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JPH01162722A - 窒素及び炭化水素を含有するガス状雰囲気下での鋼材の熱処理方法 - Google Patents

窒素及び炭化水素を含有するガス状雰囲気下での鋼材の熱処理方法

Info

Publication number
JPH01162722A
JPH01162722A JP63289006A JP28900688A JPH01162722A JP H01162722 A JPH01162722 A JP H01162722A JP 63289006 A JP63289006 A JP 63289006A JP 28900688 A JP28900688 A JP 28900688A JP H01162722 A JPH01162722 A JP H01162722A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flow rate
nitrogen
dew point
furnace
residual
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63289006A
Other languages
English (en)
Inventor
Pascal Baldo
パスカル・バルドー
Eric Duchateau
エリツク・デユカトー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Air Liquide SA
LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude
Original Assignee
Air Liquide SA
LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Air Liquide SA, LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude filed Critical Air Liquide SA
Publication of JPH01162722A publication Critical patent/JPH01162722A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D1/00General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
    • C21D1/74Methods of treatment in inert gas, controlled atmosphere, vacuum or pulverulent material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D11/00Process control or regulation for heat treatments
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D1/00General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
    • C21D1/74Methods of treatment in inert gas, controlled atmosphere, vacuum or pulverulent material
    • C21D1/76Adjusting the composition of the atmosphere

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
  • Furnace Details (AREA)
  • Control Of Heat Treatment Processes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、焼なまし、焼戻し、焼入れ前の加熱等の如<
600℃より高い温度で非合金鋼又は低合金鋼を熱処理
する方法に関し、前記の処理は少なくとも窒素、炭化水
素CXHy及び場合によっては水素を含有する雰囲気中
で行ない、前記の雰囲気はこれらの成分を炉に注入する
ことによって製造する。
600℃より高い温度で低合金鋼を熱処理する(焼なま
し、焼戻し、焼入れ前の加熱等)に際し、成分Nz(+
Hz) +CX1シを含有する雰囲気が鋼材の保護に使
用される。この種の処理では、条件(規格)によって多
少とも大きな制限が脱炭に課せられる。
今般見出された所によれば前記した種類の雰囲気は通常
の処理期間では決して熱力学的平衡にはならず、これに
よって雰囲気中の炭素の活性を算出し得す従って鋼材加
工物の滲炭又は脱炭を予想する試みができずしかも該処
理の先験的な調節ができないものである。現時点では、
各々の炉及び各々の処理形式については、条件による制
