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JP7741521B2 - Display panel - Google Patents

Display panel

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JP7741521B2
JP7741521B2 JP2023099520A JP2023099520A JP7741521B2 JP 7741521 B2 JP7741521 B2 JP 7741521B2 JP 2023099520 A JP2023099520 A JP 2023099520A JP 2023099520 A JP2023099520 A JP 2023099520A JP 7741521 B2 JP7741521 B2 JP 7741521B2
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JP
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light
display panel
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absorber
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吉裕 上田
素顕 岩谷
好伸 末広
雄太 今泉
竜成 齋藤
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Meijo University
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Sharp Corp
Meijo University
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Description

本開示は、発光素子としてマイクロLED(Light Emitting Diode)を複数個備えた表示パネルに関する。 This disclosure relates to a display panel equipped with multiple micro LEDs (Light Emitting Diodes) as light-emitting elements.

近年、マイクロLEDを複数個備えた表示パネルは、例えば、AR(Augmented Reality)、VR(Virtual Reality)および小型から大型の表示装置の分野など幅広い分野で用いることができ、高い注目を集めている。 In recent years, display panels equipped with multiple micro-LEDs have been attracting a great deal of attention as they can be used in a wide range of fields, including AR (Augmented Reality), VR (Virtual Reality), and small to large display devices.

特開2023-1062号公報Japanese Patent Publication No. 2023-1062

特許文献1には、隣接する発光素子間の一部に設けたドーム状の樹脂層と、前記ドーム状の樹脂層の形状に沿って設けられた各発光素子に共通な一続きの層である有機層(例えば、電子注入層)の一部および共通反射電極層の一部とを備えた可視光を吸収または反射する構造体を含む有機EL表示装置について記載されている。 Patent Document 1 describes an organic EL display device that includes a structure for absorbing or reflecting visible light, which includes a dome-shaped resin layer provided between adjacent light-emitting elements, and a portion of an organic layer (e.g., an electron injection layer) and a portion of a common reflective electrode layer that are continuous layers common to each light-emitting element and are provided along the shape of the dome-shaped resin layer.

しかしながら、特許文献1に記載されている有機EL表示装置の場合、各発光素子に共通な一続きの層である有機層(例えば、電子注入層)が備えられているため、点灯した発光素子を含むサブ画素から発した光が各発光素子に共通な一続きの層である有機層(例えば、電子注入層)を伝搬し迷光となり、消灯した発光素子を含む隣接サブ画素を疑似的に発光しているように視認させる(疑灯)問題が生じてしまう。 However, in the case of the organic EL display device described in Patent Document 1, because it is provided with an organic layer (e.g., an electron injection layer) that is a continuous layer common to each light-emitting element, light emitted from a sub-pixel that includes a lit light-emitting element propagates through the organic layer (e.g., an electron injection layer) that is a continuous layer common to each light-emitting element, and becomes stray light, causing the adjacent sub-pixel that includes an unlit light-emitting element to appear to be emitting light (false lighting).

また、マイクロLEDを複数個備えた表示パネルの分野においては、各発光素子に共通な一続きの層である共通反射電極層は設けられないため、特許文献1に記載の構造体を形成できないという問題がある。 Furthermore, in the field of display panels equipped with multiple micro-LEDs, a common reflective electrode layer, which is a continuous layer common to each light-emitting element, cannot be provided, which poses the problem that the structure described in Patent Document 1 cannot be formed.

本開示の一態様は、点灯した発光素子から発した光が迷光となる可能性を低減できる表示パネルを提供することを目的とする。 One aspect of the present disclosure aims to provide a display panel that reduces the possibility that light emitted from a lit light-emitting element becomes stray light.

本開示の表示パネルは、前記の課題を解決するために、
発光層を含む積層された複数の半導体層で構成された島状の積層体と、アノードと、カソードとを備えた発光素子を複数個含み、
前記複数個の発光素子それぞれが備えている前記島状の積層体の間には、前記積層体を構成する材料とは異なる材料を含む、可視光領域の光を吸収する光吸収体が設けられている。
In order to solve the above problems, the display panel of the present disclosure has:
The light-emitting device includes a plurality of light-emitting elements each including an island-shaped laminate composed of a plurality of laminated semiconductor layers including a light-emitting layer, an anode, and a cathode;
A light absorber that absorbs light in the visible light range and contains a material different from the material that constitutes the stack is provided between the island-shaped stacks that each of the plurality of light-emitting elements has.

本開示の一態様によれば、点灯した発光素子から発した光が迷光となる可能性を低減できる表示パネルを提供できる。 One aspect of the present disclosure provides a display panel that reduces the possibility that light emitted from a lit light-emitting element becomes stray light.

実施形態1の表示パネルの概略的な構成を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a display panel according to a first embodiment. 図1に示す表示パネルの表示面の平面図である。2 is a plan view of a display surface of the display panel shown in FIG. 1. 図1に示す表示パネルの製造方法を説明するための図である。2A to 2C are diagrams for explaining a method of manufacturing the display panel shown in FIG. 1 . 図3に示すS20工程、S22工程およびS24工程を説明するための図である。4 is a diagram for explaining steps S20, S22, and S24 shown in FIG. 3. FIG. 図3に示すS26工程を説明するための図である。FIG. 4 is a diagram for explaining step S26 shown in FIG. 3. 図3に示すS28工程を説明するための図である。FIG. 4 is a diagram for explaining step S28 shown in FIG. 3. 図3に示すS30工程を説明するための図である。FIG. 4 is a diagram for explaining step S30 shown in FIG. 3. 図3に示すS30工程の後であって、図3に示すS32工程を行う前のウエハの状態をアノードおよびカソードが形成されている側から見た場合の平面図である。4 is a plan view of the wafer after step S30 shown in FIG. 3 and before step S32 shown in FIG. 3 is performed, as viewed from the side on which the anode and cathode are formed. FIG. 比較例1の表示パネルの概略的な構成を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a display panel of Comparative Example 1. 実施形態1の表示パネルおよび比較例1の表示パネルにおいて、迷光を発生させる要因の一つを説明するための図である。10A and 10B are diagrams for explaining one of the factors that cause stray light in the display panel of the first embodiment and the display panel of the first comparative example. 比較例1の表示パネルにおいて、図10に示す要因で発生した迷光によって、消灯した発光素子を含む隣接サブ画素が疑似的に発光しているように視認される場合を示す図である。11 is a diagram showing a case in which an adjacent sub-pixel including an extinguished light-emitting element is visually perceived as emitting pseudo-light due to stray light generated by the factors shown in FIG. 10 in a display panel of Comparative Example 1. FIG. 実施形態1の表示パネルおよび比較例1の表示パネルにおいて、迷光を発生させる要因の他の一つを説明するための図である。10A and 10B are diagrams for explaining another factor that causes stray light in the display panel of the first embodiment and the display panel of the first comparative example. 比較例1の表示パネルにおいて、図12に示す要因で発生した迷光によって、消灯した発光素子を含む隣接サブ画素が疑似的に発光しているように視認される場合を示す図である。13 is a diagram showing a case in which an adjacent sub-pixel including an extinguished light-emitting element is visually perceived as emitting pseudo-light due to stray light generated by the factors shown in FIG. 12 in a display panel of Comparative Example 1. FIG. 比較例1の表示パネルにおける迷光の分布を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing the distribution of stray light in a display panel of Comparative Example 1. 実施形態1の表示パネルにおける迷光の分布と、実施形態1の表示パネルにおいて、点灯した発光素子から発した光が迷光となることを抑制できる理由とを説明するための図である。1 is a diagram for explaining the distribution of stray light in the display panel of embodiment 1 and the reason why the display panel of embodiment 1 can prevent light emitted from a lit light-emitting element from becoming stray light. 図27に示す比較例2の表示パネルをモデルとした光学的な計算によって求めた迷光の分布を示す図である。FIG. 28 is a diagram showing the distribution of stray light obtained by optical calculation using the display panel of Comparative Example 2 shown in FIG. 27 as a model. 屈折率が2.47で、透過率が0.9である光吸収体を含む図26に示す実施形態2の表示パネルをモデルとした光学的な計算によって求めた迷光の分布を示す図である。FIG. 27 is a diagram showing the distribution of stray light obtained by optical calculation using the display panel of the second embodiment shown in FIG. 26 as a model, which includes a light absorber having a refractive index of 2.47 and a transmittance of 0.9. 屈折率が2.47で、透過率が0.7である光吸収体を含む図26に示す実施形態2の表示パネルをモデルとした光学的な計算によって求めた迷光の分布を示す図である。FIG. 27 is a diagram showing the distribution of stray light obtained by optical calculation using the display panel of the second embodiment shown in FIG. 26 as a model, which includes a light absorber having a refractive index of 2.47 and a transmittance of 0.7. 屈折率が2.47で、透過率が0.3である光吸収体を含む図26に示す実施形態2の表示パネルをモデルとした光学的な計算によって求めた迷光の分布を示す図である。FIG. 27 is a diagram showing the distribution of stray light obtained by optical calculation using the display panel of the second embodiment shown in FIG. 26 as a model, which includes a light absorber having a refractive index of 2.47 and a transmittance of 0.3. 屈折率が2.47で、透過率が0.1である光吸収体を含む図26に示す実施形態2の表示パネルをモデルとした光学的な計算によって求めた迷光の分布を示す図である。FIG. 27 is a diagram showing the distribution of stray light obtained by optical calculation using the display panel of the second embodiment shown in FIG. 26 as a model, which includes a light absorber having a refractive index of 2.47 and a transmittance of 0.1. 屈折率が1.5で、透過率が1である光吸収体を含む図26に示す実施形態2の表示パネルをモデルとした光学的な計算によって求めた迷光の分布を示す図である。FIG. 27 is a diagram showing the distribution of stray light obtained by optical calculation using the display panel of the second embodiment shown in FIG. 26 as a model, which includes a light absorber having a refractive index of 1.5 and a transmittance of 1. 屈折率が3.47で、透過率が1である光吸収体を含む図26に示す実施形態2の表示パネルをモデルとした光学的な計算によって求めた迷光の分布を示す図である。FIG. 27 is a diagram showing the distribution of stray light obtained by optical calculation using the display panel of the second embodiment shown in FIG. 26 as a model, which includes a light absorber having a refractive index of 3.47 and a transmittance of 1. 屈折率が3.47で、透過率が0.3である光吸収体を含む図26に示す実施形態2の表示パネルをモデルとした光学的な計算によって求めた迷光の分布を示す図である。FIG. 27 is a diagram showing the distribution of stray light obtained by optical calculation using the display panel of the second embodiment shown in FIG. 26 as a model, which includes a light absorber having a refractive index of 3.47 and a transmittance of 0.3. 実施形態1の他の表示パネルの概略的な構成を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of another display panel according to the first embodiment. 実施形態1のさらに他の表示パネルの概略的な構成を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of still another display panel according to the first embodiment. 実施形態2の表示パネルの概略的な構成を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a display panel according to a second embodiment. 比較例2の表示パネルの概略的な構成を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a display panel of Comparative Example 2. 図26に示す実施形態2の表示パネルおよび図27に示す比較例2の表示パネルそれぞれにおいて、図2に示すH1方向における迷光の分布を示す図である。28 is a diagram showing the distribution of stray light in the H1 direction shown in FIG. 2 in the display panel of the second embodiment shown in FIG. 26 and the display panel of the second comparative example shown in FIG. 27. FIG. 図26に示す実施形態2の表示パネルおよび図27に示す比較例2の表示パネルそれぞれにおいて、図2に示すH2方向における迷光の分布を示す図である。28 is a diagram showing the distribution of stray light in the H2 direction shown in FIG. 2 in the display panel of the second embodiment shown in FIG. 26 and the display panel of the second comparative example shown in FIG. 27. FIG. 実施形態3の表示パネルの概略的な構成を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a display panel according to a third embodiment. 比較例3の表示パネルの概略的な構成を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a display panel of Comparative Example 3.

