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JPH011072A - Image processing device - Google Patents

Image processing device

Info

Publication number
JPH011072A
JPH011072A JP62-155554A JP15555487A JPH011072A JP H011072 A JPH011072 A JP H011072A JP 15555487 A JP15555487 A JP 15555487A JP H011072 A JPH011072 A JP H011072A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pixel
pattern
original
converted
image
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62-155554A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS641072A (en
Inventor
明 斉藤
神山 忠信
Original Assignee
株式会社東芝
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社東芝 filed Critical 株式会社東芝
Priority to JP62155554A priority Critical patent/JPS641072A/en
Priority claimed from JP62155554A external-priority patent/JPS641072A/en
Publication of JPH011072A publication Critical patent/JPH011072A/en
Publication of JPS641072A publication Critical patent/JPS641072A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) この発明は、任意の倍率で画像を線密度変換または拡大
縮小変換する線密度変換装置等の画像処理装置に関する
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to an image processing device such as a linear density converting device that converts an image to a linear density or scales an image at an arbitrary magnification.

(従来の技術) 従来、画像の線密度変換または拡大縮小変換を行なう方
法としては、 (1)原画像の画素からある特定の画素をあらかじめ定
められたアルゴリズムに従って選びだし、その選びだし
た画素の値をそのまま変換画素の値とする方法 (2)原画像からいくつかの画素を選びだし、これに演
算を施し、その結果として変換画像の画素を決定する方
法 がある。
(Prior Art) Conventionally, methods for performing linear density conversion or scaling conversion of an image include (1) selecting a specific pixel from the pixels of the original image according to a predetermined algorithm, and converting the selected pixel into a Method of using the value as it is as the value of the converted pixel (2) There is a method of selecting some pixels from the original image, performing calculations on them, and determining the pixels of the converted image as a result.

このうち(1)の方法の代表的なものとしては、最短距
離近似法が挙げられる。これは変換後の画素の原画像に
おける位置に最も近い原画像上の画素の値で、変換後の
画素の値を代表させるものである。この方式はアルゴリ
ズムとしては単純で、これを装置として開発する場合に
必要とされる11−ドウエア量も比較的少量で済む。
Among these, a typical method (1) is the shortest distance approximation method. This is the value of the pixel on the original image that is closest to the position of the pixel after conversion in the original image, and is representative of the value of the pixel after conversion. This method is simple as an algorithm, and the amount of hardware required to develop it as a device is relatively small.

しかしながら、たとえば縮小変換する場合に変換画像の
画素濃度が原画像の画素の単純な間引き処理となるため
に、白地に黒で有意な文字等が描かれていても、それが
サンプルされなければ消失してしまい、また黒で比較的
大きなパターンが描画されていても、たまたまサンプル
された点が白地であったりすると、変換画像が大きく変
形したりするなど、変換処理の際の画像劣化が著しい。
However, for example, when performing reduction conversion, the pixel density of the converted image is simply thinned out of the pixels of the original image, so even if significant characters are drawn in black on a white background, they will disappear if they are not sampled. Even if a relatively large pattern is drawn in black, if the sampled point happens to be on a white background, the converted image will be significantly deformed, resulting in significant image deterioration during the conversion process.

一方の(2)の方法は(1)の方法の欠点を改善すべく
考案されたものであり、変換後の画素濃度の算出を原画
像におけるこの画素の周辺の原画素を参照して行なう方
法である。この方法は変換画素の濃度値が参照される原
画像の画素の濃度分布状態に依存して決定されるため、
(1)の方法と比較して画質の劣化ははるかに少ない。
On the other hand, method (2) was devised to improve the shortcomings of method (1), and is a method in which the pixel density after conversion is calculated by referring to the original pixels surrounding this pixel in the original image. It is. In this method, the density value of the converted pixel is determined depending on the density distribution state of the pixel in the original image that is referred to.
Compared to method (1), the image quality deteriorates much less.

さらに(2)の方法はその具体的実現法から見れば次の
2種類に分類することができる。1つは変換画像の画素
濃度の算出を参照する原画像の画素濃度の論理演算で行
なう方法であり、他の1つは理論式に沿って算術演算を
行い、その結果に2値化処理等を施して変換画像の画素
濃度値を決定する方法である。
Furthermore, the method (2) can be classified into the following two types in terms of its specific implementation method. One method is to calculate the pixel density of the converted image using a logical operation on the pixel density of the original image as a reference, and the other method is to perform arithmetic operations according to a theoretical formula and perform binarization processing etc. on the result. This method determines the pixel density value of the converted image by applying

一般的には、前者の論理演算によ′る方法が処理の手頃
さからよく使用され、論理的には後者の方法によるもの
でも、結果を論理演算式に置き換えて処理するものも見
られる。
In general, the former method, which uses logical operations, is often used because of its ease of processing, and even though the latter method is logically used, there are also cases where the results are replaced with logical operation expressions for processing.

しかしながら論理式が変換画像の画素濃度を決定できる
実用的な変換倍率の範囲は、変換時に参照される原画像
の画素数の制限から、せいぜい1/2〜2程度である場
合が多く、これを広範囲に拡大すると、参照すべき原画
像画素も組合せ数の爆発的な増大によりハードウェアと
しても小規模なものにはならない。また参照する原画像
画素をある範囲内に制約すると、線密度変換装置として
の柔軟性を著しく損ねたり、さらに(1)の方法と同じ
理由で画質が著しく劣化することになる。
However, the range of practical conversion magnification in which the logical formula can determine the pixel density of the converted image is often at most 1/2 to 2 due to the limitation on the number of pixels of the original image that is referred to during conversion. When enlarged over a wide range, the number of combinations of original image pixels to be referenced increases explosively, making it difficult to reduce the size of the hardware. Furthermore, if the original image pixels to be referred to are restricted within a certain range, the flexibility of the linear density conversion device will be significantly impaired, and furthermore, the image quality will be significantly degraded for the same reason as method (1).

