NPN transistors 18 and 19. At this time, the N-MOS transistor 16 clamps the voltage obtained by subtracting the voltage drop due to the ON resistance of the P-MOS transistor 15 from the power supply voltage VDD supplied from the outside, and the N-MOS transistor 17 clamps the voltage obtained by subtracting the voltage drop due to the ON resistance of the P-MOS transistor 15. from the power supply voltage VDD to NPN
A voltage obtained by subtracting the base-emitter forward voltage of the transistor 18 and the ON resistance of the P-MOS transistor 15 is clamped.
一方、入力端子1にハイレベルの信号が入力した時には
、P−MO3トランジスタ15がOFF、N−MOSト
ランジスタ16.17がONとなるため、NPN)ラン
ジスタ18がOFF、NPNトランジスタ19がONL
、、NPN)ランジスタ18.19でトーテムポール構
成された出力端子2にローレベルが出力される。この時
、N−MOSトラジスタ16のソース・ドレイン間には
、NPN)ランジスタ18のベース電荷を引き抜く時の
電流が流れ、はぼ外部から供給される電源電圧■DDに
近い電圧が印加される時がある。On the other hand, when a high level signal is input to the input terminal 1, the P-MO3 transistor 15 is turned off and the N-MOS transistor 16.17 is turned on, so the NPN transistor 18 is turned off and the NPN transistor 19 is turned on.
,,NPN) A low level is output to the output terminal 2 which is configured as a totem pole with transistors 18 and 19. At this time, a current flows between the source and drain of the N-MOS transistor 16 to draw out the base charge of the NPN transistor 18, and when a voltage close to the power supply voltage DD supplied from the outside is applied. There is.
上述した従来のB 1−MOS半導体集積回路装置は、
回路内で使用されるN−MOSトラジスタのソース・ド
レイン間にほぼ外部から供給される電源電圧(Voo)
に等しい電圧が印加される。The conventional B1-MOS semiconductor integrated circuit device described above is
The power supply voltage (Voo) supplied almost externally between the source and drain of the N-MOS transistor used in the circuit.
A voltage equal to is applied.
しかるに、N−MOSトランジスタのゲート長およびチ
ャネル部不純物濃度をいわゆるスケーリング則にしたが
って電源電圧一定のまま縮小していくと、ソース・ドレ
イン間の電界増大に伴うホットエレクトロン発生等の信
頼性上の問題や、またソース・トレイン間耐圧の減少な
どの問題が発生する。However, if the gate length and channel impurity concentration of an N-MOS transistor are reduced according to the so-called scaling law while keeping the power supply voltage constant, reliability problems such as the generation of hot electrons due to an increase in the electric field between the source and drain will occur. Also, problems such as a reduction in source-to-train breakdown voltage occur.
そこで、電源電圧を減少させると上記の問題は一応解決
されるが、今度は他の半導体集積回路装置と電源電圧の
標準化が計れなくなるという欠点があり、また回路設計
上、電源電圧への依存性が大である出力電圧レベルが他
の半導体集積回路装置と整合しなくなるという欠点があ
り、いずれにしても装置設計上の問題が生じてしまう。Therefore, reducing the power supply voltage will solve the above problem to a certain extent, but this will have the disadvantage that it will not be possible to standardize the power supply voltage with other semiconductor integrated circuit devices, and the circuit design will be dependent on the power supply voltage. There is a drawback that the output voltage level, which is large, does not match with other semiconductor integrated circuit devices, and in any case, problems arise in device design.
本発明の目的は、他の半導体装置との電源電圧の標準化
を計り、且つ出力電圧レベルが容易に整合しうる半導体
集積回路装置を提供することにある。An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device that can standardize power supply voltages with other semiconductor devices and easily match output voltage levels.
本発明の半導体集積回路装置は、同一チップ上に形成さ
れるバイポーラトランジスタとMOS)ランジスタとの
両方を使用して各種回路を実現する半導体集積回路装置
において、Bi−MOS)ランジスタフ路をレベルシフ
ト手段を介して外部供給電源に接続し、いずれの動作時
においてもNチャネルMOSトランジスタのソース・ド
レイン間に外部電源電圧よりも低い電圧が印加されるよ
うに構成される。The semiconductor integrated circuit device of the present invention is a semiconductor integrated circuit device that realizes various circuits using both bipolar transistors and MOS transistors formed on the same chip, in which a Bi-MOS transistor is used as a level shifter. The N-channel MOS transistor is connected to an external power supply via the N-channel MOS transistor, and is configured such that a voltage lower than the external power supply voltage is applied between the source and drain of the N-channel MOS transistor during any operation.
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
第1図は本発明の第一の実施例を説明するためのB 1
−MOS半導体集積回路装置における出力バッファ回路
図である。FIG. 1 is B 1 for explaining the first embodiment of the present invention.
