JPH01196749A - 光情報記録媒体用基板の製造方法 - Google Patents
光情報記録媒体用基板の製造方法Info
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- JPH01196749A JPH01196749A JP2080888A JP2080888A JPH01196749A JP H01196749 A JPH01196749 A JP H01196749A JP 2080888 A JP2080888 A JP 2080888A JP 2080888 A JP2080888 A JP 2080888A JP H01196749 A JPH01196749 A JP H01196749A
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、光磁気ディスクあるいは光メモリディスクそ
の池の光情報記録媒体用基板の製造方法に関する。
の池の光情報記録媒体用基板の製造方法に関する。
［従来の技術］
例えば、光磁気デスクあるいは光メモリデスク等の光情
報記録媒体には、これら記録媒体に情報を書き込む際、
あるいは、これら記録媒体に記録された情報を読み取る
際に書き込み手段もしくは読取り手段が該基板の所定の
部位を正確に走査（トラッキング）できるようにするた
め、これら記録媒体を構成する基板として、あらかじめ
表面に案内用の凹凸パターン（以下プレグルーブという
）や、基板の特定の位置を示すトラック番号、セクター
及びセクタ一番号等の情報を表す凹凸パターン（以下プ
レピットという）等を形成した光情報記録媒体用基板が
用いられる。
報記録媒体には、これら記録媒体に情報を書き込む際、
あるいは、これら記録媒体に記録された情報を読み取る
際に書き込み手段もしくは読取り手段が該基板の所定の
部位を正確に走査（トラッキング）できるようにするた
め、これら記録媒体を構成する基板として、あらかじめ
表面に案内用の凹凸パターン（以下プレグルーブという
）や、基板の特定の位置を示すトラック番号、セクター
及びセクタ一番号等の情報を表す凹凸パターン（以下プ
レピットという）等を形成した光情報記録媒体用基板が
用いられる。
この光情報記録媒体用基板の製造方法としては従来、例
えば、以下の２つの方法があった。
えば、以下の２つの方法があった。
すなわち、そめ第１は、表面にプレグルーブやプレピッ
ト等の凹凸パターンを形成した金型（型部材）の表面に
液状の感光性樹脂（フォトポリマー）をのせ、次に、ガ
ラス基板を前記金型の表面に押圧して該ガラス基板と前
記金型とで前記感光性樹脂を挾み込むようにして該感光
性樹脂が前記金型の凹凸パターンを完全に埋め尽くすと
ともに、前記ガラス基板の表面に一様に密着するように
すし、次いで、前記ガラス基板の裏面から前記感光性樹
脂硬化用紫外線を照射して該感光性樹脂を硬化させ、し
かる後、前記金型を剥離するようにしたもので、これに
よりガラス基板表面に凹凸パターンが形成された樹脂が
密着されてなる２層構造の光情報記録媒体用基板を得る
ものである。
ト等の凹凸パターンを形成した金型（型部材）の表面に
液状の感光性樹脂（フォトポリマー）をのせ、次に、ガ
ラス基板を前記金型の表面に押圧して該ガラス基板と前
記金型とで前記感光性樹脂を挾み込むようにして該感光
性樹脂が前記金型の凹凸パターンを完全に埋め尽くすと
ともに、前記ガラス基板の表面に一様に密着するように
すし、次いで、前記ガラス基板の裏面から前記感光性樹
脂硬化用紫外線を照射して該感光性樹脂を硬化させ、し
かる後、前記金型を剥離するようにしたもので、これに
よりガラス基板表面に凹凸パターンが形成された樹脂が
密着されてなる２層構造の光情報記録媒体用基板を得る
ものである。
また、第２の方法は、いわゆるフォトリソグラフィーの
方法を用いたものであり、ガラス基板、あるいは、ガラ
ス基板にＳｉＮ ｐＡもしくは５ｉ０２膜等を８を層さ
せた基板表面にフォトレジストを塗布し、フォトマスク
を介してプレグルーブやプレピット等のパターンを転写
して現像し、しかる後、これにリアクティブイオンエツ
チング等のドライエツチングを施すことにより、前記ガ
ラス基板の表面自体に、あるいは、前記積層膜に凹凸パ
