JPH01189044A - Production of information recording medium of golden color - Google Patents
Production of information recording medium of golden colorInfo
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 54
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 39
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 39
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 27
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 41
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 19
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 14
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 8
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract description 12
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 12
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 abstract description 10
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 3
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 abstract description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- JRBRVDCKNXZZGH-UHFFFAOYSA-N alumane;copper Chemical compound [AlH3].[Cu] JRBRVDCKNXZZGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 239000008280 blood Substances 0.000 description 1
- 210000004369 blood Anatomy 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- ZFLIKDUSUDBGCD-UHFFFAOYSA-N parabanic acid Chemical compound O=C1NC(=O)C(=O)N1 ZFLIKDUSUDBGCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- -1 silver aluminum Chemical compound 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
几匪立玖歪立互
本発明は、金色を呈する情報記録媒体を製造する方法に
関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing an information recording medium exhibiting a golden color.
■の 的1貴tらびに の婬題
昨今、光ディスク、コンパクトディスク、CD−ROM
などが情報記録媒体として広く使用されている。このよ
うな情報記録媒体には、円盤状基板と、該基板上に設け
られた無数の微細など・ントあるいはバブルが形成され
た金属薄膜とからなり、このピットあるいはバブルの状
態を変化させてレーザー光などの反射率(あるいは透過
率)を変えることにより情報を記録するタイプ等がある
。■Target 1: The most common problem these days, optical discs, compact discs, and CD-ROMs.
are widely used as information recording media. Such information recording media consist of a disk-shaped substrate and a metal thin film provided on the substrate in which countless minute pits or bubbles are formed, and the state of these pits or bubbles is changed to generate a laser beam. There are types that record information by changing the reflectance (or transmittance) of light, etc.
従って、高い精度で情報を記録するためには、レーザー
光の反射率(あるいは透過率)が一定になるように金属
薄膜が均一であることが必要である。Therefore, in order to record information with high precision, it is necessary that the metal thin film be uniform so that the reflectance (or transmittance) of the laser beam is constant.
このような情報記録媒体における金属薄膜は、塗布法な
どを利用して形成することもできるが、最近は、蒸着法
、イオンブレーティング法あるいはスパッタ法などを利
用して金属薄膜を形成することが多くなってきている。Metal thin films in such information recording media can be formed using coating methods, but recently, metal thin films can also be formed using vapor deposition methods, ion blasting methods, sputtering methods, etc. It's becoming more common.
そして、上記のような方法において、蒸着金属としては
、融点が低く蒸着性の良好なアルミニウムが最も広範に
用いられている。従って情報記録媒体は、このアルミニ
ウムの薄膜のなめに銀色を呈しているのが一般的である
。In the above method, aluminum, which has a low melting point and good vapor deposition properties, is most widely used as the vapor deposition metal. Therefore, information recording media generally have a silver color due to the aluminum thin film.
ところで、情報記録媒体として、上述のアルミニウム薄
膜を有する銀色のものの他に、金色を呈する情報記録媒
体が既に知られている。このような金色の情報記録媒体
は、アルミニウムの代わりに金を被着させることにより
製造することができる。By the way, as an information recording medium, in addition to the above-mentioned silver-colored information recording medium having an aluminum thin film, information recording media exhibiting a golden color are already known. Such a golden information recording medium can be manufactured by depositing gold instead of aluminum.
このように金を用いて形成された薄膜を有する情報記録
媒体は、非常に高価な感じを与えることができると共に
、アルミニウム薄膜よりも薄膜の耐久性およびレーザー
光の反射率が高く、特性的には優れている。しかしなが
ら、金を用いて形成された薄膜は上記のような優れた特
性を有しているにも拘らず、金が非常に高価であるなめ
にその用途は非常に限られているのが現状である。In this way, information recording media with thin films formed using gold can give a very expensive feel, and the thin films have higher durability and laser light reflectance than aluminum thin films, and have characteristics such as is excellent. However, although thin films formed using gold have the excellent properties mentioned above, their applications are currently very limited because gold is extremely expensive. be.