一方理論式によって画素濃度値を算術演算により算出し
た後に2値化する方法は、広い一般性をもち、処理自体
高度の柔軟性をもつものであるが、−膜内にはハードウ
ェア規模が大きくなるという欠点をもつ。この点を改善
して柔軟性を保ちつつコンパクトにまとめられており、
しかも高速処理が可能な線密度変換装置が提案されてい
る(特開昭56−90375号)。
On the other hand, the method of calculating pixel density values through arithmetic operations using theoretical formulas and then binarizing them has wide generality and the processing itself is highly flexible; however, the hardware within the film is large. It has the disadvantage of becoming. This point has been improved to maintain flexibility while being compact.
Furthermore, a linear density converter capable of high-speed processing has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 56-90375).

この線密度変換装置は、理論式を一種のスムージング関
数として設定し、このスムージング処理を施した後リサ
ンプリングすることによって任意の倍率で高画質の変換
画像が得られるようにしたものである。スムージングと
りサンプリングによる変換処理は、そのパラメータを適
当に選ぶことにより理論的にはS/Nを最もよくできる
手法であり、特に縮小変換された変換画像の原画像との
相似性は極めてよい。
In this linear density conversion device, a theoretical formula is set as a kind of smoothing function, and a high-quality converted image can be obtained at any magnification by performing this smoothing processing and then resampling. Conversion processing by smoothing and sampling is a method that can theoretically improve the S/N ratio by appropriately selecting its parameters, and in particular, the similarity of the reduced-converted converted image to the original image is extremely good.

しかしながらこの線密度変換装置においても、実用的な
見地からすると大きな問題点を残している。
However, even in this linear density converter, major problems remain from a practical standpoint.

すなわち、この線密度変換装置により通常のスムージン
グ処理を施しリサンプリングして拡大変換を行なうと、
変換画像がぼける、ないしはなまった形状となってしま
うという問題が起こる。つまり拡大変換はもともと情報
がない点の情報を予M1する処理であるから単純なスム
ージング処理では必ずしも満足のいく変換処理はなしが
たい。特に形状を損わせる部分は、傾斜部分、中でも一
点列からなる斜線はくびれ現象を引き起こし、団子状の
形状となる。より太い斜線では、境界が波打つ現象が起
こる。また鍵形や十字形のクロス部分には、にじみが生
じて図形がなまった形状になってしまう。
In other words, if this linear density conversion device performs normal smoothing processing, resampling, and enlarging conversion,
A problem arises in that the converted image becomes blurred or has a distorted shape. In other words, since enlargement conversion is a process of pre-M1ing information on points for which there is no information to begin with, it is difficult to achieve a satisfactory conversion process using simple smoothing processing. Particularly, the part that spoils the shape is the inclined part, especially the diagonal line consisting of a series of dots, which causes a constriction phenomenon and becomes a dumpling-like shape. Thicker diagonal lines cause the boundary to wave. In addition, smearing occurs in the cross portion of a key shape or a cross shape, resulting in a distorted shape.

このように従来の画像処理装置としての線密度変換装置
では、斜線、鍵形および十字形等を画質を劣化させずに
拡大変換することができないという問題点があった。
As described above, the conventional linear density conversion device as an image processing device has a problem in that diagonal lines, key shapes, cross shapes, etc. cannot be enlarged and converted without deteriorating the image quality.

(発明が解決しようとする問題点) この発明は上記の事情に対処してなされたもので、画像
線密度変換時に画質を劣化させることなく変換すること
ができる画像処理装置を提供することを目的とする。
(Problems to be Solved by the Invention) This invention has been made in response to the above-mentioned circumstances, and an object thereof is to provide an image processing device that can perform image linear density conversion without deteriorating image quality. shall be.

[発明の構成] (問題点を解決するための手段) この発明の画像処理装置は、原画像を線密度変換または
拡大縮小変換する際の変換画像の各画素に対応する原画
像内における位置を算出しこれを変換画素位置情報とし
て出力する変換画素位置検出手段と、この変換画素位置
検出手段により求められた位置の周辺の原画素から被参
照原画素情報を選択的に抽出する原画素抽出手段と、こ
の原画素抽出手段から抽出された被参照原画素情報の特
定の画素パターンを検出するパターン検出手段、および
このパターン検出手段で検出されたパターンに応じた画
素パターンを発生するパターン発生回路とから構成され
るものである。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) The image processing device of the present invention determines the position in the original image corresponding to each pixel of the converted image when linear density conversion or scaling conversion is performed on the original image. A converted pixel position detection means that calculates and outputs the converted pixel position information as converted pixel position information, and an original pixel extraction means that selectively extracts referenced original pixel information from original pixels around the position determined by the converted pixel position detection means. a pattern detection means for detecting a specific pixel pattern of the referenced original pixel information extracted from the original pixel extraction means; and a pattern generation circuit for generating a pixel pattern according to the pattern detected by the pattern detection means. It consists of:

(作用) この発明は、被参照原画素情報の特定の画素パターンを
検出し、この検出されたパターンに応じた画素パターン
を発生するようにしたものである。
(Operation) The present invention detects a specific pixel pattern in referenced original pixel information and generates a pixel pattern according to the detected pattern.

