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JPH01268894A - Tin, lead or tin/lead alloy electrolyte for high speed electroplating and method - Google Patents

Tin, lead or tin/lead alloy electrolyte for high speed electroplating and method

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Publication number
JPH01268894A
JPH01268894A JP31029688A JP31029688A JPH01268894A JP H01268894 A JPH01268894 A JP H01268894A JP 31029688 A JP31029688 A JP 31029688A JP 31029688 A JP31029688 A JP 31029688A JP H01268894 A JPH01268894 A JP H01268894A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
tin
solution
electroplating
lead
Prior art date
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Granted
Application number
JP31029688A
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Japanese (ja)
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JPH0730478B2 (en
Inventor
Michael P Toben
マイケル ピー トウベン
Neil D Brown
ニール ディー ブラウン
David J Esterl
デイヴィド ジェイ エスタール
Robert A Schetty
ロバート エイ シェッティ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shipley Co Inc
Original Assignee
LeaRonal Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by LeaRonal Inc filed Critical LeaRonal Inc
Publication of JPH01268894A publication Critical patent/JPH01268894A/en
Publication of JPH0730478B2 publication Critical patent/JPH0730478B2/en
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  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

PURPOSE: To obtain a plated article having matting and good solderability, by using an electrolyte consisting of a main soln. consisting of alkylol sulfonic acid, etc., a soln. of tin and/or lead compd. and a prescribed surfactant.
CONSTITUTION: The electrolyte of the compsn. consisting of alkyl or alkylol sulfonic acid, the soln. of tin and/or lead compd. and a surfactant is prepd. The surfactant is formed out of ≤20C org. compd. having a hydroxyl group condensed with an alkylene oxide compd. or its soln.-soluble deriv. The electrolyte is maintained at foamless, colorless and non-turbid, stable state under electroplating conditions of a high speed by this surfactant. The smooth surface having a pale gray satin finish and good solderability is yielded.
COPYRIGHT: (C)1989,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、スズ、鉛あるいはスズ/鉛合金の高速電気め
っきに用いる低アルキルあるいは低アルキロールスルフ
ォン酸あるいはその誘導体をベースとする電解液、特に
、高速電気めっき装置で用いる該電解液およびこれを用
いた電気めっき方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to an electrolytic solution based on low alkyl or low alkylol sulfonic acids or derivatives thereof, used for high speed electroplating of tin, lead or tin/lead alloys. In particular, the present invention relates to the electrolytic solution used in a high-speed electroplating apparatus and an electroplating method using the same.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

スズ、釦およびそれらの合金を析出させるための電解浴
が電気めっき装置で長年にわたり用いられてきている。
Electrolytic baths for depositing tin, button, and their alloys have been used in electroplating equipment for many years.

また、高速の電気めっき装置および高速めっき方法は工
業的に周知であり、一般に。
Also, high speed electroplating equipment and high speed plating methods are well known in the industry and generally.

めっきすべき物品を、めっき槽の一端から導入し。The article to be plated is introduced from one end of the plating tank.

めっき槽中を進行させ、その後、めっき槽他端から取出
すことからなっている。電気めっき溶液は電気めっき槽
をオーバーフローして貯槽に送られ、さらに、激しい撹
拌と循環とが得られるように、ポンプによって該貯槽か
ら電気めっき槽に返送される。これらの電気めっき槽に
は多くの変形があるが、一般的な主要点は上記の通りで
ある。
It consists of advancing through the plating tank and then taking it out from the other end of the plating tank. The electroplating solution overflows the electroplating tank into a reservoir and is pumped back from the reservoir to the electroplating tank to provide vigorous agitation and circulation. There are many variations of these electroplating baths, but the general highlights are as described above.

この形式の装置および方法において良好な実施を得るた
めに電気めっき溶液が持つべき要点は数多くあり、例え
ば下記の通りである。
There are a number of key points that the electroplating solution should have in order to achieve good performance in this type of apparatus and method, including:

1、溶液は要求される高速度で所望の合金析出物を電気
めっきできるものでなければならない。
1. The solution must be capable of electroplating the desired alloy deposits at the high rates required.

2、析出物は、高速めっきに必要な高電流密度において
も、光沢があり、きめの細かいものでなければならない
2. The deposit must be shiny and fine-grained even at the high current densities required for high speed plating.

3、析出物は良好なはんだ付け性を有し、そのような析
出物に指定される所要のはんだ付け性に合致し得るもの
でなければならない。
3. The deposit must have good solderability and be capable of meeting the required solderability specified for such deposit.

4、溶液は、安定でなければならず、添加剤は強酸溶液
への曝露に対し、また、高速めっき器中の激しい溶液移
動の結果を生ずる空気導入への曝露に対して抵抗性のあ
るものでなければならない。
4. The solution must be stable and the additives resistant to exposure to strong acid solutions and to the introduction of air that results in vigorous solution movement in high-speed plating equipment. Must.

5、溶液は約49℃〜54℃(120〜130@F)あ
るいはそれ以上の高温でも透明性を保ち、また濁りのな
いものでなければならない、高電流密度および溶液が小
容積であることのよって。
5. The solution must remain transparent and turbid at elevated temperatures of approximately 49°C to 54°C (120 to 130@F) or higher, due to the high current density and small volume of the solution. Therefore.

これらの溶液(浴)は高速めっき槽中において高温での
平衡に達するまで昇温しがちである。添加剤はそのよう
な高温で溶液を濁らせないタイプのものでなければなら
ない。
These solutions (baths) tend to heat up in high speed plating baths until they reach equilibrium at high temperatures. The additive must be of a type that does not cloud the solution at such high temperatures.

6、激しい溶液移動および空気との混合によって、電気
めっき進行に有害な気泡発生の可能性が極めて大きい、
極端な条件下では、結果として生ずる床面へのオーバー
フローに伴って、気泡が貯槽内で形成されることもあり
、これによって大量の溶液が廃液流中に失われることが
ある。″深さ制御メツキ” (“C0n−trolle
d depth plating”)を行う場合に、め
っきすべき部分を、物品の一部が溶液面下となるように
、部分的に浸漬する。この場合、物品のめっきされない
部分をめっきされた部分と分離する明確で−様な境界線
を持っていることが望ましい、溶液が気泡を生ずる場合
には、そのような気泡は良好な境界線の形成を妨げるこ
とになる。また、気泡は、撹拌を起すために用いられる
ポンプの動作を妨害することもある。また、気泡の存在
によって陽極・陰極間に放電が生ずることもある。この
ような問題のために、使用される添加剤はめっき装置内
で気泡を発生しないものでなければならない。
6. Due to violent solution movement and mixing with air, there is a high possibility of bubble generation which is harmful to the electroplating process.
Under extreme conditions, air bubbles may form within the reservoir with the resulting overflow to the floor, which may cause large amounts of solution to be lost to the waste stream. “Depth control plating” (“C0n-trolle
d depth plating"), the part to be plated is partially immersed so that part of the article is below the surface of the solution. In this case, the unplated part of the article is separated from the plated part. It is desirable to have a clear and similar boundary line.If the solution produces bubbles, such bubbles will prevent the formation of a good boundary line.Bubbles may also cause agitation. The presence of air bubbles can also cause electrical discharge between the anode and cathode. Because of these problems, the additives used are It must not generate bubbles.