他方、金色を呈する金属としては、上記の全以外に、銅
とアルミニウムとの合金および銅と亜鉛との合金から知
られている。これらの合金を用いて、蒸着法、イオンブ
レーティング法あるいはスパッタリング法により薄膜を
形成することができれば、情報記録媒体に高価な感じを
与えることができると共に、レーザー光などの反射率な
ども良好な情報記録媒体を製造することができる。On the other hand, in addition to all of the above-mentioned metals, alloys of copper and aluminum and alloys of copper and zinc are also known as metals that exhibit a golden color. If thin films can be formed using these alloys by vapor deposition, ion blating, or sputtering, it will be possible to give information recording media an expensive feel and also have good reflectivity for laser beams. Information recording media can be manufactured.
しかしながら、これらの金属を金属源あるいはターゲッ
トとして蒸着法あるいはイオンブレーティング法により
金属薄膜を形成すると、合金を構成する金属の沸点ある
いは活性の相違などにより、用いた合金の組成と被着さ
れた薄膜との金属組成が一致しないという問題を生ずる
。従って、これらの方法では鮮明な金色を呈する情報記
録媒体を製造することができないことが判明した。However, when metal thin films are formed by vapor deposition or ion blating using these metals as metal sources or targets, differences in the composition of the alloy used and the thin film deposited may occur due to differences in the boiling points or activities of the metals that make up the alloy. A problem arises in that the metal compositions of the two materials do not match. Therefore, it has been found that it is not possible to produce an information recording medium exhibiting a clear golden color using these methods.
この点スパッタリング法を採用すると、ターゲットとし
て用いた合金の組成と得られる合金薄膜との組成はほぼ
等しくなるので、ターゲット金属として銅とアルミニウ
ムとの合金、または銅と亜鉛との合金を用いることによ
り金色の情報記録媒体を製造することができる。In this respect, when the sputtering method is adopted, the composition of the alloy used as the target and the composition of the obtained alloy thin film are almost the same, so it is possible to use an alloy of copper and aluminum or an alloy of copper and zinc as the target metal. A golden information recording medium can be manufactured.
しかしながら、この方法ではターゲットとじて用いた合
金を全部使用し切ることができず、また使用しきれなか
った合金を再使用することもできない、金色の情報記録
媒体を製造するために用いる銅とアルミニウムとの合金
ターゲットあるいは銅と亜鉛との合金ターゲットは安価
でないので、このように使用されずに廃棄される合金タ
ーゲットのために、得られる情報記録媒体がコスト高に
なるとの問題がある。However, with this method, it is not possible to use up all the alloy used in the target, and the unused alloy cannot be reused. Since alloy targets of copper and zinc or alloy targets of copper and zinc are not cheap, there is a problem in that the resulting information recording medium becomes expensive due to the alloy targets being discarded without being used.
他方、金属の蒸着法として、最近、対向ターゲット式の
スパッタ法が利用されるようになってきている。On the other hand, facing target sputtering has recently come into use as a metal vapor deposition method.
対向ターゲット式のスパッタ法は、たとえばIEEE
Transaction on Hagnetics誌
Vo1.HAG−16゜No、 5.198oあるいは
特開昭57−158380号公報などに示されているよ
うに二枚の同じサイズの平板ターゲットを向かい合わせ
に配置し、この二枚の平板ターゲットを陰極とし、シー
ルドリングを陽極としてプラズマ集束磁界を二枚の平板
ターゲット表面に印加してターゲット金属の蒸着を行な
う方法である。そして、特開昭60−89569号公報
には、二枚の平板ターゲットとして異なる金属を用いて
厚さ方向に濃度勾配が形成された金属薄膜の形成方法が
開示されている。The facing target sputtering method is, for example, IEEE
Transaction on Hagnetics Vol.1. As shown in HAG-16°No. 5.198o or Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-158380, two flat targets of the same size are placed facing each other, and these two flat targets are used as cathodes. In this method, target metal is deposited by applying a plasma focusing magnetic field to the surfaces of two flat targets using a shield ring as an anode. Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-89569 discloses a method of forming a metal thin film in which a concentration gradient is formed in the thickness direction using different metals as two flat targets.