本開示の実施の形態について、図1から図31に基づいて説明すれば、次の通りである。以下、説明の便宜上、特定の実施形態にて説明した構成と同一の機能を有する構成については、同一の符号を付記し、その説明を省略する場合がある。 The following describes an embodiment of the present disclosure with reference to Figures 1 to 31. For the sake of convenience, components having the same functions as those described in specific embodiments will be denoted by the same reference numerals, and their description may be omitted.

〔実施形態1〕
図1は、実施形態1の表示パネル1の概略的な構成を示す断面図である。なお、図1においては、アノードA1~A3、カソードK1~K3および絶縁膜PFの図示を省略している。
[Embodiment 1]
Fig. 1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a display panel 1 of embodiment 1. Note that anodes A1 to A3, cathodes K1 to K3, and insulating film PF are not shown in Fig. 1.

図1に示す表示パネル1は、発光層E1を含む積層された複数の半導体層で構成された島状の積層体11と、アノードA1と、カソードK1とを備えた発光素子D1と、発光層E1~E2を含む積層された複数の半導体層で構成された島状の積層体12と、アノードA2と、カソードK2とを備えた発光素子D2と、発光層E1~E3を含む積層された複数の半導体層で構成された島状の積層体13と、アノードA3と、カソードK3とを備えた発光素子D3とを含み、複数個の発光素子D1~D3それぞれが備えている島状の積層体11~13の間には、積層体11~13を構成する材料とは異なる材料を含む、可視光領域の光を吸収する光吸収体LAが設けられている。 The display panel 1 shown in FIG. 1 includes an island-shaped laminate 11 composed of multiple stacked semiconductor layers including a light-emitting layer E1, a light-emitting element D1 including an anode A1 and a cathode K1, an island-shaped laminate 12 composed of multiple stacked semiconductor layers including light-emitting layers E1-E2, a light-emitting element D2 including an anode A2 and a cathode K2, an island-shaped laminate 13 composed of multiple stacked semiconductor layers including light-emitting layers E1-E3, and a light-emitting element D3 including an anode A3 and a cathode K3. Between the island-shaped laminates 11-13 included in each of the multiple light-emitting elements D1-D3, a light absorber LA that absorbs light in the visible light range is provided. The light absorber LA contains a material different from the material constituting the laminates 11-13.

本実施形態においては、発光素子(第1発光素子)D1は、発光層E1である青色発光層を含む積層された複数の半導体層で構成された島状の積層体11を備えているとともに、発光層E1からの光L1が青色光である青色発光素子であり、発光素子(第2発光素子)D2は、発光層E2である緑色発光層と発光させない発光層E1とを含む積層された複数の半導体層で構成された島状の積層体12を備えているとともに、発光層E2からの光L2が緑色光である緑色発光素子であり、発光素子(第3発光素子)D3は、発光層E3である赤色発光層と発光させない発光層E1および発光層E2とを含む積層された複数の半導体層で構成された島状の積層体13を備えているとともに、発光層E3からの光L3が赤色光である赤色発光素子である場合を一例に挙げて説明するが、これに限定されることはない。 In this embodiment, the light-emitting element (first light-emitting element) D1 is a blue light-emitting element that includes an island-shaped laminate 11 made up of multiple stacked semiconductor layers including a blue light-emitting layer E1, and emits blue light L1 from the light-emitting layer E1; the light-emitting element (second light-emitting element) D2 is a green light-emitting element that includes an island-shaped laminate 12 made up of multiple stacked semiconductor layers including a green light-emitting layer E2 and a light-emitting layer E1 that does not emit light; and the light-emitting element (third light-emitting element) D3 is a red light-emitting element that includes an island-shaped laminate 13 made up of multiple stacked semiconductor layers including a red light-emitting layer E3 and light-emitting layers E1 and E2 that do not emit light; and emits red light L3 from the light-emitting layer E3; however, the present invention is not limited to this example.

図2は、図1に示す表示パネル1の表示面SMの平面図である。 Figure 2 is a plan view of the display surface SM of the display panel 1 shown in Figure 1.

本実施形態においては、図2に示すように、例えば、1画素PIは、赤色サブ画素RSUBと、緑色サブ画素GSUBと、青色サブ画素BSUBとを含み、青色サブ画素BSUBは青色発光素子である発光素子(第1発光素子)D1を含み、緑色サブ画素GSUBは緑色発光素子である発光素子(第2発光素子)D2を含み、赤色サブ画素RSUBは赤色発光素子である発光素子(第3発光素子)D3を含む場合を一例に挙げて説明するが、これに限定されることはなく、例えば、1画素PIは、赤色サブ画素RSUB、緑色サブ画素GSUBおよび青色サブ画素BSUB以外の他の色のサブ画素をさらに含んでいてもよい。 In this embodiment, as shown in FIG. 2, for example, one pixel PI includes a red subpixel RSUB, a green subpixel GSUB, and a blue subpixel BSUB, and the blue subpixel BSUB includes a light-emitting element (first light-emitting element) D1 that is a blue light-emitting element, the green subpixel GSUB includes a light-emitting element (second light-emitting element) D2 that is a green light-emitting element, and the red subpixel RSUB includes a light-emitting element (third light-emitting element) D3 that is a red light-emitting element. However, this is not limited to this, and for example, one pixel PI may further include subpixels of colors other than the red subpixel RSUB, green subpixel GSUB, and blue subpixel BSUB.