スズ、鉛およびスズ/鉛合金を電気めっきするための電
解液はこれまでに数多く提唱されており、その中の−っ
は米国特許第4,701,244号に述べられている。
A number of electrolytes have been proposed for electroplating tin, lead and tin/lead alloys, one of which is described in U.S. Pat. No. 4,701,244.

この特許は光沢化添加剤および各種タイプの湿潤剤を含
む低アルキルスルフォン酸浴からのスズ、鉛あるいはス
ズ/鉛合金の電気めっきを開示したものである。有効な
ものとして提示されでいる界面活性剤はベタイン、アル
キレンオキサイド重合体、イミダゾール化合物、第四ア
ンモニウム化合物、アミンのエチレンオキサイド誘導体
、m酸塩、アミンその他などである。
This patent discloses the electroplating of tin, lead or tin/lead alloys from low alkyl sulfonic acid baths containing brightening additives and various types of wetting agents. Surfactants that have been proposed as useful include betaines, alkylene oxide polymers, imidazole compounds, quaternary ammonium compounds, ethylene oxide derivatives of amines, m-acid salts, amines, and the like.

米国特許第4,622,999号は、界面活性剤および
その他の添加剤を含むアルカンあるいはアルカノールス
ルフォン酸浴からのスズ、鉛あるいはスズ/鉛合金の電
気溶着用の電気めっき浴を開示したものである。この特
許において、界面活性剤は非イオン性、陽イオン性、陰
イオン性あるいは両性のものが示されている。各種タイ
プの界面活性剤に関して極めて多数の例が示されており
、また、用いられ得る多数の各種タイプの湿潤剤を挙げ
ている。
U.S. Pat. No. 4,622,999 discloses an electroplating bath for electrowelding of tin, lead or tin/lead alloys from an alkane or alkanol sulfonic acid bath containing surfactants and other additives. be. In this patent, surfactants are shown to be nonionic, cationic, anionic or amphoteric. A large number of examples are given for various types of surfactants, and a large number of various types of wetting agents are listed that can be used.

また、米国特許第4,673,470号は脂肪族系ある
いは芳香族系のスルホカルボキシル酸をベースとするス
ズ、鉛あるいはスズ/鉛合金めっき浴について記述して
いる。先の特許で開示されているアルカンあるいはアル
カノールスルフォン酸の代りに、この特許は有機スルフ
ォン酸化合物中にカルボキシル酸基を含んでいる。ここ
に記述されている電気めっき浴は光沢剤と界面活性剤(
特に非イオン性界面活性剤が強調されている)を含むも
のである。極めて広い範囲の界面活性剤が有用なものと
して述べられており、また、多くの異なる湿潤剤が列挙
されている。
Also, US Pat. No. 4,673,470 describes tin, lead or tin/lead alloy plating baths based on aliphatic or aromatic sulfocarboxylic acids. Instead of the alkane or alkanol sulfonic acids disclosed in earlier patents, this patent includes carboxylic acid groups in the organic sulfonic acid compounds. The electroplating bath described here contains brighteners and surfactants (
Particular emphasis is placed on nonionic surfactants). A very wide range of surfactants have been described as useful, and many different wetting agents have been listed.

提案されている従来技術浴のすべてにおいて、光沢性の
あるいはつや消しの析出面を与えるに有効であると述べ
られている湿潤剤は極めて広範囲に述べられており、相
互に同等なものとみなされる。これらの従来技術特許の
それぞれにおいて、多くの異なるタイプの各種薬剤に向
けて数多くの例が与えられており、これらの中の大部分
は、ある種のオキサイドあるいは同様の縮合化合物を含
むものである。
In all of the proposed prior art baths, the wetting agents that are stated to be effective in providing a glossy or matte deposit surface are described very extensively and are considered equivalent to each other. In each of these prior art patents, numerous examples are given for a variety of drugs of many different types, the majority of which involve some type of oxide or similar condensation compound.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかしながら、従来技術の湿潤剤の大部分は近年の高速
めっき装置における高速めっきには不適である。これら
の湿潤剤は、前記した電解液の有すべき必要条件のいく
つかあるいはすべてを満足し得ないものである。本発明
の目的は、高速電気めっき装置および高速めっき方法に
有用な特に好ましい薬剤を提供することによって、上記
従来技術の有していた課題を解消することにある。
However, most of the prior art wetting agents are unsuitable for high speed plating in modern high speed plating equipment. These wetting agents fail to satisfy some or all of the requirements that the electrolyte should have as described above. It is an object of the present invention to overcome the problems of the prior art by providing particularly preferred agents useful in high-speed electroplating equipment and methods.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明は高速電気めっきによって基体上にスズ、鉛ある
いはスズ/鉛合金を析出させるために用いられる電解液
で下記成分からなるものに関する。
The present invention relates to an electrolytic solution used for depositing tin, lead or a tin/lead alloy on a substrate by high-speed electroplating, and comprising the following components:

すなわち、アルキルあるいはアルキロールスルフォン酸
からなる主体溶液、少なくとも溶液の一つがスズ化合物
溶解性あるいは鉛化合物溶解性の溶液、炭素原子数1〜
7個、好ましくは6個以下、からなる脂肪族炭化水素で
、少なくとも1個の水酸基を有するもののアルキレンオ
キサイド縮合化合物あるいはその溶液溶解性誘導体から
なる界面活性剤を成分とするもの、好ましくは、界面活
性剤は約43℃(約110°F)以上の曇り点を溶液に
与えるものであり、また、電解液は光沢のある析出面が
要求される場合には光沢剤を含むものであることが望ま
しい。
That is, a main solution consisting of an alkyl or alkylol sulfonic acid, at least one of which is a solution soluble in a tin compound or a lead compound, and a solution containing 1 or more carbon atoms.
An aliphatic hydrocarbon consisting of 7, preferably 6 or less, having at least one hydroxyl group, but containing a surfactant consisting of an alkylene oxide condensation compound or a solution-soluble derivative thereof, preferably an interfacial The activator imparts a cloud point to the solution of about 110 degrees Fahrenheit or higher, and the electrolyte preferably includes a brightening agent if a shiny deposition surface is desired.

好ましい炭化水素は、ブチルアルコールのようなアルコ
ールである。また、所望の曇り点を達成するためには、
アルキレンオキサイド化合物は。
A preferred hydrocarbon is an alcohol such as butyl alcohol. Also, to achieve the desired cloud point,
Alkylene oxide compounds.

