[go: up one dir, main page]

JPH01245487A - digital processing equipment - Google Patents

digital processing equipment

Info

Publication number
JPH01245487A
JPH01245487A JP63069533A JP6953388A JPH01245487A JP H01245487 A JPH01245487 A JP H01245487A JP 63069533 A JP63069533 A JP 63069533A JP 6953388 A JP6953388 A JP 6953388A JP H01245487 A JPH01245487 A JP H01245487A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
data line
line pair
memory cell
complementary data
switch means
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP63069533A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2617510B2 (en
Inventor
Yoichi Sato
陽一 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Hitachi Solutions Technology Ltd
Original Assignee
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi ULSI Engineering Corp, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi ULSI Engineering Corp
Priority to JP63069533A priority Critical patent/JP2617510B2/en
Publication of JPH01245487A publication Critical patent/JPH01245487A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2617510B2 publication Critical patent/JP2617510B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

PURPOSE:To shorten a time required for precharging and to read at high speed by setting the potential of a data line and a common data line to an intermediate potential only by a single precharging operation. CONSTITUTION:During a precharging period, the data lines DO, the inverse of DO to which a memory cell MC is connected are precharged to a source voltage side and the common data lines CD, the inverse CD connected to the data lines DO, the inverse of DO through a column switch are precharged to an earth potential side, thereby, the data lines are connected to the common data lines through the column switch according to the selecting operation of the memory cell MC. Thereby, the selecting operation of the memory cell MC is executed and the potential of the data line and the common data line can be set to the intermediate level according to the capacity ratio thereof only by one precharging operation to attain the high speed in an operation.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体記憶装置を有する半導体集積回路装
置に関し、例えばメモリセルが結合されるデータ線をプ
リチャージする方式のスタティック型RAM(ランダム
・アクセス・メモリ)に利用して有効な技術に関するも
のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device having a semiconductor memory device. This relates to effective technology that can be used for (access memory).

〔従来の技術〕[Conventional technology]

MO8スタティック型RAMにおけるメモリセルは、例
えばゲート・ドレインが交差結合された一対の駆動MO
8FETとその負荷素子とからなるスタティック型クリ
ップフロップ回路と一対の伝送ゲートMO8FETとか
ら構成される。メモリアレイは、マトリックス配置され
る複数のメモリセルとともに複数対の相補データ線を含
み、それぞれの相補データ線には、それと対応されるべ
きメモリセルの入出力端子が結合される。
A memory cell in an MO8 static RAM is, for example, a pair of drive MOs whose gates and drains are cross-coupled.
It consists of a static clip-flop circuit consisting of 8FETs and their load elements, and a pair of transmission gate MO8FETs. The memory array includes a plurality of memory cells arranged in a matrix and a plurality of pairs of complementary data lines, and each complementary data line is coupled to an input/output terminal of a corresponding memory cell.

選択されたメモリセルから出力される読み出し信号は、
上記相補データ線対を介して伝達され、例えば差動MO
8FETを用いたセンスアンプ回路によって増幅される
The read signal output from the selected memory cell is
Transmitted via the complementary data line pair, for example, differential MO
It is amplified by a sense amplifier circuit using 8FETs.

ところで、複数のディジタル回線を1本のディジタル回
線に多重化し、高速伝送を行なうためにスタティック型
RAMを内蔵する多重化装置がある。これらの多重化装
置において、スタティック型RAMは例えば時分割スイ
ッチとして用いられる。このとき、多重化装置の処理能
力は、内蔵するスタティック型RAMのアクセスタイム
によって左右される。そこで、このようなスタテイ、り
型RAMの高速化を図り、多重化装置の処理能力を向上
させる一つの方法として、相補データ線を電源電圧Vc
cのほぼ1/2のレベルにチャージするハーフプリチャ
ージ方式が提案されている。
By the way, there is a multiplexing device that includes a static RAM in order to multiplex a plurality of digital lines into one digital line and perform high-speed transmission. In these multiplexers, static RAMs are used, for example, as time division switches. At this time, the processing capacity of the multiplexing device depends on the access time of the built-in static RAM. Therefore, one way to increase the speed of such a state-type RAM and improve the processing capacity of a multiplexer is to connect complementary data lines to the power supply voltage Vc.
A half precharge method has been proposed in which the battery is charged to a level approximately 1/2 of c.

上記ハーフプリチャージ方式については、■日立製作所
が先に出願したものとして、例えば特開昭61−253
695、特開昭62−143289と特願昭61−13
5909がある。
Regarding the half precharge method mentioned above, ■ Hitachi first applied for the application, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-253.
695, Japanese Patent Application Publication No. 62-143289 and Patent Application No. 61-13
There is 5909.

特開昭61−253695については、非反転信号線D
oを電源電圧Vccレベルに、反転信号線n1を回路の
接地電位GNDレベルにそれぞれプリチャージする。そ
の後、非反転信号線Doと反転信号線DOを短絡(イコ
ライズ)することによって、上記それぞれの信号線をほ
ぼ1/2Vccレベルにしていた。
Regarding JP-A-61-253695, non-inverting signal line D
o is precharged to the power supply voltage Vcc level, and the inverted signal line n1 is precharged to the circuit ground potential GND level. Thereafter, by short-circuiting (equalizing) the non-inverted signal line Do and the inverted signal line DO, the respective signal lines were brought to approximately 1/2 Vcc level.

特開昭62−143289についても、上記と同様なプ
リチャージ動作によって、非反転信号線DOと反転信号
線DOをそれぞれほぼ1/2VCCレベルにしていた。
In JP-A-62-143289, the non-inverted signal line DO and the inverted signal line DO are each brought to approximately 1/2 VCC level by a precharge operation similar to that described above.

特願昭61−135909については、一方の相補デー
タ線Do、DOを電源電圧Vccレベルに、他方の相補
データ線DI、DIを回路の接地電位GNDレベルにそ
れぞれプリチャージする。その後、一方の相補データ線
DO,Doと他方の相補データ線DI、DIを短絡(イ
コライズ)して、それぞれの相補データ線をほぼ1/2
Vccレベルにしていた。このプリチャージ方式の場合
、一対とされる2組の相補データ線の一方の組と他方の
組と間には当初レベル差が生じる。しかしメモリセルの
入出力ノードが結合される各相補データ線の非反転信号
線及び反転信号線はそれぞれ上記イコライズによって同
一のレベルとなる。
In Japanese Patent Application No. 61-135909, one complementary data line Do, DO is precharged to the power supply voltage Vcc level, and the other complementary data line DI, DI is precharged to the circuit ground potential GND level. After that, one complementary data line DO, Do and the other complementary data line DI, DI are short-circuited (equalized), and each complementary data line is approximately halved.
It was set to Vcc level. In the case of this precharge method, there is initially a level difference between one set and the other of the two pairs of complementary data lines. However, the non-inverted signal line and the inverted signal line of each complementary data line to which the input/output nodes of the memory cell are coupled are brought to the same level by the equalization.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかしながら、特開昭61−253695や特開昭62
−143289のようなプリチャージ方式にあっては、
相補データ?mDO1DOを電源電圧Vccと回路の接
地電位にするという第1段階のプリチャージ動作と、相
補データ線DO、D。
However, JP-A-61-253695 and JP-A-62
In case of pre-charge method like -143289,
Complementary data? The first stage precharge operation of setting mDO1DO to the power supply voltage Vcc and the circuit ground potential, and the complementary data lines DO and D.

を短絡するという第2段階のプリチャージ動作とが必要
になる。このとき、上記相補データ線DO。
A second stage precharge operation of short-circuiting is required. At this time, the complementary data line DO.

Doにレベル差が残っている段階でワード線を選択状態
にすると、メモリセルへの不所望な誤書き込みが行われ
る慮れがあるため、上記第1及び第2段階のプリチャー
ジ動作が終了後にワード線の選択動作を行う必要がある
。これによって、ワード線の選択タイミングが遅くなり
、その分確実に動作が遅くなってしまう。
If the word line is set to the selected state while a level difference remains in Do, there is a possibility that an undesired erroneous write to the memory cell will occur. It is necessary to perform a word line selection operation. As a result, the word line selection timing is delayed, and the operation is certainly delayed accordingly.

また、特願昭61−135909に示されたプリチャー
ジ方式において、接地電位GNDにプリチャージされる
相補データ線については、短絡後はぼ1/2Vccレベ
ルになる前にメモリセルの選択を行うとメモリの情報が
破壊され易い。したがってこのプリチャージ方式につい
ても上記プリチャージ方式と同様に充分なイコライズ時
間を採る必要がある。したがって、スタティック型几A
Mの動作は遅くなってしまう。
In addition, in the precharging method shown in Japanese Patent Application No. 61-135909, for the complementary data line that is precharged to the ground potential GND, memory cells are selected before the complementary data line reaches approximately 1/2 Vcc level after short-circuiting. Information in memory is easily destroyed. Therefore, with this precharge method as well, it is necessary to provide sufficient equalization time as in the above precharge method. Therefore, static type A
M's operation becomes slow.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、プリチャージ期間において、メモリセルが結
合されるデータ線を電源電圧側にプリチャージし、カラ
ムスイッチを介して上記データ線に結合される共通デー
タ線を回路の接地電位側にプリチャージしてお(ことに
より、メモリセルの選択動作に伴いカラムスイッチを介
してデータ線と共通データ線が結合されることによって
、データ線及び共通データ線の電位を中間電位に設定で
きる。
That is, during the precharge period, the data line to which the memory cells are coupled is precharged to the power supply voltage side, and the common data line coupled to the data line via the column switch is precharged to the ground potential side of the circuit. (By this means, the data line and the common data line are coupled via the column switch during the selection operation of the memory cell, so that the potentials of the data line and the common data line can be set to an intermediate potential.

〔作用〕[Effect]

上記した手段によれば、1回のプリチャージ動作のみに
よってメモリセルの選択動作とともにデータ線及び共通
データ線の電位がその容量比に従った中間レベルに設定
でき、最も高い感度の動作点でセンスアンプが読み出し
信号の増幅を行うこととなり、動作の高速化が図られる
According to the above means, with only one precharge operation, the memory cell selection operation and the potential of the data line and the common data line can be set to an intermediate level according to their capacitance ratio, and the sense is sensed at the operating point of the highest sensitivity. The amplifier amplifies the read signal, resulting in faster operation.

