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JPH01230244A - Wafer conveying method - Google Patents

Wafer conveying method

Info

Publication number
JPH01230244A
JPH01230244A JP63055729A JP5572988A JPH01230244A JP H01230244 A JPH01230244 A JP H01230244A JP 63055729 A JP63055729 A JP 63055729A JP 5572988 A JP5572988 A JP 5572988A JP H01230244 A JPH01230244 A JP H01230244A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafers
boat
wafer
chuck
cassette
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP63055729A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0831510B2 (en
Inventor
Takanobu Asano
浅野 貴庸
Masashi Fumoto
真佐志 麓
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Sagami Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Sagami Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Sagami Ltd filed Critical Tokyo Electron Sagami Ltd
Priority to JP63055729A priority Critical patent/JPH0831510B2/en
Publication of JPH01230244A publication Critical patent/JPH01230244A/en
Publication of JPH0831510B2 publication Critical patent/JPH0831510B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PURPOSE:To simplify loading work, by preparing a plurality of slanted cassettes when many sheets of wafers are aligned and contained on a boat in a slanted attitude, inputting the specified number of the wafers in the cassettes, sequentially grasping the wafers with a chuck, moving the wafers, and dropping the wafers by opening the chuck when the chuck comes on the boat. CONSTITUTION:A cassette stage 12 and a boat stage 22 are provided on the same horizontal plane. Many sheets of wafers W are contained in a boat 20 provided on the stage 22 so that the wafers are uprightly supported with a supporting part provided at the edge part in a slanted attitude. A plurality of mounting parts 16 are provided on the neighboring stage 12 for accommodation. Cassettes 10 are arranged on the mounting parts so that the cassettes are inclined by 3-10 degrees. Thereafter, the specified sheets of the wafers W are contained. The wafer group W in the cassette 10 is sequentially grasped with a chuck 38, lifted and moved. When the chuck comes to a position over the boat 10, the wafer group W is lowered, and the chuck 38 is released. The wafer group W is dropped into the boat 20.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は収納治具に収納された複数枚のウェハ群をボー
トへ向は移送するウェハ移送方法の改良に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to an improvement in a wafer transfer method for transferring a plurality of wafer groups stored in a storage jig to a boat.

(従来の技術) 一般に、半導体製造装置では、石英などを用いて形成さ
れたボートに載置されたウェハ群を熱処理炉へ搬入、搬
出することにより、多量のウェハに対する拡散処理をま
とめて行っている。
(Prior Art) Generally, in semiconductor manufacturing equipment, diffusion processing is performed on a large number of wafers at once by carrying a group of wafers placed on a boat made of quartz or the like into a heat treatment furnace and taking them out. There is.

従って、ウェハに対するこのような熱拡散処理を行う場
合には、複数枚のウェハ群を整列収納した収納治具、例
えばカセットなどからウェハ群を取り出し、これをボー
ト上に載置するローディング作業を行う必要があり、ま
た拡散処理終了後には、ボート上に載置されたづエバ群
を再び元のカセットに収納するアンローディング作業を
行う必要がある。
Therefore, when performing such thermal diffusion processing on wafers, a loading operation is performed in which a group of wafers is taken out from a storage jig, such as a cassette, in which a group of wafers is arranged and stored, and placed on a boat. Furthermore, after the diffusion process is completed, it is necessary to perform an unloading operation to store the group of evaporators placed on the boat back into the original cassette.

半導体装置には、このようなローディング、アンローデ
ィング作業を行うウェハ移送装置が設けられており、こ
の移送装置は、カセット内に整列収納された複数枚のウ
ェハ群をウェハ押上装置を用いて上方所定位置まで移送
し、チャックと呼ばれる挟持手段への受は渡しを行う、
そして、このチャックは、移送されてきたウェハ群をそ
の両側から挾持し、ボートへ向は搬送するローディング
作業を行う、ボート上には、一定間隔で複数の収納溝が
設けられているため、ローディングされたウェハは一定
間隔でこの溝に沿って整列収納載置されることになる。
Semiconductor devices are equipped with a wafer transfer device that performs such loading and unloading operations. The material is transported to the desired location and transferred to a holding device called a chuck.
This chuck performs the loading operation by holding the transferred wafer group from both sides and transporting it to the boat. The processed wafers are aligned and placed along this groove at regular intervals.

このようなローディング作業は、カセットフロア−上に
載置された複数のカセットに対して繰り返して行われ、
これにより、複数のカセット内に収納されたウェハ群が
ボート上に次々に整列載置される。
This loading operation is repeated for multiple cassettes placed on the cassette floor.
As a result, groups of wafers housed in a plurality of cassettes are placed one after another in an array on the boat.

なお、拡散処理が終了したウェハをカセットに戻すアン
ローディング作業は、前述したローディング作業と全く
逆の手順で行われる。
Note that the unloading operation for returning the wafer after the diffusion process to the cassette is performed in a completely reverse procedure to the above-described loading operation.