(実施例) 以下、この発明を図面を参照しながら詳細に説明する。(Example) Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to the drawings.

準1図はこの発明の一実施例の画像処理装置としての線
密度変換装置のブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram of a linear density conversion device as an image processing device according to an embodiment of the present invention.

この線密度変換装置は、菱換画素の原画像における位置
を検出する変換画素位置検出回路1と、参照される原画
素を抽出する原画素抽出回路2と、抽出された原画素か
ら特定のパターンを検出するパターン検出回路3と、検
出されたパターンに応じてより高精細のパターンを生成
するパターン発生回路4と、画像データを取り込む入力
インターフェイス5と、画像データを出力する出力イン
ターフェイス6と、入出力処理および変換処理等の制御
を司る制御回路7とよりその要部が構成されており、画
像データが伝送される外部画像データバス8、外部CP
Uと制御コマンド、実行パラメータ等の授受を行なうC
PUバス 9および制御回路7と他の回路をつなぐ図示されていな
いコントロールバスにより結合されている。
This linear density conversion device includes a conversion pixel position detection circuit 1 that detects the position of a rhombic pixel in an original image, an original pixel extraction circuit 2 that extracts a referenced original pixel, and a specific pattern from the extracted original pixel. a pattern detection circuit 3 that detects a pattern, a pattern generation circuit 4 that generates a higher-definition pattern according to the detected pattern, an input interface 5 that takes in image data, an output interface 6 that outputs image data, The main parts are composed of a control circuit 7 that controls output processing, conversion processing, etc., and an external image data bus 8 and an external CP through which image data is transmitted.
C exchanges control commands, execution parameters, etc. with U
They are connected by a control bus (not shown) that connects the PU bus 9 and the control circuit 7 to other circuits.

さらにこの原画素抽出回路2は、参照画素の選択が容易
に行なえるよう最大参照ライン数のラインバッファ2a
と、このラインッファ2aに対してアクセスする画素抽
出回路2bとからなっている。
Furthermore, this original pixel extraction circuit 2 has a line buffer 2a with a maximum number of reference lines so that reference pixels can be easily selected.
and a pixel extraction circuit 2b that accesses the line buffer 2a.

次に、この実施例の主要部の具体的構成と動作を説明す
る。
Next, the specific configuration and operation of the main parts of this embodiment will be explained.

まず、変換画素位置検出回路lについて説明する。First, the converted pixel position detection circuit l will be explained.

第2図および第3図はそれぞれ縮小変換時および拡大変
換時の原画像における原画素と変換画素との位置関係を
示しており、図中の変換画素の位置は変換時のサンプリ
ング位置を示すものである。
Figures 2 and 3 show the positional relationship between original pixels and converted pixels in the original image during reduction conversion and enlargement conversion, respectively, and the positions of the conversion pixels in the figures indicate the sampling positions during conversion. It is.

金属画素間の距離を1と正規化した場合、変換率「は両
図における変換画素間の距離をSとすると r = 1 / s             ・・・
・・・・・・ (1)と表わされる。またj#目の変換
画素のサンプリング位置は i=[s−j]   (但し[]はガウス記号)・・・
・・・・・・(2) を満足するi番目の原画素が取り込まれた位置がらさら
に t−sφj−i   (0<t<l) ・・・・・・・・・(3) なる微小変位をもつ位置と考えることができる。
When the distance between metal pixels is normalized to 1, the conversion rate is r = 1 / s, where S is the distance between converted pixels in both figures.
...... It is expressed as (1). Also, the sampling position of the j# conversion pixel is i = [s-j] (where [] is a Gauss symbol)...
......(2) From the position where the i-th original pixel satisfying It can be thought of as a position with displacement.

これにより変換画素位置検出回路1は、原画素の転送と
同期して原画素の座標位置を示すカウンタと、変換画素
位置を更新する演算部と、双方を比較する比較器とより
構成することが可能である。
As a result, the converted pixel position detection circuit 1 can be composed of a counter that indicates the coordinate position of the original pixel in synchronization with the transfer of the original pixel, an arithmetic unit that updates the converted pixel position, and a comparator that compares both. It is possible.

そこでこの原画素位置検出回路1は、第4図に示すよう
に変換画像のサンプリング間隔Sの整数部を格納するレ
ジスタ11および小数部を格納するレジスタ12と、変
換画像のサンプリング位置を更新していく加算器13.
14と、変換画素位置が格納されクロックCP−CNV
により更新されるラッチ15.16と、原画像の座標位
置が格納されクロックCP−ORGによりカウントアツ
プされるカウンタ17と、ラッチ15およびカウンタ1
7に格納された変換画像夕と原画素の比較を行い双方が
一致したとき変換演算要求信号RQ−CNVを出力する
比較器18とよりなるX座標用回路と、これと同じ構成
のY座標用回路とより構成されている。なお、初期時に
はラッチ15.16およびカウンタ17はクリアされて
いる。
Therefore, as shown in FIG. 4, this original pixel position detection circuit 1 has a register 11 that stores the integer part and a register 12 that stores the decimal part of the sampling interval S of the converted image, and updates the sampling position of the converted image. Adder 13.
14, the converted pixel position is stored and the clock CP-CNV
a counter 17 that stores the coordinate position of the original image and is incremented by a clock CP-ORG;
An X-coordinate circuit consisting of a comparator 18 that compares the converted image data stored in 7 and the original pixel and outputs a conversion calculation request signal RQ-CNV when both match, and a Y-coordinate circuit with the same configuration as the comparator 18. It is composed of circuits. Note that the latches 15 and 16 and the counter 17 are initially cleared.

