JPH01113361A - オキシエチルメルカプト‐ベンズアルデヒド及びそれらの酸化生成物の製法 - Google Patents
オキシエチルメルカプト‐ベンズアルデヒド及びそれらの酸化生成物の製法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 6
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims abstract description 21
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims abstract description 20
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N ethyl mercaptane Natural products CCS DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N β‐Mercaptoethanol Chemical compound OCCS DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 11
- -1 tungsten (VI) compound Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 39
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 24
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 claims description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 10
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 claims description 8
- 150000001299 aldehydes Chemical group 0.000 claims description 7
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 7
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 7
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 5
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N sodium tungstate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][W]([O-])(=O)=O XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 5
- 239000000460 chlorine Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 3
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 3
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 claims description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical group FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000011737 fluorine Chemical group 0.000 claims 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 2
- ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N tungsten trioxide Chemical compound O=[W](=O)=O ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical group ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 abstract 2
- AAGZHFDTRLGIMP-UHFFFAOYSA-N 6-sulfonylcyclohexa-2,4-diene-1-carbaldehyde Chemical compound O=CC1C=CC=CC1=S(=O)=O AAGZHFDTRLGIMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- USSHTWOXWQEPPI-UHFFFAOYSA-N 6-sulfonylcyclohexa-2,4-diene-1-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1C=CC=CC1=S(=O)=O USSHTWOXWQEPPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 14
- 239000000047 product Substances 0.000 description 13
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 11
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 7
- FPYUJUBAXZAQNL-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzaldehyde Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C=O FPYUJUBAXZAQNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 6
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 5
- AVPYQKSLYISFPO-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzaldehyde Chemical compound ClC1=CC=C(C=O)C=C1 AVPYQKSLYISFPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- KSDMMCFWQWBVBW-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylbenzaldehyde Chemical compound SC1=CC=CC=C1C=O KSDMMCFWQWBVBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N benzyl alcohol Substances OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 3
- YSFBEAASFUWWHU-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichlorobenzaldehyde Chemical compound ClC1=CC=C(C=O)C(Cl)=C1 YSFBEAASFUWWHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SZIFAVKTNFCBPC-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethanol Chemical compound OCCCl SZIFAVKTNFCBPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWUSBSHBFFPRNE-UHFFFAOYSA-N 3,4-dichlorobenzaldehyde Chemical compound ClC1=CC=C(C=O)C=C1Cl ZWUSBSHBFFPRNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PTCSSXYPZOFISK-UHFFFAOYSA-N 4-chlorosulfonylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 PTCSSXYPZOFISK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101150082952 ACTA1 gene Proteins 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N hydrogen cyanide Chemical compound N#C LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101150084750 1 gene Proteins 0.000 description 1