- It is an output buffer circuit diagram in a MOS semiconductor integrated circuit device.
第1図に示すように、本実施例の出力バッファ回路は第
4図で説明した従来の出力バッファ回路と比較して、各
所にレベルシフト用のダイオード3を追加したことが回
路構成上界っている。As shown in FIG. 1, compared to the conventional output buffer circuit explained in FIG. 4, the output buffer circuit of this embodiment has an upper limit in circuit configuration due to the addition of level shifting diodes 3 at various locations. ing.
この出力、バッファ回路としての動作原理については、
従来例の出力バッファ回路と同様であるが、かかるレベ
ルシフト用ダイオード3を付加したことにより、P−M
OS)−ランジスタ4およびN−MOS トランジスタ
7、P−MOS)ランジスタ5およびN MOS)ラ
ンジスタ8、P−MOS)ランジスタロおよびN−MO
Sトランジスタってそれぞれ構成された3組のインバー
タ回路の電源電圧が低下し、N−MOS)ランジスタフ
、8.9のソース・ドレイン間に印加される電圧が外部
から供給される電源電圧VDDよりも小さくなる。また
、N−MOSトランジスタ10のソース・ドレイン間に
印加される電圧もレベルシフトダイオード3により外部
から供給される電源電圧vDDよりも小さくなる。Regarding this output and its operating principle as a buffer circuit,
Although it is similar to the conventional output buffer circuit, by adding the level shift diode 3, the P-M
OS) - Transistor 4 and N-MOS Transistor 7, P-MOS) Transistor 5 and N-MOS) Transistor 8, P-MOS) Transistor and N-MO
The power supply voltage of the three sets of inverter circuits each composed of an S transistor is lowered, and the voltage applied between the source and drain of the N-MOS transistor is lower than the power supply voltage VDD supplied from the outside. becomes smaller. Further, the voltage applied between the source and drain of the N-MOS transistor 10 is also lower than the power supply voltage vDD supplied from the outside by the level shift diode 3.
一方、出力端子2のローレベル電位を決めるのはNPN
ショットキートランジスタ13のベース・エミッタ間電
圧VBEとNPNショットキートランジスタ13のベー
ス・コレクタ間につくり込まれたショットキーダイオー
ドの順方向電圧VPとであり、また出力端子2のハイレ
ベル電位を決めるのはP−MOSトランジスタ5のON
抵抗とNPNショットキートランジスタ12のベース・
エミータ間順方向電圧Vngと抵抗35とダイオードの
順方向電圧VFとであるので、これらいずれのレベルも
レベルシフトダイオード3の影響を受けることはない。On the other hand, NPN determines the low level potential of output terminal 2.
The voltage VBE between the base and emitter of the Schottky transistor 13 and the forward voltage VP of the Schottky diode built between the base and collector of the NPN Schottky transistor 13 determine the high level potential of the output terminal 2. is the ON state of P-MOS transistor 5
The resistor and the base of the NPN Schottky transistor 12
Since the inter-emitter forward voltage Vng and the forward voltage VF of the resistor 35 and the diode are the same, none of these levels are affected by the level shift diode 3.
第2図は本発明の第二の実施例を説明するときのBi−
MOS半導体集積回路装置における内部論理ゲート回路
図である。FIG. 2 shows Bi-
FIG. 2 is an internal logic gate circuit diagram in a MOS semiconductor integrated circuit device.
第2図に示すように、かかる実施例の内部論理ゲート回
路は第5図に説明した従来の内部論理ゲート回路と比較
して、やはりレベルシフト用のダイオード3を有するこ
とが回路構成上具っている。As shown in FIG. 2, compared to the conventional internal logic gate circuit explained in FIG. 5, the internal logic gate circuit of this embodiment has a diode 3 for level shifting in its circuit configuration. ing.
すなわち、内部論理ゲート回路内で使用されるN−Mo
3)−ランジスタ16,17のソース・ドレイン間には
外部より供給される電源電圧VD+)より低い電圧が印
加されることになる。また、この内部論理ゲート回路の
出力を受けるのは、同様の他の内部論理ゲートもしくは
出力バッファのCMOSゲートであるため、かかるレベ
ルシフトダイオード3を挿入したことにより、論理振幅
が2〜3■稈度減少しても問題にはならない。That is, N-Mo used within the internal logic gate circuit.
3) A voltage lower than the externally supplied power supply voltage VD+) is applied between the source and drain of the transistors 16 and 17. Furthermore, since the output of this internal logic gate circuit is received by another similar internal logic gate or the CMOS gate of the output buffer, by inserting the level shift diode 3, the logic amplitude can be reduced by 2 to 3 μm. Even if the degree decreases, it will not be a problem.