〔実施例〕〔Example〕

第1図には、この発明が適用されたスタティック型RA
Mが形成される半導体基板(ICCHIP)の一実施例
の平面図が示されている。この実施例のスタティック型
RAMは、特tc制限されないが、1チツプ型のディジ
タル処理装置例えば多重化装置に内蔵される。この多重
化装置を構成する各回路ブロックは、公知の0MO8(
相補型MO8>の集積回路製造技術によって、特に制限
されないが、単結晶シリコンからなる1個の上記半導体
基板上に形成される。
FIG. 1 shows a static type RA to which this invention is applied.
A plan view of an embodiment of a semiconductor substrate (ICCHIP) on which M is formed is shown. The static type RAM of this embodiment is built into a one-chip type digital processing device, such as a multiplexing device, although it is not particularly limited thereto. Each circuit block constituting this multiplexer is a well-known 0MO8 (
Although not particularly limited, it is formed on one of the semiconductor substrates made of single-crystal silicon using complementary integrated circuit manufacturing technology.

第1図において、半導体基板の周辺領域には複数のポン
ディングパッドBPが設けられる。これらのポンディン
グパッドBPは、ボンディングワイヤ等を介して対応す
る外部端子に結合される。
In FIG. 1, a plurality of bonding pads BP are provided in the peripheral area of the semiconductor substrate. These bonding pads BP are coupled to corresponding external terminals via bonding wires or the like.

これらのポンディングパッドBPのいくつかは、半導体
基板の各端部に形成される入出力回路I10の対応する
単位回路に結合される。
Some of these bonding pads BP are coupled to corresponding unit circuits of the input/output circuit I10 formed at each end of the semiconductor substrate.

入出力回路I10は、外部の装置から供給される各種の
入力ディジタル信号を取り込み、多重化装置の対応する
内部回路に伝達する。また、多重化装置の対応する内部
回路から出力される各種の出力ディジタル信号を外部の
装置に送出する。
The input/output circuit I10 takes in various input digital signals supplied from external devices and transmits them to corresponding internal circuits of the multiplexing device. Furthermore, various output digital signals output from corresponding internal circuits of the multiplexing device are sent to external devices.

半導体基板の多くの部分には、多重化装置を構成する演
算論理ユニットや各種の制御ユニットを含む論理回路部
LCが形成される。この実施例のスタティック型RAM
(SRAM)は、上記論理回路部LCに囲まれた所定の
位置に形成される。
A logic circuit section LC including an arithmetic logic unit and various control units constituting a multiplexing device is formed in many parts of the semiconductor substrate. Static RAM of this embodiment
(SRAM) is formed at a predetermined position surrounded by the logic circuit section LC.

このスタティック型RAMは、特に制限されないが、時
分割スイッチいわゆるTIME 5WITCHとして用
いられる。
This static type RAM is used as a time division switch, so-called TIME 5WITCH, although it is not particularly limited.

この実施例では2つのスタティック型RAMSRAMI
 、SRAM2が設け6られる。スタティック型RAM
  SRAM1にデータが書き込まれている期間、スタ
ティック型RAM  SRAM2からはその前の期間に
スタティック型RAMSRAM2に書き込まれたデータ
が読出される。
In this example, there are two static type RAMSRAMI.
, SRAM 2 are provided 6. Static RAM
During a period when data is being written to the SRAM1, data written to the static RAM SRAM2 in the previous period is read from the static RAM SRAM2.

また、その次の期間にスタティック型RAM  SRA
M1からデータが読出されるとともに、スタティック型
几AM  SRAM2に新たなデータが書き込まれる。
Also, in the next period, static RAM SRA
At the same time as data is read from M1, new data is written to static type AM SRAM2.

この様にして入力データ書き込み動作と出力データ読出
し動作が並行して実行される。入力データは、その配列
が変換されて出力される。配列の変換作業は論理回路部
LCにより制御される。その結果、このデジタル処理装
置はタイムスイッチとして動作する。
In this way, the input data write operation and the output data read operation are executed in parallel. The input data is output after its array is converted. The array conversion work is controlled by the logic circuit section LC. As a result, this digital processing device operates as a time switch.

第2図には、第1図のスタティック型R,AMの一実施
例の配置図が示されている。
FIG. 2 shows a layout diagram of an embodiment of the static type R, AM shown in FIG.

第2図において、特に制限されないが、スタティック型
RAMは、2組のメモリアレイM−ARYI及びM−A
RY2をその基本構成とする。メモリアレイM−ARY
I及びM−ARY2の間には、ロウアドレスデコーダR
DCRが配置される。また、ロウアドレスデコーダRD
CRとメモリアレイM−ARYI、2に挿まれてワード
線駆動回路WDI、WD2が配置されている。各メモリ
アレイの下部には、対応するセンスアンプ8A、ライト
アンプWA及びリードアンプRAがそれぞれ配置される
。さらに、これらの各アンプの下部には、対応するデー
タバッファDBがそれぞれ配置される。ロウアドレスデ
コーダRDCR及びワード線駆動回路WDI、WD2の
下部には、制御回路CTLと図示されないアドレス人力
バッファが配置される。
In FIG. 2, although not particularly limited, static RAM includes two sets of memory arrays M-ARYI and M-A
The basic configuration is RY2. Memory array M-ARY
A row address decoder R is provided between I and M-ARY2.
DCR is placed. In addition, row address decoder RD
Word line drive circuits WDI and WD2 are inserted between CR and memory array M-ARYI and 2. A corresponding sense amplifier 8A, write amplifier WA, and read amplifier RA are arranged below each memory array. Further, a corresponding data buffer DB is arranged below each of these amplifiers. A control circuit CTL and an address manual buffer (not shown) are arranged below the row address decoder RDCR and the word line drive circuits WDI, WD2.

メモリアレイM−ARYI及びM−ARY2は、後述す
るように、同図の水平方向に配置されるワード線と垂直
方向に配置される相補データ線及びこれらのワード線と
相補データ線の交点に格子状に配置されるメモリセルに
より構成される。
As will be described later, the memory arrays M-ARYI and M-ARY2 have word lines arranged in the horizontal direction in the figure, complementary data lines arranged in the vertical direction, and grids at the intersections of these word lines and complementary data lines. It is composed of memory cells arranged in a shape.

ロウアドレスデコーダRDCRはワード線、駆動回路を
介して、各メモリアレイを構成するワード線を結合し、
択一的にハイレベルの選択状態とされる。一方、各メモ
リアレイを構成する相補データ線は、対応するセンスア
ンプ8Aを介して対応するライトアンプWA及びリード
アンプRAK結合される。これらのライトアンプWA及
びリードアンプRAは、さらに対応するデータバッファ
DBK結合される。
The row address decoder RDCR connects the word lines forming each memory array via the word line and drive circuit.
Alternatively, it is set to a high level selection state. On the other hand, complementary data lines constituting each memory array are coupled to a corresponding write amplifier WA and read amplifier RAK via a corresponding sense amplifier 8A. These write amplifier WA and read amplifier RA are further coupled to a corresponding data buffer DBK.

スタティック型RAMは、多重化装置に設けられる内部
バスを介してアクセスされる。この内部バスは、n+1
ビットのデータバスd□−dnと、n+1ビットのアド
レスバスAO〜Aiと、イネーブル信号線CB及びリー
ド・ライト信号線R/W等からなるコントロールバスと
を含む。特に制限されないが、スタティック型RAMは
イネーブル信号CEによって起動され、リード・ライト
信号孔/Wによってその動作モードが指定される。
Static RAM is accessed via an internal bus provided in the multiplexer. This internal bus is n+1
It includes a data bus d□-dn of bits, an address bus AO to Ai of n+1 bits, and a control bus consisting of an enable signal line CB, read/write signal line R/W, etc. Although not particularly limited, a static RAM is activated by an enable signal CE, and its operation mode is specified by a read/write signal hole /W.

これらの制御信号は、スタティック型RAMの制御回路
CTLに入力される。制御回路CTLは、これらの制御
信号をもとに、スタティック型RAMの内部動作を制御
するための各種タイミング信号を形成する。
These control signals are input to the control circuit CTL of the static RAM. The control circuit CTL forms various timing signals for controlling the internal operations of the static RAM based on these control signals.

アドレスバスA O−A iを介して供給されるi +
 1ビツトのアドレス信号は、スタティック型RAMの
図示されないアドレス人力バッファに入力される。これ
らのアドレス信号は、アドレス人カパッファによって保
持され、相補信号としてロウアドレスデコーダRDCR
に伝達される。ロウアドレスデコーダRDCRはこれら
のアドレス信号をデコードしワード線駆動回路WDI、
WD2を動作状態として指定されるワード線を選択する
i + supplied via address bus A O−A i
The 1-bit address signal is input to an address manual buffer (not shown) of the static RAM. These address signals are held by the address buffer and are sent to the row address decoder RDCR as complementary signals.
transmitted to. The row address decoder RDCR decodes these address signals and sends them to the word line drive circuits WDI,
A designated word line is selected with WD2 in the active state.

一方、データバスの下位ピッ)dO〜dmは、メモリア
レイM−ARYIの各相補データ線に対応される。また
、データバスの上位ビットdm+1〜dnは、メモリア
レイM−ARY2の各相補データ線に対応される。各デ
ータバスd□−dnは、データバッファDBの対応する
単位回路に結合され、リードアンプRA及びライトアン
プWAの対応する単位回路を経て、対応するメモリアレ
イの対応する相補データ線にそれぞれ接続される。デー
タバッファDBの各単位回路は、対応するデータバスd
□−dnを介して供給される入力データを取り込み、対
応するライトアンプWAに伝達する。また、対応するリ
ードアンプRAから出力される出力データを、対応する
データバスdO−dnに伝達する。
On the other hand, lower pins (dO to dm) of the data bus correspond to each complementary data line of memory array M-ARYI. Furthermore, the upper bits dm+1 to dn of the data bus correspond to each complementary data line of the memory array M-ARY2. Each data bus d□-dn is coupled to a corresponding unit circuit of a data buffer DB, and is connected to a corresponding complementary data line of a corresponding memory array through corresponding unit circuits of a read amplifier RA and a write amplifier WA. Ru. Each unit circuit of the data buffer DB has a corresponding data bus d
The input data supplied via □-dn is taken in and transmitted to the corresponding write amplifier WA. Further, output data output from the corresponding read amplifier RA is transmitted to the corresponding data bus dO-dn.