まず縮小の場合、初期時にラッチ15.16はともに0
なので変換演算要求信号RQ−CNVが出力され、変換
演算がなされる。このとき、この変換演算要求信号RQ
−CNVにしたがってクロックCP−CNVが入力され
、次の変換画素位置がラッチ15.16に格納される。
First, in the case of reduction, both latches 15 and 16 are 0 at the initial stage.
Therefore, the conversion calculation request signal RQ-CNV is output, and the conversion calculation is performed. At this time, this conversion calculation request signal RQ
-CNV, the clock CP-CNV is input, and the next converted pixel position is stored in the latch 15.16.

そして原画素が順次入力されるごとにカウンタ17が更
新され、再びラッチ15の値とこのカウンタ17の値が
一致したとき再度変換演算要求信号RQ−CNVが出力
される。またこのとき(3)式に示す微小変位tはラッ
チ16に格納されている。
The counter 17 is updated every time the original pixel is sequentially input, and when the value of the latch 15 and the value of the counter 17 match again, the conversion calculation request signal RQ-CNV is output again. Further, at this time, the minute displacement t shown in equation (3) is stored in the latch 16.

また拡大の場合は、原画素間を複数の画素で補間してい
くのであるから、常に変換演算要求信号RQ−CNVが
出力されるが、逆に変換画素位置が格納されたラッチ1
5.16が順次更新されていく過程で原画素位置を越え
るとき、すなわち加算器14のキャリーを原画素取込み
要求RQ−INFとして用いることによって位置検出が
順次処理される。なお、変換画素および原画素の座標位
置は行末に達するごとにクリアされる。
In addition, in the case of enlargement, since interpolation is performed between original pixels using multiple pixels, the conversion calculation request signal RQ-CNV is always output, but conversely, the latch 1 in which the converted pixel position is stored
5.16 exceeds the original pixel position in the process of sequential updating, that is, position detection is sequentially processed by using the carry of the adder 14 as the original pixel capture request RQ-INF. Note that the coordinate positions of the converted pixel and the original pixel are cleared each time the end of the line is reached.

次に原画素抽出回路2について簡単に説明する。Next, the original pixel extraction circuit 2 will be briefly explained.

第5図はこの実施例の原画素抽出回路2の構成ブロック
図である。この原画素抽出回路2は4本のラインバッフ
ァ21〜24と、この一部(4X4)の参照原画素を格
納するレジスタ25と、この参照原画素を回転するマル
チプレクサ26とがらなっている。
FIG. 5 is a block diagram of the original pixel extraction circuit 2 of this embodiment. The original pixel extracting circuit 2 consists of four line buffers 21 to 24, a register 25 for storing a portion (4×4) of the reference original pixels, and a multiplexer 26 for rotating the reference original pixels.

この原画素抽出回路2は直列に接続されたラインバッフ
ァ21〜24に順次各行の原画素を格納、シフトしてい
くとともに、レジスタ25に各行の4画素を抽出し、変
換演算要求信号RQ−CNVを受信した時この4×4画
素りtt〜p44にマルチプレクサ26による回転処理
を施した後被参照原画素データq1.〜Q44として出
力する。
This original pixel extraction circuit 2 sequentially stores and shifts the original pixels of each row in line buffers 21 to 24 connected in series, extracts four pixels of each row to a register 25, and outputs a conversion operation request signal RQ-CNV. When received, the 4×4 pixels tt to p44 are subjected to rotation processing by the multiplexer 26, and then the referenced original pixel data q1. ~ Output as Q44.

さらに、この原画素抽出回路2の回転処理について説明
する。この実施例では4×4の原画素を参照して特定の
パターンを検出している。この場合、参照画素が第6図
(A)である時、変換画素Q1の位置に生成すべきパタ
ーンと、参照画素が第6図(B)である時、変換画素Q
2の位置に生成すべきパターンである。
Furthermore, the rotation processing of this original pixel extraction circuit 2 will be explained. In this embodiment, a specific pattern is detected by referring to 4×4 original pixels. In this case, when the reference pixel is shown in FIG. 6(A), the pattern to be generated at the position of the converted pixel Q1, and when the reference pixel is shown in FIG. 6(B), the pattern to be generated at the converted pixel Q
This is the pattern that should be generated at position 2.

したがって、パターン検出の冗長性を除去するため、こ
の実施例では第6図に示すように原画素間を4分割し、
変換画素位置がこのいずれに属するかによって参照原画
素の回転処理を施し、変換画素位置がすべて第2象現に
集まるようにしている。なお、この変換画素位置がどの
分割領域に属するかについては変換画素位置検出回路1
がら出力される微小変位を参照すればよい。
Therefore, in order to eliminate redundancy in pattern detection, in this embodiment, the original pixels are divided into four as shown in FIG.
The reference original pixel is rotated depending on which of these the converted pixel position belongs to, so that all the converted pixel positions are gathered in the second quadrant. Note that the converted pixel position detection circuit 1 determines which divided area this converted pixel position belongs to.
All you have to do is refer to the minute displacement that is output.

