JPH01230277A - 半導体レーザ励起固体レーザ装置 - Google Patents
半導体レーザ励起固体レーザ装置Info
- Publication number
- JPH01230277A JPH01230277A JP63056898A JP5689888A JPH01230277A JP H01230277 A JPH01230277 A JP H01230277A JP 63056898 A JP63056898 A JP 63056898A JP 5689888 A JP5689888 A JP 5689888A JP H01230277 A JPH01230277 A JP H01230277A
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- Japan
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- semiconductor laser
- state laser
- wavelength
- laser
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/0941—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode
- H01S3/09415—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode the pumping beam being parallel to the lasing mode of the pumped medium, e.g. end-pumping
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
■産業上の利用分野)
本発明は、光励起による固体レーザ装置に関するもので
ある。
ある。
[従来技術1
従来、例えばNd:YAGの結晶を用いた固体レーザ装
置ではキセノンランプ等の光の波長がNd:YAG結品
の光吸収帯に強度を持つ光源によって励起を佇い、結晶
がら発せられるけい尤を光共振器によって共振させてレ
ーザ発振を行った。さらに最近では半導体レーザ素子の
出力増加に伴い、例えばNd:YAGレーザの場合には
結晶の吸収波長である波長806〜811nmの励起光
を用いることで効率良くレーザ光を取り出すことが可能
となった。
置ではキセノンランプ等の光の波長がNd:YAG結品
の光吸収帯に強度を持つ光源によって励起を佇い、結晶
がら発せられるけい尤を光共振器によって共振させてレ
ーザ発振を行った。さらに最近では半導体レーザ素子の
出力増加に伴い、例えばNd:YAGレーザの場合には
結晶の吸収波長である波長806〜811nmの励起光
を用いることで効率良くレーザ光を取り出すことが可能
となった。
[発明が解決しようとする課B1
しかしながら、第3図に励起波長と光出力の関係を示す
ように一般に入手が容易で多用されているNd:YAG
結晶は―起に寄与する吸収波長帯が806〜811n+
sと狭く、また第4図にケース温度と発振波長を示すよ
うに通常用いられる高出力の半導体レーザは外部の温度
変化により、平均約0 、25 nm/ deg、程度
の波長変化を生ずるため、通常の固体レーザ装置の使用
温度範囲を保障するには、ベルチェ素子等の温度制御8
!構で温度保障を行う必要があった。また固体レーザ材
料にはNd:Y A Gのほかに、より吸収帯の広いN
d:YVO、、Nd:BeLもあるが、まだ−船釣では
なく高価であった。
ように一般に入手が容易で多用されているNd:YAG
結晶は―起に寄与する吸収波長帯が806〜811n+
sと狭く、また第4図にケース温度と発振波長を示すよ
うに通常用いられる高出力の半導体レーザは外部の温度
変化により、平均約0 、25 nm/ deg、程度
の波長変化を生ずるため、通常の固体レーザ装置の使用
温度範囲を保障するには、ベルチェ素子等の温度制御8
!構で温度保障を行う必要があった。また固体レーザ材
料にはNd:Y A Gのほかに、より吸収帯の広いN
d:YVO、、Nd:BeLもあるが、まだ−船釣では
なく高価であった。
本発明は、上述した問題点を解決するためになされたも
のであり、励起光源として複数の波長の半導体レーザを
用い使用温度範囲において、半導体レーザのいずれかの
波長が固体レーザ材料の光吸収帯に入ることにより、特
別な温度制御W構を用いることなく広い温度範囲で安定
した出力を得ることを目的としている。
のであり、励起光源として複数の波長の半導体レーザを
用い使用温度範囲において、半導体レーザのいずれかの
波長が固体レーザ材料の光吸収帯に入ることにより、特
別な温度制御W構を用いることなく広い温度範囲で安定
した出力を得ることを目的としている。
[課題を解決するための手段1
この目的を達成するために本発明の半導体レーザ励起固
体レーザ装置は、固体レーザ材料と光共振器と使用温度
範囲でいずれがが固体レーザ材料の吸収帯に含まれる複
数の波長の半導体レーザとを備えている。
体レーザ装置は、固体レーザ材料と光共振器と使用温度
範囲でいずれがが固体レーザ材料の吸収帯に含まれる複
数の波長の半導体レーザとを備えている。
[作用]
上記の枯戊を有する本発明において、励起光源である半
導体レーザ光が固体レーザ材料に入射すると、結晶内の
活性物質が励起され、反(分布を生ずる。ここで、ここ
から発せられるけい光を光共振器によって共振させるこ
とで誘導放出を行い、レーザ発振する0例えばNd:Y
AG結品では806〜811 nmに励起光の吸収帯が
あり、半導体レーザ周囲温度が変化すると0 、25
nm/ deg、程度の波長変動を生ずるが、一つの励
起用半導体レーザの波長が、固体レーザ材料の吸収帯か
らはずれても他の半導体レーザの波長が固体レーザ材料
の吸収帯へ入るため周囲温度が変動しても出力変動が少
ない。
導体レーザ光が固体レーザ材料に入射すると、結晶内の
活性物質が励起され、反(分布を生ずる。ここで、ここ
から発せられるけい光を光共振器によって共振させるこ
とで誘導放出を行い、レーザ発振する0例えばNd:Y
AG結品では806〜811 nmに励起光の吸収帯が
あり、半導体レーザ周囲温度が変化すると0 、25
nm/ deg、程度の波長変動を生ずるが、一つの励
起用半導体レーザの波長が、固体レーザ材料の吸収帯か
らはずれても他の半導体レーザの波長が固体レーザ材料
の吸収帯へ入るため周囲温度が変動しても出力変動が少
