JPH01246144A - 高純度酸化ニオブまたは酸化タンタルの製造方法 - Google Patents
高純度酸化ニオブまたは酸化タンタルの製造方法Info
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- JPH01246144A JPH01246144A JP7554088A JP7554088A JPH01246144A JP H01246144 A JPH01246144 A JP H01246144A JP 7554088 A JP7554088 A JP 7554088A JP 7554088 A JP7554088 A JP 7554088A JP H01246144 A JPH01246144 A JP H01246144A
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- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は高純度酸化ニオブまたは酸化タンタルの製造方
法に関する。
法に関する。
更に詳しくは、近年、電子材料用、電子光学材料用の素
子として重用されているLiNb0.、LiTaO3等
の単結晶用原料、あるいは超LSIのゲート電極、配線
材等の高純度金属の原料に適する高純度酸化ニオブまた
は酸化タンタルの製造方法に関する。
子として重用されているLiNb0.、LiTaO3等
の単結晶用原料、あるいは超LSIのゲート電極、配線
材等の高純度金属の原料に適する高純度酸化ニオブまた
は酸化タンタルの製造方法に関する。
(従来の技術)
近年、電子光学分野、マイクロエレクトロニクス分野に
於ける技術の進展は目覚ましく、電子光学部品、電子部
品もより高性能、高aiilが要求され、従ってこれら
に用いられる原料粉体も、従来以上の高純度粉体が要請
されている。酸化ニオブ、酸化タンタルも例外ではなく
、高純度品が要求されているが、簡便かつ安価に製造す
ることは困難である。
於ける技術の進展は目覚ましく、電子光学部品、電子部
品もより高性能、高aiilが要求され、従ってこれら
に用いられる原料粉体も、従来以上の高純度粉体が要請
されている。酸化ニオブ、酸化タンタルも例外ではなく
、高純度品が要求されているが、簡便かつ安価に製造す
ることは困難である。
例えば、金属酸化物の高純度品の製造方法として、分別
沈、澱法、晶析法、溶媒抽出法、イオン交換法、蒸留法
(塩化物、アルコキシド)等が提唱されているが、いず
れも目的とする高純度品を簡便かつ安価に製造する方法
として満足できるものではない。
沈、澱法、晶析法、溶媒抽出法、イオン交換法、蒸留法
(塩化物、アルコキシド)等が提唱されているが、いず
れも目的とする高純度品を簡便かつ安価に製造する方法
として満足できるものではない。
酸化ニオブ、酸化タンタルに於ても、塩化物として蒸留
精製する方法や、ニオブ及びタンタルのフッ酸溶液をM
IBKにより抽出分離する方法が、現在工業的に実用化
されているが、塩化物蒸留法では反応温度が高く収率も
低い上、設備費が高くなり、MrBK抽出法では、分離
比が悪く非常に多くの段数を必要とし、結局設備費が高
くなる。
精製する方法や、ニオブ及びタンタルのフッ酸溶液をM
IBKにより抽出分離する方法が、現在工業的に実用化
されているが、塩化物蒸留法では反応温度が高く収率も
低い上、設備費が高くなり、MrBK抽出法では、分離
比が悪く非常に多くの段数を必要とし、結局設備費が高
くなる。
にIBK抽出法について更に詳しく説明すると、タンタ
ライト、コロンバイト等の鉱石をフッ酸と硫酸の混酸で
分解した後、分解液をろ過して硫酸で濃度を調整し、こ
れをNIBKと接触させ、NIBK相にNbとTaを共
抽出する。
ライト、コロンバイト等の鉱石をフッ酸と硫酸の混酸で
分解した後、分解液をろ過して硫酸で濃度を調整し、こ
れをNIBKと接触させ、NIBK相にNbとTaを共