すなわち、この方法は、基板を一方のターゲットから他
方のターゲット方向に移動させながらスパッタリングを
行なうことによりターゲットと基板との距離に対応させ
て基板上の厚さ方向にターゲット金属の蒸着濃度勾配を
形成する方法である。In other words, in this method, sputtering is performed while the substrate is moved from one target to the other, thereby forming a deposition concentration gradient of the target metal in the thickness direction of the substrate in accordance with the distance between the target and the substrate. This is the way to do it.
従って、ターゲットとして銅およびアルミニウムあるい
は銅および亜鉛を使用して、この方法をそのまま利用し
て情報記録媒体の金属薄膜を形成したとしても、円盤状
基板上の厚さ方向に、銅およびアルミニウムまたは銅お
よび亜鉛の濃度勾配が形成された蒸着金属膜が形成され
、これらの金属が均一に分布して金色を呈する情報記録
媒体を製造することはできない。Therefore, even if copper and aluminum or copper and zinc are used as targets and this method is used as is to form a metal thin film for an information recording medium, copper and aluminum or copper A vapor-deposited metal film is formed in which a concentration gradient of zinc and zinc is formed, and it is impossible to manufacture an information recording medium in which these metals are uniformly distributed and exhibit a golden color.
几匪座1善
本発明は上記のような従来技術に伴う問題点を解消しよ
うとするものであって、金色の情報記録媒体を製造する
ことができる新規な方法を提供することを目的としてい
る。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention aims to solve the problems associated with the prior art as described above, and aims to provide a new method that can produce a golden information recording medium.
さらに詳しくは、本発明は対向ターゲット式スパッタ法
を利用して金色の情報記録媒体を製造する新規な方法を
提供することを目的としている。More specifically, it is an object of the present invention to provide a novel method for manufacturing a gold-colored information recording medium using a facing target sputtering method.
1匪ゑ且1
本発明の金色情報記録媒体の製造法は、円盤状基板上に
金属薄膜を形成することを含む情報記録媒体の製造方法
であって、一方のターゲットとして銅を用い、他方のタ
ーゲットとしてアルミニウムおよび/または亜鉛を用い
た対向ターゲット式スパッタ法により、該円盤状基板を
回転させながら、ターゲットとして用いた金属からなる
金色の合金薄膜を該基板上に被着させることを特徴とし
ている。1 匪ゑゔ1 The method for manufacturing a gold-colored information recording medium of the present invention includes forming a metal thin film on a disk-shaped substrate, using copper as one target, and using copper as the other target. It is characterized by depositing a golden alloy thin film made of the metal used as the target onto the disk-shaped substrate while rotating the disk-shaped substrate by a facing target sputtering method using aluminum and/or zinc as the target. .
本発明によれば、対向ターゲット式スパッタ法を採用し
、かつ一方のターゲットとして銅を用い他方のターゲッ
トとしてアルミニウムおよび/または亜鉛を用いること
により金色の情報記録媒体を製造することができる。し
かも基板を回転させながら上記の合金を被着させること
により、上記のターゲットとして用いた金属の合金が基
板全体に均一に被着される。According to the present invention, a gold-colored information recording medium can be manufactured by employing a facing target sputtering method and using copper as one target and aluminum and/or zinc as the other target. Furthermore, by depositing the above alloy while rotating the substrate, the metal alloy used as the target can be uniformly deposited over the entire substrate.
九肌左l左皿盈墨
以下、本発明に係る金色の情報記録媒体の製造方法につ
いて具体的に説明する。The method for manufacturing the golden information recording medium according to the present invention will be specifically described below.
本発明の金色情報記録媒体の製造法は、合金としたとき
に金色を呈する特定の金属をターゲットとして用いた対
向ターゲット式スパッタ法を採用し、円盤状基板を回転
させながらターゲット金属を蒸着させることを主な特徴
としている。The method for manufacturing the golden information recording medium of the present invention employs a facing target sputtering method using a specific metal as a target that exhibits a golden color when made into an alloy, and vapor-depositing the target metal while rotating a disc-shaped substrate. is the main feature.
