JPH01297173A - Process and apparatus for forming organic thin film - Google Patents
Process and apparatus for forming organic thin filmInfo
- Publication number
- JPH01297173A JPH01297173A JP1005431A JP543189A JPH01297173A JP H01297173 A JPH01297173 A JP H01297173A JP 1005431 A JP1005431 A JP 1005431A JP 543189 A JP543189 A JP 543189A JP H01297173 A JPH01297173 A JP H01297173A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- holder
- holding
- workpiece
- substrate
- development
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
この発明は、基板表面に有機薄膜を形成するための形成
方法および形成装置に関する。Detailed Description of the Invention [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a forming method and a forming apparatus for forming an organic thin film on a substrate surface.
(従来の技術)
近年、有機分子を用いる材料技術の進歩が著しい。これ
に伴い、有機分子を用いた新しい機能素子を実現しよう
とする気運が高まっている。特に、有機分子を用いた超
薄膜を利用した素子開発の検討が盛んに行われている。(Prior Art) In recent years, material technology using organic molecules has made remarkable progress. Along with this, there is a growing momentum to create new functional devices using organic molecules. In particular, the development of devices using ultra-thin films made of organic molecules is being actively studied.
有機薄膜の形成方法として、従来より、スピンコード法
、真空蒸着法、ラングミュア・プロジェット法等が知ら
れている。これらの方法の内、特に、ラングミュア・プ
ロジェット法は、有機分子をλ単位で配向して累積する
ことのできる唯一の形成方法として、近年多大な注目を
集めている。Conventionally known methods for forming organic thin films include a spin code method, a vacuum evaporation method, a Langmuir-Prodgett method, and the like. Among these methods, the Langmuir-Prodgett method in particular has attracted much attention in recent years as the only formation method that can align and accumulate organic molecules in units of λ.
以下の説明では、ラングミュア・プロジェット法をL
B法と略称し、このLB法によって形成される膜をLB
膜と称する。In the following explanation, the Langmuir-Prodgett method is
It is abbreviated as LB method, and the film formed by this LB method is called LB method.
It is called a membrane.
LB膜の適応が考えられる素子としては、LB膜を絶縁
膜とするMIS型発光発光素子is)ランジスタ、色素
分子を用いた光電変換素子、光記録媒体、各種センサ、
極性膜構造を用いた圧電素子等がある。また、LB膜を
超微細加工用レジストとして利用することも検討されて
いる。Devices to which the LB film can be applied include MIS type light emitting devices (is) transistors using the LB film as an insulating film, photoelectric conversion devices using dye molecules, optical recording media, various sensors,
There are piezoelectric elements that use a polar film structure. Further, the use of the LB film as a resist for ultra-fine processing is also being considered.
通常のLB法では、単一分子からなる両親媒性分子を水
面上に展開し、これを所定の表面圧になるように圧縮し
て凝縮膜化した後、試料基板をこの単分子膜を横切って
上下動させることにより、基板上に有機分子を累積する
方法が取られている。In the normal LB method, a single amphiphilic molecule is spread on the water surface, compressed to a predetermined surface pressure to form a condensed film, and then the sample substrate is passed across this monomolecular film. A method has been adopted in which organic molecules are accumulated on the substrate by moving the substrate up and down.
この方法は垂直浸漬法と呼ばれている。これに対し7て
、展開された単分子膜に対し平行に試料基板を接触させ
て基板上に有機分子膜を付着させる方法は、水平付着法
と呼ばれている。これらの方法により得られる累積単分
子膜の構造には、親水基同士、疎水基同士が隣接して累
積されるY型と、親水基に対して疎水基が隣接して累積
されるX型およびZ型とがある。This method is called the vertical immersion method. On the other hand, a method for depositing an organic molecular film on a substrate by bringing the sample substrate into contact with the developed monomolecular film in parallel is called a horizontal deposition method. The structures of cumulative monolayers obtained by these methods include Y-type structures in which hydrophilic groups and hydrophobic groups are accumulated adjacent to each other, X-type structures in which hydrophobic groups are accumulated adjacent to hydrophilic groups, and There is a Z type.
基板表面が疎水的性質の場合、最初に付着する単分子膜
の疎水基側か基板側になり、この単分子膜の親水基に次
の単分子膜の疎水基が付着する形で順次単分子膜が累積
された累積膜がX型といわれる。また、親水的性質を有
する基板表面に、親水基、疎水基が順次隣接するように
累積された膜がZ型といわれている。If the substrate surface is hydrophobic, the hydrophobic groups of the first monolayer to be attached will be on the substrate side, and the hydrophobic groups of the next monolayer will be attached to the hydrophilic groups of this monolayer, and the monomolecules will be successively attached. A cumulative film in which films are accumulated is called an X-type film. Furthermore, a film in which hydrophilic groups and hydrophobic groups are sequentially stacked adjacent to each other on the surface of a substrate having hydrophilic properties is called a Z-type film.
しかしながら、親水基と疎水基とが隣接した状態で単分
子膜が累積している場合、これらの膜の境界面のエネル
ギーが非常に大きくなる。そのため、X、およびZ型の
累積膜は、その構造がエネルギー的に不安定で、経時変
化を起し易い。このことから、良質の積層構造を得るた
めには、いずれの累積法においてもY型累積膜が有効と
なる。However, when a monomolecular film is accumulated with hydrophilic groups and hydrophobic groups adjacent to each other, the energy at the interface between these films becomes extremely large. Therefore, the structure of the X- and Z-type cumulative films is unstable in terms of energy and tends to change over time. From this, in order to obtain a high-quality laminated structure, the Y-type cumulative film is effective in any of the cumulative methods.
一般に、単分子膜を形成する形成装置において、基板は
ホルダーに保持され、このホルダーはアームを介して昇
降機構に接続されている。このような製造装置を用いて
、基板表面に、例えば、Y型の累積膜を形成する場合、
ホルダーに保持された基板は、水槽の液面に展開された
単分子膜の上方に搬送され、昇降機構により、上記単分
子膜を通して水槽内に浸漬され、その際、基板表面に単
分子膜が付着される。続いて、基板は、昇降機構により
、単分子膜を通して水槽から引上げられ、その際、基板
表面に2層目の単分子膜が付着される。Generally, in a forming apparatus for forming a monomolecular film, a substrate is held in a holder, and this holder is connected to an elevating mechanism via an arm. For example, when forming a Y-shaped cumulative film on the substrate surface using such a manufacturing apparatus,
The substrate held in the holder is transported above the monomolecular film spread on the liquid surface of the water tank, and is immersed into the water tank through the monomolecular film by an elevating mechanism. attached. Subsequently, the substrate is lifted out of the water tank through the monomolecular film by a lifting mechanism, and at this time, a second monomolecular film is attached to the surface of the substrate.
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、このような形成装置において、基板を水
槽から引上げる際、基板と昇降機構との間に位置したア
ームは、基板よりも先に展開された単分子膜を通過する
場合がある。例えば、前述のX型およびY型の単分子膜
や1層ずつのへテロ構造膜を形成する場合である。この
アームは、単分子膜を通過する際、単分子を破壊したり
、あるいは、単分子膜の表面圧を変化させてしまう。そ
して、アームが通過した後の単分子膜が基板表面に付着
されるため、基板に良質な膜を形成することができない
。(Problem to be Solved by the Invention) However, in such a forming apparatus, when the substrate is pulled up from the water tank, the arm located between the substrate and the lifting mechanism moves the monomolecular film developed before the substrate. may pass through. For example, this is the case where the aforementioned X-type and Y-type monomolecular films or single-layer heterostructure films are formed. When this arm passes through the monolayer, it destroys the monomolecule or changes the surface pressure of the monolayer. Furthermore, since the monomolecular film after the arm has passed is attached to the substrate surface, it is not possible to form a high-quality film on the substrate.
この発明は以上の点に鑑み成されたもので、その目的は
、良質な有機薄膜を形成することのできる有機薄膜の形
成方法および形成装置を提供することにある。The present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is to provide an organic thin film forming method and a forming apparatus that can form a high quality organic thin film.
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
上記目的を達成するため、この発明の形成方法は、液体
の液面に、互いに区画されているとともに有機分子を展
開可能な複数の展開領域を形成する工程と、上記展開領
域の少なくとも1つに両親媒性有機分子の単分子膜を展
開する工程と、ワークと係合した保持部を有する保持手
段によって保持されたワークを単分子膜が展開された所
望の展開領域の近傍に搬送する工程と、上記ワークの略
全体が上記展開された単分子膜を通過した後に上記保持
部が上記単分子膜を通るように、あるいは、上記保持部
が上記単分子を通過しないように、上記展開された単分
子膜を通して上記ワークを移動させ、ワーク表面上に単
分子膜を付着させる工程と、を備えている。[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) In order to achieve the above object, the formation method of the present invention provides a method for forming a liquid by forming a plurality of development regions, which are separated from each other and are capable of developing organic molecules, on the surface of a liquid. a step of forming a monomolecular film of amphiphilic organic molecules on at least one of the development regions, and a step of forming a monomolecular film of amphiphilic organic molecules on at least one of the development regions, and a step of forming a monomolecular film on a workpiece held by a holding means having a holding portion that engages with the workpiece. a step of transporting the workpiece to a vicinity of a desired developed development area, and a step of transporting the workpiece so that the holding section passes through the monomolecular film after substantially the entirety of the workpiece has passed through the developed monomolecular film; moving the workpiece through the developed monomolecular film so that the monomolecular film does not pass through the monomolecular film, and depositing the monomolecular film on the surface of the workpiece.
また、この発明の形成装置は、液体を収容しているとと
もに、上記液体の液面に互いに区画して設けられそれぞ
れ有機分子を展開可能な複数の展開領域を有する展開手
段と、上記ワークを所望の展開領域を通して所望の方向
に移動させ、展開領域を通過する際に展開領域に展開さ
れた単分子膜をワーク表面に付着させるワーク駆動手段
と、上記ワークを上記複数の展開領域間で搬送する移動
手段と、を備え、上記ワーク駆動手段は、上記ワークに
係合した保持部を有し単分子膜が展開された展開領域を
通過する際、上記ワークの略全体が」二足単分子膜が展
開された展開領域を通過した後に上記係合部が上記展開
領域を通過するように、あるいは、上記保持部が上記展
開領域を通過しないように、上記ワークを保持する保持
手段を備えている。The forming apparatus of the present invention also includes a developing means that contains a liquid and has a plurality of developing regions that are partitioned from each other on the surface of the liquid and are each capable of developing organic molecules, and a workpiece driving means for moving the workpiece in a desired direction through the development region and attaching the monomolecular film developed in the development region to the surface of the workpiece when passing through the development region; and transporting the workpiece between the plurality of development regions. and a moving means, wherein the workpiece drive means has a holding part that engages with the workpiece, and when passing through a spreading area where a monolayer is spread, substantially the entire workpiece is a bipedal monolayer. holding means for holding the workpiece so that the engaging part passes through the development area after passing through the development area where the workpiece is expanded, or the holding part does not pass through the development area. .
(作用)
上記のように構成された形成方法および形成装置によれ
ば、ワークと係合する保持部は、単分子の展開された領
域を通してワークを移動させる際、この展開領域を全く
通過しないように、あるいは、ワークの略全体が展開領
域を通過した後に上記展開領域を通過するように構成さ
れている。そのため、ワーク表面に単分子膜を付着させ
る際、展開された単分子膜が上記保持部によって悪影響
を受けることがない。したがって、良質な単分子膜をワ
ーク表面に形成することができる。(Function) According to the forming method and forming apparatus configured as described above, when the holding part that engages with the workpiece moves the workpiece through the developed area of single molecules, the holding part is configured to prevent the workpiece from passing through the developed area at all. Alternatively, it is configured such that substantially the entire workpiece passes through the developing area and then passes through the developing area. Therefore, when a monomolecular film is attached to the work surface, the developed monomolecular film is not adversely affected by the holding section. Therefore, a high-quality monomolecular film can be formed on the workpiece surface.
(実施例)
以下、図面を参照しながらこの発明の実施例について詳
細に説明する。(Embodiments) Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
第2図は、この発明の第1の実施例に係るヘテロ構造膜
形成装置を示している。この装置は、展開手段10とし
て、3種類の両親媒性有機分子を展開するための3つの
独立した水1411,12゜13を備えている。各水槽
は矩形状に形成されている。そして、これらの水111
,12.13は、それぞれ支持脚14により防振架台1
6上に並列に固定され、それぞれ水平に位置している。FIG. 2 shows a heterostructure film forming apparatus according to a first embodiment of the present invention. This apparatus is equipped with three independent waters 1411, 12 and 13 for developing three types of amphipathic organic molecules as a developing means 10. Each water tank is formed into a rectangular shape. And these waters 111
, 12 and 13 are respectively attached to the vibration isolating frame 1 by the supporting legs 14.
6 in parallel, and each is located horizontally.
1つの水槽、例えば水槽11について詳細に説明すると
、第3図に示すように、水槽内には、所定のpH,温度
、イオン濃度に設定された水相組成を有する液体18、
例えば水、が収容されているとともに、他の部分よりも
深い溝部24を有している。水の液面は、仕切りロッド
25により第1および第2の展開領域11a、llbに
仕切られている。そして、第1の領域11aの液面には
所望の有機分子21が展開され、第2の領域11bの液
面には分子が展開されていない。また、第1の領域11
aには、分子21を所定の表面圧力で凝縮膜化するため
の後述する圧縮駆動機構のテフロン製の可動バリア22
が設けられている。なお、他の水槽12.13も水槽1
1と同様に構成されている。To explain in detail one aquarium, for example, the aquarium 11, as shown in FIG.
For example, it contains water and has a groove 24 that is deeper than other parts. The water level is partitioned by a partition rod 25 into first and second development areas 11a and llb. Desired organic molecules 21 are spread on the liquid surface of the first region 11a, and no molecules are spread on the liquid surface of the second region 11b. In addition, the first area 11
In a, there is a movable barrier 22 made of Teflon of a compression drive mechanism to be described later for condensing the molecules 21 into a film at a predetermined surface pressure.
is provided. In addition, other aquariums 12 and 13 are also aquarium 1.
It is configured in the same way as 1.
架台16上には支持フレーム28が設けられ、このフレ
ームにより上部板30が支持され水槽11.12.13
の上方に架台と平行に位置している。そして、上部板3
0上には、それぞれ水槽11、.12.13内の液体1
8の液面上に展開された単分子膜の表面圧を検出するだ
めの3つの表面圧検出器32が設けられている。第2図
には水槽11に対応した検出器32のみが示されている
が、実際には、水槽12.13に対応して同一の構成を
有する検出器が設けられている。検出器32として、例
えば電子天びんを用いたWll11e1my型の検出器
が使用されている。この電子天びんは、ろ紙33を液体
18内に吊下げ、液面上に展開された分子膜の表面張力
を測定するものである。A support frame 28 is provided on the pedestal 16, and the upper plate 30 is supported by this frame, and the water tank 11.12.13
It is located above and parallel to the pedestal. And upper plate 3
0, there are water tanks 11, . 12.13 Liquid 1
Three surface pressure detectors 32 are provided to detect the surface pressure of the monomolecular film spread on the liquid surface of 8. Although only the detector 32 corresponding to the water tank 11 is shown in FIG. 2, in reality, detectors having the same configuration are provided corresponding to the water tanks 12 and 13. As the detector 32, for example, a Wll11e1my type detector using an electronic balance is used. This electronic balance suspends a filter paper 33 in a liquid 18 and measures the surface tension of a molecular film spread on the liquid surface.