ターンを形成し、これにより、表面にプレグルーブやプ
レピット等のパターンが形成された光情報記録媒体用基
板を得るものである（例えば、特開昭５９−２１０５４
７号公報参照）。
方法を用いたものであり、ガラス基板、あるいは、ガラ
ス基板にＳｉＮ ｐＡもしくは５ｉ０２膜等を８を層さ
せた基板表面にフォトレジストを塗布し、フォトマスク
を介してプレグルーブやプレピット等のパターンを転写
して現像し、しかる後、これにリアクティブイオンエツ
チング等のドライエツチングを施すことにより、前記ガ
ラス基板の表面自体に、あるいは、前記積層膜に凹凸パ
ターンを形成し、これにより、表面にプレグルーブやプ
レピット等のパターンが形成された光情報記録媒体用基
板を得るものである（例えば、特開昭５９−２１０５４
７号公報参照）。
［発明が解決しようとする課題］
ところが、前記第１の方法は、比較的製造コストが安価
であるという利点はあるものの、前記ガラス基板と感光
性樹脂との接着性、金型からの剥離性、感光性樹脂の硬
化時における体積収縮や気泡の発生等、多くの問題があ
り、記録密度の飛躍的増大が要請される近年において、
それに十分にこたえる高品質の基板を得ることは必ずし
も容易ではないという欠点があった。
であるという利点はあるものの、前記ガラス基板と感光
性樹脂との接着性、金型からの剥離性、感光性樹脂の硬
化時における体積収縮や気泡の発生等、多くの問題があ
り、記録密度の飛躍的増大が要請される近年において、
それに十分にこたえる高品質の基板を得ることは必ずし
も容易ではないという欠点があった。
また、前記第２の方法は、加工精度という点では十分で
あるものの、露光装置、現像装置、ドライエツチング装
置等の高価な装置が必要であるとともに、これらの装置
を用いてクリーンルーム内において黄色灯のもとて作業
をしなければならず、生産コスト及び作業性の点で著し
く不利であるという欠点を有していた。
あるものの、露光装置、現像装置、ドライエツチング装
置等の高価な装置が必要であるとともに、これらの装置
を用いてクリーンルーム内において黄色灯のもとて作業
をしなければならず、生産コスト及び作業性の点で著し
く不利であるという欠点を有していた。
本発明の目的は、上述の欠点を除去した光情報記録媒体
用基板の製造方法を提供することにある。
用基板の製造方法を提供することにある。
［課題を解決するための手段］
本発明は、要するに、透光性基板表面に形成したレジス
ト膜に、一定の情報を表す凹凸パターンを形成した型部
材を押圧して前記レジスト膜に前記型部材の凹凸パター
ンを転写し、しかる後、このレジスト膜が形成された透
光性基板に直接エツチングを施すという極めて簡単かつ
確実な方法により、前記透光性基板に所望の凹凸パター
ンを形成するようにしたものであって、 具体的には、 透光性基板表面にレジスト膜を形成し、次に、前記透光
性基板のレジスト膜が形成された面に、一定の情報を表
す凹凸パターンが形成されてなる型部材を押圧して核型
部材の凹凸パターンを前記レジスト膜に転写し、 しかる後、前記レジスト膜が形成された透光性基板に前
記レジスト膜が形成された側からエツチング処理を施す
ことにより、前記レジスト膜に形成された凹凸パターン
に対応する凹凸パターンを前記透光性基板に形成するこ
とを特徴とした構成を有する。
ト膜に、一定の情報を表す凹凸パターンを形成した型部
材を押圧して前記レジスト膜に前記型部材の凹凸パター
ンを転写し、しかる後、このレジスト膜が形成された透
光性基板に直接エツチングを施すという極めて簡単かつ
確実な方法により、前記透光性基板に所望の凹凸パター
ンを形成するようにしたものであって、 具体的には、 透光性基板表面にレジスト膜を形成し、次に、前記透光
性基板のレジスト膜が形成された面に、一定の情報を表
す凹凸パターンが形成されてなる型部材を押圧して核型
部材の凹凸パターンを前記レジスト膜に転写し、 しかる後、前記レジスト膜が形成された透光性基板に前
記レジスト膜が形成された側からエツチング処理を施す
ことにより、前記レジスト膜に形成された凹凸パターン
に対応する凹凸パターンを前記透光性基板に形成するこ
とを特徴とした構成を有する。
［作用］
前記構成において、前記透光性基板のレジスト膜が形成