- LLMLNAVBOAMOEE-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichlorobenzaldehyde Chemical compound ClC1=CC=CC(C=O)=C1Cl LLMLNAVBOAMOEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXQRQVUSDOKVLD-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-trichlorobenzaldehyde Chemical compound ClC1=CC(Cl)=C(C=O)C=C1Cl LXQRQVUSDOKVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUXHYMZMVMNDMG-UHFFFAOYSA-N 2,5-dichlorobenzaldehyde Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C(C=O)=C1 BUXHYMZMVMNDMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMIYKWPEFRFTPY-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichlorobenzaldehyde Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1C=O DMIYKWPEFRFTPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FESDHLLVLYZNFY-UHFFFAOYSA-N 2-benzylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1CC1=CC=CC=C1 FESDHLLVLYZNFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDOPHXWIAZIXPR-UHFFFAOYSA-N 2-bromobenzaldehyde Chemical compound BrC1=CC=CC=C1C=O NDOPHXWIAZIXPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOQXIWFBQSVDPP-UHFFFAOYSA-N 4-fluorobenzaldehyde Chemical compound FC1=CC=C(C=O)C=C1 UOQXIWFBQSVDPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMJXSOYPAOSIPZ-UHFFFAOYSA-N 4-sulfanylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(S)C=C1 LMJXSOYPAOSIPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100178313 Aedes aegypti HP-I gene Proteins 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N Protium Chemical group [1H] YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 230000008570 general process Effects 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 1
- 235000010446 mineral oil Nutrition 0.000 description 1
- 150000007523 nucleic acids Chemical class 0.000 description 1
- 108020004707 nucleic acids Proteins 0.000 description 1
- 102000039446 nucleic acids Human genes 0.000 description 1
- 238000005580 one pot reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000020477 pH reduction Effects 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001256 steam distillation Methods 0.000 description 1
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 1
- BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N sulfinic acid Chemical compound OS=O BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N thiosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1S NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009966 trimming Methods 0.000 description 1
- 150000003658 tungsten compounds Chemical class 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
- C07C323/10—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
- C07C323/18—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
- C07C323/19—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton with singly-bound oxygen atoms bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高い収率及び良好な品質でオキシエチルメル
カプト−ベンズアルデヒド及びそれらの酸化生成物(オ
キシエチルスルホニル−ベンズアルデヒド及びオキシエ
チルスルホニル−安息香酸)を製造するための経済的及
び生態学的に有利な方法に関する。
カプト−ベンズアルデヒド及びそれらの酸化生成物(オ
キシエチルスルホニル−ベンズアルデヒド及びオキシエ
チルスルホニル−安息香酸)を製造するための経済的及
び生態学的に有利な方法に関する。
上記の化合物は工業的に重要な前生成物である。例えば
4−オキシ上1−ルスルポニルー安息 ゛青酸は1Y
殊なオリゴヌクレオチドを合成するための[同相結合体
Jとして使用される (TcLrahcdron LcLL、
25゜39ri7−70 (19f14); I
lc Iv。
4−オキシ上1−ルスルポニルー安息 ゛青酸は1Y
殊なオリゴヌクレオチドを合成するための[同相結合体
Jとして使用される (TcLrahcdron LcLL、
25゜39ri7−70 (19f14); I
lc Iv。
Chin、 ΔcLa 1984. 131G−
27)。
27)。
更にオキシエチルスルホニル−安息香酸は繊維反応性ア
ブ染料を製造するための重要な前生成物である(米国特
許第3098096号明細書)。2−及び4−オキシエ
チルメルカプト−ベンズアルデヒド及びそれらの酸化生
成物は1.4−ジスチリルペンゾール系の蛍光増白剤を
製造するため(ドイツ特許出願公開第2401665号
公報)及び医薬を製造するため(欧州特許出願公開第0
089154号公報)の価値の高い中171生成物であ
る。
ブ染料を製造するための重要な前生成物である(米国特
許第3098096号明細書)。2−及び4−オキシエ
チルメルカプト−ベンズアルデヒド及びそれらの酸化生
成物は1.4−ジスチリルペンゾール系の蛍光増白剤を
製造するため(ドイツ特許出願公開第2401665号
公報)及び医薬を製造するため(欧州特許出願公開第0
089154号公報)の価値の高い中171生成物であ
る。
上記の化合物を製造するために既に特殊な方法が公知で
ある。
ある。
2−及び4−オキシエチルメルカプト−ベンズアルデヒ
ドは2−又は4−クロルベンズアルデヒドをメルカプト
エタノール/KOH又はナトリウムメチラートと反応さ
せて得られる。溶剤としてジメチルスルホキシド/四塩
化炭素が使用される(ドイツ特許出願公開第 2401665号公報、第37〜40頁、表■)。
ドは2−又は4−クロルベンズアルデヒドをメルカプト
エタノール/KOH又はナトリウムメチラートと反応さ
せて得られる。溶剤としてジメチルスルホキシド/四塩
化炭素が使用される(ドイツ特許出願公開第 2401665号公報、第37〜40頁、表■)。
欧州特許出願公開第0089154号公報中には4−フ
ルオロベンズアルデヒドとメルカプトエタノールとの相