また、架台16上には水槽11,12.13に対応して
3つの圧縮駆動機構34が独立して設けられている。水
槽13に対応して設けられた駆動機構34について説明
すると、この駆動機構は、第1の展開領域13aに単分
子を展開、圧縮するテフロン製の可動バリア22を備え
ている。バリア22は棒状に形成され水槽13の幅方向
全長に亙って、つまり、仕切りロッド25と平行に伸び
ている。バリア22の一端は板ばね35を介して支持台
36に固定されている。支持台36は、架台16上に固
定されたガイドレール38上に摺動自在に載置されてい
るとともに、送りねじ40と係合している。送りねじ4
0の両端は、架台]、6上に立設された支持ポスト41
により回転自在に支持されている。そして、ガイドレー
ル38および送りねじ40は、互いに平行に、かっ、水
槽13の長手方向に沿って伸びている。送りわじ40に
は、架台]6上に固定された支持ポスト42に支持され
ているモータ44の駆動力が歯、車45.46を介して
伝達される。モータ44により送りねじ40が回転駆動
されると、支持台36はガイドレール38に沿って移動
される。それにより、バリア22は、第3図に矢印Aで
示すように、液面上を移動して第1の展開領域に浮遊す
る有機分子を左方に向って圧縮し、もって、所定表面圧
の凝縮単分子膜を形成する。Moreover, three compression drive mechanisms 34 are independently provided on the pedestal 16 corresponding to the water tanks 11, 12, and 13. To explain the drive mechanism 34 provided corresponding to the water tank 13, this drive mechanism includes a movable barrier 22 made of Teflon that expands and compresses single molecules in the first expansion region 13a. The barrier 22 is formed into a rod shape and extends over the entire length of the water tank 13 in the width direction, that is, in parallel with the partition rod 25. One end of the barrier 22 is fixed to a support base 36 via a leaf spring 35. The support stand 36 is slidably mounted on a guide rail 38 fixed on the pedestal 16 and is engaged with the feed screw 40 . Feed screw 4
Both ends of 0 are support posts 41 erected on the pedestal] and 6.
It is rotatably supported by. The guide rail 38 and the feed screw 40 extend parallel to each other along the longitudinal direction of the water tank 13. The driving force of a motor 44 supported by a support post 42 fixed on the frame 6 is transmitted to the feed bar 40 via teeth and wheels 45 and 46. When the feed screw 40 is rotationally driven by the motor 44, the support base 36 is moved along the guide rail 38. As a result, the barrier 22 moves on the liquid surface and compresses the organic molecules floating in the first development area to the left, as shown by arrow A in FIG. 3, thereby achieving a predetermined surface pressure. Forms a condensed monolayer.
水槽11,1.2用に設けられた他の圧縮駆動機構34
も上記と同様の構成を有している。なお、実施例におい
て、これらの駆動機構34は、水槽11、、.12に対
しては水槽の左側に設けられ、水槽13に対しては水槽
の右側に設けられている。Another compression drive mechanism 34 provided for the water tank 11, 1.2
also has the same configuration as above. In addition, in the embodiment, these drive mechanisms 34 are connected to the water tanks 11, . For water tank 12, it is provided on the left side of the water tank, and for water tank 13, it is provided on the right side of the water tank.
この配置は収納スペースを考慮した結果であり、必要に
応じて変更可能である。This arrangement is a result of consideration of storage space, and can be changed as necessary.
形成装置は、膜が形成されるワークとしての基板48を
各水槽内の液体に対して浸漬あるいは引上げるために基
板を移動させる基板駆動装置50と、駆動装置を水槽1
1,12.13間でこれらの水槽の上方を搬送する搬送
装置52と、を備えている。これらの装置50.52.
各圧縮駆動機構34および表面圧検出器32は制御手段
5に接続されており、この制御手段によってそれぞれ動
作が制御される。The forming apparatus includes a substrate driving apparatus 50 that moves the substrate 48 as a workpiece on which a film is to be formed by immersing or lifting the substrate into the liquid in each water tank, and a driving apparatus that moves the substrate 48 as a workpiece on which a film is to be formed into the liquid in the water tank 1.
1, 12, and 13 are provided. These devices 50.52.
Each compression drive mechanism 34 and surface pressure detector 32 are connected to control means 5, and their respective operations are controlled by this control means.
第3図に詳細に示されているように、駆動装置50は、
基板48を保持する保持機構54、基板を昇降させる昇
降機構56、および基板を水槽11の長手方向に沿って
水平に移動させる水平移動機構58を有している。また
、駆動装置5oは、水槽11の液面に対して垂直に伸び
た支持盤60を備え、昇降機構56は第1および第2の
移動台61、a、61bを有し支持盤に取付けられてい
る。As shown in detail in FIG. 3, the drive device 50 includes:
It has a holding mechanism 54 that holds the substrate 48, a lifting mechanism 56 that raises and lowers the substrate, and a horizontal movement mechanism 58 that horizontally moves the substrate along the longitudinal direction of the water tank 11. Further, the drive device 5o includes a support plate 60 extending perpendicularly to the liquid level of the water tank 11, and the elevating mechanism 56 has first and second moving tables 61, a, and 61b and is attached to the support plate. ing.
移動台61aは、支持盤60上に固定されたガイドレー
ル62aに摺動自在に保持されているとともに、一対の
支持ポスト63を介して支持盤tに取付けられた送りね
じ64aと係合している。ガイドレール62aおよび送
りねじ64aは、互いに平行に、かつ、水槽11内の液
面に対して垂直に伸びている。また、支持盤60上には
モータ65aが固定されており、このモータの駆動力は
モータの回転軸に取付けられたウオームギア66aおよ
び送りねじに取付けられた歯車67aを介(7て送りね
じ64aに伝達される。そして、モータ65aにより送
りねじ64aが回転駆動されると、移動台61aがガイ
ドレール62aに沿って上下動される。また、第2の移
動台61bも同様に、支持盤60に取付けられて垂直に
伸びるガイドレール62bおよび送りねじ64bと係合
しているとともに、支持盤に固定されたモータ65bに
よりギア66bおよび歯車67bを介してて送りねじ6
4bを回転駆動することによって、ガイドレール62b
に沿って上下動される。The movable table 61a is slidably held by a guide rail 62a fixed on the support plate 60, and is engaged with a feed screw 64a attached to the support plate t via a pair of support posts 63. There is. The guide rail 62a and the feed screw 64a extend parallel to each other and perpendicularly to the liquid level in the water tank 11. Further, a motor 65a is fixed on the support plate 60, and the driving force of this motor is transmitted to the feed screw 64a via a worm gear 66a attached to the rotating shaft of the motor and a gear 67a attached to the feed screw. When the feed screw 64a is rotationally driven by the motor 65a, the movable base 61a is moved up and down along the guide rail 62a.The second movable base 61b is also transmitted to the support plate 60 in the same way. The feed screw 6 is engaged with the attached guide rail 62b extending vertically and the feed screw 64b, and is driven by a motor 65b fixed to the support plate via a gear 66b and a gear 67b.
By rotationally driving the guide rail 62b
is moved up and down along the
保持機構54は、第1の移動台61aから下方に、かつ
、水槽11内の液面に対して垂直に伸びたL字状の支持
アーA 68を有し、アームの延出端には基板48を保
持する第1のホルダー70が設けられている。第3図か
ら良く分るように、ホルダー70は、基板48の下端縁
と係合し、基板の両表面が水槽内の液面に対して垂直に
なるように基板を保持することができる。そして、移動
台61aが昇降することにより、ホルダー70に保持さ
れた基板48は、水槽内の水18に浸漬あるいは水から
引上げられる。また、保持機構54は、チャックからな
る第2のホルダー72を有し、このホルダーは第2の支
持台61bに支持されている。第1図から良く分るよう
に、ホルダー72は、基板48の上端縁を挟持し、基板
の両表面が水槽内の液面に対して垂直になるように基板
を保持することかできる。そして、移動台61bが昇降
することにより、ホルダー72に保持された基板48は
、水槽内の水18に浸漬あるいは水から引上げられる。The holding mechanism 54 has an L-shaped support arm A 68 extending downward from the first moving stage 61a and perpendicular to the liquid level in the water tank 11, and has a substrate at the extending end of the arm. A first holder 70 for holding 48 is provided. As best seen in FIG. 3, the holder 70 can engage the lower edge of the substrate 48 and hold the substrate such that both surfaces of the substrate are perpendicular to the liquid level in the tank. Then, as the moving stage 61a moves up and down, the substrate 48 held by the holder 70 is immersed in or pulled up from the water 18 in the water tank. Further, the holding mechanism 54 has a second holder 72 made of a chuck, and this holder is supported by a second support base 61b. As clearly seen in FIG. 1, the holder 72 can hold the upper edge of the substrate 48 and hold the substrate so that both surfaces of the substrate are perpendicular to the liquid level in the water tank. Then, as the moving stage 61b moves up and down, the substrate 48 held by the holder 72 is immersed in or pulled up from the water 18 in the water tank.
昇降機構56および保持機構54か取付けられた支持盤
60は、水平移動機構58によって水平移動可能に支持
されている。つまり、水平移動機構58は、保持盤73
を有し、この保持盤上には、ガイドレール74が固定さ
れているとともに、−対の支持ポスト75を介して送り
ねじ76か取付けられている。これらのガイドレール7
4およびねじ76は、水槽11の長平方向に沿って水平
に伸びている。また、保持盤73上には、支持ボスト7
7を介してモータ78が取付けられ、このモータは送り
ねじ76の一端に接続されている。そして、支持盤60
は、ガイドレール74によってガイドされているととも
に、送りねじ76と係合している。そして、モータ78
によって送りねじ76を回転することにより、支持盤6
0は水平に移動される。したがって、保持機構54によ
って保持された基板48を、水槽の第1の展開領域と第
2の展開領域との間で移動させることかできる。The support board 60 to which the lifting mechanism 56 and the holding mechanism 54 are attached is supported by a horizontal movement mechanism 58 so as to be horizontally movable. In other words, the horizontal movement mechanism 58
A guide rail 74 is fixed on this holding plate, and a feed screw 76 is also attached via a pair of support posts 75. These guide rails 7
4 and the screw 76 extend horizontally along the longitudinal direction of the water tank 11. Further, on the holding plate 73, there is a support post 7.
A motor 78 is attached via 7, and this motor is connected to one end of the feed screw 76. And the support plate 60
is guided by a guide rail 74 and engaged with a feed screw 76 . And motor 78
By rotating the feed screw 76, the support plate 6
0 is moved horizontally. Therefore, the substrate 48 held by the holding mechanism 54 can be moved between the first deployment area and the second deployment area of the aquarium.
上記のように構成された基板駆動装置50は、搬送装置
52によって水槽11..12.13の上方を搬送可能
となっている。第2図に示すように、搬送装置52は、
架台16の両端部に立設された一対の支柱84を備え、
支柱の上端間には一対のガイドレール86が固定されて
いる。ガイドレール86は水槽11,12.13の上方
を水平に、かつ互いに平行に伸びている。ガイドレール
86上には移動板88がガイドレールに沿って摺動自在
に載置されており、基板駆動装置50の保持盤73はこ
の移動板88に吊下げられている。また、移動板88は
送りねじ89と係合しており、この送りねじはガイドレ
ール86と平行に伸びているとともに、その両端部は支
持板90を介してガ・1′トレールの両端にそれぞれ支
持されている。一方の支持板90上にはモータ91が固
定されており、送りねじ89は歯車92.93を介して
モータ91により回転駆動される。そして、送りねじ8
9を駆動することにより、基板駆動装置5oは、ガイド
レール86に沿って水槽11,12.13間を自由に移
動することができる。The substrate driving device 50 configured as described above transports the water tank 11 by the transport device 52. .. It is possible to transport above 12.13. As shown in FIG. 2, the conveyance device 52 is
A pair of pillars 84 are provided at both ends of the pedestal 16,
A pair of guide rails 86 are fixed between the upper ends of the columns. The guide rail 86 extends horizontally above the water tanks 11, 12, 13 and parallel to each other. A movable plate 88 is placed on the guide rail 86 so as to be slidable along the guide rail, and the holding plate 73 of the substrate driving device 50 is suspended from the movable plate 88. Further, the moving plate 88 is engaged with a feed screw 89, which extends parallel to the guide rail 86, and both ends of the feed screw are connected to both ends of the G and 1' trails through a support plate 90, respectively. Supported. A motor 91 is fixed on one support plate 90, and the feed screw 89 is rotationally driven by the motor 91 via gears 92 and 93. And the feed screw 8
By driving 9, the substrate driving device 5o can freely move between the water tanks 11, 12, and 13 along the guide rail 86.
次に、以上のように構成された形成装置を用いて基板4
8の表面に単分子膜を形成する工程を説明する。Next, the substrate 4 is formed using the forming apparatus configured as described above.
The process of forming a monomolecular film on the surface of 8 will be explained.
まず、(1)基板48を上昇させる時に、基板表面に単
分子膜を付着させる場合と、(2)基板48を下降させ
る時に基板表面に単分子膜を何台させる場合とについて
、水槽11を用いて説明する。First, we will explain how many monomolecular films are deposited on the substrate surface when (1) the substrate 48 is raised, and (2) how many monomolecular films are deposited on the substrate surface when the substrate 48 is lowered. I will explain using
(1)の場合、まず、第3図に示すように、水平移動機
構58により、第1のホルダー70が分子の展開されて
いない第2の展開領域上に位置するように支持盤60を
移動させる。そして、ホルダー70に基板48を装着し
た後、昇降機構56によって移動台61. aを下降さ
せ、第2の展開領域11bを通してホルダー70と共に
基板48を水18内に浸漬する。続いて、第1図に2点
鎖線で示すように、水平移動機構58によって支持盤6
0を右方に移動させることにより、基板48を分子21
が展開されている第1の展開領域11aの下方に移動す
る。その後、第1の移動台61aを上昇させることによ
り、第1の展開領域11aを通して基板48をゆっくり
と引上げる。この時、第1図に示すように、第2の移動
台を下降位置に移動させておく。そして、基板48の上
端が第2のホルダー72に到達した時点で、第2の移動
台61bを第1の移動台61aと同一の速度上昇させる
。この状態で、基板48の上端を第2のホルダー72に
よって挟持することにより、基板を第1のホルダーから
第2のホルダーへ受は渡す。そして、受渡し終了後、第
1の移動台61aを停止する。この時、第1のホルダー
70は、第1の展開領域11aよりも下方に位置し展開
された単分子膜21に接触しない。続いて、第2の移動
台61bを更に上昇させることにより、第4図に示すよ
うに、第1の展開領域11aを通して基板48を液面の
上方まで引上げる。そして、上記のように第1の展開領
域を通過することにより、基板48の両表面上に単分子
膜が形成される。なお、基板48を第1のホルダー70
から第2のホルダー72へ受は渡す際、第1および第2
の移動台61a、61bを停止させても良い。In the case of (1), first, as shown in FIG. 3, the support plate 60 is moved by the horizontal movement mechanism 58 so that the first holder 70 is located on the second deployment area where molecules are not deployed. let After mounting the substrate 48 on the holder 70, the moving table 61. a is lowered to immerse the substrate 48 together with the holder 70 into the water 18 through the second development area 11b. Subsequently, as shown by the two-dot chain line in FIG.
By moving 0 to the right, the substrate 48 is moved to the molecule 21.
moves below the first development area 11a where is developed. Thereafter, by raising the first moving table 61a, the substrate 48 is slowly pulled up through the first development area 11a. At this time, as shown in FIG. 1, the second moving table is moved to the lowered position. Then, when the upper end of the substrate 48 reaches the second holder 72, the second moving table 61b is increased in speed to the same speed as the first moving table 61a. In this state, the upper end of the substrate 48 is held by the second holder 72, thereby transferring the substrate from the first holder to the second holder. After the delivery is completed, the first moving table 61a is stopped. At this time, the first holder 70 is located below the first developing region 11a and does not contact the developed monomolecular film 21. Subsequently, by further raising the second moving table 61b, the substrate 48 is pulled up above the liquid level through the first development area 11a, as shown in FIG. Then, by passing through the first development region as described above, a monomolecular film is formed on both surfaces of the substrate 48. Note that the substrate 48 is held in the first holder 70.