第3図には、この発明が適用されたスタティック型RA
Mの一実施例の回路ブロック図が示されている。以下の
図において、そのチャンネル(パックゲート)部に矢印
が付加されるMOSFETはPチャンネル型であり、矢
印の付加されないNチャンネルMO8PETと区別され
る。
FIG. 3 shows a static type RA to which this invention is applied.
A circuit block diagram of one embodiment of M is shown. In the following figures, MOSFETs whose channel (pack gate) portions are marked with arrows are P-channel type, and are distinguished from N-channel MO8PETs whose channel (pack gate) portions are not marked with arrows.

メモリセルを構成するMOSFETは、Nチャンネル型
とされ、N型半導体基板上に形成されたP型ウェル領域
に形成される。PチャンネルMO8FETは、N型半導
体基板に形成される。Nチャンネルff1M08FET
の基体ゲートとしてのP型ウェル領域は、回路の接地端
子に結合され、Pチャンネル型MO8FETの共通の基
体ゲートとしてのN型半導体基板は、回路の電源端子に
結合される。なお、メモリセルを構成するMOSFET
をウェル領域に形成する構成は、α線等によって引き起
こされるメモリセルの蓄積情報の誤った反転を防止する
上で効果的である。各MO8FETは、ポリシリコンか
らなるようなゲート電極な一種の不純物導入マスクとす
るいわゆるセルファライン技術によって製造される。
The MOSFET constituting the memory cell is of an N-channel type and is formed in a P-type well region formed on an N-type semiconductor substrate. A P-channel MO8FET is formed on an N-type semiconductor substrate. N-channel ff1M08FET
The P-type well region as the body gate of the MO8FET is coupled to the ground terminal of the circuit, and the N-type semiconductor substrate as the common body gate of the P-channel MO8FET is coupled to the power supply terminal of the circuit. In addition, the MOSFET that constitutes the memory cell
The structure in which the information is formed in the well region is effective in preventing erroneous inversion of information stored in the memory cell caused by α rays or the like. Each MO8FET is manufactured by the so-called self-line technology using a gate electrode made of polysilicon as a kind of impurity introduction mask.

メモリアレイM−ARYは、代表として例示的に示され
ているマトリックス配置された複数のメモリセルMC1
ポリシリコン層からなるワード線WOないしWn及び相
補データ線DO、noないしDI、DIから構成される
。1つの相補データ線を構成する各データ線例えばDo
及びDoは、1つのデータ線対を形成する。
The memory array M-ARY includes a plurality of memory cells MC1 arranged in a matrix, which is illustrated as a representative example.
It is composed of word lines WO to Wn made of polysilicon layers and complementary data lines DO, no to DI, DI. Each data line constituting one complementary data line, for example Do
and Do form one data line pair.

メモリセルMCのそれぞれは、互いに同じ構成にされ、
その1つの具体的回路が代表として示されているように
、ゲートとドレインが互いに交差結線されかつソースが
回路の接地点に結合された記憶MO8FETQl 、Q
2と、上記MO8FETQI 、Q2のドレインと電源
端子Vccとの間に設けられたポリ(多結晶)シリコン
層からなる高抵抗)Ll、R2とを含んでいる。そして
、上記M08FETQ1 、Q2の共通接続点と相補デ
ータ線Do 、DOとの間に伝送ゲー)MO8F’ET
Q3゜Q4が設けられている。同じ行に配置されたメモ
リセルの伝送ゲートMO8FETQ3 、Q4等のゲー
トは、それぞれ例示的に示された対応するワード線WO
及びWn等に共通に接続される。また、同じ列に配置さ
れたメモリセルの入出力端子は、それぞれ例示的に示さ
れた対応する一対の相補データ(又はビット)線Do 
、Do及びDI、DI等に接続されている。
Each of the memory cells MC has the same configuration as each other,
One specific circuit is shown as a representative memory MO8FET Ql, Q with the gate and drain cross-wired together and the source coupled to the circuit ground.
2, and high resistance (Ll, R2) made of a polysilicon layer provided between the drain of the MO8FET QI, Q2 and the power supply terminal Vcc. A transmission gate (MO8F'ET) is connected between the common connection point of the M08FETs Q1 and Q2 and the complementary data lines Do and DO.
Q3°Q4 are provided. The gates of the transmission gates MO8FETQ3, Q4, etc. of the memory cells arranged in the same row are connected to the corresponding word line WO shown by way of example.
and Wn, etc. in common. In addition, the input/output terminals of memory cells arranged in the same column are connected to a corresponding pair of complementary data (or bit) lines Do
, Do, DI, DI, etc.

メモリセルにおいて、MO8FETQ、1 、Q2及び
抵抗R1、R2は、一種のフリップフロップ回路を構成
しているが、情報保持状態における動作点は、普通の意
味でのフリップフロップ回路のそれと随分異なる。すな
わち、上記メモリセルMCにおいて、それを低消費電力
にさせるため、その抵抗R1は、MO8PETQlがオ
フ状態にされているときのMO8FETQ2のゲート電
圧をそのしきい値電圧よりも若干高い電圧に維持させる
ことができる程度の著しく高い抵抗値にされる。
In the memory cell, MO8FETs Q,1, Q2 and resistors R1, R2 constitute a kind of flip-flop circuit, but the operating point in the information retention state is quite different from that of a flip-flop circuit in the ordinary sense. That is, in the memory cell MC, in order to reduce power consumption, the resistor R1 maintains the gate voltage of MO8FETQ2 at a voltage slightly higher than its threshold voltage when MO8PETQl is turned off. The resistance value is set to a significantly high value to the extent that it can be used.

同様に抵抗R2も高抵抗値にされる。言い換えると、上
記抵抗几1.R2は、MO8FETQl 。
Similarly, the resistor R2 is also made to have a high resistance value. In other words, the above resistance 1. R2 is MO8FETQl.

Q2のドレインリーク電流を補償できる程度の高抵抗に
される。抵抗R1,R2は、MO8FETQ2のゲート
容f(図示しない)に蓄積されている情報電荷が放電さ
せられてしまうのを防ぐ程度の電流供給能力を持つ。
The resistance is made high enough to compensate for the drain leakage current of Q2. The resistors R1 and R2 have enough current supply capability to prevent the information charges stored in the gate capacitor f (not shown) of the MO8FET Q2 from being discharged.

この実施例に従うと、RAMがCMO8−IC技術によ
って製造されるにもかかわらず、上記のようにメモリセ
ルMCはNチャンネルMO8FETとポリシリコン抵抗
素子とから構成される。
According to this embodiment, although the RAM is manufactured by CMO8-IC technology, the memory cell MC is composed of an N-channel MO8FET and a polysilicon resistance element as described above.

この実施例のメモリセル及びメモリアレイは、上記ポリ
シリコン抵抗素子に代えてPチャンネルMO8F’ET
を用いる場合に比べ、その大きさを小さくできる。すな
わち、ポリシリコン抵抗を用イタ場合、駆mMO8FE
TQ1又はQ2のゲート電極と一体的に形成できるとと
もに、それ自体のサイズを小型化できる。そして、Pチ
ャンネル〜l08FETを用いたときのように、駆動M
O8FETQI、Q2から比較的大きな距離を持って離
さなければならないことがないので無駄な空白部分が生
じない。
The memory cell and memory array of this embodiment are constructed using a P-channel MO8F'ET instead of the polysilicon resistor element described above.
The size can be made smaller than when using . In other words, if a polysilicon resistor is used, the drive mMO8FE
It can be formed integrally with the gate electrode of TQ1 or Q2, and its size can be reduced. Then, as when using P-channel ~l08FET, drive M
Since it is not necessary to separate it from O8FETQI and Q2 by a relatively large distance, no wasted blank space is generated.

同図において、ワード線WOは、Xアドレスデコーダを
構成するノア(No几)ゲート回路G1で形成された出
力信号によって選択される。このことは、他のワード線
Wnについても同様である。
In the figure, word line WO is selected by an output signal formed by a NOR gate circuit G1 forming an X address decoder. This also applies to other word lines Wn.

上記Xアドレスデコーダは、相互において類似のノアゲ
ート回路G1.02等により構成される。
The X-address decoders described above are composed of mutually similar NOR gate circuits G1.02 and the like.

これらのノアゲート回路Gl 、02等の入力端子には
、特に制限されないが、ラッチ回路FFに取り込まれた
アドレス信号のうち、Xアドレスを指示する複数ビット
からなる相補アドレス信号が所定の組合せをもって供給
される。Xアドレスデコーダは、上記相補アドレス信号
を解読して1本のワード線を選択状態にさせる。
The input terminals of these NOR gate circuits Gl, 02, etc. are supplied with a predetermined combination of complementary address signals consisting of a plurality of bits indicating the X address among the address signals taken into the latch circuit FF, although this is not particularly limited. Ru. The X address decoder decodes the complementary address signal to select one word line.

上記メモリアレイにおける一対の相補データ線Do、、
Doは、特に制限されないが、PチャンネルMO8FE
TQI 1 、Ql 2とNチャンネルMO8FETQ
15 、Ql6とがそれぞれ並列接続されることによっ
て構成されるCMOSスイッチを介して共通相補データ
線CD、CDに結合される。共通相補データ線を構成す
る各データ線CD。
A pair of complementary data lines Do, , in the memory array
Do is not particularly limited, but P channel MO8FE
TQI 1, Ql 2 and N-channel MO8FETQ
15 and Ql6 are connected in parallel to common complementary data lines CD and CD through CMOS switches. Each data line CD constitutes a common complementary data line.

