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JPH01132694A - flux detergent - Google Patents

flux detergent

Info

Publication number
JPH01132694A
JPH01132694A JP29056787A JP29056787A JPH01132694A JP H01132694 A JPH01132694 A JP H01132694A JP 29056787 A JP29056787 A JP 29056787A JP 29056787 A JP29056787 A JP 29056787A JP H01132694 A JPH01132694 A JP H01132694A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alcohol
flux
cleaning agent
methyl
flux cleaning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP29056787A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akio Asano
浅野 昭雄
Kazuki Jinushi
地主 一樹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to JP29056787A priority Critical patent/JPH01132694A/en
Publication of JPH01132694A publication Critical patent/JPH01132694A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/26Cleaning or polishing of the conductive pattern

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はIC部品、精密機械部品等に何首したフラック
スを除去するために用いるフラックス洗浄剤に関するも
のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a flux cleaning agent used for removing flux from IC parts, precision machine parts, etc.

[従来の技術] IC部品、精密機械部品等の組立て工程でフラックスが
使われるが、これらが何首したままでは、製品とはなら
ない場合が多い。従って、通常このような部品の仕上げ
工程では有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。その有
機溶剤として次に掲げるような種々の利点から1.1.
2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン(以
下R1)3という)が広く使われている。R1)3は不
燃性、非曝性で毒性が低く、安定性も優れている。しか
も、金属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵さ
ず、各種の汚れを選択的に溶解する性質がある。一般に
フラックス洗浄をする場合の被洗物は金属、プラスチッ
ク、エラストマー等から成る複合部品が多く従ってこの
点からも旧13が有利であった。
[Prior Art] Flux is used in the assembly process of IC parts, precision machine parts, etc., but in many cases, these products cannot be made into products if they are left hanging. Therefore, in the finishing process of such parts, organic solvents are usually used for cleaning. As an organic solvent, it has various advantages as listed below: 1.1.
2-Trichloro-1,2,2-trifluoroethane (hereinafter referred to as R1) is widely used. R1)3 is nonflammable, non-exposed, has low toxicity, and has excellent stability. Furthermore, it does not attack base materials such as metals, plastics, and elastomers, and has the property of selectively dissolving various stains. In general, many of the objects to be cleaned when flux cleaning are composite parts made of metals, plastics, elastomers, etc. Therefore, the old No. 13 was advantageous in this respect as well.

[発明の解決しようとする問題点] 本発明は従来使用されていたR1)3が種々の利点を持
つにもかかわらず、成層圏のオゾンを破壊し、ひいては
皮膚ガンの発生をひき起す原因となる疑いがあることか
らそれに対応すべくR1)3と同様な種々の利点を有し
、同等の洗浄が行なえる新規のフラックス洗浄剤を提供
することを目的とするものである。
[Problems to be solved by the invention] The present invention solves the problem that although R1)3, which has been used conventionally, has various advantages, it destroys stratospheric ozone and causes skin cancer. In response to this doubt, the objective is to provide a new flux cleaning agent that has various advantages similar to R1)3 and can perform equivalent cleaning.

[問題点を解決するための手段] 本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
1.2−ジフルオロエタンを有効成分として含有するフ
ラックス洗浄剤を提供するものである。
[Means for solving the problems] The present invention has been made to achieve the above-mentioned objects,
A flux cleaning agent containing 1,2-difluoroethane as an active ingredient is provided.

本発明のフラックス洗浄剤の有効成分である1、2−ジ
フルオロエタン(以下RI52という)は、適度な溶解
力がある等、従来のR1)3と同様な利点を有する優れ
た溶剤である。
1,2-difluoroethane (hereinafter referred to as RI52), which is an active ingredient of the flux cleaning agent of the present invention, is an excellent solvent that has the same advantages as conventional R1)3, such as having a suitable dissolving power.