図1に示す発光素子D1~D3は、素子分離されているので、図2に示すサブ画素単位で発光を制御することができる。本実施形態においては、一つの成長用基板SK(例えば、C面サファイア基板)上に異なる色で発光する複数個の発光素子D1~D3が設けられたモノリシック構造のウエハを複数個製造し、複数個のウエハをウエハ単位で、一つの駆動基板DK上に整列させるように、駆動基板DKに導電性接着層JCを介して接合して製造した表示パネル1を一例に挙げて説明するが、これに限定されることはない。例えば、後述する実施形態2の表示パネル2のように、一つの成長用基板SK上に同じ色で発光する複数個の発光素子D1’が設けられたモノリシック構造のウエハを複数個製造し、複数個のウエハをウエハ単位で、一つの駆動基板DK上に整列させるように、駆動基板DKに導電性接着層JCを介して接合して製造してもよい。さらに、例えば、後述する実施形態3の表示パネル3のように、青色発光素子である発光素子D1’を含むチップと、緑色発光素子である発光素子D2’を含むチップと、赤色発光素子である発光素子D3’を含むチップとを複数個製造し、チップ単位で、一つの駆動基板DK上に整列させるように、駆動基板DKに導電性接着層JCを介して接合して製造してもよい。なお、本実施形態で説明する表示パネル1・1a・1bと、実施形態3で説明する表示パネル3は、異なる色で発光する複数個の発光素子を備えた表示パネルであるため、一つの表示パネルを用いることで、例えば、AR(Augmented Reality)、VR(Virtual Reality)および小型から大型のカラー表示装置を実現できる。一方、実施形態2で説明する表示パネル2は、一つの色で発光する複数個の発光素子を備えた単色表示パネルであるため、例えば、赤色単色表示パネルと、緑色単色表示パネルと、青色単色表示パネルとの三つの表示パネルと、ミラーなどの光学系部材を用いることで、例えば、AR(Augmented Reality)、VR(Virtual Reality)および小型から大型のカラー表示装置を実現できる。 The light-emitting elements D1 to D3 shown in FIG. 1 are isolated from one another, allowing light emission to be controlled in subpixel units as shown in FIG. 2. In this embodiment, a display panel 1 is described as an example in which multiple monolithic wafers each having multiple light-emitting elements D1 to D3 emitting different colors are manufactured on a single growth substrate SK (e.g., a C-plane sapphire substrate), and the multiple wafers are aligned on a single drive substrate DK by wafer-by-wafer bonding via a conductive adhesive layer JC. However, this is not limiting. For example, as in the display panel 2 of embodiment 2 described below, multiple monolithic wafers each having multiple light-emitting elements D1' emitting the same color are manufactured on a single growth substrate SK, and the multiple wafers are aligned on a single drive substrate DK by wafer-by-wafer bonding via a conductive adhesive layer JC. Furthermore, as in the display panel 3 of the third embodiment described later, multiple chips each including a blue light-emitting element D1′, a green light-emitting element D2′, and a red light-emitting element D3′ may be manufactured, and the chips may be aligned on a single drive substrate DK and bonded to the drive substrate DK via a conductive adhesive layer JC. The display panels 1, 1a, and 1b described in this embodiment and the display panel 3 described in the third embodiment are display panels including multiple light-emitting elements that emit light of different colors. Therefore, by using a single display panel, it is possible to realize, for example, augmented reality (AR), virtual reality (VR), and small to large color display devices. On the other hand, the display panel 2 described in the second embodiment is a monochromatic display panel including multiple light-emitting elements that emit light of a single color. Therefore, by using three display panels, including a red monochromatic display panel, a green monochromatic display panel, and a blue monochromatic display panel, and optical components such as mirrors, it is possible to realize, for example, augmented reality (AR), virtual reality (VR), and small to large color display devices.

以下、図3から図7に基づき、本実施形態の表示パネル1の製造工程について説明する。 The manufacturing process for the display panel 1 of this embodiment will be described below with reference to Figures 3 to 7.

図3は、図1に示す表示パネル1の製造方法を説明するための図である。図4は、図3に示すS20工程、S22工程およびS24工程を説明するための図である。図5は、図3に示すS26工程を説明するための図である。図6は、図3に示すS28工程を説明するための図である。図7は、図3に示すS30工程を説明するための図である。 Figure 3 is a diagram for explaining the manufacturing method of the display panel 1 shown in Figure 1. Figure 4 is a diagram for explaining steps S20, S22, and S24 shown in Figure 3. Figure 5 is a diagram for explaining step S26 shown in Figure 3. Figure 6 is a diagram for explaining step S28 shown in Figure 3. Figure 7 is a diagram for explaining step S30 shown in Figure 3.

「成長用基板上に半導体結晶を成長させる」図3に示すS20工程では、図4に示すように、成長用基板SK(例えば、C面サファイア基板)上に半導体結晶SLを、MOCVD装置等を用いてエピタキシャル成長させる。半導体結晶SLは、例えば、窒化物半導体結晶であってよい。窒化物半導体としては、GaN系半導体のほか、AlN(窒化アルミニウム)およびInN(窒化インジウム)等を挙げることができる。 In step S20 shown in Figure 3, "growing a semiconductor crystal on a growth substrate," as shown in Figure 4, a semiconductor crystal SL is epitaxially grown on a growth substrate SK (e.g., a C-plane sapphire substrate) using an MOCVD apparatus or the like. The semiconductor crystal SL may be, for example, a nitride semiconductor crystal. Examples of nitride semiconductors include GaN-based semiconductors, as well as AlN (aluminum nitride) and InN (indium nitride).

図4に示すように、半導体結晶SLを形成するS20工程は、バッファ層BA、下地層U1、カソードコンタクト層C1、発光層E1、中間層G1、p型層H1、トンネルジャンクション層T1、およびアノードコンタクト層F1をこの順に形成する第1工程と、下地層U2、カソードコンタクト層C2、発光層E2、中間層G2、p型層H2、トンネルジャンクション層T2、およびアノードコンタクト層F2をこの順に形成する第2工程と、下地層U3、カソードコンタクト層C3、発光層E3、中間層G3、p型層H3、トンネルジャンクション層T3、およびアノードコンタクト層F3をこの順に形成する第3工程とを含む。上述した第1工程から第3工程のそれぞれは、例えば、MOCVD装置内においてシーケンシャルに行うことができる。 As shown in FIG. 4, step S20 of forming the semiconductor crystal SL includes a first step of forming, in this order, a buffer layer BA, an underlayer U1, a cathode contact layer C1, an emission layer E1, an intermediate layer G1, a p-type layer H1, a tunnel junction layer T1, and an anode contact layer F1; a second step of forming, in this order, an underlayer U2, a cathode contact layer C2, an emission layer E2, an intermediate layer G2, a p-type layer H2, a tunnel junction layer T2, and an anode contact layer F2; and a third step of forming, in this order, an underlayer U3, a cathode contact layer C3, an emission layer E3, an intermediate layer G3, a p-type layer H3, a tunnel junction layer T3, and an anode contact layer F3. Each of the first to third steps described above can be performed sequentially, for example, in an MOCVD apparatus.

バッファ層BAは、低温(例えば、600℃以下)形成の窒化ガリウム結晶(例えば、厚さ40nm)であってよい。下地層U1・U2・U3は、ノンドープの窒化ガリウム結晶(例えば、厚さ2μm)であってよい。カソードコンタクト層C1・C2・C3は、n型の窒化ガリウム結晶(例えば、厚さ2μm)であってよい。発光層E1・E2・E3は、MQW(多重量子井戸)構造の活性層であってよい。例えば、波長450nm程度の青色光を発する発光層E1として、厚さ50nmであってIn(インジウム)の組成比が20%の窒化インジウムガリウム(InとGaの原子比が1:4の混晶)を用いることができる。例えば、波長550nm程度の緑色光を発する発光層E2として、Inの組成比が25%の窒化インジウムガリウム(混晶)を用いることができる。例えば、波長630nm程度の赤色光を発する発光層E3として、Inの組成比が30%の窒化インジウムガリウム(混晶)を用いることができる。中間層G1・G2・G3は、p型の窒化アルミニウムガリウム結晶(例えば、厚さ20nm)であってよい。p型層H1・H2・H3は、p型の窒化ガリウム結晶(例えば、厚さ120nm)であってよい。トンネルジャンクション層T1・T2・T3は、ノンドープ型の窒化ガリウム結晶(例えば、厚さ25nm)であってよい。アノードコンタクト層F1・F2・F3は、n型の窒化ガリウム結晶(例えば、厚さ400nm)であってよい。 The buffer layer BA may be gallium nitride crystal (e.g., 40 nm thick) formed at a low temperature (e.g., below 600°C). The underlayers U1, U2, and U3 may be undoped gallium nitride crystal (e.g., 2 μm thick). The cathode contact layers C1, C2, and C3 may be n-type gallium nitride crystal (e.g., 2 μm thick). The light-emitting layers E1, E2, and E3 may be active layers with an MQW (multiple quantum well) structure. For example, the light-emitting layer E1, which emits blue light with a wavelength of approximately 450 nm, may be made of indium gallium nitride (mixed crystal with an In:Ga atomic ratio of 1:4) with a thickness of 50 nm and a 20% In (indium) composition. For example, the light-emitting layer E2, which emits green light with a wavelength of approximately 550 nm, may be made of indium gallium nitride (mixed crystal) with a 25% In composition. For example, an indium gallium nitride (mixed crystal) with an In composition ratio of 30% can be used as the light-emitting layer E3, which emits red light with a wavelength of approximately 630 nm. The intermediate layers G1, G2, and G3 may be p-type aluminum gallium nitride crystals (e.g., 20 nm thick). The p-type layers H1, H2, and H3 may be p-type gallium nitride crystals (e.g., 120 nm thick). The tunnel junction layers T1, T2, and T3 may be undoped gallium nitride crystals (e.g., 25 nm thick). The anode contact layers F1, F2, and F3 may be n-type gallium nitride crystals (e.g., 400 nm thick).