次に、パターン検出回路3の構成例を第7図に示す。第
7図では、回転後の画素qlB、Q22、q23、Q2
4、Q31、q32、q33、q42から斜線パターン
を発生する条件をゲート回路30 a 130 b s
 30 c s 30 d s 31 a 531b、
32.33a、33b、33c、33d。
Next, an example of the configuration of the pattern detection circuit 3 is shown in FIG. In FIG. 7, pixels qlB, Q22, q23, Q2 after rotation
4. Conditions for generating a diagonal pattern from Q31, q32, q33, and q42 in gate circuit 30 a 130 b s
30 c s 30 d s 31 a 531b,
32.33a, 33b, 33c, 33d.

34 a、34 bで判定している。次の条件山〜ど午
)のいずれかが成立しているとき、斜線を発生する。
34a and 34b. A diagonal line is generated when any of the following conditions (Yama to Dogo) are satisfied.

(1) q 22・/q23・/q32・/q33 (
ただし、φ:かつ、+二または、q22 : q22が
黒、/:否定) (2)/ q 22 ・q23 ・q32 ・Q33(
3)/ q  22  ・ q  23  ・ q  
32  ・ /q 33 ・(q13+q24)  ・
 (q31+q42)(4) q 22  ・/q23
 ・/q32 ・ q33  ・(/q13+/q24
)  ・ (/q31+/q42)q22、Q 23、
q32、Q33の各組合せにおいて、q22近傍の4分
割領域内に生成するパターンを第8図に示す。
(1) q 22・/q23・/q32・/q33 (
However, φ: and +2 or q22: q22 is black, /: negative) (2)/ q 22 ・q23 ・q32 ・Q33 (
3) / q 22 ・ q 23 ・ q
32 ・ /q 33 ・(q13+q24) ・
(q31+q42) (4) q 22 ・/q23
・/q32 ・q33 ・(/q13+/q24
) ・ (/q31+/q42)q22, Q 23,
FIG. 8 shows the patterns generated in the four-division area near q22 for each combination of q32 and Q33.

第7図の回路は、数個の汎用論理阻止またきは1個のP
LD (プログラマブル論理デバイス)という極めて小
規模のハードウェアで実現可能である。
The circuit of FIG.
This can be realized using extremely small-scale hardware called an LD (programmable logic device).

上記(1)〜(4)の判定条件に追加条件を付加して、
より精度の高い斜線判定が可能である。例えば、上記(
1)〜(4)の判定条件で斜線判定を行なった場合、第
9図(a)(b)に示すように、−点列斜線の交差付近
で、白斜線/黒斜線の判定誤りや、判定もれが発生し、
画像が乱れる。この点を改善した斜線パターン検出回路
を第13図に、判定条件を(5)〜(12)に、画像を
第9図(c)(d)に示す。
Adding additional conditions to the judgment conditions (1) to (4) above,
More accurate diagonal line determination is possible. For example, above (
When diagonal line determination is performed under the determination conditions 1) to (4), as shown in FIGS. 9(a) and 9(b), there is a white diagonal line/black diagonal line determination error near the intersection of diagonal lines in a series of - dots, and Misjudgment occurs,
The image is distorted. A diagonal line pattern detection circuit improved in this respect is shown in FIG. 13, determination conditions (5) to (12) are shown, and images are shown in FIGS. 9(c) and (d).

(5)  (1)と同じ (6)  (2)と同じ (7) q  22  ・/q 23 ・/q 32 
・ q33  ・/(q13 − q24)  ・ /
(Q31  ・ q42) ・/(Q13  ・ q 
31) ・/(q 24  ・ q42)(8)/q2
2  ・ q2B  ・ q32  ・/q 33 ・
/(/q13  ・/q 24)  ・/(/q31 
 ・/ q 42 )  ・/(/q13  ・/q3
1)  ・/(/q24  ・/Q42) (9) q 22  ・/q23 ・/q32 ・ q
3B  ・/q 12 φ/q21 ・/q34 ・/
q43(/Q13  ・/q 24 ・ q31  ・
 q42+q  1 3・ Q  24  ・/q 3
1 ・/q42)(1,0)/q22  ・ q23 
 ・ q 32  ・/q33 ・q12  ・ Q2
1  ・ q34  ・ q43(Q13  ・q24
  ・/q 31 ・/ q42 + / q  1 
3  ・/q 24 ・ Q31  ・ q42)(1
1)  Q22  ・/q 23 ・/q 32 ・ 
q33  ・(/q13  ・ q24  ・/q 3
1 ・ Q42  ・ qll十q13・/q24・Q
31・/q42・q44)(12)/q22  ・ q
2B  ・ QB2  ・/q 33 ・(q 13 
・/q 24 ・ q31  ・/q42 ・/qll
+/q13  ・ q24  ・/q 31 ・/q4
2 ・/q44) 第13図の回路では、回転後の4×4の参照画素のうち
Q14とQ41を除いた14点を人力し、それから斜線
パターンを発生する条件をゲート回路40a、 4ob
、40C% 40ds 41a、 〜41h、42a、
42b、43a、43b、44.45 a、 45 b
、 46 a、 46 b、 47.48.49a、4
9b、50.51a、51b、52a〜52h、53a
 〜53d、54a、54b。
(5) Same as (1) (6) Same as (2) (7) q 22 ・/q 23 ・/q 32
・q33 ・/(q13 − q24) ・ /
(Q31 ・q42) ・/(Q13 ・q
31) ・/(q 24 ・ q42) (8)/q2
2 ・ q2B ・ q32 ・/q 33 ・
/(/q13 ・/q 24) ・/(/q31
・/q 42 ) ・/(/q13 ・/q3
1) ・/(/q24 ・/Q42) (9) q 22 ・/q23 ・/q32 ・ q
3B ・/q 12 φ/q21 ・/q34 ・/
q43(/Q13 ・/q 24 ・q31 ・
q42+q 1 3・Q 24 ・/q 3
1 ・/q42) (1,0)/q22 ・q23
・q 32 ・/q33 ・q12 ・Q2
1 ・ q34 ・ q43 (Q13 ・q24
・/q 31 ・/ q42 + / q 1
3 ・/q 24 ・ Q31 ・ q42) (1
1) Q22 ・/q 23 ・/q 32 ・
q33 ・(/q13 ・q24 ・/q 3
1 ・ Q42 ・ qll ten q13・/q24・Q
31・/q42・q44) (12)/q22・q
2B ・QB2 ・/q 33 ・(q 13
・/q 24 ・ q31 ・/q42 ・/qll
+/q13 ・q24 ・/q 31 ・/q4
2 ・/q44) In the circuit of FIG. 13, 14 points excluding Q14 and Q41 of the 4×4 reference pixels after rotation are manually input, and then the conditions for generating a diagonal line pattern are determined by gate circuits 40a and 4ob.
, 40C% 40ds 41a, ~41h, 42a,
42b, 43a, 43b, 44.45 a, 45 b
, 46 a, 46 b, 47.48.49a, 4
9b, 50.51a, 51b, 52a-52h, 53a
~53d, 54a, 54b.