CDは、1つのデータ線対を形成する。他の例示的に示
されている相補データ線D1.Dtにおいても、上記同
様なPチャンネルMO8FETQ13゜Ql4及びNチ
ャンネルMO8FETQ17゜Ql8からなるCMOS
スイッチを介して共通相補データ線CD、CDに結合さ
れる。このことは、図示しない他の相補データ線につい
ても同様なCMOSスイッチを介して共通相補データ線
CD。
CD forms one data line pair. Other illustratively shown complementary data lines D1. In Dt, a CMOS consisting of a P-channel MO8FETQ13°Ql4 and an N-channel MO8FETQ17°Ql8 similar to the above is used.
It is coupled to common complementary data lines CD, CD via a switch. This also applies to other complementary data lines (not shown) via similar CMOS switches to the common complementary data line CD.

CDに結合される。Combined on CD.

上記CMOSスイッチのうち、NチャンネルMO8FE
TQI 5 、Ql 6及びQl7.Ql8のゲートは
、それぞれカラム選択線yo、yiに結合される。Pチ
ャンネルMO8FETQI l 。
Among the above CMOS switches, N-channel MO8FE
TQI 5 , Ql 6 and Ql7. The gates of Ql8 are coupled to column selection lines yo and yi, respectively. P-channel MO8FET QI l.

Ql2及びQl 3 、 Ql 4のゲートには、上記
カラム選択線YO,Ylの信号を受けるインバータ回路
Nl、N2の出力信号が供給される。
The gates of Ql2, Ql 3 and Ql 4 are supplied with output signals of inverter circuits Nl and N2 which receive signals from the column selection lines YO and Yl.

上記のように、カラムスイッチとしてCMOSスイッチ
を用いる構成は、高速な読み出し及び書き込み動作を可
能とする。例えば、カラム選択線YOがハイレベルにさ
れることによって、相補データ1sL)0.DOが選択
状態にされる場合、読み出し動作においては、Pチャン
ネルMO8FETQll、Ql2がゲート接地、ソース
入力の増幅M 08 F E Tとして作用し、メモリ
セルから相補データ線Do 、Doに読み出された信号
を効率よく共通相補データ線CD、CDに伝えることが
できる。また、書き込み動作にあっては、Nチャンネル
MO8FETQ15 、Ql 6がゲート接地、ソース
入力の増!MO8FETとして作用し、共通相補データ
線CD 、CDに供給される書き込み信号を効率よく選
択されたメモリセルが結合される相補データ線Do 、
Doに伝えることができる。
As described above, the configuration using CMOS switches as column switches enables high-speed read and write operations. For example, by setting the column selection line YO to a high level, complementary data 1sL)0. When DO is in the selected state, in the read operation, the P-channel MO8FETs Qll and Ql2 act as gate-grounded and source input amplification M 08 FET, and the data read from the memory cell to the complementary data lines Do and Do are Signals can be efficiently transmitted to the common complementary data lines CD, CD. Also, in the write operation, N-channel MO8FETQ15 and Ql6 are gate-grounded and the source input is increased! Complementary data lines Do act as MO8FETs and are connected to memory cells that are efficiently selected for the write signal supplied to common complementary data lines CD, CD, and CD.
You can tell Do.

このことは、他の相補データII!DI、DI等の選択
動作においても同様である。
This means that other complementary data II! The same applies to selection operations such as DI and DI.

上記カラム選択線YOは、Xアドレスデコーダを構成す
るノアゲート回路G4で形成された出力信号によって選
択される。このことは、他のカラム選択線Y1について
も同様である。上記Xアドレスデコーダは、相互におい
て類似のノアゲート回路G4 、G3#により構成され
る。これらのノアゲート回路G4.03等の入力端子に
は、特に制限されないが、ラッチ回路FFに取り込まれ
たアドレス信号のうち、Yアドレスを指示する複数ビッ
トからなる相補アドレス信号が所定の組合せをもって供
給される。Xアドレスデコーダは、上記相補アドレス信
号を解読して1本のカラム選択線を選択状態にさせる。
The column selection line YO is selected by an output signal formed by a NOR gate circuit G4 forming an X address decoder. This also applies to the other column selection lines Y1. The X address decoder is composed of mutually similar NOR gate circuits G4 and G3#. The input terminals of these NOR gate circuits G4.03 and the like are supplied with a predetermined combination of complementary address signals consisting of a plurality of bits indicating the Y address among the address signals taken into the latch circuit FF, although this is not particularly limited. Ru. The X address decoder decodes the complementary address signal to select one column selection line.

例えば、カラム選択線YOがハイレベルにされたなら、
NチャンネルMO8I’ETQ15とQ16及び、イン
バータ回路N1の出力信号のロウレベルによってPチャ
ンネルMO8FETQ11とQ12がオン状態になって
、相補データ線Do 、DOが共通相補データ線CD、
CDに結合される。
For example, if the column selection line YO is set to high level,
The N-channel MO8I'ETQ15 and Q16 and the P-channel MO8FETQ11 and Q12 are turned on by the low level of the output signal of the inverter circuit N1, and the complementary data lines Do and DO are connected to the common complementary data line CD,
Combined on CD.

上記ラッチ回路FFは、特に制限されないが、チップイ
ネーブル信号CEがロウレベルからハイレベルにされる
タイミングで、アドレス信号ADDの取り込みを行う。
Although not particularly limited, the latch circuit FF takes in the address signal ADD at the timing when the chip enable signal CE changes from low level to high level.

また、図示しないが、上記Xアドレスデコーダ及びXア
ドレスデコーダは、上記信号CEがハイレベルにされる
と、その選択動作を開始する。
Although not shown, the X address decoder and the X address decoder start their selection operations when the signal CE is set to a high level.

上記メモリアレイM−ARYの相補データ線DO、Do
及びDl、Dtには、特に制限されないが、Pチャンネ
ル型のプリチャージMO8FETQ5ないしQ8が設け
られる。上記MO8FETQ5ないしQ8のゲートには
、プリチャージ信号PCが共通に供給される。上記プリ
チャージMO8FETQ5ないしQ8は、プリチャージ
信号PCがロウレベルにされるプリチャージ期間におい
てオン状態となり、相補データ線DO、DO及びDI、
DIを第1の電源電圧レベル、例えば電源電圧Vccの
ようなハイレベルにチャージアップさせる。
Complementary data lines DO, Do of the memory array M-ARY
Although not particularly limited, P-channel type precharge MO8FETs Q5 to Q8 are provided at Dl and Dt. A precharge signal PC is commonly supplied to the gates of the MO8FETs Q5 to Q8. The precharge MO8FETs Q5 to Q8 are turned on during the precharge period when the precharge signal PC is set to low level, and the complementary data lines DO, DO and DI,
DI is charged up to a first power supply voltage level, for example a high level such as power supply voltage Vcc.

上記のようにプリチャージMO8FETとしてPチャン
ネルMO8FETを用いる構成は、電源電圧の急激の低
下(電源バンプ)が生じても、相補データ線DO、DO
及びDi 、Diのレベルを上記のような電源電圧の変
動に追従させることができる。これによって、電源低下
時に相補データ線の電位が電源電圧以上に維持されるこ
とによって生じる動作マージンの悪化等を防止する上で
有益なものとなる。
As described above, the configuration using the P-channel MO8FET as the precharge MO8FET allows the complementary data lines DO, DO
It is also possible to make the levels of Di and Di follow the fluctuations in the power supply voltage as described above. This is useful in preventing deterioration of the operating margin caused by the potential of the complementary data line being maintained above the power supply voltage when the power supply drops.

上記共通相補データ線CD、CDには、特に制限されな
いが、Nチャンネル型のプリチャージM081;’ET
Q9及びQIOが設けられる。上記MO8F’ETQ9
及びQIOのゲートには、プリチャージ信号PCが共通
に供給される。上記プリチャージMO8FETQ9及び
QIOは、プリチャージ信号PCがハイレベルにされる
プリチャージ期間においてオン状態となり、共通相補デ
ータ線CD 、CDを第2の電源電圧レベル、例えば回
路の接地電位GNDのようなロウレベルにする。
Although not particularly limited to the common complementary data lines CD and CD, the N-channel type precharge M081;'ET
Q9 and QIO are provided. Above MO8F'ETQ9
A precharge signal PC is commonly supplied to the gates of QIO and QIO. The precharge MO8FETs Q9 and QIO are turned on during the precharge period when the precharge signal PC is set to high level, and the common complementary data lines CD and CD are set to the second power supply voltage level, such as the circuit ground potential GND. Set to low level.

上記共通相補データ線CD 、CDは、特に制限されな
いが、差動型のセンスアンプの入力端子に直接結合され
る。すなわち、共通相補データ線CD、CDは、Nチャ
ンネル型の差動増幅MO8FETQ19.Q20のゲー
トにそれぞれ結合される。これらの差動MO8FETQ
19 、Q20のドレインには電流ミラー形態にされた
PチャンネルMO8FETQ21 、Q22からなるア
クティブ負荷回路が投げられる。上記差動増@MO8F
’ETQI 9 、Q20は、その共通ソースと回路の
接地電位点との間に設けられ、タイミング信号8ACに
よってオン状態にされるNチャンネル型のパワースイッ
チMO8に’ETQ24によって動作状態にされる。上
記センスアンプの増幅出力信号は、読み出し回路を構成
するCMOSインバータ回路N3.N4を通して出力さ
れる。
The common complementary data lines CD and CD are directly coupled to the input terminals of a differential sense amplifier, although this is not particularly limited. That is, the common complementary data lines CD, CD are connected to N-channel type differential amplification MO8FETQ19. are respectively coupled to the gates of Q20. These differential MO8FETQ
19, an active load circuit consisting of P-channel MO8FETs Q21 and Q22 in a current mirror configuration is thrown to the drain of Q20. Above differential increase @MO8F
'ETQI 9 and Q20 are provided between their common source and the ground potential point of the circuit, and are activated by 'ETQ24 to an N-channel type power switch MO8 which is turned on by a timing signal 8AC. The amplified output signal of the sense amplifier is transmitted to the CMOS inverter circuit N3. which constitutes the readout circuit. It is output through N4.