本発明のフラックス洗浄剤には、各種の目的に応じてそ
の他の各種成分を含有させることができる。例えば、溶
解力を高めるためには、炭化水素類、アルコール類、ケ
トン類又は塩素化炭化水素類等の有機溶剤から選ばれる
少なくとも1種を含有させることができる。これらの有
機溶剤のフラックス洗浄剤中の含有割合は、0〜50重
毒%、好ましくは10〜40重量%、さらに好ましくは
20〜30重量%である。1.2−ジフルオロエタンと
有機溶剤との混合物に共沸組成が存在する場合には、そ
の共沸組成での使用が好ましい。
The flux cleaning agent of the present invention can contain various other components depending on various purposes. For example, in order to increase the dissolving power, at least one kind selected from organic solvents such as hydrocarbons, alcohols, ketones, or chlorinated hydrocarbons can be included. The content of these organic solvents in the flux cleaning agent is 0 to 50% by weight, preferably 10 to 40% by weight, and more preferably 20 to 30% by weight. When the mixture of 1,2-difluoroethane and the organic solvent has an azeotropic composition, it is preferable to use the azeotropic composition.

炭化水素類としては炭素数1〜15の鎖状又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、n−ペンタン、イ
ソペンタン、n−ヘキサン、イソヘキサン、2−メチル
ペンタン、2.2−ジメチルブタン、2.3−ジメチル
ブタン、n−へブタン、イソへブタン、3−メチルヘキ
サン、2.4−ジメチルペンタン、n−オクタン、2−
メチルペンタン、3−メチルペンタン、4−メチルへブ
タン、2.2−ジメチルヘキサン、2.5−ジメチルヘ
キサン、3.3−ジメチルヘキサン、2−メチル−3−
エチルベンクン、3−メチル−3−エチルペンタン、2
、3.3− トリメチルペンタン、2.3.4− トリ
メチルペンタン、2.2.3− トリメチルペンタン、
イソオクタン、ノナン、2.2.5−トリメデルヘキサ
ン、デカン、ドデンカン、1−ペンテン、2−ペンテン
、1−ヘキセン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセ
ン、シクロベンクン、メチルシクロペンクン、シクロヘ
キサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン
、ビシクロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジ
ペンテン、デカリン、テトラリン、アミジノ、アミルナ
フタレン等から選ばれるものである。より好ましくは、
n −ペン’?ン、n−ヘキサン、n−へブタン等であ
る。
The hydrocarbons are preferably linear or cyclic saturated or unsaturated hydrocarbons having 1 to 15 carbon atoms, such as n-pentane, isopentane, n-hexane, isohexane, 2-methylpentane, 2,2-dimethylbutane, 2.3-dimethylbutane, n-hebutane, isohebutane, 3-methylhexane, 2.4-dimethylpentane, n-octane, 2-
Methylpentane, 3-methylpentane, 4-methylhebutane, 2.2-dimethylhexane, 2.5-dimethylhexane, 3.3-dimethylhexane, 2-methyl-3-
Ethylbencune, 3-methyl-3-ethylpentane, 2
, 3.3-trimethylpentane, 2.3.4-trimethylpentane, 2.2.3-trimethylpentane,
Isooctane, nonane, 2.2.5-trimedelhexane, decane, dodencane, 1-pentene, 2-pentene, 1-hexene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, cyclobencune, methylcyclopencune, cyclohexane , methylcyclohexane, ethylcyclohexane, bicyclohexane, cyclohexene, α-pinene, dipentene, decalin, tetralin, amidino, amylnaphthalene, and the like. More preferably,
n-pen'? n-hexane, n-hebutane, etc.

