JPH0114033Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0114033Y2 JPH0114033Y2 JP1981155126U JP15512681U JPH0114033Y2 JP H0114033 Y2 JPH0114033 Y2 JP H0114033Y2 JP 1981155126 U JP1981155126 U JP 1981155126U JP 15512681 U JP15512681 U JP 15512681U JP H0114033 Y2 JPH0114033 Y2 JP H0114033Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- document
- lens
- slit
- light source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
- Optical Systems Of Projection Type Copiers (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は電子写真複写機等の原稿照明装置に関
する。
する。
従来感光体照明光量調節のために、原稿面より
の反射光をコントロールするスリツト、レンズ部
分に設けられた絞りがあつた。
の反射光をコントロールするスリツト、レンズ部
分に設けられた絞りがあつた。
スリツト、レンズによる光量調節では、変化量
を大きくすることが難しかつた。つまりスリツト
においては、当初のスリツト巾に対して変化量が
そのまま比例関係で効くため、特に大きな変化量
に対してはスリツト巾が極端に変化し、その後の
感光体面での潜像形成時に支障がある。又レンズ
においては光彩絞りは有効である反面、構造的に
複雑であり、レンズ外に絞りを設けた時大きな変
化量に対してはやはり潜像形成に影響を及ぼす。
特にこれらの欠点はレンズを移動して変倍複写を
行う場合顕著である。
を大きくすることが難しかつた。つまりスリツト
においては、当初のスリツト巾に対して変化量が
そのまま比例関係で効くため、特に大きな変化量
に対してはスリツト巾が極端に変化し、その後の
感光体面での潜像形成時に支障がある。又レンズ
においては光彩絞りは有効である反面、構造的に
複雑であり、レンズ外に絞りを設けた時大きな変
化量に対してはやはり潜像形成に影響を及ぼす。
特にこれらの欠点はレンズを移動して変倍複写を
行う場合顕著である。
またランプへの供給電力をコントロールする方
法もあるが、それには限度もあり、また感光体感
度のばらつきに対応した補正は困難である。
法もあるが、それには限度もあり、また感光体感
度のばらつきに対応した補正は困難である。
本考案は如上の不都合を容易に解決できる原稿
照明装置を提供するものであり、移動する電子写
真感光体に原稿像をスリツト露光するための原稿
照明装置において、 光源と、光源の光を原稿照明領域へ向かせる開
口を有し、この光源の周辺に設けられた反射板
と、反射板と光源との間で光源から反射板へ向う
光を遮断する移動可能に設けられた光量調節部材
と、を有することを特徴とするものである。
照明装置を提供するものであり、移動する電子写
真感光体に原稿像をスリツト露光するための原稿
照明装置において、 光源と、光源の光を原稿照明領域へ向かせる開
口を有し、この光源の周辺に設けられた反射板
と、反射板と光源との間で光源から反射板へ向う
光を遮断する移動可能に設けられた光量調節部材
と、を有することを特徴とするものである。
以下図面を参照して本考案の実施例を説明す
る。第１図は本考案の適用できる電子写真複写装
置である。
る。第１図は本考案の適用できる電子写真複写装
置である。
図中Ｄは周面に電子写真感光層を有するドラム
で矢印方向に回転する。回転に従つてドラムＤは
帯電器１０で均一に帯電され、次に後述の光学系
によつて露光位置Ｅにおいて原稿０の光学像のス
リツト露光を受け、これによりドラムＤには原稿
の静電潜像が形成される。この潜像は現像器１１
によつて現像され、得られたトナー像は転写帯電
器１２の作用下で矢印方向に搬送される複写紙１
３に転写される。転写後、トナー像は紙１３に定
着され、一方ドラムＤに残留したトナーはクリー
ニング装置１４によつてドラムＤから除去され、
ドラムＤは再使用される。
で矢印方向に回転する。回転に従つてドラムＤは
帯電器１０で均一に帯電され、次に後述の光学系
によつて露光位置Ｅにおいて原稿０の光学像のス
リツト露光を受け、これによりドラムＤには原稿
の静電潜像が形成される。この潜像は現像器１１
によつて現像され、得られたトナー像は転写帯電