55で判定している。上記条件(5)〜(12)のいず
れかが成立しているとき、斜線検出信号を発生する。こ
の回路を汎用論理素子で構成すると、第7図の回路に比
べて素子数が増加するが、PLDを用いればやはり1個
の素子で実現できる。
It is determined based on 55. When any of the above conditions (5) to (12) is satisfied, a diagonal line detection signal is generated. If this circuit is constructed using general-purpose logic elements, the number of elements will increase compared to the circuit shown in FIG. 7, but if a PLD is used, it can still be realized with one element.

以上、パターン検出回路の構成例として、−膜内な判定
条件の例と、より厳密な例を示したが、これらは実際の
システムを組む際に、どのような画像を扱うのか検討し
た上で適宜選択すれば良い。
As examples of the configuration of a pattern detection circuit, we have shown examples of -intra-membrane judgment conditions and more rigorous examples. You can choose as appropriate.

例えば線密度変換の対象が文書画像に限られる場合、第
9図(a)(b)に示すような、−点列斜線の交差する
パターンはほとんど発生しないので、第7図の構成で十
分である。
For example, when the target of linear density conversion is limited to document images, the configuration shown in FIG. 7 is sufficient because patterns in which - dot series diagonal lines intersect as shown in FIGS. 9(a) and (b) almost never occur. be.

一方、グラフィックス機能等を用いて作成した画像の場
合は第13図の構成とすれば良い。
On the other hand, in the case of an image created using a graphics function or the like, the configuration shown in FIG. 13 may be used.

次に、この構成のパターン発生回路4について説明する
。パターン発生回路4は、第10図に示すように、変換
画素位置の微少変位を人力して、斜線パターンの境界線
を発生する加算器61、最近傍画素q22に対して、境
界線と、境界線を越えた領域内の白/黒を反転するEX
−OR回路62、パターン検出回路3からの斜線検出信
号に応じてq22の値をそのまま出力するか、加算器6
1、EX−OR回路62で発生した斜線パターンを出力
するかを選択するセレクタ63、および変換画素位置の
微少変位を反転して、上記加算器61に「1」足すこと
により、ずらして発生させるための信号を供給するイン
バータ回路60から打4成されている。
Next, the pattern generation circuit 4 having this configuration will be explained. As shown in FIG. 10, the pattern generation circuit 4 manually generates a boundary line of a diagonal line pattern by slightly displacing the converted pixel position, and an adder 61 generates a boundary line and a boundary line for the nearest pixel q22. EX to invert the white/black in the area beyond the line
- OR circuit 62, depending on the diagonal line detection signal from pattern detection circuit 3, outputs the value of q22 as it is, or outputs the value of q22 as it is, or
1. The selector 63 selects whether to output the diagonal line pattern generated by the EX-OR circuit 62, and the slight displacement of the converted pixel position is inverted and "1" is added to the adder 61 to generate it in a shifted manner. The circuit is connected to an inverter circuit 60 which supplies signals for the operation.

斜線と判定されなかった場合は、q22がそのまi変換
画素の値となるので、q22近傍の4分割領域が白ベタ
または黒ベタのパターンとなる。
If it is not determined that it is a diagonal line, q22 becomes the value of the i-converted pixel as it is, so the four-division area near q22 becomes a solid white or solid black pattern.

ここで、第11図(a)(b)に示すように、Q 22
が白の場合と黒の場合で同一の境界線を用いて斜線を発
生すると、隣接する領域の斜線パターンが不連続となる
ため、第11図(C)に示すように、斜線を拡大したと
き波打つ現象が起こる。
Here, as shown in FIGS. 11(a) and (b), Q 22
If the same boundary line is used to generate diagonal lines when the area is white and black, the diagonal line patterns in adjacent areas will be discontinuous, so when the diagonal lines are enlarged as shown in Figure 11(C), A rippling phenomenon occurs.

