JPH01250369A - 縮合オキサジンの製法 - Google Patents
縮合オキサジンの製法Info
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
る。
1O−(4−メチル−1−ピペラジニル)−7−オキソ
−2,3−ジヒドロ−78−ピリド(1,2,3−de
l [1,4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸:特
開昭57−46986号公報参照)およびその3− (
S)−異性体(EP−A−0,206,283および特
開昭62−252790号公報参照)は優れた合成抗菌
剤として知られている。
有用な中間体の新しい製造法を見出し本発明を完成した
。
73+ル)2を、R2は水酸基、ハロゲン原子又は置換
スルホニルオキシ基を、Xa、 Xbは各々独立してハ
ロゲン原子を意味する。)で表わされるプロポキシベン
ゼン化合物を閉環することを特徴とする式(式中、R′
、Xa、 Xbは前記の定義に等しい)の化合物の製法
に関する。
エンスルホニルオキシ基(以下、トシルオキシ基または
TsOと略する)、メタンスルホニルオキシ基、トリフ
ルオロメタンスルホニルオキシ基等である。
は、前記公報記載の方法でオフロキサシン又はその光学
活性体に導くことができる。
する。なお原料合成を含めた反応式の例を最終頁に示す
。
ゼン化合物(刈または店)は、塩基性条件下に処理して
閉環することができる。この塩基としては無機塩基、有
機塩基の何れでもよく、無機塩基としては水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化
物、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の
金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム
等の金属炭酸水素塩類を挙げることができる。
、N、N−ジイソプロピルエチルアミン等の三級アルキ
ルアミン類、N、N−ジメチルアニリン、N、N−ジエ
チルアニリン等のジアルキルアニリン類、ピリジン、N
、l/−ジメチルアミノピリジン、N−メチルモルホリ
ン等の複素環アミン類、ナトリウムメトキサイド、ナト
リウムエトキサイド、ナトリウムイソプロポキサイド、
カリウム第三級ブトキサイド等の金属アルコキサイド等
、この他1.8−ジアザビシクロ[5,4,0] ウン
デセン、N−ベンジルトリメチルアンモニウムハイドロ
キサイド等を例示することができる。
ル類、ブタノール類等の低級アルコール類、ジエチルエ
ーテル、テトラハイドロフラン、ジオキサン、l、2−
ジメトキシエタン、2−メトキシエチルエーテル、エチ
レングリコール・ジエチルエーテル等のエーテル類、
N、N−ジメチルホルムアミド、 N、N−ジメチルア
セトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等のアミド類
、ジメチルスルホキサイド、スルホラン等の非プロトン
性極性溶媒等を挙げることができる。
ム、ヨウ化ナトリウム、クラウンエーテル等をプロポキ
シベンゼン化合物に対して1720当量またはそれ以上
を加えるのが有効なことがある。
としては、トシルオキシ基を用いるのが一般的であるが
、この他の例えばメタンスルホニルオキシ基(メシルオ
キシ基)を用いると反応時間が短縮される等、操作性が
改善される場合もあり、トシルオキシ基でなくともよい
。
物の場合は、塩化チオニル、三塩化リン、三臭化リン等
のハロゲン化剤によって水酸基をハロゲン化した後、先
に述べたのと同様の塩基性条件下に閉環させればよいが
、また、1乃至1.5当量程度のミツノブ試薬(0,M
itsunobu、 鉦躬加1旦。
もできる。
エチルエステル、ジメチルエステル、ジプロピルエステ
ル、ジイソプロピルエステル、ジベンジルニスエル等と
トリフェニルホスフィンまたはトリアルキルホスフィン
とから調製できる。
ため、使用する直前に無水条件下に調製するのが好まし
い。
、ジエチルエーテル、テトラハイドロフラン、1.2−
ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒を使用する。この
反応温度は水冷下乃至50℃の範囲でよい。
の閉環反応ではプロポキシ部分の不斉炭素原子での立体
配置が反転する。すなわち、(R)−体のプロポキシベ
ンゼン説導体からは (S)一体のベンゾオキサジン化
合物が生成し、(S)一体のプロポキシベンゼン誘導体
からは (R)一体のベンゾオキサジン化合物が生成す
る。
製法の例について説明する。
Rcは水酸基の保護基を意味する)で表わされる3、4
−ジハロゲノ−6−二トロブロボキシベンゼンの合成で
あるが、式11 %式% (式中、Xa、 XbおよびXcは各々独立にハロゲン
原子を意味する)で表わされる2、3.4−トリハロゲ
ノニトロベンゼンに式■ HOC82CH(にH3)ORCm (式中、Reは水酸基の保護基を意味する)で表わされ
る 1.2−プロパンジオール誘導体を反応させて実施
するか、あるいは式■ (Jl−1 (式中、Xa、およびXbは前記の定義に同じ)で表わ
される2、3−ジハロゲノ−6−二トロフエノールに前
記の式I■で表わされる化合物または式VXdCHxC
H(CHs)ORc V(式中、RCは前記の定義
に等しく、Xdはハロゲン原子又は置換スルホニルオキ
シ基を意味する)で表わされる化合物を反応させて実施
される。
許、 EP−8−0,047,005あるいは米国特許
第4.382,398に記載の方法で合成できる。
実施する。この塩基は無機塩基、有機塩基のいずれでも
よいが、無機塩基としては水素化ナトリウム、水素化カ
ルシウム等の金属水素化物、水酸化リチウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化物、炭酸リチ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の金属炭酸塩類
、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸
水素塩類を挙げることができる。
、N、N−ジイソプロピルエチルアミン等の三級アルキ
ルアミン類、 N、N−ジメチルアニリン、N、N−ジ
エチルアニリン等のジアルキルアニリン類、ピリジン、
N、N−ジメチルアミノピリジン、N−メチルモルホリ
ン等の複素環アミン類、ナトリウムメトキサイド、ナト
リウムエトキサイド、ナトリウムイソプロポキサイド、
カリウム第三級ブトキサイド等の金属アルコキサイド等
、この他1.8−ジアザビシクロ[5,4,0] ウン
デセン、N−ベンジルトリメチルアンモニウムハイドロ
キサイド等を例示することができる。
性な溶媒の存在下に実施してもよい。この様な溶媒の例
としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、n−ヘキサ
ン、サイクロヘキサン、n−ペンタン等の炭化水素類、
メタノール、エタノール、プロパツール類、ブタノール
類等の低級アルコール類、ジエチルエーテル、テトラハ
イドロフラン、ジオキサン、1.2−ジメトキシエタン
等のエーテル類、N、N−ジメチルホルムアミド、N、
N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリド
ン等のアミド類、ジメチルスルホキサイド、スルホラン
等の非プロトン性極性溶媒等を挙げることができる。
:3の範囲であれば充分であり、通常は1:1.1程度
でよい。
150℃の範囲でよい、また反応時間は10分から4日
で完結する。
物IIIを使用すると光学活性な化合物Iを合成するこ
とができる。化合物IIと化合物IIIの反応を塩基性
条件下で実施しても、化合物IIIにはラセミ化は起こ
らないことが確認されている。すなわち、化合物!!!
