JPH0127982B2 - - Google Patents
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- JPH0127982B2 JPH0127982B2 JP59052822A JP5282284A JPH0127982B2 JP H0127982 B2 JPH0127982 B2 JP H0127982B2 JP 59052822 A JP59052822 A JP 59052822A JP 5282284 A JP5282284 A JP 5282284A JP H0127982 B2 JPH0127982 B2 JP H0127982B2
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- H01L23/02—Containers; Seals
- H01L23/10—Containers; Seals characterised by the material or arrangement of seals between parts, e.g. between cap and base of the container or between leads and walls of the container
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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- C03C8/24—Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders
- C03C8/245—Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders containing more than 50% lead oxide, by weight
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- Glass Compositions (AREA)
Description
本発明は低融点封着用組成物、より具体的には
アルミナを使用したICパツケージの気密封着に
特に適した低融点封着用組成物に関するものであ
る。 近年、ICパツケージ用封着材としては、封着
温度が低く且つ短時間で気密封着できるものが要
望され、従来から非晶質の低融点ガラスに低膨張
性耐火フイラー粉末を加えた封着材が数多く提供
されている。 しかしながら、これらの封着材は各々欠点を有
している。例えば、特公昭56―49861の低融点ガ
ラス粉末とチタン酸鉛粉末と珪酸ジルコニウム粉
末とから成る封着材は、機械的強度や熱衝撃強度
は大きいが、誘電率が大きいため、メモリーのよ
うな高密度のシリコン素子を搭載するパツケージ
の封着には適していない。また特開昭56―69242
の低融点ガラス粉末とコーデイエライト粉末等か
ら成る封着材は、機械的強度や熱衝撃強度が小さ
いため、熱衝撃試験で気密リークを生じ易い。更
に特開昭58―151346の低融点ガラス粉末と亜鉛物
質粉末と錫物質粉末とから成る封着材は、耐酸性
が小さく、錫メツキ工程でブリツジを起し易い。 本発明の目的は、低温度で短時間に封着でき熱
衝撃強度、機械的強度が大きく且つ誘電率の小さ
い新規な封着用組成物を提供することである。 本発明の封着用組成物は、屈伏点が350℃以下
の非晶質のPbO―B2O3系、具体的には、重量比
でPbO70〜90%、B2O310〜15%、SiO20〜10%、
ZnO0〜5%(Al2O30〜5%)含有する低融点ガ
ラス粉末に不活性亜鉛物質粉末と珪酸ジルコニウ
ム粉末とを混合してなるもので、その混合割合
は、重量比で、低融点ガラス粉末50〜80%、不活
性亜鉛物質粉末1〜35%、珪酸ジルコニウム粉末
1〜35%の範囲にある。低融点ガラス粉末、不活
性亜鉛物質粉末、珪酸ジルコニウム粉末の混合比
を上記のように限定したのは次の理由による。低
融点ガラスが50%に満たない場合は封着用組成物
の流動性が悪く450℃以下で封着できない。80%
を越えると、熱膨張係数が大きくなり過ぎて熱衝
撃強度が小さくなる。不活性亜鉛物質粉末、合成
珪酸ジルコニウム粉末の夫々が35%を超える場合
は流動性が悪くなり、450℃以下で封着できず、
1%に満たない場合は十分な気密性が得られな
い。 尚、上記PbO―B2O3系低融点ガラス粉末には