ところで、このようなボート上には、ウェハを3〜10
度、好ましくは3〜5度鉛直方向に対し一定方向に傾け
て整列X!置することが好ましい。
By the way, 3 to 10 wafers can be stored on such a boat.
Align by tilting in a certain direction with respect to the vertical direction, preferably 3 to 5 degrees. It is preferable to set the

これは、ウェハを拡散処理しその表面に均一な被膜を作
るためには、ボート上に載置されたウェハを一定間隔と
する必要があり、更に処理ガスを送流した際、各ウェハ
間に均一流入させるため、流入方向に傾斜させなウェハ
を同じ方向に所定角度だけ傾けると良好な熱拡散処理で
きることが経験的に知られているからである。
This means that in order to diffuse the wafers and create a uniform coating on their surfaces, the wafers placed on the boat must be spaced at regular intervals, and when the processing gas is sent, there is a gap between each wafer. This is because it is known from experience that a good thermal diffusion process can be achieved by tilting wafers that are not inclined in the direction of inflow by a predetermined angle in the same direction to ensure uniform inflow.

また、このようなボートに設けられた収納溝は、通常垂
直方向に向いており、その幅はウェハの厚さに比べて幾
分大きめに形成されている。このため、ウェハを単にボ
ートドに搬送しても、各ウェハは溝との間の遊びによっ
て前、後ろにランダムに少しづつ傾いてしまい、ウェハ
同士がチッピングしてしまうという問題が生ずる。しか
し、ウェハを初めから一方向に斜めに傾けてローディン
グすれば、このようなウェハ同士のチッピングを防ぐこ
とができる。
Further, the storage groove provided in such a boat is usually oriented in the vertical direction, and its width is formed to be somewhat larger than the thickness of the wafer. For this reason, even if the wafers are simply transferred to the board, each wafer will be randomly tilted forward and backward little by little due to the play between the wafers and the grooves, causing the problem that the wafers will chip together. However, if the wafers are loaded obliquely in one direction from the beginning, such chipping between wafers can be prevented.

特に、ボートを石英などの材料を用いて形成し長期間使
用すると、ボートが幾分変形し収納溝のピッチが不均一
になる。しかし、前述したようにウェハを一方向に傾け
てローディングすると、このようなボート自体の変形の
影響が少なく、この面からもウェハを良好に熱拡散処理
することができる。
In particular, when a boat is made of a material such as quartz and used for a long period of time, the boat deforms to some extent and the pitch of the storage grooves becomes uneven. However, if the wafers are loaded while being tilted in one direction as described above, the influence of such deformation of the boat itself is reduced, and the wafers can be favorably subjected to thermal diffusion processing from this perspective as well.

ところで、ボート上にウェハを一定方向に向は所定角度
傾けてローディングする技術として、従来、ボート自体
を所定角度傾けてあらかじめ設置しておき、このボート
に対しウェハをローディングする装置の提案が行われて
いる(実開昭61−136543号)。
By the way, as a technique for loading wafers onto a boat at a predetermined angle in a certain direction, a device has been proposed in which the boat itself is set up in advance at a predetermined angle and the wafers are loaded onto the boat. (Utility Model Publication No. 61-136543).

しかし、このようにすると、ボートを熱処理炉に搬入す
る前に、ボート自体を水平に戻さなければならない、こ
のため、この角度調整機構およびこれに附随する各種機
構を設けることが必要となり、装置全体が複雑なものと
なってしまうという問題があった。
However, in this case, the boat itself must be returned to the horizontal position before being transported into the heat treatment furnace. This requires the provision of this angle adjustment mechanism and various accompanying mechanisms, and the entire equipment There was a problem that it became complicated.

特に、ボート上には100枚、200枚といった多量の
ウェハがa置されているため、このボートを熱処理炉に
搬入し、これら多量のウェハを一括して熱拡散処理する
現在の状況から考えると、ウェハが収納載置されたボー
ト自体を動かすことは極めて問題が多い。
In particular, considering the current situation where a large number of wafers, such as 100 or 200 wafers, are placed on a boat, the boat is transported into a heat treatment furnace and a large number of wafers are thermally diffused all at once. However, it is extremely problematic to move the boat itself on which the wafers are stored.

そこで、本発明の【]的とするところは、上述した従来
の問題を解決し、ボート自体を傾けることなく簡単かつ
確実にウェハをボート上に所定角度一方に傾けてローデ
ィング、アンローディングすることができるウェハ移送
方法を提供することにある。
Therefore, the object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems and to easily and reliably load and unload wafers onto a boat while tilting it at a predetermined angle to one side without tilting the boat itself. The purpose of the present invention is to provide a method for transferring wafers that is possible.