更に、大力バッファは内部論理ゲート回路の入力に入力
レベル変換回路を入れたものであるから、入力レベル変
換回路部の電源のみに外部より供給される電源電圧VH
を用いれは、同様の効果が実現できる。Furthermore, since the large-scale buffer has an input level conversion circuit connected to the input of the internal logic gate circuit, the power supply voltage VH supplied from the outside is only used to power the input level conversion circuit section.
A similar effect can be achieved using .
また、このレベルシフトダイオード3を直列に複数個接
続することにより、N−Mo3hランジスタのソース・
ドし・イン間に加わる電圧をyA整することもできる。In addition, by connecting a plurality of level shift diodes 3 in series, the source of the N-Mo3h transistor
It is also possible to adjust the voltage applied between the input terminal and the input terminal by yA.
第3図は本発明の第三の実施例を説明するための内部論
理ゲート回路を複数個接続した回路構成図である。FIG. 3 is a circuit configuration diagram in which a plurality of internal logic gate circuits are connected for explaining a third embodiment of the present invention.
第3図に示すように、かかる内部論理ゲート回路21は
回路的には前述した第二の実施例と全く等価であるが、
レベルシフトダイオード3で外部より供給される電源電
圧VDDより低い電圧を電源供給線(vDn)22に供
給し、この電源供給ライン22により多数の内部論理ゲ
ート回li!821に電源電圧VDDより低い電圧を供
給するものである。As shown in FIG. 3, the internal logic gate circuit 21 is circuit-wise completely equivalent to the second embodiment described above;
The level shift diode 3 supplies a voltage lower than the externally supplied power supply voltage VDD to the power supply line (vDn) 22, and the power supply line 22 supplies a large number of internal logic gate circuits li! 821 with a voltage lower than the power supply voltage VDD.
例えば、このレベルシフト手段をゲートアレイのような
基本セルを多数アレイ状に並べたBi−MO3半導体集
積回路に適用すると、レベルシフトダイオード3が少数
で済むという利点がある。For example, when this level shift means is applied to a Bi-MO3 semiconductor integrated circuit in which a large number of basic cells such as a gate array are arranged in an array, there is an advantage that only a small number of level shift diodes 3 are required.
しかも、基本セル内にはかかるレベルシフトダイオード
3が必要でないため、基本セルの面積を小さくすること
ができ、より小さなチップ面積のB 1−MO3半導体
集積回路装置を実現できるという利点もある。Moreover, since the level shift diode 3 is not required in the basic cell, the area of the basic cell can be reduced, and there is an advantage that a B1-MO3 semiconductor integrated circuit device with a smaller chip area can be realized.
以上の説明では、主にTTL入出力レベル適合の半導体
集積回路を例にとって説明したが、本発明は他の入出力
レベル適合の半導体集積論理回路、またはアナログ集積
回路等にも応用することかできる。また、上述した例は
インバータ論理を示す回路を例にとって説明したが、他
の論理NAND、NOR等でも同様の結果が得られる。In the above explanation, the semiconductor integrated circuit that is compatible with TTL input/output levels has been mainly explained as an example, but the present invention can also be applied to semiconductor integrated logic circuits that are compatible with other input/output levels, analog integrated circuits, etc. . Moreover, although the above-mentioned example has been explained using a circuit showing inverter logic as an example, similar results can be obtained with other logics such as NAND and NOR.
以上説明したように、本発明の半導体集積回路装置は、
Bi−MO3集積回路装置に電源電圧レベル変換回路を
追加することにより、前記集積回路内で使用するN−M
OSトランジスタのソース、ドレイン間に外部より供給
される電源電圧VOOが直接印加されることを防ぐとと
もに、ホットエレクトロン効果や短チヤネル効果を抑え
ることができるという効果がある。従って、本発明によ
れば、例えばサブミクロン領域のN−Mo5 )−ラン
ジスタを使用しても現状の5V程度の標準電源電圧のま
までよく且つ入出力レベルも現状と同一でよい。As explained above, the semiconductor integrated circuit device of the present invention includes
By adding a power supply voltage level conversion circuit to the Bi-MO3 integrated circuit device, the N-M
This has the effect of preventing the power supply voltage VOO supplied from the outside from being directly applied between the source and drain of the OS transistor, and suppressing the hot electron effect and short channel effect. Therefore, according to the present invention, even if an N-Mo5)-transistor in the submicron region is used, the current standard power supply voltage of about 5 V may be used, and the input/output level may be the same as the current level.