限を尊重するような雰囲気組成を経験的に決定している
使用した熱処理方法は次のものであることが多い実験者
はN2. H2,CつII、の流量及び組成を任意に選
択し、1つの試験を行ない、情況に応じてC,H。
の流量を変化させて経験値(−25℃が多い)より低い
露点を得るように試みる。処理した冶金試料を検査する
と実験者の選択が適切であったかどうかを示すものであ
る。適切でない場合には実験者は試験を再開し、より低
い露点を得るように努める。
現時点で使用した方法は、純粋に経験的な手法から得ら
れ、その結果は特定の処理に専ら有用であるに過ぎない
これらの結果は多数の変数(パラメーター)例えば時間
、温度、鋼材の等級、炉の瞬間密封、炉を配置した状態
等に応じて左右される。
各々の処理形式及び各々の炉について、実験者は試験を
再開しなければならない。処理を次後に変更すると悪い
冶金結果を与えるかもしれない。
処理方法が扱いにくいことによって、真に最適でない流
量及び組成の雰囲気が使用され、該雰囲気は手が出せな
い程高い経費の合成ガスを使用するかもしれず、従って
吸熱剤又は発熱剤の使用を生起するものである。
N、、 Co、 +1□に本質的に富んだ吸熱型の雰囲
気を使用する時は、次のガス: N2. CO,CO□
、 1120゜CxHyの混合物が得られる。この種の
雰囲気は鋼材加工物を浸炭させることができ即ち該加工
物の表面上で炭素を富化させ得る。これらのガスは一般
的に、存在する炭化水素(主としてCH4)を除いては
互いに熱力学的な平衡にあり、この情況は熱力学的平衡
の存在に基づ(処理した加工物上の雰囲気の調節には不
利でない。何故ならば、これらの炭化水素は多量のCo
 (例えばCo/CH,>25)の存在下では金属上へ
の直接作用を有し得ないからである。実際上、この場合
には炭化水素はガス状混合物から金属表面への炭素の移
動に関与せず専らガ気相(気相)中で反応するものであ
る。それ放熱力学的平衡にある混合物のガスは処理した
加工物上の雰囲気の作用を支配するに過ぎない。
前記した如き用途に混合物Nz(+t(z)+CxLを
使用するに際しては、同じガスが得られるが相異なる割
合で得られる(0.05<Co/CH4<15、好まし
くはCo/CH4,は1に実質的に等しく、CO及びC
H,のそれぞれの含量は1%の付近にあるのが好ましい
〕。
この場合には、存在する1種又はそれ以上の炭化水素は
炭素と金属との交換に直接関与できる。それ故ガスー金
属間の炭素移動を調節するのに熱力学的平衡を専ら考慮
するのはもはや不可能である。
本発明は低合金鋼の表面と鋼材保護に応用したガス状混
合物との間で炭素が移動する法則の実験的知識に基づく
ものである。これらの法則を研究することによって、炭
素の表面流量でフィックの第1法則で定義した如く)は
主として温度と、炉中に混合物N2+CxHV (及び
場合によっては+(2)の注入によって生じたガスCo
、 CH4及びH20の残留濃度(又は分圧)とに応じ
て左右されるという結論が得られた。
一般に、処理すべき加工物が脱炭される許容度を表わし
且つ処理した加工物の表面を通っての炭素の所要又は設
定表面流量に条件(規格)が課せられる。この所要又は
設定流−iFs温度及び炉で測定したCO及びCH4の
残留含量を計算器即ちコンピューターに挿入し、この機
械によってガス−金属間の界面で炭素が移動する実験法
則により確立された式から露点(物理的な大きさの指標
)を算出する。この新規な所要又は設定露点はそれ故そ
れが雰囲気の組成の関数である故に可変であり、しかも
炉に注入した雰囲気の流量に作用するPID(比例項、
積分、導関数)形式の調節に応用される。この調節はC
H4の残留含量が窒素の流量を最低とし得るように窒素
の流量と炭化水素の流星とである2つの31 ffff
可能な大きさ基準を用いて行なうのが好ましい。
添付図面を参照しながら次の実施例から本発明がより良
く理解されるであろうが、これらの実施例に限定される
ものではない。
第1図は熱処理後の加工物の炭素濃度の分布曲線を表わ
す図表であり、第2図は炉を調節する装置の図解図を表
わす。
鋼材加工物の表面と保護雰囲気のガス状混合物N2+C
XIIy(場合によっては11gも添加しながら)との
間で炭素が交換するという知識は実験計画(プラン)の
結果の統計的応用に基づ(ものである。
この実験計画によって炉中で処理した低合金鋼加工物(
5%以下の金属合金成分)中の炭素濃度分布を測定する
ことができしかも炭素の表面流量と既定の範囲内にある
組成を有する雰囲気との全体を算出することができる。
本発明の範囲外にある理論的な要領で又は経験式の使用
によって炭素の表面流量を実験計画以外で算出する別の
方法も勿論使用できる。
1例として、この実験計画の限界範囲は次の数値であり
得る: 680’C< T < 1050℃ C11,の残留含量<2.5% COの残留含量〈2.0% 40ppm <HzOの残留台’7k < 1600p
pm(即ち、−50”C<露点く一15℃)水素の残留
含量く5% CO2の残留含量<H20の残留含量 1つの成分の残留含量(又は該成分の分圧)は注入した
ガスの分解が既に生起した炉の個所で測定した該成分の