された面にエツチング処理を施すと、まず、前記凹凸パ
ターンのうち、凹部のレジストの厚さが薄い部分が先に
除去され、透光性基板の表面が露出し、さらにエツチン
グを続けると、この部分の透光性基板自体のエツチング
がなされる。
された面にエツチング処理を施すと、まず、前記凹凸パ
ターンのうち、凹部のレジストの厚さが薄い部分が先に
除去され、透光性基板の表面が露出し、さらにエツチン
グを続けると、この部分の透光性基板自体のエツチング
がなされる。
このとき、前記レジスト膜の凹凸パターンのうちの凸部
については、いまだレジストが残留しているので、この
残留レジストに遮られて透光性基板自体のエツチングは
なされない、したがって、これにより、前記透光性基板
自体に前記型部材と同じ凹凸パターンが形成されること
になる。
については、いまだレジストが残留しているので、この
残留レジストに遮られて透光性基板自体のエツチングは
なされない、したがって、これにより、前記透光性基板
自体に前記型部材と同じ凹凸パターンが形成されること
になる。
［実施例］
第１図ないし第５図は本発明の一実施例に係る光情報記
録媒体用基板の製造方法を説明するための図である。以
下、第１図ないし第５図を参照にして本発明の一実施例
に係る光情報記録媒体用基板の製造方法を説明する。
録媒体用基板の製造方法を説明するための図である。以
下、第１図ないし第５図を参照にして本発明の一実施例
に係る光情報記録媒体用基板の製造方法を説明する。
第１図において、符号１は外径的１３０ｎｕ＋＋の透光
性基板たる円盤状のガラス基板である０本方法は、まず
、このガラス基板１上に回転塗布法（スピンコード法）
により、ノボラック樹脂製のフォトレジスト０ＦＲＲ８
００（東京応化株式会社から販売されているフォトレジ
ストの商品名）を塗布し、厚さ約５ｏｏｏオングストロ
ームのレジスト膜２を形成する。
性基板たる円盤状のガラス基板である０本方法は、まず
、このガラス基板１上に回転塗布法（スピンコード法）
により、ノボラック樹脂製のフォトレジスト０ＦＲＲ８
００（東京応化株式会社から販売されているフォトレジ
ストの商品名）を塗布し、厚さ約５ｏｏｏオングストロ
ームのレジスト膜２を形成する。
次に、前記ガラス基板１と同じ外径を有する型部材たる
ニッケル製の金型を用意する。この金型３の一方の表面
にはプレグルーブやプレピット等の情報パターン４が設
けられている。この場合、このパターン４は、例えば、
凸部と四部との段差が約４０００オングストローム、凸
部の幅が約０．６μｍ、凹部の幅が約１．６μｌとされ
て同心円上に形成されたプレグルーブである。なお、こ
のとき、前記金型の中心をその中心とする直径的３５ｎ
ｉの円内にはパターンは形成されず、この部分は光情報
記録媒体を外部装置に保持するための保持領域とされる
。
ニッケル製の金型を用意する。この金型３の一方の表面
にはプレグルーブやプレピット等の情報パターン４が設
けられている。この場合、このパターン４は、例えば、
凸部と四部との段差が約４０００オングストローム、凸
部の幅が約０．６μｍ、凹部の幅が約１．６μｌとされ
て同心円上に形成されたプレグルーブである。なお、こ
のとき、前記金型の中心をその中心とする直径的３５ｎ
ｉの円内にはパターンは形成されず、この部分は光情報
記録媒体を外部装置に保持するための保持領域とされる
。
次いで、前記金型３を、前記ガラス基板１のレジストＷ
Ａ２が形成された面に平行に対向させ、第２図に示され
るように該レジスト膜２に圧着−置等を用いて押圧する
。この場合、押圧力は約１００Ｋｇ／ｃｍ’程度とされ
る。
Ａ２が形成された面に平行に対向させ、第２図に示され
るように該レジスト膜２に圧着−置等を用いて押圧する
。この場合、押圧力は約１００Ｋｇ／ｃｍ’程度とされ
る。
その後、第３図に示されるように前記金型３を前記レジ
スト膜から剥離する。
スト膜から剥離する。
こうして前記レジスト膜２に凹凸パターンが形成された
ら、次に、前記ガラス基板１に、該ガラス基板１の前記
レジスト膜２が形成された側から周知のりアクティブイ
オンエツチング法により、エツチング処理を施す、なお
、この場合、例えば、平行平板型エツチング装置を用い