し発明の構成] (問題点を解決するための手段) 前記目的を達成するため、本発明は、複数枚のウェハが
垂直に立設される第1の収納容器から、所定角度傾いた
ウェハ収納溝列の第2の収納容器へウェハを自動的に移
換えるに際し1 、L2第1の収納容器をE配所定角度傾けてmWし、 上方移送手段を用いて、第1の収納容器からウェハ群を
傾けたまま上方所定位置へ向は移送し、移送されたウェ
ハ群を傾けたまま挟持手段を用いて挾持し、 第2の収が1容器へ向は移送することにより、第2の収
納容器上にウェハ群を所定角度傾は載置ずることを特徴
とする。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) In order to achieve the above object, the present invention provides a method for storing wafers tilted at a predetermined angle from a first storage container in which a plurality of wafers are vertically arranged. When automatically transferring wafers to the second storage container in the groove row, the first storage container L2 is tilted at a predetermined angle and the wafers are transferred from the first storage container using the upward transfer means. The group of wafers is transferred upward to a predetermined position while being tilted, the transferred group of wafers is held while being tilted using a holding device, and the group of wafers is transferred to a second storage container. A group of wafers is placed thereon at a predetermined angle.

(作用) 本発明によれば、フロア上に、ウェハ群を整列収納した
第1の収納容器を所定角度θ、好ましくは3〜10度、
さらに好ましくは3〜5度傾けて載置する。
(Function) According to the present invention, the first storage container in which the wafer group is arranged and stored is placed on the floor at a predetermined angle θ, preferably 3 to 10 degrees.
More preferably, it is placed at an angle of 3 to 5 degrees.

そして、この状態で第1の収納容器内に整列収納されて
いる複数枚のウェハ群を、上方移送手段、挾持手段を用
いてその傾き角θのまま第2の収納容器へ向は搬送して
いる。
Then, in this state, the plurality of wafer groups that are arranged and stored in the first storage container are transported to the second storage container while maintaining the tilt angle θ using the upward transfer means and the clamping means. There is.

従って、フロア上に所定角度θ傾けて!!置された複数
の第1の収納容器に対し、このようなウェハ搬送作業、
すなわちローディング作業を繰り返して行うことにより
、各第1の収納容器から複数のウェハ群を同じ方向に同
じ角度θだけ傾は第2の収納容器にローディングするこ
とができる。
Therefore, tilt at a predetermined angle θ on the floor! ! Such wafer transfer work is carried out for the plurality of first storage containers placed in the
That is, by repeating the loading operation, a plurality of wafer groups can be loaded from each first storage container into the second storage container in the same direction and at the same angle θ.

特に、本発明によれば、大板のウェハを第2の収納容器
自体を傾けることなく、同じ方向に所定角度θ傾けた状
態でローディングすることができるため、装置全体を極
めて簡単なものとすることができ、しかも入量のウェハ
を収納した第2の収納容器の%きを必要最小限とするこ
とができる。
In particular, according to the present invention, it is possible to load a large wafer while tilting it in the same direction at a predetermined angle θ without tilting the second storage container itself, making the entire apparatus extremely simple. Moreover, the capacity of the second storage container containing the amount of wafers can be kept to the necessary minimum.

(実施例) 次に本発明の好適な実施例を図面に基づき説明する。(Example) Next, preferred embodiments of the present invention will be described based on the drawings.

本実施例のウェハ搬送装置は、第2図に示すように、複
数のカセット10(第1の収納容器)を載置するカセッ
トステージ12と、ボート20(第2の収納容器)が設
けられたボートステージ22とが、互いに隣接してほぼ
直線的に配置され、これら各ステージ12.22に沿っ
てチャック装7j−3Qが移動する移動溝32が設けら
れている。
As shown in FIG. 2, the wafer transfer device of this embodiment includes a cassette stage 12 on which a plurality of cassettes 10 (first storage containers) are placed, and a boat 20 (second storage container). The boat stages 22 are arranged substantially linearly adjacent to each other, and a moving groove 32 is provided along which the chuck devices 7j-3Q move along each of these stages 12.22.

また、装置本体100内部は、はぼ中空形状に形成され
、第3図に示すようにその内部底面には一対のレール4
0.40が設けられ、このレール40に沿って(前記移
動11132に沿って)スライダ42か、移動するよう
形成されている。このスライダ42は、第5図に示すよ
うモータ46を用いてボールネジ44を回転駆動するこ
とによりそのスライド位置が制御される。そして、この
スライダ42、Fには、前述したチャック装r!X!t
30と、ウェハ押上装置50とが隣接配置されている。
The inside of the device body 100 is formed into a hollow shape, and as shown in FIG.
0.40, and the slider 42 is configured to move along this rail 40 (along the movement 11132). The sliding position of the slider 42 is controlled by rotationally driving a ball screw 44 using a motor 46, as shown in FIG. The slider 42, F is equipped with the aforementioned chuck r! X! t
30 and a wafer pushing device 50 are arranged adjacent to each other.

そして、この両袋ff30.50を用いて、カセット1
0からウェハ部を取り出し、ボート20へ移送するよう
形成されている。
Then, using both bags ff30.50, cassette 1
The wafer part is taken out from the boat 20 and transferred to the boat 20.