第1図に本発明の金色情報記録媒体の製造に用いること
ができる対向ターゲット式スパッタ装置の一例を概念的
に示す。FIG. 1 conceptually shows an example of a facing target type sputtering apparatus that can be used for manufacturing the golden information recording medium of the present invention.
本発明で用いることができる対向ターゲット式スパッタ
装置は、基本的には、装置外板1と、装置外板1によっ
て気密状態が維持された真空槽2と、この真空槽2内に
ある気体を排気する排気手段3と、真空槽2内に不活性
ガスを供給する不活性ガス導入手段4とを有する。The facing target sputtering apparatus that can be used in the present invention basically includes an outer panel 1 of the apparatus, a vacuum chamber 2 whose airtight state is maintained by the outer panel 1, and a gas in the vacuum chamber 2. It has an exhaust means 3 for evacuation, and an inert gas introduction means 4 for supplying inert gas into the vacuum chamber 2.
そして、真空槽2内には、装置外板1に絶縁部材を介し
て固着されたターゲットホールダ−5a。Inside the vacuum chamber 2, a target holder 5a is fixed to the outer panel 1 of the apparatus via an insulating member.
5bとが備えられている。このターゲットホールダー5
8.5 bは、一定の空間を隔てて配置されており、か
つターゲットが対面するように配置されている。ターゲ
ットホールダー5 a、 5 bには、それぞれN極と
S極とが対抗するように永久磁石6 a、 61)が設
けられている。従って、永久磁石6 a、 6 bによ
って、ターゲットホールダ−5a。5b is provided. This target holder 5
8.5 b are placed apart from each other by a certain distance, and are placed so that the targets face each other. Permanent magnets 6a, 61) are provided in the target holders 5a, 5b, respectively, so that their north and south poles oppose each other. Therefore, the target holder 5a is fixed by the permanent magnets 6a, 6b.
5b間で両者の対向方向に磁界が形成される。A magnetic field is formed between the two in the opposing direction.
そして、本発明の方法で使用する対向ターゲット式スパ
ッタ装置は、真空Pa2内のターゲットホールダー5
a、 5 bの側方には、上記永久磁石6 a、 6
bによってターゲットホールダー5 a、 5 b間に
形成される磁界と平行に円盤状基板を装着する基板装着
台7が設けられている。この基板装着台7は回転軸8に
軸着されており、この回転軸8は回転手段9によって回
転する。The facing target type sputtering apparatus used in the method of the present invention has a target holder 5 in a vacuum Pa2.
On the sides of the permanent magnets 6a and 6b are the permanent magnets 6a and 6b.
A substrate mounting table 7 on which a disk-shaped substrate is mounted is provided parallel to the magnetic field formed between the target holders 5a and 5b. This substrate mounting table 7 is pivotally attached to a rotating shaft 8, and this rotating shaft 8 is rotated by a rotating means 9.
本発明の金色情報記録媒体の製造方法は、たとえば上記
のような対向ターゲット式スパッタ装置を用いて、円盤
状基板を回転させながら蒸着を行なう。In the method for manufacturing a gold information recording medium of the present invention, vapor deposition is performed while rotating a disc-shaped substrate using, for example, a facing target type sputtering apparatus such as the one described above.
本発明において用いることができる円盤状基板としては
、ポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂、オレフィン
系樹脂、パラバン酸樹脂およびエポキシ樹脂などのプラ
スチック、アルミニウムなどの金属ならびにシリコンウ
ェハーおよびガラスなどの無fi物などが用いられる。Disc-shaped substrates that can be used in the present invention include plastics such as polycarbonate resin, acrylic resin, olefin resin, parabanic acid resin and epoxy resin, metals such as aluminum, and non-fiber materials such as silicon wafers and glass. used.
上記の基板は、そのまま使用することもできるが、さら
に上記円盤状基板の表面に樹脂層あるいは反射層などの
増感層が設けられていてもよい。The above substrate can be used as is, but a sensitizing layer such as a resin layer or a reflective layer may be further provided on the surface of the disk-shaped substrate.