「半導体結晶をエッチングによってパターニングし、アノードコンタクト層およびカソードコンタクト層を露出させる」図3に示すS22工程では、図4に示すように、半導体結晶SLをドライエッチングによってパターニングし、カソードコンタクト層C1・C2・C3およびアノードコンタクト層F1・F2・F3を露出させる。この工程では、エッチングマスクとして、レジストあるいはリフトオフ法でパターニングした無機膜(酸化シリコン膜、ニッケル膜等)を用いることができる。ドライエッチングには、塩素またはフッ素等のハロゲンを用いた反応性イオンエッチング(RIE)法を適用することができる。なお、エッチングマスクは、リムーバー、酸性溶液等によって除去する。 In step S22 shown in Figure 3, "The semiconductor crystal is patterned by etching to expose the anode contact layer and cathode contact layer," the semiconductor crystal SL is patterned by dry etching, as shown in Figure 4, to expose the cathode contact layers C1, C2, and C3 and the anode contact layers F1, F2, and F3. In this step, resist or an inorganic film patterned by lift-off (such as a silicon oxide film or nickel film) can be used as the etching mask. Reactive ion etching (RIE) using a halogen such as chlorine or fluorine can be used for dry etching. The etching mask is then removed using a remover, acidic solution, or the like.

「アノードコンタクト層上にアノードを形成すると同時に、カソードコンタクト層上にカソードを形成する」図3に示すS24工程では、図4に示すように、アノードコンタクト層F1・F2・F3それぞれ上にアノードA1・A2・A3を形成すると同時に、カソードコンタクト層C1・C2・C3それぞれ上にカソードK1・K2・K3を形成する。具体的には、レジストをマスクとして蒸着した電極材(例えば、アルミニウムとチタンの積層膜)をリフトオフ法でパターニングした。 In step S24 shown in Figure 3, "anodes are formed on the anode contact layer and cathodes are formed on the cathode contact layer simultaneously," as shown in Figure 4. Anodes A1, A2, and A3 are formed on the anode contact layers F1, F2, and F3, respectively, while cathodes K1, K2, and K3 are formed on the cathode contact layers C1, C2, and C3, respectively. Specifically, a vapor-deposited electrode material (e.g., a laminated film of aluminum and titanium) is patterned by lift-off using a resist as a mask.

「半導体結晶をエッチングによってパターニングし、積層体を形成する」図3に示すS26工程では、図5に示すように、半導体結晶SLをドライエッチングによってパターニングし、島状の積層体11、島状の積層体12および島状の積層体13を形成した。ここでは、素子分離する領域以外をレジストで保護し、例えば、ハロゲン系RIE法によって、素子間に成長用基板SKが露出するように、半導体結晶SLのうち素子間の部分を完全に除去した。成長用基板SK自体をエッチングして、成長用基板SKに凹凸を形成してもよい。本実施形態においては、良好な電気的な素子分離および光学的な素子分離のために、成長用基板SKの表面が露出するようにエッチングを行い、成長用基板SK上に島状の積層体11、島状の積層体12および島状の積層体13を形成した。なお、島状の積層体11、島状の積層体12および島状の積層体13それぞれは、側壁Wを有する。 In step S26 shown in FIG. 3, "Patterning the semiconductor crystal by etching to form stacks," the semiconductor crystal SL was patterned by dry etching to form island-shaped stacks 11, 12, and 13, as shown in FIG. 5. Here, areas other than those for element isolation were protected with resist, and the portions of the semiconductor crystal SL between elements were completely removed using, for example, a halogen-based RIE method, so that the growth substrate SK was exposed between the elements. The growth substrate SK itself may also be etched to form irregularities on the growth substrate SK. In this embodiment, for good electrical and optical element isolation, etching was performed to expose the surface of the growth substrate SK, and island-shaped stacks 11, 12, and 13 were formed on the growth substrate SK. Each of the island-shaped stacks 11, 12, and 13 has a sidewall W.

「積層体それぞれの側壁を覆う絶縁膜を形成する」図3に示すS28工程では、図6に示すように、島状の積層体11、島状の積層体12および島状の積層体13それぞれが有する側壁Wを覆う絶縁膜PFを形成し、発光素子D1・D2・D3を得た。ここでは、アノードA1・A2・A3およびカソードK1・K2・K3を覆うマスクをフォトリソグラフィ法等により形成した後に電子ビーム蒸着によって側壁Wを覆う酸化シリコンを形成し、絶縁膜PFとした。絶縁膜PFは、素子間の短絡防止および酸化防止の機能がある。本実施形態においては、絶縁膜PFが酸化シリコン膜である場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、絶縁膜PFは、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、酸窒化シリコン膜および酸化アルミニウム膜の何れかを含む膜であってもよい。また、島状の積層体11・12・13の側壁Wに垂直な方向に、絶縁膜PFは、3nm以上、100nm以下の厚さで形成されていることが好ましい。本実施形態のように、島状の積層体11・12・13それぞれの側壁Wを覆う絶縁膜PFが形成されている場合、後述する光吸収体LAの材料の選択幅が広くなる。すなわち、絶縁膜PFが形成されている場合には、光吸収体LAの材料として導電性材料を選択してもよい。なお、光吸収体LAの材料として絶縁性の高い材料を選択する場合には、上述した図3に示すS28工程は省いてもよい。 In step S28 of FIG. 3, "forming an insulating film covering the sidewalls of each stack," as shown in FIG. 6, an insulating film PF is formed covering the sidewalls W of each of the island-shaped stacks 11, 12, and 13, resulting in light-emitting elements D1, D2, and D3. Here, a mask covering the anodes A1, A2, and A3 and the cathodes K1, K2, and K3 is formed by photolithography or other methods, and then silicon oxide is formed by electron beam evaporation to cover the sidewalls W, forming the insulating film PF. The insulating film PF functions to prevent short circuits between elements and oxidation. While this embodiment describes a case where the insulating film PF is a silicon oxide film, this is not limited thereto. The insulating film PF may be a film containing any of a silicon oxide film, a silicon nitride film, a silicon oxynitride film, and an aluminum oxide film. Furthermore, the insulating film PF is preferably formed to a thickness of 3 nm or more and 100 nm or less in the direction perpendicular to the sidewalls W of the island-shaped stacks 11, 12, and 13. When an insulating film PF is formed to cover the sidewalls W of each of the island-shaped stacks 11, 12, and 13, as in this embodiment, the range of materials that can be used for the light absorber LA (described later) is broader. That is, when the insulating film PF is formed, a conductive material may be selected as the material for the light absorber LA. Note that, if a highly insulating material is selected as the material for the light absorber LA, step S28 shown in FIG. 3 may be omitted.

「積層体の間に光吸収体を形成する」図3に示すS30工程では、図1および図7に示すように、光吸収体LAは、例えば、発光層E1・E2・E3からの光が出射する面である表示面DMから最も近い半導体層であるバッファ層BAの表示面DM側の表面から表示面DMから最も近い発光層E1の表示面DM側の表面までの厚さに対応する高さ以下で形成してもよく、本実施形態においては、光吸収体LAを、バッファ層BAの表示面DM側の表面から発光層E1の表示面DM側の表面までの厚さに対応する高さで形成した場合を一例に挙げて説明するがこれに限定されることはない。 In step S30 shown in Figure 3, where a light absorber is formed between the laminates, as shown in Figures 1 and 7, the light absorber LA may be formed, for example, to a height corresponding to the thickness from the display surface DM-side surface of the buffer layer BA, which is the semiconductor layer closest to the display surface DM, which is the surface from which light from the light-emitting layers E1, E2, and E3 is emitted, to the display surface DM-side surface of the light-emitting layer E1, which is closest to the display surface DM. In this embodiment, an example is given in which the light absorber LA is formed to a height corresponding to the thickness from the display surface DM-side surface of the buffer layer BA to the display surface DM-side surface of the light-emitting layer E1, but this is not limited to this.