When passing the receiver from the first holder to the second holder 72, the first and second
The movable tables 61a and 61b may be stopped.
(2)の場合、第4図に示すように、水平移動機構58
および昇降機構56を駆動して、第1のホルダー70を
第1の展開領域11aの下方に、また、第2のホルダー
72を第1の展開領域の上方にそれぞれセットする。続
いて、第2のホルダー72によって基板48の上端を保
持した後、第2の移動台61bを下降させることにより
、第1の展開領域11aを通して基板48を下降させる
。In the case of (2), as shown in FIG.
Then, the elevating mechanism 56 is driven to set the first holder 70 below the first deployment area 11a and the second holder 72 above the first deployment area. Subsequently, after the upper end of the substrate 48 is held by the second holder 72, the second moving stage 61b is lowered to lower the substrate 48 through the first development area 11a.
そして、第1図に示すように、基板48の釣竿3分(あ
るいは略全体)が第1の展開領域11aを通過した時点
で、第2の移動台61aを停止するとともに、第2のホ
ルダー72から第1のホルダー70へ基板を受は渡す。Then, as shown in FIG. 1, when three parts (or almost the entire fishing rod) of the board 48 have passed through the first development area 11a, the second moving table 61a is stopped, and the second holder 72 is stopped. The substrate is transferred from the receiver to the first holder 70.
続いて、基板48全体が第1の展開領域11aを通過す
るまで第1の移動台61aを下降させ、基板の両面に単
分子膜を付着させる。その後、第3図に示すように、水
平移動機構58によって基板48を第2の展開領域11
bの下方まで移動した後、第1の移動台61aを上昇さ
せることにより、第2の展開領域11 bを通して基板
を水槽11から引上げる。Subsequently, the first moving table 61a is lowered until the entire substrate 48 passes through the first development area 11a, and the monomolecular film is deposited on both sides of the substrate. Thereafter, as shown in FIG. 3, the horizontal movement mechanism 58 moves the substrate 48 to the second development area 11.
After moving to a position below b, the first moving stage 61a is raised to pull the substrate out of the water tank 11 through the second development area 11b.
次に、上述した付着工程を複数の水槽に対して行うこと
により基板表面にヘテロ構造膜を形成する方法について
説明する。Next, a method of forming a heterostructure film on a substrate surface by performing the above-described attachment step on a plurality of water tanks will be described.
(a)第5A図に示すように、例えば水槽11の第1の
展開領域11aに展開された単分子21の膜を通して、
第2のホルダー72によって保持された基板48を下降
させ、基板表面に1層目の単分子膜を形成する。続いて
、基板を第2のホルダー72から第1のホルダー70に
受は渡した後、第2の展開領域11bを通して基板を水
槽から引上げるとともに、引上げた基板を再び第2のホ
ルダーに受は渡す。その後、第5B図に示すように、再
び、第1の展開領域11aを通して基板48を下降させ
、基板表面に2層目の単分子膜を形成する。それにより
、第5C図に示すように、基板表面に、疎水基、親水基
、疎水基、親水基の順に同一分子21が付むしたX型の
有機薄膜が形成される。(a) As shown in FIG. 5A, for example, through a membrane of monomolecules 21 developed in the first development region 11a of the water tank 11,
The substrate 48 held by the second holder 72 is lowered to form a first monomolecular film on the surface of the substrate. Subsequently, after passing the substrate from the second holder 72 to the first holder 70, the substrate is pulled up from the water tank through the second development area 11b, and the lifted substrate is transferred to the second holder again. hand over. Thereafter, as shown in FIG. 5B, the substrate 48 is again lowered through the first developing region 11a to form a second monomolecular film on the surface of the substrate. As a result, as shown in FIG. 5C, an X-shaped organic thin film is formed on the substrate surface in which the same molecules 21 are attached in the order of hydrophobic group, hydrophilic group, hydrophobic group, and hydrophilic group.
(b)第6A図に示すように、第2のホルダー72に保
持された基板48を第1の展開領域11aに展開された
単分子21の膜を通して下降し、1層目の単分子膜を基
板表面に形成する。続いて、第1のホルダー70により
、第2の展開領域11bを通して基板48を引上げた後
、搬送装置52により基板駆動装置50を水槽12上に
搬送する。そして、第2のホルダー72によって保持し
た基板48を、水槽12の第1の展開項域12aに展開
された単分子80の膜を通して水槽12内に浸漬し、基
板48に2層目の単分子膜を形成する。それにより、第
6C図に示すように、異なる単分子からなる、X型の有
機薄膜が基板表面に形成されている。(b) As shown in FIG. 6A, the substrate 48 held by the second holder 72 is lowered through the film of monomolecules 21 spread in the first development area 11a, and the first monolayer film is formed. Formed on the substrate surface. Subsequently, the first holder 70 pulls up the substrate 48 through the second development area 11b, and then the transport device 52 transports the substrate driving device 50 onto the water tank 12. Then, the substrate 48 held by the second holder 72 is immersed in the water tank 12 through a film of monomolecules 80 developed in the first development region 12a of the water tank 12, and the substrate 48 is coated with a second layer of monomolecules. Forms a film. As a result, as shown in FIG. 6C, an X-shaped organic thin film composed of different single molecules is formed on the substrate surface.
(C)第7A図に示すように、第2のホルダー72に保
持された基板48を水槽11の第1の展開領域11aを
通して水槽11内に浸漬1−5基板表面に1層目の単分
子膜21を形成する。続いて、lA仮48を第1のホル
ダー70に受は渡した後、再び第1の展開領域11aを
通して基板48を水槽11から引上げ、基板表面に2層
目の単分子膜21を形成する。それにより、基板表面に
、疎水基、親水基、親水基、疎水基の順で同一の単分子
が付着したY型の有機薄膜が形成される。(C) As shown in FIG. 7A, the substrate 48 held by the second holder 72 is immersed into the water tank 11 through the first development area 11a of the water tank 11, and the first layer of monomolecules is applied to the surface of the substrate 1-5. A film 21 is formed. Subsequently, after transferring the lA temporary 48 to the first holder 70, the substrate 48 is again pulled up from the water tank 11 through the first development area 11a, and a second monomolecular film 21 is formed on the surface of the substrate. As a result, a Y-shaped organic thin film is formed on the substrate surface, in which the same monomolecules are attached in the order of hydrophobic group, hydrophilic group, hydrophilic group, and hydrophobic group.
(d)第8A図に示すように、基板48を水槽11の第
1の展開領域11aを通して水槽内に浸漬し、基板表面
に1層目の単分子膜を形成する。(d) As shown in FIG. 8A, the substrate 48 is immersed into the water tank through the first developing region 11a of the water tank 11, and a first monomolecular film is formed on the surface of the substrate.
続いて、基板48を水18内で移動させた後、第2の展
開領域11bを通して水槽11から引上げる。次に、基
板駆動装置50を水槽12上に搬送した後、第2の展開
領域12bを通して基板48を水槽12内に浸漬する。Subsequently, after the substrate 48 is moved within the water 18, it is pulled up from the water tank 11 through the second development area 11b. Next, after the substrate driving device 50 is transported onto the water tank 12, the substrate 48 is immersed into the water tank 12 through the second development area 12b.
続いて、第8B図に示すように、基板48を第1の展開
領域12aの下方に移動した後、第1の展開領域12a
に展開された単分子80の膜を通して水槽12から引上
げる。それにより、第8C図に示すように、基板48表
面に異なる単分子からなるY型の有機薄膜が形成される
。Subsequently, as shown in FIG. 8B, after moving the substrate 48 below the first development area 12a,
It is pulled up from the water tank 12 through a membrane of monomolecules 80 that has been developed. As a result, as shown in FIG. 8C, a Y-shaped organic thin film made of different single molecules is formed on the surface of the substrate 48.
(e)第9A図に示すように、基板48を水槽11の第
2の展開領域11bを通して水槽内に浸漬した後、第1
の展開領域11aを通して水槽から引上げ、基板表面に
単分子膜21を形成する。(e) As shown in FIG. 9A, after immersing the substrate 48 into the water tank through the second expansion area 11b of the water tank 11,
The monomolecular film 21 is formed on the surface of the substrate.
続いて、第9B図に示すように、基板48を第1の展開
領域11aを通して水槽11内に浸漬し、基板表面に2
層目の単分子膜21を形成する、それにより、第9C図
に示すよう、基板表面に、親水基、疎水基、疎水基、親
水基の順に同一の分子が付着したY型の有機薄膜が形成
される。Subsequently, as shown in FIG. 9B, the substrate 48 is immersed in the water tank 11 through the first development area 11a, and two
As shown in FIG. 9C, a Y-shaped organic thin film in which the same molecules are attached in the order of hydrophilic group, hydrophobic group, hydrophobic group, and hydrophilic group is formed on the substrate surface. It is formed.
(f)第10A図に示すように、基板48を水槽11の
第2の展開領域11bを通して水槽内に浸漬した後、第
1の展開領域11aを通して水槽から引上げ、基板表面
に単分子膜21を形成する。(f) As shown in FIG. 10A, after the substrate 48 is immersed in the water tank through the second development area 11b of the water tank 11, it is pulled up from the water tank through the first development area 11a, and the monomolecular film 21 is coated on the surface of the substrate. Form.
続いて、第10B図に示すように、基板48を水槽12
」二に搬送した後、第1の展開領域12aを通して水槽
12内に浸漬し、基板表面に2層目の単分子膜80を形
成する。それにより、第10C図に示すように、異なる
単分子からなるY型の有機薄膜が基板表面に形成される
。Subsequently, as shown in FIG. 10B, the substrate 48 is placed in the water tank 12.
After being transported to the second stage, the substrate is immersed in the water tank 12 through the first development area 12a to form a second monomolecular film 80 on the surface of the substrate. Thereby, as shown in FIG. 10C, a Y-shaped organic thin film composed of different single molecules is formed on the substrate surface.
(g)第11A図に示すように、基板48を水槽11の
第2の展開項域11bを通して水槽内に浸漬(7た後、
第1の展開領域11aを通して水槽から引上げ、基板表
面に単分子膜21を形成する。(g) As shown in FIG. 11A, the substrate 48 is immersed in the water tank through the second expansion region 11b of the water tank 11 (after 7
It is pulled up from the water tank through the first development region 11a, and a monomolecular film 21 is formed on the surface of the substrate.
続い°C1第11B図に示すように、再び、基板48を
水槽11の第2の展開領域1.1 bを通して水槽内に
浸漬した後、第1の展開領域1.1 aを通して水槽か
ら引上げ、基板表面に2層目の単分子膜21を形成する
。それにより、第11C図に示すように、基板表面に、
親水基、疎水基、親水基、疎水基の順で同一の分子が付
着したZ型の有機薄膜が形成される。Subsequently, as shown in FIG. 11B, the substrate 48 is again immersed into the water tank through the second development area 1.1b of the water tank 11, and then pulled out of the water tank through the first development area 1.1a. A second monomolecular film 21 is formed on the surface of the substrate. As a result, as shown in FIG. 11C, on the substrate surface,
A Z-shaped organic thin film is formed in which the same molecules are attached in the order of hydrophilic group, hydrophobic group, hydrophilic group, and hydrophobic group.
(h)第12A図に示すように、基板48を水槽11の
第2の展開領域1.1 bを通して水槽内に浸漬した後
、第1の展開領域11aを通して水槽から引上げ、基板
表面に単分子膜21を形成する。(h) As shown in FIG. 12A, the substrate 48 is immersed in the water tank through the second development area 1.1b of the water tank 11, and then pulled up from the water tank through the first development area 11a, and monomolecules are deposited on the substrate surface. A film 21 is formed.
続いて、基板48を水槽12上に搬送する。次に、第1
2B図に示すように、基板48を水槽12の第2の展開
領域12bを通して水槽内に浸漬tまた後、第1の展開
領域12aを通して水槽から引上げ、基板表面に2層目
の単分子膜80を形成する。Subsequently, the substrate 48 is transported onto the water tank 12. Next, the first
As shown in Figure 2B, the substrate 48 is immersed in the water tank through the second development area 12b of the water tank 12, and then pulled up from the water tank through the first development area 12a, and a second monomolecular film 80 is applied to the surface of the substrate. form.
それにより、第12C図に示すように、異なる単分子か
らなるZ型の有機薄膜が基板表面に形成される。As a result, as shown in FIG. 12C, a Z-shaped organic thin film consisting of different single molecules is formed on the substrate surface.
以上のように、基板の昇降動作および各水槽間での搬送
動作を種々組合わせることにより、複数種類の単分子膜
を種々の組合せで累積形成することができる。As described above, by various combinations of the lifting and lowering operations of the substrate and the transporting operations between the water tanks, it is possible to cumulatively form a plurality of types of monomolecular films in various combinations.
なお、上述した各工程では、1つあるいは2つの水槽に
対して基板を昇降させることにより基板表面に2層の単
分子膜を形成するようにしたが、3つの水槽に対して基
板を複数回昇降させることにより、基板表面に3層以上
の異なる単分子を付着するようにしてもよい。In each of the above-mentioned steps, a two-layer monomolecular film was formed on the substrate surface by moving the substrate up and down in one or two water tanks, but the substrate was moved multiple times in three water tanks. By raising and lowering the substrate, three or more layers of different monomolecules may be attached to the substrate surface.
以上のように構成された形成装置によれば、基板48を
保持する第1および第2のホルダー70゜72は、単分
子が展開された展開領域を通して基板を上昇あるいは下
降させる際、必ず、この展開領域を全く通過しないよう
に構成されている。ただし、基板48が上記展開領域を
通過した後であれば、第1および第2のホルダー70.
72がこの展開領域を通過してもよい。同様に、第1の
ホルダー70を支持している支持アーム68は、L字状
に形成されているとともに、単分子が展開されていない
第2の展開領域のみを横切るように構成されている。し
たがって、展開された単分子膜が第1および第2のホル
ダー1および支持アームによって悪影響を受けることな
く基板の昇降を行うことができる。つまり、基板に付着
される前の単分子膜が、第1および第2のホルダー、お
よび支持アームによって破壊されたり、あるいは、その
表面圧が変化されたりすることを防止でき、その結果、
良好な単分子膜を基板表面に形成することができる。According to the forming apparatus configured as described above, the first and second holders 70 and 72 that hold the substrate 48 are always used when the substrate is raised or lowered through the development region where single molecules are developed. It is configured so that it does not pass through the deployment area at all. However, after the substrate 48 has passed through the development area, the first and second holders 70 .
72 may pass through this deployment area. Similarly, the support arm 68 supporting the first holder 70 is formed in an L-shape and is configured to cross only the second deployment area where no single molecules are deployed. Therefore, the substrate can be moved up and down without the developed monomolecular film being adversely affected by the first and second holders 1 and the support arms. In other words, the monomolecular film before it is attached to the substrate can be prevented from being destroyed by the first and second holders and the support arm, or its surface pressure can be prevented from being changed, and as a result,
A good monomolecular film can be formed on the substrate surface.
また、水槽11,12.13は独立して設けられている
ため、これらの水槽に展開された単分子が相互混入して
汚染されることを防止できる。更に、各水槽毎に、収容
された水の組成、例えば、PH,温度、イオン濃度を展
開される単分子に合せて任意に設定することができ、そ
の結果、使用可能な単分子の選択範囲が広がる。Further, since the water tanks 11, 12, and 13 are provided independently, it is possible to prevent single molecules developed in these water tanks from mixing with each other and contaminating the water tanks. Furthermore, the composition of the stored water, such as pH, temperature, and ion concentration, can be arbitrarily set for each water tank according to the single molecules to be developed, and as a result, the selection range of usable single molecules is increased. spreads.