る場合には、ＣＦ４のガス圧２０Ｐａ、 ＲＦ （高周
波）パワ−２００Ｗ程度とする。このエツチング処理を
約４．５分行うと、第４図に示されるように、前記レジ
ストＷＡ２に形成された凹凸パターンの凹部の部分のレ
ジスト膜２が全て除去され、さらに、その部位にあたる
前記ガラス基板１の部分が約７００オングストロームの
深さに至るまでにエツチングされる。
ら、次に、前記ガラス基板１に、該ガラス基板１の前記
レジスト膜２が形成された側から周知のりアクティブイ
オンエツチング法により、エツチング処理を施す、なお
、この場合、例えば、平行平板型エツチング装置を用い
る場合には、ＣＦ４のガス圧２０Ｐａ、 ＲＦ （高周
波）パワ−２００Ｗ程度とする。このエツチング処理を
約４．５分行うと、第４図に示されるように、前記レジ
ストＷＡ２に形成された凹凸パターンの凹部の部分のレ
ジスト膜２が全て除去され、さらに、その部位にあたる
前記ガラス基板１の部分が約７００オングストロームの
深さに至るまでにエツチングされる。
しかる後、前記ガラス基板１上に残留したレジスト膜２
を、周知の酸素プラズマエツチング法等を用い、て灰化
して除去することにより、第５図に示されるような、表
面に凹凸パターンが形成された光情報記録媒体用基板を
得ることができる。なお、このときの酸素プラズマエツ
チング法の条件は、ＲＦパワー５０Ｗ、０２ガス圧２０
Ｐａ程度とする。
を、周知の酸素プラズマエツチング法等を用い、て灰化
して除去することにより、第５図に示されるような、表
面に凹凸パターンが形成された光情報記録媒体用基板を
得ることができる。なお、このときの酸素プラズマエツ
チング法の条件は、ＲＦパワー５０Ｗ、０２ガス圧２０
Ｐａ程度とする。
上述の一実施例によれば、前述の従来例における第１の
方法のように、ガラス基板と感光性樹脂との接着性、金
型からの＃Ｊ離性、感光性樹脂の硬化時における体積収
縮や気泡の発生等の問題がほとんど生ぜず、高密度の情
報を記録可能な高品質な基板を確実に得ることができる
。しかも、前述の従来例における第２の方法のように、
露光装置、現像装置、ドライエツチング装置等の高価な
装置を用いる必要が全くないとともに、クリーンルーム
内において黄色灯のもとて作業をする等の必要もないか
ら、生産コスト及び作業性の点でも著しく有利であると
いう利点を有する。
方法のように、ガラス基板と感光性樹脂との接着性、金
型からの＃Ｊ離性、感光性樹脂の硬化時における体積収
縮や気泡の発生等の問題がほとんど生ぜず、高密度の情
報を記録可能な高品質な基板を確実に得ることができる
。しかも、前述の従来例における第２の方法のように、
露光装置、現像装置、ドライエツチング装置等の高価な
装置を用いる必要が全くないとともに、クリーンルーム
内において黄色灯のもとて作業をする等の必要もないか
ら、生産コスト及び作業性の点でも著しく有利であると
いう利点を有する。
なお、上述の一実施例では、透光性基板とじてガラス基
板を用いた例を掲げたが、これは、例えばガラス基板の
上に例えば５ｉ０２膜等を積層した積層膜を形成したも
のを用いてもよい。
板を用いた例を掲げたが、これは、例えばガラス基板の
上に例えば５ｉ０２膜等を積層した積層膜を形成したも
のを用いてもよい。
また、レジスト膜としては、ノボラック樹脂のかわりに
、例えば、ＰＭＭＡ等の他のフォトレジストを用いても
よく、さらには、ポリイミド等の他の高分子材料を用い
てもよい、すなわち、本発明におけるレジスト膜の材料
はフォトレジストのみを意味するものでなく、型部材に
よって凹凸パターンが形成可能でかつエツチング手段に
よってエツチング可能な材料を含むものである。なお、
その場合には、レジスト膜の膜厚、エツチング条件等を
、用いる材料にあわせて適宜変えるべきことは勿論であ
る。
、例えば、ＰＭＭＡ等の他のフォトレジストを用いても
よく、さらには、ポリイミド等の他の高分子材料を用い
てもよい、すなわち、本発明におけるレジスト膜の材料
はフォトレジストのみを意味するものでなく、型部材に
よって凹凸パターンが形成可能でかつエツチング手段に
よってエツチング可能な材料を含むものである。なお、
その場合には、レジスト膜の膜厚、エツチング条件等を
、用いる材料にあわせて適宜変えるべきことは勿論であ