上記センスアンプの出力端子、言い換えるならば、イン
バータ回路N3の入力端子と電源電圧Vccとの間には
、上記タイミング信号SACを受けるPチャンネルMO
8FETQ23が設けられる。上記MO8FETQ23
は、タイミング信号SACのロウレベルによってセンス
アンプカ非動作状態にされるとき、オン状態罠なってそ
の出力端子を電源電圧Vccにプルアップする。これに
より、上記出力端子の電圧を受けるインバータ回路N3
において、その入力電圧が70−ティング状態の中間レ
ベルに維持されることにより生じる比較的大きな貫通電
流(直流電流)の発生を防止するものである。したがっ
て、上記MO8FETQ23は、プルアップ(Vccレ
ベル)又はプルダラン(回路の接地電位)用の高抵抗素
子に置き換えることができる。
Between the output terminal of the sense amplifier, in other words, the input terminal of the inverter circuit N3, and the power supply voltage Vcc, there is a P-channel MO which receives the timing signal SAC.
8FETQ23 is provided. MO8FETQ23 above
When the sense amplifier is rendered inactive by the low level of the timing signal SAC, it becomes an on-state trap and pulls up its output terminal to the power supply voltage Vcc. This causes the inverter circuit N3 to receive the voltage at the output terminal.
This is to prevent the generation of a relatively large through current (DC current) caused by the input voltage being maintained at an intermediate level in the 70-state. Therefore, the MO8FETQ23 can be replaced with a high resistance element for pull-up (Vcc level) or pull-down (circuit ground potential).

また、上記共通相補データ線CD、CDは、次の書き込
み回路の出力端子に結合される。
Further, the common complementary data lines CD, CD are coupled to the output terminal of the next write circuit.

書き込み回路はプッシュプル形態にされたNチャンネル
MO8FETQ25 、Q26及びQ27゜Q28から
なり、相補的な書き込み信号WD及びW)が交差的に上
記出力MO8FETQ25゜Q28及びQ26.Q27
にそれぞれ供給されることによって相補的な書き込み信
号を形成して、共通相補データ線CD、CDに伝える。
The write circuit consists of N-channel MO8FETs Q25, Q26 and Q27°Q28 in push-pull configuration, and the complementary write signals WD and W) are cross-connected to the output MO8FETs Q25°Q28 and Q26. Q27
are respectively supplied to form complementary write signals, which are transmitted to the common complementary data lines CD, CD.

これにより、選択されたメモリセルには、上記共通相補
データ1ilcD、CD、カラムスイッチ及び相補デー
タ線を通して書き込み信号が供給されることによって書
き込み動作が行われる。なお、相補的な書き込み信号W
D 、WDは、書き込み動作以外のときには共にロウレ
ベルになり、上記MO8FETQ25.Q26及びQ2
7.Q28が共にオフ状態にされる。これKよって、書
き込み回路の出力はハイインピーダンス状態にされる。
Thereby, a write signal is supplied to the selected memory cell through the common complementary data 1ilcD, CD, column switch, and complementary data line, thereby performing a write operation. Note that the complementary write signal W
D and WD are both at low level during non-write operations, and the MO8FETQ25. Q26 and Q2
7. Q28 are both turned off. This K causes the output of the write circuit to be in a high impedance state.

タイミング発生回路TGは、チップイネーブル信号CE
と読み出し/書き込み制御信号R/Wを受けて、上記プ
リチャージ信号pc 、pc及びセンスアンプの動作タ
イミング信号SAC等を形成する。
The timing generation circuit TG receives the chip enable signal CE.
In response to the read/write control signal R/W, the precharge signal pc, pc and the sense amplifier operation timing signal SAC are generated.

次に、第4図に示した概略タイミング図を参照して、こ
の実施例のRAMにおける読み出し動作の一例を説明す
る。
Next, an example of a read operation in the RAM of this embodiment will be described with reference to the schematic timing diagram shown in FIG.

チップイネーブル信号CEがロウレベルのとき。When chip enable signal CE is at low level.

タイミング発生回路TGはプリチャージ信号PCをロウ
レベルに、プリチャージ信号PCを71イレベルにする
。上記プリチャージ信号PCのロウレベルによってPチ
ャンネルMO8FETQ5ない−しQ8等がオン状態に
なって相補データ線DO9Do及びDl、DI等を電源
電圧Vccのようなハイレベルにプリチャージする。ま
た、プリチャージ信号PCのハイレベルによってNチャ
ンネルMO8FETQ9及びQIOがオン状態になって
共通相補データ、1lcD、σ万を回路の接地電位GN
Dのようなロウレベルにプリチャージする。
The timing generation circuit TG sets the precharge signal PC to a low level and sets the precharge signal PC to a 71 high level. The low level of the precharge signal PC turns on the P-channel MO8FETs Q5 to Q8, and precharges the complementary data lines DO9Do, Dl, DI, etc. to a high level such as the power supply voltage Vcc. In addition, due to the high level of the precharge signal PC, the N-channel MO8FETQ9 and QIO are turned on, and the common complementary data, 1lcD, and σ, are connected to the ground potential GN of the circuit.
Precharge to low level like D.

上記チップイネーブル信号CEがロウレベルからハイレ
ベルに変化するタイミングで、ラッチ回路FFは、供給
されたアドレス信号ADDの取り込みを行う。これによ
り、Xアドレスデコーダ及びYアドレスデコーダは、ラ
ッチ回路FFに取り込まれたアドレス信号ADDの解読
を行い、1つのワード線Wi及び一対の相補データ線D
j、Djに対応したカラム選択線Yjをハイレベルの選
択状態にする。これと同時に1上記テツプイネ一ブル信
号CEのハイレベルへの変化によって、プリチャージ信
号PCがロウレベルからハイレベルに、プリチャージ信
号PCがハイレベルからロウレベルに変化して上記プリ
チャージMO8PETQ5ないしQ8及びQ9 、Ql
 Oはオフ状態にされる。
The latch circuit FF takes in the supplied address signal ADD at the timing when the chip enable signal CE changes from low level to high level. As a result, the X address decoder and the Y address decoder decode the address signal ADD taken into the latch circuit FF, and decode one word line Wi and a pair of complementary data lines D.
Column selection line Yj corresponding to column selection lines Yj and Dj is set to a high level selection state. At the same time, as the step enable signal CE changes to high level, the precharge signal PC changes from low level to high level, and the precharge signal PC changes from high level to low level, causing the precharge MO8PETQ5 to Q8 and Q9. , Ql
O is turned off.

上記カラム選択線Yjの選択動作に伴い、共通相補デー
タ線CD、CDと一対の相補データ線Dj。
Along with the selection operation of the column selection line Yj, the common complementary data line CD, CD and a pair of complementary data line Dj.

Djとが結合される。これによって、相補データ線Dj
、Djと共通相補データ線CD、CDの電位は、それぞ
れに寄生的に付加される浮遊容量の容量比に従った等し
い中間電位に変化しようとする。このとき、ワード線W
iの選択動作も同時に行われているので、相補データ線
DJ、Djには選択されたメモリセルの記憶情報に従っ
た読み出し信号が現れる。したがって、相補データ線D
j。
Dj is combined. As a result, the complementary data line Dj
, Dj and the common complementary data lines CD, CD tend to change to equal intermediate potentials according to the capacitance ratio of the stray capacitances parasitically added to each. At this time, the word line W
Since the selection operation of i is also performed at the same time, a read signal according to the stored information of the selected memory cell appears on the complementary data lines DJ and Dj. Therefore, complementary data line D
j.

Dj及び共通相補データ線CD、CDの電位は、上記中
間電位の変化とメモリセルの読み出し動作による信号が
重畳されてた電圧となる。上記メモリセルの読み出し信
号は、前述のように、カラムスイッチを構成するPチャ
ンネルMO8FETの増幅作用によって、共通相補デー
タ線CD 、 CD側に伝えられる。
The potentials of Dj and the common complementary data lines CD and CD are voltages in which the change in the intermediate potential and the signal due to the read operation of the memory cell are superimposed. As described above, the read signal from the memory cell is transmitted to the common complementary data lines CD and CD by the amplification effect of the P-channel MO8FET forming the column switch.

タイミング発生回路TGは、読み出し/書き込み制御信
号R/Wにより、読み出し動作が指示されたなら、タイ
ミング信号8ACをロウレベルからハイレベルに変化さ
せる。これによって、センスアンプのパワースイッチM
O8FETQz4がオン状態になって差動増幅MO8F
ETQl 9 。
The timing generation circuit TG changes the timing signal 8AC from low level to high level when a read operation is instructed by the read/write control signal R/W. This allows the sense amplifier power switch M
O8FETQz4 turns on and differential amplification MO8F
ETQl 9.

Q20に動作電流を供給する。このようにセンスアンプ
が動作状態にされたとき、その入力電圧は上記相補デー
タ線Dj、Djと共通相補データ線CD 、CDとの結
合によって、その電位が中間電位に持ち上げられるため
、最も感度が高い動作点にバイアスされ、その中間電位
に重畳された微小読み出し信号の増幅動作を行うものと
なる。これによって、高速読み出し動作が可能になる。
Supply operating current to Q20. When the sense amplifier is activated in this way, its input voltage is raised to an intermediate potential by the coupling of the complementary data lines Dj, Dj and the common complementary data lines CD, CD, so that the sense amplifier has the highest sensitivity. It is biased to a high operating point and performs an amplification operation of a minute read signal superimposed on the intermediate potential. This enables high-speed read operations.

すなわち、この実施例では、センスアンプを最も感度が
高い動作点での増幅動作を行わせるために、第2段階の
プリチャージ期間(イコライズ期間)を特に設けること
なく、カラムスイッチの選択動作を利用するものである
。これによって、そのプリチャージに要する時間の設定
が不要になり、その分確実な高速動作化が図られるもの
である。
That is, in this embodiment, in order to cause the sense amplifier to perform amplification operation at the operating point with the highest sensitivity, the selection operation of the column switch is used without providing a second stage precharge period (equalization period). It is something to do. This eliminates the need to set the time required for precharging, thereby ensuring higher-speed operation.