エチレンオキサイドで、その4〜40モル、好ましくは
6〜28モル、が縮合化合物を形成するために用いられ
るものであることが望ましい。エチレンオキサイドの中
の数モルはプロピレンオキサイドで置換されたものであ
ってもよい。
Preferably, 4 to 40 moles, preferably 6 to 28 moles, of ethylene oxide are used to form the condensation compound. Several moles of ethylene oxide may be substituted with propylene oxide.

他の適切な界面活性剤は炭素数20以下の芳香族有機化
合物のアルキレンオキサイド縮合化合物あるいはその溶
液溶解性の誘導体である。この芳香族化合物は、好まし
くは1個あるいは2個の環を含むもので、2個の環を有
するものが用いられる時には炭素原子数10〜12個を
含むものであることが望ましい。また、該芳香族有機化
合物は6個以下の炭素原子数からなるアルキル部分を有
するものであり、1個以上の水酸基を有するものである
ことが好ましい。この芳香族化合物は、好ましくはベン
ゼン、ナフタレン、フェノール、トルエン、ビスフェノ
ールA、スチレン化フェノール、あるいはそのアルキル
化誘導体である。
Other suitable surfactants are alkylene oxide condensation compounds of aromatic organic compounds having 20 or less carbon atoms or solution-soluble derivatives thereof. This aromatic compound preferably contains one or two rings, and when one having two rings is used, it preferably contains 10 to 12 carbon atoms. Further, the aromatic organic compound preferably has an alkyl moiety having 6 or less carbon atoms, and preferably has one or more hydroxyl groups. The aromatic compound is preferably benzene, naphthalene, phenol, toluene, bisphenol A, styrenated phenol, or an alkylated derivative thereof.

従って、望ましい界面活性剤は十分な量のアルキレンオ
キサイド化合物あるいはその溶液溶解性の誘導体と縮合
した炭素原子20以下を有する有機化合物で溶液に約4
3℃(110°F)以上の曇り点を与えるものを含む。
Accordingly, a desirable surfactant is an organic compound having up to 20 carbon atoms fused with a sufficient amount of an alkylene oxide compound or a solution-soluble derivative thereof to form a solution containing about 4
Includes those that provide a cloud point of 3°C (110°F) or higher.

また、本発明はスズ、鉛あるいはスズ/鉛合金の高速電
気めっきの方法および工程を含む。本方法は前記したタ
イプの高速電気めっき装置を使用する。その装置は電気
めっき槽、該槽に隣接するオーバーフロー貯槽、溶液を
貯槽から1個以上の分散パイプを経てめっき槽に返送ポ
ンプ、およびめっきすべき基体をめっき槽の一端の投入
口からめっき槽他端の出口まで搬送する手段とを含むも
のである。また、本発明の電解液は、めっき槽が電解液
で十分溝たされるように装置に導入する。
The invention also includes methods and processes for high speed electroplating of tin, lead or tin/lead alloys. The method uses high speed electroplating equipment of the type described above. The equipment includes an electroplating tank, an overflow storage tank adjacent to the tank, a pump for returning the solution from the storage tank to the plating tank via one or more distribution pipes, and a pump for transporting the substrates to be plated from an input port at one end of the tank to the plating tank. and a means for conveying it to an outlet at the end. Further, the electrolytic solution of the present invention is introduced into the apparatus so that the plating tank is sufficiently filled with the electrolytic solution.

また、電解液は連続的に貯槽にオーバーフローし、なお
、めっき槽内で電解液の激しい撹拌と循環とが生ずるよ
うに連続的にめっき槽に返送される。
Also, the electrolyte continuously overflows into the reservoir and is continuously returned to the plating bath so that vigorous agitation and circulation of the electrolyte occurs within the plating bath.

このようにして、基体はめっき槽を通過する間に連続的
に電気めっきされる。
In this manner, the substrate is continuously electroplated during its passage through the plating bath.

〔作用〕[Effect]

ここで近年の高速電気めっき装置を用いての高速電気め
っき操作に適切であり、満足なつや消しのあるいは光沢
性の析出物を析出するように特に設計された、スズ、鉛
あるいはスズ/鉛合金電気めっき組成物について述べる
。満足な高速電気めっきを得るための前出の必要条件の
すべてを満足する湿潤剤の数は限られている。これらの
化合物は、炭素原子数8以下のアルキルグループを含む
脂肪族アルコールのエチレンオキサイド誘導体(低分子
量)あるいは最大2個の芳香族環を含む芳香族アルコー
ルのエチレンオキサイド誘導体(ここで、芳香族環は炭
素原子数6個以下のアルキルグループのアルキルで置換
されたものであってもよく、炭素原子数6個以下のアル
キルグループのビス化合物で置換されたものであっても
よい)からなるものである。また、ここで、芳香族化合
物は、アルキル化されているか否かに拘らず、アルキレ
ンオキサイド化合物との縮合前の状態で、炭素原子数2
0以上を含むものであってはならない。
Herein, tin, lead or tin/lead alloy electroplating is suitable for high speed electroplating operations using modern high speed electroplating equipment and specifically designed to deposit satisfactory matte or bright deposits. The plating composition will be described. There is a limited number of wetting agents that meet all of the foregoing requirements for obtaining satisfactory high speed electroplating. These compounds are ethylene oxide derivatives (low molecular weight) of aliphatic alcohols containing alkyl groups with up to 8 carbon atoms or ethylene oxide derivatives of aromatic alcohols containing up to two aromatic rings (here, aromatic rings may be substituted with an alkyl group having up to 6 carbon atoms, or may be substituted with a bis compound having an alkyl group having up to 6 carbon atoms). be. In addition, here, the aromatic compound has 2 carbon atoms in the state before condensation with the alkylene oxide compound, regardless of whether it is alkylated or not.
Must not contain 0 or more.

本発明に適切なスルフォン酸は炭素原子数5個以下を有
するアルキルあるいはアルキロールスルフォン酸を含む
。アルカンスルフォン酸、特にメタンスルフォン酸、が
望ましい。これらの酸は容積比で電解液の10〜30%
の量、従って遊離の酸が存在する状態で含まれる。この
ようにして、電解液のPHは2あるいはそれ以下、通常
0.5以下、となる。
Sulfonic acids suitable for the present invention include alkyl or alkylol sulfonic acids having up to 5 carbon atoms. Alkanesulfonic acids, especially methanesulfonic acid, are preferred. These acids account for 10-30% of the electrolyte by volume.
amount, and thus free acid is present. In this way, the pH of the electrolyte becomes 2 or less, usually 0.5 or less.