応する反応が記載されている(第59/47頁)。ブロ
ムベンズアルデヒド及びアルキルメルカプタンからアル
キルメルカプト−ベンズアルデヒドを製造する一般的方
法の場合溶剤としてのジメチルホルムアミド及び塩基と
しての水素化ナトリウム(鉱油に分散させた)が使用さ
れる(Synth、Comm−un、 16.565−
To (1986))、なるほどドイツ特許出願公開第
2401665号公報中にはオキシエチルスルホニル−
ベンズアルデヒドが中間生成物として記載されているが
、4ii シそこにはその合成に就いて何も示されてい
ない。4−オキシエチルスルホニル−安息香酸は従来、
カルボキシル基を既に含有する前生成物から専ら装造さ
れる。
ルオロベンズアルデヒドとメルカプトエタノールとの相
応する反応が記載されている(第59/47頁)。ブロ
ムベンズアルデヒド及びアルキルメルカプタンからアル
キルメルカプト−ベンズアルデヒドを製造する一般的方
法の場合溶剤としてのジメチルホルムアミド及び塩基と
しての水素化ナトリウム(鉱油に分散させた)が使用さ
れる(Synth、Comm−un、 16.565−
To (1986))、なるほどドイツ特許出願公開第
2401665号公報中にはオキシエチルスルホニル−
ベンズアルデヒドが中間生成物として記載されているが
、4ii シそこにはその合成に就いて何も示されてい
ない。4−オキシエチルスルホニル−安息香酸は従来、
カルボキシル基を既に含有する前生成物から専ら装造さ
れる。
例えば4−オキシエチルメルカプト−安息香酸(’CA
METJ )は4−メルカプト安息香酸とクロルエタノ
ールとの(米国特許第3098096号明細書)又はエ
チレンオキシドとの(Helv−Chin、Acta1
984.1316−27)反応により生成する。重金属
触媒の下でのH,O□を用いた(Helv、Chim、
Acta 1984゜1316−27)又は次亜塩素
酸塩を用いた(米国特許第3098096号明細書)、
4−オキシエチルメルカプト−安息香酸の4−オキシエ
チルスルホニル−安息香m < rcAsET(2)J
)への酸化が記載されている。最後に挙げた化合物は又
古典的方法で4−クロルスルホニル−安息香酸(スルフ
ィン酸への還元及び核酸とエチレンオキシド又はクロル
エタノールとの反応)から製造することができる(米国
特許第3098096号明細書)。
METJ )は4−メルカプト安息香酸とクロルエタノ
ールとの(米国特許第3098096号明細書)又はエ
チレンオキシドとの(Helv−Chin、Acta1
984.1316−27)反応により生成する。重金属
触媒の下でのH,O□を用いた(Helv、Chim、
Acta 1984゜1316−27)又は次亜塩素
酸塩を用いた(米国特許第3098096号明細書)、
4−オキシエチルメルカプト−安息香酸の4−オキシエ
チルスルホニル−安息香m < rcAsET(2)J
)への酸化が記載されている。最後に挙げた化合物は又
古典的方法で4−クロルスルホニル−安息香酸(スルフ
ィン酸への還元及び核酸とエチレンオキシド又はクロル
エタノールとの反応)から製造することができる(米国
特許第3098096号明細書)。
前記の公知方法は例外なく更に下記の一般式(1)の特
殊な中間生成物の製造にのみ通し、更に次の重大な欠点
を有する。
殊な中間生成物の製造にのみ通し、更に次の重大な欠点
を有する。
ハロゲンベンズアルデヒドの交換反応に於いて双極性−
非プロトン性溶剤(ジメチルホルムアミド又は−スルホ
キシド)及びたいてい付加的に取り扱い難い塩基(アル
カリアルコラード又は−水素化物)が使用される。更に
これら方法に於いて中程度の収率及び純度しか達成され
ないので、通例精製手段(蒸留、クロル脂肪族体による
抽出、芳香族体例えばペンゾールからの再結晶)が引き
続いてとられねばならぬ。溶剤循環は絶対必要である。
非プロトン性溶剤(ジメチルホルムアミド又は−スルホ
キシド)及びたいてい付加的に取り扱い難い塩基(アル
カリアルコラード又は−水素化物)が使用される。更に
これら方法に於いて中程度の収率及び純度しか達成され
ないので、通例精製手段(蒸留、クロル脂肪族体による
抽出、芳香族体例えばペンゾールからの再結晶)が引き
続いてとられねばならぬ。溶剤循環は絶対必要である。
オキシエチルメルカプト−又はオキシエチルスルホニル
−安息香酸を生成するためのオキシエチル化反応は、困
難にしか、それ放下経済にしか入手されない出発化合物
(メルカプト安息香酸、4−クロルスルホニル−安息香
酸)を必要とする。不可避的に生ずる副生成物(1−1
り【1ルエタノール、低価硫黄化合物)に2.(づいて
これらオニ1−ジエチル化反応には生態学的理由から生
成物4及び母液に関する経費のかかる精製法が引き続い
て行われる。
−安息香酸を生成するためのオキシエチル化反応は、困
難にしか、それ放下経済にしか入手されない出発化合物
(メルカプト安息香酸、4−クロルスルホニル−安息香
酸)を必要とする。不可避的に生ずる副生成物(1−1
り【1ルエタノール、低価硫黄化合物)に2.(づいて
これらオニ1−ジエチル化反応には生態学的理由から生
成物4及び母液に関する経費のかかる精製法が引き続い
て行われる。
オキシエチルスルホニル安、α青酸を製造するための酸
化反応は部分的に生態学的に不都合な薬剤(例えば次亜
塩素酸すl−IJウム)を必要とし、従来対応するベン
ズアルデヒドの反応に就いては記載されていない。
化反応は部分的に生態学的に不都合な薬剤(例えば次亜
塩素酸すl−IJウム)を必要とし、従来対応するベン
ズアルデヒドの反応に就いては記載されていない。
本発明は驚くべきことに次の様にすれば、−能代(I)
(式中Rは水素−1弗素−1塩素−1臭素−又は沃素原
子を、mは0又は2の数を、nはl又は2の数を、pは
0又はlの数を意味し、但し、mが0であるなら、ρが
0であり、側;*′H−s(o)、co□−CI+□−
01]しよアルデヒド−又はカルボキシノ、(に対しオ
ル1−一及び/又シよパラ−位に在る) で示される オキシエチルメルカプトベンズアルデヒト
′及びそれら酸化生成物オキシエチルスルホニル−ベン
ズアルデヒド及びオキシエナルスルホニルー安息香酸を
経済的及び生態学的に有利な方法で高い収率及び良好な
品質に於いて製造することができることを見出した。即
ち一般式(II) 工 (式中R,X、Y及びZは水素、弗素−1塩素−1臭素
−又は沃素原子であり、但し、RlX、Y及びZが共に
3個のハロゲン原子であれば、R,X、Y及びZが全部
でI、2 又は3個のハロゲン原子であることができ、
Rがハ[Jゲン原子である) で示されるハロゲンヘンズアルデヒド1モルを水性媒体
中で(有機溶剤の不存在下)メルカプトエタノール約1
.0乃至1.5モル好ましくは約1.25乃至1.4モ
ル(交換さるべきハロゲン原子1個当り)と酸結合剤の
存在下約70℃乃至約150 ”C好ましくは約90℃
乃至約120℃に於いて縮合させて対応するオキシエチ
ルメルカプト−ベンズアルデヒドを得、これらを(場合
により少量の対応するカニッツアーロー生成吻オキシエ
チルメルカプト−ベンジルアルコール及び−安息香酸と
混合して)、場合により必要な中間単離後、少なくとも
夫々必要な發の過酸化水素で約40’C乃至約110℃
好ましくは約60℃乃至約95゛Cの温度に於いてpH
同値く5好ましくはpt−z〜4(対応するオキシエチ
ルスルホニル−ベンズアルデヒドを得るため)又はp
H同値〉8好ましくは9〜13(対応するオキシエチル
スルホニル−安息香酸を得るため)に於いて夫々触媒と
してのタングステン(■)−化合物の存在下酸化して対
応するオキシエチルスルホニルーベンズアルデヒト又は
オキシエチルスルホニル−安息香酸を得るのである。
子を、mは0又は2の数を、nはl又は2の数を、pは
0又はlの数を意味し、但し、mが0であるなら、ρが
0であり、側;*′H−s(o)、co□−CI+□−
01]しよアルデヒド−又はカルボキシノ、(に対しオ
ル1−一及び/又シよパラ−位に在る) で示される オキシエチルメルカプトベンズアルデヒト
′及びそれら酸化生成物オキシエチルスルホニル−ベン
ズアルデヒド及びオキシエナルスルホニルー安息香酸を
経済的及び生態学的に有利な方法で高い収率及び良好な
品質に於いて製造することができることを見出した。即
ち一般式(II) 工 (式中R,X、Y及びZは水素、弗素−1塩素−1臭素
−又は沃素原子であり、但し、RlX、Y及びZが共に
3個のハロゲン原子であれば、R,X、Y及びZが全部
でI、2 又は3個のハロゲン原子であることができ、
Rがハ[Jゲン原子である) で示されるハロゲンヘンズアルデヒド1モルを水性媒体
中で(有機溶剤の不存在下)メルカプトエタノール約1
.0乃至1.5モル好ましくは約1.25乃至1.4モ
ル(交換さるべきハロゲン原子1個当り)と酸結合剤の
存在下約70℃乃至約150 ”C好ましくは約90℃
乃至約120℃に於いて縮合させて対応するオキシエチ
ルメルカプト−ベンズアルデヒドを得、これらを(場合
により少量の対応するカニッツアーロー生成吻オキシエ
チルメルカプト−ベンジルアルコール及び−安息香酸と
混合して)、場合により必要な中間単離後、少なくとも
夫々必要な發の過酸化水素で約40’C乃至約110℃
好ましくは約60℃乃至約95゛Cの温度に於いてpH
同値く5好ましくはpt−z〜4(対応するオキシエチ
ルスルホニル−ベンズアルデヒドを得るため)又はp
H同値〉8好ましくは9〜13(対応するオキシエチル
スルホニル−安息香酸を得るため)に於いて夫々触媒と