上記実施例では3つの水槽を用いた場合を示したが、少
なくとも1つの水槽があれば本発明はを効である。また
、4つ以上の水槽を設けて、多様な分子を展開し、複雑
な構造のへテロ構造膜を形成することも可能である。ま
た、複数の独立した水槽を用いる構成に限らず、例えば
、1つの水槽内を仕切り板等によって複数の独立した展
開領域に区画するようにしてもよい。また、基板を昇降
させる駆動装置の構成および基板を搬送する搬送装置の
構成は、必要に応じて種々変形可能である。Although the above embodiment shows the case where three water tanks are used, the present invention is effective as long as there is at least one water tank. Furthermore, it is also possible to provide four or more water tanks and develop a variety of molecules to form a complex heterostructure membrane. In addition, the present invention is not limited to a configuration using a plurality of independent water tanks, and for example, the inside of one water tank may be partitioned into a plurality of independent expansion areas using a partition plate or the like. Furthermore, the configuration of the drive device that raises and lowers the substrate and the configuration of the transport device that conveys the substrate can be modified in various ways as necessary.
上記実施例において、水平移動機構58を駆動して基板
48を移動させることにより、基板を第1および第2の
展開領域間で搬送するようにしている。しかしながら、
逆に基板48を固定とし、仕切りロッド22および可動
バリア22を移動させて第1および第2の展開領域自身
を移動するようにしてもよい。In the embodiment described above, the horizontal movement mechanism 58 is driven to move the substrate 48, thereby transporting the substrate between the first and second development areas. however,
Conversely, the substrate 48 may be fixed, and the partition rod 22 and movable barrier 22 may be moved to move the first and second development areas themselves.
また、第13図および第14図に示すように、支持アー
ム68を回動させることによって基板48を第1および
第2の展開領域間で搬送するようにしてもよい。詳細に
は、支持アーム68の上端部は、水槽内の水の液面に対
して垂直な軸の回りで回動自在に、第1の移動台61a
に取付けられている。また、移動台61aには、モータ
82が取付けされ、モータの回転軸は歯車列83を介し
て支持アーム68に接続されている。したがって、モー
タ82を駆動して支持アーム68を回動させることによ
り、第14図に示すように、第1のホルダー70に保持
された基板48を第1および第2の展開領域間で搬送す
ることができる。この時、支持アーム68の回動中心が
分子の展開されていない第2の領域内にあれば、基板が
移動する際の振動等が第1の展開領域に展開された単分
子に悪影響を与えることがない。Further, as shown in FIGS. 13 and 14, the substrate 48 may be transported between the first and second development areas by rotating the support arm 68. Specifically, the upper end of the support arm 68 is rotatably attached to the first movable base 61a around an axis perpendicular to the water level in the water tank.
installed on. Further, a motor 82 is attached to the moving table 61a, and the rotating shaft of the motor is connected to the support arm 68 via a gear train 83. Therefore, by driving the motor 82 and rotating the support arm 68, the substrate 48 held in the first holder 70 is transported between the first and second development areas, as shown in FIG. be able to. At this time, if the center of rotation of the support arm 68 is within the second region where molecules are not developed, vibrations etc. when the substrate moves will adversely affect the single molecules developed in the first development region. Never.
また、第15図に示すように、支持アーム68は、その
垂直部の下端から放射状に伸びた複数、例えば4つの水
平部68bを備え、各水平部の先端に第1のホルダー7
0を設けるようにしてもよい。この場合、支持アーム6
8を回動することにより、第1のホルダー7°Oに保持
された任意の基板を第1および第2の展開領域間で搬送
することができる。Further, as shown in FIG. 15, the support arm 68 includes a plurality of, for example, four, horizontal parts 68b extending radially from the lower end of the vertical part, and a first holder 7 at the tip of each horizontal part.
0 may be provided. In this case, the support arm 6
By rotating 8, any substrate held in the first holder 7°O can be transported between the first and second development areas.
なお、これらの実施例においては、基板駆動装置の水平
移動機構58を省略してもよい。また、仕切りロッド2
5は、直線に限らず、第14図および第15図に示すよ
うに、その中央部が第2の展開領域11b側に湾曲した
形状でもよく、この場合、第1の展開領域11aに展開
された単分子の圧縮が容易となる。Note that in these embodiments, the horizontal movement mechanism 58 of the substrate driving device may be omitted. Also, partition rod 2
5 is not limited to a straight line, as shown in FIGS. 14 and 15, the center portion thereof may be curved toward the second development area 11b, and in this case, the shape may be expanded to the first development area 11a. This makes it easier to compress single molecules.
支持アーム68は、第16図ないし第19図に示すよう
に、多関節構造を有していてもよい。つまり、支持アー
ム68は、第1の移動台61aから下方に垂直に伸びた
円筒状の固定ロッド84と、ロッドの下端に接続された
多数の関節部材86とををしている。各関節部材86は
円筒状に形成されているとともに、一対のピン87によ
り隣合う関節部材に対して回動自在に接続されている。The support arm 68 may have a multi-joint structure, as shown in FIGS. 16-19. That is, the support arm 68 includes a cylindrical fixed rod 84 extending vertically downward from the first movable table 61a, and a number of joint members 86 connected to the lower end of the rod. Each joint member 86 is formed in a cylindrical shape and is rotatably connected to the adjacent joint member by a pair of pins 87.
隣合う2つの関節部材86は互いに20〜30度の角度
【、か回動することがてきないが、関節部材全体では、
つまり、先端の関節部材86aは固定ロッド84に対し
て180度回動することができる。Two adjacent joint members 86 cannot rotate at an angle of 20 to 30 degrees with respect to each other, but the joint members as a whole cannot rotate.
That is, the joint member 86a at the tip can rotate 180 degrees with respect to the fixed rod 84.
先端の関節部材86aには、第1のホルダー70を構成
する吸盤が取付けられている。この吸盤は、支持アーム
68内を伸びる吸引チューブ94を介して、移動台61
aに取付けられたポンプ95に接続されている。したが
って、ポンプ95を駆動して吸盤内を負圧にすることに
より、基板48を吸盤に吸着することができる。また、
先端の関節部材86aには、互いに180度離間口た位
置に一対のワイヤー88が固定されている。これらのワ
イヤーは、各関節部材に形成された透孔89および固定
ロッド84内を通って、ロッドの上端まで導かれている
。そして、ワイヤー88は、移動台61aに取付けられ
たプーリー90に連結されている。プーリー90は、移
動台61aに固定されたモータ91により、プーリ92
およびベルト93を介して、任意の方向および速度で回
転される。例えば、第16図に示されているような、支
持アーム68が垂直な状態から、プーリー90を反時計
方向に回転することにより、第19図に示すように、第
1のホルダー70に吸着された基板48を右側へ180
度反転させることができる。A suction cup constituting the first holder 70 is attached to the joint member 86a at the tip. This suction cup is connected to the movable table 61 via a suction tube 94 extending inside the support arm 68.
It is connected to a pump 95 attached to a. Therefore, by driving the pump 95 to create a negative pressure inside the suction cup, the substrate 48 can be attracted to the suction cup. Also,
A pair of wires 88 are fixed to the joint member 86a at the tip at positions 180 degrees apart from each other. These wires are guided through through holes 89 formed in each joint member and through fixed rods 84 to the upper ends of the rods. The wire 88 is connected to a pulley 90 attached to the moving table 61a. The pulley 90 is moved by a pulley 92 by a motor 91 fixed to the moving table 61a.
and belt 93 to rotate in any direction and speed. For example, by rotating the pulley 90 counterclockwise from the vertical state of the support arm 68 as shown in FIG. 16, the support arm 68 is attracted to the first holder 70 as shown in FIG. 180 to the right side of the board 48
Can be reversed.
また、プーリー90を反対方向に回転することにより、
基板48を左側へ180度反転させることができる。Also, by rotating the pulley 90 in the opposite direction,
The substrate 48 can be flipped 180 degrees to the left.
上記のように構成された支持アーム86ををする形成装
置を用いて基板表面に単分子膜を形成する工程について
説明する。The process of forming a monomolecular film on the surface of a substrate using the forming apparatus that forms the support arm 86 configured as described above will be described.
まず、第20図に示すように、基板48を第コのホルダ
ー70に保持した状態で、水槽、例えば、水槽11の第
2の展開領域11bの上方に搬送する。続いて、移動台
61aを下降することにより、第2の展開領域11.
bを通して基板48を水槽11内に浸漬する。この時、
支持アームは垂直に伸びた状態となっており、基板48
は第1のホルダー70から展開領域11bに向って下方
に伸びている。そのため、基板48の略全体が第2の展
開領域11bを通過した後に第1のホルダーおよび支持
アーム68が第2の展開領域を横切る。First, as shown in FIG. 20, the substrate 48 is held in the holder 70 and transported to a water tank, for example, above the second development area 11b of the water tank 11. Subsequently, by lowering the movable table 61a, the second deployment area 11.
The substrate 48 is immersed into the water tank 11 through the tube 48b. At this time,
The support arm is in a vertically extending state, and the support arm is in a vertically extending state and is
extends downward from the first holder 70 toward the deployment area 11b. Therefore, after substantially the entire substrate 48 passes through the second deployment area 11b, the first holder and support arm 68 crosses the second deployment area.
続いて、支持アーム68を右側に湾曲させることにより
、基板48を単分子21が展開されている第1の展開領
域11aの下方に搬送するとともに、基板を180度反
転する。その後、移動台61aを上昇させることにより
、第1の展開領域11aを通して基板48を水槽11か
ら引上げ、その際単分子21を基板表面に付着させる。Subsequently, by bending the support arm 68 to the right, the substrate 48 is transported below the first development area 11a where the single molecules 21 are developed, and the substrate is turned over by 180 degrees. Thereafter, by raising the moving stage 61a, the substrate 48 is pulled up from the water tank 11 through the first development area 11a, and at this time, the single molecules 21 are attached to the substrate surface.
この上昇工程の際、基板48は、第1のホルダー70か
ら第1の展開領域11aに向って上方に延出した状態と
なっている。そのため、基板48の略全体が第1の展開
領域11aを通過した後に第1のホルダー70および支
持アーム68か第1の展開領域を横切る。引上げられた
基板48は、第2のホルダー72に受は渡される。During this raising step, the substrate 48 is in a state of extending upward from the first holder 70 toward the first development area 11a. Therefore, after substantially the entire substrate 48 passes through the first deployment area 11a, the first holder 70 and the support arm 68 also cross the first deployment area. The lifted substrate 48 is transferred to the second holder 72.
このように構成された実施例においても、単分子膜を基
板表面に付着させる際、基板48の略全体が単分子膜を
通過した後にホルダーおよび支持アームが単分子膜を通
過するように構成されている。そのため、ホルダーおよ
び支持アームによって展開された単分子膜が悪影響を受
けることがなく、基板表面に良質の単分子膜を形成する
ことができる。また、この実施例によれば、第2の展開
領域11bを通して基板48を下降させる際にも、基板
略全体が展開領域を通過した後に第1のホルダーおよび
支持アームが第2の展開領域を通過する。そのため、第
2の展開領域にも単分子を展開しておくことにより、基
板48の下降時、第1のホルダーおよび支持アームによ
り悪影響を受けることな(、良質の単分子膜を基板表面
に付着させることができる。したがって、第1および第
2のホルダー間での基板の受は渡し操作を伴うことなく
、支持アーム68の一回の昇降動作により、基板表面に
良質の単分子膜を2層形成することができる。なお、こ
の場合、第2の展開領域に展開された単分子を圧縮する
ための他の可動バリア22を設ける必要がある。In this embodiment, the holder and the support arm are configured to pass through the monomolecular film after substantially the entire substrate 48 has passed through the monomolecular film when attaching the monomolecular film to the surface of the substrate. ing. Therefore, the monomolecular film developed by the holder and the support arm is not adversely affected, and a high-quality monomolecular film can be formed on the substrate surface. Further, according to this embodiment, even when lowering the substrate 48 through the second deployment area 11b, the first holder and the support arm pass through the second deployment area after almost the entire substrate passes through the deployment area. do. Therefore, by spreading the monomolecules in the second spreading area, when the substrate 48 is lowered, it will not be adversely affected by the first holder and the support arm (i.e., a high-quality monomolecular film can be attached to the substrate surface). Therefore, the substrate can be transferred between the first and second holders without any transfer operation, and two layers of high-quality monomolecular films can be deposited on the substrate surface by a single lifting and lowering operation of the support arm 68. Note that in this case, it is necessary to provide another movable barrier 22 for compressing the single molecules developed in the second deployment region.
また、上記の実施例においては、基板48表面か展開さ
れた単分子膜に対して所定角度傾斜した状態で、基板を
昇降させることがもきる。そのため、単分子膜が基板に
付着する際に生じる単分子膜の表面圧低下を防止するこ
とができ、−層良質な単分子膜を基板表面に形成可能と
なる。Further, in the above embodiment, the substrate 48 can be raised and lowered in a state where the surface of the substrate 48 is inclined at a predetermined angle with respect to the developed monomolecular film. Therefore, a decrease in surface pressure of the monomolecular film that occurs when the monomolecular film is attached to the substrate can be prevented, and a high-quality monomolecular film can be formed on the surface of the substrate.
第21図および第22図は、他の多関節構造を何する支
持アーム68を示している。この実施例によれば、複数
の関節部材86は、1本のピン87により隣合う他の関
節部材に回動自在に連結されている。このピン87は、
関節部材86の中心軸に対して偏心して位置している。FIGS. 21 and 22 show a support arm 68 having an alternative articulated structure. According to this embodiment, the plurality of joint members 86 are rotatably connected to other adjacent joint members by one pin 87. This pin 87 is
It is located eccentrically with respect to the central axis of the joint member 86.
また、各関節部材86には、図示しない透孔が形成され
、この透孔は関節部子オの中心軸の回りで、ピン87か
ら180度離間口て位置している。そして、先端の関節
部+486aに固定された単一のワイヤー88は上記透
孔および固定ロッド84内を通って伸び、移動台61a
に取付けられたプーリー90に連結されている。Further, each joint member 86 is formed with a through hole (not shown), and this through hole is located 180 degrees apart from the pin 87 around the central axis of the joint member O. A single wire 88 fixed to the joint portion +486a at the tip extends through the through hole and the fixed rod 84, and extends through the movable table 61a.
It is connected to a pulley 90 attached to the.
このように構成された支持アーム68も、移動台61a
に取付けられたモータ91によってプーリー90を回転
させることにより、第22図に示すように、第1のボル
ダ−70に保持された基板48を180度反転させるこ
とができる。したがって、上記の実施例と同様の作用効
果を得ることができる。The support arm 68 configured in this way also has the movable base 61a.
By rotating the pulley 90 by a motor 91 attached to the holder, the substrate 48 held by the first boulder 70 can be turned over 180 degrees, as shown in FIG. Therefore, the same effects as in the above embodiment can be obtained.
この実施例においても、第2のホルダー72と第1のホ
ルダー70との間での受渡し工程を組合せて実施するこ
とにより、種々のへテロ構造膜を形成することができる
。Also in this embodiment, various heterostructure films can be formed by performing the delivery process between the second holder 72 and the first holder 70 in combination.
第23図は、この発明の第2の実施例に係る有機薄膜形
成装置を示している。この装置は、ベース100と、ベ
ース上に載置されているとともに水を収容した水槽10
1とを備えている。水の液面は、2つの第1の展開領域
102.104と、これらの周囲に位置した第2の展開
領域106とに区画されている。つまり、容箱1の展開
領域は、水面に浮遊された一対の平行な可動バリア10
8および一対の平行な固定バリア110により矩形状に
仕切られている。領域102には単分子112か、また
、領域104には単分子114がそれぞれ展開され、第
2の展開領域106には単分子が展開されていない。ま
た、各可動バリア108は、第1の実施例と同様の構成
を有する図示しない圧縮駆動機構によってそれぞれ液面
上を移動される。更に、展開領域に展開された単分子の
表面圧力は、図示しない表面圧力検出器によって検出さ
れる。FIG. 23 shows an organic thin film forming apparatus according to a second embodiment of the present invention. This device includes a base 100 and an aquarium 10 placed on the base and containing water.