本発明に適切な界面活性剤は、前出の必要条件のすべて
、すなわち、析出物が良好なはんだ付け性を有し、十分
な粒子精細性を有するつや消しのあるいは光沢性の仕上
りを有していること、溶液が酸性浴中で安定であり、高
速の電気めっきが可能であり、JAり点が約43℃(約
110’ F)以上であり、かつ、電気めっき操作中殆
ど気泡を含まないこと、を満足するようなものである。
Surfactants suitable for the present invention meet all of the above requirements, i.e. the deposit has good solderability and has a matte or glossy finish with sufficient particle definition. The solution must be stable in acid baths, capable of high-speed electroplating, have a JA temperature of approximately 43°C (approximately 110'F) or higher, and contain almost no air bubbles during electroplating operations. It's like being satisfied with that.

起泡性は、高速電気めっきに用いられる典型的な基本溶
液を用いることによって、実験室内で測定する。溶液の
組成は下記の通りである。
Foaming properties are measured in the laboratory by using typical base solutions used in high speed electroplating. The composition of the solution is as follows.

金属スズ(スズメタンスルフォン酸塩として)   2
0g/Qメタンスルフォン酸            
容積比15%試験すべき界面活性剤         
  容積比 1%温度            周囲温
度〜約24℃(〜75°F)界面活性剤が基本溶液にお
いて気泡を形成する相対的な程度は、溶液を目盛りつき
の250m f2シリンダ中に溶液100IIQを入れ
て試験する。
Metallic tin (as tin methanesulfonate) 2
0g/Q methanesulfonic acid
Surfactant to be tested at 15% volume ratio
Volume Ratio 1% Temperature Ambient temperature to about 24°C (~75°F) The relative degree to which the surfactant forms bubbles in the base solution is tested by placing solution 100IIQ in a graduated 250m f2 cylinder. .

空気は市販の実験室用あるいは魚槽用の通気装置によっ
て供給し、分散器を通して目盛りつきシリンダ中の溶液
の底部に送気する。試験方法としては下記の2つの方法
が好ましい。その一つは、送気時間を2分間として、気
泡面の高さが15011Qを越えるかどうかあるいは目
盛りつきシリンダ頂面を越えるか否かを測定する方法で
ある。この場合、気泡面が150m Qを越え、あるい
はシリンダ頂面を越える場合には該界面活性剤は不適で
あると判断し、それ以上の試験は行わない。第2の方法
は、新鮮な溶液中で10秒間空気泡立て(バブリング)
を行う方法であるにの場合には、10秒間の終りに、目
盛りシリンダ上の最高起泡面高さを読み、気泡が完全に
消散してもとの100m m目盛りまで戻るまでの時間
を記録する。界面活性剤がこの試験に合格するためには
、最高起泡面高さが150tanを越えず、気泡消散に
要する時間が20秒を越えないことを要する。
Air is supplied by a commercially available laboratory or fish tank aerator and is directed through a disperser to the bottom of the solution in the graduated cylinder. The following two methods are preferred as test methods. One method is to set the air supply time to 2 minutes and measure whether the height of the bubble surface exceeds 15011Q or the top surface of a graduated cylinder. In this case, if the bubble surface exceeds 150 mQ or exceeds the top surface of the cylinder, the surfactant is judged to be unsuitable and no further tests are conducted. The second method is bubbling air into the fresh solution for 10 seconds.
At the end of the 10 seconds, read the maximum foaming surface height on the scale cylinder and record the time until the bubbles have completely dissipated and returned to the original 100mm scale. do. For a surfactant to pass this test, the maximum foaming surface height must not exceed 150 tan and the time required for bubble dissipation must not exceed 20 seconds.

曇り点は、1%の界面活性剤を含む溶液をとり、溶液が
曇りはじめるまで徐々に昇温することによって測定する
。曇り点が約49℃(約120’ F)以上の場合には
十分に満足であり、約43℃(110°F)あるいはそ
れ以下の場合には不満足であると判断する。
Cloud point is measured by taking a solution containing 1% surfactant and gradually increasing the temperature until the solution begins to become cloudy. A cloud point of about 49° C. (about 120° F.) or higher is considered fully satisfactory, and a cloud point of about 43° C. (110° F.) or less is considered unsatisfactory.

本発明の高速電気めっき装置およびめっき方法に用いら
れる基本溶液には、一般に、比較的高濃度の金属および
酸が含まれる。このような高濃度の金属および酸を含む
ことは電解液の曇り点に影響を与える1例えば、希薄な
電解液に高い曇り点を与える界面活性剤は、上記のよう
な高濃度電解液に低い曇り点を与える。従って、所望の
析出面を、得ることを意図する電解液すべてについて曇
り点を測定することが重要となる。
The base solution used in the high speed electroplating apparatus and method of the present invention generally contains relatively high concentrations of metal and acid. The inclusion of such high concentrations of metals and acids will affect the cloud point of the electrolyte. For example, a surfactant that gives a high cloud point in a dilute electrolyte will have a low cloud point in a highly concentrated electrolyte such as those mentioned above. Gives a cloud point. Therefore, it is important to measure the cloud point of all electrolytes intended to obtain the desired deposition surface.

溶液の高速電気めっき性および析出面の粒子精細性は、
約43℃(120@F) 、全電流5アンペア、かい形
撹拌器による撹拌という条件で動作するハルセル (Hull cell)を用いて測定される。この場合
溶液は下記組成とする。
The high-speed electroplating properties of the solution and the particle definition of the deposition surface are
Measurements are made using a Hull cell operating at approximately 43° C. (120@F), a total current of 5 amps, and stirring with a paddle stirrer. In this case, the solution has the following composition.

金属スズ(スズメタンスルフォン酸塩として)   1
0g/Qメタンスルフォン酸全量          
容積比30%界面活性剤      (必要に応じて)
 1〜10m12/Qこのような条件の下で、ハルセル
のパネルが高電流密度領域で1/4′以上のヤケのない
析出面を示し、残りの部分の析出面がつや消し面かやや
光沢性で、淡灰色の平滑な仕上りを示すものでなければ
ならない。
Metallic tin (as tin methanesulfonate) 1
0g/Q total amount of methanesulfonic acid
30% surfactant by volume (if necessary)
1~10m12/Q Under these conditions, the Hull Cell panel shows a deposited surface of 1/4' or more without discoloration in the high current density region, and the deposited surface in the remaining part is matte or slightly glossy. , shall exhibit a smooth light gray finish.

界面活性剤を含む電解液の安定性は、浴を1リットル当
り少なくとも20アンペア時間の間電気めっきすること
によって測定される。電気めっき溶液の特性およびその
析出面は、電気めっきによって影響されるものであって
はならない。
The stability of the surfactant-containing electrolyte is determined by electroplating the bath for at least 20 amp hours per liter. The properties of the electroplating solution and its deposition surface must not be affected by electroplating.