器１２の作用下で矢印方向に搬送される複写紙１
３に転写される。転写後、トナー像は紙１３に定
着され、一方ドラムＤに残留したトナーはクリー
ニング装置１４によつてドラムＤから除去され、
ドラムＤは再使用される。
前記原稿０はドラムＤの回転に同期して矢印方
向に移動する原稿台１に載置される。台１の矢印
方向への移動によつて原稿０は走査されるが、そ
の際、この原稿は走査方向（台１の移動方向）と
垂直な方向に長尺の螢光灯、ハロゲンランプ等、
上記方向に発光分布を有する光源２によつて照明
される。この走査時に光源２によつて照明された
原稿０からの光束は、原稿台１近傍の定位置に配
置されたスリツト３（スリツト長手方向は原稿走
査方向と垂直な方向）を通つて固定ミラー４に指
向する。ミラー４を反射した光束は、次にミラー
５，６を順に反射してレンズ７に入射する。レン
ズ７を出射した光束は次に固定ミラー９に反射さ
れて、露光位置Ｅにおいて、前記ドラムＤに入射
する。即ち原稿像がドラムＤに露光されるが、こ
の位置Ｅでの露光領域は前記長手方向に平行巾の
スリツト３の像をレンズ７で位置Ｅに投影した領
域で規定される。（ただしスリツト３の上記像は、
スリツト３がレンズ７に関しドラムと共役な原稿
面から若干離れているのでピントの合つた像では
ない。）原稿走査が終了すると、台１は矢印と反
対方向に復動して往動起点位置に復帰する。
向に移動する原稿台１に載置される。台１の矢印
方向への移動によつて原稿０は走査されるが、そ
の際、この原稿は走査方向（台１の移動方向）と
垂直な方向に長尺の螢光灯、ハロゲンランプ等、
上記方向に発光分布を有する光源２によつて照明
される。この走査時に光源２によつて照明された
原稿０からの光束は、原稿台１近傍の定位置に配
置されたスリツト３（スリツト長手方向は原稿走
査方向と垂直な方向）を通つて固定ミラー４に指
向する。ミラー４を反射した光束は、次にミラー
５，６を順に反射してレンズ７に入射する。レン
ズ７を出射した光束は次に固定ミラー９に反射さ
れて、露光位置Ｅにおいて、前記ドラムＤに入射
する。即ち原稿像がドラムＤに露光されるが、こ
の位置Ｅでの露光領域は前記長手方向に平行巾の
スリツト３の像をレンズ７で位置Ｅに投影した領
域で規定される。（ただしスリツト３の上記像は、
スリツト３がレンズ７に関しドラムと共役な原稿
面から若干離れているのでピントの合つた像では
ない。）原稿走査が終了すると、台１は矢印と反
対方向に復動して往動起点位置に復帰する。
さて、レンズ７、ミラー５，６が夫々実線の位
置にある時、ドラムＤには原稿の等倍像が形成さ
れ、レンズを７′の位置に、またミラー５，６を
５′，６′の位置に移動させることによつてドラム
Ｄには原稿の縮小像が形成される。つまりレンズ
の前後の光路長比を変更して複写倍率が変更され
る。尚、原稿走査速度（台１の矢印方向への移動
速度）とドラムＤの速度の比も、選択された倍率
に対応して変更される。
置にある時、ドラムＤには原稿の等倍像が形成さ
れ、レンズを７′の位置に、またミラー５，６を
５′，６′の位置に移動させることによつてドラム
Ｄには原稿の縮小像が形成される。つまりレンズ
の前後の光路長比を変更して複写倍率が変更され
る。尚、原稿走査速度（台１の矢印方向への移動
速度）とドラムＤの速度の比も、選択された倍率
に対応して変更される。
ところで、周知の如く、光線のレンズに対する
入射角度θが大なる程、レンズ透過率が低下す
る。これが所謂COS4乗則であるが、いずれにせ
よ如上のスリツト露光型の複写装置では光束のス
リツト長手方向（ドラム母線方向）についての端
部に到る程、レンズ透過率が低下する。そして倍
率を変更するとレンズ画角が変更されるから、露
光位置での像光量分布が倍率変更毎に変化される
ことになる。
入射角度θが大なる程、レンズ透過率が低下す
る。これが所謂COS4乗則であるが、いずれにせ
よ如上のスリツト露光型の複写装置では光束のス
リツト長手方向（ドラム母線方向）についての端
部に到る程、レンズ透過率が低下する。そして倍
率を変更するとレンズ画角が変更されるから、露
光位置での像光量分布が倍率変更毎に変化される
ことになる。
これを補正するのが８で示すCOS4乗則の補正
板である。この補正板８は、倍率が変更されても
投影光束の断面積変化が少ないレンズ７近傍位置
に配置される。図示例では補正板８は、レンズ７
を支持した支持体１５に、光軸方向についてレン
ズ７からａ距離をおいて支持されている。従つて
倍率変更に際して補正板８はレンズ７と一体的に
移動する。従つて縮小複写時には補正板８はレン
ズ７′から光軸方向にａ距離をおいた８′の位置に
位置する。つまり倍率変更してもレンズ７と補正
板８の間の間隔ａは一定に保たれる。
板である。この補正板８は、倍率が変更されても
投影光束の断面積変化が少ないレンズ７近傍位置
に配置される。図示例では補正板８は、レンズ７
を支持した支持体１５に、光軸方向についてレン
ズ７からａ距離をおいて支持されている。従つて
倍率変更に際して補正板８はレンズ７と一体的に
移動する。従つて縮小複写時には補正板８はレン
ズ７′から光軸方向にａ距離をおいた８′の位置に
位置する。つまり倍率変更してもレンズ７と補正
板８の間の間隔ａは一定に保たれる。
而して上記補正板の光束内に突出した先端は、
つまり光量分布を補正する先端部は、スリツト長
手方向に関する光量分布をCOS4乗則に対応して
補正し、露光位置でスリツト長手方向に関し像光
量が均一になるような形状に構成されている。
今、原稿面の照度分布がスリツト長手方向に関し
て均一であるとすると、光束の中心部を周辺部に
比べ多く規制すべくスリツト８の先端を例えば円
弧形状にすることによつて、等倍時も、縮小時も
スリツト長手方向について均一な像光量分布が得
られる。
つまり光量分布を補正する先端部は、スリツト長
手方向に関する光量分布をCOS4乗則に対応して
補正し、露光位置でスリツト長手方向に関し像光
量が均一になるような形状に構成されている。
今、原稿面の照度分布がスリツト長手方向に関し
て均一であるとすると、光束の中心部を周辺部に
比べ多く規制すべくスリツト８の先端を例えば円
弧形状にすることによつて、等倍時も、縮小時も
スリツト長手方向について均一な像光量分布が得
られる。
第２図には、第１図実施例装置中の照明部の拡
大図を示す。
大図を示す。
原稿ガラス１を介して原稿を照明し、反射光を
平行巾かつ固定に設けられたスリツト３を介して
光学系へ導くもので、光源２は長手方向に均一分
布の配光を有するハロゲンランプ等であり、原稿
照明光通過開口２３を有して光源２を囲む反射笠
２１及び２２又場合により図中にない補助反射笠
を用いて、原稿照明を行うものであるが、反射笠
内面の一部、図では面２２の一部を光量調節部材
であるところの黒塗装を施す等により低反射乃至
無反射面とされたマスク１６で覆うことにより、
原稿面上での照度は低下し、光学系を介して感光
面上での光量を低下させることになる。この時マ
スク１６を矢印Ａの如く可動とし、適宜の位置ま
で移動することにより、必要光量を得るための光
量調整手段として用いることができる。第３図は
マスク１６と反射笠２２の一部拡大図で、図の如
くマスク１６に長穴１６′を設けて反射笠有効域
内へ出し入れ移動調節可能とし、所望の光量とな
る位置で長孔１６′に差し込んだビス１７を基板
にねじ込むことにより、マスク１６を反射笠２２
に対して固定することができる。
平行巾かつ固定に設けられたスリツト３を介して
光学系へ導くもので、光源２は長手方向に均一分
布の配光を有するハロゲンランプ等であり、原稿
照明光通過開口２３を有して光源２を囲む反射笠
２１及び２２又場合により図中にない補助反射笠
を用いて、原稿照明を行うものであるが、反射笠
内面の一部、図では面２２の一部を光量調節部材
であるところの黒塗装を施す等により低反射乃至
無反射面とされたマスク１６で覆うことにより、
原稿面上での照度は低下し、光学系を介して感光
面上での光量を低下させることになる。この時マ
スク１６を矢印Ａの如く可動とし、適宜の位置ま
で移動することにより、必要光量を得るための光
量調整手段として用いることができる。第３図は
マスク１６と反射笠２２の一部拡大図で、図の如
くマスク１６に長穴１６′を設けて反射笠有効域
内へ出し入れ移動調節可能とし、所望の光量とな
る位置で長孔１６′に差し込んだビス１７を基板
にねじ込むことにより、マスク１６を反射笠２２
に対して固定することができる。
第４図は前述したマスク１６の変形例を示し、
マスク１６を２枚の板１６″，１６で構成し、
長手方向についての反射笠中心部に設けた軸１８
に相互に回転自在に保持し、更に板１６″，１６
の左右が前記長孔１６′、ビス１７と同じ手段
で単独に中心１８を支点として反射笠２２の有効
領域内へ出し入れ可能とし、又中心支軸１８も反
射笠２２に対し自在に出し入れ可能とすることに
より、原稿面上光量、更には感光面上の光量調整
と、ランプ配光、反射笠の取り付け等による配光
のバラツキ補正をも同時に行うことができる。調
節後は板１６″，１６は反射笠２２に対して固
定する。
マスク１６を２枚の板１６″，１６で構成し、
長手方向についての反射笠中心部に設けた軸１８
に相互に回転自在に保持し、更に板１６″，１６
の左右が前記長孔１６′、ビス１７と同じ手段
で単独に中心１８を支点として反射笠２２の有効
領域内へ出し入れ可能とし、又中心支軸１８も反
射笠２２に対し自在に出し入れ可能とすることに
より、原稿面上光量、更には感光面上の光量調整
と、ランプ配光、反射笠の取り付け等による配光
のバラツキ補正をも同時に行うことができる。調
節後は板１６″，１６は反射笠２２に対して固
定する。
本考案による照明装置によれば、照明部で容易
に光量可変ができるが、特に電気的な光量補正に
較べて広いレンジ巾の調整が可能であり、又光学
系、特にレンズ近傍にCOS4乗則補正の手段を有
する場合でも、COS4乗則補正に影響を与えずに
光量補正ができる。
に光量可変ができるが、特に電気的な光量補正に
較べて広いレンジ巾の調整が可能であり、又光学
系、特にレンズ近傍にCOS4乗則補正の手段を有
する場合でも、COS4乗則補正に影響を与えずに
光量補正ができる。
更に、電気的光量調整、レンズ、スリツト等に
よる調整等との組み合わせも容易である。
よる調整等との組み合わせも容易である。
第１図は本考案の適用できる複写機の説明図、
第２図は本考案の一実施例の要部の説明図、第３
図は本考案の一実施例の要部の平面図、第４図は
本考案の他の実施例の要部の平面図である。 １は原稿台、２はランプ、１６はマスク、２
１，２２は反射笠である。
第２図は本考案の一実施例の要部の説明図、第３
図は本考案の一実施例の要部の平面図、第４図は
本考案の他の実施例の要部の平面図である。 １は原稿台、２はランプ、１６はマスク、２
１，２２は反射笠である。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 移動する電子写真感光体に原稿像をスリツト露
光するための原稿照明装置において、 光源と、光源の光を原稿照明領域へ向かせる開
口とを有し、この光源の周辺に設けられた反射板
と、反射板と光源との間で光源から反射板へ向う
光を遮断する移動可能に設けられた光量調節部材
と、を有することを特徴とする原稿照明装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15512681U JPS5859058U (ja) | 1981-10-19 | 1981-10-19 | 原稿照明装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15512681U JPS5859058U (ja) | 1981-10-19 | 1981-10-19 | 原稿照明装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5859058U JPS5859058U (ja) | 1983-04-21 |
| JPH0114033Y2 true JPH0114033Y2 (ja) | 1989-04-25 |
Family
ID=29947702
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15512681U Granted JPS5859058U (ja) | 1981-10-19 | 1981-10-19 | 原稿照明装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5859058U (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55115059A (en) * | 1979-02-28 | 1980-09-04 | Ricoh Co Ltd | Exposure control unit of copying machine |
| JPS5626743B2 (ja) * | 1978-03-03 | 1981-06-20 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5626743U (ja) * | 1979-08-09 | 1981-03-12 |
-
1981
- 1981-10-19 JP JP15512681U patent/JPS5859058U/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5626743B2 (ja) * | 1978-03-03 | 1981-06-20 | ||
| JPS55115059A (en) * | 1979-02-28 | 1980-09-04 | Ricoh Co Ltd | Exposure control unit of copying machine |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5859058U (ja) | 1983-04-21 |
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