含量を意味するものである。
炭素の表面流量はフィックの方程式を解決する際に表面
上の未知量を表わす。処理した加工物の冶金分析で得ら
れた炭素分布に重ねることができるフィックの式を解い
て算出した炭素分布を連Vε近似で得ることによってこ
の未知の流量パラメーターを見出すことができる。
1つのシメンジョンとしてフィックの方程式の表示は次
の通りである: フィックの第1法則 フィックの第2法則 dc      dF dt    dx dc 但しF=拡拡散流量−D□ dx C:炭素の含量(質量%)X:表面までの距離D:低合
金鋼加工物中への炭素の拡散係数この実験計画は次の表
に記載した要領で実施した。
:     Za     :   Zb   :  
 Zc   :  Zd    ::温度: CO: 
C1+4 : tlzO::     +     ニ
ーニーニー:・    −:+ニー:   −・ 、−:+ニー: +−ニー:十: :     +     :+ニー:   −・:+:
:+:−: :     +     ニーニー:+:°−:+:十
ニー: ・    −:+:       :+ニーーニー:+
:+: :     +     :+:+:−::+:+::
十: :+::+:+: ・    −:十:十:+: :     +     :+:+:+:記号十及び記
号上れぞれ、各々の因子Za、 Zb。
Zc、 Zd (それぞれ温度、Go、 CHa、Hz
O(露点)の残留含量〕についてZa−<Za<Za“
(等)であるように高い値Za” 、 Zb” 、 Z
c” 、 Zd’及び低い値Za−、Zb−、Zc−、
Zd−を表わし、但しZa−及びZa+は雰囲気のパラ
メーター(温度、co、 CH4,H,0の残留含量)
について前記で固定した範囲内にあるものとする。
前記表の各々のラインは実験を行った雰囲気のパラメー
ターを与えである。この実験は炉中にこの雰囲気を再現
し、所与の期間低合金鋼試料をその中に維持することに
在る。しかる後に、処理した加工物の分光写真分析(ス
パーク分光写真、発光分光写真等)によって炭素の濃度
分布[第1図の個々の個所(A)]を与え、この濃度分
布は処理した鋼材の表面で構成した範囲で条件値の連続
近似によって実験に対応するフィックの方程式を解(こ
とにより計算[第1図の連続曲線(B)1でも再現され
る。この値はガス−金属間の界面で炭素の求めた表面流
量に対応する(以下では所要又は設定流量Fと呼ぶ)。
この実験計画2にヤテス(YATES)の互除法[YA
TES+ Fs ”Design and analy
sis of factorialexperimen
ts’ Imperial  bureau of 5
oil 5cience(1937)] を応用するこ
とにより、多数の因子、温度及びCIL、GO及び11
□0の炉中残留含量の関数として加工物の炭素の表面流
(ftpを分析的に記載する次の線状組合せの表現が得
られる; F=Po+P+ j XII+P2 ・Xb+Pt ・
XC+P4 ・Xd+Ps ’ Xs ’ Xb+P、
、 ・Xa ・XC+P? ・Xs ・Xd+Pa H
x、 I XC+P9 ・Xb ・Xd+P、。・Xc
−X4+P1a ・Xs ・Xb−X4+P1a ・X
a ・Xb ・Xa+PI’3’χm ・Xc−X4+
P1a + Xb ・Xc−X4+P1a ・Xa ・
Xb ・Xc−X。
Za−+  Za” Za−・・・−・−・・−・−−−・−Xa=  ・−
−−一−−−・・−・・−−−−−・・−・−・−−一
−−−−・−・−・・−・・−・Za−+  Za’ Xb +Xc及びXdはそれぞれZb” 、Zb −;
Zc” 。
Zc−;Zd” l Zd−について同じ仕方でそれぞ
れ定義しテイル。X、 、X、 、X、 、X、は−1
と+lとの間の雰囲気のパラメーター(温度、Co、 
CH、。
1ho)の縮小した(reduced)中心座標である
aは温度Tの指数を表わし、bはCOの指数を表わし、
CはCH,の指数を表わし、dはH,Oの指数を表わす
前記の線状組合せの係数20〜PI5は各々の因子及び
それらの相互作用の平均結果(mean effect
)である。平均結果は各々の因子組合せについて、応答
に関する雰囲気の各々における組合せの因子によって採
用した値+1又は−1の成分によって平衡させた16個
の応答の平均を意味するものである。
実験計画の結果に変数の分析を応用すると、全ての結果
が有意であるかどうか点検することができる。有意でな
い結果は無視する。
実験計画は非合金鋼又は低合金鋼の何れかの試験片につ
いて実施でき、しかも炭素の表面流iFの方程式を決定
でき、この方程式は炉で処理すべき種々の型式の加工物
に次後に応用できる。実験計画の試験片の種類は炉で次
後に処理した加工物の種類に関連しない。
それ故炭素の表面流量は温度及びCO,tt2o及びC
114の残留濃度の関数であり、この関数は前記の実験
計画の結果を利用して得られる。
この方程式を用いると、残留ガスについて幾つかの型式
の調節が可能となる。
露点は炭素の流量について大抵の結果を有する大きさの