る。
［発明の効果］
以上詳述したように、本発明は、透光性基板表面に形成
したレジスト膜に、一定の情報を表す凹凸パターン形成
した型部材を押圧して前記レジスト膜に前記型部材の凹
凸パターンを転写し、しがる後、このレジスト膜が形成
された透光性基板に直接エツチングを施すという極めて
簡単かつ確実な方法により、前記透光性基板に所望の凹
凸パターンを形成するようにしたものであって、これに
より、高密度の情報を記録可能な高品質な光情報記録媒
体用基板を安価にかつ確実に得ることができるという効
果を得ているものである。
したレジスト膜に、一定の情報を表す凹凸パターン形成
した型部材を押圧して前記レジスト膜に前記型部材の凹
凸パターンを転写し、しがる後、このレジスト膜が形成
された透光性基板に直接エツチングを施すという極めて
簡単かつ確実な方法により、前記透光性基板に所望の凹
凸パターンを形成するようにしたものであって、これに
より、高密度の情報を記録可能な高品質な光情報記録媒
体用基板を安価にかつ確実に得ることができるという効
果を得ているものである。
第１図ないし第５図は本発明の一実施例に係る光情報記
録媒体用基板の製造方法を説明するための図である。 １・・・透光性基板たるガラス基板、 ２・・・レジスト膜、 ３・・・型部材なる金型、 ４・・・一定の情報を表す凹凸パターン。
録媒体用基板の製造方法を説明するための図である。 １・・・透光性基板たるガラス基板、 ２・・・レジスト膜、 ３・・・型部材なる金型、 ４・・・一定の情報を表す凹凸パターン。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 透光性基板表面にレジスト膜を形成し、 次に、前記透光性基板のレジスト膜が形成された面に、
一定の情報を表す凹凸パターンが形成されてなる型部材
を押圧して該型部材の凹凸パターンを前記レジスト膜に
転写し、 しかる後、前記レジスト膜が形成された透光性基板に前
記レジスト膜が形成された側からエッチング処理を施す
ことにより、前記レジスト膜に形成された凹凸パターン
に対応する凹凸パターンを前記透光性基板に形成するこ
とを特徴とした光情報記録媒体用基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2080888A JPH01196749A (ja) | 1988-01-30 | 1988-01-30 | 光情報記録媒体用基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2080888A JPH01196749A (ja) | 1988-01-30 | 1988-01-30 | 光情報記録媒体用基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01196749A true JPH01196749A (ja) | 1989-08-08 |
Family
ID=12037339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2080888A Pending JPH01196749A (ja) | 1988-01-30 | 1988-01-30 | 光情報記録媒体用基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01196749A (ja) |
Cited By (54)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5772905A (en) * | 1995-11-15 | 1998-06-30 | Regents Of The University Of Minnesota | Nanoimprint lithography |
| WO2000000868A1 (en) * | 1998-06-30 | 2000-01-06 | Regents Of The University Of Minnesota | Surfaces with release agent |
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