してのタングステン(■)−化合物の存在下酸化して対
応するオキシエチルスルホニルーベンズアルデヒト又は
オキシエチルスルホニル−安息香酸を得るのである。
る。
出発化合物としては、例えば2−クロルベンズアルデヒ
ド、4−クロルベンズアルデヒド、2.4−ジクロルベ
ンズアルデヒド、2,5−ジクロルベンズアルデヒド、
2,6−ジクロルベンズアルデヒド、3,4−ジクロル
ベンズアルデヒド、2.3−ジクロルベンズアルデヒド
、2.4.5−トリクロルベンズアルデヒド及び対応す
る弗素−又は臭素誘導体が挙げられる。
ド、4−クロルベンズアルデヒド、2.4−ジクロルベ
ンズアルデヒド、2,5−ジクロルベンズアルデヒド、
2,6−ジクロルベンズアルデヒド、3,4−ジクロル
ベンズアルデヒド、2.3−ジクロルベンズアルデヒド
、2.4.5−トリクロルベンズアルデヒド及び対応す
る弗素−又は臭素誘導体が挙げられる。
酸結合剤としてはアルカリ金属−及びアルカリ土類水酸
化物、−酸化物及び−炭酸塩が適し、その際アルカリ全
屈水酸化物及びアルカリ金属酸化物が好ましい。個別的
酸結合剤に関して苛性カリ、苛性カリ液、苛性ソーダ、
苛性ソーダ液及び酸化マグネシウムが挙げられる。
化物、−酸化物及び−炭酸塩が適し、その際アルカリ全
屈水酸化物及びアルカリ金属酸化物が好ましい。個別的
酸結合剤に関して苛性カリ、苛性カリ液、苛性ソーダ、
苛性ソーダ液及び酸化マグネシウムが挙げられる。
縮合は、詳細にはハロゲンベンズアルデヒドの水性乳化
液又は懸濁液に順次1.0乃至1.5−倍モル:i:、
りrましくは1.25乃至1.4−倍モルj辻(交換さ
るべきハ[1ゲン原子1個当たり)のメルカフ゛トコニ
クノ−ル及びこれら4号に当量の酸結合剤を加え、lX
L合物を6乃至20時間好ましくは8乃至15時間70
乃至150℃好ましくは90乃至120℃に於いて撹(
↑し、場合により非反応ハ1:Jゲンヘンズアルデヒド
を水藤気で反応混合物から留出し、生成した上記−Fp
式(+)のオキシエチルメルカプト−ベンズアルデヒド
を、場合によりO乃至50″C好ましくは10乃至25
℃の温度に予冷後ろ過又は相分離により単離する様にし
て実施される。
液又は懸濁液に順次1.0乃至1.5−倍モル:i:、
りrましくは1.25乃至1.4−倍モルj辻(交換さ
るべきハ[1ゲン原子1個当たり)のメルカフ゛トコニ
クノ−ル及びこれら4号に当量の酸結合剤を加え、lX
L合物を6乃至20時間好ましくは8乃至15時間70
乃至150℃好ましくは90乃至120℃に於いて撹(
↑し、場合により非反応ハ1:Jゲンヘンズアルデヒド
を水藤気で反応混合物から留出し、生成した上記−Fp
式(+)のオキシエチルメルカプト−ベンズアルデヒド
を、場合によりO乃至50″C好ましくは10乃至25
℃の温度に予冷後ろ過又は相分離により単離する様にし
て実施される。
反応温度次第で常圧下又は密閉系中での実施が好都合で
ある。
ある。
この様に得られるオキシエチルメルカプト−ベンズアル
デヒドの酸化は、pH同値次第で上記−形式(1)の酸
化生成物に導き、酸化がそれ自体公知の方法でタングス
テン(Vl)−化合物(例えばN a z W O4、
W O:l )により触媒作用を行う場合例えばpH−
(直5以下好ましくはpH1乃至4に於いてオキシエチ
ルメルカプト基1個当たり2モルの]]20□を用いて
対応するオキシエチルスルホニル−ベンズアルデヒドが
得られる。
デヒドの酸化は、pH同値次第で上記−形式(1)の酸
化生成物に導き、酸化がそれ自体公知の方法でタングス
テン(Vl)−化合物(例えばN a z W O4、
W O:l )により触媒作用を行う場合例えばpH−
(直5以下好ましくはpH1乃至4に於いてオキシエチ
ルメルカプト基1個当たり2モルの]]20□を用いて
対応するオキシエチルスルホニル−ベンズアルデヒドが
得られる。
これに対して8以上(好ましくば9乃至13)のp H
同値に於いてアルデヒド−官能もカルボキシル官能に酸
化されるので、さらに詳細には特記されない順序で最終
生成物として対応するオキシエチルスルホニル−安息香
酸が得られる(中間化合物オキシエチルメルカプト−及
びオキシエチルスルフィニル−安息香酸は明確な形で把
握できない)。モノ−オキシエチルメルカプト−ベンズ
アルデヒドをモノ−オキシエチルスルホニル−安息香酸
に完全に変えるために少なくとも3モルの過酸化水素が
必要であり、出発化合物は2個のオキシエチルメルカプ
ト基を含有し、H20□−必要量は少なくとも5モルに
上昇する。酸化を正当化できる反応時間に於いて完結さ
せ、過酸化水素の回避できない部分的自己分解を考慮に
入れるために、実際上Io乃至(i 0%、々耐トシ<
は20乃至35%の11z02−過剰を通用するのが有
利である。
同値に於いてアルデヒド−官能もカルボキシル官能に酸
化されるので、さらに詳細には特記されない順序で最終
生成物として対応するオキシエチルスルホニル−安息香
酸が得られる(中間化合物オキシエチルメルカプト−及
びオキシエチルスルフィニル−安息香酸は明確な形で把
握できない)。モノ−オキシエチルメルカプト−ベンズ
アルデヒドをモノ−オキシエチルスルホニル−安息香酸
に完全に変えるために少なくとも3モルの過酸化水素が
必要であり、出発化合物は2個のオキシエチルメルカプ
ト基を含有し、H20□−必要量は少なくとも5モルに
上昇する。酸化を正当化できる反応時間に於いて完結さ
せ、過酸化水素の回避できない部分的自己分解を考慮に
入れるために、実際上Io乃至(i 0%、々耐トシ<
は20乃至35%の11z02−過剰を通用するのが有
利である。
酸化は、詳細には対応するオギシエチルメルカ11−−
ヘンズアルデヒドを水中に懸濁させるか又は、場合によ
り乳化剤の存在下、乳化させ、鉱酸又はアルカリ金属液
により所望のpl−1同値(オキシエチルメルカプト基
の単独酸化のためにp If 1乃至4、オキシエチル
スルホニル−安息香酸を製造するためにp H9乃至1
3)に調整し、酸化触媒として6−価のタングステンの
化合物(タングステン酸ナトリウム又はWO:l )を
少量で(メルカプト化合物1モル当たり0.1乃至lo
g好ましくはl乃至5g)添加し、40℃乃至110℃
好ましくは60℃乃至95℃に加熱後15乃至120分
以内に所要量の水性好ましくは25乃至40%過酸化水
素を滴加し、反応が完結するまで(例えば高圧液体クロ
マトグラフィー(rHPLcJ)又は薄層クロマトグラ
ム(’DCJ)による試験)反応温度に於いてfs2F
↑する。次に生成した目的化合物は、場合により0−C
7IJヤ50℃好ましくは10℃乃至25℃の温度に加
夕、さ後ろ過又は抽出により単離することができる。
ヘンズアルデヒドを水中に懸濁させるか又は、場合によ
り乳化剤の存在下、乳化させ、鉱酸又はアルカリ金属液
により所望のpl−1同値(オキシエチルメルカプト基
の単独酸化のためにp If 1乃至4、オキシエチル
スルホニル−安息香酸を製造するためにp H9乃至1
3)に調整し、酸化触媒として6−価のタングステンの
化合物(タングステン酸ナトリウム又はWO:l )を
少量で(メルカプト化合物1モル当たり0.1乃至lo
g好ましくはl乃至5g)添加し、40℃乃至110℃
好ましくは60℃乃至95℃に加熱後15乃至120分
以内に所要量の水性好ましくは25乃至40%過酸化水
素を滴加し、反応が完結するまで(例えば高圧液体クロ
マトグラフィー(rHPLcJ)又は薄層クロマトグラ
ム(’DCJ)による試験)反応温度に於いてfs2F
↑する。次に生成した目的化合物は、場合により0−C
7IJヤ50℃好ましくは10℃乃至25℃の温度に加
夕、さ後ろ過又は抽出により単離することができる。
第一段階に於いて生成したオキシエチルメルカプト−ベ
ンズアルデヒドは単離されずに直接反応混合物中で所要
のρ11同値の設定及びタングステン(Vl)−触媒の
添加後退酸化水素により本発明による方法で所望の目的
化合物に酸化されるワンポット法が多くの場合殊に有利
であると判明した。次の例により本発明の詳細な説明す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。
ンズアルデヒドは単離されずに直接反応混合物中で所要
のρ11同値の設定及びタングステン(Vl)−触媒の
添加後退酸化水素により本発明による方法で所望の目的
化合物に酸化されるワンポット法が多くの場合殊に有利
であると判明した。次の例により本発明の詳細な説明す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。
記載される重量部対記載される容量部はg対d(又は驕
対2)と同じである。
対2)と同じである。
例 1
水150部、苛性カリ(85%)63.4部及びメルカ
プトエタノール88.3部からなる混合物に40℃に於
いて十分な攪拌下15分以内に?’4 i、ib シた
4−クロルベンズアルデヒド114.8部を滴加し、引
き続いて90乃至92℃に加夕、さし、約10時間この
214度に於いて八?けする。反応の経過は7°・V層
りロア1−グラフィーにより追跡される。出発化合物が
も早や検出され得ないなら、沈成した無機塩を溶解する
ために水320部を添加し、撹拌下10乃至20“Cに
冷却し、冷却中に顆粒に固化した4−オキシエチルメル
カプト−ベンズアルデヒドを吸引ろ過する。氷水200
部による洗浄及び40℃に於ける真空乾燥後融点58乃
至60℃及び純度96.9%(IIPLc)を有する4
−オキシエチルメルカプト−ベンズアルデヒド137.
