JPH01253989A - Film joining device - Google Patents
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Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 70
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 123
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 28
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 claims description 6
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 3
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 97
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 description 100
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 26
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 23
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 21
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 20
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 20
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 15
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 9
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 9
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 8
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 7
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000003708 edge detection Methods 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(1)発明の目的
〔産業上の利用分野〕
本発明は、薄膜の張付技術に関し、特に、基板表面に薄
膜を張り付ける薄膜の張付技術に適用して有効な技術に
関するものである。Detailed Description of the Invention (1) Purpose of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to a thin film attachment technique, and is particularly effective when applied to a thin film attachment technique for attaching a thin film to a substrate surface. It is related to technology.
コンピュータ等の電子機器に使用されるプリント配線板
は、銅等の所定パターンの配線が絶縁性基板の片面又は
両面に形成されたものである。2. Description of the Related Art Printed wiring boards used in electronic devices such as computers have a predetermined pattern of wiring made of copper or the like formed on one or both sides of an insulating substrate.
この種のプリント配線板は、次の製造工程により製造す
ることができる。This type of printed wiring board can be manufactured by the following manufacturing process.
まず、絶縁性基板上に設けられた導電層(銅薄膜)上に
、感光性樹脂(フォトレジスト)層とそれを保護する透
光性樹脂フィルム(保護膜)とからなる積層体フィルム
を熱圧着ラミネートする。この熱圧着ラミネートは、薄
膜張付装置所謂ラミネータにより量産的に行われる。こ
の後、前記積層体フィルムに配線パターンフィルムを重
ね、この配線パターンフィルム及び透光性樹脂フィルム
を通して、感光性樹脂層を所定時間露光する。そして、
透光性樹脂フィルムを剥離装置で剥離した後、露光され
た感光性樹脂層を現像してエツチングマスクパターンを
形成する。この後、前記導電層の不必要部分をエツチン
グにより除去し、さらに残存する感光性樹脂層を除去し
、所定の配線パターンを有するプリント配線板を形成す
る。First, a laminate film consisting of a photosensitive resin (photoresist) layer and a transparent resin film (protective film) that protects it is thermocompressed onto a conductive layer (thin copper film) provided on an insulating substrate. Laminate. This thermocompression bonding lamination is carried out in mass production using a thin film pasting device, a so-called laminator. Thereafter, a wiring pattern film is placed on the laminate film, and the photosensitive resin layer is exposed to light for a predetermined period of time through the wiring pattern film and the transparent resin film. and,
After the transparent resin film is peeled off using a peeling device, the exposed photosensitive resin layer is developed to form an etching mask pattern. Thereafter, unnecessary portions of the conductive layer are removed by etching, and the remaining photosensitive resin layer is further removed to form a printed wiring board having a predetermined wiring pattern.
しかしながら、従来の薄膜張付方法では、絶縁性基板上
に設けられた導電層上に、感光性樹脂(フォトレジスト
)層とそれを保護する透光性樹脂フィルム(保護膜)と
からなる積層体フィルムを熱圧着ラミネートするが、前
記導電層の表面に微小の凹凸があり、導電体層表面と積
層体フィルムをラミネートした際に前記導電層の表面の
微小凹部に空気が残るため、導電体層表面と積層体フィ
ルムとの接着面に空泡(ボイド)が発生し、導電体層表
面と積層体フィルムとの接着性が低下するという問題が
あった。However, in the conventional thin film pasting method, a laminate consisting of a photosensitive resin (photoresist) layer and a transparent resin film (protective film) that protects it is placed on a conductive layer provided on an insulating substrate. Films are laminated by thermocompression, but the surface of the conductive layer has minute irregularities, and when the conductor layer surface and the laminate film are laminated, air remains in the minute concavities on the conductor layer surface. There was a problem in that voids were generated on the adhesive surface between the surface and the laminate film, and the adhesiveness between the conductor layer surface and the laminate film was reduced.
また、このためプリント基板の配線の信頼性が低下する
という問題があった。Furthermore, there is a problem in that the reliability of the wiring on the printed circuit board is reduced.
本発明は、前記問題点を解決するためになされたもので
ある。The present invention has been made to solve the above problems.
本発明の目的は、薄膜の張付技術において、薄膜の張り
付けた基板の信頼性を向上することができる技術を提供
することにある。An object of the present invention is to provide a thin film pasting technique that can improve the reliability of a substrate to which a thin film is pasted.
本発明の他の目的は、プリント基板の信頼性を向上する
ことができる技術を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a technique that can improve the reliability of printed circuit boards.
本発明の他の目的は、導電層が形成された基板の導電層
(銅層)表面と積層体フィルムとの接着面に空泡が発生
するのを防止することができる技術を提供することにあ
る。Another object of the present invention is to provide a technique that can prevent air bubbles from forming on the adhesive surface between the conductive layer (copper layer) surface of the substrate on which the conductive layer is formed and the laminate film. be.
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は1本
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
(2)発明の構成
〔課題を解決するための手段〕
前記目的を達成するため、本発明は、基板の搬送方向先
端部の表面に、仮付部材を近接させて薄膜の供給方向先
端部を仮り付けし、前記仮付部材を基板表面から離反し
た後に、仮り付けされた仮付位置の薄膜の先端部に、圧
着ローラを当接し、圧着ローラを回転させて、前記基板
を搬送すると共に、基板に薄膜を張り付ける薄膜の張付
装置であって、基板搬送路装置の枠体の前記仮付位置に
基板が搬送される前の位置に配設された、当該基板に空
泡防止剤を付着するウェットローラと、該ウェットロー
ラの内部から表面に向けて空泡防止剤供給をほぼ均一に
供給する手段を設けたことを主な特徴とするものである
。(2) Structure of the Invention [Means for Solving the Problems] In order to achieve the above-mentioned object, the present invention brings a tacking member close to the surface of the leading end in the conveying direction of the substrate to attach the leading end in the feeding direction of the thin film. After tacking and separating the tacking member from the substrate surface, a pressure roller is brought into contact with the tip of the thin film at the tacking position, and the pressure roller is rotated to convey the substrate, A thin film pasting device for pasting a thin film on a substrate, the device being disposed at a position before the substrate is transported to the temporary attachment position of the frame of the substrate transport path device, and applying a bubble preventing agent to the substrate. The main feature is that it is provided with a wet roller to which it adheres and a means for supplying the anti-foaming agent almost uniformly from the inside of the wet roller toward the surface.
本発明は、前述のように基板搬送路装置の枠体の前記仮
付位置に基板が搬送される前の位置に配設された、当該
基板に空泡防止剤を付着するウェットローラと、該ウェ
ットローラの内部から表面に向けて空泡防止剤供給をほ
ぼ均一に供給する手段を設けたことにより、ウェットロ
ーラ全域にほぼ一様に空泡防止剤を供給し、仮付位置に
基板が搬送される前に、当該基板にほぼ均一に空泡防止
剤を付着するので、導電体層表面と薄膜を密着させると
共に、導電体層表面と薄膜との接着面に空泡(ボイド)
が発生するのを防止することができる。As described above, the present invention provides a wet roller for adhering a bubble preventive agent to the substrate, which is disposed at a position before the substrate is transported to the temporary attachment position of the frame of the substrate transport path device; By providing a means to supply the anti-foam agent almost uniformly from the inside of the wet roller to the surface, the anti-foam agent is supplied almost uniformly over the entire area of the wet roller, and the substrate is transported to the temporary attachment position. Since the anti-bubble agent is applied almost uniformly to the substrate before being bonded, the surface of the conductive layer and the thin film are brought into close contact, and no voids are formed on the bonding surface between the surface of the conductive layer and the thin film.
can be prevented from occurring.
これにより、当該基板と薄膜との接着性を向上すると共
に、プリント基板の配線の信頼性を向上することができ
る。Thereby, it is possible to improve the adhesiveness between the substrate and the thin film, and to improve the reliability of the wiring of the printed circuit board.
以下、本発明をプリント配線用基板に感光性樹脂層と透
光性樹脂フィルムとからなる積層体フィルムを熱圧着ラ
ミネートする薄膜張付装置に適用した本発明の一実施例
について、図面に基づいて詳細に説明する。Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described based on the drawings, in which the present invention is applied to a thin film pasting device that heat-presses and laminates a laminate film consisting of a photosensitive resin layer and a transparent resin film to a printed wiring board. Explain in detail.
なお、実施例を説明するための全図において、同一機能
を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は
省略する。In addition, in all the figures for explaining the embodiment, parts having the same functions are given the same reference numerals, and repeated explanations thereof will be omitted.
前記本発明の一実施例である薄膜張付装置を第1図(概
略構成図)で示す。FIG. 1 (schematic configuration diagram) shows a thin film adhering device which is an embodiment of the present invention.
第1図に示すように、透光性樹脂フィルム、感光性樹脂
層及び透光性樹脂フィルムの3層構造からなる積層体フ
ィルム1は、供給ローラ2に連続的に巻回されている。As shown in FIG. 1, a laminate film 1 having a three-layer structure of a translucent resin film, a photosensitive resin layer, and a translucent resin film is continuously wound around a supply roller 2. As shown in FIG.
供給ローラ2の積層体フィルム1は、薄膜分離ローラ3
で、透光性樹脂フィルム(保護膜)IAと、−面(接着
面)が露出された感光性樹脂層及び透光性樹脂フィルム
からなる積層体フィルムIBとに分離される。分離され
た透光性樹脂フィルムIAは、巻取ローラ4により巻き
取られるように構成されている5
前記薄膜分離ローラ3で分離された積層体フィルムIB
の供給方向の先端部は、第1図及び第2図(第1図の部
分拡大図)に示すように、テンションローラ9を通して
メインバキュームプレート10に吸着されるように構成
されている。The laminate film 1 of the supply roller 2 is transferred to the thin film separation roller 3
Then, it is separated into a light-transmitting resin film (protective film) IA and a laminate film IB consisting of a light-transmitting resin film and a photosensitive resin layer whose negative side (adhesive surface) is exposed. The separated translucent resin film IA is configured to be wound up by a take-up roller 4.5 The laminate film IB separated by the thin film separation roller 3
As shown in FIGS. 1 and 2 (partially enlarged view of FIG. 1), the tip end in the supply direction is configured to be attracted to the main vacuum plate 10 through a tension roller 9.
テンションローラ9は、供給ローラ2とメインバキュー
ムプレート(薄膜供給部材)10との間の積層体フィル
ムIBに適度なテンションを与えるように構成されてい
る。つまり、テンションローラ9は、供給される積層体
フィルムIBにしわ等を生じないように構成されている
。The tension roller 9 is configured to apply appropriate tension to the laminate film IB between the supply roller 2 and the main vacuum plate (thin film supply member) 10. In other words, the tension roller 9 is configured so as not to cause wrinkles or the like on the supplied laminate film IB.