本実施例において、前記カセットステージ12には第2
図に示すように一定の間隔で複数のテーブル挿通口14
が設けられており、本実施例は、この挿通014の開口
縁部に、ウェハWを同じ方向に所定角度θ傾けてa!茸
するカセット載置部16を設けたことを第1の特徴とす
る。
In this embodiment, the cassette stage 12 has a second
As shown in the figure, a plurality of table insertion holes 14 are provided at regular intervals.
In this embodiment, the wafer W is tilted at a predetermined angle θ in the same direction at the opening edge of this insertion hole 014, and a! The first feature is that a cassette mounting section 16 for mushrooms is provided.

ここにおいて、前記傾き角θは、3度〜10度、好まし
くは3度〜5度のt!囲に設定される。
Here, the inclination angle θ is t! of 3 degrees to 10 degrees, preferably 3 degrees to 5 degrees. is set within the

通常、この載置部16上に載置されるカセット10は、
第2図に示すようにその底面が開口形成されており、し
かもその両壁内面には、ウェハを収納保持する縦溝10
aが一定の間隔で設けられている。
Usually, the cassette 10 placed on this placing section 16 is
As shown in FIG. 2, the bottom surface is formed with an opening, and the inner surfaces of both walls have vertical grooves 10 for storing and holding the wafer.
a are provided at regular intervals.

半導体装置においては、このカセット10に収納された
ウェハ群を1つの単位として取り汲うととが多い、この
ため、前記収納用の清は、通常−定の間隔で25本設け
られ、最大25枚のウェハを一単位としてカセット10
内に収納できるよう形成されている。
In semiconductor devices, a group of wafers stored in the cassette 10 is often taken out as one unit. Therefore, 25 storage containers are usually provided at regular intervals, and a maximum of 25 wafers can be taken out. 10 cassettes with wafers as one unit
It is designed so that it can be stored inside.

このように、本実施例においては、カセット10の内部
にウェハWを垂直に収納し、しかもこのカセット10を
g!載置部16上角度θだけ傾けてReする。このため
、カセットステージ12上において、カセット10内に
収納されたウェハWは第1図に示すようにθだけ左方向
に傾いた状態となる。
As described above, in this embodiment, the wafers W are vertically stored inside the cassette 10, and the cassette 10 is held in the g! Re is performed by tilting the mounting portion 16 by an angle θ. Therefore, on the cassette stage 12, the wafer W stored in the cassette 10 is tilted to the left by θ as shown in FIG.

本発明め特徴は、このカセット10内に収納されたウェ
ハWを、その傾きθのまま取り出し、ボート20に向は
移送することにより、ボート20、Eにウェハ群を同じ
方向に同じ角度θ傾けてローディングすることにある。
The feature of the present invention is that the wafers W stored in the cassette 10 are taken out with their inclination θ and transferred to the boat 20, so that the wafers are tilted in the same direction and at the same angle θ to the boat 20, E. There is a problem with loading.

本実施例において、このようなローディング作業は、ウ
ェハ押上装置50およびチャック装v30を用いて行わ
れる。
In this embodiment, such a loading operation is performed using the wafer push-up device 50 and the chuck device v30.

前記ウェハ押上装置50は、カセットステージ12のテ
ーブル挿jω口14の下に位置することができるようス
ライダ42上に取り付けられ、第3図に示すように、そ
のテーブル52e挿通口14を介してステージ12の上
方へ向は移動自在に形成されている。
The wafer lifting device 50 is mounted on the slider 42 so that it can be positioned below the table insertion opening 14 of the cassette stage 12, and as shown in FIG. The upward direction of 12 is formed to be movable.

このテーブル52の表面には、前記カセット10の収納
m 10 aのピッチ間隔に合せて25本のウェハ支持
?1t 54が形成されている。従って、第3図に示ず
ように挿通口14を介してテーブル52を上方に移動さ
せることにより、カセット10内に収納されたウェハW
の下端を支持し上方へ移送することかできる。
On the surface of this table 52, 25 wafers are supported according to the pitch interval of the storage m10a of the cassette 10. 1t 54 is formed. Therefore, by moving the table 52 upward through the insertion port 14 as shown in FIG. 3, the wafers W stored in the cassette 10 can be
It can be moved upward by supporting the lower end.

実施例の第2の特徴は、第11図に示すように、テーブ
ル528釣直方向に対し角度θたけ傾けた軌跡に沿って
」1下に移動するようウェハ押に装置50を形成したこ
とにあり、これによりテーブル52は、カセット10内
に収納されたウェハWを一定角度θだけ傾けたまま上方
へ移送することができる。
The second feature of this embodiment is that, as shown in FIG. 11, the wafer pushing device 50 is formed to move the table 528 downward by 1 along a locus inclined at an angle θ with respect to the vertical direction. Thereby, the table 52 can transport the wafer W stored in the cassette 10 upward while being tilted by a certain angle θ.