はその不斉炭素上の立体配置が変化することなく化合物
IIに置換する。化合物IIの(R)一体を用いた場合
には化合物■の (R)一体を、そして (S)一体を
用いた場合には化合物Iの(S)−体を、各々高い光学
純度で得ることができる。
−6−二トロフエノール+Vを使用する方法がある。す
なわち、化合物■に前記の化合物IIIもしくはVを反
応させてもよい。
で実施することができる。
反応させる際、ジエチルエーテル、テトラハイドロフラ
ン、ジオキサン、1.2−ジメトキシエタン等のエーテ
ル系の溶媒の存在下で実施することもできる。
る方法がある。この反応は塩基存在下に実施すればよく
、この塩基は無機、有機の何れでもよい。無機塩基とし
ては水素化ナトリウム、水素化カルシウム等の金属水素
化物、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸リチウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム等の金属炭酸塩類、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩類を挙
げることができる。
、N、N−ジイソプロピルエチルアミン等の三級アルキ
ルアミン類、 N、N−ジメチルアニリン、N、N−ジ
エチルアニリン等のジアルキルアニリン類、ピリジン、
N、N−ジメチルアミノピリジン、N−メチルモルホ
リン等の複素環アミン類、ナトリウムメトキサイド、ナ
トリウムエトキサイド、ナトリウムイソプロポキサイド
、カリウム第三級ブトキサイド等の金属アルコキサイド
等、この他1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]
ウンデセン、N−ベンジルトリメチルアンモニウムハイ
ドロキサイド等を例示することができる。
媒の存在下に実施してもよい。この様な溶媒の例として
は、ベンゼン、トルエン、キシレン、n−ヘキサン、サ
イクロヘキサン、n−ペンタン等の炭化水素類、メタノ
ール、エタノール、プロパツール類、ブタノール類等の
低級アルコール類、ジエチルエーテル、テトラハイドロ
フラン、ジオキサン、1.2−ジメトキシエタン等のエ
ーテル類、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジ
メチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等の
アミド類、ジメチルスルホキサイド、スルホラン等の非
プロトン性極性溶媒等を挙げることができる。
3の範囲であれば充分であり、通常は1:1.l程度で
よい。
実施すればよい。
、ヨウ化ナトリウム、クラウンエーテル等を化合物■に
対し17100〜1当量程度を反応促進剤として加える
のが有効なことがある。
酸もしくはそのエステル体をリチウムアルミニウムハイ
ドライドを用いた還元で得られる他、(参考文献:ザ・
ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエテ
ィー、1984年、第106巻、4916〜22頁)、
本発明者はより簡便なメタルハイドライドの水素化ホウ
素ナトリウムを用いる還元によっても合成が可能である
ことを見いだした。
な保護基で保護しておくのが好ましい。
、メトキシメチル基、ベンジル基、p−メトキシベンジ
ル基、トリフェニルメチル基等を挙げることができる 乳酸もしくはそのエステル体はラセミ体だけでなく、光
学活性体も入手が容易であり、(R)−乳酸あるいはそ
のエステル体からは、(R)−1,2−プロパンジオー
ル誘導体を、(S)−乳酸あるいはそのエステル体から
は (S)−1,2−プロパンジオール誘導体を容易に
得ることができる。そして既に説明した方法に従うこと
で、光学活性な化合物Iの簡便な合成が可能となった。
ンマロネート化反応、C)保護基の除去反応(例えば、
脱THP反応)、d)スルホニル化反応等を組合せて種
々のプロポキシベンゼン説導体を製造することができ、
e)閉環反応の原料とすることができる。
できる6例えば、抽出、再結晶、シリカゲル等を担体と
するクロマトグラフィーまたはそれらの組合せ等である
。
ウム−炭素、白金等の触媒を用いる接触還元(常圧乃至
50kg/cm2)や、ハイドロサルファイドによる還
元、水素化ホウ素ナトリウムと金属塩化物の組合せによ
る還元等で実施できる。
を導入してもよい0例えば、アセチルクロライド、無水
酢酸等によりアセチル基を、トリチルクロライドにより
トリフェニルメチル基を、ジ第三級ブチル・ジカーボネ
ートにより第三級ブトキシカルボニル基を、ベンジルオ
キシカルボニルクロライドによりベンジルオキシカルボ
ニル基を導入できる。これらの保護基は各々に対応する
一般的な方法で除去してアミノ基に戻すことができる。
化合物、例えば化合物■、■、刈等に対して好ましくは
等モル以上の化合物XVIY−CH−C(COO−イ氏
級フルキル)、 XVI(Yは低級ア
ルコキシル基、ハロゲン原子、ジ低級アルキルアミノ基
等を意味する)を用い、無溶媒で両者を100〜180
℃程度に加熱攪拌するか、適当な溶媒中で加熱還流する
ことによって実施できる。
限定されず、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、n
−ヘキサン、サイクロヘキサン、n−ペンタン等の炭化
水素類、メタノール、エタノール、プロパツール類、ブ
タノール類等の低級アルコール類、ジエチルエーテル、
テトラハイドロフラン、ジオキサン、1.2−ジメトキ
シエタン等のエーテル類、N、N−ジメチルホルムアミ
ド、N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−
ピロリドン等のアミド類、ジメチルスルホキサイド、ス
ルホラン等の非プロトン性極性溶媒等を挙げることがで
きる。
で実施すればよい。
応に従って実施すればよいが、例えば脱THP反応の場
合は酸性条件下で室温乃至100℃で処理することによ
って行うことができる。この酸性条件としては例えば、
アルコール系溶媒またはカルボン酸系溶媒中で塩化水素
、臭化水°素、または硫酸で処理する方法、また、プロ
トン系溶媒中ピリジニウム・パラトルエンスルホネート
で処理する方法等を挙げることができる。
ンスルホニルクロライド(トシルクロライド)、メタン
スルホニルクロライド等の置換スルホニル塩化物あるい
は、無水トリフルオロメタンスルホン酸と、脱保護した
化合物とをO乃至100℃程度の温度で処理すればよい
。
トリエチルアミン、トリブチルアミン、N、N−ジイソ
プロピルエチルアミン等の三級アルキルアミン類、N、
N−ジメチルアニリン、 N、N−ジエチルアニリン等
のジアルキルアニリン類、ピリジン、N、N−ジメチル
アミノピリジン、N−メチルモルホリン等の複素環アミ
ン類等、この他1.8−ジアザビシクロ[5,4,Ol
ウンデセン等を例示することができる。
、ジエチルエーテル、テトラハイドロフラン、ジオキサ
ン、1.2−ジメトキシエタン等のエーテル類、 N、
N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトア
ミド、N−メチル−2−ピロリドン等のアミド類、ジク
ロロメタン、クロロホルム、1.2−ジクロロエタン等
を例示することができる。
この実施例に限定されるものではない。
サジン骨格が、r2.3−ジヒドロ−4H−[1,4]
−ベンゾオキサジン、Iと表現されたものもあるが、本
件では「3.4−ジヒドロ−2H−[1,4]ベンゾオ
キサジン」と統一することとする。
を用いて測定した。
ン25.24gおよびdl−カンファー10−スルホン
酸2.9gを水冷下で無水ジエチルエーテル125m1
に溶解し、室温で一夜攪拌した。反応後、ジエチルエー
テル約150m1を加え、エーテル層を飽和重曹水、水
、飽和塩化ナトリウム水の順に洗い、無水硫酸マグネシ
ウムにて乾燥後、溶媒を減圧留去して、標記の化合物を
定量的に得た。
ムハイドライド 10.04gを懸濁させ、水冷攪拌し
ながらこれに、A−1,1で得たエステル52gを無水
ジエチルエーテル150+nlに溶解した溶液を滴下し
、室温で20分、加熱速流しながら2時間、さらに室温
で一夜攪拌した。次いで反応混合物を氷冷し、攪拌下に
水10.04m1115%F水酸化ナトリウム水溶液1
0.04m1及び水30.12m1をこの順に加え、し
ばらく攪拌した後不溶物を濾去した。エーテルをほぼ半
量まで濃縮して無水硫酸マグネシウムで脱水し、エーテ
ルを減圧留去して標記の化合物を定量的に得た。さらに
減圧蒸留して次の反応に用いた。
R(CDCIs )δ: 1.13.1.22(total 3H,each d
、 J=6.5)1x)。
l、 dd、 J−5,5,7Hz)。
8(1)1. m )以上はJ、 Am、 Chem、
Sac、、 108.4918−4922(1984
)に記載の方法に準じて合成した。
m1に溶解し、氷冷攪拌下にアゾジカルボン酸ジエチル
1.36gを滴下し、同温で30分間攪拌した。次いで
2.3−ジフルオロ−6−二トロフエノール(IV。
テ得た2−〇−(テトラヒドロピラン−2−イル)プロ
パン−1,2−ジオール(III、 Re−THP)、
1.01gを無水THF、 5mlに溶解した溶液を滴
下し、室温で一夜攪拌した。
えて振盪後、有機層を分離し、有機層を水、飽和塩化ナ
トリウム水の順に洗った。無水硫酸マグネシウムで乾燥
後溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに付して、標記の化合物1.85gを油状
物質として得た。
トグラフィーにて2個のスポット状に観察される。その
うちの主たるスポットの生成物の’ H−NMRは以下
の通りであり、もう一方の生成物の’ H−NMRもほ
とんど同一であった。
8(5H,I)。
d、 J−5,7,5and9Hz)、 7.65(I
H,ddd、 J=2.5.5.5 and 9)1z
)施仔2:2.3−ジフルオロ−6−アミノ−2−(テ
実施例1で得た化合物1.82gをエタノール50m1
に溶解し、詰パラジウムー炭素、500mgを添加し、
常圧で接触還元に付した(1時間)。反応後、触媒を濾
去し、溶媒を留去して標記の化合物を得た。
ンマロネー) (XVI、 Y−EtO1低級フルキル
−Et、以下、EMMEと略す) 1.24gを無溶媒
で145〜150℃に加熱しながら混合、攪拌した。
1.5時間後、減圧とし、発生するエタノールを除去し
ながらさらに30分間攪拌した。反応混合物を放冷後、
シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製し、テトラ
ヒドロピラニル基が脱離した標記の化合物1.33gを
得た。
たが、ピリジニウムトシレートで処理してT)IP基を
除去し、標記の化合物に話導した。
”)NMR(CDCIs)δ: 1.22−1.46(9H,n+)、 3.55(IH
,d、 J−4,58Z)。
8(2H,m)。
ェニルホスフィン3411I1gを無水THF、5ml
に溶解し、アゾジカルボン酸ジエチル226mgを加え
、水冷下20分間攪拌した。次いで、実施例3で得た化
合物を無水THF、3a+1に溶解して加え、室温で一
夜攪拌した。
ロマトグラフィーに付し、標記の化合物をほぼ定量的に
得た。物理定数は標品と一致した(特開昭60−128
190号公報)。
41(9H,a+)、3.90−4.44(7H,m)
。
S)す≦1エに1吐 実施例3で得た化合物747tagをピリジン2mlに
溶解し、トシルクロライド710mgを加え、水冷下2
4時間、室温で4時間攪拌した。反応後、酢酸エチルと
1規定塩酸を加えて振盪後、有機層を分離し、有機層を
さらに水洗して、無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮乾
固した。残漬をシリカゲルカラムクロマトグラフィに付
して精製し、標記の化合物1.0gを得た。
36(each 3H,each t、 J−7Hz)
。
H,s)。
1. 5ixtet−1ike)。
.76(each 2)!。
,d、 J=14)1z)実施例5で得た化合物79
1mgを無水り閘F、5mlに溶解し、炭酸カリウム2
07mg及び触媒量の18−クラウン−6−エーテルを
加え、80℃で8.5時間攪拌した。反応後、酢酸エチ
ルと水を加えて振盪後、有機層を分離し、有機層を水洗
した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮して得た残漬
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、標記の
化合物の結晶をほぼ定量的に得た。物理定数は標品と一
致した(特開昭60−126190号公報)。
ドロビラン−2−イル)オキシプロピル]オキシ]ベン
ゼン(1,Xa−Xb−F、 Rc−THP)、6.3
5gを無水エタノール60m1に溶解し、ピリジニウム
・トシレート640+agを加えて室温で一夜攪拌した
後、1時間加熱還流した0反応後エタノールを留去し、
残漬に酢酸エチルと1規定塩酸を加えて振盪後、有機層
を分離した。有機層を飽和重曹水および水で洗い、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、油
状の標記の化合物の枢体を得、精製することなく次の反
応に用いた。
H,br d、J−2,5Hz)。
58Z)。
d 7Hz)実施例7で得た化合物3.17gをエタノ
ール45m1に溶解し、5零パラジウム−炭素、780
mgを加え、常温常圧下で接触還元した。反応終了後、
触媒を濾去して溶媒を減圧留去し、残漬にジメチル・メ
トキシメチレンマロネート 2.44g (XVI、
Y−OMe。
減圧下で1時間、再度常圧で1時間加熱攪拌した。放冷
後、反応混合物をシリカゲルクロマトグラフィーに付し
、標題化合物4.0gを得た。
45(LH,d、 J−4,5Hz)。
)。
d、 J−14,5)1z)Rd=Ts、 R=Me) 実施例8で得た化合物2.07gをピリジン4.2a+
1に溶解し、トシルクロライド 1.49gを加え、5
℃前後の外温で3日間攪拌した。反応後、酢酸エチルを
加え、1規定塩酸、飽和重曹水、水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得た残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィに付し、標記の化
合物2.76gを得た。
3)1. s)。
。
4(IH,m)。
80(each 2H。
J”14Hz)実施例9で得た化合物749mgを無
水DMF、5II11に溶解し、炭酸カリウム207B
を加え、80℃で8時間攪拌した6反応後、酢酸エチル
で希釈し、希釈液を水洗して無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。
トグラフィーに付し、標記の化合物455mgを得た。
,d、 J−7H2)、 3.81. 3.85(
each 3H。
。
,q−11ke)。
.6mlに溶解し、トシルクロライド6gを加え、水冷
下4時間、室温で4時間攪拌した。反応後、酢酸エチル
と1規定塩酸を加えて振盪後、有機層を分離し、有機層
を水洗して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減
圧留去して得た残漬をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィに付して精製し、標記の化合物6.52gを得た。
(3H,S)。
8(1)1. m)。
Hz)。
d、J=8Hx)実施例11で得た化合物2.32gを
エタノール50m1に溶解し、繋パラジウムー炭素、I
gを加え、常温常圧で接触還元した(約1時間)。触媒
を濾去し、エタノールを減圧留去して標記の化合物を得
た。
え145〜150℃で常圧下1時間、減圧下1時間加熱
攪拌した。次いで、反応混合物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィに付して標記の化合物1.64gを得た。
MF 5mlに溶解し、炭酸カリウム276mgおよび
触媒量の18−クラウン−6−エーテルを加え、80℃
で一夜加熱攪拌した。反応後、酢酸エチルと水を加えて
振盪後、有機層を分離し、有機層をさらに水洗した。無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を濃縮乾固して得た
残漬をシリカゲルカラムクロマトグラフィに付し、標記
の化合物287mgを得た。
4.043号、米国特許第4,382,892号)。
ジヒドロビラン50.48g及びカンファー10−スル
ホン酸5.8gを無水ジエチルエーテル250a+1に
溶解し、水冷下30分、室温で一夜攪拌した。反応後、
ジエチルエーテル300IIllを加え、飽和重曹水お
よび飽和塩化ナトリウム水で洗い、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後濃縮乾固して、標記の化合物を定量的に得た
。
イドライド20.1gを懸濁させ、水冷、攪拌下に先に
得た0−(テトラヒドロビラン−2−イル)−(S)−
乳酸エチルを無水ジエチルエーテル200LIllに溶
解して滴下した。次いで室温で1時間攪拌し、さらに2
時間加熱還流した。−夜室温で静置後氷冷し、水20.
1ml、15零水酸化ナトリウム水溶液20.1ml、
水61.5mlの順に加えた。不溶物を濾去し、濾液を
無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。得られた残渣
を減圧蒸留し、標記の化合物をジアステレオマーの混合
物として得た。
g、初後留:10.53g、 ’l(−NMRは未習、
初後留ともほぼ同じであった。
、 J=6.5)1x)。
.12(5H,III)。
m)実施例1に準じ、2.3−ジフルオロ−6−ニトロ
フエ/−ル(TV、 Xa−Xb−F)、12.26g
、 2−0−ffトラヒドロビラン−2−イル) −(
S)−プロパン−1,2−ジオール(III−5,Rc
−THP)、11.78gおよびフェノールに対し 1
.3当量のミツノブ試薬より、油状の標記化合物20.
4gをジアステレオマーの混合物として得た。
d、 J−6Hz)。
(5H,l)。
ddd、J−7,9and9.5Hz)、 7.68
(IH,ddd、 J−2,5,5,5and 7H
2)実施例15で得た化合物6.35gおよびピリジニ
ウム・トシレート640mgを用いて、実施例7の方法
に準じ脱THP化し標記の化合物を得た。油状物質(未
精製)。
,d、 J−2,5Hz)。
H,ddd、 J−7,9and9.5Hz)、 7.
75(Ill、 ddd、 J−2,5,5,5and
7Hz)実施例16で得た化合物4.35gを実施例
11の方法に準じて、ピリジン8mlおよびトシルクロ
ライド4.27gでトシル化し、標記の化合物6.98
gを得た。
,d、J−6Hz)、2.42(3H,S)。
(IH,ml。
.5Hz)。
d 7H2)実施例12および実施例14に準じ、2
.3−ジフルオロ−6−ニトロ−[[(512−トシル
オキシプロピル]−オキシ]ベンゼン(XI−5,Xa
=Xb−F、 Rd=Ts) 775a+gより標記の
化合物を280mg得た。機器データは標品と一致(^
ric、 Biol、 Chem、、 51. (5)
、 1265−1270 (19B?))。
1.23g、 2.3−ジヒドロピラン30.28gお
よびカンファーlロースルホン酸3.48gを無水ジエ
チルエーテル150m1に溶解し、水冷下30分、室温
で一夜攪拌した0反応後、ジエチルエーテル180m1
を加え、飽和重曹水、水、飽和塩化ナトリウム水の順に
洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減圧留去し
て、標記の化合物を定量的に得た。油状物質。
.5Hz)。
s)。
4(total IH。
.4.90−5.02(total IH,m) 無水ジエチルエーテル800m1にリチウムアルミニウ
ムハイドライド25.7gを懸濁させ、氷冷攪拌下に、
A−3、1で得た化合物57.09gを無水ジエチルエ
ーテル200m1に溶解した溶液を滴下した0次いで室
温で1時間攪拌し、さらに2時間加熱還流した。室温で
一夜静置後、再度氷冷し、水25.7ml、1銚水酸化
ナトリウム水溶液25.7ml、水77.1mlの順に
加えた。不溶物を濾去し、濾液を無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、溶媒を減圧留去して得た残渣を減圧蒸留し、
標記の化合物をジアステレオマーの混合物として得た。
40.21g 。
.58x)。
t−11ke。
l)。
じ、2.3−ジフルオロ−6−ニトロフエツー/l/
(IV、 Xa−Xb=F)、12.21g、 2−0
−(テトラヒドロピラン−2−イル) −(R)−プロ
パン−1,2−ジオール(III−R,Rc−THP)
、11.78gおよびフェノールに対し1.3当量のミ
ツノブ試薬より 20.49gの標記化合物を得た。油
状物質。
J−6Hz)。
4.44(5H,り。
,ddd、 J−7,9and9.5Hz)、 7.
68(LH,ddd、 J−2,5,5,5and 7
H2)実施例20で得た化合物6.35gから、実施例
7の方法に準じて標記の化合物4.82gを得た。油状
物質。
H,d、 J−2,5)1z)。
,ddd、 J−7,9and9.5Hz)、 7.7
5(IH,ddd、 J=2.5.5.5 and 7
Hz)実施例21で得た化合物4.82gを実施例11
の方法に準じて、ピリジン12m1中トシルクロライド
4.53gを用いてトシル化し、標記化合物6.74g
を得た。
(3H,S)。
5.08(IH,■)。
Hz)。
J−8,5Hz)実施例22で得た化合物581mg
をエタノール20■lに溶解し、5零パラジウム−炭素
、200mgを加え、常温常圧で接触還元した。理論量
の水素の吸収を確認した後、触媒を濾去し溶媒を減圧留
去した。
し、標記の化合物520mgを得た。
(3)1. s)。
(2H,m)。
14(IH,m)。
and 7Hz)。
Hz)。
、 J−8,5Hz)実施例23及び実施例14の方
法に従い、775II1gの2.3−ジフルオロ−6−
ニトロ−[[(R)−(2−パラトルエンスルホニルオ
キシプロビル)]オキシ]ベンゼン(XI−R,Xa−
Xb−F、 Rd−Ts)から標記の化合物282mg
を得た。物理定数は標品のそれと一致した。
5)、 1265−1270(1987)、EP−^−
0.206.283) 2.3−ジフルオロ−6−二トロー[[(R)−2−(
テトラヒドロピラン−2−イル)オキシプロピル]オキ
シ】−ベンゼン(1−R,Xa=Xb−F、 Rc−T
HP)、476mgをエタノール20m1に溶解し、情
パラジウムー炭素200mgを添加し、常温常圧で接触
還元した。理論量の水素の吸収を確認した後、触媒を濾
去し、溶媒を減圧留去して得た残漬をシリカゲルカラム
クロマトグラフィで精製して標記の化合物385rng
をジアステレオマーの混合物として得た。油状物質。
、 J−6Hz)。
2(5)1. m)。
2)1. ddd、 J−2,5゜5.5 and 7
Hz)、 6.72(IH,ddd、 J=7.9 a
nd9.5)1z) R−Et) 実施例25と同様に処理して6.35gの2.3−ジフ
ルオロ−6−二トロー[[(R)−2−(テトラハイド
ロピラン−2−イル)プロピル]オキシ]ベンゼン(I
−R。
フルオロ−6−アミノ−[[(R)−2−(テトラハイ
ドロビラン−2−イル)プロピル]オキシ]ベンゼン(
VI−R,Xa−Xb−F。
4.37gを加え、常圧で150℃に加熱しながら
1.5時間攪拌した。さらに減圧下同温で30分加熱し
た後、無水エタノール60m1及びピリジニウム・トシ
レート640mgを加えて室温で一夜攪拌した。エタノ
ールを留去し残漬を酢酸エチルに溶解して、1規定塩酸
、飽和重曹水、及び飽和塩化ナトリウム水の順に洗った
。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮乾固し
て得た残漬をシリカゲルカラムクロマトグラフィに付し
、標記の化合物5.56gを得た。
H,d、 J−4,5Hz)。
0(2H,at)。
(S)−ジエチル (7,8−ジフルオロ−Xb−
F、 R−Et) 実施例26で得た化合物580mgを、実施例4の方法
に準じ、 1.3当量のミツノブ試薬を用いて閉環反応
に付し、標記の化合物をほぼ定量的に得た。
4(7H,m)。
s)実施例26で得た化合物2.43gを実施例5の方
法に準じ、ピリジン4.5IIlに溶解して、トシルク
ロライド 1.49gを用いてトシル化し、標記の化合
物3.26gを得た。
38(each 3H,each t、J−7Hz
)。
.s)。
5Ixtet−目ke)。
(each 2H。
d、J−14,5Hz)Xb−F、R−Et) 実施例28で得た化合物791mgを炭酸カリウム20
7mg及び触媒量の18−クラウン−6−エーテルを用
いて実施例6に準じた方法で閉環反応に付し、標記の化
合物を定量的に得た。油状物質。
ドロキシプロピル]オキシ]ベンゼン(VIII−R,
Xa−Xb−F)、3.1gをエタノール50m1に溶
解し、596パラジラム−炭素500mgを添加し、常
温常圧で接触還元した。反応終了後、触媒を濾去し溶媒
を減圧留去して得た残漬をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィで精製し、標記の化合物2.47gを得た。
4.30(6H,m)。
7Hz)。
.5Hz)七呈吐 実施例21の方法で得た化合物9.30gより実施例8
の方法に準じて、標題化合物11.92gを得た。
4(IH,d、J−4,5H2)。
。
H,d、 J−14,58Z)例32: 2,3−ジ
フルオロ−6−(2,2−ジメトキシ実施例31で得た
化合物10.36gより、実施例5に準じた方法によっ
て、標記の化合物13.52gを得た。
41(31(、S)。
s)。
6(IH,m)。
.85(each 2)1゜each d、 J=8H
z)、 8.46(LH,d、 J−14Hz)■ご工
1士畦 実施例32で得た化合物4.99gより実施例6の方法
に準じて、標記の化合物を3.12g得た。
. 3.85(each 3)1゜each s)、
3.94−4.63(3M、 m)。
(LH,s)独5吐 水素化ナトリウム(8峙) 207mgを脱脂して無水
トルエン4mlに懸濁し、水冷攪拌下にこの懸濁液に2
−〇−テトラヒドロピラニルプロパン−1,2−ジオー
ル(III、 Rc=T)IP) 793mgを無水ト
ルエン3mlに溶解した溶液を滴下し、同温度にて30
分間攪拌した0次いで、2,3.4−トリフルオロニト
ロベンゼン(Il、 Xa=Xb−Xc−F) 793
mgを無水トルエン3mlに溶解した溶液を水冷攪拌下
に滴下し、約5℃の外温で24時間攪拌した。反応後、
氷水と酢酸エチルを加えて振盪し有機層を分離した。有
機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥して溶媒を減圧留
去し、2.3−ジフルオロ−6−ニトロ−[[2−(テ
トラヒドロビラン−2−イル)オキシプロピル]オキシ
コベンゼン(I、 Xa−Xb−F、 Rc=THP)
の組体を定量的に得た。これは精製すること無く、無水
エタノール13.5mlに溶解し、ピリジニウムトシレ
ート 145mgを加え室温で24時間攪拌した後、1
時間加熱還流した。反応後、エタノールを留去し、残留
物を酢酸エチルに溶解して1規定塩酸、5零重曹水およ
び水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を減圧留去して得た残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにて精製し、標題化合物902mg
を油状物質として得た。
,br d。
,m) 。
5Hz)。
d 7Hz)Xa=Xb−F) 水素化ナトリウム720a+gを無水トルエン12ml
に懸濁し、この懸濁液に2−〇−テトラヒドロピラニル
ー(R)−プロパン−1,2−ジオール(III−R,
Rc−THP)、2.88gを無水トルエン 12m1
に溶解した溶液を水冷攪拌下に滴下し、水冷下で30
分間、室温で10分間攪拌した。この溶液を、2,3.
4−トリフルオロニトロベンゼン(II、 Xa−Xb
−Xc−F)、2.86gを無水トルエン12a+1に
溶解した溶液中に水冷下で攪拌しながら滴下し、約5℃
で一夜攪拌した。反応後、氷水とベンゼンを加え振盪後
有機層を分離した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて
乾燥し、溶媒を減圧留去して、2,3−ジフルオロ −
6−ニトロ−[[(R)−2−(テトラヒドロピラン−
2−イル)オキシプロピル]オキシ]ベンゼン(I−R
,Xa=Xb−F、 Rc−THP)の枢体を定量的に
得た。これは精製すること無く、無水エタノール38m
1に溶解し、ピリジニウムトシレート 450mgを加
え1時間加熱還流した。
に溶解し、1規定塩酸、5零重曹水および水で洗浄した
。これを無水硫酸マグネシウムにて乾燥後溶媒を減圧留
去して得た残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにて精製し、油状物質の標題化合物3.20gを得た
。
(18,br d、 J−2,5)1z)。
ddd、 J−7,9and9.5Hz)、 7.75
(11(、ddd、 J・2.5.5.5 and 7
Hz)Xa=Xb−F) 実施例35の方法に準じて2−0−テトラヒドロピラニ
ル−(S)−プロパン−1,2−ジオール(III−5
,Rc−THP)、2.88g及び2,3.4−トリフ
ルオロニトロベンゼン(II、 Xa−Xb=Xc=F
)、2.66gとから油状の標題化合物3.03gを得
た。
H,d、 J−2,5Hz)。
、ddd、 J−7,9and9.5Hz)、 7.
75(IH,ddd、 J=2.5. 5.5 a
nd 7Hz)なお、実施例35及び36で得た化合
物についてはピリジン中で3.5−ジニトロベンゾイル
化後、ダイセル社のキラルセル・OD・カラムを使用し
、エタノールを溶出溶媒とする高速液体カラムクロマト
グラフィーにて各々が単一ピークとして観測され、ラセ
ミ化していないことを確認した。
、156.15g、 2.3−ジヒドロビラン151.
42gおよびカンファー10−スルホン酸17.42g
を無水1.2−ジクロロエタン7501に氷冷下に溶解
し、同温度で一夜攪拌した6反応後、1.2−ジクロロ
エタン90hlを加え、飽和重曹水、水、飽和塩化ナト
リウム水の順に洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。
状物質。
トリウム85.12gを懸濁させ、攪拌下に、^−4,
1で得た化合物をメタノール243m1に溶解した溶液
を内温を30℃以下に保って滴下した。次いで同温度で
メタノール122m1を滴下した。室温で1時間攪拌し
、反応液に水2200m1を加えしばらく攪拌後、有機
層を分離した。水層を1.2−ジクロロエタンで抽出し
て、有機層を合した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶
液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒
を減圧留去して、残渣を減圧蒸留して標記の化合物17
4gを得た。
ものに一致した。
b−F、 R−Et)、3.00gをピリジン15a+
1に溶解し、水冷攪拌下にメタンスルホニルクロライド
1.01gヲ加え、室温で2時間攪拌した。溶媒を減
圧留去し、残留物を1.2−ジクロロエタンにて抽出し
た。抽出液を、IN塩酸、繋炭酸水素ナトリウム水溶液
、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
拌した後、不溶物を濾去した。溶媒を減圧留去し、残留
物をジイソプロピルエーテルで結晶化させた後集めた。
、d、 J−7)1z)。
1(、S)。
−5.35 (1)1. m) 。
H,d、 J=13.5H2)元素分析(%) ’
Cl8)123NO65F2 として計算値 C47
,8985,13N 3.10測定値 C47,84
84,97N 3.02施例38: 2,3−ジフ
ルオロ−6−(2,2−ジェトキシ実施例26と同様に
して得た化合物(X−R,Xa−Xb・F、 R−Et
)、3.0Hgを1.2−ジクロロエタン30m1に溶
解し、水冷攪拌下にトリエチルアミン0.98gを加え
、さらに同温度でメタンスルホニルクロライド 1.0
1gを攪拌下に加えた。室温で2時間攪拌して不溶物を
濾去した。濾液を1.2−ジクロロエタンにて希釈し水
洗後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥した有機層
にシリカゲル1.5gを加え、30分攪拌した後、不溶
物を濾去した。溶媒を減圧留去し、残漬をジイソプロピ
ルエーテルより結晶化後濾取した。標記の化合物3.2
7gを得た。融点、’H−NMRのデータは実施例37
のそれと一致した。
ロ−3−F、 R−Et) 実施例37と同様にして得た化合物3.00gを無水O
MF、 15m1 に溶解し、炭酸カリウム 0.92
gを加え、80℃で2時間攪拌した。溶媒を減圧留去し
、残渣を酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗して無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得た残
漬をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、標記
の化合物2.14gを得た。機器データは標品のそれと
一致した。
ロパツール30m1、 炭酸カリウム0.95gの混合
物を4時間加熱還流した。溶媒を減圧留去し、残渣を1
.2−ジクロロエタンで抽出し、抽出液を水洗して無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得た
残漬をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、標
記の化合物2.17gを得た。
ドロキシプロピル]オキシ]ベンゼン(VIII−R,
Xa−Xb−F)、10.00gをピリジン27m1に
溶解し、水冷攪拌下にメタンスルホニルクロライド5.
41gを4分で滴下し、同温で2分攪拌後、室温で70
分攪拌した。
80ml)にて抽出した。抽出液を、希塩酸、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液、水(いずれも90 allで、
各々2回宛)で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を減圧留去して得られた残漬をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィに付して精製し、油状の標記の化合
物12.4gを得た。
H,s)。
d 9.3)IZ)。
4,9,38Z)実施例41で得た化合物1.58gを
イソプロピルアルコールと酢酸エチルの1=1の混合溶
媒30m1に溶解し、5零パラジウム−炭素520Bを
添加し、常温常圧で接触還元した0反応終了後、触媒を
濾去し溶媒を減圧留去して、2.3−ジフルオロ−6−
アミノ−[(R12−メタンスルホニルオキシプロピル
]−オキシベンゼンの枢体を得る。このものをジメチル
アセトアミド 15m1に溶解し、炭酸カリウム690
+agを加え80℃で48時間攪拌した。溶媒を減圧留
去し、残渣を酢酸エチル(100ml)で抽出し、抽出
液を水洗して(30mlで3回)無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を減圧留去して得た残漬をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、標記の化合物759
Bを得た。機器データは標品のそれと一致した。
Claims (7)
- (1)式A ▲数式、化学式、表等があります▼A (式中、R^1は水素原子又は−CH=C(COO−低
級アルキル)_2を、R^2は水酸基、ハロゲン原子又
は置換スルホニルオキシ基を、Xa、Xbは各々独立し
てハロゲン原子を意味する。)で表わされるプロポキシ
ベンゼン化合物を閉環することを特徴とする式B ▲数式、化学式、表等があります▼B (式中、R^1、Xa、Xbは前記の定義に同じ)で表
わされる化合物の製法 - (2)式Bの化合物がラセミ体または光学活性体である
請求項1記載の製法 - (3)光学活性体が(S)−体である請求項2記載の製
法 - (4)R^1が−CH=C(COOC_2H_5)_2
で、R^2がパラトルエンスルホニルオキシ基で、Xa
およびXbがフッ素原子である請求項1、2または3記
載の製法 - (5)R^1が−CH=C(COOCH_3)_2で、
R^2がパラトルエンスルホニルオキシ基で、Xaおよ
びXbがフッ素原子である請求項1、2または3記載の
製法 - (6)R^1が−CH=C(COOC_2H_5)_2
で、R^2が水酸基で、XaおよびXbがフッ素原子で
ある請求項1、2または3記載の製法 - (7)R^1が−CH=C(COOCH_3)_2で、
R^2が水酸基で、XaおよびXbがフッ素原子である
請求項1、2または3記載の製法
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---|---|---|---|
JP63330030A JP2769174B2 (ja) | 1987-12-28 | 1988-12-27 | 縮合オキサジンの製法 |
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JP33648987 | 1987-12-28 | ||
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JP2769174B2 JP2769174B2 (ja) | 1998-06-25 |
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Family Applications (1)
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002284757A (ja) * | 2001-03-28 | 2002-10-03 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | 光学活性プロポキシニトロベンゼン誘導体の製造方法 |
JP2009221209A (ja) * | 1999-09-08 | 2009-10-01 | Daiichi Sankyo Co Ltd | ベンゾオキサジン誘導体の製造法およびその製造中間体 |
WO2015141765A1 (ja) * | 2014-03-20 | 2015-09-24 | 富士フイルム株式会社 | サラシノールの製造に有用な化合物およびそれらの製造法、サラシノールの製造法、ジオール基の保護方法および脱保護方法、並びにジオール基の保護剤 |
-
1988
- 1988-12-27 JP JP63330030A patent/JP2769174B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JP2009221209A (ja) * | 1999-09-08 | 2009-10-01 | Daiichi Sankyo Co Ltd | ベンゾオキサジン誘導体の製造法およびその製造中間体 |
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WO2015141765A1 (ja) * | 2014-03-20 | 2015-09-24 | 富士フイルム株式会社 | サラシノールの製造に有用な化合物およびそれらの製造法、サラシノールの製造法、ジオール基の保護方法および脱保護方法、並びにジオール基の保護剤 |
JP2015182956A (ja) * | 2014-03-20 | 2015-10-22 | 富士フイルム株式会社 | サラシノールの製造に有用な化合物およびそれらの製造法、サラシノールの製造法、ジオール基の保護方法および脱保護方法、並びにジオール基の保護剤 |
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