1. The water level is divided into two first deployment areas 102, 104 and a second deployment area 106 located around these. In other words, the deployment area of the container box 1 consists of a pair of parallel movable barriers 10 floating on the water surface.
8 and a pair of parallel fixed barriers 110 to form a rectangular shape. A single molecule 112 is developed in the region 102, a single molecule 114 is developed in the region 104, and no single molecule is developed in the second developed region 106. Further, each movable barrier 108 is moved on the liquid surface by a compression drive mechanism (not shown) having a configuration similar to that of the first embodiment. Furthermore, the surface pressure of the single molecule developed in the development region is detected by a surface pressure detector (not shown).
形成装置は、ワークとしての基板48を水槽101内の
水に浸漬および水から引上げる基板駆動装置50を備え
ている。この装置50は、水槽101の水内に配設され
た第1の昇降機構118と、水面の上方に設けられた第
2の昇降機構116と、第1の昇降機構118を水内で
水平に移動させる第1の水平移動機構122と、第2の
昇降機構116を水面の上方を水平に移動させる第2の
水平移動機構120と、を備え、これらの機構の動作は
制御装置124によってそれぞれ制御される。The forming apparatus includes a substrate driving device 50 that immerses a substrate 48 as a workpiece in water in a water tank 101 and pulls it out of the water. This device 50 has a first elevating mechanism 118 disposed in the water of an aquarium 101, a second elevating mechanism 116 provided above the water surface, and a first elevating mechanism 118 horizontally in the water. It includes a first horizontal movement mechanism 122 that moves the second lifting mechanism 116 and a second horizontal movement mechanism 120 that moves the second lifting mechanism 116 horizontally above the water surface, and the operations of these mechanisms are each controlled by a control device 124. be done.
第2の昇降機構116は、支持台126を有し、この支
持台には、それぞれ駆動プーリー128aと従動プーリ
ー128bとに掛渡された互いに平行な2組のエンドレ
スベルト130と、それぞれ駆動プーリー132aと従
動プーリー132bとに掛渡された互いに平行な2組の
エンドレスベルト134とが互いに向合って取付けられ
ている。The second elevating mechanism 116 has a support base 126, and this support base includes two sets of endless belts 130 that are parallel to each other and are stretched around a drive pulley 128a and a driven pulley 128b, respectively, and a drive pulley 132a, respectively. Two sets of endless belts 134, which are parallel to each other and are stretched around the driven pulley 132b, are attached facing each other.
駆動プーリー128aはシャフトによって互いに連結さ
れているとともに、基板48の幅よりも僅かに短い距離
だけ互いに離間している。同様に、従動プーリ−128
b同士、駆動プーリ−132a同士、従動プーリ−13
2b同時は、それぞれシャフトによって互いに連結され
ているとともに、互いに基板48の幅よりも僅かに短い
距離だけ離間している。また、駆動プーリー128aと
132aとは、および従動プーリー128bと132b
とは、それぞれ基板48の厚さと略等しい距離だけ離間
して位置している。したがって、ベルト130とベルト
134との間に、基板48の両側縁部を挟持可能となっ
ており、この第2の昇降機構116は基板48を保持す
る第2の保持機構136を兼ねている。また、駆動プー
リー128a、134aは、後述する第2の移動水平移
動機構120の移動台138に取付けられたモータ14
0に上記シャフトを介して連結されている。そして、モ
ータ140によって駆動プーリー128a、132aを
回転させることにより、ベルト130.134を互いに
同期して同一の方向に走行させることができる。したが
って、ベルト130.134間に挟持された基板48を
、水槽101の上方から水内に浸漬あるいは水から引上
げを行うことができる。The drive pulleys 128a are connected to each other by a shaft and are spaced apart from each other by a distance slightly less than the width of the substrate 48. Similarly, driven pulley 128
b to each other, drive pulleys 132a to each other, driven pulley 13
2b are connected to each other by shafts, and are spaced apart from each other by a distance slightly shorter than the width of the substrate 48. Furthermore, the driving pulleys 128a and 132a are the driven pulleys 128b and 132b.
are spaced apart from each other by a distance approximately equal to the thickness of the substrate 48, respectively. Therefore, both side edges of the substrate 48 can be held between the belt 130 and the belt 134, and this second elevating mechanism 116 also serves as a second holding mechanism 136 that holds the substrate 48. Further, the driving pulleys 128a and 134a are driven by a motor 14 attached to a moving table 138 of a second moving horizontal moving mechanism 120, which will be described later.
0 via the shaft. By rotating the drive pulleys 128a and 132a by the motor 140, the belts 130 and 134 can be caused to run in the same direction in synchronization with each other. Therefore, the substrate 48 held between the belts 130 and 134 can be immersed into or pulled out of the water from above the water tank 101.
また、支持台126は移動台138に回動自在に支持さ
れているとともに、移動台に設けられたモータ142に
よって支持台を回動させることができる。そのため、ベ
ルト130.134間に保持された基板48の水面に対
する傾きを調整可能となっている。Further, the support base 126 is rotatably supported by a movable base 138, and the support base can be rotated by a motor 142 provided on the movable base. Therefore, the inclination of the substrate 48 held between the belts 130 and 134 with respect to the water surface can be adjusted.
第2の水平移動機構120は、上述1.たように、第2
の昇降機構116を支持した移動台138を備えている
。この移動台は、ベース100上に固定されたガイドレ
ール144によってガイドされているとともに、一対の
支持ボスト147を介12てベースに取付けられた送り
ねじ146と係合シ、2ている。ガイドレール144お
よびねじ146は、互いに平行に、かつ、水槽101の
長手方向に沿って伸びている。一方の支持ボスト147
にはモータ148が取付けられ、ねじ146に連結され
ている。モータ148によってねじ146を回転させる
ことにより、移動台138をガイドレール144に沿っ
て移動させることができる。そして、第2の昇降機構1
16は、移動台138の移動に伴い、水面の上方を水平
に移動する。The second horizontal movement mechanism 120 is configured in the above-mentioned 1. As shown, the second
A moving platform 138 is provided that supports a lifting mechanism 116. This moving table is guided by a guide rail 144 fixed on the base 100, and is engaged with a feed screw 146 attached to the base via a pair of support posts 147. The guide rail 144 and the screw 146 extend parallel to each other and along the longitudinal direction of the water tank 101. One support post 147
A motor 148 is attached to and connected to a screw 146 . By rotating the screw 146 by the motor 148, the movable table 138 can be moved along the guide rail 144. And the second lifting mechanism 1
16 moves horizontally above the water surface as the moving table 138 moves.
第1の昇降機構118は、水槽101の水内に位置した
支持台150を備えている。支持台150には、第2の
昇降機構116と同様に、それぞれ駆動プーリー152
aと従動プーリー152bとに掛渡された互いに平行な
2組のエンドレスベルト154と、それぞれ駆動プーリ
ー156aと従動プーリー156bとに掛渡された互い
に平行な2組のエンドレスベルト158とが互いに向合
って取付けられている。そして、ベルト154と158
との間に、基板48の両側縁部を挟持可能となっており
、この第1の昇降機構118は第2の保持機構160を
兼ねている。また、駆動プーリー152a、1.56a
は、後述する第1の移動水平移動機構122の移動台1
62に取付けられたモータ164に連結されている。The first elevating mechanism 118 includes a support base 150 located in the water of the water tank 101. Similarly to the second elevating mechanism 116, the support stand 150 has drive pulleys 152, respectively.
Two sets of endless belts 154 that are parallel to each other and are stretched between a drive pulley 156a and a driven pulley 152b, and two sets of endless belts 158 that are parallel to each other and are stretched between a drive pulley 156a and a driven pulley 156b, respectively, face each other. installed. And belts 154 and 158
Both side edges of the substrate 48 can be held between them, and this first elevating mechanism 118 also serves as a second holding mechanism 160. In addition, drive pulleys 152a, 1.56a
is the moving table 1 of the first moving horizontal moving mechanism 122, which will be described later.
62 is connected to a motor 164 attached to the motor 62.
そして、モータ162によって駆動プーリー152a、
156aを回転させることにより、ベルト154.15
8を互いに同期して同一の方向に走行させることができ
る。したがって、ベルト間に挟持された基板48を、水
槽101内から、水内に浸漬あるいは水から押し上げを
行うことができる。The motor 162 drives the pulley 152a,
By rotating belt 156a, belt 154.15
8 can be run in the same direction in synchronization with each other. Therefore, the substrate 48 held between the belts can be immersed in water or lifted out of the water from inside the water tank 101.
また、支持台150は移動台162に回動自在に支持さ
れているとともに、移動台に設けられたモータ166に
よって支持台を回動させることができる。そのため、ベ
ルト154.158間+:保持された基板48の水面に
対する傾きを調整可能となっている。Further, the support stand 150 is rotatably supported by a moving stand 162, and the support stand can be rotated by a motor 166 provided on the moving stand. Therefore, the inclination of the substrate 48 held between the belts 154 and 158 with respect to the water surface can be adjusted.
第1の水平移動機構122は、上述したように、第1の
昇降機構118を支持した移動台]62を備えている。As described above, the first horizontal movement mechanism 122 includes a moving table 62 that supports the first elevating mechanism 118.
この移動台は、ベース100上に固定されたガイドレー
ル168によってガイドされているとともに、一対の支
持ボスト169を介してベースに取付けられた送りねじ
170と係合している。ガイドレール168およびねじ
170は、互いに平行に、かつ、水槽101の長手方向
に沿って伸びている。一方の支持ボスト169にはモー
タ172が取付けられ、ねじ170に連結されている。This moving table is guided by a guide rail 168 fixed on the base 100, and is engaged with a feed screw 170 attached to the base via a pair of support posts 169. The guide rail 168 and the screw 170 extend parallel to each other and along the longitudinal direction of the water tank 101. A motor 172 is attached to one support post 169 and connected to a screw 170.
モータ172によってねじ170を回転させることによ
り、移動台162をガイドレール168に沿って移動さ
せることができる。したがって、第1の昇降機構116
を水槽101の水内で水平に移動させることができる。By rotating the screw 170 by the motor 172, the movable table 162 can be moved along the guide rail 168. Therefore, the first lifting mechanism 116
can be moved horizontally within the water in the water tank 101.
次に以上のように構成された形成装置を用いて基板48
表面に単分子膜を形成する工程の一例を説明する。Next, the substrate 48 is formed using the forming apparatus configured as described above.
An example of the process of forming a monomolecular film on the surface will be explained.
まず、第24A図に示すように、基板48を第2の昇降
機構116のベルト130.134間に保持した後、第
2の水平移動機構120により昇降機構116を第1の
展開領域102の上方に移動させる。同様に、第1の水
平移動機構122により第1の昇降機構を第1の展開領
域102の下方に搬送し、第2の昇降機構116と対向
させる。First, as shown in FIG. 24A, after the substrate 48 is held between the belts 130 and 134 of the second lifting mechanism 116, the lifting mechanism 116 is moved above the first deployment area 102 by the second horizontal movement mechanism 120. move it to Similarly, the first horizontal movement mechanism 122 transports the first elevating mechanism below the first deployment area 102 and makes it face the second elevating mechanism 116 .
この時、ベルト130.134とベルト154.158
とが直線上に並ぶように、それぞれ支持台126.15
0の角度を調整する。この状態で第1および第2の昇降
機構116.118ののベルトを同一の方向、つまり、
基板48が下降する方向に走行させる。それにより、基
板48は、第2の昇降機構のベルト130.134によ
って駆動され、展開領域102を通って水槽101内に
浸漬される。基板48の約半分が水内に浸漬されると、
基板の下端部は第1の昇降機構118のベルト154.
158間に挟持され、基板は第2の昇降機構から第1の
昇降機構へ受は渡される。以後、゛基板48は、第1の
昇降機構118のベルト154.158によって更に下
降される。そして、基板48が水内に完全に浸漬された
時点でベルトの駆動が停止される。このようにして、基
板48が第1の展開領域102を通過する際、第24B
図に示すように、展開された単分子112の膜が基板表
面に付着される。At this time, belt 130.134 and belt 154.158
The support stands 126 and 15 are arranged in a straight line.
Adjust the angle of 0. In this state, the belts of the first and second lifting mechanisms 116 and 118 are moved in the same direction, that is,
The substrate 48 is caused to travel in a downward direction. The substrate 48 is thereby driven by the belts 130, 134 of the second lifting mechanism and immersed through the deployment area 102 into the water tank 101. When about half of the substrate 48 is immersed in water,
The lower end of the board is attached to the belt 154 of the first lifting mechanism 118.
158, and the substrate is transferred from the second lifting mechanism to the first lifting mechanism. Thereafter, the substrate 48 is further lowered by the belts 154 and 158 of the first lifting mechanism 118. Then, when the substrate 48 is completely immersed in water, the driving of the belt is stopped. In this way, when the substrate 48 passes through the first development area 102, the 24th B.
As shown, an expanded film of monomolecules 112 is deposited on the substrate surface.
続いて、第25A図に示すように、基板を保持した状態
の第1の昇降機構118は、第1の水平移動機構122
により、第1の展開領域104の下方まで水槽101内
を搬送される。同様に、第2の昇降機構116も、第1
の昇降機構118と対向するように、第2の水平移動機
構によって展開領域104の上方まで搬送される。ここ
で、各昇降機構の支持台は、基板48の移動方向が第2
4A図の状態から90度変化するように回動される。こ
こでは、下降時と上昇時との分子の付着状態を同一にす
るため基板を液面に対して傾斜させた状態で移動させて
いるが1、基板を液面に対して垂直な状態で昇降させて
も良い。この状態で第1および第2の昇降機構116.
118ののベルトを同一の方向、つまり、基板48が上
昇する方向に走行させる。それにより、基板48は、第
1の昇降機構118のベルト154.158によって駆
動され、展開領域104を通って水槽10]から引上げ
られる。基板48の約半分が水面から上昇すると、基板
の上端部は第2の昇降機構116のベルト130.13
4間に挟持され、基板は第1の昇降機構から第2の昇降
機構へ受は渡される。以後、基板48は、第2の昇降機
構116のベルト130,134によって更に上昇され
る。そして、基板48が水から完全に引上げられた時点
でベルトの駆動が停止される。このようにして、基板4
8が第1の展開領域104を通過する際、第25B図に
示すように、展開された単分子114の膜が基板表面に
付着される。Subsequently, as shown in FIG. 25A, the first elevating mechanism 118 holding the substrate moves to the first horizontal moving mechanism 122.
As a result, it is transported within the water tank 101 to below the first development area 104. Similarly, the second elevating mechanism 116 also
The second horizontal movement mechanism transports the robot to the upper part of the deployment area 104 so as to face the lifting mechanism 118 of the second horizontal movement mechanism. Here, the support base of each elevating mechanism is such that the movement direction of the substrate 48 is in the second direction.
It is rotated 90 degrees from the state shown in Figure 4A. Here, in order to make the adhesion state of molecules the same when descending and ascending, the substrate is moved at an angle to the liquid surface. You can let me. In this state, the first and second lifting mechanisms 116.
The belts 118 are run in the same direction, that is, in the direction in which the substrate 48 is raised. The substrate 48 is thereby driven by the belts 154, 158 of the first lifting mechanism 118 and pulled up from the water tank 10 through the deployment area 104. When approximately half of the substrate 48 rises from the water surface, the upper end of the substrate 48 is lifted from the belt 130.13 of the second lifting mechanism 116.
4, and the substrate is transferred from the first lifting mechanism to the second lifting mechanism. Thereafter, the substrate 48 is further lifted by the belts 130 and 134 of the second lifting mechanism 116. Then, when the substrate 48 is completely lifted out of the water, the driving of the belt is stopped. In this way, the substrate 4
8 passes through the first development region 104, a film of developed single molecules 114 is deposited on the substrate surface, as shown in FIG. 25B.