図24は、実施形態1の他の表示パネル1aの概略的な構成を示す断面図である。図25は、実施形態1のさらに他の表示パネル1bの概略的な構成を示す断面図である。図24に示す表示パネル1aは、発光素子D1と、発光素子D2と、発光素子D3とを含む。発光素子D1は、島状の積層体11として、発光層E1を含む第1積層体(バッファ層BA、下地層U1、カソードコンタクト層C1、発光層E1、中間層G1、p型層H1、トンネルジャンクション層T1、およびアノードコンタクト層F1)を備えている。発光素子D2は、島状の積層体12として、前記第1積層体と、表示面DMから前記第1積層体よりも遠くに設けられた発光層E2を含む第2積層体(下地層U2、カソードコンタクト層C2、発光層E2、中間層G2、p型層H2、トンネルジャンクション層T2、およびアノードコンタクト層F2)とを備えている。発光素子D3は、島状の積層体13として、前記第1積層体と、前記第2積層体と、表示面DMから前記第2積層体よりも遠くに設けられた発光層E3を含む第3積層体(下地層U3、カソードコンタクト層C3、発光層E3、中間層G3、p型層H3、トンネルジャンクション層T3、およびアノードコンタクト層F3)とを備えている。そして、光吸収体LAは、表示面DMから最も近い半導体層であるバッファ層BAの表示面DM側の表面から発光層E3の表示面DM側の表面までの厚さに対応する高さ以下で形成してもよく、表示パネル1aにおいては、光吸収体LAは、表示面DMから最も近い半導体層であるバッファ層BAの表示面DM側の表面から発光層E3の表示面DM側の表面までの厚さに対応する高さで形成されている。これに限定されることはなく、図25に示す表示パネル1bのように、複数個の発光素子D1・D2・D3それぞれが備えている島状の積層体11・12・13の間を完全に埋めるように、光吸収体LAが充填されていてもよい。 Figure 24 is a cross-sectional view showing the schematic configuration of another display panel 1a according to embodiment 1. Figure 25 is a cross-sectional view showing the schematic configuration of yet another display panel 1b according to embodiment 1. The display panel 1a shown in Figure 24 includes light-emitting elements D1, D2, and D3. Light-emitting element D1 includes, as an island-shaped laminate 11, a first laminate including a light-emitting layer E1 (buffer layer BA, base layer U1, cathode contact layer C1, light-emitting layer E1, intermediate layer G1, p-type layer H1, tunnel junction layer T1, and anode contact layer F1). Light-emitting element D2 includes, as an island-shaped laminate 12, the first laminate and a second laminate including a light-emitting layer E2 disposed farther from the display surface DM than the first laminate (base layer U2, cathode contact layer C2, light-emitting layer E2, intermediate layer G2, p-type layer H2, tunnel junction layer T2, and anode contact layer F2). The light-emitting element D3 includes, as an island-shaped laminate 13, the first laminate, the second laminate, and a third laminate (base layer U3, cathode contact layer C3, light-emitting layer E3, intermediate layer G3, p-type layer H3, tunnel junction layer T3, and anode contact layer F3) including a light-emitting layer E3 provided farther from the display surface DM than the second laminate. The light absorber LA may be formed to a height equal to or less than the thickness from the display surface DM-side surface of the buffer layer BA, which is the semiconductor layer closest to the display surface DM, to the display surface DM-side surface of the light-emitting layer E3. In the display panel 1a, the light absorber LA is formed to a height corresponding to the thickness from the display surface DM-side surface of the buffer layer BA, which is the semiconductor layer closest to the display surface DM, to the display surface DM-side surface of the light-emitting layer E3. This is not limiting, and as in the display panel 1b shown in Figure 25, the light absorber LA may be filled so as to completely fill the spaces between the island-shaped laminates 11, 12, and 13 provided in each of the multiple light-emitting elements D1, D2, and D3.

光吸収体LAとしては、有機化合物または無機化合物を用いることができ、例えば、ピリジン骨格を含む分子構造のものを用いてもよい。本実施形態においては、光吸収体LAとして、絶縁性の化合物である、例えば、下記(化学式1)に示すブラックダイと呼ばれる黒色染料(商品名:N749、物質名:Ruthenium 620, Tris(N,N,N-tributyl-1-butanaminium)[[2,2′′6′,2′′-terpyridine]-4,4′,4′′-tricarboxylato(3-)-N1,N1′,N1′′]tris(thiocyanato-N)hydrogen ruthenate(4-))を用いた。下記(化学式1)に示すブラックダイの可視光領域におけるモル吸光度は3×10-3~7×10-3(1/M・cm)であり、下記(化学式1)に示すブラックダイの分子構造は、3個のピリジン骨格を含み、窒素および複数の官能基が結合した構造である。なお、本実施形態のように、光吸収体LAとして、有機化合物を用いる場合、光吸収体LAによって、アノードA1・A2・A3やカソードK1・K2・K3が工程中に覆われても、アノードA1・A2・A3やカソードK1・K2・K3部分に開口を有するメタルマスクを用いて素子表面を保護した状態で、アッシングを行うことで、アノードA1・A2・A3やカソードK1・K2・K3上の光吸収体LAを酸化除去することができる。 As the light absorber LA, an organic compound or an inorganic compound can be used, and for example, a compound having a molecular structure including a pyridine skeleton may be used. In this embodiment, an insulating compound, for example, a black dye called black dye shown in the following (Chemical Formula 1) (trade name: N749, substance name: Ruthenium 620, Tris(N,N,N-tributyl-1-butanaminium)[[2,2'6',2''-terpyridine]-4,4',4''-tricarboxylato(3-)-N1,N1',N1']tris(thiocyanato-N)hydrogen ruthenate(4-)) was used as the light absorber LA. The molar absorbance in the visible light region of the black dye shown in the following (Chemical Formula 1) is 3 x 10 -3 to 7 x 10 -3 (1/M cm), and the molecular structure of the black dye shown in the following (Chemical Formula 1) includes three pyridine skeletons to which nitrogen and multiple functional groups are bonded. In addition, when an organic compound is used as the light absorber LA as in this embodiment, even if the anodes A1, A2, and A3 and the cathodes K1, K2, and K3 are covered with the light absorber LA during the process, the light absorber LA on the anodes A1, A2, and A3 and the cathodes K1, K2, and K3 can be oxidized and removed by ashing while protecting the element surface with a metal mask having openings in the anodes A1, A2, and A3 and cathodes K1, K2, and K3 portions.

光吸収体LAは、変性アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、シアノアクリレート系樹脂、フルオロエチレン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリビニルアルコール(PVA)およびポリ塩化ビニル(PVC)の中から選択される一つ以上を含んでいてもよい。また、光吸収体LAは、アゾ系の染料、キノン系の染料、インジゴ系の染料、ポリメチン系の染料、スチリル系の染料、アゾ系の顔料、キノン系の顔料、インジゴ系の顔料、ポリメチン系の顔料およびスチリル系の顔料の中から選択される一つ以上を含んでいてもよい。さらに、光吸収体LAは、炭素材料、金属硫化物および可視光領域において吸収を有する半導体材料から選択される一つ以上を含んでいてもよい。 The light absorber LA may contain one or more materials selected from modified acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, cyanoacrylate resins, fluoroethylene resins, silicone resins, polyvinyl alcohol (PVA), and polyvinyl chloride (PVC). The light absorber LA may also contain one or more materials selected from azo dyes, quinone dyes, indigo dyes, polymethine dyes, styryl dyes, azo pigments, quinone pigments, indigo pigments, polymethine pigments, and styryl pigments. Furthermore, the light absorber LA may also contain one or more materials selected from carbon materials, metal sulfides, and semiconductor materials that absorb light in the visible light region.

「発光素子(第1~第3発光素子)を駆動基板に実装する」図3に示すS32工程では、図1に示すように、発光素子D1・D2・D3を、導電性接着層JCを介して、駆動回路を含む駆動基板DKに実装し、表示パネル1を得る。導電性接着層JCには、半田あるいは異方導電性接着材を用いることができる。図1および図7に示す表示パネル1においては、アノードA1・A2・A3の正孔を、n型半導体層であるアノードコンタクト層F1・F2・F3およびトンネルジャンクション層T1・T2・T3を介してp型層H1・H2・H3にトンネル注入する構成である。このような構成であるため、アノードA1・A2・A3およびカソードK1・K2・K3を同材料を用いて同時形成することができ、アノードおよびカソードを異なるプロセス、異なる材料で形成する一般的な手法と比較して工程の簡略化が図れる。また、ドライエッチングおよび機械研磨によって高抵抗化しやすいp型(半導体)層を露出させなくて済み、発光素子の電気特性が安定化するというメリットもある。なお、図3に示すS32工程後に、レーザリフトオフ法等により成長用基板SKを、島状の積層体11、島状の積層体12、島状の積層体13、絶縁膜PFおよび光吸収体LAから剥離する工程を行い、成長用基板SKを除去してもよい。 In step S32 shown in Figure 3, "Mounting Light-Emitting Elements (First to Third Light-Emitting Elements) on a Drive Substrate," as shown in Figure 1, light-emitting elements D1, D2, and D3 are mounted on a drive substrate DK, which includes a drive circuit, via a conductive adhesive layer JC to obtain a display panel 1. The conductive adhesive layer JC can be made of solder or an anisotropic conductive adhesive. The display panel 1 shown in Figures 1 and 7 is configured so that holes from the anodes A1, A2, and A3 tunnel into the p-type layers H1, H2, and H3 via the n-type semiconductor anode contact layers F1, F2, and F3 and the tunnel junction layers T1, T2, and T3. This configuration allows the anodes A1, A2, and A3 and the cathodes K1, K2, and K3 to be simultaneously formed using the same material, simplifying the process compared to the typical method of forming the anodes and cathodes using different processes and materials. Another advantage is that the p-type (semiconductor) layer, which is prone to becoming highly resistive due to dry etching and mechanical polishing, does not need to be exposed, thereby stabilizing the electrical characteristics of the light-emitting device. After step S32 shown in FIG. 3, a step of peeling the growth substrate SK from the island-shaped stacks 11, 12, 13, the insulating film PF, and the light absorber LA by a laser lift-off method or the like may be performed to remove the growth substrate SK.