尺度である。露点の上昇は加工物の脱炭を増大させ、露
点の下降は加工物の脱炭を減少させる。
他方、ガス状混合物中の残留ガスCO及びClInの作
用は一義的でなく、種々の条件で脱炭を増大又は低減さ
せる傾向があり得ることを見出した。
炭素の表面流■を調節(浸炭又は脱炭又は保護)するた
めには、調節すべき大きさの指標(magn i tu
de)はそれ故露点である。
選択した雰囲気を調節する好ましい形態は次の通りであ
る; 計算器即ちコンピューターに挿入されしかも加工物の表
面を通る炭素の設定流量F5には条件が課せられ、この
設定流IFsは以下に示した如く算出する。
炉の雰囲気を持続的に分析すると、11□0の濃度即ち
測定した露点DPsと一緒にコンピューターに自動記録
される温度及びCH4及びCOの残留含量を示す。
コンピューターのメモリー回路に収容された流量Fd(
T、CH4,GO4)120)の表示は、設定流量F。
に等しい流量Fを与える露点DPs値(F=Fsの時に
はXdと同等)を計算するのに応用する。それ散設定流
量は設定露点DPsに転換され、DPsは規則的に取出
した雰囲気の組成と共に変化する。
炉の雰囲気を持続的に分析することによって与えた露点
DPsの測定値は一般に各々の試料取出し後に規則的に
計算した露点DPsと対比される。この対比の結果はP
ID型式の調節器の作用により、次の処置を行なう。O
P、 =DPs%であるならば、N、+CX11yの流
量を維持する。DPs <DPffiであるならばこの
流量を増大させる;op、 >Dp、であるならばこの
流量を低減させる。
窒素の流量を変化させることにより露点を調節できるこ
とを見出した。窒素は悪影響を及ぼすことな(希釈によ
り炉中の水を除去する〔型式C=coe (−d t/
vlの法則、但しC0は最初に存在する水の濃度、Cは
時間りにおける水の濃度、dはガスの流量、Lは期間、
■は炉の容量である 〕、それ故窒素の流量を変更させ
て炉の露点を調節できる。
他方、露点は注入した炭化水素C4)Iyの流量を変化
させても調節されないことが見出された。実際に、炭化
水素は水と反応し炉を乾燥させるが、炉に存在する酸素
物とも反応し水を生成する。これらの併合反応によって
C,11,の流■を変化させても雰囲気を調節できない
しかしながら、窒素の流量の調節は設定流IP。
を表わす露点計5僅に影響を存する。実際に、炉に注入
した窒素の流量を変化させると、設定流量Fsを露点U
P、に転換するのに役立つ表現Fs・f(T。
C114,Co、 II□0)を考慮してC114及び
COの残留含量を希釈するか又は濃縮するものである。
従って、設定露点UP、のこの変化は、残1c1.の含
量が窒素の流量の関数としてわずかにのみ変化するよう
な条件を課することにより制限できる。
この目的のため、2つの好ましい解決策が存在する。
(1)第1の解決策は実質的に一定の残留CILが得ら
れるように窒素の流量の関数としてC註、の割合を調節
することに在る。例えば、CXI+ 、の割合は窒素の
低流量及び高流量について決定され、中間の窒素流量は
内挿法によって得られる。
(2)第2の解決策は残留CH、の濃度に設定値を課す
ることにより残留C114の濃度のPID型の調節を用
いることに在る。流量方程式: F=f(T、 CO’
C11,、呵−1120)を用いると残留C11aの濃
度が見出されこの残留C114濃度によって所与の設定
流@1F5に対して最高の設定露点DPsを算出でき;
この設定値付近に雰囲気を調節すると炉に注入される窒
素の流量を最低とすることができる。
この残留C114の設定値の確定は操作員により人為的
に行うか又は好ましくはコンピューターでの計算により
行ない、コンピューターは計算した最高露点を与える残
留C114設定値を探求する。
不連続炉の場合には炉を前もっである状態に配置するの
が好ましい。CXI+、が水と反応し始める温度よりも
低い温度で水素を注入することにより、CILを注入し
た時には炉がその中にできるだけ最低量の酸化物を有す
るような状態に炉を置くことができ、それ故CxHyの
減少によって水が生成する危険を低下させる。
第2図は雰囲気調節の原理を表わす装置の図解図であり
該装置を使用することにより本発明の方法を実施できる
。赤外分析器1はC114及びCOの残留含量を分析す
る機能を有し、温度はサーモカップル2により測定する
。赤外分析器及びサーモカップルはコンピューター4に
接続され、コンピューターはガス状混合物の温度及びC
114及びCOの姑留濃度値のデータを定期的に受は取
る。コンピューターのメモリーに蓄積した方程式F=f
(T、 C114゜Go、 IIJ)によって、T、C
11,及びCOを測定しながら、設定流量に等しい流量
を与える露点DPsを算出できる。この設定露点DPs
を湿度計3により炉で測定した露点DPs値と対比する
。誤差信号がPID型式の調節器に送られ、調節器は2
個の電気作動弁5及び6を調節しそれぞれの開放時間を
算出する。
窒素及び炭化水素C,I(、の分配場面は2種の流量、
雰であり得る低い流量及び高い流量により操作する。弁
5及び6を閉鎖する時は、窒素及び炭化水素CX11.