PbO,B2O3,SiO2,ZnO(Al2O3)の成分以外に
も(Al2O3)、PbF2,Bi2O3等、他成分を5%ま
で含有させることが可能である。 以下に本発明の実施例について説明する。 非晶質のPbO―B2O2系低融点ガラスの実施例
を第1表に示す。 第1表 ガラスA ガラスB PbO 84.8 84.3 B2O2 12.3 11.9 SiO2 1.0 1.0 ZnO 1.4 2.8 Al2O2 0.5 ― 屈伏点(℃) 327 325 第1表に示した低融点ガラスは、光明丹、硼
酸、石粉、亜鉛華、および水酸化アルミニウム
を、第1表に示す組成になるように調合、混合
し、白金ルツボに入れて、電気炉で約900℃、30
分間溶融した後、薄板状に成型し、アルミナボー
ルミルで粉砕し150メツシユのステンレス篩を通
過したものを用いた。 不活性亜鉛物質は、その構成成分が、重量比
で、ZnO68〜75%、SiO223〜28%、Al2O30.1〜8
%からなるセラミツクであり、実施例では重量比
で、ZnO70.6%、SiO224.7%、Al2O24.7%になる
ように亜鉛華、光学石粉、及び酸化アルミニウム
を調合、混合し、1440℃で15時間焼成した後、ア
ルミナボールミルで粉砕し、250メツシユのステ
ンレス篩を通したものを用いた。このものの熱膨
張係数は15×10-7/℃であつた。 珪酸ジルコニウムは、天然のジルコンサンド
を、一旦ソーダ分解、塩酸溶解後、濃縮結晶化を
繰り返して、U,Thの極めて少ないオキシ塩化
ジルコニウムにし、更にアルカリ中和、乾燥によ
つてできた酸化ジルコニウムに石粉を加えて硫酸
ソーダなどの融剤を使用して焙焼し再び珪酸ジル
コニウムにし、250メツシユ篩を通過した合成物
を用いる。このものの熱膨張係数は約50×10-7/
℃であつた。 上記のようにして得た低融点ガラス粉末、不活
性亜鉛物質粉末、合成珪酸ジルコニウム粉末を第
2表の実施例に示す割合に混合し、通常行なわれ
ているようにピークルを添加してペーストを作成
し、アルミナセラミツクに印刷して封着した。得
られたICパツケージは第2表に示すように良好
な機械的強度、熱衝撃強度及び小さな誘電率を示
した。 機械的強度はアルミナセラミツクの封着部の長
手方向へ剪断力を加えることによつて、破壊させ
るに必要な荷重を評価する剪断強度テストで測定
した。 熱衝撃強度はミル規格(MIL―STD―883B,
Method 1011.2;Condition C)により、上記パ
ツケージを150℃から−65℃へ、−65℃から150℃
へと15回繰り返して熱衝撃を与えた後、ヘリウム
デイテクターによつてパツケージの気密リーク値
を測定して評価した。 又、誘電率は1MHz、25℃の条件下で測定した。
アルミナを使用したICパツケージの気密封着に
特に適した低融点封着用組成物に関するものであ
る。 近年、ICパツケージ用封着材としては、封着
温度が低く且つ短時間で気密封着できるものが要
望され、従来から非晶質の低融点ガラスに低膨張
性耐火フイラー粉末を加えた封着材が数多く提供
されている。 しかしながら、これらの封着材は各々欠点を有
している。例えば、特公昭56―49861の低融点ガ
ラス粉末とチタン酸鉛粉末と珪酸ジルコニウム粉
末とから成る封着材は、機械的強度や熱衝撃強度
は大きいが、誘電率が大きいため、メモリーのよ
うな高密度のシリコン素子を搭載するパツケージ
の封着には適していない。また特開昭56―69242
の低融点ガラス粉末とコーデイエライト粉末等か
ら成る封着材は、機械的強度や熱衝撃強度が小さ
いため、熱衝撃試験で気密リークを生じ易い。更
に特開昭58―151346の低融点ガラス粉末と亜鉛物
質粉末と錫物質粉末とから成る封着材は、耐酸性
が小さく、錫メツキ工程でブリツジを起し易い。 本発明の目的は、低温度で短時間に封着でき熱
衝撃強度、機械的強度が大きく且つ誘電率の小さ
い新規な封着用組成物を提供することである。 本発明の封着用組成物は、屈伏点が350℃以下
の非晶質のPbO―B2O3系、具体的には、重量比
でPbO70〜90%、B2O310〜15%、SiO20〜10%、
ZnO0〜5%(Al2O30〜5%)含有する低融点ガ
ラス粉末に不活性亜鉛物質粉末と珪酸ジルコニウ
ム粉末とを混合してなるもので、その混合割合
は、重量比で、低融点ガラス粉末50〜80%、不活
性亜鉛物質粉末1〜35%、珪酸ジルコニウム粉末
1〜35%の範囲にある。低融点ガラス粉末、不活