そして、以上の工程により、基板表面に、異なる単分子
からなるY型の有機薄膜が形成される。Through the above steps, a Y-shaped organic thin film made of different single molecules is formed on the surface of the substrate.
上述したような基板の昇降動作を種々組合わせるととも
に、単分子の展開されていない第2の展開領域106を
通して基板を昇降させる工程を加えることにより、種々
のへテロ構造膜を形成することができる。Various heterostructure films can be formed by combining various movements of raising and lowering the substrate as described above and adding a step of raising and lowering the substrate through the second deployment region 106 where single molecules are not deployed. .
以上のように構成された第2の実施例によれば、単分子
の展開された展開領域を通して基板を昇降させる際、基
板は、展開された単分子膜の上方および下方にそれぞれ
位置した第1および第2の昇降機構間で受は渡される。According to the second embodiment configured as described above, when the substrate is moved up and down through the development area where the monolayer is spread, the substrate is moved upward and downward through the development region where the monolayer is developed. and the second lifting mechanism.
そのため、基板を保持する昇降機構が展開された分子を
横切ることがなく、これらの昇降機構によって展開され
た単分子が悪影響を受けることがない。したがって、第
1の実施例と同様に、良質の単分子膜を基板表面に形成
することができる。Therefore, the elevating mechanism that holds the substrate does not cross the developed molecules, and the single molecules developed by these elevating mechanisms are not adversely affected. Therefore, similarly to the first embodiment, a high quality monomolecular film can be formed on the substrate surface.
なお、第2の実施例において、単分子を展開する第1の
展開領域の数は2つに限らず、必要に応じて容易に増加
することができる。また、各昇降機構の支持台の角度を
調整することにより、展開領域に対して基板を垂直に昇
降させるようにしてもよい。更に、各昇降機構は、1組
のベルトにより基板の一側縁部のみを挟持するようにし
てもよい。Note that in the second embodiment, the number of first development regions for developing single molecules is not limited to two, and can be easily increased as necessary. Further, by adjusting the angle of the support base of each lifting mechanism, the substrate may be raised and lowered perpendicularly to the deployment area. Furthermore, each lifting mechanism may be configured such that only one side edge of the substrate is held between one set of belts.
第27図はこの発明の第3の実施例に係る有機薄膜形成
装置を示している。この装置は、ベース100と、ベー
ス上に載置されているとともに水を収容した水槽101
とを備えている。水の液面は、2つの第1の展開領域1
02.104と、これらの周囲に位置した第2の展開領
域106とに区画されている。つまり、各節1の展開領
域は、水面に浮遊された一対の平行な可動バリア108
および一対の平行な固定バリア110により矩形状に仕
切られている。領域102には単分子112が、また、
領域104には単分子114がそれぞれ展開され、第2
の展開領域106には単分子が展開されていない。また
、各可動バリア108は、第1の実施例と同様の構成を
有する図示しない圧縮駆動機構によってそれぞれ液面上
を移動される。更に、展開領域に展開された単分子の表
面圧力は、図示しない表面圧力検出器によって検出され
る。FIG. 27 shows an organic thin film forming apparatus according to a third embodiment of the present invention. This device includes a base 100 and a water tank 101 placed on the base and containing water.
It is equipped with The water level is divided into two first development areas 1
02.104, and a second deployment area 106 located around these areas. In other words, the development area of each node 1 is a pair of parallel movable barriers 108 floating on the water surface.
It is partitioned into a rectangular shape by a pair of parallel fixed barriers 110. There is a single molecule 112 in the region 102, and
Single molecules 114 are each developed in the region 104, and the second
No single molecule is developed in the development region 106 . Further, each movable barrier 108 is moved on the liquid surface by a compression drive mechanism (not shown) having a configuration similar to that of the first embodiment. Furthermore, the surface pressure of the single molecule developed in the development region is detected by a surface pressure detector (not shown).
形成装置は、ワークとしての基板48を水槽101内の
水に浸漬および水から引上げる2!仮駆動装置50を備
えている。この装置5oは、基板48を保持する保持機
構54と、保持機構に保持された基板を水槽101に対
して昇降する昇降機構56と、保持機構に保持された基
板を水面と平行な方向に搬送する水平移動機構58と、
を備え、これらの機構の動作は制御装置124によって
それぞれ制御される。The forming device immerses the substrate 48 as a work in water in the water tank 101 and pulls it out of the water 2! A temporary drive device 50 is provided. This device 5o includes a holding mechanism 54 that holds the substrate 48, a lifting mechanism 56 that lifts and lowers the substrate held by the holding mechanism with respect to the water tank 101, and a lifting mechanism 56 that transports the substrate held by the holding mechanism in a direction parallel to the water surface. a horizontal movement mechanism 58,
The operations of these mechanisms are respectively controlled by a control device 124.
第27図および第28図に示すように、保持機構54は
、後述する昇降機構56の移動台61に支持された支持
板174を備えている。この支持板は、移動台61に回
動自在に支持された第1の部分174aと、一対のヒン
ジ175により第1の部分に回動自在に接続された第2
の部分174bとで構成されている。第1の部分174
a上には、ソレノイド178が取付けられ、ソレノイド
と共同するプランジャーは、接続ロッド179を介して
、第2の部分174b上の連結突起180に接続されて
いる。そして、ソレノイド178を駆動することにより
、第2の部分174bは第1の部分174aに対して回
動される。As shown in FIGS. 27 and 28, the holding mechanism 54 includes a support plate 174 supported by a movable table 61 of a lifting mechanism 56, which will be described later. This support plate includes a first portion 174a rotatably supported by the moving table 61, and a second portion rotatably connected to the first portion by a pair of hinges 175.
174b. first portion 174
On a, a solenoid 178 is mounted, the plunger cooperating with the solenoid being connected via a connecting rod 179 to a connecting projection 180 on the second part 174b. Then, by driving the solenoid 178, the second portion 174b is rotated relative to the first portion 174a.
また、第1の部分174aには、基板48を保持可能な
第1のホルダーとして作用する一対の第1の保持爪17
6が回動自在に取付けられている。各保持爪176の先
端部は、支持板174の下端を越えて充分に下方まで伸
びている。保持爪176間には、第1のエアシリンダ1
77が接続されており、このエアシリンダにより、保持
爪は互いに接近する方向および互いに離間する方向に回
動される。そして、エアシリンダ177によって保持爪
176を開閉することにより、保持爪の先端部間に基板
48を保持することができる。第2の部分174bには
、基板48を保持可能な第2のホルダーとして作用する
一対の第2の保持爪182が回動自在に取付けられてい
る。保持爪182は、第1の保持爪176の内側に位置
しているとともに、その先端部は、支持板174の下端
を越えて伸び、かつ、第1の保持爪の上方に位置してい
る。第2の保持爪182間には、第2のエアシリンダ1
83が接続されており、このエアシリンダにより、保持
爪は互いに接近する方向および互いに離間する方向に回
動される。そして、エアシリンダ183によって保持爪
182を開閉することにより、保持爪の先端部間に基板
48を保持することができる。The first portion 174a also has a pair of first holding claws 17 that act as a first holder capable of holding the substrate 48.
6 is rotatably attached. The tip of each holding claw 176 extends sufficiently downward beyond the lower end of the support plate 174. Between the holding claws 176, the first air cylinder 1
77 is connected, and the holding claws are rotated by this air cylinder in the direction toward each other and in the direction away from each other. By opening and closing the holding claws 176 using the air cylinder 177, the substrate 48 can be held between the tips of the holding claws. A pair of second holding claws 182 that act as a second holder capable of holding the substrate 48 are rotatably attached to the second portion 174b. The holding claw 182 is located inside the first holding claw 176, and its tip extends beyond the lower end of the support plate 174 and is located above the first holding claw. A second air cylinder 1 is located between the second holding claws 182.
83 is connected, and the holding claws are rotated by this air cylinder in the direction toward each other and in the direction away from each other. By opening and closing the holding claws 182 using the air cylinder 183, the substrate 48 can be held between the tips of the holding claws.
昇降機構56は、保持機構54を支持した移動台61を
備え、この移動台は、水1!101内の水の液面に対し
て垂直に伸びる送りねじ184と係合している。送りね
じ184は、後述する水平移動機構58の支持台185
に取付けられたモータ78に接続されている。そして、
モータ78によってねじ184を回転することにより、
移動台6〕を垂直に昇降させることができる。The lifting mechanism 56 includes a moving table 61 that supports the holding mechanism 54, and this moving table is engaged with a feed screw 184 extending perpendicularly to the water level in the water 1!101. The feed screw 184 is connected to a support base 185 of the horizontal movement mechanism 58, which will be described later.
The motor 78 is connected to the motor 78 attached to the motor 78 . and,
By rotating the screw 184 by the motor 78,
The movable table 6] can be vertically moved up and down.
水平移動機構58は、ベースの両端部に立設された一対
の支持ポスト186を有し、これらのポスト間に送りね
じ187が架設されている。送りねじ187は、水11
.01の上方を水平に伸びているとともに、支持台18
5と係合している。−方の支持ポスト186にはモータ
188が取付けられ、送りねじ187に接続されている
。そして、モータ188によって送りねじ187を回転
することにより、保持機構54および昇降機構56を支
持した支持台185を水平に移動させることができ、そ
の結果、保持機構に保持された基板48を第1および第
2の展開領域102.104.1、06間で搬送するこ
とができる。The horizontal movement mechanism 58 has a pair of support posts 186 erected at both ends of the base, and a feed screw 187 is installed between these posts. The feed screw 187 is
.. The support stand 18 extends horizontally above the
It is engaged with 5. A motor 188 is attached to the - side support post 186 and connected to a feed screw 187. By rotating the feed screw 187 by the motor 188, the support base 185 that supports the holding mechanism 54 and the lifting mechanism 56 can be moved horizontally. As a result, the substrate 48 held by the holding mechanism can be moved to the first position. and the second deployment area 102.104.1, 06.
次に、以上のように構成された形成装置を用いて基板4
8表面に単分子膜を形成する工程を説明する。Next, the substrate 4 is formed using the forming apparatus configured as described above.
The process of forming a monomolecular film on the surface of 8 will be explained.
まず、第29A図に示すように、短い第2の保持爪18
2によって基板48を保持した後、基板48が第1の展
開領域102の上方に位置するように水平移動機構58
を駆動する。この時、保持板174の第1および第2の
部分174 a。First, as shown in FIG. 29A, the short second holding claw 18
2, the horizontal movement mechanism 58 is moved so that the substrate 48 is positioned above the first development area 102.
to drive. At this time, the first and second portions 174a of the retaining plate 174.
174bは同一平面内に位置しているとともに、展開領
域102に対して所望の角度に設定されている。また、
第1の保持爪176は開放されている。174b is located in the same plane and set at a desired angle with respect to the deployment area 102. Also,
The first holding claw 176 is open.
続いて、第29B図に示すように、昇降機構56により
、第1の展開領域102を通して基板48を下降させ、
水内に完全に浸漬する。この時、第1の保持爪176は
、単分子の展開されていない第2の展開領域106を通
って水内に浸漬される。それにより、基板48表面に、
展開領域102に展開された単分子112の膜を付着さ
せる。Subsequently, as shown in FIG. 29B, the substrate 48 is lowered through the first development area 102 by the lifting mechanism 56, and
Completely immerse in water. At this time, the first holding claw 176 is immersed in water through the second deployment area 106 where the single molecules are not deployed. As a result, on the surface of the substrate 48,
A film of developed single molecules 112 is attached to the development region 102.
次に、第29C図に示すように、第1の保持爪を閉じる
ことにより、基板48の下端部を保持爪176によって
保持する。そして、第2の保持爪182を開放し、保持
爪182による基板48の保持を解除する。それにより
、基板48は、第2の保持爪182から第1の保持爪1
76に受は渡される。Next, as shown in FIG. 29C, the lower end of the substrate 48 is held by the holding claws 176 by closing the first holding claws. Then, the second holding claw 182 is released, and the holding of the substrate 48 by the holding claw 182 is released. Thereby, the substrate 48 is moved from the second holding claw 182 to the first holding claw 1.
Uke is passed in 76.
続いて、第29D図に示すように、支持板174の第2
の部分174bを上方に回動させることにより、第2の
保持爪182を水槽101から引上げる。この状態で、
水平移動機構58により、水内を通して基板48を第1
の展開領域104の下方まで搬送する。Subsequently, as shown in FIG. 29D, the second
By rotating the portion 174b upward, the second holding claw 182 is pulled up from the water tank 101. In this state,
The horizontal movement mechanism 58 moves the substrate 48 through the water to the first position.
It is transported to below the deployment area 104.
次に、第29E図に示すように、昇降機構56により、
第1の展開領域104を通して基板を上昇させる。そし
て、基板48の上端部が展開領域104から引上げられ
た時点で、支持板174の第2の部分174bを初期位
置に回動させるとともに、第2の保持爪182を閉じて
基板の上端部を保持する。その後、第1の保持爪176
を開放して基板48の保持を解除し、それにより、基板
を第1の保持爪から第2の保持爪へ受は渡す。続いて、
基板48全体が展開領域104を通過するまで、更に基
板を引上げる。この際、第1の保持爪は単分子の展開さ
れていない第2の展開領域106を通過する。それによ
り、基板表面に単分子114の膜が付着される。Next, as shown in FIG. 29E, the elevating mechanism 56
The substrate is raised through the first deployment area 104. Then, when the upper end of the substrate 48 is pulled up from the deployment area 104, the second portion 174b of the support plate 174 is rotated to the initial position, the second holding claw 182 is closed, and the upper end of the substrate is pulled up. Hold. After that, the first holding claw 176
is released to release the holding of the substrate 48, thereby passing the substrate from the first holding claw to the second holding claw. continue,
The substrate is further pulled up until the entire substrate 48 passes through the deployment area 104. At this time, the first holding claw passes through the second deployment area 106 where single molecules are not deployed. Thereby, a film of single molecules 114 is attached to the substrate surface.
」二足の工程により、基板表面に、異なる2層の41分
子膜を有するY型の累積膜が形成される。Through the two-step process, a Y-shaped cumulative film having two different layers of 41 molecular films is formed on the substrate surface.
なお、この実施例において、第1の展開領域102を通
して基板48を水槽101内に浸漬した後、再び第1の
展開領域102を通して基板を水槽から引上げるように
してもよい。In this embodiment, after the substrate 48 is immersed in the water tank 101 through the first development area 102, the substrate may be pulled up from the water tank through the first development area 102 again.
この場合、まず、基板48の上端部を第2の保持爪18
2で保持した状態で、保持爪182の下端が液面近傍に
位置するまで、第1の展開領域102を通して基板を下
降させる。この時、第1の保持爪176は、第2の展開
領域106を通って水槽101内に浸漬される。続いて
、第1の保持爪176を閉じて基板48の下端部を保持
するとともに、第2の保持爪182を開放する。それに
より、基板48を第2の保持爪182から第1の保持爪
176に受は渡す。その後、第29D図に示めすように
、第2の保持爪182が液面から離間する方向に、支持
板174の第2の部分174bを回動させる。この状態
で、基板48全体が水槽101内に浸漬されるまで、保
持爪176を下降させる。それにより、基板48表面に
単分子膜112が形成される。In this case, first, hold the upper end of the board 48 with the second holding claw 18.
2, the substrate is lowered through the first development area 102 until the lower end of the holding claw 182 is located near the liquid level. At this time, the first holding claw 176 is immersed into the water tank 101 through the second deployment area 106. Subsequently, the first holding claw 176 is closed to hold the lower end of the substrate 48, and the second holding claw 182 is opened. Thereby, the board 48 is passed from the second holding claw 182 to the first holding claw 176. Thereafter, as shown in FIG. 29D, the second portion 174b of the support plate 174 is rotated in the direction in which the second holding claw 182 is separated from the liquid surface. In this state, the holding claws 176 are lowered until the entire substrate 48 is immersed in the water tank 101. As a result, a monomolecular film 112 is formed on the surface of the substrate 48.
次に、第29D図および第29E図に示された工程と同
様の工程により、第1の展開領域102を通して基板4
8を水槽101から引上げ、それにより、基板表面に単
分子膜112を形成する。Next, the substrate 4 is passed through the first development area 102 by a process similar to that shown in FIGS. 29D and 29E.
8 from the water tank 101, thereby forming a monomolecular film 112 on the surface of the substrate.
以上のように構成された形成装置においても、単分子の
展開された展開領域を通して基板48を昇降させる際、
基板を保持した第2の保持爪は、基板略全体が上記展開
領域を通過した後に展開領域を通過するか、あるいは、
展開領域を全く通過しない。また、第1の保持爪は上記
展開領域を全く通過しない。したがって、基板に付着さ
れる前の単分子膜が保持爪によって悪影響を受けること
がなく、良質の単分子膜を基板表面に形成することがで
いる。Even in the forming apparatus configured as described above, when the substrate 48 is moved up and down through the development area where single molecules are developed,
The second holding claw holding the substrate passes through the development area after substantially the entire substrate has passed through the development area, or
It does not pass through the deployment area at all. Moreover, the first holding claw does not pass through the development area at all. Therefore, the monomolecular film before it is attached to the substrate is not adversely affected by the holding claws, and a high-quality monomolecular film can be formed on the substrate surface.
上記第3の実施例において、保持機構54は第30図お
よび第31図に示すように構成されていてもよい。In the third embodiment, the holding mechanism 54 may be configured as shown in FIGS. 30 and 31.
この実施例によれば、保持機構54は、支持板174に
固定されたクランプ189に保持された第1のシリンダ
190を備え、このシリンダは水槽101内の水の水面
に対して垂直に伸びている。According to this embodiment, the holding mechanism 54 comprises a first cylinder 190 held by a clamp 189 fixed to the support plate 174, which cylinder extends perpendicularly to the surface of the water in the aquarium 101. There is.
シリンダ190には、基板48を保持する第1および第
2のホルダー70.72が設けられている。The cylinder 190 is provided with first and second holders 70 , 72 that hold the substrate 48 .
つまり、第2のホルダー72は、シリンダ190内に配
設されているとともに略V字状に湾曲された板ばね19
1と、板ばねの一端に固定された一対のピン192aと
、板ばねの他端に固定されているとともにピン192a
と平行なピン192bとを有している。これらのピン1
92a、192bは、シリンダ190に形成されて円周
方向に伸びる長孔193を通して、シリンダから外方に
突出している。通常、ピン192aとピン192bとは
、板ばね191により互いに接近する方向に付勢され閉
じた状態、つまり、ピン192a、192b間に基板4
8を挟持可能な状態となっている。第2のホルダー72
と同様に、第1のホルダー70は、板ばね194、一対
のピン195a、ピン195bを有し、これらのピンは
シリンダ190に形成された長孔196を通して外方に
突出している。そして、第1および第2のホルダー70
.72は、基板48の長さと略等しい距離だけ互いに離
間して設けられている。That is, the second holder 72 is arranged in the cylinder 190 and has a plate spring 19 curved in a substantially V shape.
1, a pair of pins 192a fixed to one end of the leaf spring, and a pair of pins 192a fixed to the other end of the leaf spring.
The pin 192b is parallel to the pin 192b. These pins 1
92a, 192b project outwardly from the cylinder 190 through circumferentially extending elongated holes 193 formed in the cylinder 190. Normally, the pins 192a and 192b are biased toward each other by the leaf spring 191 and are in a closed state, that is, the board 192a and the pin 192b are
8 can be held. Second holder 72
Similarly, the first holder 70 has a leaf spring 194 and a pair of pins 195a and 195b, which protrude outward through a slot 196 formed in the cylinder 190. And the first and second holders 70
.. 72 are spaced apart from each other by a distance approximately equal to the length of the substrate 48.
第1のシリンダ190内には、第2のシリンダ197が
同軸的に挿通され、その上端部は支持板174に立設さ
れた支持ポスト198によって回転自在に支゛持されて
いる。シリンダ197の上端外周には歯車200が固定
されている。支持板174にはモータ201が取付けら
れ、このモータの回転軸に固定された歯車202は歯車
200と歯合している。また、第2のシリンダ197の
下端には、平板状の回転体204が固定され、第2のホ
ルダー72の板ばね191の内側に位置している。(第
31図においては、図面の複雑化を避けるため、回転体
204は板ばね191からずれた位置に示されている。A second cylinder 197 is coaxially inserted into the first cylinder 190, and its upper end is rotatably supported by a support post 198 erected on the support plate 174. A gear 200 is fixed to the outer periphery of the upper end of the cylinder 197. A motor 201 is attached to the support plate 174, and a gear 202 fixed to the rotating shaft of this motor meshes with the gear 200. Further, a flat rotating body 204 is fixed to the lower end of the second cylinder 197 and is located inside the leaf spring 191 of the second holder 72 . (In FIG. 31, the rotating body 204 is shown at a position shifted from the leaf spring 191 in order to avoid complicating the drawing.
)そして、モータ201によってシリンダ197および
回転体204を回転させることにより、回転体により板
ばね191を付勢力に抗して押し広げ、その結果、ピン
192a、192bを開放することができる。) Then, by rotating the cylinder 197 and the rotating body 204 by the motor 201, the rotating body pushes out the leaf spring 191 against the biasing force, and as a result, the pins 192a and 192b can be released.
第2のシリンダ197内には、回転シャフト206が同
軸的に挿通され、その上端部は、支持板174に立設さ
れた支持ポスト207により回転自在に支持されている
。シャツI−206の上端外周には歯車208が固定さ
れている。支持板174にはモータ209が取付けられ
、このモータの回転軸に固定された歯車210は歯車2
08と歯合している。また、シャフト206の下端は第
2のシリンダ197の下端を越えて伸びており、この下
端には、平板状の回転体212が固定され、第1のホル
ダー70の板ばね194の内伸1に位置している。そし
て、モータ209によってシャフト206および回転体
212を回転させることにより、回転体により板ばね1
94を付勢力に抗して押し広げ、その結果、ピン195
a、195bを開放することができる。第30図および
第31図は、ピン195a、195bを開放した状態を
示している。A rotary shaft 206 is coaxially inserted into the second cylinder 197, and its upper end is rotatably supported by a support post 207 erected on the support plate 174. A gear 208 is fixed to the outer periphery of the upper end of the shirt I-206. A motor 209 is attached to the support plate 174, and a gear 210 fixed to the rotating shaft of this motor is connected to the gear 209.
It meshes well with 08. Further, the lower end of the shaft 206 extends beyond the lower end of the second cylinder 197, and a flat rotating body 212 is fixed to this lower end, and the inner extension 1 of the leaf spring 194 of the first holder 70 positioned. Then, by rotating the shaft 206 and the rotating body 212 by the motor 209, the plate spring 1 is rotated by the rotating body.
94 is pushed out against the biasing force, and as a result, the pin 195
a, 195b can be opened. FIGS. 30 and 31 show the pins 195a and 195b in an open state.
次に以上のように構成された保持機構54を有する形成
装置を用いて基板表面に単分子膜を形成する工程を説明
する。Next, a process of forming a monomolecular film on a substrate surface using a forming apparatus having the holding mechanism 54 configured as described above will be described.
まず、第32A図に示すように、第2のホルダー72に
より基板48の上端部側縁を保持し、続いて、水平移動
機構により、基数48が第1の展開領域102の上方に
位置し、かつ、保持機構54の第1のシリンダ190が
単分子の展開されていない第2の展開領域の上方に位置
するように、保持機構全体を移動させる。この状態で、
昇降機構により、第1の展開領域102を通して基板4
8を下降させるとともに、第2の展開領域106を通し
て第1のシリンダ190を下降させる。この際、第2の
ホルダー70のピン195a。First, as shown in FIG. 32A, the upper end side edge of the substrate 48 is held by the second holder 72, and then the base 48 is positioned above the first development area 102 by the horizontal movement mechanism, In addition, the entire holding mechanism is moved so that the first cylinder 190 of the holding mechanism 54 is located above the second deployment area where single molecules are not deployed. In this state,
The substrate 4 is moved through the first development area 102 by the lifting mechanism.
8 and lower the first cylinder 190 through the second deployment area 106. At this time, the pin 195a of the second holder 70.
195bは、可動バリア108に当たらないように開放
された状態となっている。195b is in an open state so as not to hit the movable barrier 108.
続いて、第32B図に示すように、基板48の下端部が
展開領域102を通過し、かつ、可動バリア108が第
1および第2のホルダー70.72間に位置した状態で
、第1のホルダー70のピン195a、195bを閉じ
て基板48の下端部側縁を保持するとともに、第2のホ
ルダーのピン192a、192bを開放して基板の保持
を解除する。それにより、基板48は第2のホルダー7
2から第1のホルダー70へ受は渡される。Subsequently, as shown in FIG. 32B, with the lower end of the substrate 48 passing through the deployment area 102 and the movable barrier 108 being positioned between the first and second holders 70, 72, the first The pins 195a and 195b of the holder 70 are closed to hold the lower end side edge of the substrate 48, and the pins 192a and 192b of the second holder are opened to release the holding of the substrate. Thereby, the substrate 48 is transferred to the second holder 7
2 to the first holder 70.
その後、基板48が完全に水内へ浸漬されるまで、第1
の展開領域102を通して更に基板を下降させる。この
時、第2のホルダー72のピン192a、192bは開
放されていることから、可動バリア108に当接するこ
となく下降する。Thereafter, the first
The substrate is further lowered through the development area 102. At this time, since the pins 192a and 192b of the second holder 72 are open, they descend without contacting the movable barrier 108.
以上の工程により、基板48の表面に、第1の展開領域
102に展開された単分子112の膜が付着される。Through the above steps, the film of the single molecules 112 developed in the first development region 102 is attached to the surface of the substrate 48.
第1の展開領域102を通して基板48を引上げる場合
には、基板は上記下降工程と逆の工程で引上げられる。When pulling up the substrate 48 through the first development area 102, the substrate is pulled up in a process reverse to the above-described lowering process.
したがって、基板表面に2層の累積膜を形成することが
できる。Therefore, a two-layer cumulative film can be formed on the substrate surface.
上記のように構成された形成装置においても、単分子の
展開された第1の展開領域を通して基板48を昇降させ
る際、基板を保持した第1および第2のホルダー70.
72は第1の展開領域を通過することがない。したがっ
て、展開された単分子膜がホルダーによって悪影響を受
けることがなく、良質の単分子膜を基板表面に形成する
ことができる。Also in the forming apparatus configured as described above, when the substrate 48 is moved up and down through the first development area where single molecules are developed, the first and second holders 70 holding the substrate are used.
72 does not pass through the first development area. Therefore, the developed monomolecular film is not adversely affected by the holder, and a high-quality monomolecular film can be formed on the substrate surface.
[発明の効果]
以上のように構成された形成方法および形成装置によれ
ば、ワークを保持するための保持手段によって単分子膜
を損傷させることなく、良質の有機薄膜を形成すること
ができる。[Effects of the Invention] According to the forming method and forming apparatus configured as described above, a high-quality organic thin film can be formed without damaging the monomolecular film by the holding means for holding the workpiece.
第1図ないし第12C図はこの発明の第1の実施例に係
る有機薄膜形成装置を示し、
第1図は基板駆動装置および水槽を示す一部破断側面図
、第2図は一部を破断して示す上記装置の斜視図、第3
図および第4図は、上記駆動装置の異なる動作状態をそ
れぞれ示す第1図に対応の側面図、第5八図ないし第1
2C図は有機薄膜の形成工程および形成されたヘテロ構
造膜を模式的に示す図、
第13図および第14図は、支持アームの第1の変形例
を示す第2図に対応の側面図および一部破断平面図、
第15図は、支持アームの第2の変形例を示す平面図、
第16図ないし第20図は、支持アームの第3の変形例
を示し、第16図は上記支持アームの側面図、第17図
は支持アームの縦断面図、第18図は第17図の線A−
Aに沿った断面図、第19図は支持アームを湾曲した状
態を示す側面図、第20図は、上記支持アームを用いて
単分子膜を形成する工程を示す一部破断側面図、
第21図および第22図は、支持アームの第4の変形例
を示し、第21図は支持アームが垂直な状態を示す側面
図、第22図は支持アームが湾曲した状態を示す側面図
、
第23図ないし第26図は、この発明の第2の実施例に
係る形成装置を示し、第23図は装置全体を示す斜視図
、第24A図ないし第25B図は単分子膜の形成工程を
それぞれ概略的に示す図、第26図は形成されたヘテロ
構造膜を示す図、第27図ないし第29E図は、この発
明の第3の実施例に係る形成装置を示し、第27図は装
置全体を示す斜視図、第28図は保持機構を拡大して示
す斜視図、第29A図ないし第29E図は単分子膜の形
成工程をそれぞれ概略的に示す図、第30図ないし第3
2B図は、この発明の第4の実施例に係る形成装置の基
板駆動装置を示し、第30図は上記装置の斜視図、第3
1図は上記装置の内部構造を示す斜視図、第32A図お
よび第32B図は、単分子膜の形成工程をそれぞれ示す
側面図、である。
11.12.13.101・・・水槽、lla・・・第
1の展開領域、11b・・・第2の展開領域、48・・
・基板、50・・・基板駆動装置、52・・・基板搬送
装置、54・・・保持機構、56・・・昇降機構、58
・・・水平移動機構、70・・・第1のホルダー、72
・・・第2のホルダー、102.104・・・第1の展
開領域、106・・・第2の展開領域、116・・・第
2の昇降機構、118・・・第1の昇降機構。
出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
45 図A 第579B is&c第
6 MA ’2 6 ’F” B
沖6 ’:” C第 7 図A 唾 −:
B 偶 7.、c”Xs 8 L’JA
7r 8 cs第9 図A 第9 が8
第9 タC’S 102A s 10
38 G、 10 ’ZC第11 rJA
’211 ?J B W 11 5
1c第12 しA 5127s
第11 閲C示 4 L
第16 区
礼 19 図
釘。21 図
第 2411A 第24 図B筏゛う 2
5 ごと二A 靭 25 で−1B乙
8
第 26 タ
フ4a
喝28 図
藺
ζ)29 図A 第29 図8第29−
E
第3071 to 12C show an organic thin film forming apparatus according to a first embodiment of the present invention, FIG. 1 is a partially cutaway side view showing a substrate driving device and a water tank, and FIG. 2 is a partially cutaway side view. FIG. 3 is a perspective view of the device shown in FIG.
4 and 4 are side views corresponding to FIG. 1 and FIGS.
2C is a diagram schematically showing the organic thin film formation process and the formed heterostructure film; FIGS. 13 and 14 are side views corresponding to FIG. 2 showing the first modified example of the support arm; FIG. 15 is a plan view showing a second modification of the support arm; FIGS. 16 to 20 show a third modification of the support arm; FIG. 16 is a plan view showing a second modification of the support arm; A side view of the arm, FIG. 17 is a longitudinal cross-sectional view of the support arm, and FIG. 18 is taken along line A-- in FIG. 17.