また、相補データ線Do 、DO及びDl、Dl等を電
源電圧Vcc側にプリチャージするものであるため、ワ
ード線の選択動作をメモリアクセスと同時に行ってもメ
モリセルの情報が誤って反転されることがない。
In addition, since the complementary data lines Do, DO, Dl, Dl, etc. are precharged to the power supply voltage Vcc side, even if the word line selection operation is performed at the same time as memory access, the information in the memory cell will be erroneously inverted. Never.

これとは逆に、相補データ線Do、DO及びDI。On the contrary, complementary data lines Do, DO and DI.

51等を全て回路の接地電位にプリチャージする方式で
は誤書き込みが生じ易い。なぜなら、相補データ線が供
にロウレベルの状態で、ワード線が選択されると、メモ
リセルを構成するフリップフロ、プのハイレベル側電位
は比較的容易にロウレベル側電位に変化してしまうから
である。例えば、第3図に示されたメモリセルにおいて
、ノードAにハイレベル電位が保持され、ノードBにロ
ウレベル電位が保持されていたとする。相補データ線D
O,Doが共にロウレベル電位の状態でワード線WOが
ハイレベルにされると、負荷抵抗R1及びMO8FET
Q3を介して電源電圧Vcc供給端子とデータ線DOと
の間に電流が流れる。その結果、負荷抵抗R1によって
生じる電圧降下によってノードAの電位がハイレベルか
らロウレベルに不所望に変化してしまう。
In the method of precharging all the circuits such as 51 to the ground potential of the circuit, erroneous writing is likely to occur. This is because if a word line is selected while the complementary data lines are both at low level, the high level potential of the flip-flops forming the memory cell will change to the low level potential relatively easily. . For example, suppose that in the memory cell shown in FIG. 3, a high level potential is held at node A and a low level potential is held at node B. Complementary data line D
When word line WO is set to high level while O and Do are both at low level potential, load resistor R1 and MO8FET
A current flows between the power supply voltage Vcc supply terminal and the data line DO via Q3. As a result, the voltage drop caused by the load resistor R1 undesirably changes the potential of the node A from a high level to a low level.

この場合、本実施例の様に相補データ線D0゜1)Oが
共にハイレベルであれば、ワード線Woが  ′ハイレ
ベルにされても、上記ノードAの電位はノ1イレベルを
維持する。また、上記ノードBのロウレベル電位もその
まま維持される。ノードBが結合されるデータ線DOに
プリチャージされた電荷は、オン状態のMO8FETQ
2を介してディスチャージされるので、上記ノードBの
電位がロウレベルからハイレベルに不所望に変化するこ
とはない。
In this case, if the complementary data lines D0°1)O are both at a high level as in this embodiment, even if the word line Wo is set at a high level, the potential of the node A remains at the level of 1. Further, the low level potential of the node B is also maintained as it is. The charge precharged to the data line DO coupled to the node B is transferred to the MO8FETQ in the on state.
2, the potential of the node B will not undesirably change from a low level to a high level.

これKより、相補データ線に対するプリチャージ動作終
了後直ちにワード線選択動作等を開始することができる
With this K, the word line selection operation etc. can be started immediately after the completion of the precharge operation for the complementary data line.

第5図には、上記メモリアレイM−ARYにおける相補
データ線における容量C1の容量値DCと、共通相補デ
ータ線における容量C2の容量値CDCとの容量比DC
/CDCと、アクセス時間TAの関係を示している。こ
の特性図は、コンピュータシーミレージョンにより求め
たものであり、最もアクセス時間TAが短(されるのは
、相補データ線の容量値DCに対して共通相補データ線
の容量値CDCを2/1に設定した場合である。この理
由は、共通相補データ線CD、CD側の容量値を、相補
データ線の容量値DCに対して軽(することにより、上
記カラムスイッチの選択動作に伴い、共通相補データ線
CD、CDの電位を高速にセンスアンプの最も高い感度
の動作点に変化させることができるからである。したが
って、上記容量比になるように、1つの共通相補データ
線CD、CDに結合される相補データ線の数を設定する
か、共通相補データ線の寄生容量が小さいときには、共
通相補データ線にダミー容量を付加することが望ましい
。逆に、共通相補データ線の容量値が大きいときには、
共通相補データ線を分割してそれぞれにセンスアンプを
設けるようにするか、それとも相補データ線に結合され
るメモリセルの数を増加させればよい。このように、メ
モリアレイM−A)t、Yを構成するワード線やデータ
線の数の調整などによって、最も効率的な読み出し動作
が可能になるものである。
FIG. 5 shows the capacitance ratio DC between the capacitance value DC of the capacitor C1 on the complementary data line in the memory array M-ARY and the capacitance value CDC of the capacitor C2 on the common complementary data line.
The relationship between /CDC and access time TA is shown. This characteristic diagram was obtained by computer seam radiation, and the access time TA is the shortest (the capacitance value CDC of the common complementary data line is 2/1 of the capacitance value DC of the complementary data line). The reason for this is that the capacitance value on the CD side of the common complementary data line CD is set to be smaller than the capacitance value DC of the complementary data line. This is because the potential of the complementary data lines CD, CD can be quickly changed to the operating point of the highest sensitivity of the sense amplifier. It is desirable to set the number of coupled complementary data lines or add a dummy capacitor to the common complementary data line when the parasitic capacitance of the common complementary data line is small.On the contrary, if the capacitance value of the common complementary data line is large sometimes,
Either the common complementary data line may be divided and a sense amplifier provided for each, or the number of memory cells coupled to the complementary data line may be increased. In this way, the most efficient read operation can be achieved by adjusting the number of word lines and data lines constituting the memory array M-A)t, Y.

なお、書き込み動作は、大きな信号レベルを用いてメモ
リセルへの書き込み動作を行うものであるため、読み出
し動作に比べて短い時間で書き込みを行うことができる
。したがって、RAMのアクセス時間は、読み出し動作
によって決定されるものであり、上記のプリチャージ方
式及びそのメモリアクセスの採用によって、R,AMの
高速化を実現できるものである。
Note that since the write operation is performed in the memory cell using a large signal level, writing can be performed in a shorter time than in the read operation. Therefore, the access time of the RAM is determined by the read operation, and by adopting the above-mentioned precharge method and its memory access, it is possible to realize high speed R and AM.

なお、第3図に示す実施例において、共通相補データ線
CD、CDにそれぞれ接続される寄生容量の値を互いに
異ならせることにより、メモリセルに記憶された情報の
読出し動作の高速化を図ることが可能である。この実施
例においては、コモンデータ線CDに接続される寄生容
量の容量値を、コモンデータ線CDに接続される寄生容
量の容量値よりも小さくすることが有理である。容量値
の大小関係を上記の様に設定することにより、これに応
じて共通相補データ線CD、CDのそれぞれの電位のハ
イレベル方向への立上り速度の大小関係を制御すること
ができる様になる。すなわち、カラムスイッチ(例えば
MO8FE’I’Q11 。
Note that in the embodiment shown in FIG. 3, the values of the parasitic capacitances connected to the common complementary data lines CD and CD are made different from each other to speed up the read operation of information stored in the memory cells. is possible. In this embodiment, it is reasonable to make the capacitance value of the parasitic capacitance connected to the common data line CD smaller than the capacitance value of the parasitic capacitance connected to the common data line CD. By setting the magnitude relationship of the capacitance values as described above, it becomes possible to control the magnitude relationship of the rising speed of the respective potentials of the common complementary data lines CD, CD in the high level direction accordingly. . i.e. column switch (eg MO8FE'I'Q11).

゛ Q12.Q15及びQ16)がオン状態とされるこ
とにより、共通相補データ線CD、CDの電位は供にロ
ウレベルからハイレベル方向に立上るが、その立上り速
度は、コモンデータ線CD側よりもコモンデータ線CD
側の方が速い。
゛ Q12. Q15 and Q16) are turned on, the potentials of the common complementary data lines CD and CD both rise from low level to high level, but the rising speed is faster than that on the common data line CD side. CD
The side is faster.

従って、メモリセルの上記ノードBKハイレベルの情報
が記憶され、上記ノードAにロウレベルの情報が記憶さ
れている場合には、上記メモリセル情報に応じて相補デ
ータ線Do 、Do間に生じる微小電位差の方向と、容
量値差に基づいて上記コモン相補データ線CD、CD間
に生じる電位差の方向とは一致する。従って上記相補デ
ータ線Do、DO間に生じた微小電位差はより高速に拡
大される。よってMO8FETQI 9〜Q24からな
るセンスアンプによる増幅動作が高速化される。この場
合、MO8FETQ22とQ20との共通接続点に形成
されるセンスアンプの出力信号は、ハイレベルからロウ
レベルへと高速に変化する。
Therefore, when high level information is stored in the node BK of the memory cell and low level information is stored in the node A, a minute potential difference occurs between the complementary data lines Do and Do in accordance with the memory cell information. The direction coincides with the direction of the potential difference generated between the common complementary data lines CD and CD based on the capacitance value difference. Therefore, the minute potential difference generated between the complementary data lines Do and DO is expanded more quickly. Therefore, the speed of the amplification operation by the sense amplifier made up of MO8FETQI9 to Q24 is increased. In this case, the output signal of the sense amplifier formed at the common connection point of MO8FETQ22 and Q20 changes rapidly from high level to low level.

これに対して、メモリセルの上記ノードBにロウレベル
の情報が記憶され、上記ノードAにノ・イレペルの情報
が記憶されている場合には、上記メモリセルの情報に応
じて相補データ線Do 、 D。
On the other hand, when low level information is stored in the node B of the memory cell and low level information is stored in the node A, the complementary data lines Do, D.