6部が得られる。
プトエタノール88.3部からなる混合物に40℃に於
いて十分な攪拌下15分以内に?’4 i、ib シた
4−クロルベンズアルデヒド114.8部を滴加し、引
き続いて90乃至92℃に加夕、さし、約10時間この
214度に於いて八?けする。反応の経過は7°・V層
りロア1−グラフィーにより追跡される。出発化合物が
も早や検出され得ないなら、沈成した無機塩を溶解する
ために水320部を添加し、撹拌下10乃至20“Cに
冷却し、冷却中に顆粒に固化した4−オキシエチルメル
カプト−ベンズアルデヒドを吸引ろ過する。氷水200
部による洗浄及び40℃に於ける真空乾燥後融点58乃
至60℃及び純度96.9%(IIPLc)を有する4
−オキシエチルメルカプト−ベンズアルデヒド137.
6部が得られる。
生成物は4−オキシエチルメルカプト−ベンジルアルコ
ール(平行して進行するカニッツァーロー反応からなる
)を含イfし、これは適度の収lt、ET失の下にその
水溶性に基づいて氷水300部による1回の攪拌により
除去することができる。融点60乃至61℃及び純度〉
99%を有する4−オキシエチルメルカプト−ベンズア
ルデヒド126部が得られる。
ール(平行して進行するカニッツァーロー反応からなる
)を含イfし、これは適度の収lt、ET失の下にその
水溶性に基づいて氷水300部による1回の攪拌により
除去することができる。融点60乃至61℃及び純度〉
99%を有する4−オキシエチルメルカプト−ベンズア
ルデヒド126部が得られる。
反応の母液から酸性化、ろ別及び乾燥により融点+49
乃至152℃を有する4−オキシエチルメルカプト−安
息香酸(対応するカニッツァー11−生成物として生成
)4.5部を単離することができる。
乃至152℃を有する4−オキシエチルメルカプト−安
息香酸(対応するカニッツァー11−生成物として生成
)4.5部を単離することができる。
苛性カリの代わりに当猜の酸化マグネシウムを使用し、
その他は上記の方法で実施すれば4−オキシエチルメル
カブトーヘンズアルデヒドが比較可能な収率及び品質で
得られる。
その他は上記の方法で実施すれば4−オキシエチルメル
カブトーヘンズアルデヒドが比較可能な収率及び品質で
得られる。
例 2
水250部、メルカプトエタノール195部及び2−ク
ロルベンズアルデヒド229.6部かよなるR2f↑し
た混合物に50乃至55℃に於いて30分以内に85%
苛性カリ140部を少HHずつ加える。引き続いて10
5乃至110℃に加り、さ(還流)し、約15時[81
この温度に於いて攪拌する。
ロルベンズアルデヒド229.6部かよなるR2f↑し
た混合物に50乃至55℃に於いて30分以内に85%
苛性カリ140部を少HHずつ加える。引き続いて10
5乃至110℃に加り、さ(還流)し、約15時[81
この温度に於いて攪拌する。
薄層クロマトグラフィーによる反応追跡は、この時間後
反応混合物中で2−クロルベンズアルデヒドが少量しか
存在していないことを示す。
反応混合物中で2−クロルベンズアルデヒドが少量しか
存在していないことを示す。
これは間接的水蒸気−薄情(留出液が単相になるまでの
蒸発される液体の留出)により除去される。この場合2
−クロルベンズアルデヒド(3,5部(理論値の2.8
%)が回収され(留出液の相分h1)、これは次の混合
物中で再び使用するごとができる。
蒸発される液体の留出)により除去される。この場合2
−クロルベンズアルデヒド(3,5部(理論値の2.8
%)が回収され(留出液の相分h1)、これは次の混合
物中で再び使用するごとができる。
引き続いて熱い反応混合物に無機塩を溶解するために水
550部を加え、20乃至25℃に冷攪拌する。攪拌器
の停fL後反応混合物ば2相に分離する。有機相を分離
し、2回脱塩水(250乃至300部)と共に攪拌し、
真空(100乃至150mバール)中で短時間の渾留に
より脱水する。純度98.4%(HP L C)を有す
る2−オキシエチルメルカプト−ベンズアルデヒド28
0.0部が得られる。
550部を加え、20乃至25℃に冷攪拌する。攪拌器
の停fL後反応混合物ば2相に分離する。有機相を分離
し、2回脱塩水(250乃至300部)と共に攪拌し、
真空(100乃至150mバール)中で短時間の渾留に
より脱水する。純度98.4%(HP L C)を有す
る2−オキシエチルメルカプト−ベンズアルデヒド28
0.0部が得られる。
(分析:S:17.547.7%;計算値:17、58
%/残留塩素:<Q−3%;計算値0.0%)。苛性カ
リを整除量の50%苛性ソーダ液□これは上記時間中に
均等に滴加される□に替え、その他は対応する方法で実
施すれば、未反応2−クロルベンズアルデヒド川0.4
部が留出液として、比較可能な品質を有する2−オキ
シエチルメルカプト−ベンズアルデヒド273、8部が
得られる。
%/残留塩素:<Q−3%;計算値0.0%)。苛性カ
リを整除量の50%苛性ソーダ液□これは上記時間中に
均等に滴加される□に替え、その他は対応する方法で実
施すれば、未反応2−クロルベンズアルデヒド川0.4
部が留出液として、比較可能な品質を有する2−オキ
シエチルメルカプト−ベンズアルデヒド273、8部が
得られる。
例 3
水200部、メルカプトエタノール90.0部及び3.