そして、上方所定位置まで移送されたウェハWは、ウェ
ハ挾持手段として機能するチャック装置30を用いて挟
持され、所定の移動軌跡を経てポー l−20へ向は移
送される。
The wafer W that has been transferred to a predetermined upper position is clamped using a chuck device 30 that functions as a wafer clamping means, and is transferred to the port 1-20 through a predetermined movement trajectory.

本実施例において、このチャック装置30は、第5図に
示すように鉛直方向に沿って角度θだけ傾けた状態でス
ライダ421−に取り付けられており、そのL部に設け
られたヘッド34をθだけ傾いた移動軌跡に沿ってF方
向へ移動できるよう形成されている。
In this embodiment, as shown in FIG. 5, the chuck device 30 is attached to the slider 421- with an angle θ tilted along the vertical direction, and the head 34 provided at the L portion of the slider 421- It is formed so that it can move in the F direction along a movement locus inclined by .

そして、このヘッド34には、第3図に示すように、ア
ーム36を介して一対のチャック38.38が収り付け
られており、このチャック38.38は同図に示す矢印
方向へ開閉駆動されるよう形成されている。
As shown in FIG. 3, a pair of chucks 38 and 38 are housed in this head 34 via an arm 36, and these chucks 38 and 38 are driven to open and close in the direction of the arrow shown in the same figure. It is designed to be

実施例の第3の特徴は、この一対のチャック38.38
の内面に、前述したカセ・ソl−10に設けられた溝1
0 aと同じピッチで形成された収納溝38aを、第8
図に示すようj9直方向に対して角度θだけ傾けて設け
たことにある。
The third feature of the embodiment is that the pair of chucks 38.38
Groove 1 provided in the above-mentioned skein/sol l-10 on the inner surface of
The storage groove 38a formed at the same pitch as the eighth
As shown in the figure, it is provided at an angle θ with respect to the direction perpendicular to j9.

この収納溝38aには、第8図、第9図に示すよう、そ
の開口端両側に一対のガイド面26.26が設けられ、
ウェハWの移送位置が多少ずれても、このガイド面26
を介して溝内にウェハWが収納されるよう形成されてい
る。
As shown in FIGS. 8 and 9, this storage groove 38a is provided with a pair of guide surfaces 26, 26 on both sides of its opening end,
Even if the transfer position of the wafer W is slightly shifted, this guide surface 26
The groove is formed so that the wafer W is accommodated in the groove.

従って、前述したウェハ押上装置50を用いて、第6図
(a)に示すように上方所定位置まで押し上げ移送され
たウェハWを、第6図(b)に示すようにその両側から
挾持することにより、ウェハ押上装W 50からチャッ
ク装置30へのウェハWの受は渡しをスムーズに行うこ
とができる。
Therefore, using the wafer lifting device 50 described above, the wafer W, which has been pushed up and transferred to a predetermined position above as shown in FIG. 6(a), is held between both sides as shown in FIG. 6(b). Therefore, the wafer W can be smoothly transferred from the wafer pusher W 50 to the chuck device 30.

このとき、前述したように前記一対のチャック38.3
8に設けられた収納溝38aは、鉛直方向に対して角度
θへ傾けて設けられているため、チャック装rt!、3
0は、カセット10内にウェハWが収納されているとき
と同じ傾きθでウェハWを挾持することとなる。
At this time, as described above, the pair of chucks 38.3
Since the storage groove 38a provided in the chuck 8 is inclined at an angle θ with respect to the vertical direction, the chuck mounting rt! ,3
0 means that the wafer W is held at the same inclination θ as when the wafer W is stored in the cassette 10.

第1図(b)には、この受渡し時における状態が示され
ており、この受渡し終了後に、例えばテーブル52を下
方向に移動させるか、またチャック38を上方に移動さ
せることにより、図中左のウェハから順にチャック38
の収納溝38aに引っかかり、全ウェハWのE端面を結
んだ面が水平状態となる。
FIG. 1(b) shows the state at the time of this delivery, and after the completion of this delivery, for example, by moving the table 52 downward or moving the chuck 38 upward, chuck 38 in order from the wafer
The wafer W is caught in the storage groove 38a, and the surface connecting the E end surfaces of all the wafers W becomes horizontal.

その後、ボールネジ44は回転駆動され、スライダ42
がボートステージ22の所定位置まで移動する。このと
き、チャック装’If 30は、第1図(C)に示す移
動軌跡200に沿って、ウェハをボート20の上方所定
位置まで移送した後、ヘッド34を下降させる。そして
、第7121に示すように、ウェハWがボート20近く
まで下降したとき、チャVり38.38を国中矢印方向
へ開き、ウェハWを第1図左方向へ所定角度θだけ顛け
た状態でボート20−1=にローティングする。
After that, the ball screw 44 is rotationally driven, and the slider 42
moves to a predetermined position on the boat stage 22. At this time, the chuck device If 30 moves the wafer to a predetermined position above the boat 20 along a movement trajectory 200 shown in FIG. 1(C), and then lowers the head 34. Then, as shown in No. 7121, when the wafer W has descended to near the boat 20, the chamber 38.38 is opened in the direction of the arrow in the country, and the wafer W is moved to the left in FIG. 1 by a predetermined angle θ. and load to boat 20-1=.