の低流量は弁7及び8によって調節される。
窒素の低流量に対して注入したC 、I+ 、の割合を
81!節してC114の設定残留含量を達成できる。弁
5及び6を開放する時は、窒素及び炭化水素CX11.
の補完的な流量は弁9及び10によって調節される。そ
の時は、高い窒素流■に対してC1(4の設定残留台■
を得るため注入したCXl+、の割合を調f!11でき
る。窒素及びCXI+、の流■の読み取りはロタメータ
ー11及び12により実施する。減圧器13及び14は
流量を正確に読み取るためロタメーターの圧力を調節で
きる。炉中のCH、の残留台■はまたPID調節により
一定に維持できる。前記した如く炉に注入される窒素の
流量を最低とするのに操作員により人為的にCI!4の
残留含量(又はC1(4の設定残留含量)に条件が課せ
られ又はコンピューターで生じた条件が課せられる。
本発明の装置はコンピューター4により制御される電気
作動弁5及び6と手動調節弁7,8.9及び10とを有
してなるのが認められるであろう。実際に、本発明によ
ると炉の雰囲気中にCH4の一定の残留含量を維持する
のが望ましい。この維持は炉に注入される窒素及び炭化
水素Cや■アの流量が一定の比率(C,lI、)/(N
2)と共に変化する時は常に可能である訳ではないこと
が見出された。従って、全ての状況下で一定の残留CH
、濃度を保持するのに前記の比率(C,H4)/(NZ
)を変化させる立場にあるのが有用又は必要であると見
出される。
本発明によると2通りの変更例が可能である:第1の変
更例では残留CH,を調節することなく残留CH4値を
人為的に確定する:この目的のために炉で得られる残留
C14を前もって算出するか又は経験的に推定したのを
考慮しながら弁7及び8により低流量を先ず手動的に調
節する。低流量の場合の比率(C,1Hy)/(NZ)
の調節は測定した残留C]14が所望の値近くに達した
時に終了する。次いで高流量の別の手動調節は、前記の
如く維持すべき残留CH4の関数として弁9及び10に
より実施する。
高流量の場合の比率(CX11.)/(N2)の調節は
測定した残留CH,が所望の値付近に達した時に終了す
る。
前記の比率(C,H4) / (NZ)は低流量及び高
流量について必ずしも同じである必要はない。しかしな
がら前記比率で一度でしかも全てについて調節される。
この第1の変更例では、残留CH,の調節器はない(設
定CH,なし、図面参照)。
この第1の変更例では、電動弁5及び6は同時に開放さ
れる。
第2の変更例では設定値の「設定CH4Jを確定し、こ
れを用いて別の調節ループを実現し、コンピューターに
より調節する。コンピューターは残留CH4の測定値を
設定値と対比する:残留C1,が設定CH、よりも低い
ならば、コンピューターは弁6の開放時間の増大を命令
する(注入したCXHyの流量が増大し、何故ならばC
,lIyの高流量の期間が増大するからである); 残留CH,が設定CH4に等しいならば、開放時間を維
持する: 残留CB、が設定CH4よりも大きいならば、弁6の開
放時間を低下させる(従って高流量の期間も低下する)
露点の調節(DPIIl=DPs)は電動弁5により単
一の窒素流路で同様な要領で行ない、弁5の開放時間は
窒素の高流量の期間を増大又は減少させねばならないか
に応じて多少とも長い。
それ故2つの弁5及び6の開放及び閉鎖はもはや必ずし
も同時である必要はない。
災ル開 使用者が提起した技術的問題に直面した時に本発明を使
用した要領を以下に示すものである。
使用者は規格を定め、この規格から前述した実験計画の
限度範囲が減少しこうして流量式を決定し次いで流量式
をコンピューターのメモリーに蓄積するものである。前
記した実験計画は勿論流量式を決定する唯一の可能な例
である。何れか他の簡素化した概略手段又は理論手段も
勿論可能である。特にこの方程式はまた経験的に又は純
粋に理論的な要領で決定できる。
この流量式Fd (T、 C1+4. C0,+120
)を決定した後に、使用者が加工物を処理するのに許容
できる平均脱炭許容度を表わす設定流量F6を決定する