析出面のはんだ付け性は、Mil−5td 202Fの
208Fの方法(1986年4月版)に与えられている
方法に従って測定される。析出面は上記軍規格に与えら
れている試験に合格するものでなければならない。
The solderability of the deposited surface is measured according to the method given in Mil-5td 202F, Method 208F (April 1986 Edition). The deposited surface must pass the tests given in the above military standards.

本発明に含まれる界面活性剤は、すべて、高い曇り点、
安定性、高電流密度粒子精細性を満足するために、十分
な量のアルキレンオキサイド、好ましくはエチレンオキ
サイドと縮合した疎水性の有機化合物を含んでいる。エ
チレンオキサイドとともにプロピレンオキサイドが含ま
れていてもよい。しかし、用いられるプロピレンオキサ
イドの量およびそのエチレンオキサイドに対する比率は
、曇り点が上記の条件に合格するに足るような値でなけ
ればならない。プロピレンオキサイドは界面活性剤の起
泡特性を減少させるために用いることができる。しかし
、プロピレンオキサイドは結果として得られる電解液の
曇り点を下げるので、限られた量しか用いることができ
ない。当業者であれば通常の試験でプロピレンの量を容
易に決定することができる。
The surfactants included in this invention all have high cloud points,
It contains a sufficient amount of a hydrophobic organic compound condensed with alkylene oxide, preferably ethylene oxide, to satisfy stability, high current density and particle definition. Propylene oxide may be included together with ethylene oxide. However, the amount of propylene oxide used and its ratio to ethylene oxide must be such that the cloud point is sufficient to pass the above conditions. Propylene oxide can be used to reduce the foaming properties of surfactants. However, only limited amounts of propylene oxide can be used because it lowers the cloud point of the resulting electrolyte. A person skilled in the art can readily determine the amount of propylene by routine experimentation.

上記有機化合物は、少なくとも1個の水酸基を含む炭素
原子数8個以下の脂肪族炭化水素(飽和あるいは不飽和
)のいずれかであってよい。同様に、有機化合物はベン
ゼン、ナフタレン、フェノール、トルエン、ビスフェノ
ールA、スチレン化フェノール等の、2個以上の環を含
まず、置換アルキル鎖が炭素原子数6個以下の芳香族環
化合物であってもよい6また。環は1個以上の水酸基で
置換されたものであってもよい。
The organic compound may be any aliphatic hydrocarbon (saturated or unsaturated) having 8 or less carbon atoms and containing at least one hydroxyl group. Similarly, organic compounds are aromatic ring compounds such as benzene, naphthalene, phenol, toluene, bisphenol A, and styrenated phenols that do not contain more than one ring and have a substituted alkyl chain of 6 or fewer carbon atoms. Good 6 again. The ring may be substituted with one or more hydroxyl groups.

特殊な化合物の説明として、12モルのエチレンオキサ
イドを有するオクチルフェノール・エトキシレートは本
発明の実施には不適である。何故ならば、アルキル鎖の
長さが長いために、起泡性が非常に大きいという特性に
よる。13モルのエチレンオキサイドを有するベータナ
フトールは本発明の実施に適しており、前出必要条件の
すべてに合格し得る。12モルのエチレンオキサイドと
縮合している2モル以上のスチレンを有するスチレン化
フェノールは、3個の芳香族環を有するために不適であ
る5エチロキシル化ビスフエノールAは適しており、上
記必要条件のすべてを満足する。この化合物は2個の芳
香族環と3個のアルキル炭素原子を有する。
To illustrate a particular compound, octylphenol ethoxylate with 12 moles of ethylene oxide is unsuitable for the practice of this invention. This is because the alkyl chain has a long length, resulting in extremely high foaming properties. Beta naphthol with 13 moles of ethylene oxide is suitable for the practice of the present invention and can pass all of the above requirements. Styrenated phenols with more than 2 moles of styrene condensed with 12 moles of ethylene oxide are unsuitable because they have 3 aromatic rings. 5-ethyloxylated bisphenols A are suitable and meet the above requirements. Satisfy everything. This compound has two aromatic rings and three alkyl carbon atoms.

本発明の実施に適するその他の界面活性剤としてエチロ
キシル化ブチルアルコール(プロピレンオキサイドを含
んでいてもいなくても)が含まれる。脂肪族アルコール
の鎖長が長ければ長いほど起泡性も高くなる。このグル
ープの化合物の起泡性は分子中に若干のプロピレンオキ
サイドを含有させることによって相当程度減少させるこ
とができる。しかしながら、上記プロピレンオキサイド
含有量は、曇り点の低下を防ぐために十分コントロール
する必要があり、結果的に曇り点が約43℃(110°
F)となる場合には不適となる。このシリーズの場合、
アルキルグループの最大鎖長が炭素原子数8個以下でな
ければならない。
Other surfactants suitable for the practice of this invention include ethyloxylated butyl alcohol (with or without propylene oxide). The longer the chain length of the aliphatic alcohol, the higher the foaming properties. The foaming properties of this group of compounds can be reduced considerably by including some propylene oxide in the molecule. However, the above propylene oxide content needs to be sufficiently controlled to prevent the cloud point from decreasing, resulting in a cloud point of approximately 43°C (110°C).
F) is inappropriate. For this series,
The maximum chain length of the alkyl group must be 8 or less carbon atoms.

本発明において、電気めっき浴は溶液溶解性のスズおよ
び/あるいは鉛の金属(好ましくはアルキルスルフォネ
ートあるいはアルカノールスルフォネートとして)と若
干の添加物、あるいは、遊離のアルカンあるいはアルカ
ンスルフォン酸を含有する。つや消しのあるいは半光沢
性の適切な析出物を与えるために1本発明の実施に適切
な界面活性剤についてはすでに述べた。しかし、先に挙
げた従来技術中に開示されているような既知の光沢剤を
添加することによって析出物の光沢性を改善することは
可能である。結果的に得られる電気めっき浴は、光沢性
のあるいは半光沢性の析出物の望ましい特性のすべてを
有することになる。
In the present invention, the electroplating bath contains solution-soluble tin and/or lead metals (preferably as alkyl sulfonates or alkanol sulfonates) and some additives or free alkanes or alkanesulfonic acids. do. One surfactant suitable for the practice of this invention has already been mentioned in order to provide a suitable matte or semi-glossy deposit. However, it is possible to improve the glossiness of the deposit by adding known brighteners, such as those disclosed in the prior art cited above. The resulting electroplating bath will have all of the desirable properties of a bright or semi-bright deposit.