これを防ぐため、実施例では、加算器61の最下位ビッ
トに、q22が白の時”1#となる信号、すなわちQ2
2の反転信号を入力することにより、第12図(a)(
b)に示すように、q22が白の時の斜線境界を微少変
位量の1単位分だけQ 22に近付けている。この処理
によって、第12図(c)に示すように、不連続の問題
が解決し、斜線が忠実に再現される。q22が黒の時の
斜線パターンをシフトさせても同様の効果が得られるよ
うになっている。
In order to prevent this, in the embodiment, a signal that becomes "1#" when q22 is white, that is, Q2 is input to the least significant bit of the adder 61.
By inputting the inverted signal of 2, the result shown in FIG.
As shown in b), the diagonal line boundary when q22 is white is moved closer to Q22 by one unit of minute displacement. This process solves the problem of discontinuity and faithfully reproduces the diagonal lines, as shown in FIG. 12(c). A similar effect can be obtained by shifting the diagonal line pattern when q22 is black.

パターン発生回路の他の実施例として、セレクタ63の
代りにEX−OR回路62による反転のを無を制御した
例、つまり加算器61とEX−OR回路62との間にア
ンド回路71を設けた例を第14図に示し、q22が白
の斜線とq23が黒の斜線を別々の加算器81.82で
発生し、加算器81で発生した斜線パターン、あるいは
加算器82で発生した斜線パターンをインバータ回路8
4で反転したものをセレクタ83で選択する例を第15
図に示す。また、加算器の代りに、それと等価なPLD
やROMあるいは組合わせ回路を用いても良い。
As another embodiment of the pattern generation circuit, an example in which the EX-OR circuit 62 controls no inversion in place of the selector 63, that is, an AND circuit 71 is provided between the adder 61 and the EX-OR circuit 62. An example is shown in FIG. 14, where q22 generates a white diagonal line and q23 generates a black diagonal line in separate adders 81 and 82, and the diagonal line pattern generated in adder 81 or the diagonal line pattern generated in adder 82 is Inverter circuit 8
The 15th example shows an example in which the selector 83 selects the item inverted in step 4.
As shown in the figure. Also, instead of an adder, an equivalent PLD
Alternatively, a ROM or a combinational circuit may be used.

上記実施例では、微少変位量をX、Y各3ビットとして
いるので、第11図に示すように、発生する斜線の分解
、能は参照画素間隔の1/16である。よって、16倍
までの拡大であれば斜線部にぎざぎざが現われることは
ないので、良好な画像が得られる。
In the above embodiment, since the minute displacement amount is 3 bits each for X and Y, the resolution of the generated diagonal line is 1/16 of the reference pixel interval, as shown in FIG. Therefore, if the image is enlarged up to 16 times, no jagged edges will appear in the shaded area, and a good image can be obtained.

次にこの線密度変換装置の動作を説明する。Next, the operation of this linear density converter will be explained.

まず線密度変換装置が施される原画像データが画像デー
タバス9を経由して入力インターフェイス6によって外
部より取り込まれる。この原画像データは一時バッファ
メモリに格納されたものであってもよいし、また通信手
段によって受信されたものであってもよい。この入力画
像データがパラレルなデータである場合には、入力イン
ターフェイス6で並直変換が施され、ラインバッファ2
aに1画素ずつ転送される。
First, the original image data to be subjected to the linear density conversion device is externally taken in by the input interface 6 via the image data bus 9. This original image data may be stored in a temporary buffer memory or may be received by a communication means. If this input image data is parallel data, parallel-to-serial conversion is performed at the input interface 6, and the line buffer 2
One pixel at a time is transferred to a.

この入力画像データの各画素の転送に同期して変換画素
位置検出回路1により変換画素位置の検出処理が実行さ
れる。
In synchronization with the transfer of each pixel of the input image data, the conversion pixel position detection circuit 1 executes conversion pixel position detection processing.

変換画素の該当位置が検出されると、画素抽出回路2b
を経由してラインバッファ2aから、斜線判定のために
、回転処理を施された被参照原画素データがパターン検
出回路3に入力される。
When the corresponding position of the converted pixel is detected, the pixel extraction circuit 2b
The reference original pixel data that has been subjected to rotation processing is input from the line buffer 2a to the pattern detection circuit 3 via the line buffer 2a.

一方、変換画素位置検出回路1から出力される変換画素
位置の微少変位信号と、変換画素の最近傍画素q22の
白/黒を表わす信号から1.パターン発生回路4はq2
2が白の斜線パターン、q22が黒の斜線パターン、し
ろベタ、黒ベタのいずれかを選択して、変換画素の白/
黒を決定する。
On the other hand, 1. Pattern generation circuit 4 is q2
2 is a white diagonal pattern, q22 is a black diagonal pattern, white solid, or black solid, and select the white/solid pattern of the converted pixel.
Decide on black.

そして、この結果は出力インタフェース6より外部機器
とのタイミングを合せて画像データバス8を経由して送
出される。
Then, this result is sent from the output interface 6 via the image data bus 8 in synchronization with the external device.