4−ジクロルベンズアルデヒド143.0部からなる混
合物を60乃至65℃に加温する。
4−ジクロルベンズアルデヒド143.0部からなる混
合物を60乃至65℃に加温する。
この温度に於いて十分な攪拌下20分以内に均等に50
%苛性カリ液110.0部を滴加し、引き続いて85乃
至90℃に加熱する。
%苛性カリ液110.0部を滴加し、引き続いて85乃
至90℃に加熱する。
約12時間この温度に於いて攪拌することにより反応を
完結する(3.4−ジクロルベンズアルデヒドの不存在
下でのHPLCによる検査)。
完結する(3.4−ジクロルベンズアルデヒドの不存在
下でのHPLCによる検査)。
無機塩を溶解するために水180部を熱い反応混合物に
添加し、引き続いて激しい攪拌下15乃至20℃に冷却
し、沈澱した3−クロル−4−オキシエチルメルカプト
−ベンズアルデヒドを吸引ろ過し、水で洗浄して中性と
し、真空中で40乃至50℃に於いて重量が一定になる
まで乾燥する。
添加し、引き続いて激しい攪拌下15乃至20℃に冷却
し、沈澱した3−クロル−4−オキシエチルメルカプト
−ベンズアルデヒドを吸引ろ過し、水で洗浄して中性と
し、真空中で40乃至50℃に於いて重量が一定になる
まで乾燥する。
融点77乃至7 り ”C及び純度97.3%(lIP
l、c)を有する3〜クロル−4−オニ1−シコニチル
メJレカフ′1−−ベンズアルデヒド165.4部がi
itられる。生成物は3−クロル−4−オニ1−ジエチ
ルメルカプト−ベンジルアルコール約1%を含有する。
l、c)を有する3〜クロル−4−オニ1−シコニチル
メJレカフ′1−−ベンズアルデヒド165.4部がi
itられる。生成物は3−クロル−4−オニ1−ジエチ
ルメルカプト−ベンジルアルコール約1%を含有する。
60℃の温水300部とのts”2f↑によりこの不純
物を除去することができる。この場合融点79乃至80
℃(IrPLCによる純度:9B、9%)を有する3−
クロル−4−オキシエチルメルカプト−ベンズアルデヒ
ド 161.9部が得られる。前記の反応に於いてメルカプ
トエタノール及び苛性カリ液の量が10%増大させれば
、反応時間は約2時間短縮される。収率及び品質は変わ
らないままである。
物を除去することができる。この場合融点79乃至80
℃(IrPLCによる純度:9B、9%)を有する3−
クロル−4−オキシエチルメルカプト−ベンズアルデヒ
ド 161.9部が得られる。前記の反応に於いてメルカプ
トエタノール及び苛性カリ液の量が10%増大させれば
、反応時間は約2時間短縮される。収率及び品質は変わ
らないままである。
例4
20%苛性カリ性1190部に撹拌下15乃至20℃に
於いて60分以内にメルカプトエタノール390部を滴
加し、70乃至75℃に加夕、さし、次に1度に75乃
至80℃の温2,4−ジクロルベンズアルデヒド−溶融
体286部を加える。
於いて60分以内にメルカプトエタノール390部を滴
加し、70乃至75℃に加夕、さし、次に1度に75乃
至80℃の温2,4−ジクロルベンズアルデヒド−溶融
体286部を加える。
ずばやく90乃至95℃に加熱し続け、6時間この温度
で保ち、次に110乃至115℃に−L−冒−(還流)
させる。II P t、 Cにより出発生成物がも早や
検出されず、殆ど単一の反応生成物(〉95表面パーセ
ント)が固定され得るまで□これは約13乃至15時間
を必要とする □閉拌する。引き続いて無機塩を溶解するために水50
0部を添加し、攪拌下0乃至5℃に冷却し、沈lりした
沈澱体をろ過により単離する。
で保ち、次に110乃至115℃に−L−冒−(還流)
させる。II P t、 Cにより出発生成物がも早や
検出されず、殆ど単一の反応生成物(〉95表面パーセ
ント)が固定され得るまで□これは約13乃至15時間
を必要とする □閉拌する。引き続いて無機塩を溶解するために水50
0部を添加し、攪拌下0乃至5℃に冷却し、沈lりした
沈澱体をろ過により単離する。
氷水50部による洗浄及び室温に於いて真空中で乾燥後
融点76乃至78”C及び純度98.1%(1−I P
L C)を有する2、4−ビスーオキシエチルメルカ
プトーヘンズアルデヒド335.2部が得られる。
融点76乃至78”C及び純度98.1%(1−I P
L C)を有する2、4−ビスーオキシエチルメルカ
プトーヘンズアルデヒド335.2部が得られる。
(分析: S : 25.0/24.8%;計算値=2
4.81%/残留塩素:<Q、3%:計算値:0.0%
)。
4.81%/残留塩素:<Q、3%:計算値:0.0%
)。
例 5乃至8
例1乃至4に於いて夫々使用したアルデヒドを表1中で
示したアルデヒド整除部に替え、その他は上記の方法で
、クロマトグラフィーにより完全な反応が検出され得る
まで、実施すれば下記の表1から明らかな、下記の純度 (III)LC)を有する(以下の記載参照)−形式I
Iの第4−ジエチルメルカプト−ベンズアルデヒド例
9 4−オニ1−シエチルメルカプトーヘンズアルデ゛
ヒト364部、水500部及びタングステン酸ナトリウ
ト部を60″Cに於いて攪拌し、形成する乳化液を20
硫酸によりp H1,5にする。2時間以内に35%過
酸化水素408部を滴加し、引き続いて内温を75℃に
高め、約14時j::1、薄層クロマトグラフィー分析
が4−オキシエチルメルカプト−ベンズアルデヒドの不
存在を示すまで、攪拌する。次に攪拌上室温に冷却し、
2n苛性ソーダ液でpH同値8.5に調整し、懸濁した
4−オキシエチルスルホニル−ベンズアルデヒドを吸引
ろ過し、冷水で洗浄して中性とし、50℃に於いて真空
中で乾燥する。
示したアルデヒド整除部に替え、その他は上記の方法で
、クロマトグラフィーにより完全な反応が検出され得る
まで、実施すれば下記の表1から明らかな、下記の純度 (III)LC)を有する(以下の記載参照)−形式I
Iの第4−ジエチルメルカプト−ベンズアルデヒド例
9 4−オニ1−シエチルメルカプトーヘンズアルデ゛
ヒト364部、水500部及びタングステン酸ナトリウ
ト部を60″Cに於いて攪拌し、形成する乳化液を20
硫酸によりp H1,5にする。2時間以内に35%過
酸化水素408部を滴加し、引き続いて内温を75℃に
高め、約14時j::1、薄層クロマトグラフィー分析
が4−オキシエチルメルカプト−ベンズアルデヒドの不
存在を示すまで、攪拌する。次に攪拌上室温に冷却し、
2n苛性ソーダ液でpH同値8.5に調整し、懸濁した