第1図は本発明の第一の実施例を説明するための半導体
集積回路装置における出力バッファ回路図、第2図は本
発明の第二の実施例を説明するなめの半導体集積回路装
置における内部論理ゲートの回路図、第3図は本発明の
第三の実施例を説明するための同上装置の内部論理ゲー
トの回路図、第4図は従来の−・例を説明するための出
力バッファの回路図、第5図は従来の他の例を説明する
なめの内部論理ゲートの回路図である。
1・・・入力端子、2・・・出力端子、3・・・レベル
シフト用ダイオード、4〜6,15・・・P−Mo8)
−ランジスタ、7〜10,16.17・・・N−Mo5
tへランジスタ、11〜13・・・NPNショットキー
トランジスタ、14.20・・・抵抗、1.8.19・
・・NPNトランジスタ、21・・・内部論理ゲート回
路、22・・・電源電圧より低い電源供給線。 −
・l′FIG. 1 is an output buffer circuit diagram of a semiconductor integrated circuit device for explaining a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an internal diagram of a semiconductor integrated circuit device for explaining a second embodiment of the present invention. 3 is a circuit diagram of the internal logic gate of the same device for explaining the third embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a circuit diagram of the output buffer for explaining the conventional example. Circuit Diagram: FIG. 5 is a circuit diagram of a square internal logic gate illustrating another conventional example. 1...Input terminal, 2...Output terminal, 3...Level shift diode, 4-6, 15...P-Mo8)
-Ran resistor, 7-10, 16.17...N-Mo5
To t transistor, 11-13... NPN Schottky transistor, 14.20... resistor, 1.8.19.
... NPN transistor, 21... Internal logic gate circuit, 22... Power supply line lower than the power supply voltage. −
・l'
Claims (1)
MOSトランジスタとの両方を使用して各種回路を実現
する半導体集積回路装置において、Bi−MOSトラン
ジスタ回路をレベルシフト手段を介して外部供給電源に
接続し、いずれの動作時においてもNチャネルMOSト
ランジスタのソース・ドレイン間に外部電源電圧よりも
低い電圧が印加されるようにしたことを特徴とする半導
体集積回路装置。In a semiconductor integrated circuit device that realizes various circuits using both bipolar transistors and MOS transistors formed on the same chip, the Bi-MOS transistor circuit is connected to an external power supply via a level shift means, and when 1. A semiconductor integrated circuit device characterized in that a voltage lower than an external power supply voltage is applied between the source and drain of an N-channel MOS transistor even during operation.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63135866A JPH01303921A (en) | 1988-06-01 | 1988-06-01 | Semiconductor integrated circuit device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63135866A JPH01303921A (en) | 1988-06-01 | 1988-06-01 | Semiconductor integrated circuit device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01303921A true JPH01303921A (en) | 1989-12-07 |
Family
ID=15161597
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63135866A Pending JPH01303921A (en) | 1988-06-01 | 1988-06-01 | Semiconductor integrated circuit device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01303921A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04253366A (en) * | 1991-01-29 | 1992-09-09 | Toshiba Corp | Gate array device, input circuit, output circuit, and voltage step down circuit |
-
1988
- 1988-06-01 JP JP63135866A patent/JPH01303921A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04253366A (en) * | 1991-01-29 | 1992-09-09 | Toshiba Corp | Gate array device, input circuit, output circuit, and voltage step down circuit |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0132822B1 (en) | Composite circuit of bipolar transistors and field effect transistors | |
US4769561A (en) | Bipolar transistor-field effect transistor composite circuit | |
US4847522A (en) | CMOS amplifier/driver stage with output disable feature | |
JPH04253366A (en) | Gate array device, input circuit, output circuit, and voltage step down circuit | |
JPS625722A (en) | Inverter circuit | |
US4538076A (en) | Level converter circuit | |
US4859878A (en) | Bi-MOS levelshift circuit capable of controlling power consumption | |
KR920009708B1 (en) | Semiconductor Logic Circuit | |
JP2543285B2 (en) | BiCMOS logic circuit | |
CA1285622C (en) | Bipolar ecl input circuit for cmos devices | |
JPH01303921A (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
US4725745A (en) | Bi-MOS PLA | |
EP0426547A2 (en) | Bi-CMOS circuit | |
US4032796A (en) | Logic dot-and gate circuits | |
JPH06326593A (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
US5430398A (en) | BiCMOS buffer circuit | |
JP2557534B2 (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
US5428302A (en) | Logic circuit with controlled current supply output | |
JPS6232722A (en) | Push-pull output circuit | |
JPH02268016A (en) | Complementary emitter follower driver | |
US20240297650A1 (en) | Input/output circuit | |
JP2738277B2 (en) | Interface circuit | |
JPH0212867A (en) | Semiconductor integrated circuit | |
JP2001153925A (en) | Input buffer circuit | |
JP2971666B2 (en) | Semiconductor circuit |