[発明の効果] 以上説明したようにこの発明によれば、被参照原画素中
の特定のパターンを検出し、それに応じて画素パターン
を発生するようにしたので、画質劣化の少なくでき、小
規模のハードウェアで構成することができる画像処理装
置を提供できる・。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, a specific pattern in the referenced original pixel is detected and a pixel pattern is generated accordingly. It is possible to provide an image processing device that can be configured with hardware.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図から第12図はこの発明の一実施例を示すもので
、第1図は全体の構成を示すブロック構成図、第2図お
よび第3図は変換演算を説明する図、第4図は変換画素
位置検出回路のブロック構成図、第5図は原画素抽出回
路のブロック構成図、第6図は回転処理を説明する図、
第7図はパターン検出回路の構成図、第8図は発生パタ
ーンを示す図、第9図は特定の原画素配置における発生
パターンを示す図、第10図は上記実施例におけるパタ
ーン発生回路の構成図、第11図および第12図はパタ
ーン発生回路の出力例を説明するための図であり、第1
3図は他の実施例におけるパターン検出回路の構成図、
第14図および第15図は他の実施例におけるパターン
発生回路の構成図である。 1・・・変換画素位置検出回路、2・・・原画素抽出回
路、2a・・・ラインバッファ、2b・・・画素抽出回
路、3・・・パターン検出回路、4・・・パターン発生
回路、5・・・入力インターフェイス、6・・・出力イ
ンターフェイス、7・・・制御回路、8・・・外部画像
データバス、9・・・CPUバス、q・・・画素。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 O000 X       X       X o     000 第2図 Q   ○   0  0 XXXXX XXXXX 第3図 11      12      13      1
ム(A) 0     @    00 (B) 第6図 第7図 r!!、IiI系       舎ン亜バタンQ32 
   ’に33 上前ノスヲト−22と円し 適8図 (a) (b) 第10図 第14図
1 to 12 show an embodiment of the present invention, in which FIG. 1 is a block diagram showing the overall configuration, FIGS. 2 and 3 are diagrams explaining conversion operations, and FIG. 5 is a block diagram of the converted pixel position detection circuit, FIG. 5 is a block diagram of the original pixel extraction circuit, and FIG. 6 is a diagram explaining rotation processing.
FIG. 7 is a block diagram of the pattern detection circuit, FIG. 8 is a diagram showing the generated pattern, FIG. 9 is a diagram showing the generated pattern in a specific original pixel arrangement, and FIG. 10 is the configuration of the pattern generating circuit in the above embodiment. 11 and 12 are diagrams for explaining output examples of the pattern generation circuit.
Figure 3 is a configuration diagram of a pattern detection circuit in another embodiment,
FIGS. 14 and 15 are configuration diagrams of pattern generation circuits in other embodiments. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Converted pixel position detection circuit, 2... Original pixel extraction circuit, 2a... Line buffer, 2b... Pixel extraction circuit, 3... Pattern detection circuit, 4... Pattern generation circuit, 5... Input interface, 6... Output interface, 7... Control circuit, 8... External image data bus, 9... CPU bus, q... Pixel. Applicant's agent Patent attorney Takehiko Suzue Figure 1 O000 X X X o 000 Figure 2 Q ○ 0 0 XXXXX XXXXX Figure 3 11 12 13 1
(A) 0 @ 00 (B) Figure 6 Figure 7 r! ! , IiI series Shanabatan Q32
'ni 33 Upper front nosuwoto-22 and circle suitable Figure 8 (a) (b) Figure 10 Figure 14

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)原画像を線密度変換または拡大縮小変換する際の
変換画像の各画素に対応する原画像内における位置を算
出しこれを変換画素位置情報として出力する変換画素位
置検出手段と、 この変換画素位置検出手段により求められた位置の周辺
の原画素から被参照原画素情報を選択的に抽出する原画
素抽出手段と、 この原画素抽出手段から抽出された被参照原画素情報の
特定の画素パターンを検出するパターン検出手段と、 このパターン検出手段で検出されたパターンに応じた画
素パターンを発生するパターン発生回路と、 を具備することを特徴とする画像処理装置。
(1) Converted pixel position detection means that calculates the position in the original image corresponding to each pixel of the converted image when linear density conversion or scaling conversion is performed on the original image and outputs this as converted pixel position information, and this conversion Original pixel extraction means for selectively extracting referenced original pixel information from original pixels around the position determined by the pixel position detection means; and a specific pixel of referenced original pixel information extracted from the original pixel extraction means. An image processing apparatus comprising: a pattern detection means for detecting a pattern; and a pattern generation circuit for generating a pixel pattern according to the pattern detected by the pattern detection means.
(2)パターン検出手段が、被参照原画素情報中の斜線
成分を検出するものであることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の画像処理装置。
(2) The image processing apparatus according to claim 1, wherein the pattern detection means detects a diagonal line component in the referenced original pixel information.
(3)パターン発生手段が、傾き45度の斜線を発生す
るものであることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の画像処理装置。
(3) The image processing apparatus according to claim 1, wherein the pattern generating means generates a diagonal line having an inclination of 45 degrees.
(4)パターン発生手段が、変換画素位置情報の最近傍
原画素に対する主走査方向および副走査方向の微少変位
量を加算器に入力し、その出力を境界線として用いるこ
とで斜線を発生することを特徴とする特許請求の範囲第
3項記載の画像処理装置。
(4) The pattern generation means generates a diagonal line by inputting minute displacement amounts in the main scanning direction and sub-scanning direction with respect to the nearest original pixel of the converted pixel position information to an adder, and using the output as a boundary line. An image processing device according to claim 3, characterized in that:
(5)パターン発生手段が、変換画素位置情報の最近傍
原画素が黒であるときと白であるときとで発生する斜線
パターンの境界線が異なることを特徴とする特許請求の
範囲第3項記載の画像処理装置。
(5) Claim 3, characterized in that the pattern generation means generates different boundaries of the diagonal pattern when the nearest original pixel of the converted pixel position information is black and when it is white. The image processing device described.
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