メインバキュームプレート10は、積層体フィルムIB
を供給ローラ2から絶縁性基板11の導電層(例えば、
銅薄膜層)上に供給するように構成されている。メイン
バキュームプレート10は、第1図及び第2図に示すよ
うに、絶縁性基板11に近接しかつ離反する(矢印B方
向に移動する)支持部材12に設けられている。支持部
材12は、ガイド部材7Aを矢印B方向に摺動可能なよ
うに、装置本体(薄膜張付装置の筐体)7に設けられて
いる。支持部材12は、絶縁性基板11の搬送経路を中
心に、上下、一対に設けられている。上部の支持部材1
2と下部の支持部材12とは、ラックアンドピニオン機
構により連動的に動作する(両者が同時に近接又は離反
する)ように構成されている。つまり、上下、一対の支
持部材12は、夫々に設けられたラック12Aと、この
ラック12Aと嵌合するピニオン12Bとで連動的に動
作する。この支持部材12の動作は、下部の支持部材1
2に設けられた駆動源12Cで行われる。駆動源12C
は、例えば、エアーシリンダで構成する。また、駆動源
12Cは、油圧シリンダ、電磁シリンダ、ステップモー
タ及びその変位を支持部材12に伝達する伝達機構等で
構成することができる。The main vacuum plate 10 is a laminate film IB.
from the supply roller 2 to the conductive layer of the insulating substrate 11 (for example,
(copper thin film layer). As shown in FIGS. 1 and 2, the main vacuum plate 10 is provided on a support member 12 that is close to and away from the insulating substrate 11 (moves in the direction of arrow B). The support member 12 is provided in the apparatus main body (casing of the thin film application apparatus) 7 so that the guide member 7A can be slid in the direction of arrow B. The support members 12 are provided in pairs above and below the transport path of the insulating substrate 11 . Upper support member 1
2 and the lower support member 12 are configured to operate in conjunction with each other (both approach or separate at the same time) by a rack and pinion mechanism. In other words, the pair of upper and lower support members 12 are operated in conjunction with the racks 12A provided respectively and the pinions 12B fitted with the racks 12A. The operation of this support member 12 is similar to that of the lower support member 1
This is performed by a drive source 12C provided at 2. Drive source 12C
is composed of, for example, an air cylinder. Further, the drive source 12C can be configured with a hydraulic cylinder, an electromagnetic cylinder, a step motor, a transmission mechanism that transmits the displacement to the support member 12, and the like.
前記メインバキュームプレート10は、支持部材12の
移動とは独立的に、絶縁性基板11に近接しかつ離反す
る(矢印C方向に移動する)ように支持部材12に設け
られている。メインバキュームプレート10は、支持部
材12に設けられた駆動源12Dと、ラックアンドピニ
オン機構とで動作するように構成されている。このラッ
クアンドピニオン機構は、駆動源12Dに設けられたピ
ニオン12E、支持部材12に設けられたラック12F
、メインバキュームプレート10に設けられたラックI
OAで構成されている。駆動源12Dは、駆動源12C
と同様のもので構成する。The main vacuum plate 10 is provided on the support member 12 so as to approach and move away from the insulating substrate 11 (moves in the direction of arrow C) independently of movement of the support member 12. The main vacuum plate 10 is configured to operate by a drive source 12D provided on the support member 12 and a rack and pinion mechanism. This rack and pinion mechanism includes a pinion 12E provided on a drive source 12D, and a rack 12F provided on a support member 12.
, a rack I provided on the main vacuum plate 10
It is composed of OA. The drive source 12D is the drive source 12C.
It consists of the same things as.
駆動源12C及び駆動源12Dは、例えば、それぞれエ
アーシリンダで構成され、電磁式バルブで制御される。The drive source 12C and the drive source 12D are each configured with an air cylinder, for example, and are controlled by an electromagnetic valve.
メインバキュームプレート10には、図示していないが
、積層体フィルムIBを吸着しそれを保持する吸着孔が
複数設けられている。この吸着孔は、排気管を通して、
真空ポンプ等の真空源に接続されている。メインバキュ
ームプレート10の吸着動作、仮付部10Eの吸着動作
の夫々は、独立に制御されるように構成されている。Although not shown, the main vacuum plate 10 is provided with a plurality of suction holes for sucking and holding the laminate film IB. This suction hole passes through the exhaust pipe,
Connected to a vacuum source such as a vacuum pump. The suction operation of the main vacuum plate 10 and the suction operation of the temporary attachment part 10E are configured to be independently controlled.
積層体フィルムIBの供給方向におけるメインバキュー
ムプレート10の先端部には、積層体フィルムIBを吸
着する面が円孤形状に形成された仮付部10Eが設けら
れている。仮付部10Eは、メインバキュームプレート
10と一体に構成されている。At the tip of the main vacuum plate 10 in the supply direction of the laminate film IB, a temporary attaching part 10E is provided in which the surface for adsorbing the laminate film IB is formed in an arc shape. The temporary attachment part 10E is configured integrally with the main vacuum plate 10.
仮付部10Eの内部には、第1図及び第2図に示すよう
に1円孤形状部分を加熱するヒータIOFが設けられて
いる。仮付部10Eは、メインバキュームプレート10
で供給される積層体フィルムIBの先端部を、絶縁性基
板11の導電層上に仮り付け(仮熱圧着)するように構
成されている。Inside the temporary attachment part 10E, a heater IOF is provided that heats the arc-shaped portion, as shown in FIGS. 1 and 2. The temporary attachment part 10E is the main vacuum plate 10
The tip portion of the laminate film IB supplied in the above is configured to be temporarily bonded (temporary thermocompression bonding) onto the conductive layer of the insulating substrate 11.
なお、本発明は、メインバキュームプレート10と仮付
部10Eとを、夫々、別部材で構成し、両者を支持部材
12で支持してもよい。In addition, in the present invention, the main vacuum plate 10 and the temporary attachment part 10E may be configured as separate members, and both may be supported by the support member 12.
前記仮付部10Eに近接した位置、つまり、仮付部10
Eと絶縁性基板11との間の積層体フィルムIBの供給
経路の近傍には、サブバキュームプレート(薄膜保持部
材)13が設けられている。サブバキュームプレート1
3は、吸引孔を図示していないが、第2図に示すように
、上部吸着部13aと下部吸着部13bとを有し、コの
字形状に構成されている(このコの掌部分は積層体フィ
ルムIBの切断位置に相当する)、サブバキュームプレ
ート13の上部吸着部13aは、主に、供給方向の積層
体フィルムIBの先端部を吸着し、仮付部10Eに吸着
(保持)させるように構成されている。サブバキューム
プレート13は、積層体フィルムIBの先端部を仮付部
10Eに吸着可能なように、積層体フィルムIBの供給
経路に対して近接及び離反(矢印り方向に移動)する例
えばエアーシリンダからなる駆動源13Aを介して、支
持部材12に取り付けられている。A position close to the temporary attachment part 10E, that is, the temporary attachment part 10
A sub-vacuum plate (thin film holding member) 13 is provided near the supply path of the laminate film IB between E and the insulating substrate 11. Sub vacuum plate 1
No. 3 has a suction hole not shown in the figure, but as shown in FIG. (corresponding to the cutting position of the laminate film IB), the upper suction part 13a of the sub-vacuum plate 13 mainly suctions the leading end of the laminate film IB in the supply direction, and causes it to be suctioned (held) by the temporary attachment part 10E. It is configured as follows. The sub-vacuum plate 13 moves toward and away from the supply path of the laminate film IB (moves in the direction indicated by the arrow), for example, from an air cylinder so that the leading end of the laminate film IB can be adsorbed to the temporary attachment part 10E. It is attached to the support member 12 via a drive source 13A.
また、サブバキュームプレート13の下部吸着部13b
は、連続した積層体フィルムIBを切断装置14で切断
し、この切断された積層体フィルムIBの後端部を吸着
し、積層体フィルムIBの供給経路内に保持するように
構成されている。下部吸着部13bは、熱圧着ラミネー
ト開始後、回転バキュームプレート15との間において
、第2図に示すように、積層体フィルムIBにたるみを
形成する(たるみを持たせた積層体フィルムIB’ を
形成する)ように構成されている。このたるみを持たせ
た積層体フィルムIB’ は、熱圧着ローラ16の周速
度(熱圧着ラミネート速度)に対して、メインバキュー
ムプレート10の積層体フィルムIBの供給速度を速く
制御することにより形成することができる。両者の制御
は、図示していないが、シーケンス制御回路により行わ
れるようになっている。In addition, the lower suction part 13b of the sub-vacuum plate 13
is configured to cut the continuous laminate film IB with a cutting device 14, adsorb the rear end of the cut laminate film IB, and hold it within the supply path of the laminate film IB. After the start of thermocompression lamination, the lower suction part 13b forms a slack in the laminated film IB between it and the rotary vacuum plate 15, as shown in FIG. is configured to form This slack laminate film IB' is formed by controlling the supply speed of the laminate film IB of the main vacuum plate 10 to be faster than the circumferential speed of the thermocompression roller 16 (thermocompression lamination speed). be able to. Although not shown, both are controlled by a sequence control circuit.
なお、サブバキュームプレート13の駆動源13Aとし
ては、エアーシリンダの他に前記駆動g12cと同様に
、油圧シリンダ等で構成することができる。In addition, the drive source 13A of the sub-vacuum plate 13 may be configured with a hydraulic cylinder or the like, similar to the drive g12c described above, in addition to an air cylinder.
前記仮付部10Eと絶縁性基板11との間(実際には、
仮付部10Eと回転バキュームプレート15との間)の
積層体フィルムIBの供給経路の近傍の装置本体7には
、切断装置14が設けられている(固定されている)。Between the temporary attachment part 10E and the insulating substrate 11 (actually,
A cutting device 14 is provided (fixed) in the main body 7 of the apparatus near the supply path of the laminate film IB (between the temporary attachment part 10E and the rotary vacuum plate 15).
詳述すれば、切断装置14は、積層体フィルムIBの後
端部を切断位置まで供給した時のサブバキュームプレー
ト13に対向した位置に構成されている。切断装置14
は、絶縁性基Fi11を搬送する前段搬送装置17側に
構成されている(又はこの前段搬送装置17に構成して
もよい)。More specifically, the cutting device 14 is configured at a position facing the sub-vacuum plate 13 when the rear end of the laminate film IB is fed to the cutting position. Cutting device 14
is configured on the front-stage conveyance device 17 side that conveys the insulating group Fi11 (or may be configured on this front-stage conveyance device 17).
切断装置14は、メインバキュームプレート10で連続
的に供給される積層体フィルムIBを絶縁性基板11の
寸法に対応して所定の長さに切断するように構成されて
いる。The cutting device 14 is configured to cut the laminate film IB continuously supplied by the main vacuum plate 10 into a predetermined length corresponding to the dimensions of the insulating substrate 11.
前記第1図及び第2図に示すメインバキュームプレート
10の仮付部10Eで絶縁性基板11の導電層上に先端
部が仮り付け(仮熱圧着)される積層体フィルムIBは
、熱圧着ローラ16でその全体が熱圧着ラミネートされ
るように構成されている。熱圧着ローラ16は、積層体
フィルムIBの先端部を仮付部10Eで仮り付けする仮
付動作時には、第1図に点線で示す待避位置に配置され
ている。待避位置に配置された熱圧着ローラ16(1)
は、仮付動作時に、仮付位置に近接動作した仮付部10
Eと接触しないように構成されている9仮付部作後の熱
圧着ローラ16は、符号16(1)を付けた点線で示す
待避位置から、符号16(2)を付けた実線で示す仮付
位置まで移動するように構成されている。仮付位置に移
動した熱圧着ローラ16(2)は、積層体フィルムIB
を介在して絶縁性基板11を挟持するように構成されて
いる。The laminate film IB whose tip end is temporarily bonded (temporarily thermocompression bonded) onto the conductive layer of the insulating substrate 11 at the temporary attachment portion 10E of the main vacuum plate 10 shown in FIGS. 1 and 2 is a thermocompression roller. The entire structure is laminated by thermocompression at step 16. The thermocompression roller 16 is disposed at a retracted position shown by a dotted line in FIG. 1 during a tacking operation for tacking the leading end of the laminate film IB at the tacking portion 10E. Thermocompression roller 16 (1) placed in the retracted position
, the tacking part 10 moves close to the tacking position during the tacking operation.