この設定流量はフィックの方程式を解決することにより
連続的な近似で決定する。次いでコンピューターは設定
露点DPs、(流量式中の値Xdに対応)を決定する。
加工物を処理する炉で測定した露点DP□を次いで設定
露点DPsと対比する。窒素及び炭化水素の流量の全体
の変化のみが何故付加した流IFと炉に注入した雰囲気
の最低流量との両方を得ることができるかを以下に示す
使用者の規格が、前述した如きパラメーターZa 。
Zb、 Zc、 Zdを定め得る次の組成の雰囲気に課
せられる。
900“Cく温度〈925℃ 0,2%<COの残留含量〈0.4% 0.5%<CH4の残留含量〈1.0%−45℃(70
ppm) <露点く一35℃(220ppm)H2の含
量〈5% CO□の残留含量〈H20の残留含量 試験用炉中で等級XC38の低合金鋼円板について次の
表により実験を行ない、試験用炉は1種又はそれ以上の
工業炉とは一般に異なっておりしかも試験用炉で本発明
の方法を実施する(これは、雰囲気の調節を炉の特定型
式に関連させるのでなくて炉とは無関係に雰囲気の成る
成分の濃度に専ら関連させるという本発明方法の利点で
ある)。鋼材加工物の各々の処理は同一の期間を有し通
常1時間の程度である。
・  −・−・−・−・     −■、78:   
+   :=−: −F      −1,79:  
 −:+ニー   ニー   :      −0,5
7:   −ニー:+ニー:       3.OL 
      ’:   −ニーニー   :+   :
      −7,12・:   +   :+: −
ニー   :      −0,44・:   +  
 ニー:+   ニー   :       4.28
       。
:   +   ニーニー   :+   :    
  −8,52−:   −: +:+   ニー  
 :       1.73       ・:   
−:+: −:+   :      −5,98命?
   −ニー:+   :+   :      −3
,58。
:  +  :十:+  ニー  :    2.93
    ・:   +   :+ニー   :+   
:      −7,51。
:   +   ニー:+   :+   :    
  −4,51。
:  −:十:+  :十:    −4,29:+:
±:十:+  :    −4,95・右欄は前もって
与えた指示による流量の計算結果を表わす。各々の実験
について、処理した加工物で測定した炭素の分布曲線を
描き、対応の流量を算出し、これは同じ分布を与えるフ
ィックの方程式を解決する(第1図参照)。ヤテスの互
除法を応用することにより、流量式は今回の場合には次
の通りである: F=−2,51+1.75 Xc−0,51XcXb 
−(3,41+0.45 N5)Xd(109・モル・
cm−2・s −’)この式をコンピューターのメモリ
ーに蓄積し、コンピューターは炉で測定した値X、、 
X、及びれ(又はより正確にはコンピューターでにa+
 Xb *χ0に転換させたZ、 、 Z、 、 Zc
)からパラメーターに6(n点DPs )を算出するこ
とにより本発明の熱処理法を調節する。コンピューター
はLlχ、及びχ。
を測定するため規則的な間隔で試料取り出しを行なう。
この試料取り出しの間隔は一般に固定されるが、所与の
炉について実験により決定する。
本発明は連続的なローラー類で鋼材XC22(1022
)の管体の焼なまし熱処理に関して実施する。
前記の鋼管について使用者が許容する脱炭の許容度は、
FM =−3Xl0−’モル・cm −Z 、 s −
1が30分間の期間0.1 mmの厚さで許容できる非
脱炭及び部分的脱炭の規格であるような設定流量によっ
て特徴付けられる。この流量は実験計画の流量について
採用したのと同じ手法により算出する(鋼管の実験的な
炭素分布がフィックの式の解決となるような表面流量で
ある、第1図参照)。
98.5%のN2と1.5%の天然ガスとを含有する高
流量の100Nrrr/時と、98.8%のN2と1.