界面活性剤は、当業界で周知の手法によって溶液溶解性
をさらに上げることができる。望ましい界面活性剤の溶
液溶解性の誘導体は硫酸塩化、スルフォン化、燐酸塩化
、フォスフオン化、カルボキシル化、等によって得るこ
とができる。ただし、この場合、該誘導体が、すでに述
べた本発明の目的に対して物質の適合性を害するもので
あってはならない、 今日では、種々の高速電気めっき
装置を市場で入手することができる。その一つの典型的
な装置はミュールシーク(Meuldjik)による米
国特許第3,819,502号に開示されており、その
他はエム・モリモト(M、 Marimoto)他によ
る″新日本製鉄株式会社君津工場における不溶性陽極を
有する高速電気めっきライン”  (” High 5
pead Electrogalvanizing L
ine with In5oluble An。
Surfactants can further increase solution solubility by techniques well known in the art. Solution-soluble derivatives of the desired surfactants can be obtained by sulfation, sulfonation, phosphorylation, phosphorylation, carboxylation, and the like. However, in this case, the derivative must not impair the suitability of the material for the purposes of the invention already mentioned.Today, various high-speed electroplating devices are available on the market. One typical device is disclosed in U.S. Pat. "High-speed electroplating line with insoluble anode"("High 5
pead Electrogalvanizing L
ine with In5olable An.

de at K1l1itsu Works of N
1ppon 5teal Corporation”)
、ジエイ・ジェイ・マイルズ(J、 J、 Miles
)他による″連続工程としての浮遊めっき” (パ5w
1m Plating as a Continuou
s Process”)、エッチ・ウェットナ−(H,
Wettner)による″装飾用および機能用の広幅鋼
板への銅、ニッケルおよびクロームの連続めっき”  
(”Continuous Plating of C
opper、 N1ckel and Chromiu
m on WideSteel 5trip for 
Decorative and Function A
pplication”)などの文献に開示されている
。深さ制御電気めっき用の高速機はシー・デイ−・アイ
ズチャン(C,D、Eidschun)による“選択析
出に置ける金の節減方法″(“How to 5ave
 Goldwith 5electj、ve Depo
sits”)に開示されている。
de at K1l1itsu Works of N
1ppon 5teal Corporation”)
, J.J. Miles
) “Floating plating as a continuous process” by others (Pa5w
1m Plating as a Continue
s Process”), Etch Wettoner (H,
"Continuous plating of copper, nickel and chrome on wide steel sheets for decorative and functional purposes" by
(“Continuous Plating of C
opper, N1ckel and Chromiu
m on WideSteel 5trip for
Decorative and Function A
A high-speed machine for depth-controlled electroplating is described in "How to Save Gold in Selective Deposition" by C.D. Eidschun. to 5 ave
Goldwith 5electj,ve Depo
"sits").

これらの文献は、それぞれ、米国電気めっき業者協会第
2回連続めっきセミナ(イリノイ州シカゴ。
These documents were published at the American Electroplaters Association 2nd Continuous Plating Seminar, Chicago, Illinois.

1977年1月24日〜26日)  (America
n Electroplater’s 5ociety
’s 5econd Continuous Plat
ing Saminar、Chicago、l1lin
ois、January  24−26、1977)で
提示されている。ここでこれらの高速電気めっき装置は
単に例証として挙げたものであり、本発明の詳細な説明
の範囲に入るものであることを強調しておく必要がある
。当業者には、本発明による高速電気めっきに有用な同
様の装置が広範囲に存在していることは周知のことであ
る。
January 24-26, 1977) (America
n Electroplater's 5ociety
's 5econd Continuous Plat
ing Saminar, Chicago, l1lin
ois, January 24-26, 1977). It must be emphasized here that these high speed electroplating apparatuses are given by way of example only and are within the scope of the detailed description of the invention. Those skilled in the art are aware that a wide range of similar equipment exists that are useful for high speed electroplating according to the present invention.

〔実施例〕〔Example〕

本願発明の範囲は、本願発明の望ましい実施例を説明す
るだけのために示され又如何なる点でも本願発明の範囲
を制限するものと解釈されるべきではない以下の例に関
して更に述べられている。
The scope of the invention is further described with respect to the following examples, which are presented merely to illustrate preferred embodiments of the invention and are not to be construed as limiting the scope of the invention in any way.

3つのストック溶液が、純粋スズ、90/10スズ/鉛
合金及び60/40スズ/鉛合金を電気めっきするため
に各界面活性剤の能力を試験するたに各側において使用
された。これらの溶液の組成は以下のとおりである。
Three stock solutions were used on each side to test the ability of each surfactant to electroplate pure tin, 90/10 tin/lead alloy, and 60/40 tin/lead alloy. The compositions of these solutions are as follows.

純粋スズ 匹A匹 婁V律 金属スズ    g/l   72   72  40
(スズ・メタン・スルホン酸塩として)金属鉛    
 g/1−18  26(鉛メタン・スルホン酸塩とし
て) メタン・スルホン酸    15   15  15(
容積X) 各側の界面活性剤は、最適量になるまで増加分として加
えられた。溶液及び電気めっき析出面の試験は、上記に
挙げられた総ての試験方法を用いて行われた。
Pure tin A piece Lu V-tempered metal tin g/l 72 72 40
Metallic lead (as tin methane sulfonate)
g/1-18 26 (as lead methane sulfonate) Methane sulfonic acid 15 15 15 (
Volume X) The surfactant on each side was added in increments until the optimum amount was reached. Testing of solution and electroplated deposited surfaces was performed using all of the test methods listed above.

1)泡立ち 2)溶液の曇り点 3)結晶微粒化(滑らかな、淡灰色サテン仕上げ) 4)電気めっきの速さ 5)析出体のはんだづけ性 6)溶液の安定性 これらの例の溶液の各々は、0.5以下のpHを示した
1) Foaming 2) Cloud point of the solution 3) Crystal graining (smooth, light gray satin finish) 4) Speed of electroplating 5) Solderability of the deposit 6) Stability of the solution Each of these example solutions showed a pH of 0.5 or less.

■−工 8モルのエチレンオキサイドを有するビスフェノールA
を6〜12 ml/1使用した。この界面活性剤を有す
る溶液は6つの全ての試験に合格した。
■-Bisphenol A with 8 moles of ethylene oxide
6 to 12 ml/1 was used. The solution with this surfactant passed all six tests.

盤−又 10モルのエチレンオキサイドを有するビスフェノール
Aを例1と同じ量使用した。この界面活性剤を有する溶
液もまた全ての試験に合格した。
The same amount of bisphenol A with 10 moles of ethylene oxide as in Example 1 was also used. Solutions with this surfactant also passed all tests.

貫−ユ 30モルのエチレンオキサイドを有する硫酸塩ビスフェ
ノールAを3から6 ml使用した。この界面活性剤を
有する溶液も又全ての試験に合格した。
3 to 6 ml of bisphenol A sulfate with 30 moles of ethylene oxide per unit was used. Solutions with this surfactant also passed all tests.

億ニー髪 13モルのエチレンオキサイドを有するベータナフトー
ルを0.5〜1 ml使用した。この界面活性剤を有す
る溶液も又全での試験に合格した。
0.5-1 ml of beta-naphthol containing 13 moles of ethylene oxide was used. Solutions with this surfactant also passed all tests.