4−オキシエチルスルホニル−ベンズアルデヒドを吸引
ろ過し、冷水で洗浄して中性とし、50℃に於いて真空
中で乾燥する。
融点111乃至113℃及び純度97.2%(HPLC
)を有する4−オキシエチルスルホニル−ベンズアルデ
ヒド340部が得られる。
)を有する4−オキシエチルスルホニル−ベンズアルデ
ヒド340部が得られる。
化合物は典型的な全てのアルデヒド−反応を示す。
例 10
例9に於いて4−オギシエチルメルカブ)−ベンズアル
デヒドを2−オー1ニジエチルメルカプ1−一へンズア
ルデヒドに替え、その他は記載された方法で実施すれば
、2−オキシエチルスルホニル−ベンズアルデヒドが比
較可能な収率及び品質で得られる。
デヒドを2−オー1ニジエチルメルカプ1−一へンズア
ルデヒドに替え、その他は記載された方法で実施すれば
、2−オキシエチルスルホニル−ベンズアルデヒドが比
較可能な収率及び品質で得られる。
例 11
4−オキシエチルメルカプト−ベンズアルデヒド546
部、水溶性780部、 ”’ Arkopa I N 100 (ヘキスト
社の市販生成物)15部及びタングステン酸ナトリウム
8部を60℃に於いて攪拌し、この場合生ずる乳化液を
4n苛性ソーダ液pH9にする。
部、水溶性780部、 ”’ Arkopa I N 100 (ヘキスト
社の市販生成物)15部及びタングステン酸ナトリウム
8部を60℃に於いて攪拌し、この場合生ずる乳化液を
4n苛性ソーダ液pH9にする。
60分間35%過酸化水素1000部を滴加し、その際
温度は95℃まで高めてよ(,15乃至20時間、HP
L C−検査が完全な反応率を示すまで、95℃に於
いて加熱する。引き続いて水500部を添加し、攪拌上
室温に冷却し、2n塩酸でpH6にし、生成した沈澱を
吸引ろ過する。
温度は95℃まで高めてよ(,15乃至20時間、HP
L C−検査が完全な反応率を示すまで、95℃に於
いて加熱する。引き続いて水500部を添加し、攪拌上
室温に冷却し、2n塩酸でpH6にし、生成した沈澱を
吸引ろ過する。
氷水による中性洗浄及び80℃に於ける1゛f空乾燥後
融点169乃至172℃及び純度95.8%([([)
LC)を有する4−オキシエチルスルホニル−安息香酸
614部が(y4られる。活性炭の添加下水から再結晶
させた試料は融点190℃及び純度99.1%(HP
L C)を示す。
融点169乃至172℃及び純度95.8%([([)
LC)を有する4−オキシエチルスルホニル−安息香酸
614部が(y4られる。活性炭の添加下水から再結晶
させた試料は融点190℃及び純度99.1%(HP
L C)を示す。
例 I2乃至16
例11に於いて示した4−オキシエチルメルカプト−ベ
ンズアルデヒドを表2中で示したアルデヒド整除部に替
え、その他は上記の方法で、クロマトグラフィーにより
完全な反応が検出されるまで、実施すれば下記の表2か
ら明らかな、下記の純度(HPLC)及び収率を有する
(以下の記載参照)−形式■のオキシエチルスルホニル
−安息香酸が得られる。
ンズアルデヒドを表2中で示したアルデヒド整除部に替
え、その他は上記の方法で、クロマトグラフィーにより
完全な反応が検出されるまで、実施すれば下記の表2か
ら明らかな、下記の純度(HPLC)及び収率を有する
(以下の記載参照)−形式■のオキシエチルスルホニル
−安息香酸が得られる。
例 17
25%苛性カリ+213.4部及びメルカプトエタノー
ル88,3部からなる混合物に攪拌下30分以内に35
乃至40゛Cに於いて溶融した4−りI:Jルベンズア
ルデヒド114.8部を加える。次Gこ温度を95℃に
高め、15時間反応が完結するまで攪拌する(薄層クロ
マトグラフィーによる検査)。水50部の添加により稀
釈する。反応混合物のρf1同値は約9.5乃至10.
0である。
ル88,3部からなる混合物に攪拌下30分以内に35
乃至40゛Cに於いて溶融した4−りI:Jルベンズア
ルデヒド114.8部を加える。次Gこ温度を95℃に
高め、15時間反応が完結するまで攪拌する(薄層クロ
マトグラフィーによる検査)。水50部の添加により稀
釈する。反応混合物のρf1同値は約9.5乃至10.
0である。
酸化するためにタングステン酸ナトリウム2部を添加し
、90分以内に更に90乃至95℃に於いて30%過酸
化水素380部を滴加する。
、90分以内に更に90乃至95℃に於いて30%過酸
化水素380部を滴加する。
約18時間この温度に於いて保ち、水200部を添加す
る。50乃至60 ”Cに冷却し、2n塩酸でpH同値
6にする。
る。50乃至60 ”Cに冷却し、2n塩酸でpH同値
6にする。
引き続いて更に10乃至15℃に冷却し、沈澱した沈澱
体を吸引ろ過し、氷水で洗浄して無塩にし、80℃に於
いて真空中で乾燥する。融点168乃至170℃及び純
度95.6%(lIIN、c)を有する4−オキシエチ
ルスルホニル−安息香酸160部が得られる。
体を吸引ろ過し、氷水で洗浄して無塩にし、80℃に於
いて真空中で乾燥する。融点168乃至170℃及び純
度95.6%(lIIN、c)を有する4−オキシエチ
ルスルホニル−安息香酸160部が得られる。
酸化完結後十分な2n苛性ソーダ液(約400容量部)
の添加により沈澱した沈澱体を90″Cに於いて溶解さ
せ、溶液に活性炭10部を加え、引き続いて90℃に於
いて清澄化し、次にろ液を20塩酸で中和すれば、冷却
、吸引ろ過、洗浄及び乾燥後融点189乃至191℃及
び純度98.9% 8. HP L C)を有する4−
オキシエチルスルホニル−安息香酸148部が得られる
。
の添加により沈澱した沈澱体を90″Cに於いて溶解さ
せ、溶液に活性炭10部を加え、引き続いて90℃に於
いて清澄化し、次にろ液を20塩酸で中和すれば、冷却
、吸引ろ過、洗浄及び乾燥後融点189乃至191℃及
び純度98.9% 8. HP L C)を有する4−
オキシエチルスルホニル−安息香酸148部が得られる
。
例 18乃至21
例17に於いて4−クロルベンズアルデヒドを表3中で
示したハロゲンアルデヒド整除部に替え、その他は記載
された方法で実施すれば下記の表1から明らかな、下記
の収率及び純度(HP I、C)を有する一般式(■)
(以下の記載参照)のオキシエチルスルホニル−安息?
[が得られる。
示したハロゲンアルデヒド整除部に替え、その他は記載
された方法で実施すれば下記の表1から明らかな、下記
の収率及び純度(HP I、C)を有する一般式(■)
(以下の記載参照)のオキシエチルスルホニル−安息?