本実施例において、このボート20は、その長平方向に
沿って設けられた4本の支持ロッド20aを用いてウェ
ハWを支持するよう形成されている。そして、このロッ
ド20aの内側面には、第21Mに示すように、カセッ
ト10のピッチ間隔に合せた複数のウェハ収納溝24が
設けられ、しかもこの講26は、第8図に示ず講38a
と同様に、鉛直方向に対して所定角度θだけ傾けて形成
されている。従って、前述したチャック装置30を用い
て所定角度θだけ傾けて移送されてくるウェハWを、そ
の傾き状態θを保ったままボート20]二に収納するこ
とができる。
In this embodiment, the boat 20 is formed to support the wafers W using four support rods 20a provided along the longitudinal direction of the boat 20. As shown in 21M, the inner surface of this rod 20a is provided with a plurality of wafer storage grooves 24 that match the pitch of the cassette 10, and this groove 26 is not shown in FIG.
Similarly, it is formed inclined at a predetermined angle θ with respect to the vertical direction. Therefore, the wafer W that is transferred while being tilted by the predetermined angle θ using the chuck device 30 described above can be stored in the boat 20 while maintaining the tilted state θ.

また、この収納溝24は、第9図に示すように、一対の
ガイド面26.26が設けられ、ウェハWの移送位置が
多少ずれても、このガイド面26を介して溝内にウェハ
Wを収納できるよう形成されている。
Further, as shown in FIG. 9, this storage groove 24 is provided with a pair of guide surfaces 26, 26, so that even if the transfer position of the wafer W is slightly shifted, the wafer W can be transferred into the groove via the guide surfaces 26. It is designed to accommodate.

なお、本実施例においては、カセット10の溝10a、
チャック38に設けられた溝38aは、第8図、第9図
に示す渭24とほぼ同様に形成されている。
In addition, in this embodiment, the groove 10a of the cassette 10,
The groove 38a provided in the chuck 38 is formed substantially in the same manner as the armature 24 shown in FIGS. 8 and 9.

本実施例のウェハ移送装置は以上のように形成れており
、次にこの装置を用いて行われるウェハ移送作業を説明
する。
The wafer transfer device of this embodiment is constructed as described above, and the wafer transfer operation performed using this device will now be described.

本実施例において、ウェハWが収納されたカセットは、
第1図(a)に示すように、カセットステージ12−L
のカセット81部16上に所定角度θだけ傾けて裁置さ
れる。
In this embodiment, the cassette containing the wafer W is
As shown in FIG. 1(a), the cassette stage 12-L
The cassette 81 is placed on the section 16 at an angle of a predetermined angle θ.

これにより、カセッI・10内に収納された各ウェハW
は1;)直面に対しθだけ図中左方向に傾いた状態とな
る。
As a result, each wafer W stored in the cassette I/10
is 1;) tilted to the left in the figure by θ with respect to the plane.

この状態で、スライダ42を移動し、チャック押り装置
50のテーブル52がカセットステージ12の所定のテ
ーブル挿通口14の下方にくるよう位置制御する。
In this state, the slider 42 is moved to control the position so that the table 52 of the chuck pushing device 50 is located below a predetermined table insertion opening 14 of the cassette stage 12.

そして、ウェハ押」ユ装置50は、テーブル52を第1
図(b)に示すように、カセット挿通口1・1を介して
上方に移動させ、これによりカセット10内に収納され
た複敬枚のウェハ群を角度θだけ傾けた状態のまま上方
所定位置まで移送する。
Then, the wafer pushing device 50 moves the table 52 to the first position.
As shown in Figure (b), the group of double wafers stored in the cassette 10 is moved upward through the cassette insertion openings 1, 1, and is placed in an upper predetermined position while being tilted by an angle θ. Transport to.

そして、このウェハWが所定位置まで移送されると、第
6図に示すように、チャック38.38か閉じ、その内
面に設けられた消38aに沿ってi数枚のウェハ群が第
1図左方向へ所定角度θだけ傾いた状態のまま挾持され
る。これにより、テーブル52からチャック38へのウ
ェハWの受渡しが終了する。
When the wafer W is transferred to a predetermined position, the chuck 38, 38 is closed as shown in FIG. It is held while being tilted to the left by a predetermined angle θ. This completes the transfer of the wafer W from the table 52 to the chuck 38.