■−旦(比較) 12モルのエチレンオキサイドを有するポリスチレン化
フェノールを3〜6111使用した。この界面活性剤は
多数の気泡を形成し、他の試験には合格するが、満足な
析出面を与えなかった。
(2)-Dan (comparison) 3 to 6111 polystyrenated phenols having 12 moles of ethylene oxide were used. This surfactant formed numerous bubbles and, although it passed the other tests, did not provide a satisfactory deposition surface.

貫−旦(比較) 12モルのエチレンオキサイドを有するオクチルアルコ
ールを3〜8 ml使用した。この界面活性剤は泡が立
ちすぎ不適である。
Comparison: 3-8 ml of octyl alcohol with 12 moles of ethylene oxide were used. This surfactant is unsuitable because it foams too much.

育[(比較) 5モルのエチレンオキサイドを有するブチルアルコール
を2〜8社使用した。めっき面粒子精細性が不満足なも
のであるにもかかわらず、他の試験は合格した。かくし
て、エチレンオキサイドのモル数は1例8及び9に示さ
れるように、少なくとも6以上に増加させられなければ
ならない6叢−旦 16モルのエチレンオキサイドと12モルのプロピレン
オキサイドとを有するブチルアルコールを1〜4 o+
1使用した。この界面活性剤を有する溶液は全ての試験
に合格した。
Iku (comparison) Butyl alcohol with 5 moles of ethylene oxide was used from 2 to 8 companies. Other tests passed despite the unsatisfactory grain definition of the plated surface. Thus, the number of moles of ethylene oxide must be increased to at least 6 or more, as shown in Examples 8 and 9. 1~4 o+
1 was used. Solutions with this surfactant passed all tests.

胴−」− 8モルのエチレンオキサイドと6モルのプロピレンオキ
サイドとを有するブチルアルコールを0゜5〜2 +*
lml使用。この界面活性剤を有する溶液は全ての試験
に合格した。
Body: - Butyl alcohol containing 8 moles of ethylene oxide and 6 moles of propylene oxide is added to
Use lml. Solutions with this surfactant passed all tests.

五−1立 クロロベンツアルデヒドのような芳香族アルデヒド又は
その誘導体、例えばベンザル・アセトン、のような周知
の光沢剤を全ての試験に合格した上記溶液に加えること
により、光沢めっきが得られた。
A bright plating was obtained by adding a well-known brightener such as an aromatic aldehyde such as 5-1-chlorobenzaldehyde or its derivatives, e.g. benzal acetone, to the above solution which passed all tests.