ない。
[実施例]
以下、本発明を具体化した一実施例を図面を参照して説
明する。
明する。
第1図を参照して説明を行うと、周囲温度20℃におい
て波長811.5nmの半導体レーザ140aが、偏光
方向が偏光ビームスプリッタ130で光が透過するよう
に、20℃において波長806.5 n+aの半導体レ
ーザ140bが偏光方向が偏光ビームスプリッタ130
でNd:YAGロッド100方向に反射するように配r
rirる。各半導体レーザ140a、bと偏光ビームス
プリッタ130の間には半導体レーザ140a、bの光
を平行光とするフリメートレンズ150a、bを置く。
て波長811.5nmの半導体レーザ140aが、偏光
方向が偏光ビームスプリッタ130で光が透過するよう
に、20℃において波長806.5 n+aの半導体レ
ーザ140bが偏光方向が偏光ビームスプリッタ130
でNd:YAGロッド100方向に反射するように配r
rirる。各半導体レーザ140a、bと偏光ビームス
プリッタ130の間には半導体レーザ140a、bの光
を平行光とするフリメートレンズ150a、bを置く。
Nd:YAGロッド100はNd:YAG結晶を円柱状
に加工したもので、これと共振ミラー110は光共振器
を構成し、Nd:YAGロッド100の共振ミラー11
0側には発振波長11064nに透過であり、反対側は
励起波長806〜811nmで透過であり、11064
oで高反射である。共振ミラー110はNd:YAGo
ッド100側が半径1100n程度の凹面で、発振波長
11064nの光を99%反射、1%透過する。Nd:
YAGロッド100と偏光ビームスプリッタ130の間
には平行な半導体レーザ光Nd:YAGロッド100に
入射するように絞り込む凸レンズ120を配する。
に加工したもので、これと共振ミラー110は光共振器
を構成し、Nd:YAGロッド100の共振ミラー11
0側には発振波長11064nに透過であり、反対側は
励起波長806〜811nmで透過であり、11064
oで高反射である。共振ミラー110はNd:YAGo
ッド100側が半径1100n程度の凹面で、発振波長
11064nの光を99%反射、1%透過する。Nd:
YAGロッド100と偏光ビームスプリッタ130の間
には平行な半導体レーザ光Nd:YAGロッド100に
入射するように絞り込む凸レンズ120を配する。
以上の構成の半導体レーザ励起固体レーザ装置で、まず
周囲温度10℃では半導体レーザ140a、])はそれ
ぞれ809nmと804nmの波長で発振し、フリメー
トレンズ150a、bで平行光として偏光ビームスプリ
ッタ130で二つの半導体レーザ14Oatbの尤を一
本化してさらに凸レンズ120で絞り込んでNd:YA
Gロッド100に入射する。半導体レーザ光は主に80
9nmの光が励起に寄与し、共振ミラー110とNcl
:YAGロッド100の波長11064nの反射面との
間でレーザ発振を起こす。さらに、周囲温度30℃では
半導体レーザ140a、bの波長はそれぞれ814旧^
と809n曽となるため8140−の光は励起にほとん
ど寄与しないが、809nmの光で励起されレーザ発振
する。10〜30℃の間でも少なくとも半導体レーザ1
40a、bの一方はNd:YAGOッド100の吸収帯
に入るためレーザ発振を起こす。さらに半導体レーザの
個数を増し、使用温度範囲で固体レーザ材料の吸収帯に
含まれるようにすることで、より均一な出力が得られる
ことは明らかである。
周囲温度10℃では半導体レーザ140a、])はそれ
ぞれ809nmと804nmの波長で発振し、フリメー
トレンズ150a、bで平行光として偏光ビームスプリ
ッタ130で二つの半導体レーザ14Oatbの尤を一
本化してさらに凸レンズ120で絞り込んでNd:YA
Gロッド100に入射する。半導体レーザ光は主に80
9nmの光が励起に寄与し、共振ミラー110とNcl
:YAGロッド100の波長11064nの反射面との
間でレーザ発振を起こす。さらに、周囲温度30℃では
半導体レーザ140a、bの波長はそれぞれ814旧^
と809n曽となるため8140−の光は励起にほとん
ど寄与しないが、809nmの光で励起されレーザ発振
する。10〜30℃の間でも少なくとも半導体レーザ1
40a、bの一方はNd:YAGOッド100の吸収帯
に入るためレーザ発振を起こす。さらに半導体レーザの
個数を増し、使用温度範囲で固体レーザ材料の吸収帯に
含まれるようにすることで、より均一な出力が得られる
ことは明らかである。
さらに、複数の波長は単一の半導体レーザ素子の複数の
ストライプから出射してもよいのである。
ストライプから出射してもよいのである。
[発明の効果1
以上詳述したことから明らかなように、本発明によれば
、半導体レーザによって励起を行う固体レーザ装置で、
使用温度範囲においていずれかが固体レーザ材料の吸収
帯に含まれる複数の波長の半導体レーザを用いるもので
、これにより複雑な温度制御J機hηを用いることなく
周囲の温度変化に対して安定したレーザ出力を得ること
ができるものである。
、半導体レーザによって励起を行う固体レーザ装置で、
使用温度範囲においていずれかが固体レーザ材料の吸収
帯に含まれる複数の波長の半導体レーザを用いるもので
、これにより複雑な温度制御J機hηを用いることなく
周囲の温度変化に対して安定したレーザ出力を得ること
ができるものである。
第1図から第3図までは本発明を兵体化した実施例を示
すもので、第1図は本実施例が適用された固体レーザ装
置の斜視図であり、tjS2図は本実施例の半導体レー
ザの波長シフトの例の説明図であり、fjS3図はNd
:YAG結晶の吸収曲線を示゛1図であり、第4図は一
般的な半導体レーザの波長シフトの説明図である。 100・・・Nd:YAGロッド、110・・・共振ミ
ラー、130・・・偏光ビームスプリッタ、140a−
半導体レーザ波長811.Sn躊(20℃)、140b
・・・半導体レーザ波及806.5nm(20℃)。
すもので、第1図は本実施例が適用された固体レーザ装
置の斜視図であり、tjS2図は本実施例の半導体レー
ザの波長シフトの例の説明図であり、fjS3図はNd
:YAG結晶の吸収曲線を示゛1図であり、第4図は一
般的な半導体レーザの波長シフトの説明図である。 100・・・Nd:YAGロッド、110・・・共振ミ
ラー、130・・・偏光ビームスプリッタ、140a−
半導体レーザ波長811.Sn躊(20℃)、140b
・・・半導体レーザ波及806.5nm(20℃)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、半導体レーザを励起光源とする光励起固体レーザ装