このような受渡し終了後、ウェハ押上装置50はテーブ
ル52をステージ12の裏面側まで後退させる。これに
より、ウェハは自重により下方へ移動し、ウェハ群はそ
の上端部を結んだ線が水平となるようチャック38.3
8により挾持されることになる。
After such transfer is completed, the wafer push-up device 50 retreats the table 52 to the back side of the stage 12. As a result, the wafers move downward due to their own weight, and the wafers are chucked onto the chuck 38.3 so that the line connecting their upper ends is horizontal.
It will be held by 8.

このようにして、ウェハ群がチャック38により挾持さ
れ、しかもテーブル52がカセットステージ12の下側
まで後退すると、実施例の装置は、第1 f:al (
c )に示すように、所定の移動軌跡200に沿ってチ
ャック38を移動し、ウェハ群をボート20の上方所定
位置まで移送し、第7図に示すようにチャック38.3
8を開く、これにより、カセット載置台16内に収納さ
れたウェハ群は、鉛直方向に対する傾きθを保ったまま
ボート20まで移送され、その状態のままボート20上
に裁置される。
In this way, when the wafer group is clamped by the chuck 38 and the table 52 is retreated to the lower side of the cassette stage 12, the apparatus of the embodiment operates as follows:
As shown in FIG.
8 is opened, whereby the wafer group stored in the cassette mounting table 16 is transferred to the boat 20 while maintaining the inclination θ with respect to the vertical direction, and is placed on the boat 20 in that state.

特に、本実施例においては、ボート20の両側に設けら
れた収納溝24を、第8図に示すように鉛直方向に所定
角度θだけ傾けて形成している。
In particular, in this embodiment, the storage grooves 24 provided on both sides of the boat 20 are formed so as to be inclined by a predetermined angle θ in the vertical direction, as shown in FIG.

このため、前述したように角度θだけ傾けて移送されて
きたウェハ群をその傾き状態を保ったまま確実にボー)
−20fにtlWすることができる。
Therefore, as mentioned above, a group of wafers that have been transferred at an angle of θ can be reliably transferred while maintaining that tilted state.
-20f can be tlW.

本実施例においては、このようなボート移送作業を、カ
セットステージ12上に裁置されたすべてのカセット1
0に対して繰り返し行う、従って、これら各カセット1
0内に収納されたウェハ群は、次々にボート20上に、
図中左方向へ所定角度θだけ傾けた状態でローディング
されることとなる。
In this embodiment, such boat transfer work is carried out for all cassettes 1 placed on the cassette stage 12.
0, so each of these cassettes 1
The wafer groups stored in 0 are placed on the boat 20 one after another.
It is loaded while being tilted by a predetermined angle θ to the left in the figure.

このように、本発明によれば、何ら特別な装置な用いる
ことなく、ウェハ群を一定方向へ角度θだけ傾けた状態
でボート20上にローディングすることができる。
As described above, according to the present invention, a group of wafers can be loaded onto the boat 20 while being tilted at an angle θ in a certain direction without using any special equipment.

特に、本発明によれば、ボート20」二にウェハWのロ
ーディングを終了した後、ボート20自体を従来装置の
ように傾き制御する必要がないため、多紙のウェハがr
4載されたボートの動きを必要最小限とすることができ
、半導体の製造を行う上で極めて好適なものとなる。
In particular, according to the present invention, after the loading of wafers W onto the boat 20'' is completed, there is no need to control the tilt of the boat 20 itself unlike the conventional device.
The movement of the boat loaded with four boats can be minimized, making it extremely suitable for manufacturing semiconductors.

なお゛、本発明において、拡散処理が終了したつエバW
をボート20から対応するカセット10ヘアンローディ
ングする作業は、前記ローディング作業と全く逆の手順
で行えば良い。
Furthermore, in the present invention, once the diffusion process has been completed, the
The operation of loading the corresponding cassette 10 from the boat 20 can be carried out by completely reversing the procedure of the aforementioned loading operation.

また、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、
本発明の要旨の範囲内で各毬の変形実施が可能である。
Furthermore, the present invention is not limited to the above embodiments,
Modifications of each ball are possible within the scope of the invention.

例えば、実施例においては、挟持手段としてヘッド34
と共に上下動するチャック38.38を用いた場合を例
に収り説明したが、本発明はこれに限らず、例えばロボ
ットアームに前記チャック38.38を設はウェハを挾
持するよう形成しても良い。
For example, in the embodiment, the head 34 is used as the clamping means.
Although the present invention has been described using an example of using a chuck 38.38 that moves up and down along with the wafer, the present invention is not limited to this. good.