抽出する。
このとさ、同時に抽出されたFe、 Mn、Si、Al
、Ti、W、Sn等の不純物は、硫酸溶液により洗浄し
、次いで希硫酸により、有機相中からNbを完全に水相
へ剥離し、更に有機相中に残留したTaを水あるいはN
H4F溶液により水相へ剥離する。
、Ti、W、Sn等の不純物は、硫酸溶液により洗浄し
、次いで希硫酸により、有機相中からNbを完全に水相
へ剥離し、更に有機相中に残留したTaを水あるいはN
H4F溶液により水相へ剥離する。
一方、この工程で得られたNb溶液は再度MIBKと接
触させ少量のTaを抽出除去してNbの精製を行うもの
である。
触させ少量のTaを抽出除去してNbの精製を行うもの
である。
この様にして得られたWb水溶液、Ta水溶液はアンモ
ニア水と反応させて水酸化物を沈澱生成後、ろ過、洗浄
、乾燥、焼成して酸化ニオブ、酸化タンタルを得る。
ニア水と反応させて水酸化物を沈澱生成後、ろ過、洗浄
、乾燥、焼成して酸化ニオブ、酸化タンタルを得る。
しかしながら、かかる方法によるときは、酸化ニオブ、
酸化タンタルの純度は高々99.9%程度であり、単結
晶用の原料としては不適切である。
酸化タンタルの純度は高々99.9%程度であり、単結
晶用の原料としては不適切である。
(発明が解決しようとする問題点)
さて、従来の酸化ニオブ、酸化タンタルの製造方法は火
路上述の通りであるが、精製効率が悪いため、不純物元
素を除去するのに抽出操作を何回も繰り返して行ったり
、イオン交換樹脂、キレートlff1脂等と併用した方
法を用いなければならない。
路上述の通りであるが、精製効率が悪いため、不純物元
素を除去するのに抽出操作を何回も繰り返して行ったり
、イオン交換樹脂、キレートlff1脂等と併用した方
法を用いなければならない。
本発明者らは、イオン交換樹脂等を使用することなく、
更に高純度のニオブまたはタンタル酸化物を簡便力2つ
安価に製造する方法について、抽出操作の原点に立ち返
り、有機溶媒を始め、種々検討を重ねた結果、本発明を
完成するに至ったものである。
更に高純度のニオブまたはタンタル酸化物を簡便力2つ
安価に製造する方法について、抽出操作の原点に立ち返
り、有機溶媒を始め、種々検討を重ねた結果、本発明を
完成するに至ったものである。
(問題点を解決するための手段)
即ち、本発明は、ニオブまたはタンタルを含有する溶液
を、抽出溶媒としてトリオクチルホスフィンオキサイド
(以下τOPOという)及び石油系炭化水素希釈剤を使
用し抽出した後、洗浄剤としてフッ化アンモニウムと鉱
酸をp)13〜5に混合調整した溶液を用いて洗浄する
ことを特徴とする高純度酸化ニオブまたは酸化タンタル
の製造方法に関するものである。
を、抽出溶媒としてトリオクチルホスフィンオキサイド
(以下τOPOという)及び石油系炭化水素希釈剤を使
用し抽出した後、洗浄剤としてフッ化アンモニウムと鉱
酸をp)13〜5に混合調整した溶液を用いて洗浄する
ことを特徴とする高純度酸化ニオブまたは酸化タンタル
の製造方法に関するものである。
(作 用)
以下、本発明について詳記する。
ニオブまたはタンタルを含有する溶液は、通常、タンタ
ライl−、コロンバイト、パイロクロア、ストロベライ
ト等の鉱石をボールミルにより粉砕し、フッ酸あるいは
フッ酸と硫酸の混酸を用いて加温下で溶解し、ろ過後、
必要に応じて硫酸を添加し、濃度調整して得られるけれ
ども、ニオブまたはタンタル源として鉱石以外のタンタ
ルぐず、単結晶くず等の廃棄物もリサイクル使用出来る
ことは勿論のこと、硫酸の代わりに硝酸、塩酸等の鉱酸
を使用しても良い。
ライl−、コロンバイト、パイロクロア、ストロベライ
ト等の鉱石をボールミルにより粉砕し、フッ酸あるいは
フッ酸と硫酸の混酸を用いて加温下で溶解し、ろ過後、
必要に応じて硫酸を添加し、濃度調整して得られるけれ
ども、ニオブまたはタンタル源として鉱石以外のタンタ
ルぐず、単結晶くず等の廃棄物もリサイクル使用出来る