また、この円盤状基板は、表面にスタンパなどを用いて
微細な凹凸が形成されたものであってもよい。Further, this disk-shaped substrate may have fine irregularities formed on its surface using a stamper or the like.
本発明において基板の厚さは用途などに合わせて適宜設
定することができるが、通常は、0.5〜2,5Bの厚
さのものを使用する。In the present invention, the thickness of the substrate can be appropriately set depending on the intended use, but usually a substrate having a thickness of 0.5 to 2.5 B is used.
このような円盤状基板10を基板装着台7に装着し、こ
の基板10表面に金属の蒸着を行なう。Such a disk-shaped substrate 10 is mounted on the substrate mounting table 7, and metal is deposited on the surface of the substrate 10.
本発明において一方のターゲットT1として銅を用い、
他方のターゲットT2としてアルミニウムまたは亜鉛を
用いる。ターゲットT2は アルミニウムと亜鉛との合
金であってもよい。In the present invention, copper is used as one target T1,
Aluminum or zinc is used as the other target T2. Target T2 may be an alloy of aluminum and zinc.
なお、これらの金属は純度が高いことが好ましいが、得
られる金属薄膜の特性を損なわない範囲内で他の金属な
どを配合しても、あるいは他の金属が混入していてもよ
い。Note that these metals preferably have high purity, but other metals may be blended or mixed within a range that does not impair the properties of the obtained metal thin film.
本発明における対向ターゲット式スパッタ法は真空槽2
内にある空気を排気手段3を用いて除去すると共に、不
活性ガス供給手段4からアルゴンガスなどの不活性ガス
を真空槽2内に供給する。そして、真空槽2内を通常は
lX10−2〜L x 1. O’torrの範囲内に
なるように減圧にする。The facing target sputtering method in the present invention uses a vacuum chamber 2.
The air inside the vacuum chamber 2 is removed using the exhaust means 3, and an inert gas such as argon gas is supplied into the vacuum chamber 2 from the inert gas supply means 4. The inside of the vacuum chamber 2 is usually lx10-2 to lx1. Reduce the pressure to within O'torr.
さらにlXl0’〜1 x 10−4torrの範囲内
になるように減圧にすることが好ましい。Furthermore, it is preferable to reduce the pressure to within the range of lXl0' to 1 x 10-4 torr.
このようにして真空槽2内部を不活性雰囲気下で減圧に
し、ターゲットT1およびT2をカソードとし、装置外
板1をアノードとして蒸着を行なう。In this manner, the pressure inside the vacuum chamber 2 is reduced under an inert atmosphere, and vapor deposition is performed using the targets T1 and T2 as cathodes and the apparatus outer plate 1 as an anode.
このように不活性ガスを導入して、上記範囲になるよう
に減圧することにより、ターゲットT1゜T2からスパ
ッタ放出された粒子が、不活性ガスと衝突することによ
って散乱されながら、ターゲットT 、T2間空間の側
方に配置された円盤状基板10上に良好に到達する。By introducing the inert gas and reducing the pressure to the above range, the particles sputtered from the targets T1 and T2 collide with the inert gas and are scattered. The light reaches the disk-shaped substrate 10 placed on the side of the interspace well.
本発明においては、上記のような蒸着に際し、円盤状基
板10を回転させながら蒸着を行なうことが必要である
。すなわち、対向ターゲット式スッパッタ法を利用する
と、側方にある円盤状基板10上にターゲットT およ
びT2の金属が余佐剤に従って基板上に蒸着する。従っ
て、基板を固定したままで蒸着を行なうとすると、円盤
状基板10のターゲットT1側(図面においてはA側)
ではターゲットT1で用いた金属の含有率が高くなり、
逆にターゲットT2側(図面においてはB側)ではター
ゲットT2で用いた金属の含有率が高くなるために、円
盤状基板10上にターゲットT およびT2の金属を均
一に含む合金薄膜を形成することができないことが判明
した。In the present invention, during the above-described vapor deposition, it is necessary to perform the vapor deposition while rotating the disc-shaped substrate 10. That is, when the facing target sputtering method is used, the metals of the targets T and T2 are vapor-deposited onto the disk-shaped substrate 10 on the side according to the additive. Therefore, if vapor deposition is performed with the substrate fixed, the target T1 side of the disk-shaped substrate 10 (A side in the drawing)
In this case, the content of metal used in target T1 becomes higher,
On the other hand, on the target T2 side (B side in the drawing), since the content of the metal used in target T2 is higher, it is necessary to form an alloy thin film that uniformly contains the metals of targets T and T2 on the disc-shaped substrate 10. It turned out that it was not possible.