2%の炭化水素(天然ガス)との混合物よりなる低流量
の50 Nrrf/時とを炉に注入して1%の残留C1
14を得る(使用者によって確定した値、前記の第1の
変更例)。これは高流量で99.8 Nn(7時のN2
と1.2Nボ/時のCX)I、とに対応し、低流量で4
9.25Nボ/時のN2(弁7)と0.75 Nボッ時
のC,H,(弁8)とに対応する。これら2つの流量は
設定露点DPsと測定した露点DPsとの比較に関する
コンピューターにより以下に連通した情報に応答してP
ID型式(比例項、積分、導関数)の調節器により指図
される流量である。
DPsがDPsより低い時には、窒素と天然ガスとの全
流量はPID調節の高流量を賦活化することにより減少
する。
DPs=DPsの時には、現存の流量を維持する(高流
量又は低流量)。
DPsがDPsより高い時には、窒素と天然ガスとの全
流量はPID調簡0低流量を賦活化することにより減少
する。
実際には、安定化した条件下では高流量を約70%の期
間注入し低流量を約30%の期間注入し、即ち炉中の平
均流量は85 Nn(7時の程度であることが見出され
る。処理した加工物は特に固定した最高脱炭に関して賦
課した規格を満足させる。
次の表は炉中で前記加工物の処理中に認められる多数の
状況例を与えてあり、本発明の方法による調節作用を例
示する: LIJ、人工最適化前に炉で測定した:使用者は0.7
%の残留(CH4)を任意に固定した。
工程(measurement) Aは雰囲気を調節し
、即ち測定した露点は設定露点に等しいことを示してい
る。しかしながら、コンピューターは露点が残留C11
,の変更の可能な範囲で最大でないことを流量式から示
している。残留(CH4)・1.0%が最大であること
を示している (流量式)。
弐胆且上 残留(CH4)を作業員により1,0%に固定した。
設定露点は最高(−36℃)であり、雰囲気の流量は減
少する。DPsが最高である故に流量は最低である。
訣1エヨー 永続的に得るのが望ましい最低化安定状態を示す工程B
後に工程Cを行なう。この工程の処置は炉の雰囲気の撹
乱発生を示す(例えば処理すべき加工物の導入、空気の
送入等)何故ならば測定した露点は炉の雰囲気の湿分増
大を表わして上昇する(−35℃)からである。それ数
本発明の調節は注入した雰囲気の全流量の変化により 
(状態Bと同一の状態已に戻るまで高流量で作用するこ
とにより)状態Bへの戻りを誘導するように作用するも
のである。
欣胆旦上 比較として、炉中で加工物の処理中に窒素の流量を専ら
増大することによる調節を試みた。
この場合には、残留(CL)は希釈により減少する。設
定露点は低下しく−38,5℃)、これは調節不安定を
生起する。調節は窒素の流量を増大させることにより設
定DPsを回復するように常に求めている。
これは窒素と炭化水素との全流量に専ら関する調節が必
要であることを示している。
秋旭旦工状態Bと同一 状1」ヨー 状態Fは炉の雰囲気中のCOの濃度増大(0,3の代り
に0.4)により処理の途中で生じた別の撹乱を示して
いる。この撹乱により測定した流量(−3,5) X1
09モル・cm−”・s−+の変化を生じ、もはや数値
Fsに合致しない。従って、新たな設定値op、(−3
6,6℃)をメモリーに蓄積した流■式から算出し、全
体の流量は状態Bとは異なる安定な状態Cに戻るように
調節する。
比較として、発熱体で生じた雰囲気により焼なまし後に
同じ特性を有する鋼管の処理をこの同じ炉で実施した。
処理は同じ温度でしかも同じ期間で行うが、炉の雰囲気
の流■は16ON nr 7時である。
それ数本発明は処理の同じ期間及び加工物の同等な品質
の場合でも、炉に注入した雰囲気の流星を大幅に減少さ
せることができ、この減少は今回の場合には47%であ
る。
勿論測定した露点DPヨと設定露点DPsとの間の差異
の大きさの関数として窒素と炭化水素との流量変更を達
成できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は末法による熱処理後の鋼材加工物の炭素濃度の