図8は、図3に示すS30工程の後であって、図3に示すS32工程を行う前のウエハの状態をアノードおよびカソードが形成されている側から見た場合の平面図である。 Figure 8 is a plan view of the wafer after step S30 shown in Figure 3 and before step S32 shown in Figure 3 is performed, viewed from the side on which the anode and cathode are formed.

本実施形態においては、図8に示すように、発光素子D1が備えている島状の積層体11、発光素子D2が備えている島状の積層体12および発光素子D3が備えている島状の積層体13それぞれの平面視におけるサイズが20μm×120μmで、積層体11・12・13それぞれは、10μm離れている場合を一例に挙げて説明するが、これに限定されることはない。 In this embodiment, as shown in Figure 8, the island-shaped laminate 11 provided in light-emitting element D1, the island-shaped laminate 12 provided in light-emitting element D2, and the island-shaped laminate 13 provided in light-emitting element D3 each have a size of 20 μm x 120 μm in a planar view, and the laminates 11, 12, and 13 are each spaced 10 μm apart. However, this is not limited to this example.

図9は、比較例1の表示パネル51の概略的な構成を示す断面図である。図10は、実施形態1の表示パネル1および比較例1の表示パネル51において、迷光を発生させる要因の一つを説明するための図である。図11は、比較例1の表示パネル51において、図10に示す要因で発生した迷光によって、消灯した発光素子を含む隣接サブ画素が疑似的に発光しているように視認される場合を示す図である。図12は、実施形態1の表示パネル1および比較例1の表示パネル51において、迷光を発生させる要因の他の一つを説明するための図である。図13は、比較例1の表示パネル51において、図12に示す要因で発生した迷光によって、消灯した発光素子を含む隣接サブ画素が疑似的に発光しているように視認される場合を示す図である。図14は、比較例1の表示パネル51における迷光の分布を示す図である。図15は、実施形態1の表示パネル1における迷光の分布と、実施形態1の表示パネル1において、点灯した発光素子から発した光が迷光となることを抑制できる理由とを説明するための図である。 9 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a display panel 51 of Comparative Example 1. FIG. 10 is a diagram illustrating one of the factors that cause stray light in the display panel 1 of Embodiment 1 and the display panel 51 of Comparative Example 1. FIG. 11 is a diagram illustrating a case in which stray light caused by the factor shown in FIG. 10 causes adjacent sub-pixels including turned-off light-emitting elements to appear to emit pseudo-light in the display panel 51 of Comparative Example 1. FIG. 12 is a diagram illustrating another factor that causes stray light in the display panel 1 of Embodiment 1 and the display panel 51 of Comparative Example 1. FIG. 13 is a diagram illustrating a case in which stray light caused by the factor shown in FIG. 12 causes adjacent sub-pixels including turned-off light-emitting elements to appear to emit pseudo-light in the display panel 51 of Comparative Example 1. FIG. 14 is a diagram illustrating the distribution of stray light in the display panel 51 of Comparative Example 1. FIG. 15 is a diagram illustrating the distribution of stray light in the display panel 1 of Embodiment 1 and the reason why light emitted from turned-on light-emitting elements can be prevented from becoming stray light in the display panel 1 of Embodiment 1.

図9に示す比較例1の表示パネル51は、光吸収体LAを備えていない点のみで、実施形態1の表示パネル1とは異なる。図10および図11に示すように、実施形態1の表示パネル1および比較例1の表示パネル51においては、発光層E1・E2・E3の端面から発した光のうち、隣接サブ画素に向かって横方向に伝搬する光成分が迷光を発生させる要因の一つとなる場合がある。図10に示すように、発光層E1・E2・E3の端面から発した光は、出射角θが0°または0°近傍(±5°未満)の光成分と、出射角θが±5°よりも大きい光成分とに分けることができる。図11に示すように、出射角θが0°または0°近傍(±5°未満)の光成分は、隣接サブ画素の側壁に垂直入射する成分である。この成分は、素子/大気、大気/素子界面でほとんど反射されず、比較的遠距離まで減衰しつつ伝搬し、明確なピークを持たないブロードな迷光となる。減衰は素子を構成する半導体の、特に発光層とp型層によるものである。一方、出射角θが±5°よりも大きい光成分の一部は素子/大気、大気/素子界面で反射され、残りは透過しつつ伝搬する。反射した光は、成長用基板SK側または駆動基板DK側に向かうが、駆動基板DKに向かう成分は駆動基板DKで吸収されるため、ほぼ迷光とならない。一方で、成長用基板SK側に向かう成分は素子の側壁の位置で周期的にピークを形成する迷光となる。図12および図13に示すように、実施形態1の表示パネル1および比較例1の表示パネル51においては、発光層E1・E2・E3の表側(駆動基板DK側)および裏側(成長用基板SK側)方向に発する光の内、出射角θの絶対値が0°よりも大きい、概ね、出射角θの絶対値が5°よりも大きい光成分は、表側(駆動基板DK側)の電極で反射され入射角と同じ出射角で素子外へ向かい、素子の側壁付近で周期的なピークを持つ迷光となる。一方、出射角θが0°、概ね、出射角θの絶対値が5°未満の光成分は、迷光とはならない。図14に示すように、発光素子D1のみを点灯させた場合の比較例1の表示パネル51においては、発光素子D1・D2・D3の配列と間隔に対応した周期的な迷光の分布を持つ。表示パネルにおいて、迷光は、コントラストの低下、虚像、疑灯等、画質低下の要因となる。 The display panel 51 of Comparative Example 1 shown in Figure 9 differs from the display panel 1 of Embodiment 1 only in that it does not include a light absorber LA. As shown in Figures 10 and 11, in the display panel 1 of Embodiment 1 and the display panel 51 of Comparative Example 1, light components emitted from the end faces of the light-emitting layers E1, E2, and E3 that propagate laterally toward adjacent subpixels can be one of the causes of stray light. As shown in Figure 10, the light emitted from the end faces of the light-emitting layers E1, E2, and E3 can be divided into light components with an emission angle θ of 0° or near 0° (less than ±5°) and light components with an emission angle θ of greater than ±5°. As shown in Figure 11, the light components with an emission angle θ of 0° or near 0° (less than ±5°) are components that are perpendicularly incident on the sidewalls of adjacent subpixels. These components are hardly reflected at the element/air and air/element interfaces, propagate while attenuating for relatively long distances, and become broad stray light without a clear peak. The attenuation is due to the semiconductors that make up the element, particularly the light-emitting layer and p-type layer. On the other hand, part of the light component with an emission angle θ greater than ±5° is reflected at the element/air and air/element interfaces, while the remainder propagates while being transmitted. The reflected light heads toward the growth substrate SK or the drive substrate DK, but the component heading toward the drive substrate DK is absorbed by the drive substrate DK and therefore hardly becomes stray light. On the other hand, the component heading toward the growth substrate SK becomes stray light that periodically forms peaks at the sidewalls of the element. As shown in Figures 12 and 13, in the display panel 1 of Embodiment 1 and the display panel 51 of Comparative Example 1, among the light emitted toward the front side (drive substrate DK side) and back side (growth substrate SK side) of the light-emitting layers E1, E2, and E3, light components with an absolute value of the emission angle θ greater than 0°, or generally greater than 5°, are reflected by the electrode on the front side (drive substrate DK side) and directed out of the element at the same emission angle as the incident angle, resulting in stray light with periodic peaks near the sidewalls of the element. On the other hand, light components with an emission angle θ of 0° or generally less than 5° do not constitute stray light. As shown in Figure 14, in the display panel 51 of Comparative Example 1 when only light-emitting element D1 is lit, a periodic stray light distribution corresponding to the arrangement and spacing of light-emitting elements D1, D2, and D3 is observed. In a display panel, stray light can cause image quality degradation, such as reduced contrast, virtual images, and false illumination.