[が得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中Rは水素−、弗素−、塩素−、臭素−又は沃素原
子を、mは0又は2の数を、n は1又は2の数を、pは0又は1の数を意 味し、但し、mが0であるなら、pが0で あり、側鎖−S(O)_m−CH_2−CH_2−OH
はアルデヒド−又はカルボキシ基に対しオルト −及び/又はパラ−位に在る) で示される。オキシエチルメルカプトベン ズアルデヒド及びそれらの酸化生成物オキシエチルスル
ホニル−ベンズアルデヒド及びオキシエチルスルホニル
−安息香酸を製造するために、一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中R、X、Y及びZは水素、弗素−、塩素−、臭素
−又は沃素原子であり、但しR、X、Y及びZが共に3
個のハロゲン原子で あれば、R、X、Y及びZが全部で1、2 又は3個のハロゲン原子であることができ、Rがハロゲ
ン原子である) で示されるハロゲンベンズアルデヒド1モルを水性媒体
中でメルカプトエタノール約1.0乃至1.5モル(交
換さるべきハロゲン原子1個当り)と酸結合剤の存在下
約70℃乃至約150℃に於いて縮合させて対応するオ
キシエチルメルカプト−ベンズアルデヒドを得、これら
を少なくとも夫々必要な量の過酸化水素で約40℃乃至
約110℃の温度に於いて触媒としてのタングステン(
VI)一化合物の存在下酸化して対応するオキシエチルス
ルホニル−ベンズアルデヒド又はオキシエチルスルホニ
ル−安息香酸を得ることを特徴とする上記製法。 2、対応するオキシエチルスルホニルベンズアルデヒド
を得るためにpH−値>8に於いて酸化する請求項1記
載の方法。 3、対応するオキシエチルスルホニル安息香酸を得るた
めにpH−値>8に於いて酸化する請求項1記載の方法
。 4、縮合を苛性ソーダ、苛性ソーダ液、苛性カリ、苛性
カリ液又は酸化マグネシウムの存在下実施する請求項1
乃至4のいずれかに記載の方法。 5、縮合を約90℃乃至約120℃の温度に於いて実施
する請求項1乃至4のいずれかに記載の方法。 6、請求項1記載の一般式(II)の出発化物1モルをメ
ルカプトエタノール1.25乃至1.4モルと縮合させ
る請求項1乃至5のいずれかに記載の方法。 7、縮合の際得られるオキシエチルメルカプト−ベンズ
アルデヒド(対応するオキシエチルスルホニル−ベンズ
アルデヒドを得るため)をオキシエチルメルカプト基1
個当り少なくとも2モルの過酸化水素で酸化する請求項
1乃至6のいずれかに記載の方法。 8、縮合の際得られるモノ−オキシエチルメルカプト−
ベンズアルデヒド(対応するモノ−オキシエチルスルホ
ニル−安息香酸を得るため)を少なくとも3モルの過酸
化水素で酸化する請求項1乃至6のいずれかに記載の方
法。 9、縮合の際得られるジ−オキシエチルメルカプト−ベ
ンズアルデヒド(対応するジ−オキシエチルスルホニル
−安息香酸を得るため)を少なくとも5モルの過酸化水
素で酸化する請求項1乃至6のいずれかに記載の方法。 10、酸化を約60℃乃至約95℃の温度に於いて実施
する請求項1乃至9のいずれかに記載の方法。 11、先ず得られるオキシエチルメルカプト−ベンズア
ルデヒドを1乃至4のpH−値に於いて対応するオキシ
エチルスルホニル−ベンズアルデヒドに、9乃至13の
pH同値に於いて対応するオキシエチルスルホニル−安
息香酸に酸化する請求項1乃至10のいずれかに記載の
方法。 12、酸化を触媒としてのタングステン酸ナトリウム又
は三酸化タングステンの存在下実施する請求項1乃至1
1のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3731763.3 | 1987-09-22 | ||
DE19873731763 DE3731763A1 (de) | 1987-09-22 | 1987-09-22 | Verfahren zur herstellung von oxethylmercapto-benzaldehyden und deren oxidationsprodukten |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01113361A true JPH01113361A (ja) | 1989-05-02 |
Family
ID=6336524
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63233838A Pending JPH01113361A (ja) | 1987-09-22 | 1988-09-20 | オキシエチルメルカプト‐ベンズアルデヒド及びそれらの酸化生成物の製法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4922014A (ja) |
EP (1) | EP0309839B1 (ja) |
JP (1) | JPH01113361A (ja) |
KR (1) | KR970006476B1 (ja) |
DE (2) | DE3731763A1 (ja) |
IN (1) | IN166884B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000018729A1 (fr) * | 1998-09-30 | 2000-04-06 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Procede permettant de produire des alkylsulfonylbenzaldehydes |
JP2007537973A (ja) * | 2003-05-30 | 2007-12-27 | アルマック サイエンシズ (スコットランド) リミテッド | 精製手段 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4216590A1 (de) * | 1992-05-20 | 1993-11-25 | Basf Ag | Chlorethylsulfonylbenzaldehyde |
US5904734A (en) * | 1996-11-07 | 1999-05-18 | S. C. Johnson & Son, Inc. | Method for bleaching a hard surface using tungsten activated peroxide |
KR100231327B1 (ko) * | 1997-04-16 | 1999-11-15 | 이영재 | 분사 노즐 |
DE10140648C1 (de) * | 2001-08-18 | 2003-04-03 | Messo Chemietechnik Gmbh | Stoffabscheidung |
CN117126084B (zh) * | 2023-08-10 | 2025-07-18 | 安徽久易农业股份有限公司 | 环磺酮的制备方法 |
CN117185968A (zh) * | 2023-08-11 | 2023-12-08 | 安徽久易农业股份有限公司 | 一种环磺酮中间体的制备方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2802033A (en) * | 1955-01-27 | 1957-08-06 | Du Pont | Oxidation of alkylmercaptoacetophenones |
US2763692A (en) * | 1955-05-25 | 1956-09-18 | Du Pont | Alpha-halogenated alkylsulfonylacetophenones |
US3098096A (en) * | 1960-06-27 | 1963-07-16 | Crompton & Knowles Corp | 3-and 4-(2-chlorethylsulfonyl)-benzoyl chloride |
US3787443A (en) * | 1971-02-25 | 1974-01-22 | Zoecon Corp | Aryloxy epithio ethers |
CH569043A5 (ja) * | 1973-01-23 | 1975-11-14 | Ciba Geigy Ag | |
EP0089154A3 (en) * | 1982-03-12 | 1984-08-08 | Beecham Group Plc | Ethanolamine derivatives, their preparation and use in pharmaceutical compositions |
-
1987
- 1987-09-22 DE DE19873731763 patent/DE3731763A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-08-31 IN IN727/CAL/88A patent/IN166884B/en unknown
- 1988-09-17 EP EP88115262A patent/EP0309839B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-09-17 DE DE8888115262T patent/DE3868816D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-09-20 JP JP63233838A patent/JPH01113361A/ja active Pending
- 1988-09-20 US US07/246,802 patent/US4922014A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-09-22 KR KR1019880012234A patent/KR970006476B1/ko not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000018729A1 (fr) * | 1998-09-30 | 2000-04-06 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Procede permettant de produire des alkylsulfonylbenzaldehydes |
JP2007537973A (ja) * | 2003-05-30 | 2007-12-27 | アルマック サイエンシズ (スコットランド) リミテッド | 精製手段 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IN166884B (ja) | 1990-08-04 |
DE3731763A1 (de) | 1989-03-30 |
KR890005045A (ko) | 1989-05-11 |
EP0309839A1 (de) | 1989-04-05 |
KR970006476B1 (ko) | 1997-04-28 |
EP0309839B1 (de) | 1992-03-04 |
DE3868816D1 (de) | 1992-04-09 |
US4922014A (en) | 1990-05-01 |
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