性亜鉛物質粉末、珪酸ジルコニウム粉末の混合比
を上記のように限定したのは次の理由による。低
融点ガラスが50%に満たない場合は封着用組成物
の流動性が悪く450℃以下で封着できない。80%
を越えると、熱膨張係数が大きくなり過ぎて熱衝
撃強度が小さくなる。不活性亜鉛物質粉末、合成
珪酸ジルコニウム粉末の夫々が35%を超える場合
は流動性が悪くなり、450℃以下で封着できず、
1%に満たない場合は十分な気密性が得られな
い。 尚、上記PbO―B2O3系低融点ガラス粉末には
PbO,B2O3,SiO2,ZnO(Al2O3)の成分以外に
も(Al2O3)、PbF2,Bi2O3等、他成分を5%ま
で含有させることが可能である。 以下に本発明の実施例について説明する。 非晶質のPbO―B2O2系低融点ガラスの実施例
を第1表に示す。 第1表 ガラスA ガラスB PbO 84.8 84.3 B2O2 12.3 11.9 SiO2 1.0 1.0 ZnO 1.4 2.8 Al2O2 0.5 ― 屈伏点(℃) 327 325 第1表に示した低融点ガラスは、光明丹、硼
酸、石粉、亜鉛華、および水酸化アルミニウム
を、第1表に示す組成になるように調合、混合
し、白金ルツボに入れて、電気炉で約900℃、30
分間溶融した後、薄板状に成型し、アルミナボー
ルミルで粉砕し150メツシユのステンレス篩を通
過したものを用いた。 不活性亜鉛物質は、その構成成分が、重量比
で、ZnO68〜75%、SiO223〜28%、Al2O30.1〜8
%からなるセラミツクであり、実施例では重量比
で、ZnO70.6%、SiO224.7%、Al2O24.7%になる
ように亜鉛華、光学石粉、及び酸化アルミニウム
を調合、混合し、1440℃で15時間焼成した後、ア
ルミナボールミルで粉砕し、250メツシユのステ
ンレス篩を通したものを用いた。このものの熱膨
張係数は15×10-7/℃であつた。 珪酸ジルコニウムは、天然のジルコンサンド
を、一旦ソーダ分解、塩酸溶解後、濃縮結晶化を
繰り返して、U,Thの極めて少ないオキシ塩化
ジルコニウムにし、更にアルカリ中和、乾燥によ
つてできた酸化ジルコニウムに石粉を加えて硫酸
ソーダなどの融剤を使用して焙焼し再び珪酸ジル
コニウムにし、250メツシユ篩を通過した合成物
を用いる。このものの熱膨張係数は約50×10-7/
℃であつた。 上記のようにして得た低融点ガラス粉末、不活
性亜鉛物質粉末、合成珪酸ジルコニウム粉末を第
2表の実施例に示す割合に混合し、通常行なわれ
ているようにピークルを添加してペーストを作成
し、アルミナセラミツクに印刷して封着した。得
られたICパツケージは第2表に示すように良好
な機械的強度、熱衝撃強度及び小さな誘電率を示
した。 機械的強度はアルミナセラミツクの封着部の長
手方向へ剪断力を加えることによつて、破壊させ
るに必要な荷重を評価する剪断強度テストで測定
した。 熱衝撃強度はミル規格(MIL―STD―883B,
Method 1011.2;Condition C)により、上記パ
ツケージを150℃から−65℃へ、−65℃から150℃
へと15回繰り返して熱衝撃を与えた後、ヘリウム
デイテクターによつてパツケージの気密リーク値
を測定して評価した。 又、誘電率は1MHz、25℃の条件下で測定した。
【表】
【表】
したものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 屈伏点が350℃以下の非晶質のPbO―B2O3系
低融点ガラス粉末と不活性亜鉛物質粉末と珪酸ジ
ルコニウム粉末とから成り、これらの割合が重量
比で 低融点ガラス粉末 50〜80% 不活性亜鉛物質粉末 1〜35% 珪酸ジルコニウム粉末 1〜35% の範囲にあり、低融点ガラス粉末は重量比で
PbO70〜90%、B2O310〜15%、SiO20〜10%、
ZnO0〜5%の範囲にあり、不活性亜鉛物質粉末
は、重量比でZnO68〜75%、SiO223〜28%、
Al2O30.1〜8%の範囲にあり、珪酸ジルコニウム
粉末はU,Th不純物が除去された合成物である
低融点封着用組成物。 2 屈伏点が350℃以下の非晶質のPbO・B2O3系
低融点ガラス粉末と不活性亜鉛物質粉末と珪酸ジ
ルコニウム粉末とから成り、これらの割合が重量
比で 低融点ガラス粉末 60〜75% 不活性亜鉛物質粉末 10〜30% 珪酸ジルコニウム粉末 2〜20% の範囲にあり、低融点ガラス粉末は重量比で
PbO70〜90%、B2O310〜15%、SiO20〜10%、