間に生じる微小電位差の方向と、容量値差に基づいて上
記コモン相補データ線CD、CD間に生じる電位差の方
向とは一致しない。しかしながら、これによって読出し
動作の高速化が妨げられることはない。なぜなら、この
場合MO8FETQ22とQ20との共通接続点に形成
されるセンスアンプの出力信号は、プリチャージ時のハ
イレベルをそのまま維持するからである。
The direction of the minute potential difference that occurs between them does not match the direction of the potential difference that occurs between the common complementary data lines CD and CD based on the capacitance value difference. However, this does not prevent faster read operations. This is because in this case, the output signal of the sense amplifier formed at the common connection point between MO8FETs Q22 and Q20 maintains the high level during precharging.

従って本実施例のセンスアンプを用いた場合には、その
出力信号がハイレベルからロウレベルに変化する場合の
動作を高速化しさえすれば、情報読出し動作の高速化を
図ることができる。
Therefore, when the sense amplifier of this embodiment is used, it is possible to speed up the information read operation by speeding up the operation when the output signal changes from high level to low level.

なお、コモンデータ線CDに接続される寄生容量の容量
値を、コモンデータ線CDに接続される寄生容量の容量
値よりも極端に小さ(すると、メモリセル情報自体が反
転され、誤った情報が読出されるといつ誤動作を生じる
。本発明者の検討によれば、上記容量値の比は、例えば
6:5程度が好ましい。
Note that the capacitance value of the parasitic capacitance connected to the common data line CD is extremely smaller than the capacitance value of the parasitic capacitance connected to the common data line CD (then, the memory cell information itself will be inverted and incorrect information will be generated). When read, a malfunction occurs.According to the studies of the present inventors, the ratio of the capacitance values is preferably about 6:5, for example.

上記実施例から得られる作用効果は、下記の通りである
。すなわち、 (1)プリチャージ期間において、メモリセルが結合さ
れるデータ線対を電源電圧側にプリチャージし、カラム
スイッチを介して上記データ線に結合される共通データ
線を回路の接地電位側にグリチャージする。その結果メ
モリセルの選択動作に伴いカラムスイッチを介してデー
タ線対と共通データ線対が結合されることによって1回
のプリチャージ動作によりデータ線対及び共通データ線
対の電位を中間電位に設定できる。したがって、メモリ
セルの選択動作とともに最も高い感度の動作点でセンス
アンプが読み出し信号の増幅を行うこととなり、上記プ
リチャージに要する時間の短縮と相俟って高速読み出し
動作を実現できるという効果が得られる。
The effects obtained from the above examples are as follows. That is, (1) During the precharge period, the data line pair to which the memory cells are connected is precharged to the power supply voltage side, and the common data line connected to the data line is connected to the circuit ground potential side via the column switch. To recharge. As a result, the data line pair and the common data line pair are coupled through the column switch as the memory cell is selected, and the potentials of the data line pair and the common data line pair are set to an intermediate potential by one precharge operation. can. Therefore, the sense amplifier amplifies the read signal at the operating point of the highest sensitivity while selecting the memory cell, and this results in the effect of shortening the time required for precharging and realizing high-speed read operation. It will be done.

(2)  カラムスイッチを利用して、上記データ線対
及び共通データ線対の電位を中間電位に設定するため、
回路の簡素化を図ることができるという効果が得られる
(2) To set the potentials of the data line pair and the common data line pair to an intermediate potential using column switches,
The effect is that the circuit can be simplified.

(3)プリチャージ期間において、メモリセルが結合さ
れるデータ線対を電源電圧側にプリチャージし、カラム
スイッチを介して上記データ線対に結合される共通デー
タ線対を回路の接地電位側にプリチャージしておくこと
により、メモリセルの選択動作やセンスアンプの動作タ
イミングに、格別な時間マージンを設ける必要がないか
らそのタイミング設定が簡単となり、動作マージンを大
きくできるという効果が得られる。
(3) During the precharge period, the data line pair connected to the memory cell is precharged to the power supply voltage side, and the common data line pair connected to the data line pair is connected to the circuit ground potential side via the column switch. By precharging, there is no need to provide a special time margin for the memory cell selection operation and the sense amplifier operation timing, so the timing setting becomes easy, and the effect of increasing the operation margin can be obtained.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではな(、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、スタティック
型RAMとしてのメモリセルは、PチャンネルMO8P
ETとNチャンネルMO8FETとを組合せて構成され
た完全スタティック型メモリセルを用いるものであって
もよい。また、共通相補データ線を分割してそれぞれに
センスアンプを設けた場合、その出力側に第2のカラム
選択回路を設けるか、又はセンスアンプそのものを第2
のカラム選択信号によって選択的に動作状態にするもの
であってもよい。また、メモリアクセスは、アドレス信
号の変化を検出して、上記プリチャージ信号を発生させ
るという内部同期式により行うものであってもよい。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained based on Examples above, this invention is not limited to the above Examples (although it is possible to make various changes without departing from the gist of the invention). For example, a memory cell as a static type RAM is a P-channel MO8P.
A completely static memory cell configured by combining an ET and an N-channel MO8FET may be used. In addition, when the common complementary data line is divided and a sense amplifier is provided for each, a second column selection circuit is provided on the output side, or the sense amplifier itself is connected to the second column selection circuit.
It may be selectively activated by a column selection signal. Further, the memory access may be performed by an internal synchronization method in which a change in the address signal is detected and the precharge signal is generated.

以上の説明では主として、本願発明者によってなされた
発明をその背景となった技術分野であるディジタル集積
回路に内蔵されるRAMに適用した場合を例にして説明
したが、これに限定されるものではな(、本発明は、例
えば1チツプマイクロコンピユータに内蔵されるRAM
、或いは外部記憶装置としての半導体記憶装置等にも同
様に利用できるものであろうまた、上記のようなRAM
の他、マスク型ROM(リード・オンリー・メモリ)や
EFROM(イレーザブル及プログラマブルROM)等
のような各種ROMにおいても同様に適用できる。この
ようなROMにおいては、メモリセルは1つのデータ線
に結合されるものであるため、差動型のセンスアンプを
用いる場合には、基準電圧を形成してその読み出し信号
をセンスするものである。この場合、基準電圧は、定電
圧回路やダミーセルを用いて形成することができるもの
である。このような各種ROMにおいても、データ線を
電源電圧側にプリチャージし、共通データ線を回路の接
地電位にプリチャージしておき、メモリセルの選択動作
に伴い共通データ線の直流電位をセンスアンプの最も感
度が高い動作点に設定することができるから、読み出し
動作の高速化が可能になる。
In the above explanation, the invention made by the inventor of the present application has been mainly explained using as an example the case where it is applied to a RAM built in a digital integrated circuit, which is the technical field that is the background of the invention, but the invention is not limited to this. (For example, the present invention can be applied to a RAM built in a one-chip microcomputer.
, or a semiconductor storage device as an external storage device.
In addition, the present invention can be similarly applied to various ROMs such as mask-type ROM (read-only memory) and EFROM (erasable and programmable ROM). In such a ROM, the memory cells are coupled to one data line, so if a differential sense amplifier is used, a reference voltage is formed and the read signal is sensed. . In this case, the reference voltage can be formed using a constant voltage circuit or a dummy cell. In these various ROMs, the data line is precharged to the power supply voltage side, the common data line is precharged to the circuit ground potential, and the DC potential of the common data line is connected to the sense amplifier as the memory cell is selected. Since the operating point with the highest sensitivity can be set, it is possible to speed up the read operation.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。すなわち、プリチャージ期間において、メモリセルが
結合されるデータ線を電源電圧側にプリチャージし、カ
ラムスイッチを介して上記データ線に結合される共通デ
ータ線を回路の接地電位側にプリチャージしておき、メ
モリセルの選択動作に伴いカラムスイッチを介してデー
タ線と共通データ線が結合されることによって1回のプ
リチャージ動作のみによりデータ線及び共通データ線の
電位を中間電位に設定できる。したがって、メモリセル
の選択動作とともに最も高い感度の動作点でセンスアン
プが読み出し信号の増幅を行うこととなり、上記プリチ
ャージに要する時間の短縮と相俟って高速読み出し動作
を実現できる。
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows. That is, during the precharge period, the data line to which the memory cells are coupled is precharged to the power supply voltage side, and the common data line coupled to the data line via the column switch is precharged to the ground potential side of the circuit. Then, the data line and the common data line are coupled through the column switch in accordance with the memory cell selection operation, so that the potentials of the data line and the common data line can be set to an intermediate potential with only one precharge operation. Therefore, the sense amplifier amplifies the read signal at the operating point of the highest sensitivity while selecting the memory cell, and together with the shortening of the time required for precharging, a high-speed read operation can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明が適用されたスタティック型RAMが
形成される半導体基板の一実施例の平面図、 第2図は、第1図のスタティック型RAMの一実施例の
配置図、 第3図は、本発明が適用されたスタティック型RAMの
一実施例の回路ブロック図、 第4図は、本実施例のRAMKおける読み出し動作の一
例を示すタイミング図、 第5図は、読み出しアクセス時間と、データ線と共通デ
ータ線との容量比との相関関係を示す特性図である。 BP・・・ポンディングパッド、LC・・・論理回路部
、Ilo・・・入出力回路、M−ARYl、2・・・メ
モリアレイ1,2、RDCR・・・ロウアドレスデコー
ダ、WDI、2・・・ワード線駆動回路1,2、CTL
・・・制御回路、SA・・・センスアンプ、WA・・・
ライトアンプ、KA・・・リードアンプ、MC・・・メ
モリセル、FF・・・ラッチ回路、TG・・・タイミン
グ発生回路4.′− \ ±
1 is a plan view of an embodiment of a semiconductor substrate on which a static RAM to which the present invention is applied; FIG. 2 is a layout diagram of an embodiment of the static RAM of FIG. 1; Figure 4 is a circuit block diagram of an embodiment of a static RAM to which the present invention is applied. Figure 4 is a timing diagram showing an example of a read operation in the RAMK of this embodiment. Figure 5 is a diagram showing the read access time and , is a characteristic diagram showing the correlation between the capacitance ratio of the data line and the common data line. BP... Bonding pad, LC... Logic circuit section, Ilo... Input/output circuit, M-ARYl, 2... Memory arrays 1, 2, RDCR... Row address decoder, WDI, 2.・Word line drive circuit 1, 2, CTL
...Control circuit, SA...Sense amplifier, WA...
Write amplifier, KA...read amplifier, MC...memory cell, FF...latch circuit, TG...timing generation circuit4. ′− \ ±