そこで、本発明においては、円盤状基板10を回転させ
ながら対向ターゲット式スッパッタ法によりターゲット
T1およびT2の金属を、回転している円盤状基板10
上に蒸着させることにより、平面方向および厚さ方向共
に均一な組成の合金薄膜を形成することができる。Therefore, in the present invention, while rotating the disc-shaped substrate 10, the metal of the targets T1 and T2 is transferred to the rotating disc-shaped substrate 10 by the facing target sputtering method.
By vapor-depositing it on top, it is possible to form an alloy thin film having a uniform composition in both the plane direction and the thickness direction.
この場合の円盤状基板10の回転速度は、ターゲットT
およびT2への印加電圧、真空槽2内の減圧状態およ
び円盤状基板10とターゲットT1およびT2との距離
などを考慮して適宜設定することができるが、10〜9
0 rl)11の範囲内の回転速度で回転させることが
好ましく、さらに20〜50 rplmの範囲内の回転
速度で回転させることが特に好ましい0回転速度が1o
rpnより遅いと平面方向および厚さ方向に不均一な合
金薄膜が形成されることがあり、まなg o rpri
より速く回転させても得られる合金薄膜の均一性はほと
んど向上しない。In this case, the rotational speed of the disc-shaped substrate 10 is the target T
and T2, the voltage applied to T2, the reduced pressure state in the vacuum chamber 2, the distance between the disk-shaped substrate 10 and the targets T1 and T2, etc. can be set as appropriate, but 10 to 9
0 rl) It is preferable to rotate at a rotation speed within the range of 11, and it is particularly preferable to rotate at a rotation speed within the range of 20 to 50 rpm.
If it is slower than rpn, a non-uniform alloy thin film may be formed in the plane direction and thickness direction,
Even faster rotation hardly improves the uniformity of the resulting alloy thin film.
上記のような対向ターゲット式スパッタ法により円盤状
基板10上に被着される合金薄膜の厚さは、通常は50
〜3000Vの範囲内にある。The thickness of the alloy thin film deposited on the disk-shaped substrate 10 by the above-mentioned facing target sputtering method is usually 50 mm.
~3000V.
本発明の情報記録媒体の製造法は、上記のようにして対
向ターゲット式スパッタ法により、円盤状基板上に特定
の合金からなる薄膜を形成した後、通常の方法に従って
、該合金薄膜上に反射層および光吸収層等の増感層ある
いは保護層等を設けることができる。また、本発明の方
法に係る情報記録媒体は、上記のようにして円盤状基板
上に金色の合金薄膜等を含む記録層を設けた後、必要に
よりスペーサーを用いて空気層を介して合金薄膜が対面
するように2枚の円盤状基板を配置したサンドイッチ構
造などの公知の形態にすることができる。The method for manufacturing the information recording medium of the present invention is to form a thin film made of a specific alloy on a disk-shaped substrate by the facing target sputtering method as described above, and then reflect the light onto the alloy thin film according to a conventional method. A layer and a sensitizing layer such as a light absorption layer or a protective layer can be provided. Further, in the information recording medium according to the method of the present invention, after providing a recording layer containing a golden alloy thin film etc. on a disc-shaped substrate as described above, an alloy thin film is formed by using a spacer as necessary through an air layer. The structure can be a known structure such as a sandwich structure in which two disc-shaped substrates are arranged so as to face each other.
及]!と1玉
本発明によれば、対向ターゲット式スパッタ法を採用し
、かつ一方のターゲットとして銅を用い他方のターゲッ
トとしてアルミニウムおよび/または亜鉛を用いること
により金色の情報記録媒体を製造することができる。し
かも円盤状基板を回転させながら上記の金属を被着させ
て基板上で合金を形成させることにより、上記のターゲ
ットとして用いた金属の合金が基板全体に均一に被着さ
れる。]! According to the present invention, a gold-colored information recording medium can be manufactured by adopting a facing target sputtering method and using copper as one target and aluminum and/or zinc as the other target. . Moreover, by depositing the above-mentioned metal while rotating the disc-shaped substrate to form an alloy on the substrate, the metal alloy used as the target can be uniformly deposited over the entire substrate.
従って、得られた情報記録媒体は、金色を呈すると共に
、その色調および輝きが均一であり、この合金薄膜は、
レーザー光の反射率が非常に高い。Therefore, the obtained information recording medium exhibits a golden color and is uniform in color tone and shine, and this alloy thin film is
Very high reflectance of laser light.
特に合金組成等を調整することにより、金薄膜の反射率
と同等若しくはそれ以上の反射率を有する薄膜を形成す
ることが可能である。In particular, by adjusting the alloy composition etc., it is possible to form a thin film having a reflectance equal to or higher than that of a gold thin film.
さらに、本発明の方法に係る情報記録媒体は、均一な色
調の金色の情報記録媒体であり、視覚的に非常に高価な
感じを与える。Furthermore, the information recording medium according to the method of the present invention is a golden information recording medium with a uniform color tone, giving a visually very expensive feeling.
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
ら実施例に限定されるものではない。EXAMPLES The present invention will be explained below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
え立■ユ
次のような対向ターゲット式スパッタ装置を用い、金色
情報記録媒体の製造を行なった。A gold-colored information recording medium was manufactured using a facing target type sputtering apparatus such as Etatsu Yuji.
ターゲットサイズが、それぞれ縦16■、横10cz、
厚さ1clIの対向ターゲット式スパッタ装置に、一方
のターゲットとしてアルミニウムを装着し、他方のター
ゲットとして銅を装着した。The target size is 16cm tall and 10cm wide, respectively.
A facing target type sputtering apparatus having a thickness of 1 clI was equipped with aluminum as one target and copper as the other target.
ターゲットの間隔を14(1mとし、ターゲット中心部
に1200eの磁界を形成させた。The spacing between the targets was 14 (1 m), and a magnetic field of 1200 e was formed at the center of the targets.
、基板装着台に直径12個のポリカーボネート製円盤状
基板を装着し、この基板装着台を2Q rpnで回転さ
せた。なお、ターゲットの中心から円盤状基板の中心ま
での距離は12.5cmであった。12 polycarbonate disk-shaped substrates with a diameter of 12 were mounted on a substrate mounting table, and the board mounting table was rotated at 2Q rpn. Note that the distance from the center of the target to the center of the disc-shaped substrate was 12.5 cm.
次に、上記の対向ターゲット式スパッタ装置を真空度6
X 10 ”7torrまで排気した後、アルゴンガ
スを導入して装置内の真空度を8 X 10 ’tor
rとし、上記基板を2 OrHの速度で回転させながら
、ターゲットをカソード、上記基板のシールドリングを
アノードとして3.0Kwの電力を投入した。ターゲッ
ト電圧を550v、ターゲット電流を3.5Aに設定し
、スパッタリングを30秒間行なった。Next, the above-mentioned facing target type sputtering apparatus was installed at a vacuum level of 6
After evacuating to X 10'7 torr, argon gas was introduced to reduce the vacuum inside the device to 8 X 10' torr.
r, and while rotating the substrate at a speed of 2 OrH, a power of 3.0 Kw was applied with the target as the cathode and the shield ring of the substrate as the anode. The target voltage was set to 550 V, the target current was set to 3.5 A, and sputtering was performed for 30 seconds.
上記の操作により、円盤状基板表面に銅−アルミニウム
合金からなる厚さ500vの金色の合金薄膜を形成され
た。By the above operation, a golden alloy thin film of copper-aluminum alloy with a thickness of 500V was formed on the surface of the disc-shaped substrate.
このようにじて得られた薄膜に波長780μmのレーザ
ー光を照射し、その反射率を測定したところ、反射率は
61%であった。When the thin film thus obtained was irradiated with a laser beam having a wavelength of 780 μm and its reflectance was measured, the reflectance was 61%.
犬j自吐l
実施例1において、アルミニウムに代わりに、ターゲッ
トとして亜鉛を用いた以外は同様にして金色の合金薄膜
を形成した。Dog j Self-vomit l A golden alloy thin film was formed in the same manner as in Example 1 except that zinc was used as the target instead of aluminum.
この薄膜の波長780μmのレーザー光の反射率は48
%であった。The reflectance of this thin film for laser light with a wavelength of 780 μm is 48
%Met.
血較正ユ
実施例1において、両ターゲットとしてアルミニウムを
用いた以外は、同様にして銀色のアルミニウム薄膜を形
成した。Blood Calibration Example 1 A silver aluminum thin film was formed in the same manner as in Example 1, except that aluminum was used as both targets.
この薄膜の波長780μmのレーザー光の反射率は48
%であった。The reflectance of this thin film for laser light with a wavelength of 780 μm is 48
%Met.
L笠皿ユ
実施例1において、両ターゲットとして金を用いた以外
は同様にして金色の金薄膜を形成した。A golden thin film was formed in the same manner as in Example 1, except that gold was used as both targets.
この薄膜の波長780μmのレーザー光の反射率は60
%であった。The reflectance of this thin film for laser light with a wavelength of 780 μm is 60
%Met.
第1図は、本発明の金色情報記録媒体の製造に用いるこ
とができる対向ターゲット式スパッタリング装置の一例
を示す概念図である。
1・・・装置外板、2・・・真空槽、3・・・排気手段
、4・・・不活性ガス導入手段、5 a、 5 b・・
・ターゲットホールター、6 a、 6 b・・・永久
磁石、7・・・基板装着台、8・・・回転軸、9・・・
回転手段、1o・・・円盤状基板、TI、T2・・・タ
ーゲットFIG. 1 is a conceptual diagram showing an example of a facing target sputtering apparatus that can be used for manufacturing the golden information recording medium of the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Apparatus outer plate, 2... Vacuum chamber, 3... Exhaust means, 4... Inert gas introduction means, 5 a, 5 b...
・Target halter, 6 a, 6 b...Permanent magnet, 7... Board mounting stand, 8... Rotating shaft, 9...
Rotating means, 1o...disk-shaped substrate, TI, T2...target
Claims (2)
報記録媒体の製造方法であって、一方のターゲットとし
て銅を用い、他方のターゲットとしてアルミニウムおよ
び/または亜鉛を用いた対向ターゲット式スパッタ法に
より、該円盤状基板を回転させながら、ターゲットとし
て用いた金属からなる金色の合金薄膜を該基板上に被着
させることを特徴とする金色情報記録媒体の製造法。(1) A method for manufacturing an information recording medium, which involves forming a metal thin film on a disk-shaped substrate, using opposed target sputtering using copper as one target and aluminum and/or zinc as the other target. 1. A method for producing a golden information recording medium, which comprises depositing a golden alloy thin film made of a metal used as a target on the disk-shaped substrate while rotating the substrate.
内にあることを特徴とする請求項第1項に記載の金色情
報記録媒体の製造法。(2) The method for manufacturing a golden information recording medium according to claim 1, wherein the rotational speed of the disk-like substrate is within a range of 10 to 90 rpm.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1232688A JPH01189044A (en) | 1988-01-22 | 1988-01-22 | Production of information recording medium of golden color |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1232688A JPH01189044A (en) | 1988-01-22 | 1988-01-22 | Production of information recording medium of golden color |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01189044A true JPH01189044A (en) | 1989-07-28 |
Family
ID=11802188
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1232688A Pending JPH01189044A (en) | 1988-01-22 | 1988-01-22 | Production of information recording medium of golden color |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01189044A (en) |
-
1988
- 1988-01-22 JP JP1232688A patent/JPH01189044A/en active Pending
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