ZnO0〜5%の範囲にあり、不活性亜鉛物質粉末
は、重量比でZnO68〜75%、SiO223〜28%、
Al2O30.1〜8%の範囲にあり、珪酸ジルコニウム
粉末はU,Th不純物が除去された合成物である
特許請求の範囲第1項記載の低融点封着用組成
物。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59052822A JPS60204637A (ja) | 1984-03-19 | 1984-03-19 | 低融点封着用組成物 |
US06/713,000 US4621064A (en) | 1984-03-19 | 1985-03-18 | Low temperature sealing composition with synthetic zircon |
DE19853509955 DE3509955A1 (de) | 1984-03-19 | 1985-03-19 | Niedrigtemperatur-abdichtungszusammensetzung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59052822A JPS60204637A (ja) | 1984-03-19 | 1984-03-19 | 低融点封着用組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60204637A JPS60204637A (ja) | 1985-10-16 |
JPH0127982B2 true JPH0127982B2 (ja) | 1989-05-31 |
Family
ID=12925539
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59052822A Granted JPS60204637A (ja) | 1984-03-19 | 1984-03-19 | 低融点封着用組成物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4621064A (ja) |
JP (1) | JPS60204637A (ja) |
DE (1) | DE3509955A1 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
USRE33859E (en) * | 1985-09-24 | 1992-03-24 | John Fluke Mfg. Co., Inc. | Hermetically sealed electronic component |
US4725480A (en) * | 1985-09-24 | 1988-02-16 | John Fluke Mfg. Co., Inc. | Hermetically sealed electronic component |
US4906311A (en) * | 1985-09-24 | 1990-03-06 | John Fluke Co., Inc. | Method of making a hermetically sealed electronic component |
JPS62191442A (ja) * | 1986-02-17 | 1987-08-21 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 低融点封着用組成物 |
US4696909A (en) * | 1986-04-07 | 1987-09-29 | Owens-Illinois Television Products Inc. | Platinum corrosion reducing premelted oxide compositions for lead containing solder glasses |
US4883777A (en) * | 1988-04-07 | 1989-11-28 | Nippon Electric Glass Company, Limited | Sealing glass composition with filler containing Fe and W partially substituted for Ti in PbTiO3 filler |
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