そこで、本実施形態の表示パネル1においては、上述した光吸収体LAを設けることで、点灯した発光素子から発した光が迷光となることを抑制した。図12に基づいて上述した出射角θの絶対値が0°よりも大きい、概ね、出射角θの絶対値が5°よりも大きい光成分、すなわち、表側(駆動基板DK側)の電極で反射され入射角と同じ出射角で素子外へ向かう光成分は、図15に示すように、表側(駆動基板DK側)の電極で反射して光吸収体LAに入射する。このような光成分は、発光素子の積層方向に一定の角度で入射し屈折して進行方向を変え、光吸収体LAを縦方向に伝搬するため大きな吸収を受けて減衰する。また、光吸収体LAと隣接発光素子の界面に達した迷光は、反射と屈折を受け、さらに方向を変えて伝搬し、近接発光素子に達するまでに光吸収体LAに入射して減衰する。同様に、図10に基づいて上述した出射角θが0°または0°近傍(±5°未満)の光成分も一定の角度を持って光吸収体LAに入射するため同様に減衰する。以上のように、上述した光吸収体LAを備えている本実施形態の表示パネル1によれば、光吸収体LAによる光成分の減衰と屈折により、周期的なピークを持つ迷光の強度が低下する顕著な効果が現れる。 Therefore, in the display panel 1 of this embodiment, the above-described light absorber LA is provided to prevent light emitted from lit light-emitting elements from becoming stray light. Based on Figure 12, light components with an absolute value of the output angle θ greater than 0°, generally greater than 5°, i.e., light components reflected by the front-side electrode (drive substrate DK side) and traveling out of the element at the same output angle as the incident angle, are reflected by the front-side electrode (drive substrate DK side) and incident on the light absorber LA, as shown in Figure 15. Such light components enter at a constant angle in the stacking direction of the light-emitting elements, refract, and change direction. As they propagate vertically through the light absorber LA, they are significantly absorbed and attenuated. Furthermore, stray light that reaches the interface between the light absorber LA and an adjacent light-emitting element is reflected and refracted, then changes direction and propagates, entering the light absorber LA and being attenuated before reaching a nearby light-emitting element. Similarly, light components with an output angle θ of 0° or near 0° (less than ±5°), as described above with reference to Figure 10, are also attenuated in the same way because they enter the light absorber LA at a certain angle. As described above, the display panel 1 of this embodiment, which is equipped with the light absorber LA described above, has the remarkable effect of reducing the intensity of stray light with periodic peaks due to the attenuation and refraction of light components by the light absorber LA.

図16は、図27に示す比較例2の表示パネル52をモデルとした光学的な計算によって求めた迷光の分布を示す図である。図17は、屈折率が2.47で、透過率が0.9である光吸収体LAを含む図26に示す実施形態2の表示パネル2をモデルとした光学的な計算によって求めた迷光の分布を示す図である。図18は、屈折率が2.47で、透過率が0.7である光吸収体LAを含む図26に示す実施形態2の表示パネル2をモデルとした光学的な計算によって求めた迷光の分布を示す図である。図19は、屈折率が2.47で、透過率が0.3である光吸収体LAを含む図26に示す実施形態2の表示パネル2をモデルとした光学的な計算によって求めた迷光の分布を示す図である。図20は、屈折率が2.47で、透過率が0.1である光吸収体LAを含む図26に示す実施形態2の表示パネル2をモデルとした光学的な計算によって求めた迷光の分布を示す図である。 16 is a diagram showing the distribution of stray light obtained by optical calculation using the display panel 52 of Comparative Example 2 shown in FIG. 27 as a model. FIG. 17 is a diagram showing the distribution of stray light obtained by optical calculation using the display panel 2 of Embodiment 2 shown in FIG. 26 as a model, which includes a light absorber LA having a refractive index of 2.47 and a transmittance of 0.9. FIG. 18 is a diagram showing the distribution of stray light obtained by optical calculation using the display panel 2 of Embodiment 2 shown in FIG. 26 as a model, which includes a light absorber LA having a refractive index of 2.47 and a transmittance of 0.7. FIG. 19 is a diagram showing the distribution of stray light obtained by optical calculation using the display panel 2 of Embodiment 2 shown in FIG. 26 as a model, which includes a light absorber LA having a refractive index of 2.47 and a transmittance of 0.3. FIG. 20 is a diagram showing the distribution of stray light obtained by optical calculation using the display panel 2 of Embodiment 2 shown in FIG. 26 as a model, which includes a light absorber LA having a refractive index of 2.47 and a transmittance of 0.1.

ここでは、図27に示す比較例2の表示パネル52および図26に示す実施形態2の表示パネル2を光学モデル化し、光学計算により効果を発揮する光吸収体LAの屈折率および透過率の一例を示す。 Here, optical models are created for the display panel 52 of Comparative Example 2 shown in Figure 27 and the display panel 2 of Embodiment 2 shown in Figure 26, and examples of the refractive index and transmittance of the light absorber LA that exhibits the desired effect are shown through optical calculations.

図16に示すように、光吸収体LAを備えていない図27に示す比較例2の表示パネル52をモデルとした光学的な計算によって求めた迷光の分布は、発光素子D1’の側壁の位置でスパイク状のピークを持つ迷光分布を示しており、図28に示す実験結果と一致していることがわかる。また、図16示す発光サブ画素とスパイク状の迷光の強度比も図28示す実験結果にほぼ一致しており、光学モデルを正確に構築すれば、光線追跡で迷光を計算できることが確認できた。 As shown in Figure 16, the stray light distribution obtained by optical calculation using the display panel 52 of Comparative Example 2 shown in Figure 27, which does not have a light absorber LA, as a model, shows a stray light distribution with a spike-shaped peak at the sidewall position of the light-emitting element D1', which is consistent with the experimental results shown in Figure 28. Furthermore, the intensity ratio between the light-emitting subpixel shown in Figure 16 and the spike-shaped stray light also closely matches the experimental results shown in Figure 28, confirming that stray light can be calculated by ray tracing if an optical model is constructed accurately.

図17から図20のそれぞれは、光吸収体LAを含む図26に示す実施形態2の表示パネル2をモデルとした光学的な計算によって求めた迷光の分布を示し、光吸収体LAの透過率の影響を確認するため、光吸収体LAの屈折率をGaNと同じ2.47に固定した上で、透過率を0.9、0.7、0.3および0.1に変えながら行った計算結果を示す。この場合、半導体層と光吸収体の屈折率に差が無いため界面で迷光が屈折しない。そのため、図17に示す光吸収体LAの透過率が0.9の場合においては、基板表面に平行な方向に伝搬するブロードな迷光は大きな減衰を受けないことがわかる。一方で、光吸収体LAの透過率の効果は大きく、図18に示す光吸収体LAの透過率が0.7の場合においては、透過率の0.9から0.7への減少でスパイク状の迷光強度が低下することがわかる。さらに、図19に示す光吸収体LAの透過率が0.3の場合および図20に示す光吸収体LAの透過率が0.1の場合においては、透過率の0.3以下への減少でスパイク状の迷光に加えてブロードな迷光も大きく減衰し、発光している発光素子と隣接する発光素子間にほぼ局在する程度にまで迷光を抑制できることがわかる。 Figures 17 to 20 each show the distribution of stray light obtained by optical calculation using the display panel 2 of embodiment 2 shown in Figure 26, which includes the light absorber LA, as a model. To confirm the effect of the transmittance of the light absorber LA, the calculation results were shown, where the refractive index of the light absorber LA was fixed at 2.47, the same as that of GaN, and the transmittance was changed to 0.9, 0.7, 0.3, and 0.1. In this case, there is no difference in the refractive index between the semiconductor layer and the light absorber, so stray light is not refracted at the interface. Therefore, when the transmittance of the light absorber LA shown in Figure 17 is 0.9, it can be seen that broad stray light propagating in a direction parallel to the substrate surface is not significantly attenuated. On the other hand, the effect of the transmittance of the light absorber LA is significant. When the transmittance of the light absorber LA shown in Figure 18 is 0.7, it can be seen that the spike-like stray light intensity decreases as the transmittance decreases from 0.9 to 0.7. Furthermore, when the transmittance of the light absorber LA shown in Figure 19 is 0.3, and when the transmittance of the light absorber LA shown in Figure 20 is 0.1, it can be seen that reducing the transmittance to 0.3 or less significantly attenuates not only spike-like stray light but also broad stray light, and that stray light can be suppressed to the point where it is almost localized between the emitting light-emitting element and the adjacent light-emitting element.

したがって、光吸収体LAの可視光領域における透過率は、0.7以下であることが好ましく、0.3以下であることがさらに好ましい。 Therefore, the transmittance of the light absorber LA in the visible light region is preferably 0.7 or less, and more preferably 0.3 or less.

図21は、屈折率が1.5で、透過率が1である光吸収体を含む図26に示す実施形態2の表示パネル2をモデルとした光学的な計算によって求めた迷光の分布を示す図である。図22は、屈折率が3.47で、透過率が1である光吸収体を含む図26に示す実施形態2の表示パネル2をモデルとした光学的な計算によって求めた迷光の分布を示す図である。図23は、屈折率が3.47で、透過率が0.3である光吸収体を含む図26に示す実施形態2の表示パネル2をモデルとした光学的な計算によって求めた迷光の分布を示す図である。 Figure 21 is a diagram showing the distribution of stray light obtained by optical calculation using a model of the display panel 2 of embodiment 2 shown in Figure 26, which includes a light absorber with a refractive index of 1.5 and a transmittance of 1. Figure 22 is a diagram showing the distribution of stray light obtained by optical calculation using a model of the display panel 2 of embodiment 2 shown in Figure 26, which includes a light absorber with a refractive index of 3.47 and a transmittance of 1. Figure 23 is a diagram showing the distribution of stray light obtained by optical calculation using a model of the display panel 2 of embodiment 2 shown in Figure 26, which includes a light absorber with a refractive index of 3.47 and a transmittance of 0.3.