ここに開示した発明は上述の目的を満たすように十分計
算されているのは明らかであるが、多くの修正が当業者
によって工夫されることが望ましく、また、追加の請求
の範囲が本願発明の本来の精神及び範囲に当たるような
修正及び実施例を包含することを意図するものである。
While the invention disclosed herein is clearly well calculated to meet the above objectives, many modifications may be devised by those skilled in the art, and the scope of the additional claims may reflect the claimed invention. It is intended to cover modifications and embodiments as may fall within the original spirit and scope.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、高速電気めっきによって基体上にスズ、鉛あるいは
スズ/鉛合金を析出させるために用いる電解液で下記成
分からなるもの: アルキルあるいはアルキロールスルフォン 酸からなる主体溶液; 少なくとも溶液の一つがスズ化合物溶解性 あるいは鉛化合物溶解性の溶液; 十分な量のアルキレンオキサイド化合物あ るいはその溶液溶解性の誘導体と縮合した、少なくとも
1個の水酸基を有する炭素数20以下の有機化合物から
なる界面活性剤で、該界面活性剤が高速の電気めっき条
件下で電解液を本質的に無泡、透明で濁りのない安定な
状態に保ち、淡灰色のサテン(梨地)仕上げと良好なは
んだ付け性を有する平滑な電気めっき面を与えることが
できるのであり、かつ、上記有機化合物が炭素原子数1
〜7の範囲の脂肪族炭化水素、芳香族化合物あるいはア
ルキル化芳香族化合物の一つを含むものであること。 2、上記有機化合物が炭素原子数6個以下の脂肪族炭化
水素であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の電解液。 3、上記有機化合物が、全炭素原子数が6〜12個の範
囲であり、かつ、1個あるいは2個の環を有する芳香族
化合物であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の電解液。 4、上記有機化合物がベンゼン、ナフタレン、フェノー
ル、トルエン、ビスフェノールAあるいはスチレン化フ
ェノールであることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の電解液。 5、上記芳香族化合物が炭素原子数8個以下のアルキル
部分を含むことを特徴とする特許請求の範囲第3項ある
いは第4項記載の電解液。 6、上記表面活性剤が溶液に約110°F以上の曇り点
を与えることを特徴とする特許請求の範囲第3項あるい
は第4項記載の電解液。 7、光沢剤を含むことを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の電解液。 8、上記アルキレンオキサイド化合物がエチレンオキサ
イドであり、縮合化合物を形成するために4〜40モル
のオキサイドが用いられていることを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の電解液。 9、上記エチレンオキサイドの中の数モルがプロピレン
オキサイドで置換されていることを特徴とする特許請求
の範囲第8項記載の電解液。 10、上記溶液溶解性の誘導体を縮合化合物を硫酸塩化
、スルフォン化、燐酸塩処理、フォスフォン酸塩化、カ
ルボキシル化することによって得ることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の電解液。 11、下記工程からなることを特徴とするスズ、鉛ある
いはスズ/鉛合金の高速電気めっき方法: 電気めっきセルと、該セルに隣接するオー バーフロー貯槽と、該貯槽から該セルに溶液を返送する
ための手段と、めっきすべき基体を該セルの一端にある
投入点から該セルの他端にある出口点まで搬送する手段
とからなる高速電気めっき装置を用い; アルキルあるいはアルキロールスルフォン 酸からなる主体溶液と、少なくとも溶液の一つがスズ化
合物溶解性あるいは鉛化合物溶解性である溶液と、十分
な量のアルキレンオキサイド化合物あるいはその溶液溶
解性の誘導体と縮合した、少なくとも1個の水酸基を有
する炭素数20以下の有機化合物からなる界面活性剤で
、該界面活性剤が高速の電気めっき条件下で電解液を本
質的に無泡、透明で濁りのない状態に保ち、淡灰色のサ
テン仕上げと良好なはんだ付け性を有する平滑な電気め
っき面を与えることができるものであり、かつ、上記有
機化合物が炭素原子数1〜7の範囲の脂肪族炭化水素、
芳香族化合物あるいはアルキル化芳香族化合物の一つを
含む界面活性剤とからなる電解液を、上記装置中に、電
解液が上記セルを十分に満し、上記貯槽中に連続的にオ
ーバーフローし、上記セル内で激しい撹拌と循環とが得
られるように、連続的に上記セルに返送するように導入
し; 基体を、上記セル内の電解液中を通して通 過させて、スズ、鉛あるいはスズ/鉛合金を連続的に電
気めっきする。 12、上記電解液を上記セルに返送する手段が、ポンプ
からなることを特徴とする特許請求の範囲第11項記載
の電気めっき方法。 13、上記電解液を上記セルに返送する手段が、上記ポ
ンプの下流の上記セルに設けた1個以上の分散パイプを
含むことを特徴とする特許請求の範囲第11項記載の電
気めっき方法。 14、上記芳香族化合物が炭素原子数6〜12個を含む
ことを特徴とする特許請求の範囲第11項記載の電気め
っき方法。 15、上記芳香族化合物がベンゼン、ナフタレン、フェ
ノール、トルエン、ビスフェノールA、スチレン化フェ
ノールあるいは炭素原子数6個以下のアルキル部分を有
するそのアルキル化誘導体であることを特徴とする特許
請求の範囲第14項記載の電解液。 16、上記電解液中の界面活性剤の溶解度を上記縮合化
合物の硫酸塩化、スルフォン化、燐酸塩化処理、スルフ
ォン酸塩化、カルボキシル化によって増大させることを
特徴とする特許請求の範囲第11項記載の電気めっき方
法。 17、上記アルキレンオキサイドがエチレンオキサイド
であり、その中でオキサイドの4〜40モルが縮合化合
物の形成に用いられることを特徴とする特許請求の範囲
第11項記載の電気めっき方法。 18、上記エチレンオキサイド中の数モルがプロピレン
オキサイドで置換されていることを特徴とする特許請求
の範囲第17項記載の電気めっき方法。 19、上記界面活性剤が溶液に約43℃(110°F)
以上の曇り点を与えることを特徴とする特許請求の範囲
第11項記載の電気めっき方法。 20、光沢剤を追加したことを特徴とする特許請求の範
囲第11項記載の電気めっき方法。
[Claims] 1. An electrolytic solution used for depositing tin, lead or a tin/lead alloy on a substrate by high-speed electroplating, consisting of the following components: A main solution consisting of an alkyl or alkylol sulfonic acid; at least One of the solutions is a tin compound-soluble or lead compound-soluble solution; consisting of an organic compound having at least one hydroxyl group and having 20 or less carbon atoms condensed with a sufficient amount of an alkylene oxide compound or its solution-soluble derivative. A surfactant that keeps the electrolyte essentially bubble-free, clear and stable under high-speed electroplating conditions, resulting in a light gray satin finish and good solderability. It is possible to provide a smooth electroplated surface with properties, and the organic compound has 1 carbon atom.
Contains one of aliphatic hydrocarbons, aromatic compounds, or alkylated aromatic compounds in the range of ~7. 2. The electrolytic solution according to claim 1, wherein the organic compound is an aliphatic hydrocarbon having 6 or less carbon atoms. 3. Claim 1, wherein the organic compound is an aromatic compound having a total number of carbon atoms ranging from 6 to 12 and having one or two rings. electrolyte. 4. The electrolytic solution according to claim 1, wherein the organic compound is benzene, naphthalene, phenol, toluene, bisphenol A, or styrenated phenol. 5. The electrolytic solution according to claim 3 or 4, wherein the aromatic compound contains an alkyl moiety having 8 or less carbon atoms. 6. The electrolytic solution of claim 3 or 4, wherein the surfactant provides the solution with a cloud point of greater than about 110 degrees Fahrenheit. 7. Claim 1 characterized by containing a brightening agent
Electrolyte as described in section. 8. The electrolytic solution according to claim 1, wherein the alkylene oxide compound is ethylene oxide, and 4 to 40 moles of oxide are used to form the condensation compound. 9. The electrolytic solution according to claim 8, wherein several moles of the ethylene oxide are replaced with propylene oxide. 10. The electrolytic solution according to claim 1, wherein the solution-soluble derivative is obtained by sulfating, sulfonating, phosphate treating, phosphonately converting, or carboxylating a condensed compound. 11. A method for high-speed electroplating of tin, lead or tin/lead alloys, characterized by comprising the following steps: an electroplating cell, an overflow storage tank adjacent to the cell, and for returning the solution from the storage tank to the cell. and means for conveying the substrate to be plated from an input point at one end of the cell to an exit point at the other end of the cell; 20 carbon atoms having at least one hydroxyl group condensed with a solution, at least one of which is tin compound soluble or lead compound soluble, and a sufficient amount of an alkylene oxide compound or a solution soluble derivative thereof; A surfactant consisting of the following organic compounds that keeps the electrolyte essentially bubble-free, clear, and cloud-free under high-speed electroplating conditions, resulting in a light gray satin finish and good solderability. an aliphatic hydrocarbon which can provide a smooth electroplated surface with adhesion properties, and in which the organic compound has a carbon number of 1 to 7;
an electrolytic solution comprising an aromatic compound or a surfactant containing one of the alkylated aromatic compounds is placed in the apparatus, the electrolytic solution sufficiently filling the cell and continuously overflowing into the reservoir; The substrate is continuously introduced back into the cell so as to obtain vigorous agitation and circulation within the cell; the substrate is passed through the electrolyte in the cell to contain tin, lead or tin/lead. Continuously electroplating the alloy. 12. The electroplating method according to claim 11, wherein the means for returning the electrolytic solution to the cell comprises a pump. 13. The electroplating method of claim 11, wherein the means for returning the electrolyte to the cell comprises one or more dispersion pipes in the cell downstream of the pump. 14. The electroplating method according to claim 11, wherein the aromatic compound contains 6 to 12 carbon atoms. 15. Claim 14, wherein the aromatic compound is benzene, naphthalene, phenol, toluene, bisphenol A, styrenated phenol, or an alkylated derivative thereof having an alkyl moiety having 6 or less carbon atoms. Electrolyte as described in section. 16. The solubility of the surfactant in the electrolytic solution is increased by sulfation, sulfonation, phosphate treatment, sulfonation, or carboxylation of the condensation compound, according to claim 11. Electroplating method. 17. The electroplating method according to claim 11, wherein the alkylene oxide is ethylene oxide, in which 4 to 40 moles of oxide are used to form the condensation compound. 18. The electroplating method according to claim 17, wherein several moles of the ethylene oxide are replaced with propylene oxide. 19. The above surfactant is in solution at about 43°C (110°F).
12. The electroplating method according to claim 11, wherein the electroplating method provides a cloud point equal to or higher than the above. 20. The electroplating method according to claim 11, characterized in that a brightener is added.
JP63310296A 1987-12-10 1988-12-09 Tin, lead or tin / lead alloy electrolyte for high speed electroplating and electroplating method Expired - Lifetime JPH0730478B2 (en)

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