19 is a side view showing the support arm in a curved state; FIG. 20 is a partially cutaway side view showing the step of forming a monomolecular film using the support arm; FIG. 21 and 22 show a fourth modification of the support arm, FIG. 21 is a side view showing the support arm in a vertical state, FIG. 22 is a side view showing the support arm in a curved state, and FIG. 26 to 26 show a forming apparatus according to a second embodiment of the present invention, FIG. 23 is a perspective view showing the entire apparatus, and FIGS. 24A to 25B schematically illustrate the monomolecular film forming process. 26 shows a formed heterostructure film, FIGS. 27 to 29E show a forming apparatus according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 27 shows the entire apparatus. 28 is an enlarged perspective view of the holding mechanism, FIGS. 29A to 29E are diagrams schematically showing the monomolecular film forming process, and FIGS. 30 to 3
2B shows a substrate driving device of a forming apparatus according to a fourth embodiment of the present invention, FIG. 30 is a perspective view of the above device, and FIG.
FIG. 1 is a perspective view showing the internal structure of the apparatus, and FIGS. 32A and 32B are side views showing the steps of forming a monomolecular film, respectively. 11.12.13.101...Aquarium, lla...First development area, 11b...Second development area, 48...
- Substrate, 50... Substrate driving device, 52... Substrate transport device, 54... Holding mechanism, 56... Lifting mechanism, 58
... horizontal movement mechanism, 70 ... first holder, 72
...Second holder, 102.104...First deployment area, 106...Second deployment area, 116...Second elevating mechanism, 118...First elevating mechanism. Applicant's agent Patent attorney Takehiko Suzue 45 Figure A No. 579B is&c No. 6 MA '2 6 'F” B
Oki 6':" C Figure 7 A Spit -:
B even 7. ,c"Xs 8 L'JA
7r 8 cs 9th figure A 9th is 8
9th Ta C'S 102A s 10
38 G, 10' ZC No. 11 rJA
'211? J B W 11 5
1c 12th A 5127s
11th review 4 L 16th kurei 19 drawing nails. 21 Figure 2411A Figure 24 B Raft 2
5 Goto 2A Tough 25 De-1B Otsu 8th 26th Tough 4a 28 Figure ζ) 29 Figure A 29 Figure 8 29th -
E No. 307
Claims (8)
機分子を展開可能な複数の展開領域を形成する工程と、 上記展開領域の少なくとも1つに両親媒体性有機分子の
単分子膜を展開する工程と; ワークと係合した保持部を有する保持手段によってワー
クを保持する工程と、 上記ワークの略全体が上記展開された単分子膜を通過し
た後に上記保持部が上記単分子膜を通るように、あるい
は、上記保持部が上記単分子膜を通過しないように、上
記展開された単分子膜を通して上記ワークを移動させ、
ワーク表面上に単分子膜を付着させる工程と、を備えた
ことを特徴とする有機薄膜の形成方法。(1) Forming a plurality of development regions on the surface of the liquid that are separated from each other and capable of developing organic molecules, and developing a monomolecular film of amphiphilic organic molecules in at least one of the development regions. a step of holding the workpiece by a holding means having a holding portion engaged with the workpiece; and after substantially the entire workpiece passes through the developed monolayer, the holding portion passes through the monolayer. or, moving the work through the developed monolayer so that the holding part does not pass through the monolayer;
A method for forming an organic thin film, comprising the steps of: attaching a monomolecular film onto the surface of a workpiece.
互いに区画して設けられそれぞれ有機分子を展開可能な
複数の展開領域を有する展開手段と、 ワークを所望の展開領域を通して所望の方向に移動させ
、展開領域を通過する際に展開領域に展開された単分子
膜をワーク表面に付着させるワーク駆動手段と、 上記複数の展開領域間で上記ワークを搬送する移動手段
と、を備え、 上記ワーク駆動手段は、上記ワークに係合する保持部を
有し単分子膜が展開された展開領域を通過する際、上記
ワークの略全体が上記単分子膜が展開された展開領域を
通過した後に上記保持部が上記展開領域を通過するよう
に、あるいは、上記保持部が上記展開領域を通過しない
ように上記ワークを保持する保持手段を備えていること
を特徴とする有機薄膜の形成装置。(2) a developing means that contains a liquid and has a plurality of developing regions that are separated from each other on the surface of the liquid and are capable of developing organic molecules, respectively; a workpiece driving means for moving the workpiece to the surface of the workpiece and attaching the monomolecular film developed in the development region to the surface of the workpiece when passing through the development region; and a moving means for transporting the workpiece between the plurality of development regions, The workpiece driving means has a holding part that engages with the workpiece, and when the workpiece passes through the spreading area where the monomolecular film is spread, substantially the entire work passes through the spreading area where the monomolecular film is spread. An apparatus for forming an organic thin film, comprising a holding means for holding the workpiece so that the holding part passes through the developing area later, or so that the holding part does not pass through the developing area.
通して上記ワークを移動する際、上記ワークの内の上記
展開領域の液面よりも下方に位置した部分を保持する第
1のホルダーと、上記ワークの内の上記展開領域の液面
よりも上方に位置した部分を保持する第2のホルダーと
、を備え、上記第1および第2おホルダーは上記保持部
を形成していることを特徴とする特許請求の範囲第2項
に記載の形成装置。(3) The holding means includes a first holder that holds a portion of the workpiece located below the liquid level of the development region when the workpiece is moved through the development region where single molecules are developed. , a second holder for holding a portion of the workpiece located above the liquid level in the development area, and the first and second holders form the holding section. A forming apparatus according to claim 2, characterized in that:
記所定の方向に沿って昇降させる第1の昇降手段と、上
記第2のホルダーを上記液面の上方の領域で所定の方向
に沿って昇降させる第2の昇降手段と、を有しているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第3項に記載の形成装置
。(4) The workpiece driving means includes a first elevating means for elevating the first holder along the predetermined direction, and a first elevating means for elevating the first holder along the predetermined direction in a region above the liquid level. The forming apparatus according to claim 3, further comprising a second elevating means for elevating and lowering the forming apparatus.
支持アームを有し、上記アームは、上記第1の昇降手段
に連結され上記所定の方向に沿って伸びた垂直部と、垂
直部の延出端から延出しているとともに、上記第1のホ
ルダーが設けられた延出端を有する湾曲部と、を備え、
上記湾曲部は、上記垂直部と同軸上に伸び、かつ、第1
のホルダーによって保持されたワークが第1のホルダー
から下方に伸びる直立位置と、第1のホルダーが上記第
2のホルダーの下方で第2のホルダーと対向するととも
に上記ワークが第1のホルダーから上方に伸びた状態に
湾曲する湾曲位置との間を変形可能に形成され、上記保
持手段は上記湾曲部を直立位置と湾曲位置との間で変形
させる変形手段を備えていることを特徴とする特許請求
の範囲第4項に記載の形成装置。(5) The holding means has a support arm supporting the first holder, and the arm has a vertical portion connected to the first elevating means and extending along the predetermined direction, and a vertical portion. a curved portion extending from the extending end of the curved portion and having an extending end provided with the first holder;
The curved portion extends coaxially with the vertical portion, and the first curved portion extends coaxially with the vertical portion.
an upright position in which the workpiece held by the holder extends downwardly from the first holder, and the first holder faces the second holder below and opposite the second holder and the workpiece extends upwardly from the first holder. The patent is characterized in that the holding means is formed to be deformable between an extended position and a curved position, and the holding means includes deformation means for deforming the curved part between the upright position and the curved position. A forming apparatus according to claim 4.
上記液面に対して上記ワークを昇降させるとともに上記
ワークを保持する上記第1のホルダーを構成した第1の
昇降手段と、上記液面の上方に第1の昇降機構と対向し
て設けられ、上記液面に対して上記ワークを昇降させて
上記第1の昇降機構との間でワークの受渡しを行うとと
もに上記ワークを保持する上記第2のホルダーを構成し
た第2の昇降手段と、上記第1の昇降手段を上記液面に
沿って液体内を移動させる第1の水平移動手段と、上記
第2の昇降手段を上記液面に沿って上記液面の上方を移
動させる第2の水平移動手段と、を備えていることを特
徴とする特許請求の範囲第3項に記載の形成装置。(6) The workpiece driving means is provided within the liquid,
a first elevating means constituting the first holder for elevating and lowering the workpiece relative to the liquid level and holding the workpiece; and a first elevating mechanism provided above the liquid surface facing the first elevating mechanism; a second elevating means configured as the second holder for elevating and lowering the workpiece relative to the liquid level to transfer the workpiece to and from the first elevating mechanism and holding the workpiece; a first horizontal movement means for moving the first elevating means within the liquid along the liquid surface; and a second horizontal movement means for moving the second elevating means above the liquid surface along the liquid surface. 4. The forming apparatus according to claim 3, further comprising: means.
を支持した支持部材を有し、上記第2のホルダーは、上
記支持部材に開閉可能に取付けられているとともに、支
持部材から突出した先端部を有し、閉塞位置において上
記先端部間に上記ワークを挟持可能な一対の第2の保持
爪を有し、上記第1のホルダーは、上記支持部材に開閉
可能に取付けられているとともに上記第2の保持爪の外
側に位置し、かつ、支持部材から第2の保持爪の先端部
を越えて突出した先端部を有し、閉塞位置において上記
先端部間に上記ワークを挟持可能な一対の第1の保持爪
を有し、上記保持手段は、第1の保持爪を開閉する第1
の開閉手段と、第2の保持爪を開閉する第2の開閉手段
とを備え、上記ワーク駆動手段は、上記液面に対して上
記保持手段を昇降させる昇降手段を有し、上記展開手段
は、単分子が展開された第1の展開領域と、第1の展開
領域の周囲に形成されているとともに単分子の展開され
ていない第2の展開領域とを有し、上記第1の保持爪は
上記保持手段の昇降時、上記第2の展開領域を通過する
ように形成されていることを特徴とする特許請求の範囲
第3項に記載の形成装置。(7) The holding means has a support member that supports the first and second holders, and the second holder is attached to the support member in an openable and closable manner and protrudes from the support member. The first holder has a tip end and a pair of second holding claws capable of holding the workpiece between the tip ends in the closed position, and the first holder is attached to the support member so as to be openable and closable. It has a tip located outside the second holding claw and protrudes beyond the tip of the second holding claw from the support member, and is capable of holding the workpiece between the tip in the closed position. The holding means has a pair of first holding claws, and the holding means has a first holding claw that opens and closes the first holding claws.
and a second opening/closing means for opening and closing the second holding pawl, the workpiece driving means has a lifting means for raising and lowering the holding means with respect to the liquid level, and the developing means has , having a first development region in which single molecules are developed, and a second development region formed around the first development region and in which no single molecules are developed, the first holding claw; 4. The forming apparatus according to claim 3, wherein the holding means is formed so as to pass through the second development area when the holding means is raised and lowered.
伸びているとともに上記第1および第2のホルダーを支
持した支持部材を有し、上記第1のホルダーは、上記支
持部材から延出しているとともに先端部をそれぞれ有し
、上記先端部間に上記ワークを挟持可能な一対のピンを
備え、上記第2のホルダーは、上記第1のホルダーの上
方に第1のホルダーから所定間隔離間して位置し、また
、上記支持部材から延出しているとともに先端部をそれ
ぞれ有し、上記先端部間に上記ワークを挾持可能な一対
のピンを有し、上記展開領域は、単分子が展開された第
1の展開領域と、第1の展開領域に隣接して形成されて
いるとともに単分子の展開されていない第2の展開領域
と、を備え、上記ワーク駆動機構は、上記第1および/
あるいは第2のホルダーによってワークを保持した状態
で、上記第2の展開領域を通して上記支持部材を上記所
定の方向に沿って昇降させ、それにより、保持されたワ
ークを上記第1の展開領域を通して昇降させる昇降手段
を備え、上記保持手段は、上記第2のホルダーが上記液
面の上方に位置している間、上記第2のホルダーのピン
を上記ワークを挟持可能な閉塞位置に移動させ、上記第
2のホルダーが上記液面を横切る際および上記液体内に
位置している間、第2のホルダーのピンを上記第2の展
開領域を通過可能な開放位置に移動させる第2の開放機
構と、上記第1のホルダーが上記液体内に位置している
間、上記第1のホルダーのピンを上記ワークを挟持可能
な閉塞位置に移動させ、上記第1のホルダーが上記液面
を横切る際および上記液面の上方に位置している間、第
1のホルダーのピンを上記第2の展開領域を通過可能な
開放位置に移動させる第1の開放機構と、を備えている
ことを特徴とする特許請求の範囲第3項に記載の形成装
置。(8) The holding means has a support member extending in a predetermined direction with respect to the liquid level and supporting the first and second holders, and the first holder is separated from the support member. The second holder is provided with a pair of pins extending from the first holder and extending from the first holder, each having a tip end and capable of holding the workpiece between the tip ends. A pair of pins are located spaced apart from each other and extend from the support member and each have a tip, and are capable of holding the workpiece between the tip portions, and the development region has a single molecule. The workpiece drive mechanism includes a first development region in which a single molecule is developed, and a second development region formed adjacent to the first development region in which a single molecule is not developed. 1 and/
Alternatively, the supporting member is raised and lowered along the predetermined direction through the second development area while the workpiece is held by a second holder, whereby the held workpiece is raised and lowered through the first development area. while the second holder is located above the liquid level, the holding means moves the pins of the second holder to a closed position where the workpiece can be held; a second opening mechanism for moving pins of the second holder to an open position allowing passage through the second deployment area while the second holder crosses the liquid surface and is located within the liquid; , while the first holder is located in the liquid, the pins of the first holder are moved to a closed position where the work can be held, and when the first holder crosses the liquid surface; A first opening mechanism that moves the pins of the first holder to an open position where they can pass through the second deployment area while the first holder is located above the liquid level. A forming apparatus according to claim 3.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1005431A JPH01297173A (en) | 1988-01-12 | 1989-01-12 | Process and apparatus for forming organic thin film |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63-3237 | 1988-01-12 | ||
JP323788 | 1988-01-12 | ||
JP1005431A JPH01297173A (en) | 1988-01-12 | 1989-01-12 | Process and apparatus for forming organic thin film |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01297173A true JPH01297173A (en) | 1989-11-30 |
Family
ID=26336770
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1005431A Pending JPH01297173A (en) | 1988-01-12 | 1989-01-12 | Process and apparatus for forming organic thin film |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01297173A (en) |
-
1989
- 1989-01-12 JP JP1005431A patent/JPH01297173A/en active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101685848A (en) | Organic el device manufacturing apparatus and method, film-forming apparatus and method | |
EP0366647B1 (en) | Method and apparatus for forming thin organic film | |
EP0327193B1 (en) | Method and apparatus for forming organic thin film | |
JPS63153839A (en) | Rotary holding device for substrate | |
TW457615B (en) | Mechanism and method for supporting substrate to be coated with film | |
US4699554A (en) | Vacuum processing apparatus | |
JPH01297173A (en) | Process and apparatus for forming organic thin film | |
US6475880B1 (en) | Cassette invertor method | |
US5286529A (en) | Method of forming an organic thin film | |
US5368895A (en) | Apparatus and method for producing monomolecular films or monomolecular built-up films | |
JP2552017B2 (en) | Substrate alignment support device | |
JPS63141669A (en) | Device for forming thin organic film | |
DE3051199C2 (en) | Wafer load lock and transfer system for vacuum chamber | |
JPS63141668A (en) | Device for forming thin organic film | |
JPS63162058A (en) | Organic thin film forming device | |
JP3335150B2 (en) | Substrate rearranging apparatus, substrate processing apparatus provided with the apparatus, and substrate rearranging method | |
JPS62294434A (en) | Apparatus for forming monomolecular built-up film | |
CN101188930B (en) | Supply and recovery device for viscous conductive material in electronic component mounting equipment | |
JPH04100568A (en) | Monolayer formation method | |
EP0330454B1 (en) | Method of forming an organic thin film | |
JPS63134442A (en) | Article delivering device | |
JPS63314843A (en) | Method of transferring wafer in vertical semiconductor manufacturing apparatus | |
JP2647121B2 (en) | Organic thin film manufacturing method | |
JPS63111639A (en) | Delivering device for semiconductor wafer | |
JPH0449047Y2 (en) |