分布曲線を表わす図表であり、第2図は末法を行なうに
適した装置の図解図である。第2図中1は赤外分析器、
2はサーモカップル、3は湿度計、4はコンピューター
、5.6.7.8.9.10は弁である。 FIG、1

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、低合金鋼の加工物を焼なまし、焼入れ前の加熱等の
    如き600℃より高い温度で熱処理する方法であって前
    記の処理は特に窒素、炭化水素C_xH_y及び場合に
    よっては水素の注入によって生じた保護雰囲気中で特に
    鋼材加工物の脱炭の許容度を固定する条件により実施す
    る低合金鋼加工物の熱処理方法において、鋼材加工物の
    表面を通して該加工物と処理雰囲気との間で炭素が拡散
    する設定流量F_sを前記の条件から決定し;温度Tの
    関数と炉の雰囲気中の(CH_4)、(CO)及び(H
    _2O)の残留濃度の関数として流量式F=f[T、(
    CH_4)、(CO)、(H_2O)]を決定し;規則
    的な間隔で温度Tと炉中の(CH_4)、(CO)及び
    (H_2O)の残留濃度を測定し;精々前記工程で行な
    った測定値の各々の群について流量式F=F_sから設
    定露点DP_sを算出し;炉中の露点DP_mを測定し
    ;測定した露点DP_mを設定露点DP_sと比較しこ
    うしてDP_s<DP_mの時は炉に注入した窒素及び
    炭化水素C_xH_yの全流量を増大させ、DP_s=
    DP_mの時は炉に注入した窒素及び炭化水素C_xH
    _yの全流量を維持し、DP_s>DP_mの時は炉に
    注入した窒素及び炭化水素C_xH_yの全流量を減少
    させることを特徴とする、低合金鋼加工物の熱処理方法
    。 2、窒素及び炭化水素の流量を高い方から低い方に変化
    させることにより又はその逆を行なうことにより流量変
    化を実施し、流量の平均値は低流量と高流量とのそれぞ
    れの期間によって決定する請求項1記載の方法。 3、濃度の比率(C_xH_y)/(N_2)は流量が
    低いか又は高いかに応じて相異なる請求項2記載の方法
    。 4、窒素及び炭化水素は各々低流量での統制と高流量で
    の統制とを有する請求項2又は3記載の方法。 5、窒素及び炭化水素の低流量から高流量への変化又は
    その逆の変化は同時に行なう請求項4記載の方法。 6、窒素の低流量から高流量への変化及びその逆の変化
    は炭化水素の低流量から高流量への変化及びその逆の変
    化とは別個に行なう請求項4記載の方法。 7、炉に注入する炭化水素C_xH_yの流量を調節す
    るように残留CH_4の設定値を固定し、その間に設定
    露点DP_s値によって窒素の流量を単独で調節できる
    請求項1〜6の何れかに記載の方法。 8、残留(CH_4)の最適値を決定できしかもT及び
    (CO)の測定値を用いて流量式F=F_sを解決する
    ことにより最大設定露点DP_sを算出し、残留(CH
    _4)の測定値は次いで窒素及び/又は炭化水素C_x
    H_yの流量の変更によって前記の最適値にまで導く請
    求項1〜7の何れかに記載の方法。 9、残留(CH_4)の最適値は残留(CH_4)の設
    定値である請求項7又は8に記載の方法。 10、所与の条件について流量式を前もって決定する請
    求項1〜9の何れかに記載の方法。 11、測定した露点DP_mと設定露点DP_sとの間
    の差異の大きさの関数として窒素及び炭化水素の流量の
    変更を行なう請求項1記載の方法。 12、既定の設定露点DP_sに基づいて調節する請求
    項1〜7及び11の何れかに記載の方法。
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