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、複数のワード線と第1データ線対と上記第1データ
線対に対応して設けられた第2データ線対と 各ワード線と上記第1データ線対にそれぞれ結合された
複数のメモリセルと 上記第1データ線対と上記第2データ線対とを電気的に
分離又は結合するためのスイッチ手段と 上記第1データ線対の電圧を第1の電圧レベルに設定す
るための第1のプリチャージ手段と上記第2データ線対
の電圧を第2の電圧レベルに設定するための第2のプリ
チャージ手段と選択された1つのメモリセルの情報は上
記第1データ線対、上記スイッチ手段及び上記第2デー
タ線対を介して上記センスアンプに伝達される上記第2
データ線対に結合されるセンスアンプとを有することを
特徴とする半導体記憶装置。 2、上記第1の電圧レベルは正の電源電圧レベルであり
、上記第2の電圧レベルは接地電圧レベルであることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体記憶装置
。 3、上記スイッチ手段は選択されるべきメモリセルに対
応するワード線の電圧が選択レベルに変化するタイミン
グに同期して上記第1データ線対と上記第2データ線対
とを結合することを特徴とする特許請求の範囲第2項記
載の半導体記憶装置。 4、上記スイッチ手段はアドレス信号を解読するデコー
ダによってその動作が制御されることを特徴とする特許
請求の範囲第3項記載の半導体記憶装置。 5、複数のワード線と 第1データ線対と 第2データ線対と 上記第1データ線対と上記第2データ線対に対応して設
けられた第3データ線対と 各ワード線と上記第1データ線対にそれぞれ結合された
第1のメモリセル群と 各ワード線と上記第2データ線対にそれぞれ結合された
第2のメモリセル群と 上記第1データ線対と上記第3データ線対とを電気的に
分離又は結合するための第1のスイッチ手段と 上記第2データ線対と上記第3データ線対とを電気的に
分離又は結合するための第2のスイッチ手段と 上記第1データ線対の電圧及び上記第2データ線対の電
圧を第1の電圧レベルに設定するための第1のプリチャ
ージ手段 上記第3データ線対の電圧を第2の電圧レベルに設定す
るための第2のプリチャージ手段と第1のメモリセル群
から選択された1つのメモリセルの情報は上記第1デー
タ線対、上記第1スイッチ手段及び上記第3データ線対
を介して上記センスアンプに伝達され、第2のメモリセ
ル群から選択された1つのメモリセルの情報は上記第2
データ線対、上記第2スイッチ手段及び上記第3データ
線対を介して上記センスアンプに伝達される上記第3デ
ータ線対に結合されるセンスアンプとを有することを特
徴とする半導体記憶装置。 6、上記第1の電圧レベルは正の電源電圧レベルであり
、上記第2の電圧レベルは接地電圧レべルであることを
特徴とする特許請求の範囲第5項記載の半導体記憶装置
。 7、上記第1のスイッチ手段又は第2のスイッチ手段は
選択されるべきメモリセルに対応するワード線の電圧が
選択レベルに変化するタイミングに同期して上記第1デ
ータ線対と上記第3データ線対又は上記第2データ線対
と上記第3データ線対とを結合することを特徴とする特
許請求の範囲第6項記載の半導体記憶装置。 8、上記第1のスイッチ手段及び第2のスイッチ手段は
アドレス信号を解読するデコーダによってその動作が制
御されることを特徴とする特許請求の範囲第7項記載の
半導体記憶装置。
[Scope of Claims] 1. A plurality of word lines, a first data line pair, a second data line pair provided corresponding to the first data line pair, and each word line and the first data line pair, respectively. a switch means for electrically isolating or coupling the plurality of coupled memory cells, the first data line pair, and the second data line pair; A first precharge means for setting the voltage of the second data line pair to a second voltage level, and information of the selected one memory cell The second signal is transmitted to the sense amplifier via the data line pair, the switch means, and the second data line pair.
1. A semiconductor memory device comprising: a sense amplifier coupled to a data line pair. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the first voltage level is a positive power supply voltage level, and the second voltage level is a ground voltage level. 3. The switching means connects the first data line pair and the second data line pair in synchronization with the timing when the voltage of the word line corresponding to the memory cell to be selected changes to a selection level. A semiconductor memory device according to claim 2. 4. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein the operation of the switch means is controlled by a decoder that decodes the address signal. 5. A plurality of word lines, a first data line pair, a second data line pair, a third data line pair provided corresponding to the first data line pair and the second data line pair, each word line, and the above A first memory cell group, each word line, each coupled to a first data line pair, a second memory cell group, each coupled to the second data line pair, the first data line pair, and the third data line. a first switch means for electrically separating or coupling the second data line pair and the third data line pair; and a second switch means for electrically separating or coupling the second data line pair and the third data line pair; A first precharging means for setting the voltage of the first data line pair and the voltage of the second data line pair to a first voltage level; and setting the voltage of the third data line pair to a second voltage level. Information on one memory cell selected from the first memory cell group is transmitted to the sense via the first data line pair, the first switch means, and the third data line pair. The information of one memory cell selected from the second memory cell group is transmitted to the amplifier and is transmitted to the second memory cell group.
A semiconductor memory device comprising a data line pair, a sense amplifier coupled to the third data line pair, which is transmitted to the sense amplifier via the second switch means and the third data line pair. 6. The semiconductor memory device according to claim 5, wherein the first voltage level is a positive power supply voltage level, and the second voltage level is a ground voltage level. 7. The first switch means or the second switch means switches between the first data line pair and the third data line in synchronization with the timing when the voltage of the word line corresponding to the memory cell to be selected changes to the selection level. 7. The semiconductor memory device according to claim 6, wherein a line pair or said second data line pair and said third data line pair are coupled. 8. The semiconductor memory device according to claim 7, wherein the operations of the first switch means and the second switch means are controlled by a decoder that decodes the address signal.
JP63069533A 1988-03-25 1988-03-25 Digital processing unit Expired - Fee Related JP2617510B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63069533A JP2617510B2 (en) 1988-03-25 1988-03-25 Digital processing unit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63069533A JP2617510B2 (en) 1988-03-25 1988-03-25 Digital processing unit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01245487A true JPH01245487A (en) 1989-09-29
JP2617510B2 JP2617510B2 (en) 1997-06-04

Family

ID=13405459

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63069533A Expired - Fee Related JP2617510B2 (en) 1988-03-25 1988-03-25 Digital processing unit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2617510B2 (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03266295A (en) * 1990-03-14 1991-11-27 Sharp Corp Semiconductor memory device
JP2002269986A (en) * 2001-03-12 2002-09-20 Fujitsu Ltd Multiplexer, memory circuit and semiconductor device using the same
JP2006173643A (en) * 2006-01-12 2006-06-29 Renesas Technology Corp Semiconductor memory device
GB2525904A (en) * 2014-05-08 2015-11-11 Surecore Ltd Memory unit
CN114880275A (en) * 2022-05-16 2022-08-09 无锡职业技术学院 A generalized program transmission system and transmission method capable of memorizing operation steps

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63183680A (en) * 1987-01-26 1988-07-29 Hitachi Ltd semiconductor storage device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63183680A (en) * 1987-01-26 1988-07-29 Hitachi Ltd semiconductor storage device

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03266295A (en) * 1990-03-14 1991-11-27 Sharp Corp Semiconductor memory device
JP2002269986A (en) * 2001-03-12 2002-09-20 Fujitsu Ltd Multiplexer, memory circuit and semiconductor device using the same
JP2006173643A (en) * 2006-01-12 2006-06-29 Renesas Technology Corp Semiconductor memory device
GB2525904A (en) * 2014-05-08 2015-11-11 Surecore Ltd Memory unit
GB2525904B (en) * 2014-05-08 2018-05-09 Surecore Ltd Memory unit
US10586589B2 (en) 2014-05-08 2020-03-10 Surecore Limited Memory unit
CN114880275A (en) * 2022-05-16 2022-08-09 无锡职业技术学院 A generalized program transmission system and transmission method capable of memorizing operation steps
CN114880275B (en) * 2022-05-16 2023-12-12 无锡职业技术学院 Generalized program transmission system capable of memorizing operation steps and transmission method

Also Published As

Publication number Publication date
JP2617510B2 (en) 1997-06-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5042010A (en) Semiconductor integrated circuit
US4618947A (en) Dynamic memory with improved address counter for serial modes
JP2615011B2 (en) Semiconductor memory circuit
KR960008451B1 (en) Semiconductor memory device
US4894804A (en) Resetting arrangement for a semiconductor integrated circuit device having semiconductor memory
JPH0770222B2 (en) MOS static RAM
US7161868B2 (en) Multiport semiconductor memory device capable of sufficiently steadily holding data and providing a sufficient write margin
US6862245B2 (en) Dual port static memory cell and semiconductor memory device having the same
JP2604276B2 (en) Semiconductor storage device
US4630240A (en) Dynamic memory with intermediate column derode
JPH01245487A (en) digital processing equipment
JP2892697B2 (en) Semiconductor storage device
US5566126A (en) MOS static memory device incorporating modified operation of sense amplifier and transfer gate
JPH0287392A (en) semiconductor storage device
JPH0690875B2 (en) Semiconductor memory circuit
JPH04298893A (en) Semiconductor storage device
JPS61218166A (en) Semiconductor memory
JPH0730075A (en) Semiconductor memory and logic circuit containing it
JPH05507169A (en) Read/Write/Restore Circuitry for Memory Arrays
JPH07182869A (en) Method of writing data in semiconductor memory device and semiconductor memory device
JPH0510760B2 (en)
JPH0760598B2 (en) Semiconductor memory device
JPS59186190A (en) Semiconductor integrated circuit
JPH04335295A (en) Multiport memory cell circuit
JPH0310194B2 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees