JPH01132793A - Ｚｎ−Ｎｉ合金めっき鋼板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、Ｚｎ−Ｎｉめっき鋼板を工業的に低ラインス
ピードから高ラインスピードまで安定的に製造する方法
に関するものである。

〈従来の技術〉 Ｚｎ−Ｎｉ合金めっきは、同一目付量のＺｎめっきと比
較して数倍から十数倍の耐食性を示すため、近年その使
用量が大幅に増加してきている。　ここでこの高耐食性
を発揮させるためにはめっき層中のＮｉ含有率を１０〜
１５ｗｔ％の範囲に制御することが必要とされる。

これは、Ｚｎ−Ｎｉの合金相のうち Ｎ１５Ｚｎｚ＋という固溶型のγ相をとる領域での耐食
性が最も良好となるからである。この合金組成範囲を超
えると、腐食電位が責になりすぎて、かえって鋼板に対
する犠牲防食性が悪くなるので好ましくない。

Ｎｉ含有率１０〜１５ｗｔ％のＺｎ−Ｎｉめっき鋼板を
高品質に安定的に製造するには、一般にめっき電流密度
を一定にすること、浴組成を一定にすること、液流速お
よび液温度を一定にすることなど様々なめっき条件を制
御する必要があるが、さらに工業的に大量に低コストで
製造するためは第１に高ラインスピードで製造でき、第
２にラインスピードの変化、電流密度の変化にかかわら
ず一定の品質が保持されるように製造できるようにする
ことが必要となる。　ここで高ラインスピードで所望の
Ｚｎ−Ｎｉ合金めっきをするには、電気めっきの付着量
が電流密度とめっき時間の積に依存することから、高電
流密度でめっきを行うことが必要とされる。　そして、
高電流密度操業になればなる程、極間抵抗（めっき液抵
抗）による電圧の全めっき電圧に対して占める割合が大
きくなるので、鋼板のめっきの運転コストを減少させる
ためにめっき液の電気伝導度を上昇させることが必要と
される。

現在高電流密度下での工業的Ｚｎ−Ｎｉ合金めっきを意
図とした技術としては、操業条件として特開昭５５−１
５２１９４号公報に記載のようにめっき液と鋼板の相対
速度を２０　ｓｐｍ以上に維持する方法、めっき装置と
して特公昭６１−２１３１９号公報に記載のように電極
とめっき鋼板の距ｌｌ！（極間距！！Ｉ）を短かくした
水平電解装置を用いたもの、めっぎ液として特開昭６１
−１３３３９４号公報に記載のように支持電解質を一定
量加えるもの等が開示されており、めっき液の電気伝導
度を上昇させる方法としては特公昭６１−１９７１９号
公報にＺ　ｎ　Ｓ　０４とＮｉＳＯ４をある一定量加え
るという方法が開示されている。　またラインスピード
あるいは電流密度等製造条件の変化にかかわらず一定の
品質が保持されるようにする技術に関しては特公昭６０
−１０６９９２号公報に記載のように液中にアンモニウ
ムイオンを混入させることによって電流密度依存性を少
なくするようなめっき浴が開示されている。

〈発明が解決しようとする課題〉 しかしながら、これらはいずれも１００　ｍｐｍ以上の
高ラインスピード、あるいは１００〜２５０　Ａ／ｄａ
”という高電流密度のめつと条件下では十分には実用に
供し得ない。　これは、めっきの電流密度が５〜１０　
Ａ／ｄｍ２を超える上記条件下では析出機構が電気化学
的に卑なＺｎが優先的に析出する異常型となるのでめっ
き層組成はめっき液の組成と異なるものになりめっき層
組成の制御が困難になること、めっき電圧上昇による電
力費の増加を抑制することが困難であること等による他
、特に高電流密度めっきに伴うめつき時に発生する酸素
ガスが組成に及ぼすの影響、めっき時のジュール発熱が
組成に及ぼす影響などの問題点が解決されていなかった
ことによる。

加えて、めっき層の組成は電流密度にも依存することか
ら、被めっき鋼板の板巾、めっき目付量等に応じて電流
密度を変化させる工場ラインでは、安定的に一定の品質
のめっきをすることが一層困難になるという問題点も解
決されていなかった。

ここで、めっき時にめっき液中に発生する酸素ガスの影
響とは電流密度の増加に伴い正比例的に発生する酸素ガ
スがめつき層中のＮｉ含有率を上昇させ、所定のＮｉ含
有率のＺｎ−Ｎｉ合金を安定的に製造できなくさせてし
まう原因となることをいう。　実際、第５図に示したよ
うに、めっき液中に含まれる酸素ガス量とめっき層中の
Ｎｉ含有率上昇割合との関係かられかるように、めっき
液中の酸素ガスが１０％を超えると極端にめっき層のＮ
ｉ含有率が上昇する。　なお、この測定に使用しためっ
き液はＺｎ＋、Ｎｉ＋、Ｈ”および３０４′−イオンの
総濃度が２　、９　ｍｏｌ／Ｊ！、Ｎ　ａ　”　０　、
　２　ｍｏｌ／ｊ！、Ｋ”　０．２ｍｏｌ／ｆＬ、　ｐ
　Ｈ１、８である。

以下、まずこのような酸素ガスの影響について説明する
。

酸素ガスの影響はラインスピードによって変化する。　
従ってＮｉ含有率１０〜１５ｗｔ％の範囲内のＺｎ−Ｎ
ｉ合金めっきをラインスピード１０〜３００　ｗ＋ｐｍ
の範囲で安定的に製造することを困難にするという問題
点を生じさせていた。

このことは、ラジアル型めっきセルを１０セル並べて、
長さ２ｍのアノードを使用し、めっき液組成Ｚｎ＋、Ｎ
ｉ＋、ＨｏおよびＳＯ４２−の和が４　ｍｏｌ／４１、
ｐＨ２，０，めっき温度６０℃、液流速０　、　５　ｍ
／ｓｅｃという条件下でめっきした場合のめっき電流密
度、ラインスピードおよびＮｉ含有率の関係を示す第３
図のグラフから実証される。　第３図から分るようにラ
インスピードあるいはめっき電流密度が変化するとめっ
き層中のＮｉ含有率も大幅に変化し、めっき層中のＮｉ
含有率が好適範囲であるｔｏｅｌ　５ｗｔ％に入らない
場合のあることがわかる。

このような酸素ガスの影響は、１００〜２５０　Ａ／ｄ
■２の高電流密度条件下でめっき電圧を低く押さえてめ
っきするため、特公昭６１−２１３１９号公報に記載の
ように極間距離を小さくしためっきセルを用いる場合に
特に問題となる。　極間距離を小さくしためっきセルの
アノードには一般に不溶性電極が用いられるので、めう
き時には必然的に酸素ガスが発生し、後述するように、
めっき表面に存在する酸素ガスの量が増加するからであ
る。

一方、前述した高電流密度めっきに伴うジュール発熱の
影響とは、高電流密度にした場合の大きなジュール発熱
量がめつき液温度を上昇させ、めつき液温度が極間内で
一定に維持されず、一定の組成のめっきを安定的に得ら
れなくなることをいう。

このことはアノード長１ｍ１めっき液の電導塵１００　
ｍ５７ｃｍ　　（めっき液は前記第５図に係るめっき液
と同じ）、液流速０　、　５　ｍ／ｓｅｃ　、極間路ｗ
ｉ１０ＩＩＩＩＩｌの場合のめっき電流密度とめっき液
の温度上昇幅（めっき液セル出側の液温とめっき液セル
入側の液温との差）の関係を表わす第６図により明らか
にされる。

第６図からめっき電流密度が１００〜１８０Ａ／ｄｍ”
の場合めっき液温度が４〜１３℃上昇することがわかる
。

上記のように、工業的に安定的に高ラインスピードＺｎ
−Ｎｉ合金めっきを行うには高電流密度めっきに伴う酸
素ガスの影響、ジュール発熱の影響による問題点を解決
することが必要とされるが、この他粘度の低いめっき液
を使用することも必要とされる。

これは粘度の高いめっき液を使用するとドラッグアウト
と称するめっき液の系外への持ち出しが必然的に起こり
、高価なＮｉが浪費され、めっきの製造コストが高くな
るからであり、また前述しためっき液中の酸素ガスの滞
留が促進されるからである。

従って液の粘度は低い方が好ましく、めっき液の粘度を
低くする点からめっき液の密度を低くすることが好まし
い。

本発明は上記事情を鑑みてなされたものであって、鋼板
のＺｎ−Ｎｉ合金めっきが低ラインスピードから高ライ
ンスピードまで大量に低コストで工業的に安定的になさ
れるようにすることを特徴とする 特に本発明は安定的な高ラインスピードのめりきがなさ
れるようにするため、高電流密度めっきをするに当り、
発生する酸素およびジュール熱のめっき組成への影響が
抑制されるようにし、それによりラインスピードおよび
電流密度の変化にかかわらず一定の品質のめっきが施さ
れるようにすることを目的とする。

さらにまた、本発明は製造ラインをコンパクト化するた
め、！セル当りのアノード長を十分に長くしてめっきラ
インにおけるセル数を減少させることができるようにす
ることを目的とする。

〈課題を解決するため手段〉 本発明者らは従来の高電流密度に伴う種々の問題点、特
にアノードから発生する酸素の影響について鋭意研究し
た結果、アノードと鋼板間のめっき液中の気泡の存在状
態には第７図（ａ）〜（ｅ）に示すように気泡浮上途中
、気泡完全分散、気泡部分浮上の３　ｆｆｆｉ類あるこ
と、このうち気泡浮上途中状態はめっき層のＮｉ含有率
に影響を与えないこと、気泡完全分散状態ではめつき液
中に酸素ガスが１０％混入するとめっき層のＮｉ含有率
が上昇すること、気泡部分浮上状態ではめっき液中に酸
素ガスが２％混入してもめっき層のＮｉ含有率が上昇す
ることを見出した。　気泡完全分散状態と気泡部分浮上
の状態の差は、めっきされる鋼板表面近傍の酸素ガスの
量の差である。

また、この３　ｆｆｆｉ類の状態は、液流速、アノード
長、めっき電流密度に応じて生じることを見出した。−
すなわち−船釣に液流速が大きくアノード長が短い（例
えば３０ｃ＋ｎ未満）場合には、発生した気泡は極間で
完全に分散する前にめっきセルを出てしまうため気泡浮
上途中状態となり、気泡完全分散状態あるいは気泡部分
浮上状態になることはない。

これに対して液流速がやや小さくアノード長が大きい場
合には、気泡完全分散状態となり、液流速がさらに小さ
い場合には気泡部分浮上状態となる。

このような状態の変化はラインスピードにも左右される
。

第８ａ図および第８ｂ図に示すように、ラインスピード
が変化すると、めっき層中のＮｉ含有率に影響を与える
濃度境界層５の厚みが変化する。　特に、高電流密度お
よび高ラインスピードで操業を行っている場合（第８ａ
図参照）から、ラインスピードが減少し、高電流密度お
よび低ラインスピードの操業となった場合（第８ｂ図参
照）は、第８ｂ図に示すように濃度境界層内また濃度境
界層近傍に酸素ガスが存在することになり、酸素ガスの
影響がより顕著になる。

上記のような３種のめっき液中の気泡の存在状態を実際
のラインに関してさらに検討した結果以下の知見を得た
。　すなわち、実際のラインでは、アノード長は太きく
　（５０ｃｍ以上）、まためっき液の流動状態は乱流に
なっているのでアノードに生じた気泡は乱流拡散の影響
で分散され、従ってアノードと鋼板間のめっき液中には
気泡浮上途中状態が少なくなり大部分は気泡完全分散状
態か気泡部分浮上状態になっていることを見出した。　
そしてこのことを詳細に検討したところ、めっぎセルの
アノード長が１ｍを超える場合は、めっぎ液の進行方向
に気泡完全分散状態と気泡部分浮上状態の２種類の状態
が存在すること、また気泡部分浮上状態の領域はめっき
液のセルからの出側近傍に形成されるが、液流速を大き
くするほどまためっき液の粘度を小さくするほど乱流状
態が促進されるので、この気泡部分浮上状態の長さは短
くなることを見出した。

また、めっき液流速が大きくなって乱流状態が促進され
、めっき液の出側近傍付近が気泡部分浮上状態よりはめ
っき層組成への影響が小さい気泡完全分散状態になって
いたとしても、めっき液中のガス量が多いのでそれだけ
でめっき組成への影響を十分に少なくすることはできな
いこと、これに対してはめっき液出側のめっき電流密度
を減少させればよいことを見出した。

さらにまた、ジュール発熱の影響の問題はめっき液の伝
導度を上昇させめっき液流量を上昇させれば良いことも
見出した。

そして以上のような知見を総合することにより、めっき
時に発生する酸素ガスの影響とジュール発熱の影響を小
さくするには、粘度が小さく電気伝導度の高いめっき液
を使用し、アノードと鋼板間のめっき液が十分に乱流状
態になるようにめっき液流速を高くし、さらにアノード
と鋼板間のめっき液出側のめっき電流密度を減少させれ
ばよいことを見出し本発明を完成させるに至った。

すなわち、本発明はＺｎおよびＮｉイオンを含む硫酸酸
性めっき浴を用い、鋼板上にＺｎ−Ｎｉ合金めっきを行
うのに際し、 めっき液のｐＨを１〜２．５、該めつき液中のＺｎ＋、
Ｎ　ｉ　＋、Ｈ＋およびＳＯ４”−イオンの総和を２〜
３　ｍｏｌ／１　、かつＮａ＋、Ｋ”および、ＮＨ４”
イオンのうち一種類以上を０．　１ｍｏｌ／ｊ！以上と
し、前記めっき液の流速を１　ｍ／ｓｅｃ以上とし、ア
ノードと前記鋼板との間の前記めっき液出側の電流密度
を前記めっき液入側の電流密度よりも低くすることを特
徴とするＺｎ−Ｎｉ合金めっき鋼板の製造方法を提供す
る。

さらに、本発明では、上記の発明において各めっき浴の
アノードを複数個のセグメントに分割し、アノードと前
記鋼板との間の前記めっき液出側のアノードセグメント
の電流密度を前記めっき液入側のアノードセグメントの
電流密度よりも５〜２０％低くするのが好ましい。

上記発明において、Ｚｎ−Ｎｉ合金めつきはラジアル型
セルあるいは水平セルで行うのが好ましい。

以下本発明をさらに詳細に説明する。

本発明で使用するめっき液は、めつき液のｐＨが１〜２
．５、Ｚｎ＋、Ｎｉ＋、ＨｏおよびＳＯ４２−イオンの
総和を２〜３　ｍｏｌ／ｆＬかつＮａ＋、Ｋ”およびＮ
Ｈ４＋イオンのいずれか１種類以上を０．１１ＱＯ１／
ＪＺ以上含有するように調整した液とする。

めっき液のｐＨが１未満では、実際のラインでＺｎ−Ｎ
ｉ電気めっきを行った際に、鋼板から鉄が大量に溶は出
し、めっき液中に不純物イオンとして存在するため好ま
しくない、　また、ｐＨが２．５を超えると、めっきラ
インの連続運転を行った場合、ｐＨの変動が非常に大き
くなり、Ｚｎ−Ｎｉめっき層中のＮｉ含有量が変化する
ため実用的でない。

めっき液中のＺｎ＋、Ｈ＋、ＳＯ４”−イオンの総和が
２ｍｏＪ２ｚξ未満では、Ｚｎ−Ｎｉ合金めつきを行っ
た場合めっきやけを起すため不適であり、３　ｍ　ｏ　
ｆｌ　／　１１超では電導助剤による電気伝導度の向上
効果が少ないので好ましくない。

Ｎａ＋、Ｋ”およびＮＨ４”などの電導助剤の総量が０
．１ｍｏｊ！／Ｊ！未満であれば添加する意味がなくな
る。　また上限は特に限定する必要はないがその種類に
よって溶解限は決まっており、溶解限をこえる添加は無
意味である。

このようなめっき液は本発明者らが特願昭６２−０２６
０１１号公報にすでに開示したように、めっき液の粘度
が低く、めっき液の伝導度が高いので好適である。　す
なわち、めっき液の粘度が低いので、めっき液の乱流状
態が促進され、めっき組成中のＮｉ含有率に影響を及ぼ
しやすい気泡部分浮上状態の形成が抑制される。　従っ
て１００〜２５０＾／ｄａｄ”の高電流密度でライン生
産する際に発生する酸素ガスの影響を小さくすることが
できる。　　また、めっき液の電導塵が高いのでめっき
電圧を低くでき、ジュール発熱も低下させにとができる
ので好ましい。

めっきを行なう際のめっき液流速は１　ｍ／ｓｅｃ以上
とする。

めっき液流速が１　ｍ／ｓｅｃ未満であるとアノードと
鋼板間が十分に乱流状態にならず、めっき時に発生する
酸素ガスのめつき組成への影響が大きくなる。　そして
それによりめっき層中のＮｉ含有率がラインスピードあ
るいは電流密度に大きく左右されるようになるので好ま
しくない、　めっき液流速の上限は特に定めないが、最
高で３　ｍ　／　ｓ　ｅ　ｃ程度が実操業上好ましい。

このことはラインスピード１０ｍｐｍと３００ｍｐｍと
におけるＮｉ含有率の差をめっき液流速を変化させるこ
とにより測定して得られた第４図に示す結果に基づくも
のである。　第４図からめっき液流速が１　ａ＋／ｓｅ
ｃ未満ではＮｉ含有率変化が大きいが、１　ａ＋／ｓｅ
ｃ以上ではＮｉ含有率変化は５％未満であることがわか
る。　なお、この測定に使用しためりき液はＺｎ＋、Ｎ
　ｉ　＋、Ｈｏおよび５０４２−イオンの総濃度が２．
９ｍｏｌ／ＪＺ、　Ｎａ”　　０．２ｍｏｌ／ｆＬ。

Ｋ”　０．　２ｗｏｌ／ｊ２、ｐＨ１，８であり、ラジ
アル型めつきセルを１０セル用いた。

本発明ではアノードと鋼板との間のめっき液出側の電流
密度をめフき液入側よりも低くすることが重要である。

　　これは前述のようにめっき液出側のめっき液中の酸
素ガス含有量が多いので、その影響を抑制するためであ
る。　めっき液出側の電流密度を減少させる程度および
態様はめっき液流速、アノードと鋼板との距離、アノー
ドの長さ、めっき液の粘度等積々のめつきラインの操業
条件にもよるが、一般にめっき液入側が１００〜２５０
　Ａ／ｄｍ２の電流密度の場合にはめっき液出側の電流
密度をめっき液入側に対して５％〜２０％減少させるの
が好ましい。

減少させる態様は連続的でもめっき液出側において急に
減少させるステップ状でもよい。

めっき液出側の電流密度を減少させる方法としては、ア
ノードを長手方向に２分割以上して電流密度に差をつけ
ればよい。

５％未満では、ラインスピードの変化に対するめっきの
Ｎｉ含有率の変化がやや大きくなり、２０％超では、各
アノードで異なったＮｉ含有率のめっきとなワて深さ方
向に層構造のめっきとなり、好ましくない。

なお、めっき液入側の電流密度は通常高ラインスピード
めっきで必要とされる電流密度にすればよく、特に１０
０〜２５０＾／ｄａｄ２の範囲では本発明の効果が顕著
に発揮される。

本発明で使用するめっきセルは特に制限されないがラジ
アル型セルまたは水平セルが好ましい、　ラジアル型セ
ルはパスラインが安定しているため、めっき液流速の変
動が少なく局所的な電流集中が少ない等、小さい極間距
離でめっきを行なう場合に大変好ましい特徴を備えてい
るからである。

水平セルにおいても本発明の改善効果は好ましく発揮さ
れる。

ここで、１セル内のアノードの長さも特に制限的ではな
いが、アノード長が１ｍ以上であると本発明の効果が顕
著に発揮される。　　ｉｎ未満（特に３０ｃｍ未満）で
はもともとアノードと鋼板間に気泡部分浮上状態が生じ
にくく、めっき液出側のめっき液中の酸素ガス含有量が
高くなることもないからである。

〈実施例〉 以下に、本発明を実施例により具体的に説明する。

（実施例　１） 第１図に示すようなラジアル型めっきセル１０セルから
なるめっきラインにおいて、そのアノードを長手方向に
２分割して（各ｉｎ）めっき液の進行方向に電流密度１
．０５１０．９５（電流密度差約１０％）の差異をつけ
、めっき液として、Ｚｎ＋、Ｎ　ｉ　”Ｈ”およびｓｏ
４’−の総和が２．９ｍｏｌ／ＪＺ、Ｋ２　ＳＯ４０，
２ｍｏｌ／ｊＺ、　Ｎ　ａｔ　ＳＯ４０，２ｍｏｌ／ｕ
％　ｐＨ１，８という組成のめっき液を用い、めっき液
流速２　、０　ｍ／ｓｅｃ　、めっき液温度６０℃で、
ラインスピードおよび電流密度を変化させて鋼板のＺｎ
−Ｎｉ合金めっきを行い、形成されためっき層のＮｉ含
有率を測定した。

結果を第２図に示す。

（実施例　２〜９） めっき液組成、電流密度配分、めりき液流速を表１に示
すように変化させ、実施例１と同様にめっきを行なった
。結果を表１に示す。

（比較例　１．２） アノードの長手方向に電流密度の差をつけず、表１に示
すような条件で実施例１と同様にめっきを行なった。　
結果を表１にあわせて示す。

表１に示した結果、および第２図を第３図と対比するこ
とにより、本発明の実施例は比較例に比べて電流密度あ
るいはラインスピードの変化に対するめっき中のＮｉ含
有率の変化が著しく小さいこと、また電流密度あるいは
ラインスピードの変化にかかわらずめっき中のＮｉ含有
率が１０〜１５ｗｔ％に維持されていることがわかる。

なお、上記実施例はラジアル型セルにおける例を示した
が、水平セルにおいても同様の効果が確認された。

〈発明の効果〉 本発明によれば高電流密度めっきを行っても、めっき時
に発生する酸素ガスの影響およびジュール発熱の影響を
抑制できるので、めっき組成が電流密度、ラインスピー
ド等のめっきラインの操業条件の変化にかかわらず一定
に維持される。　従って、高品質のＺｎ−Ｎｉ合金めっ
きを工業的に安定的に低ラインスピードから高ラインス
ピードまで製造することができるようになる。

また、本発明によれば１セル当りのアノード長が長くて
も、アノードと鋼板間の電流密度をめっき液の進行方向
に減少させることによりめっき液中の酸素ガスの影響を
抑制できるので高品質に安定したＺｎ−Ｎｉ合金めっき
鋼板が製造される。　従って、１セル当りのアノード長
を十分に長くとり、めっきラインにおけるセル数を減少
させることができるので、めっきラインをコンパクト化
させることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例のめつきラインの概略図である
。 第２図は本発明の実施例のラインスピードおよび電流密
度とＮｉ含有率の関係を表わすグラフである。 第３図は従来のラインスピードおよび電流密度とＮｉ含
有率の関係を表わすグラフである。 第４図はラインスピード１０ｍｐｍと３００ｍｐｍとに
おけるＮｉ含有率の変化とめっき液流速との関係を表わ
すグラフである。 第５図はめっき液中のガス分率とＮｉ含有率の上昇割合
の関係を表わすグラフである。 第６図はめっき電流密度とジュール発熱によるめっき液
温度上昇度幅（めっき液セル出側の液温とめっき液セル
入側の液温との差）の関係を表わすグラフである。 第７図（ａ）〜（Ｃ）はアノードとめっき鋼板との間の
気泡の存在状態を表わす。 第８ａ図および第８ｂ図はラインスピードが変化した場
合の鋼板表面の状態を表わす線図である。 符号の説明 １・・・・めっき鋼板、 ２・・・・・アノード、 ３・・・・気泡、 ３ａ・・・・鋼板に引きずられためっき液中の気泡、 ４・・・・めっき液、 ５・・・・濃度境界層、 ５０・・・・めっ台セル、 ５１・・・・脱脂、酸洗 ５２・・・・ストリップ、 ５３・・・・デフレクタロール、 ５４・・・・コンダクタロール、 ５５・・・・アノード ＦＩＧ、Ｉ ＦＩＧ、２ ラインスピード（ｍｐｍ） ＮｊＡ−ｆ十変寵（％） Ｎｉ４′■％　ｃｙ、＞ ｆｆｉ、″％ｒｊ夜中のオス分率（％）電ｉえ密度（Ａ
／ｄｍ”）

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）ＺｎおよびＮｉイオンを含む硫酸酸性めっき浴を
   用い、鋼板上にＺｎ−Ｎｉ合金めっきを行うのに際し、 めっき液のｐＨを１〜２．５、該めっき液中のＺｎ＾２
   ＾＋、Ｎｉ＾２＾＋、Ｈ＾＋およびＳＯ＿４＾２＾−イ
   オンの総和を２〜３ｍｏｌ／ｌ、かつＮａ＾＋、Ｋ＾＋
   および、ＮＨ＿４＾＋イオンのうち一種類以上を０．１
   ｍｏｌ／ｌ以上とし、前記めっき液の流速を１ｍ／ｓｅ
   ｃ以上とし、アノードと前記鋼板との間の前記めっき液
   出側の電流密度を前記めっき液入側の電流密度よりも低
   くすることを特徴とするＺｎ−Ｎｉ合金めっき鋼板の製
   造方法。
2. （２）ＺｎおよびＮｉイオンを含む少なくとも１個の硫
   酸酸性めっき浴を用い、鋼板上にＺｎ−Ｎｉ合金めっき
   を行うのに際し、 めっき液のｐＨを１〜２．５、該めっき液中のＺｎ＾２
   ＾＋、Ｎｉ＾２＾＋、Ｈ＾＋およびＳＯ＿４＾２＾−イ
   オンの総和を２〜３ｍｏｌ／ｌ、かつＮａ＾＋、Ｋ＾＋
   および、ＮＨ＿４＾＋イオンのうち一種類以上を０．１
   ｍｏｌ／ｌ以上とし、前記めっき液の流速を１ｍ／ｓｅ
   ｃ以上とし、各めっき浴のアノードを複数個のセグメン
   トに分割し、アノードと前記鋼板との間の前記めっき液
   出側のアノードセグメントの電流密度を前記めっき液入
   側のアノードセグメントの電流密度よりも５〜２０％低
   くすることを特徴とするＺｎ−Ｎｉ合金めっき鋼板の製
   造方法。
3. （３）前記Ｚｎ−Ｎｉ合金めっきをラジアル型セル（め
   っき浴）で行う請求項１または２に記載のＺｎ−Ｎｉ合
   金めっき鋼板の製造方法。
4. （４）前記Ｚｎ−Ｎｉ合金めっきを水平セル（めっき浴
   ）で行う請求項１または２に記載のＺｎ−Ｎｉ合金めっ
   き鋼板の製造方法。