[発明の効果コ 以上説明したように、本発明によれば、複数枚のウェハ
群を整列収納した第1の収納容器、例えば収納治具をフ
ロア上に所定角度傾けて載置し、この第1の収納容器内
に収納されなウェハ群をその傾き角を保ったまま、上方
移送手段、挾持手段を用いて第2の収納容器、例えばボ
ート上へ移送することにより、第2の収納容器上にウェ
ハ群を同じ方向に所定角度傾けたままローディングする
ことができ、しかもこのローディング作業を、簡Jrな
装置を用いて行うことができる。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, a first storage container, for example, a storage jig, in which a plurality of wafer groups are arranged and stored is placed on the floor at a predetermined angle, By transferring a group of wafers not stored in a first storage container to a second storage container, for example, onto a boat, using an upward transfer means and a clamping means while maintaining the inclination angle, the wafers are A group of wafers can be loaded while being tilted in the same direction at a predetermined angle, and this loading operation can be performed using a simple machine.

特に、本発明によれば、第2の収納容器、例えばボート
上にウェハ群をローディングした後は、ボートの動きを
必要最小限とすることができるため、多量のウェハを1
7iaしたボート自体を動かすことによって生ずる各種
不都合がなく、半導体製造装置のウェハ移送方法として
極めて好適なものとなる。
In particular, according to the present invention, after loading a group of wafers onto the second storage container, for example, a boat, the movement of the boat can be minimized, so a large number of wafers can be stored in one container.
There are no inconveniences caused by moving the 7ia boat itself, and this is an extremely suitable method for transferring wafers in semiconductor manufacturing equipment.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に係るウェハ移送方法の動作説明図であ
り、同図(a)はウェハが収納されたカセットをカセッ
トステージ」ユにa’lf!した状態の説明図、同図(
b)はウェハ押−1.装置を用いてカセットからウェハ
群を取り出した状態の説明図、同図(c)はチャックを
用いてウェハ群を移送している状態の説明図、 第2図は本実施例に用いられるウェハ移送装置の外観斜
視図、 第3図は第2図に示すウェハ移送装置を用いてカセット
からウェハを取り出している状態の説明図、 第4図は第3図のIV −IV断面図、第5図は第3図
の側面説明図、 第6図はチャックを用いてウェハを挾持する動作の説明
図であり、同図(a)はチャックを開いた状態、同図(
b)はチャックを閉じた状態の説明図、 第7図は移送されてきたウェハをボート上に載置する状
態の説明図、 第8図は、ボート、チャック、カセットの側面に設けら
れた収納溝の側面説明図、 第9図は、第8図に示ず渭のIX−IX断面説明図であ
る。 10 ・・・ カセット 10a、24 ・・・ 収納溝 20 ・・・ ボート 30 ・・・ チャック装置 38 ・・・ チャック 50 ・・・ ウェハ押、E装置 W ・・・ ウェハ
FIG. 1 is an explanatory diagram of the operation of the wafer transfer method according to the present invention, and FIG. An explanatory diagram of the state in which the
b) Wafer press-1. An explanatory diagram of a state in which a group of wafers is taken out from a cassette using the device, FIG. Fig. 3 is an explanatory diagram of a state in which a wafer is taken out from a cassette using the wafer transfer device shown in Fig. 2, Fig. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV in Fig. 3, and Fig. 5 is an external perspective view of the apparatus. is an explanatory side view of FIG. 3, and FIG. 6 is an explanatory diagram of the operation of holding a wafer using a chuck.
b) is an explanatory diagram of the state in which the chuck is closed; Figure 7 is an explanatory diagram of the state in which transferred wafers are placed on the boat; Figure 8 is an explanatory diagram of the state in which the transferred wafers are placed on the boat; and Figure 8 is the storage provided on the side of the boat, chuck, and cassette. FIG. 9 is an explanatory side view of the groove, and is an explanatory cross-sectional view taken along line IX-IX of the side not shown in FIG. 10... Cassettes 10a, 24... Storage groove 20... Boat 30... Chuck device 38... Chuck 50... Wafer pusher, E device W... Wafer

Claims (1)

【特許請求の範囲】  複数枚のウェハが垂直に立設される第1の収納容器か
ら、所定角度傾いたウェハ収納溝列の第2の収納容器へ
ウェハを自動的に移換えるに際し、上記第1の収納容器
を上記所定角度傾けて載置し、 上方移送手段を用いて、第1の収納容器からウェハ群を
傾けたまま上方所定位置へ向け移送し、移送されたウェ
ハ群を傾けたまま挾持手段を用いて挾持し、第2の収納
容器へ向け移送することにより、 第2の収納容器上にウェハ群を所定角度傾け載置するこ
とを特徴とするウェハ移送方法。
[Claims] When automatically transferring wafers from a first storage container in which a plurality of wafers are vertically arranged to a second storage container in a row of wafer storage grooves tilted at a predetermined angle, Place the first storage container tilted at the predetermined angle, and use the upward transfer means to transfer the group of wafers upward from the first storage container to a predetermined position while keeping the group tilted. A wafer transfer method comprising: placing a group of wafers on a second storage container at a predetermined angle by holding the wafers using a holding means and transferring the wafers toward the second storage container.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN114927450A (en) * 2022-05-27 2022-08-19 北京北方华创微电子装备有限公司 Transmission device and semiconductor processing equipment

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