アルコール類としては、炭素数I〜17の鎖状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、n−ブチルアルコール、5ec−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、ter L−ブチル
アルコール、ペンチルアルコール、5ec−アミルアル
コール、1−エチル−1−プロパツール、2−メチル−
1−ブタノール、イソペンチルアルコール、Lert−
ペンデルアルコール、3−メチル−2−ブタノール、ネ
オペンチルアルコール、l−ヘキサノール、2−メチル
−1−ペンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、
2−エチル−1−ブタノール、1−ヘプタツール、2−
ヘプタツール、3−ヘプタツール、l−オクタノール、
2−オクタノール、2−エチル−1−ヘキサノール、l
−ノナノール、3.5.5−トリメチル−1−ヘキサノ
ール、I−デカノール、1−ウンデカノール、1−ドデ
カノール、アリルアルコール、プロパルギルアルコール
、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、1−メチ
ルシクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキサノール
、3−メチルシクロヘキサノール、4−メチルシクロヘ
キサノール、α−テルピネオール、アビニチノール、2
.6−シメチルー4−ヘプタツール、トリメチルノニル
アルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデシルア
ルコール等から選ばれるものである。より好ましくはメ
タノール、エタノール、イソプロピルアルコール等であ
る。
The alcohols are preferably linear or cyclic saturated or unsaturated alcohols having from I to 17 carbon atoms, such as methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, 5ec-butyl alcohol, isobutyl alcohol, ter L-butyl alcohol, pentyl alcohol, 5ec-amyl alcohol, 1-ethyl-1-propatol, 2-methyl-
1-Butanol, isopentyl alcohol, Lert-
Pendel alcohol, 3-methyl-2-butanol, neopentyl alcohol, l-hexanol, 2-methyl-1-pentanol, 4-methyl-2-pentanol,
2-ethyl-1-butanol, 1-heptatool, 2-
heptatool, 3-heptatool, l-octanol,
2-octanol, 2-ethyl-1-hexanol, l
-nonanol, 3.5.5-trimethyl-1-hexanol, I-decanol, 1-undecanol, 1-dodecanol, allyl alcohol, propargyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 1-methylcyclohexanol, 2-methylcyclohexanol , 3-methylcyclohexanol, 4-methylcyclohexanol, α-terpineol, avinitinol, 2
.. It is selected from 6-dimethyl-4-heptatool, trimethylnonyl alcohol, tetradecyl alcohol, heptadecyl alcohol, and the like. More preferred are methanol, ethanol, isopropyl alcohol and the like.

ケトン類としては、R−CO−R’ 、 R−Co、 
R−Co−R’ −、r−C1),。
Ketones include R-CO-R', R-Co,
R-Co-R'-, r-C1),.

C0−R“、R−CD−R’、 R−CO−R’ (こ
こで、R,i+’、R”は炭素数1〜9の飽和又は不飽
和炭化水素基)のいずれかの一般式で示されるものが好
ましく、アセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノ
ン、3−ペンタノン、2−ヘキサノン、メチル−ロープ
チルケトン、メチルブチルケトン、2−ヘプタノン、4
−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、アセトニルアセト
ン、メシチルオキシド、ホロン、メチル−〇−アミルケ
トン、エチルブチルケトン、メチルへキシルケトン、シ
クロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、イソホロン
、2.4−ペンタンジオン、ジアセトンアルコール、ア
セトフェノン、フェンチョン等から選ばれるものである
。より好ましくはアセトン、メチルエチルケトン等であ
る。
Any general formula of C0-R", R-CD-R', R-CO-R' (where R, i+', R" is a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 9 carbon atoms) Preferably, those shown are acetone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, 3-pentanone, 2-hexanone, methyl rope tyl ketone, methyl butyl ketone, 2-heptanone, 4
-heptanone, diisobutyl ketone, acetonylacetone, mesityl oxide, holon, methyl-〇-amyl ketone, ethyl butyl ketone, methylhexyl ketone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, isophorone, 2,4-pentanedione, diacetone alcohol, acetophenone, It is selected from Feng Chong et al. More preferred are acetone, methyl ethyl ketone and the like.