置において、励起光源として複数の異った波長の半導体
レーザを用いることを特徴とする固体レーザ装置。 2、第1項に記載の固体レーザ装置において、各励起用
半導体レーザの波長が動作温度範囲において、少なくと
も1個は固体レーザ材料の光吸収帯に含まれることを特
徴とする固体レーザ装置。 3、第1項に記載の固体レーザ装置において単一の半導
体レーザ素子から複数のビームを出射する励起用半導体
レーザの波長が動作温度範囲において、少なくとも1個
は固体レーザ材料の光吸収帯に含まれることを特徴とす
る固体レーザ装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63056898A JPH01230277A (ja) | 1988-03-10 | 1988-03-10 | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 |
US07/321,866 US4942587A (en) | 1988-03-10 | 1989-03-10 | Optically pumped solid-state laser oscillator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63056898A JPH01230277A (ja) | 1988-03-10 | 1988-03-10 | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01230277A true JPH01230277A (ja) | 1989-09-13 |
Family
ID=13040266
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63056898A Pending JPH01230277A (ja) | 1988-03-10 | 1988-03-10 | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4942587A (ja) |
JP (1) | JPH01230277A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6917634B2 (en) | 2001-12-28 | 2005-07-12 | National Institute Of Information And Communications Technology | Diode-pumped solid-state laser oscillator |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0392062U (ja) * | 1989-12-29 | 1991-09-19 | ||
JP3064342B2 (ja) * | 1990-07-12 | 2000-07-12 | ブラザー工業株式会社 | 固体レーザの発振装置 |
US5142542A (en) * | 1991-01-07 | 1992-08-25 | Amoco Corporation | Signal-resonant intracavity optical frequency mixing |
US5119394A (en) * | 1991-02-13 | 1992-06-02 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Technique for longitudinal optical pumping of a laser |
US5295146A (en) * | 1992-04-10 | 1994-03-15 | Polaroid Corporation | Solid state gain mediums for optically pumped monolithic laser |
DE102006059700A1 (de) * | 2006-09-28 | 2008-04-03 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Laseranordnung und Halbleiterlaser zum optischen Pumpen eines Lasers |
GB2497107B (en) * | 2011-11-30 | 2014-01-08 | Thales Holdings Uk Plc | Laser pumping system |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4791631A (en) * | 1987-08-31 | 1988-12-13 | International Business Machines Corporation | Wide tolerance, modulated blue laser source |
-
1988
- 1988-03-10 JP JP63056898A patent/JPH01230277A/ja active Pending
-
1989
- 1989-03-10 US US07/321,866 patent/US4942587A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6917634B2 (en) | 2001-12-28 | 2005-07-12 | National Institute Of Information And Communications Technology | Diode-pumped solid-state laser oscillator |
US7075964B2 (en) | 2001-12-28 | 2006-07-11 | National Institute Of Information And Communications Technology | Diode-pumped solid-state laser oscillator |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4942587A (en) | 1990-07-17 |
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