ことは勿論のこと、硫酸の代わりに硝酸、塩酸等の鉱酸
を使用しても良い。
溶液中のニオブまたはタンタルの含有量は、特に限定さ
れるものではないが、酸化物換算(Nb20う+Tag
&0.5)で20g/l 〜150g/lが適当である
。フッ酸濃度はニオブとタンタルの対モル比(HF/(
Nb+Ta))で5倍以上を必要とし、硫酸濃度は通常
50g/l〜40(Ig/Iの範囲に調整して使用する
。
れるものではないが、酸化物換算(Nb20う+Tag
&0.5)で20g/l 〜150g/lが適当である
。フッ酸濃度はニオブとタンタルの対モル比(HF/(
Nb+Ta))で5倍以上を必要とし、硫酸濃度は通常
50g/l〜40(Ig/Iの範囲に調整して使用する
。
抽出溶媒としては、TOPO及び石油系炭化水素希釈剤
を使用するが、TOPOの融点は48℃〜52°Cであ
り、使用に際しては加温溶解して希釈し使用する。
を使用するが、TOPOの融点は48℃〜52°Cであ
り、使用に際しては加温溶解して希釈し使用する。
TOPOの濃度は高い程抽出容量は大きくなるが、分相
性が悪くなるため、通常20〜40V/V%で使用する
。
性が悪くなるため、通常20〜40V/V%で使用する
。
石油系炭化水素希釈剤としては、トルエン、キシレン、
シクロヘキサン、ベンゼン、ケロシン、ジエチルベンゼ
ン、シェルゾールAB(シェル化学株式会社、製品)等
が例示されるがこれに限定されるものではない。
シクロヘキサン、ベンゼン、ケロシン、ジエチルベンゼ
ン、シェルゾールAB(シェル化学株式会社、製品)等
が例示されるがこれに限定されるものではない。
抽出はミキサーセトラー、ロータリーディスクカラム、
パルスカラム等の一般的な抽出装置を用いて血流多段式
で連続的に行うことが出来るが、高純度品の製造には、
ミキサーセトラー型が適している。
パルスカラム等の一般的な抽出装置を用いて血流多段式
で連続的に行うことが出来るが、高純度品の製造には、
ミキサーセトラー型が適している。
ニオブまたはタンタルを含有する溶液は、抽出段に定量
供給され、Nb及びTaが有機相に移行させる。 Fe
、 Mn、 Si、 A1. Ti、 W、 Sn等の
不純物の大部分は抽出されずに抽残液として流去される
が、Ia!量の不純物が有機相に残留する0次いでこの
有機溶媒相は、本発明の骨子の洗浄段に供される。
供給され、Nb及びTaが有機相に移行させる。 Fe
、 Mn、 Si、 A1. Ti、 W、 Sn等の
不純物の大部分は抽出されずに抽残液として流去される
が、Ia!量の不純物が有機相に残留する0次いでこの
有機溶媒相は、本発明の骨子の洗浄段に供される。
洗浄剤としては、フッ化アンモニウムと鉱酸をp)13
〜5に混合調整した溶液を用いて、有機溶媒相の不純物
をほぼ完全に水相へ移行させる。
〜5に混合調整した溶液を用いて、有機溶媒相の不純物
をほぼ完全に水相へ移行させる。
不純物がほぼ完全に除去されたNb、 Taを含有する
有機溶媒を、次のNb剥離段に移送し、NH4F溶液に
よりNbを完全に水相へ移行させる。
有機溶媒を、次のNb剥離段に移送し、NH4F溶液に
よりNbを完全に水相へ移行させる。
次いでTaのみを含有する有機溶媒を、Ta@離段に移
送し、N04F溶液により丁aをほぼ完全に水相へ移行
させる。
送し、N04F溶液により丁aをほぼ完全に水相へ移行
させる。
一方、この工程で得られたNb水溶液は、硫酸で濃度調
整した後、再度清浄な有機溶媒と接触させ、この水溶液
中に含有されている少量のTaを完全に有機相へ移行さ
せ、Wbの精製を行う。
整した後、再度清浄な有機溶媒と接触させ、この水溶液
中に含有されている少量のTaを完全に有機相へ移行さ
せ、Wbの精製を行う。
この様にして得られた高純度Nb水溶液またはTa水溶
液は、アンモニア水と反応させ水酸化物として沈澱させ
、ろ過、洗浄、乾燥、焼成して高純度酸化ニオブまたは
酸化タンタルを得る。
液は、アンモニア水と反応させ水酸化物として沈澱させ
、ろ過、洗浄、乾燥、焼成して高純度酸化ニオブまたは
酸化タンタルを得る。
本発明の方法によれば、酸化ニオブ、酸化タンタルの純
度は99.99%のものが得られるが、更に高純度のも
のを所望するならば、本発明の骨子に従って抽出、洗浄
、剥離を繰り返せば良い、また、必要に応じ、イオン交
換樹脂を使用し得ることは勿論である。
度は99.99%のものが得られるが、更に高純度のも
のを所望するならば、本発明の骨子に従って抽出、洗浄
、剥離を繰り返せば良い、また、必要に応じ、イオン交
換樹脂を使用し得ることは勿論である。
参考例1
向流多段式小型ミキサー七トラ−を用いて、第1表に示
した組成の溶液とM IBKを相比0/A・1で抽出段
に導入し、Nb及びTaを有機相へ抽出した。
した組成の溶液とM IBKを相比0/A・1で抽出段
に導入し、Nb及びTaを有機相へ抽出した。
この有機相、を洗浄段、に於いて、80g/l硫酸溶液
を用いて相比0/A・5で洗浄し、水相を抽出段入口に
戻し、有機相を次のNb剥離段に移行させた。
を用いて相比0/A・5で洗浄し、水相を抽出段入口に
戻し、有機相を次のNb剥離段に移行させた。
N b II離段では50g/lの希硫酸を用いて、N
bをほぼ完全に剥離し、Ta剥離段では1モル/lのフ
ッ化アンモニウム溶液を用いてTaを完全にII離した
。
bをほぼ完全に剥離し、Ta剥離段では1モル/lのフ
ッ化アンモニウム溶液を用いてTaを完全にII離した
。
Nb剥離段で剥離したNba0562g/l、τa、o
、3g/lの溶液に硫酸を添加L 、H2SO,250
g/11:調整し、NIBKと相比0/A=1/10で
混合接触させて丁aを有機相へ抽出し、 Nb水溶液を
得た。
、3g/lの溶液に硫酸を添加L 、H2SO,250
g/11:調整し、NIBKと相比0/A=1/10で
混合接触させて丁aを有機相へ抽出し、 Nb水溶液を
得た。
本試験で得られたTa水溶液とNb水溶液を20%アン
モニア水と反応させ、水酸化物として沈澱させ、ろ過、
洗浄、乾燥、焼成して第2表、第3表に示した純度の酸
化ニオブ、酸化タンタルを得た。
モニア水と反応させ、水酸化物として沈澱させ、ろ過、
洗浄、乾燥、焼成して第2表、第3表に示した純度の酸
化ニオブ、酸化タンタルを得た。
参考例2
参考例1で使用したミキサーセトラーと溶液を用いて洗
浄剤をBog/l疏酸溶液に代えて、2M/lNH4F
溶液に硫酸を添加してpi(4,5に調整した溶液を使
用し、同様の操作を行い、第2表、第3表に示した純度
の酸化ニオブ、酸化タンタルを得た。
浄剤をBog/l疏酸溶液に代えて、2M/lNH4F
溶液に硫酸を添加してpi(4,5に調整した溶液を使
用し、同様の操作を行い、第2表、第3表に示した純度
の酸化ニオブ、酸化タンタルを得た。
参考例3
参考例1で使用したミキサーセトラーと溶液を用いて、
抽出溶媒に30V%TOPO+ 70V%シェルゾール
ABを使用して相比0/A=1で抽出段に導入し、Nb
及び丁aを有機相へ抽出した。
抽出溶媒に30V%TOPO+ 70V%シェルゾール
ABを使用して相比0/A=1で抽出段に導入し、Nb
及び丁aを有機相へ抽出した。
この有機相を洗浄段に於いて2%/1NH4F溶液に硫
酸を添加してp)Iを第4表に示すように変化させ、相
比0/^・5で洗浄し、水相を抽出段入口に戻し、有機
相を次のNbl!llAl段に移行させた。
酸を添加してp)Iを第4表に示すように変化させ、相
比0/^・5で洗浄し、水相を抽出段入口に戻し、有機
相を次のNbl!llAl段に移行させた。
Nb剥離段では、114/1NH4Fを用いてNbをほ
ぼ完全に剥離し、Ta剥離段では2%/1N84Fを用
いてTaを完全に剥離した。
ぼ完全に剥離し、Ta剥離段では2%/1N84Fを用
いてTaを完全に剥離した。
Nb剥離段で剥離したNbg05?8g/l、τa20
55g/1(7)溶液に硫酸を添加し、)Il!S0.
250g/lに調整し、清浄なτOPO及びシェルゾー
ルAB有機溶媒と相比0/A=1/10で混合接触させ
てTaを有機相へ抽出し、Nb水溶液を得た。
55g/1(7)溶液に硫酸を添加し、)Il!S0.
250g/lに調整し、清浄なτOPO及びシェルゾー
ルAB有機溶媒と相比0/A=1/10で混合接触させ
てTaを有機相へ抽出し、Nb水溶液を得た。
本試験で得られたTa水溶液とNb水溶液をそれぞれ2
0%アンモニア水と反応させ、沈澱した水酸化物をろ過
、洗浄、乾燥、焼成して第2表、第3表に示した純6度
の酸化ニオブ、酸化タンタルを得た。
0%アンモニア水と反応させ、沈澱した水酸化物をろ過
、洗浄、乾燥、焼成して第2表、第3表に示した純6度
の酸化ニオブ、酸化タンタルを得た。
第1表
第4表
以上第2表、第3表の結果から明らかなように、参考例
3の(3)及び(4)の純度は、99.99%以上を示
し、有機溶媒にM IBKを使用した参考例1及び2に
比較すると、格段に優れた品質を有することが判る。
3の(3)及び(4)の純度は、99.99%以上を示
し、有機溶媒にM IBKを使用した参考例1及び2に
比較すると、格段に優れた品質を有することが判る。
また、参考例3に於て、洗浄液にNH4Fと硫酸の混合
溶液を使用してpHを変動させた結果をみると、p■5
以上では、Si以外の不純物は少ないが、Siの含有量
が多(、AI、 Si等の不純物を極度に嫌う単結晶用
原料としては不適当である。
溶液を使用してpHを変動させた結果をみると、p■5
以上では、Si以外の不純物は少ないが、Siの含有量
が多(、AI、 Si等の不純物を極度に嫌う単結晶用
原料としては不適当である。
一方、p)13以下ではSi含有量は低いが、他の不純
物が多く、単結晶用、高純度金属材料等の原料としては
問題がある。。
物が多く、単結晶用、高純度金属材料等の原料としては
問題がある。。
即ち、抽出溶媒として、TOPO及び石油系炭化水素希
釈剤を使用し抽出した後、洗浄剤としてフッ化アンモニ
ウムと鉱酸をpH3〜5に混合調整した溶液を用いて洗
浄することにより、極めて高純度の酸化ニオブまたは酸
化タンタルが得られるのである。
釈剤を使用し抽出した後、洗浄剤としてフッ化アンモニ
ウムと鉱酸をpH3〜5に混合調整した溶液を用いて洗
浄することにより、極めて高純度の酸化ニオブまたは酸
化タンタルが得られるのである。
(実施例)
以下に本発明の実施例を挙げ更に説明するが、本発明は
これら実施例に限定されるものではない。
これら実施例に限定されるものではない。
実施例1
自流多段式小型ミキサー七トラ−を用いて、τa205
105g/l、 Nbe0512+lsg/1. FI
F68g/l、He504103g/lを含有する溶液
を、有機溶媒として25V%TOPO+75V%ケロシ
ンを使用して相比0/^・2で抽出段に導入し、Taを
有機相へ抽出しなイ この有機相を洗浄段に於いてIM/lNH,F溶液に硫
酸を添加してpHを第5表の如く変化させ、相比0/^
=8で洗浄し、水相は抽出段入口に戻し、有機相を次の
剥離段に移行し、2M/IN+(、IF温溶液用いてT
aを剥離した。
105g/l、 Nbe0512+lsg/1. FI
F68g/l、He504103g/lを含有する溶液
を、有機溶媒として25V%TOPO+75V%ケロシ
ンを使用して相比0/^・2で抽出段に導入し、Taを
有機相へ抽出しなイ この有機相を洗浄段に於いてIM/lNH,F溶液に硫
酸を添加してpHを第5表の如く変化させ、相比0/^
=8で洗浄し、水相は抽出段入口に戻し、有機相を次の
剥離段に移行し、2M/IN+(、IF温溶液用いてT
aを剥離した。
このTa水溶液は、それぞれ20%アンモニア水と反応
させ、水酸化物として沈澱後、ろ過、洗浄、乾燥、焼成
して第5表に示した純度の酸化タンタルを得た。
させ、水酸化物として沈澱後、ろ過、洗浄、乾燥、焼成
して第5表に示した純度の酸化タンタルを得た。
第5表
実a例2
向流多段式小型ミキサーセトラーを用いて、Nb2O,
65g/l 、Ta20524sを含有する溶液を、有
機溶媒として30%τOPO + 70%ジエチルベン
ゼンを使用して、相比0/^=2で抽出段に導入し、N
bを有機相へ抽出した。
65g/l 、Ta20524sを含有する溶液を、有
機溶媒として30%τOPO + 70%ジエチルベン
ゼンを使用して、相比0/^=2で抽出段に導入し、N
bを有機相へ抽出した。
この有機相を洗浄段に於いて3M/lNH.F溶液に硝
酸を添加してpHを第6表の如く変化させ、相比07A
=10で洗浄し、水相は抽出段入口に戻し、有機相を次
の剥離段に移行し、0.3M/lNH4F溶液を用いて
Nbを剥離した。
酸を添加してpHを第6表の如く変化させ、相比07A
=10で洗浄し、水相は抽出段入口に戻し、有機相を次
の剥離段に移行し、0.3M/lNH4F溶液を用いて
Nbを剥離した。
このNb水溶液は、25%アンモニア水と反応させ水酸
化物を沈澱後、ろ過、洗浄、乾燥、焼成して第6表に示
した純度の酸化ニオブを得た。
化物を沈澱後、ろ過、洗浄、乾燥、焼成して第6表に示
した純度の酸化ニオブを得た。
第6表
特許出願人 多木化学株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ニオブまたはタンタルを含有する溶液を、 抽出溶媒としてトリオクチルホスフィンオキサイド及び
石油系炭化水素希釈剤を使用し抽出した後、洗浄剤とし
てフッ化アンモニウムと鉱酸をpH3〜5に混合調整し
た溶液を用いて洗浄することを特徴とする高純度酸化ニ
オブまたは酸化タンタルの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7554088A JPH01246144A (ja) | 1988-03-28 | 1988-03-28 | 高純度酸化ニオブまたは酸化タンタルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7554088A JPH01246144A (ja) | 1988-03-28 | 1988-03-28 | 高純度酸化ニオブまたは酸化タンタルの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01246144A true JPH01246144A (ja) | 1989-10-02 |
JPH0457616B2 JPH0457616B2 (ja) | 1992-09-14 |
Family
ID=13579138
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7554088A Granted JPH01246144A (ja) | 1988-03-28 | 1988-03-28 | 高純度酸化ニオブまたは酸化タンタルの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01246144A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006117460A (ja) * | 2004-10-20 | 2006-05-11 | Taki Chem Co Ltd | 酸化タンタルゾル及びその製造方法 |
JP2008094716A (ja) * | 1998-05-06 | 2008-04-24 | Hc Starck Inc | 気体状マグネシウムを用いる酸化物の還元により製造される金属粉末 |
WO2012132107A1 (ja) * | 2011-03-31 | 2012-10-04 | 三井金属鉱業株式会社 | ニオブの分離精製方法及び製造方法 |
-
1988
- 1988-03-28 JP JP7554088A patent/JPH01246144A/ja active Granted
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008094716A (ja) * | 1998-05-06 | 2008-04-24 | Hc Starck Inc | 気体状マグネシウムを用いる酸化物の還元により製造される金属粉末 |
JP2006117460A (ja) * | 2004-10-20 | 2006-05-11 | Taki Chem Co Ltd | 酸化タンタルゾル及びその製造方法 |
JP4646055B2 (ja) * | 2004-10-20 | 2011-03-09 | 多木化学株式会社 | 酸化タンタルゾル及びその製造方法 |
WO2012132107A1 (ja) * | 2011-03-31 | 2012-10-04 | 三井金属鉱業株式会社 | ニオブの分離精製方法及び製造方法 |
JP2012211048A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-01 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | ニオブの分離精製方法及び製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0457616B2 (ja) | 1992-09-14 |
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