塩素化炭化水素類としては、炭素数1〜2の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、1.1−ジクロルエタン、1.2−ジクロロ
エタン、l、、1.!トリクロルエタン、1,1.2−
トリクロルエタン、1.1.l、2−テトラクロルエタ
ン、1.1,2.2−テトラクロルエタン、ペンタクロ
ルエタン、1.1−ジクロルエチレン、1.2−ジクロ
ルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエチレ
ン等から選ばれるものである。より好ましくは塩化メチ
レン。
The chlorinated hydrocarbons are preferably saturated or unsaturated chlorinated hydrocarbons having 1 to 2 carbon atoms, such as methylene chloride, carbon tetrachloride, 1,1-dichloroethane, 1,2-dichloroethane, 1,1 .. ! Trichloroethane, 1,1.2-
Trichloroethane, 1.1. selected from l,2-tetrachloroethane, 1.1,2,2-tetrachloroethane, pentachloroethane, 1.1-dichloroethylene, 1,2-dichloroethylene, trichlorethylene, tetrachlorethylene, etc. It is something. More preferably methylene chloride.

!、 I、 l−トリクロルエタン、トリクロルエチレ
ン、テトラクロルエチレン等である。
! , I, l-trichloroethane, trichlorethylene, tetrachlorethylene, etc.

本発明のフラックス洗浄剤には、各種の洗浄助剤や安定
剤あるいはオゾン破壊に対する影響の少ない水素含有塩
素化フッ素化炭化水素類をさらに添加混合してもよい。
The flux cleaning agent of the present invention may further be mixed with various cleaning aids, stabilizers, or hydrogen-containing chlorinated fluorinated hydrocarbons that have little effect on ozone destruction.

洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超
音波洗汀−1蒸気洗浄等通常の方法を採用することがで
きる。
As the cleaning method, usual methods such as hand wiping, dipping, spraying, shaking, ultrasonic cleaning-1 steam cleaning, etc. can be adopted.

[実施例] 実施例1〜5 下記第1表に示すフラックス洗浄剤を用いてフラックス
の洗浄試験を行なった。
[Examples] Examples 1 to 5 Flux cleaning tests were conducted using flux cleaning agents shown in Table 1 below.

プリント基板(銅張積層板)全面にフラックス(タムラ
F−AI−4.■タムラ製作所製)を塗布し、200℃
の電気炉で2分間焼成後フラックス洗浄剤に1分間浸漬
した。フラックスの除去の度合を第1表に示す。
Apply flux (Tamura F-AI-4.■ Tamura Seisakusho) to the entire surface of the printed circuit board (copper-clad laminate) and heat at 200°C.
After baking in an electric furnace for 2 minutes, the sample was immersed in a flux cleaning agent for 1 minute. Table 1 shows the degree of flux removal.

第1′表 ()内は混合比[重量%] O:良好に除去できる △:少量残存 ×:かなり残存 [発明の効果] 本発明のフラックス洗浄剤は実施例から明らかなように
フラックスの洗浄効果の優れたものである。又、従来使
用されていた旧13と同様に適度な溶解力を持つことか
ら、金属、プラスデック及びエラストマー等から成る複
合部品に悪影響を与えることなく、フラックス洗浄する
ことができる。
Table 1' () shows the mixing ratio [wt%] O: Good removal △: Small amount remaining ×: Significant amount remaining [Effects of the invention] As is clear from the examples, the flux cleaning agent of the present invention cleans flux. It is highly effective. In addition, since it has an appropriate dissolving power like the old 13 used conventionally, it can be flux cleaned without adversely affecting composite parts made of metal, plastic deck, elastomer, etc.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)1,2−ジフルオロエタンを有効成分として含有
するフラックス洗浄剤。
(1) A flux cleaning agent containing 1,2-difluoroethane as an active ingredient.
(2)フラックス洗浄剤中には、炭化水素類、アルコー
ル類、ケトン類又は塩素化炭化水素類から選ばれる少な
くとも1種が含まれている特許請求の範囲第1項記載の
フラックス洗浄剤。
(2) The flux cleaning agent according to claim 1, wherein the flux cleaning agent contains at least one selected from hydrocarbons, alcohols, ketones, and chlorinated hydrocarbons.
JP29056787A 1987-11-19 1987-11-19 flux detergent Pending JPH01132694A (en)

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