The thermocompression bonding roller 16 after the 9 tacking section, which is configured so as not to come into contact with E, moves from the retracted position shown by the dotted line labeled 16(1) to the temporary bonding roller 16 shown by the solid line labeled 16(2). It is configured to move to the attached position. The thermocompression roller 16 (2) that has moved to the tacking position presses the laminate film IB.
The structure is such that the insulating substrate 11 is sandwiched therebetween.
前記切断装置14で切断された積層体フィルムIBの後
端部は、三角形状の回転バキュームプレート15でしわ
等を生じないようにガイドされ、熱圧着ローラ16で熱
圧着ラミネートされるように構成されている。回転バキ
ュームプレート15は、熱圧着ローラ16と同一軸に支
持されかつそれを中心に回転するように構成されており
、図示していないが、積層体フィルムIBと対向する吸
着面には。The rear end of the laminate film IB cut by the cutting device 14 is guided by a triangular rotating vacuum plate 15 to prevent wrinkles, etc., and is laminated by thermocompression bonding by a thermocompression roller 16. ing. The rotary vacuum plate 15 is supported coaxially with the thermocompression roller 16 and is configured to rotate around it, and has a suction surface facing the laminate film IB (not shown).
複数の吸引孔15Aが設けられている。前記吸着孔15
Aが配設された吸着面の構造は、メインバキュームプレ
ート10の吸着面と同様の構造になっている。図示しな
いが、回転バキュームプレート15の上面にも吸引孔を
設けてもよく、このように構成することにより、第2図
に示すように、たるみを持たせた積層体フィルムIB’
をより形成し易くすることができる。A plurality of suction holes 15A are provided. The suction hole 15
The structure of the suction surface on which A is arranged is similar to the suction surface of the main vacuum plate 10. Although not shown, a suction hole may also be provided on the upper surface of the rotary vacuum plate 15, and by configuring it in this way, as shown in FIG.
can be made easier to form.
前記絶縁性基板11は、第1図及び第2図に示すように
、駆動搬送ローラ(下段)17Aと遊動搬送ローラ(上
段)17Bとで構成される前段搬送装@17により、薄
膜張付装置の積層体フィルムIBの仮付位置まで搬送さ
れる。As shown in FIGS. 1 and 2, the insulating substrate 11 is transferred to a thin film pasting device by a front-stage conveyance device @17 consisting of a driving conveyance roller (lower stage) 17A and an idle conveyance roller (upper stage) 17B. The laminate film IB is conveyed to the tacking position.
前段搬送装置17には、仮付位置に基板11が搬送され
る前に、当該絶縁性基板11に水(空泡防止剤)を付着
させるための水付着用ウェットローラ装置30が設けら
れている。The pre-stage conveyance device 17 is provided with a water adhesion wet roller device 30 for adhering water (bubble prevention agent) to the insulating substrate 11 before the substrate 11 is conveyed to the temporary attachment position. .
水付看用ウェットローラ装置30は、第3図(第1図に
示す水付着用ウェットローラ装置の下側のウェットロー
ラ部分を上から見た平面図)、第4図(第3図の矢印P
の方向から見た図)及び第5図(第4図のA−A線で切
った断面図)に示すように、熱圧着ローラ1.6(2)
の前段に、一対の下側ウェットローラ31A、上側ウェ
ットローラ31Bが、前段搬送装置17の枠体17Cに
回転自在に取り付けら九でいる6
一対の下側ウェットローラ31A、上側ウェットローラ
31Bは、第6図(斜視図)及び第7図(第6図に示す
水供給孔(排水孔)の配置を説明するための断面図)に
示すように、例えばステンレス、防錆処理アルミニウム
等の錆びにくい金属あるいは硬質プラスチックスからな
る円筒体に複数個の水供給孔32A、32Bが設けられ
た給水パイプ32の表面上にスポンジ等の水を含みやす
い多孔性物質からなる被r!1層33が設けられたもの
である(第5図)。The wet roller device 30 for applying water is shown in FIGS. 3 (a top view of the lower wet roller portion of the wet roller device shown in FIG. P
As shown in FIG. 5 (a cross-sectional view taken along line A-A in FIG.
A pair of lower wet rollers 31A and an upper wet roller 31B are rotatably attached to the frame 17C of the front-stage conveyance device 17 at the front stage of 6. The pair of lower wet rollers 31A and upper wet rollers 31B are As shown in Figure 6 (perspective view) and Figure 7 (cross-sectional view for explaining the arrangement of the water supply holes (drainage holes) shown in Figure 6), rust-resistant materials such as stainless steel and anti-corrosion treated aluminum are used. The surface of the water supply pipe 32, which has a cylindrical body made of metal or hard plastic and has a plurality of water supply holes 32A, 32B, is covered with a cover made of a porous material such as a sponge that easily contains water! One layer 33 is provided (FIG. 5).
そして、前記下側ウェットローラ31Aの給水パイプ3
2に設けられている複数個の水供給孔32A。And the water supply pipe 3 of the lower wet roller 31A
A plurality of water supply holes 32A provided in 2.
32Bは、それぞれ当該給水パイプ32の径方向に水供
給孔32Aと32A、水供給孔32Bと32Bというよ
うに対向して設けられ、一対の水供給孔32Aと一対の
水供給孔32Bとは所定の間隔で位相を90度ずらして
設けられている。32B are provided facing each other in the radial direction of the water supply pipe 32, such as water supply holes 32A and 32A and water supply holes 32B and 32B, and the pair of water supply holes 32A and the pair of water supply holes 32B are provided in a predetermined manner. The phase is shifted by 90 degrees at intervals of .
また、前記下側ウェットローラ31Aの給水パイプ32
は、当該下側ウェットローラ31Aの回転軸31A□、
31A2に設けられている連結装置34.35により着
脱自在に連結されるようになっている。Also, the water supply pipe 32 of the lower wet roller 31A
is the rotating shaft 31A□ of the lower wet roller 31A,
The connecting devices 34 and 35 provided at 31A2 allow the connection to be made detachable.
また、下側ウェットローラ31Aの回転軸31A工は、
駆動搬送ローラ17Aと同期して回転するように同一駆
動源に軸受装置31ALを介して回転自在に接続されて
いる。この軸受袋[31ALは、前段搬送装置17の枠
体17Cに固定ネジにより取り付けられている。In addition, the rotating shaft 31A of the lower wet roller 31A is
It is rotatably connected to the same drive source via a bearing device 31AL so as to rotate in synchronization with the driving conveyance roller 17A. This bearing bag [31AL is attached to the frame 17C of the front-stage conveyance device 17 with a fixing screw.
また、下側ウェットローラ31Aのもう一方の回転軸3
1A2は、軸受袋[31ARによって回転自在に支持さ
れている。この回転軸31八つには、歯車36が取り付
けられている。37はベヤリングである。Also, the other rotating shaft 3 of the lower wet roller 31A
1A2 is rotatably supported by a bearing bag [31AR. Gears 36 are attached to the eight rotating shafts 31. 37 is a bearing.
前記給水パイプ32の下側ウェットローラ31Aの左端
部には給水装置38が設けられ、右端部には排水装置3
9が設けられている。同様に前記上側ウェットローラ3
1Bの給水パイプ32のウェットローラ左端部には、給
水装置38が設けられ、右端部には排水装置39が設け
られている。前記給水装置138及び排水装置39は、
それぞれ前段搬送装置17の枠体17Cに取り付はフレ
ームによって取り付けられている。A water supply device 38 is provided at the left end of the lower wet roller 31A of the water supply pipe 32, and a drainage device 3 is provided at the right end.
9 is provided. Similarly, the upper wet roller 3
A water supply device 38 is provided at the left end of the wet roller of the water supply pipe 32 of 1B, and a drainage device 39 is provided at the right end. The water supply device 138 and the drainage device 39 are
Each of them is attached to the frame body 17C of the front-stage conveyance device 17 by a frame.
そして、前記上側ウェットローラ31Bは、遊動ローラ
であり、その給水パイプ32の両端部には、回転軸31
Bよ及び31B2が設けられており、これらの回転軸3
1B1及び31B2には、それぞれ枠体17Cより軟い
軸受材質からなる軸受(ブツシュ)40が設けられてい
る。この上側ウェットローラ31Bの軸受40は、枠体
17Cに設けられているU字溝41にはめ込まれて1着
脱自在になっている。The upper wet roller 31B is a floating roller, and a rotating shaft 31 is attached to both ends of the water supply pipe 32.
B and 31B2 are provided, and these rotating shafts 3
1B1 and 31B2 are each provided with a bearing (bush) 40 made of a softer bearing material than the frame 17C. The bearing 40 of the upper wet roller 31B is fitted into a U-shaped groove 41 provided in the frame 17C, and is detachable.
また、第4図に示すように、上側ウェットローラ31B
の回転軸31B2の右端には、前記回転軸31A2に取
り付けられている歯車36と噛合する歯車70が取り付
は部材71を介して取り付けられている。Further, as shown in FIG. 4, the upper wet roller 31B
A gear 70 that meshes with the gear 36 attached to the rotating shaft 31A2 is attached to the right end of the rotating shaft 31B2 via a member 71.
これにより、下側ウェットローラ31Aの回転が上側ウ
ェットローラ31Bに伝達されるようになっている。Thereby, the rotation of the lower wet roller 31A is transmitted to the upper wet roller 31B.
次に、給水装置38(排水装置39)の詳細な構成につ
いて説明する。Next, a detailed configuration of the water supply device 38 (drainage device 39) will be explained.
給水装置38(排水装置39)は、第8図(要部断面図
)及び第9図(第8図のB−B線で切った断面拡大図)
に示すように、その支持部材42に給水パイプ32を貫
通させ、○リング43で回転自在に密封されている。そ
して、支持部材42の中央部にダム44が設けられてお
り、このダム44には給水孔(排水孔)45が接続され
、この給水孔45の端部には、給水口(排水口)46が
設けられている。前記ダム44の中に給水パイプ32に
設けられている水供給孔(排水孔)32A又は32Bが
位置するように、給水パイプ32と給水装置38(排水
装置39)の支持部材42が配置されている。The water supply device 38 (drainage device 39) is shown in FIG. 8 (cross-sectional view of main parts) and FIG. 9 (enlarged cross-sectional view taken along line B-B in FIG. 8).
As shown in FIG. 2, the water supply pipe 32 is passed through the support member 42 and rotatably sealed with a ring 43. A dam 44 is provided in the center of the support member 42, a water supply hole (drainage hole) 45 is connected to this dam 44, and a water supply port (drainage hole) 46 is connected to the end of this water supply hole 45. is provided. The water supply pipe 32 and the supporting member 42 of the water supply device 38 (drainage device 39) are arranged so that the water supply hole (drainage hole) 32A or 32B provided in the water supply pipe 32 is located in the dam 44. There is.
次に、前記連結装置34.35の詳細構成について第1
0図乃至第14図を用いて説明する。Next, the detailed configuration of the coupling device 34, 35 will be explained in the first section.
This will be explained using FIGS. 0 to 14.
前記第10図は、連結装置342回転軸31A工及び軸
受装置31ALの部分の要部断面図である。FIG. 10 is a sectional view of the main parts of the coupling device 342, the rotating shaft 31A, and the bearing device 31AL.
前記回転軸31A工側の連結装置34は、第10図に示
すように1回転軸31A□のプーリ51が取り付けられ
ている部分と反対側の端部中央部にガイド溝52が回転
軸31A1と一体に設けられている。この回転軸31A
工には、ガイド溝52の内部からプーリ51方向に回転
軸31Aよと同心円のガイド穴53が設けられている。As shown in FIG. 10, the coupling device 34 on the side of the rotating shaft 31A has a guide groove 52 in the center of the end opposite to the part where the pulley 51 of the one rotating shaft 31A□ is attached to the rotating shaft 31A1. It is installed in one piece. This rotating shaft 31A
A guide hole 53 is provided from inside the guide groove 52 toward the pulley 51 and is concentric with the rotating shaft 31A.
このガイド穴53には例えばコイル等からなるスプリン
グ54を介して連結ガイドバー55が嵌め込まれている
。また、前記回転軸31A、のガイド溝52の部分の所
定位置に長形の貫通孔56が設けられている。この貫通
孔56に摺動自在に嵌め込まれたストッパーピン57が
連結ガイドバー55の所定位置に設けられている(第1
1図)。また。A connecting guide bar 55 is fitted into the guide hole 53 via a spring 54 made of, for example, a coil. Further, a long through hole 56 is provided at a predetermined position in the guide groove 52 of the rotating shaft 31A. A stopper pin 57 that is slidably fitted into this through hole 56 is provided at a predetermined position of the connecting guide bar 55 (first
Figure 1). Also.
第11図に示すように、前記連結ガイドバー55の前記
給水パイプ32側の先端部には、連結突出部材58が連
結ガイドバー55と一体に設けられている。As shown in FIG. 11, a connecting protruding member 58 is provided integrally with the connecting guide bar 55 at the tip end of the connecting guide bar 55 on the water supply pipe 32 side.
また、連結部ffl!34の給水パイプ32側は、第1
2図に示すように、給水パイプ32の端部に設けられて
いる連結部材59の中央部に連結突起部材60が連結部
材59と一体に構成され、その連結突起部材60の中央
部に1回転軸31A1側の連結突出部材58と係合する
連結溝61が設けられている。Also, the connecting partffl! 34 water supply pipe 32 side is the first
As shown in FIG. 2, a connecting protrusion member 60 is integrally formed at the center of the connecting member 59 provided at the end of the water supply pipe 32, and the connecting protrusion member 60 is rotated once at the center of the connecting member 59. A connecting groove 61 that engages with the connecting protruding member 58 on the shaft 31A1 side is provided.
また、回転軸31A2の連結装置35は、第13図及び
第14図に示すように、回転軸31A2の歯車36が取
り付けられている部分と反対側の先端部に連結ガイド溝
62が設けられている。そして、連結ガイド溝62を横
切るように回転軸31A2の径方向に連結部材63が設
けられている。Furthermore, as shown in FIGS. 13 and 14, the coupling device 35 of the rotating shaft 31A2 is provided with a coupling guide groove 62 at the tip of the rotating shaft 31A2 on the opposite side to the part where the gear 36 is attached. There is. A connecting member 63 is provided in the radial direction of the rotating shaft 31A2 so as to cross the connecting guide groove 62.
また、連結装置35の給水パイプ32側は、連結装置3
4と同様に、第12図に示すように、給水パイプ32の
端部に設けられている連結部材59の中央部に連結突起
部材60が連結部材59と一体に構成され、その連結突
起部材60の中央部に1回転軸31A2側の連結部材6
3と係合する連結溝61が設けられている。Further, the water supply pipe 32 side of the coupling device 35 is connected to the coupling device 3
4, as shown in FIG. 12, a connecting protrusion member 60 is integrated with the connecting member 59 at the center of the connecting member 59 provided at the end of the water supply pipe 32. Connecting member 6 on the 1-rotation shaft 31A2 side is located in the center of the
3 is provided with a connecting groove 61 that engages with the connecting groove 3 .
次に、前記連結装置34及び35の動作について簡単に
説明する。Next, the operation of the coupling devices 34 and 35 will be briefly explained.
まず最初に、連結装置35の給水パイプ32側の連結溝
61と、回転軸31A2側の連結部材63とを係合し、
前記回転軸31A1側の連結装置34の連結突起部材6
0をスプリング54に抗して手で押し込み、回転軸31
A1側の連結突出部材58と、給水パイプ32側の連結
溝61とを係合させて手を離す。これにより、給水パイ
プ32が回転軸31A1及び回転軸31A2に確実に連
結され、下側ウェットローラ31Aが装着される。First, the connecting groove 61 on the water supply pipe 32 side of the connecting device 35 and the connecting member 63 on the rotating shaft 31A2 side are engaged,
Connecting projection member 6 of the connecting device 34 on the rotating shaft 31A1 side
0 by hand against the spring 54, and then press the rotating shaft 31
The connecting protruding member 58 on the A1 side is engaged with the connecting groove 61 on the water supply pipe 32 side, and then released. Thereby, the water supply pipe 32 is reliably connected to the rotating shaft 31A1 and the rotating shaft 31A2, and the lower wet roller 31A is attached.
前記下側ウェットローラ31Aを回転軸31A□及び回
転軸31A2から外す時は、前記回転軸31A1側の連
結装置34のストッパーピン57をスプリング54に抗
して手でプーリ51側に移動させて、連結突起部材60
を押し込み、回転軸31A1側の連結突出部材58と、
給水パイプ32側の連結溝61との係合を外し、連結装
置35の給水パイプ32側の連結溝61と、回転軸31
A2側の連結部材63との係合を外す。When removing the lower wet roller 31A from the rotating shaft 31A□ and the rotating shaft 31A2, move the stopper pin 57 of the coupling device 34 on the rotating shaft 31A1 side to the pulley 51 side by hand against the spring 54. Connecting projection member 60
, and connect the connecting protruding member 58 on the rotating shaft 31A1 side.
Disengage the connection groove 61 on the water supply pipe 32 side, and connect the connection groove 61 on the water supply pipe 32 side of the connection device 35 to the rotation shaft 31.
Disengage the connection member 63 on the A2 side.
また、上側ウェットローラ31Bの装着は、前述したよ
うに、給水パイプ32の両端部に設けられている軸受4
0は、前段搬送装置17の枠体17Cに設けられている
U字溝41にはめ込まれて、着脱自在になっているので
、上側ウェットローラ31Bを手で持上げて装着し、外
す時も手で持上げて取り外す。In addition, the upper wet roller 31B is mounted on the bearings 4 provided at both ends of the water supply pipe 32, as described above.
0 is fitted into the U-shaped groove 41 provided in the frame 17C of the front-stage conveyance device 17 and can be attached or detached. Lift and remove.
また、第15図(正面図)及び第16図(第14図のC
−C,Wで切った断面図)に示すように、前記熱圧着ロ
ーラ16(2)の後段に、薄膜が張付けられた基板上の
水を除去するための吸水装置80が回転自在に設けられ
ている。In addition, Fig. 15 (front view) and Fig. 16 (C in Fig. 14)
As shown in the cross-sectional view taken along lines -C and W, a water absorption device 80 is rotatably provided downstream of the thermocompression roller 16(2) to remove water from the substrate on which the thin film is attached. ing.
この吸水装置80は、第15図及び第16図に示すよう
に、下吸水ローラ81Aと上吸水ローラ81Bの一対の
水吸引ローラを備えている。この下吸水ローラ81Aと
上吸水ローラ81Bは、それぞれ、排水孔82Aを有す
る排水パイプ82の表面上にスポンジ等の多孔性物質か
らなる吸水層83が被覆されたものである。その吸水層
83の両端には、排水装置84が設けられている。この
排水装@84は、第8図及び第9図に示す給水装置と同
様の構成になっている。そして、この排水装置84は、
支持部材85に取り付はピン(回転軸となる)86によ
り回転自在に取り付けら九でいる。この支持部材85は
、エアシリンダ87により移動制御される支持フレーム
88に取り付けられている。また、排水パイプ82の排
水装置84の両端部の位置にカラー89を介在してフリ
ーローラ90が設けられている。このフリーローラ90
は、前記下吸水ローラ81Aと上吸水ローラ81Bが熱
圧着ローラ1G(2)の回転に追従して引き込まれると
共に回転させられるようにするためのものである。また
、下吸水ローラ81A、上吸水ローラ81B及びフリー
ローラ90とが一体となって熱圧着ローラ16(2)の
回転に追従して引き込まれた後に、これらをもとの位置
にもどすため、それぞれの支持部材85間に、支持部材
85を引き付ける引張りバネ91が設けられている。As shown in FIGS. 15 and 16, this water absorption device 80 includes a pair of water suction rollers, a lower water absorption roller 81A and an upper water absorption roller 81B. The lower water absorption roller 81A and the upper water absorption roller 81B each have a water absorption layer 83 made of a porous material such as sponge coated on the surface of a drainage pipe 82 having a drainage hole 82A. A drainage device 84 is provided at both ends of the water absorption layer 83. This drainage system @84 has the same structure as the water supply system shown in FIGS. 8 and 9. This drainage device 84 is
It is rotatably attached to the support member 85 by means of a pin 86 (which serves as a rotating shaft). This support member 85 is attached to a support frame 88 whose movement is controlled by an air cylinder 87. Furthermore, free rollers 90 are provided at both ends of the drainage device 84 of the drainage pipe 82 with collars 89 interposed therebetween. This free roller 90
This is to enable the lower water absorption roller 81A and the upper water absorption roller 81B to be drawn in and rotated following the rotation of the thermocompression roller 1G(2). In addition, after the lower water absorption roller 81A, the upper water absorption roller 81B, and the free roller 90 are pulled together following the rotation of the thermocompression roller 16(2), in order to return them to their original positions, each A tension spring 91 that attracts the support members 85 is provided between the support members 85 .
前記排水装置84は、吸引装置により吸引されるように
なっている。The drainage device 84 is configured to be suctioned by a suction device.
このように、前記熱圧着ローラ16(,2)の後段に、
薄膜が張付けられた基板上の水を除去するための吸水装
置80が回転自在に設けられていることにより、絶縁性
基板11に張付けられた積層フィルムIB上に水球跡等
のシミや汚れが発生しないので。In this way, after the thermocompression roller 16 (, 2),
Since the water absorption device 80 for removing water on the substrate to which the thin film is attached is rotatably provided, stains and dirt such as water blob marks occur on the laminated film IB attached to the insulating substrate 11. Because I don't.
露光によるパターン形成の信頼度及び歩留を向上するこ
とができる。The reliability and yield of pattern formation by exposure can be improved.
また、第1図及び第2図に示すように、メインバキュー
ムプレート10の上に、積層体フィルムIBを仮圧着し
た後、積層体フィルムIBをメインバキュームプレート
10から離すためのエア吹き付はノズル100が配置さ
れている。Further, as shown in FIGS. 1 and 2, after the laminate film IB is temporarily pressed onto the main vacuum plate 10, air is blown to separate the laminate film IB from the main vacuum plate 10 using a nozzle. 100 are arranged.
エア吹き付はノズル100は、第17図に示すように、
エア吹き付は速度調整器101を介して圧縮空気発生装
置102に接続され、必要に応じてエア吹き付は速度を
調整するようになっている。For air blowing, the nozzle 100 is as shown in FIG.
The air blower is connected to a compressed air generator 102 via a speed regulator 101, and the speed of the air blower is adjusted as necessary.
前記エア吹き付はノズル100を設ける理由は、絶縁性
基板11に水を塗布して積層体フィルムIBをメインバ
キュームプレート10の先端部に設けられている仮付部
10Eの先端が水にぬれ、かつ水蒸気が仮付部10E及
びメインバキュームプレート10により冷やされて露結
することにより、仮付部10E及びメインバキュームプ
レート10に積層体フィルムIBが付着し、メインバキ
ュームプレート10の移動に追従して、せっかく仮付け
した絶縁性基板11から積層体フィルムIBが剥離して
しまうからである。この剥離を防止するために設けであ
る。The reason why the nozzle 100 is provided for the air blowing is that water is applied to the insulating substrate 11 and the laminate film IB is attached to the main vacuum plate 10 so that the tip of the temporary attaching part 10E, which is provided at the tip of the main vacuum plate 10, gets wet with water. In addition, the water vapor is cooled and condensed by the temporary attachment part 10E and the main vacuum plate 10, so that the laminate film IB adheres to the temporary attachment part 10E and the main vacuum plate 10, and follows the movement of the main vacuum plate 10. This is because the laminate film IB will peel off from the insulating substrate 11 that has been temporarily attached. This is provided to prevent this peeling.
前記第17図において、103はポンプユニット。In FIG. 17, 103 is a pump unit.
104は下側ウェットローラ31A及び上側ウェットロ
ーラ31Bに供給する水の流量を計測する流量調整用流
量計、105は下側ウェットローラ31A及び上側ウェ
ットローラ31Bに供給する水の流量を調整する流量調
整用バルブ、106は吸引流から水を除去するためのト
ラップ、107は水受皿である6また、第17図に示す
ように、下側ウェットローラ31Aが搬送ローラ駆動用
ベルトによって回転され、これにより上側ウェットロー
ラ31Bが回転し、絶縁性基板11が搬送されることに
より回転して絶縁性基板11の表面に水が塗布される。Reference numeral 104 indicates a flow rate adjustment flow meter that measures the flow rate of water supplied to the lower wet roller 31A and upper wet roller 31B, and 105 indicates a flow rate adjustment regulator that adjusts the flow rate of water supplied to the lower wet roller 31A and upper wet roller 31B. 106 is a trap for removing water from the suction flow, and 107 is a water tray. 6 In addition, as shown in FIG. The upper wet roller 31B rotates and the insulating substrate 11 is conveyed, thereby rotating and applying water to the surface of the insulating substrate 11.
その際に余った水は、水受皿107に受は取られ、排水
ホースを通してポンプユニット103に送られるように
なっている。また、熱圧着ローラ16(2)によって絶
縁性基板11と積層体フィルムIB’ が接着される際
に除去される水及び積層体フィルムIB’が接着された
絶縁性基板11に付着している水も水受皿107に受は
取られ、排水ホースを通してポンプユニット103に送
られるようになっている。The remaining water at this time is collected in a water tray 107 and sent to the pump unit 103 through a drainage hose. In addition, water removed when the insulating substrate 11 and the laminate film IB' are bonded by the thermocompression roller 16 (2) and water adhering to the insulating substrate 11 to which the laminate film IB' is bonded. The water is also collected in a water tray 107 and sent to the pump unit 103 through a drainage hose.
また、下側ウェットローラ31A及び上側ウェットロー
ラ31Bへの流量の制御は、第17図に示すように、ポ
ンプユニット103からの水の流量を流量調整用流量計
104で!!!測してから、下側ウェットローラ31A
及び上側ウェットローラ31Bに水を供給し、その供給
される水の流量を流量調整用バルブ105で調整する。Further, the flow rate to the lower wet roller 31A and the upper wet roller 31B is controlled by adjusting the flow rate of water from the pump unit 103 using a flow meter 104, as shown in FIG. ! ! After measuring, lower wet roller 31A
Water is supplied to the upper wet roller 31B, and the flow rate of the supplied water is adjusted by a flow rate adjustment valve 105.
このように、仮付位置に絶縁性基板11及び積層体フィ
ルムIB’ が搬送される前に、水付着用ウェットロー
ラ装置30の下側ウェットローラ31A。In this way, before the insulating substrate 11 and the laminate film IB' are conveyed to the temporary attachment position, the lower wet roller 31A of the wet roller device 30 for water adhesion is removed.
上側ウェットローラ31Bにより、当該絶縁性基板11
に水等の空泡防止剤を付着させ、絶縁性基板11の搬送
方向先端部の表面に、仮付部10Eに当接させて積層体
フィルムIB’の供給方向先端部を仮り付けし、前記仮
付部10Eを絶縁性基板11の表面から離反した後に、
仮り付けされた仮付位置の積層体フィルムIB’ の先
端部に、熱圧着ローラ16(2)を当接し、熱圧着ロー
ラ16(2)を回転させて、前記絶縁性基板11を搬送
すると共に、絶縁性基板1工に積層体フィルムIB’
を張り付けることにより、絶縁性基板11の導電体層表
面と積層体フィルムIB’ をラミネートした際に前記
導電層の表面に微小の凹部に溜った水が空泡を除去する
と共に、積層体フィルムIB’のフォトレジスト(水溶
性の感光性樹脂の場合)を溶かして接着剤の役目をする
ので、導電体層表面と積層体フィルムIB’を密着させ
ると共に、導電体層表面と積層体フィルムIB’ との
接着面に空泡(ボイド)が発生するのを防止することが
できる。The upper wet roller 31B moves the insulating substrate 11
A bubble preventive agent such as water is applied to the surface of the insulating substrate 11 in the feeding direction, and the leading end in the feeding direction of the laminate film IB' is tacked on the surface of the leading end in the conveying direction of the insulating substrate 11 in contact with the tacking part 10E. After separating the temporary attachment part 10E from the surface of the insulating substrate 11,
A thermocompression roller 16 (2) is brought into contact with the tip of the laminate film IB' at the tacking position, and the thermocompression roller 16 (2) is rotated to transport the insulating substrate 11 and , laminated film IB' on one insulating substrate
When the surface of the conductive layer of the insulating substrate 11 and the laminate film IB' are laminated together, water accumulated in minute recesses on the surface of the conductive layer removes air bubbles, and the laminate film Since the photoresist (in the case of water-soluble photosensitive resin) of IB' is melted and acts as an adhesive, the surface of the conductor layer and the laminate film IB' are brought into close contact, and the surface of the conductor layer and the laminate film IB' are bonded. ' It can prevent the formation of voids on the adhesive surface.
これにより、当該絶縁性基板11と積層体フィルムIB
’ との接着性を向上すると共に、プリント基板の配線
の信頼性を向上することができる。As a result, the insulating substrate 11 and the laminate film IB
' It is possible to improve the adhesion with the printed circuit board and also improve the reliability of the wiring on the printed circuit board.
また、積層体フィルムIBのフォトレジスト(感光性樹
脂)としては水溶性のものが好適である。Further, as the photoresist (photosensitive resin) of the laminate film IB, a water-soluble one is suitable.
また、空泡防止剤付着剤としては、水に表面張力調整剤
、銅表面接着剤等を添加して行う場合もある。Further, as the anti-bubble agent adhesive, a surface tension adjusting agent, a copper surface adhesive, etc. may be added to water in some cases.
第1図に示すように、前段搬送装置17には仮付位置よ
りも前の基板搬送経路の近傍(基板先端部検出位置)に
、絶縁性元板11の搬送方向先端部の位置を検出する検
出センサS1が配置されている。As shown in FIG. 1, the front-stage transport device 17 detects the position of the leading end of the insulating base plate 11 in the transport direction near the board transport path (substrate leading edge detection position) before the temporary attachment position. A detection sensor S1 is arranged.
この検出センサS1は、絶縁性基板11の搬送方向先端
部を検出すると、マイクロコンピュータ(CPU)のプ
リセットカウンタの動作を開始させる検出信号を出力す
るように構成されている。プリセットカウンタは、予じ
め人為的に設定された所要寸法を計数すると、絶縁性基
板11の搬送方向先端部を仮付位置に停止させる制御信
号を出力するように構成されている。検出センサS1は
、例えば光電スイッチで構成する。This detection sensor S1 is configured to output a detection signal that starts the operation of a preset counter of a microcomputer (CPU) when detecting the leading end of the insulating substrate 11 in the transport direction. The preset counter is configured to output a control signal to stop the leading end of the insulating substrate 11 in the transport direction at the temporary attachment position when the preset counter counts the required dimension that has been artificially set in advance. The detection sensor S1 is composed of, for example, a photoelectric switch.
また、前段搬送装置17には、前記検出センサS1より
も前の基板搬送経路の近傍(基板後端布検出位置)に、
絶縁性基板11の搬送方向後端部の位置を検出する検出
センサS2が配置されている。Further, in the front-stage conveyance device 17, in the vicinity of the substrate conveyance path before the detection sensor S1 (substrate rear end cloth detection position),
A detection sensor S2 is arranged to detect the position of the rear end of the insulating substrate 11 in the transport direction.
この検出センサS2は、検出センサS1と同様に、絶縁
性基板11の搬送方向後端部を検出すると、CPUのプ
リセットカウンタの動作を開始させる検出信号を出力す
るように構成されている。プリセットカウンタは、予じ
め人為的に設定された所要時間を経過すると、供給方向
後端部の積層体フィルムIBにたるみ部IB’ を形成
し、積層体フィルムIBの切断位置を切断装置14で切
断し、この切断された積層体フィルムIBの供給方向後
端部を絶縁性基板11に熱圧着ラミネートする制御信号
を出力するように構成されている。さらに、プリセット
カウンタは、積層体フィルムIBの供給方向後端部を絶
縁性基板11に熱圧着ラミネートすると共に、熱圧着ロ
ーラ16を仮付位置から待避位置の近傍まで移動させる
制御信号を出力するように構成されている。検出センサ
S2は、検出センサS1と同様に、例えば光電スイッチ
で構成する。Similar to the detection sensor S1, the detection sensor S2 is configured to output a detection signal that starts the operation of a preset counter of the CPU when the rear end of the insulating substrate 11 in the transport direction is detected. The preset counter forms a slack part IB' in the laminate film IB at the rear end in the feeding direction after a preset required time has elapsed, and sets the cutting position of the laminate film IB with the cutting device 14. It is configured to output a control signal for cutting and thermocompression-bonding the rear end portion of the cut laminate film IB in the supply direction to the insulating substrate 11. Further, the preset counter outputs a control signal for laminating the rear end of the laminate film IB in the feeding direction onto the insulating substrate 11 by thermocompression bonding and moving the thermocompression roller 16 from the temporary attachment position to the vicinity of the retreat position. It is composed of The detection sensor S2 is configured with, for example, a photoelectric switch, similarly to the detection sensor S1.
また、搬送ローラ(下段)18Aと搬送ローラ(上段)
18Bとで構成される後段搬送装置18は、薄膜張付装
置の熱圧着ローラ16で積層体フィルムIBが熱圧着ラ
ミネートされた絶縁性基板11を配線パターンを形成す
る露光装置まで搬送するように構成されている。In addition, the conveyance roller (lower stage) 18A and the conveyance roller (upper stage)
18B is configured to transport the insulating substrate 11 on which the laminate film IB is laminated by thermocompression bonding using the thermocompression roller 16 of the thin film pasting device to the exposure device that forms the wiring pattern. has been done.
前記メインバキュームプレート10の仮付部10Eの移
動経路(薄膜供給経路)近傍の装置本体7(又は前段搬
送装置117、或は支持部材12)には、第1図及び第
2図に示すように、薄膜矯正装置19が設けられている
。薄膜矯正装置19は、仮付部10Eに密着させる方向
(矢印G方向)に積層体フィルムIBの供給方向の先端
部を矯正するように構成されている。薄膜矯正装置19
は、積層体フィルムIBの幅方向に延在して設けられた
流体搬送管19Aと、この流体搬送管19Aに複数設け
られた流体吹付孔19Bとで構成されている。As shown in FIGS. 1 and 2, the main vacuum plate 10 is provided in the apparatus main body 7 (or the front conveyance device 117 or the support member 12) near the movement path (thin film supply path) of the temporary attaching portion 10E. , a thin film correction device 19 is provided. The thin film straightening device 19 is configured to straighten the leading end of the laminate film IB in the supply direction in the direction of bringing it into close contact with the temporary attachment portion 10E (direction of arrow G). Thin film correction device 19
is composed of a fluid transport pipe 19A extending in the width direction of the laminate film IB, and a plurality of fluid spray holes 19B provided in the fluid transport pipe 19A.
流体搬送管19Aは、内部が中空に構成されており、常
圧よりも高圧力の流体を流すように構成されている。流
体搬送管19Aの断面形状は、本実施例では略円形状に
構成されているが、これに限定されず、方形状又は楕円
形状に構成してもよい。The fluid transport pipe 19A has a hollow interior and is configured to flow fluid at a pressure higher than normal pressure. Although the fluid transport pipe 19A has a substantially circular cross-sectional shape in this embodiment, the cross-sectional shape is not limited to this, and may be rectangular or elliptical.
流体吹付孔19Bは、積層体フィルムIBを矯正する方
向に流体を吹き付けるように設けられている。The fluid spray holes 19B are provided so as to spray fluid in a direction to straighten the laminate film IB.
薄膜矯正装置19で使用する流体としては、空気を使用
する。また、流体としては、不活性ガス等の気体、水、
油等の液体を用いてもよい。As the fluid used in the thin film correction device 19, air is used. In addition, as a fluid, gas such as inert gas, water,
A liquid such as oil may also be used.
さらに、サブバキュームプレート13の下部吸着部13
bと回転バキュームプレート15との間に供給される積
層体フィルムIB’ に近接した装置本体7(又は前段
搬送装置17.或は支持部材12)には、第1図及び第
2図に示すように、薄膜突出装置2゜が設けられている
。つまり、薄膜突出装置2oは、熱圧着ローラエ6に密
着させる方向(矢印H方向)に前記たるみを持たせた積
層体フィルムIB’ を形成するように構成されている
。薄膜突出装置2oは、積層体フィルムIBの供給幅方
向に延在して設けられた流体搬送管20Aと、この流体
搬送管20Aに複数設けられた流体吹付孔20Bとで構
成されている。Furthermore, the lower suction part 13 of the sub-vacuum plate 13
As shown in FIGS. 1 and 2, the device main body 7 (or the front-stage conveying device 17. or the support member 12) close to the laminate film IB' supplied between the rotary vacuum plate 15 and the A thin film ejection device 2° is provided at . In other words, the thin film ejecting device 2o is configured to form the laminated film IB' with the slack in the direction of bringing it into close contact with the thermocompression roller 6 (in the direction of arrow H). The thin film protruding device 2o includes a fluid transport pipe 20A extending in the supply width direction of the laminate film IB, and a plurality of fluid spray holes 20B provided in the fluid transport pipe 20A.
流体搬送管2OAは、内部が中空に構成されており、常
圧よりも高圧力の流体を流すように構成されている。流
体搬送管20Aの断面形状は1本実施例では略円形状に
構成されているが、流体搬送管19Aと同様に、これに
限定されず、方形状又は楕円形状に構成してもよい。The fluid transport pipe 2OA has a hollow interior and is configured to flow fluid at a pressure higher than normal pressure. In this embodiment, the cross-sectional shape of the fluid transport pipe 20A is approximately circular, but like the fluid transport pipe 19A, the cross-sectional shape is not limited to this, and may be rectangular or elliptical.
流体吹付孔2OBは、積層体フィルムIB’の前記たる
みを前述のように突出させる方向に流体を吹き付けるよ
うに設けられている。The fluid spray holes 2OB are provided so as to spray fluid in a direction that causes the slack of the laminate film IB' to protrude as described above.
薄膜突出装置20で使用する流体としては、薄膜矯正装
置19と同様に、空気を使用する。また、流体としては
、不活性ガス等の気体、水、油等の液体を用いてもよい
。As the fluid used in the thin film ejection device 20, air is used as in the thin film correction device 19. Further, as the fluid, a gas such as an inert gas, or a liquid such as water or oil may be used.
なお5本発明は、薄膜矯正装置19又は薄膜突出装置2
0を、積層体フィルムIBの幅方向に複数設けられた積
層体フィルムIBを前述の如く適正な方向に矯正又は突
出させるように、流体を吹き付ける流体吹付ノズルで構
成してもよい。Note that 5 the present invention is a thin film correction device 19 or a thin film protrusion device 2.
0 may be constituted by a fluid spray nozzle that sprays fluid so that a plurality of laminate films IB provided in the width direction of the laminate film IB are straightened or projected in an appropriate direction as described above.
また、本発明は、pt膜矯正装置工9又は:a膜突出装
置20を、積層体フィルムIBの幅方向に延在して設け
られた吸引管と、この吸引管に複数設けられた積層体フ
ィルムIBを前述の如く適正な方向に矯正又は突出させ
る方向に吸引する吸引孔とで構成してもよい。Further, the present invention provides a suction tube provided extending in the width direction of the laminate film IB, and a plurality of laminates provided in the suction tube. It may also be configured with a suction hole that sucks the film IB in a direction to straighten or project the film IB in an appropriate direction as described above.
また、本発明は、薄膜矯正装置19又は薄膜突出装置2
0を、積層体フィルムIBを前述の如く適正な方向に矯
正又は突出させる突状部材で構成してもよい。Further, the present invention provides a thin film correction device 19 or a thin film protrusion device 2.
0 may be constituted by a protruding member that straightens or protrudes the laminate film IB in an appropriate direction as described above.
また、本発明は、薄膜矯正装置19を薄膜突出装置20
で、若しくは薄膜突出装置20を薄膜矯正装置19で兼
用することも可能である。Further, the present invention provides a thin film correction device 19 with a thin film protruding device 20.
Alternatively, it is also possible to use the thin film straightening device 19 as the thin film ejecting device 20.
前記仮付位置に配置される熱圧着ローラ16(2)と後
段搬送装置18の駆動搬送ローラ18Aとの間の装置本
体7(又は後段搬送装置18)には、第1図及び第2図
に示すように、基板ガイド部材21が設けられている。The apparatus main body 7 (or the rear conveyance device 18) between the thermocompression bonding roller 16(2) disposed at the tacking position and the driving conveyance roller 18A of the rear conveyance device 18 is provided with a structure shown in FIGS. 1 and 2. As shown, a substrate guide member 21 is provided.
基板ガイド部材21は、積層体フィルムIBが熱圧着ラ
ミネートされた絶縁性基板11を。The substrate guide member 21 is an insulating substrate 11 on which a laminate film IB is laminated by thermocompression bonding.
熱圧着ラミネート位置(仮付位置)から搬送ローラ18
A及び18Bの位置までガイドするように構成されてい
る6基板ガイド部材21は、例えば、絶縁性基板11の
搬送方向に延在する棒状部をその搬送幅方向に複数配置
したクシ型形状で構成する。クシ型形状に構成された基
板ガイド部材21は、絶縁性基板11の搬送に際して、
絶縁性基板11との接触面積を小さくし摩擦抵抗を小さ
くできるので、スムーズに絶縁性基板11をガイドする
ことができる。From the thermocompression laminating position (temporary attachment position) to the conveyance roller 18
The six-substrate guide member 21 configured to guide the insulating substrates 11 to the positions A and 18B has, for example, a comb-shaped configuration in which a plurality of rod-shaped portions extending in the transport direction of the insulating substrate 11 are arranged in the transport width direction. do. The substrate guide member 21 configured in a comb shape is configured to
Since the contact area with the insulating substrate 11 can be reduced and the frictional resistance can be reduced, the insulating substrate 11 can be guided smoothly.
なお、本発明は、基板ガイド部材21を網状構造酸は板
状構造で構成してもよい。In addition, in the present invention, the substrate guide member 21 may have a network structure or a plate-like structure.
次に1本実施例の薄膜張付装置による積層体フィルムI
Bの熱圧着ラミネート方法について、第1図及び第2図
を用いて簡単に説明する。Next, a laminate film I produced by the thin film pasting device of this embodiment
The thermocompression lamination method B will be briefly explained using FIGS. 1 and 2.
まず、最初に、第1図及び第2図に示すように。First, as shown in FIGS. 1 and 2.
手作業により、薄膜分離ローラ3で分離された積層体フ
ィルムIBの供給方向の先端部を、サブバキュームプレ
ート13と切断装置14との間に配置する。The leading end of the laminate film IB separated by the thin film separation roller 3 in the feeding direction is manually placed between the sub-vacuum plate 13 and the cutting device 14.
次に、サブバキュームプレート13で積層体フィルムI
Bの先端部を吸着する。積層体フィルムIBの吸着後、
駆動源13Aで積層体フィルムIBの供給経路から離反
する位置にサブバキュームプレート13を移動させ、仮
付部10Eに積層体フィルムIBの先端部を吸着させる
。この時、メインバキュームプレート10及び仮付部1
0Eの吸着動作が行われると共に、薄膜矯正装置19で
積層体フィルムIBを矯正できるので、仮付部10Eに
積層体フィルムIBの先端部を確実に吸着させることが
できる。なお、連続動作が行われている時は、切断装置
14で切断された積層体フィルムIBの先端部が仮付部
10Eに吸着される。Next, the laminate film I is removed using the sub-vacuum plate 13.
Attach the tip of B. After adsorption of the laminate film IB,
The sub-vacuum plate 13 is moved to a position away from the supply path of the laminate film IB by the driving source 13A, and the tip of the laminate film IB is attracted to the temporary attachment part 10E. At this time, the main vacuum plate 10 and the temporary attachment part 1
Since the suction operation of 0E is performed and the laminate film IB can be straightened by the thin film straightening device 19, the leading end of the laminate film IB can be reliably attracted to the temporary attaching portion 10E. Note that when the continuous operation is performed, the leading end of the laminate film IB cut by the cutting device 14 is attracted to the temporary attachment part 10E.
次に、前段搬送装置17の駆動搬送ローラ17A及び遊
動搬送ローラ17Bで絶縁性基板11が搬送される。Next, the insulating substrate 11 is transported by the drive transport roller 17A and the idle transport roller 17B of the pre-stage transport device 17.
そして、絶縁性基板11が仮付位置に搬送される前に、
下側ウェットローラ31A、上側ウェットローラ31B
により、絶縁性基板11の表面に水を塗布する。Then, before the insulating substrate 11 is transported to the temporary attachment position,
Lower wet roller 31A, upper wet roller 31B
By this, water is applied to the surface of the insulating substrate 11.
次に、絶縁性基板11の搬送方向の先端部が、基板先端
部検出位置を通過した時に、検出センサS1が作動し、
その位置が検出される。この検出センサS1の検出信号
は、CPUに入力され、プリセットカウンタを作動させ
る。このプリセットカウンタは、絶縁性基板11の搬送
方向先端部を仮付位置に停止させる、予じめ設定された
所定時間をカウントする。Next, when the leading edge of the insulating substrate 11 in the transport direction passes the substrate leading edge detection position, the detection sensor S1 is activated;
Its position is detected. The detection signal of this detection sensor S1 is input to the CPU and operates a preset counter. This preset counter counts a predetermined time period for stopping the leading end of the insulating substrate 11 in the transport direction at the temporary attachment position.
さらに、検出センサS1の検出信号は、CPUの他のプ
リセットカウンタを作動させる。この他のプリセットカ
ウンタは、絶縁性基板11の搬送方向先端部が基板先端
部検出位置から仮付位置まで搬送される最中に、仮付部
10Eを搬送経路に近接移動させるその開始時間をカウ
ントするように構成されている。Furthermore, the detection signal of the detection sensor S1 operates another preset counter of the CPU. The other preset counter counts the start time of moving the tacking section 10E close to the conveyance path while the leading edge of the insulating substrate 11 in the conveying direction is being conveyed from the substrate tip detection position to the tacking position. is configured to do so.
この状態においては、仮付部10E(メインバキューム
プレート10)は仮付動作の開始位置に位置し、熱圧着
ローラ16は待避位置に配置されるようになっている。In this state, the tacking section 10E (main vacuum plate 10) is located at the start position of the tacking operation, and the thermocompression roller 16 is placed at the retracted position.
仮付動作の開始位置は、上下、夫々の支持部材12が基
板搬送経路に最も近接し停止している状態において、メ
インバキュームプレート10を移動させる駆動源12D
が作動している位置である。The start position of the temporary attachment operation is a state in which the upper and lower support members 12 are stopped closest to the substrate transport path, and the drive source 12D that moves the main vacuum plate 10 is moved.
is the operating position.
次に、基板先端部検出位置から仮付位置まで絶縁性基板
11の搬送方向先端部を搬送中に、仮付部10Eの近接
動作が開始する。この仮付部10Hの近接動作は、前記
他のプリセットカウンタの出力信号に基づき、CPUで
駆動源12Dを制御することにより開始される。Next, while the leading end portion of the insulating substrate 11 in the transport direction is being transported from the substrate leading end detection position to the tacking position, the tacking unit 10E starts approaching. The approaching operation of the temporary attachment part 10H is started by controlling the drive source 12D by the CPU based on the output signal of the other preset counter.
次に、前記プリセットカウンタの出力信号に基づき、絶
縁性基板11の搬送方向先端部が仮付位置に達すると、
絶縁性基板11の搬送が停止される。Next, when the leading end of the insulating substrate 11 in the transport direction reaches the temporary attachment position based on the output signal of the preset counter,
Conveyance of the insulating substrate 11 is stopped.
この絶縁性基板11の停止と実質的に同時、戒はそれよ
りも若干遅れて、絶縁性基板11の導電層上の搬送方向
先端部に、近接移動する仮付部10Eが当接し、仮付部
10Eに吸着された積層体フィルムIBの先端部を仮り
付け(仮熱圧着)する。Substantially at the same time as this stopping of the insulating substrate 11, and a little later than that, the tacking part 10E, which is moving in close contact with the leading end in the conveying direction on the conductive layer of the insulating substrate 11, makes the tacking The tip of the laminate film IB adsorbed to the portion 10E is temporarily attached (temporary thermocompression bonding).
このように、積層体フィルムIBの張付方法において、
前記仮付位置に搬送される前の基板先端部検出位置で絶
縁性基板11の搬送方向先端部を検出し、この検出信号
によって、絶縁性基板11の搬送方向先端部を基板先端
部検出位置から仮付位置まで搬送した後に停止させると
共に、絶縁性基板11の搬送方向先端部を検出位置から
仮付位置まで搬送中に、前記仮付部10Eを基板搬送経
路に近接させ、前記絶縁性基板11の搬送方向先端部を
仮付位置に停止させた後に、前記仮付部10Eで絶縁性
基板11の導電層上に積層体フィルムIBの供給方向先
端部を仮り付したことにより、絶縁性基板11の搬送方
向先端部を基板先端部検出位置から仮付位置まで搬送す
る時間内に、仮付部10Eを搬送経路に近接動作させる
時間の一部を組込ませ、仮付部10Eの近接移動する実
質的な時間(仮付位置において、絶縁性基板11の搬送
方向先端部の停止から仮付動作が終了するまでの時間)
を短縮したので、積層体フィルムIBの張付時間を短縮
することができる。In this way, in the method of pasting the laminate film IB,
The leading edge of the insulating substrate 11 in the conveying direction is detected at the substrate leading edge detection position before being conveyed to the temporary attachment position, and this detection signal causes the leading edge of the insulating substrate 11 in the conveying direction to be moved from the substrate leading edge detection position. After being conveyed to the temporary attachment position, the insulating substrate 11 is stopped, and while the leading end portion of the insulating substrate 11 in the conveyance direction is being conveyed from the detection position to the temporary attachment position, the temporary attachment part 10E is brought close to the substrate conveyance path, and the insulating substrate 11 After stopping the leading end in the conveying direction of the laminate film IB at the temporary attachment position, the leading end in the feeding direction of the laminate film IB is temporarily attached onto the conductive layer of the insulating substrate 11 at the temporary attachment part 10E. A portion of the time for moving the temporary attachment part 10E close to the conveyance path is incorporated into the time period for conveying the leading end in the conveyance direction from the substrate front end detection position to the temporary attachment position. time (time from the stop of the leading end of the insulating substrate 11 in the conveying direction to the completion of the tacking operation at the tacking position)
Since the time required for attaching the laminate film IB can be shortened, the time required for attaching the laminate film IB can be shortened.
この結果、単位時間当りの積層体フィルムIBの張付回
数を増加することができるので、薄膜の張り付けの生産
能力を向」ニすることができる。As a result, the number of times the laminate film IB is pasted per unit time can be increased, so the production capacity for thin film pasting can be improved.
前記仮付部10Eが絶縁性基板11の導電層上の搬送方
向先端部に当接すると、駆動源12Dが作動する。この
動作はCPUに入力され、CPUで仮付動作を所定時間
保持した後に、メインバキュームプレート10及び仮付
部10Eの吸着動作を停止し、駆動g12c及び12D
でメインバキュームプレート10及び仮付部10Eを搬
送経路から離反させる。この離反は、第1図及び第2図
に示す位置に比べてさらに離反する位置に、駆動源12
G及び12Dでメインバキュームプレート10、仮付部
10E及びサブバキュームプレート13を移動させる。When the temporary attachment part 10E comes into contact with the leading end in the conveyance direction on the conductive layer of the insulating substrate 11, the drive source 12D is activated. This operation is input to the CPU, and after holding the tacking operation for a predetermined time, the CPU stops the suction operation of the main vacuum plate 10 and the tacking part 10E, and the drive g12c and 12D
The main vacuum plate 10 and the temporary attachment part 10E are separated from the conveyance path. This separation means that the drive source 12 is placed in a position further away from the position shown in FIGS. 1 and 2.
G and 12D to move the main vacuum plate 10, temporary attachment part 10E, and sub vacuum plate 13.
この移動量は、積層体フィルムIB’ に持たせるたる
み量に比例する。This amount of movement is proportional to the amount of slack that the laminate film IB' has.
次に、点線で示す待避位置から実線で示す仮付位置に熱
圧着ローラ16を移動させ、熱圧着ローラ16を供給方
向先端部が仮り付けされた積層体フィルムIBに当接さ
せる。Next, the thermocompression roller 16 is moved from the retracted position shown by the dotted line to the tacking position shown by the solid line, and the tip of the thermocompression roller 16 in the feeding direction is brought into contact with the tacking laminated film IB.
次に、熱圧着ローラ16で絶縁性基板11を挟持した状
態でそれを回転させることにより、絶縁性基板11の導
電層上に積層体フィルムIBを熱圧着ラミネートする。Next, by rotating the insulating substrate 11 while holding it between thermocompression rollers 16, the laminate film IB is thermocompression laminated onto the conductive layer of the insulating substrate 11.
この時、メインバキュームプレート10、仮付部10E
、サブバキュームプレート13の夫々の吸着動作は停止
しているので、熱圧着ローラ16には、その回転力と、
絶縁性基板11との挟持力とで、積層体フィルムIBが
供給ローラ2から自動的に供給されるようになっている
。At this time, the main vacuum plate 10, temporary attachment part 10E
, the sub-vacuum plates 13 have stopped their adsorption operations, so the thermocompression roller 16 has its rotational force and
Due to the clamping force between the insulating substrate 11 and the insulating substrate 11, the laminate film IB is automatically supplied from the supply roller 2.
次に、積層体フィルムIBが、一定量、熱圧着ラミネー
トされ、第1図に示す基板先端部検出位置において、検
出センサS2で絶縁性基板11の搬送方向後端部が検出
される。基板後端部検出センサS2の検出信号は、CP
Uに入力され、メインバキュームプレート10、サブバ
キュームプレート13、回転バキュームプレート15の
夫々の吸着動作が実質的に同時に開始される。そして、
基板搬送経路から最も離反した位置から駆動源12Gで
支持部材12を移動させ、メインバキュームプレート1
0で積層体フィルムIBを絶縁性基板11側に過剰供給
すると共に、前記第2図に示すように、サブバキューム
プレート13の下部吸着部13bで積層体フィルムIB
の供給方向後端部(切断位置)を切断装置14の切断位
置に一致させる。積層体フィルムIBの供給速度(支持
部材12の移動速度)は、熱圧着ローラ16(2)によ
る熱圧着ラミネート速度(熱圧着ローラ16の周速度)
よりも速く設定されている。Next, a certain amount of the laminate film IB is laminated by thermocompression bonding, and the rear end of the insulating substrate 11 in the transport direction is detected by the detection sensor S2 at the substrate front end detection position shown in FIG. The detection signal of the substrate rear end detection sensor S2 is CP
U is input, and the suction operations of the main vacuum plate 10, sub-vacuum plate 13, and rotary vacuum plate 15 are started substantially simultaneously. and,
The support member 12 is moved by the drive source 12G from the position farthest from the substrate transport path, and the main vacuum plate 1
0, the laminate film IB is excessively supplied to the insulating substrate 11 side, and as shown in FIG.
The rear end in the supply direction (cutting position) of the cutting device 14 is made to coincide with the cutting position of the cutting device 14. The supply speed of the laminate film IB (the moving speed of the support member 12) is the thermocompression lamination speed by the thermocompression roller 16 (2) (the circumferential speed of the thermocompression roller 16).
is set faster than
この状態において、前記積層体フィルムIBは、サブバ
キュームプレート10と回転バキュームプレート15と
の間にたるみを持たせた積層体フィルムIB’ を形成
することができる。このたるみを持たせた積層体フィル
ムIB’の供給方向の両端部は、薄膜矯正装置19の矯
正により、サブバキュームプレート13の下部吸着部1
3b、回転バキュームプレート15の夫々に確実に吸着
させることができる。In this state, the laminate film IB can form a laminate film IB' with slack between the sub-vacuum plate 10 and the rotary vacuum plate 15. By straightening the thin film straightening device 19, both ends of the laminated film IB' with the slack in the supply direction are straightened by the lower suction part 1 of the sub-vacuum plate 13.
3b and the rotary vacuum plate 15, respectively.
次に、切断装置14の切断位置に一致された積層体フィ
ルムIBの供給方向後端部は、切断装置14により、絶
縁性基板11の寸法に対応した所定寸法に切断される。Next, the rear end portion of the laminate film IB in the feeding direction, which is aligned with the cutting position of the cutting device 14, is cut by the cutting device 14 into a predetermined size corresponding to the size of the insulating substrate 11.
そして、積層体フィルムIBの供給方向後端部を熱圧着
ラミネートしながら、基板搬送方向と同一の方向に、熱
圧着ローラ16を移動させる。Then, the thermocompression roller 16 is moved in the same direction as the substrate conveyance direction while thermocompression laminating the rear end portion of the laminate film IB in the feeding direction.
次に、実質的に、積層体フィルムIBの供給方向後端部
を絶縁性基板11の導電層上に回転バキュームプレート
15で熱圧着ラミネートさせる状態まで、熱圧着ローラ
16を絶縁性基板11の搬送と共に移動させる。この熱
圧着ローラ16は、待避位置の近傍まで移動することが
できる。前記回転バキュ−ムプレート15は、熱圧着ロ
ーラ16の回転速度より若干遅い速度で回転し、絶縁性
基板11の導電層上に積層体フィルムIBの後端部を熱
圧着ラミネートする。つまり、回転バキュームプレート
15は。Next, the thermocompression roller 16 is used to convey the insulating substrate 11 until the rear end of the laminate film IB in the supply direction is substantially laminated by thermocompression bonding onto the conductive layer of the insulating substrate 11 using the rotating vacuum plate 15. move with. This thermocompression roller 16 can be moved to the vicinity of the retracted position. The rotary vacuum plate 15 rotates at a speed slightly slower than the rotational speed of the thermocompression roller 16, and laminates the rear end of the laminate film IB onto the conductive layer of the insulating substrate 11 by thermocompression bonding. In other words, the rotating vacuum plate 15.
熱圧着ローラ16の回転速度より若干遅い速度で回転す
ると、熱圧着ローラ16との間の積層体フィルムIBに
適度なテンションを与えることができるので、積層体フ
ィルムIBにしわ等を生じることがなく熱圧着ラミネー
トを行うことができる。By rotating at a speed slightly slower than the rotational speed of the thermocompression roller 16, an appropriate tension can be applied to the laminate film IB between it and the thermocompression roller 16, so that wrinkles etc. do not occur in the laminate film IB. Thermocompression lamination can be performed.
次に、熱圧着ラミネートが終了すると、熱圧着ローラ1
6は、基板搬送経路から離反する方向に待避位置の近傍
から待避位置まで移動する。Next, when the thermocompression bonding lamination is completed, the thermocompression bonding roller 1
6 moves in a direction away from the substrate transport path from near the retreat position to the retreat position.
また1本発明は、前記実施例の絶縁性基板11を予熱し
た後、この絶縁性基板11に積層体フィルムIBを非加
熱圧着ローラで熱圧着ラミネートする薄膜張付装置に適
用することができる。Furthermore, the present invention can be applied to a thin film pasting device that preheats the insulating substrate 11 of the above embodiment and then heat-presses and laminates the laminate film IB onto the insulating substrate 11 using a non-heated pressing roller.
また1本発明は、建築材として使用される化粧板に保護
膜を張り付ける薄膜張付装置に適用することができる。Furthermore, the present invention can be applied to a thin film pasting device for pasting a protective film on a decorative board used as a building material.
(3)発明の詳細
な説明したように1本発明によれば、基板と薄膜との接
着面に空泡が発生するのを防止することができるので、
基板と薄膜との接着性を向上することができる。これに
より、プリント基板の配線の信頼性を向上することがで
きる。(3) Detailed Description of the Invention As described above, according to the present invention, it is possible to prevent air bubbles from forming on the bonding surface between the substrate and the thin film.
Adhesion between the substrate and the thin film can be improved. Thereby, the reliability of the wiring on the printed circuit board can be improved.
第1図は、本発明の一実施例である薄膜張付装置の概略
構成を説明するための説明図、第2図は、前記第1図の
部分拡大構成図、第3図は、前記第1図に示す水付着用
ウェットローラ装置の下側のウェットローラ部分を上か
ら見た平面図。
第4図は、第3図の矢印方向Pから見た平面図。
第5図は、第4図のA−A!で切った断面図、第6図は
、第5図の給水パイプの概略構成を示す斜視図、
第7図は、第6図に示す水供給孔の配置を説明するため
の断面図、
第8図は、第4図の給水装置の要部断面図、第9図は、
第8図のB−B線で切った断面拡大図、
第10図乃至第14図は、連結部材の詳細構成を説明す
るための図、
第15図は、吸水装置の概略構成を説明するための図、
第16図は、第15図のC−C線で切った断面図、
第17図は、本実施例の薄膜張付装置の給排水部の概略
システム構成を説明するための図である。
図中、IB・・・積層体フィルム(薄膜)、7・・・装
置本体、10・・・メインバキュームプレート(薄膜供
給部材)、IOE・・・仮付部、11・・・絶縁性基板
、13・・・サブバキュームプレート(薄膜保持部材)
、14・・・切断装置、15・・・回転バキュームプレ
ート、16・・・熱圧着ローラ、30・・・空泡防止ウ
ェットローラ装置、31A。
31B・・・ウェットローラ、32・・・給水パイプ、
34.35・・・連結装置、80・・・吸水装置、10
0・・・エア吹き付はノズル。FIG. 1 is an explanatory diagram for explaining the schematic configuration of a thin film sticking device that is an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a partially enlarged configuration diagram of FIG. 1, and FIG. FIG. 2 is a plan view of the lower wet roller portion of the water adhesion wet roller device shown in FIG. 1, viewed from above. FIG. 4 is a plan view seen from the arrow direction P in FIG. 3. Figure 5 shows A-A in Figure 4! 6 is a perspective view showing the schematic configuration of the water supply pipe in FIG. 5; FIG. 7 is a sectional view for explaining the arrangement of the water supply holes shown in FIG. 6; The figure is a sectional view of the main parts of the water supply device in Figure 4, and Figure 9 is
An enlarged cross-sectional view taken along line B-B in Figure 8, Figures 10 to 14 are diagrams for explaining the detailed configuration of the connecting member, and Figure 15 is for explaining the schematic configuration of the water absorption device. FIG. 16 is a sectional view taken along line C-C in FIG. 15, and FIG. 17 is a diagram for explaining the schematic system configuration of the water supply and drainage section of the thin film pasting device of this embodiment. . In the figure, IB... Laminated film (thin film), 7... Device main body, 10... Main vacuum plate (thin film supply member), IOE... Temporary attachment part, 11... Insulating substrate, 13...Sub-vacuum plate (thin film holding member)
, 14... Cutting device, 15... Rotating vacuum plate, 16... Thermocompression bonding roller, 30... Bubble prevention wet roller device, 31A. 31B...Wet roller, 32...Water supply pipe,
34.35...Connection device, 80...Water absorption device, 10
0...Air blowing is done through a nozzle.
Claims (5)
させて薄膜の供給方向先端部を仮り付けし、前記仮付部
材を基板表面から離反した後に、仮り付けされた仮付位
置の薄膜の先端部に、圧着ローラを当接し、圧着ローラ
を回転させて、前記基板を搬送すると共に、基板に薄膜
を張り付ける薄膜の張付装置であって、基板搬送路装置
の枠体の前記仮付位置に基板が搬送される前の位置に配
設された、当該基板に空泡防止剤を付着するウェットロ
ーラと、該ウェットローラの内部から表面に向けて空泡
防止剤供給をほぼ均一に供給する手段を設けたことを特
徴とする薄膜張付装置。(1) After bringing a tacking member close to the surface of the tip of the substrate in the conveying direction and tacking the tip of the thin film in the feeding direction, and separating the tacking member from the substrate surface, the tacking position is set. A thin film pasting device that abuts a pressure roller against the tip of the thin film and rotates the pressure roller to transport the substrate and paste the thin film onto the substrate, the thin film pasting device comprising: A wet roller is disposed at a position before the substrate is transported to the temporary attachment position, and the anti-foam agent is applied to the substrate. A thin film pasting device characterized by having a means for uniformly supplying the film.
孔を有するパイプの上に多孔性物質からなる被覆層が設
けられたものからなっていることを特徴とする特許請求
の範囲第1項に記載の薄膜張付装置。(2) The wet roller is comprised of a pipe having a plurality of air bubble prevention agent supply holes and a coating layer made of a porous material provided on top of the pipe. The thin film adhesion device described in 2.
供給孔は、それぞれパイプの径方向に対向して設けられ
、この対向した一対の空泡防止剤供給孔はそれぞれ位相
を90度ずらして所定の間隔で設けられていることを特
徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項に記載の薄膜
張付装置。(3) The plurality of anti-foam supply holes provided in the pipe are respectively provided to face each other in the radial direction of the pipe, and the opposing pairs of anti-foam supply holes are each 90 degrees in phase. The thin film adhesion device according to claim 1 or 2, characterized in that the thin film adhesion devices are provided at predetermined intervals in a staggered manner.
とを特徴とする特許請求の範囲第2項乃至第3項のいず
れか一項に記載の薄膜張付装置。(4) The thin film applying device according to any one of claims 2 to 3, wherein the wet rollers are a pair of upper and lower parts.
設けられていることを特徴とする特許請求の範囲第1項
乃至第4項のいずれか一項に記載の薄膜張付装置。(5) The thin film pasting device according to any one of claims 1 to 4, wherein the wet roller is detachably provided from the main body of the device.
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63082552A JPH01253989A (en) | 1988-04-04 | 1988-04-04 | Film joining device |
EP89105866A EP0336358B1 (en) | 1988-04-04 | 1989-04-04 | Thin film laminating apparatus |
US07/332,903 US4961803A (en) | 1988-04-04 | 1989-04-04 | Thin film laminating method and apparatus |
CA000595675A CA1294200C (en) | 1988-04-04 | 1989-04-04 | Thin film laminating method and apparatus |
AT89105866T ATE131777T1 (en) | 1988-04-04 | 1989-04-04 | DEVICE FOR JOINING THIN FILM |
DE68925141T DE68925141T2 (en) | 1988-04-04 | 1989-04-04 | Device for joining thin films |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63082552A JPH01253989A (en) | 1988-04-04 | 1988-04-04 | Film joining device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01253989A true JPH01253989A (en) | 1989-10-11 |
JPH0587196B2 JPH0587196B2 (en) | 1993-12-15 |
Family
ID=13777662
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63082552A Granted JPH01253989A (en) | 1988-04-04 | 1988-04-04 | Film joining device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01253989A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05185517A (en) * | 1992-01-10 | 1993-07-27 | Somar Corp | Device for sticking film |
-
1988
- 1988-04-04 JP JP63082552A patent/JPH01253989A/en active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05185517A (en) * | 1992-01-10 | 1993-07-27 | Somar Corp | Device for sticking film |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0587196B2 (en) | 1993-12-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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