図21および図22のそれぞれは、光吸収体LAを含む図26に示す実施形態2の表示パネル2をモデルとした光学的な計算によって求めた迷光の分布を示し、光吸収体LAの屈折率の影響を確認するため、光吸収体LAの透過率を1に固定した上で、屈折率を1.5および3.47に変えながら行った計算結果を示す。図21に示すように、光吸収体LAの屈折率が半導体層の屈折率(例えば、2.47)よりも小さい場合、スパイク状の迷光が発生する隣接サブ画素に関しては隣接サブ画素において大きく抑制されるが、一方で、ブロードな迷光に関しては、遠距離まで伝搬しほとんど抑制できないことがわかる。逆に、図22に示すように、半導体の屈折率(例えば、2.47)よりも大きな屈折率を有する光吸収体LAを用いることで、ブロードな迷光を抑制できる。光吸収体LAの屈折率が半導体層の屈折率よりも小さい場合、基板表面に平行に近く、発光素子が備える積層体の側壁に対して浅い角度で入射する光は光吸収体LAから大気に向かう方向に屈折するのに対して、光吸収体LAの屈折率が半導体層の屈折率よりも大きい場合は基板表面側に屈折して隣接サブ画素間を浅い角度で多重反射することにより減衰するためである。広範囲に伝搬するブロードな迷光は表示パネルにおけるコントラストを低下させる要因であるが、光吸収体LAの屈折率を半導体層の屈折率よりも大きくし、その差を大きくすることで抑制することができる。 Figures 21 and 22 each show the distribution of stray light obtained by optical calculation using the display panel 2 of embodiment 2 shown in Figure 26, which includes a light absorber LA, as a model. To confirm the effect of the refractive index of the light absorber LA, the transmittance of the light absorber LA was fixed at 1, and the refractive index was varied between 1.5 and 3.47. As shown in Figure 21, when the refractive index of the light absorber LA is smaller than the refractive index of the semiconductor layer (e.g., 2.47), spike-like stray light is significantly suppressed in adjacent subpixels where it occurs. However, broad stray light propagates long distances and is barely suppressed. Conversely, as shown in Figure 22, broad stray light can be suppressed by using a light absorber LA with a refractive index larger than the refractive index of the semiconductor (e.g., 2.47). When the refractive index of the light absorber LA is smaller than that of the semiconductor layer, light that is nearly parallel to the substrate surface and incident at a shallow angle on the sidewall of the stacked body of the light-emitting element is refracted from the light absorber LA toward the atmosphere, whereas when the refractive index of the light absorber LA is larger than that of the semiconductor layer, the light is refracted toward the substrate surface and is attenuated by multiple reflections at shallow angles between adjacent subpixels. Broad stray light that propagates over a wide area reduces the contrast of a display panel, but this can be suppressed by making the refractive index of the light absorber LA larger than that of the semiconductor layer and increasing the difference between the two.

以上から、広範囲に伝搬するブロードな迷光を抑制するという点からは、光吸収体LAの屈折率が、図26に示す積層体11’を構成する材料の屈折率よりも0.1以上大きいことが好ましく、1.5以上大きいことがさらに好ましい。 From the above, in order to suppress broad stray light that propagates over a wide range, it is preferable that the refractive index of the light absorber LA be 0.1 or more higher than the refractive index of the material that makes up the laminate 11' shown in Figure 26, and it is even more preferable that it be 1.5 or more higher.

また、以上から、スパイク状の迷光を抑制するという点からは、光吸収体LAの屈折率が、図26に示す積層体11’を構成する材料の屈折率よりも0.1以上小さいことが好ましく、1.5以上小さいことがさらに好ましい。 Furthermore, from the viewpoint of suppressing spike-like stray light, it is preferable that the refractive index of the light absorber LA is smaller by 0.1 or more than the refractive index of the material constituting the laminate 11' shown in Figure 26, and it is even more preferable that it is smaller by 1.5 or more.

図23に示すように、屈折率が3.47で、透過率が0.3である光吸収体LAを含む図26に示す実施形態2の表示パネル2をモデルとした光学的な計算によって求めた迷光の分布においては、屈折の効果と吸収の効果が得られ、スパイク状の迷光とブロードな迷光の双方が効果的に抑制できていることが確認できる。 As shown in Figure 23, the stray light distribution obtained by optical calculation using the display panel 2 of embodiment 2 shown in Figure 26 as a model, which includes a light absorber LA with a refractive index of 3.47 and a transmittance of 0.3, demonstrates that the effects of refraction and absorption are obtained, and that both spike-like stray light and broad stray light are effectively suppressed.

以上から、光吸収体LAの可視光領域における透過率は0.3以下であり、光吸収体LAの屈折率は、図26に示す積層体11’を構成する材料の屈折率よりも0.1以上大きいことが好ましく、1.5以上大きいことがさらに好ましい。 From the above, the transmittance of the light absorber LA in the visible light region is 0.3 or less, and the refractive index of the light absorber LA is preferably 0.1 or more higher than the refractive index of the material constituting the laminate 11' shown in Figure 26, and more preferably 1.5 or more higher.

〔実施形態2〕
図26は、実施形態2の表示パネル2の概略的な構成を示す断面図である。図27は、比較例2の表示パネル52の概略的な構成を示す断面図である。図28は、図26に示す実施形態2の表示パネル2および図27に示す比較例2の表示パネル52それぞれにおいて、図2に示すH1方向における迷光の分布を示す図である。図29は、図26に示す実施形態2の表示パネル2および図27に示す比較例2の表示パネル52それぞれにおいて、図2に示すH2方向における迷光の分布を示す図である。
[Embodiment 2]
Fig. 26 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of the display panel 2 of Embodiment 2. Fig. 27 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of the display panel 52 of Comparative Example 2. Fig. 28 is a diagram showing the distribution of stray light in the H1 direction shown in Fig. 2 in the display panel 2 of Embodiment 2 shown in Fig. 26 and the display panel 52 of Comparative Example 2 shown in Fig. 27. Fig. 29 is a diagram showing the distribution of stray light in the H2 direction shown in Fig. 2 in the display panel 2 of Embodiment 2 shown in Fig. 26 and the display panel 52 of Comparative Example 2 shown in Fig. 27.

図26に示す実施形態2の表示パネル2および図27に示す比較例2の表示パネル52のそれぞれは、一つの色で発光する複数個の発光素子を備えた単色表示パネルである点において、上述した実施形態1で説明した実施形態1の表示パネル1および比較例1の表示パネル51とは異なる。図26に示す実施形態2の表示パネル2および図27に示す比較例2の表示パネル52のそれぞれは、青色単色表示パネルである。なお、図26に示す実施形態2の表示パネル2は光吸収体LAを備えている点のみで、図27に示す比較例2の表示パネル52とは異なる。 The display panel 2 of Embodiment 2 shown in FIG. 26 and the display panel 52 of Comparative Example 2 shown in FIG. 27 differ from the display panel 1 of Embodiment 1 and the display panel 51 of Comparative Example 1 described above in that they are monochrome display panels equipped with a plurality of light-emitting elements that emit light of one color. The display panel 2 of Embodiment 2 shown in FIG. 26 and the display panel 52 of Comparative Example 2 shown in FIG. 27 are blue monochrome display panels. Note that the display panel 2 of Embodiment 2 shown in FIG. 26 differs from the display panel 52 of Comparative Example 2 shown in FIG. 27 only in that it is equipped with a light absorber LA.

図28および図29に示すように、図2に示すH1方向における迷光の分布および図2に示すH2方向における迷光の分布の何れにおいても、図26に示す実施形態2の表示パネル2の場合、光吸収体LAを設けたことにより、周期的なスパイク状の迷光と、ブロードな迷光の両方が低減していることが分かる。また、光吸収体LAを備えていない図27に示す比較例2の表示パネル52と比較すると、図26に示す実施形態2の表示パネル2の場合、迷光の強度が少なくとも1/4に低減できていることを確認できる。 As shown in Figures 28 and 29, in both the distribution of stray light in the H1 direction shown in Figure 2 and the distribution of stray light in the H2 direction shown in Figure 2, it can be seen that in the case of the display panel 2 of embodiment 2 shown in Figure 26, the provision of the light absorber LA reduces both periodic spike-like stray light and broad stray light. Furthermore, compared to the display panel 52 of comparative example 2 shown in Figure 27, which does not have the light absorber LA, it can be seen that the intensity of stray light in the case of the display panel 2 of embodiment 2 shown in Figure 26 is reduced to at least one-quarter.

なお、図26に示す実施形態2の表示パネル2においては、複数個の発光素子D1’それぞれが備えている島状の積層体11’の間を完全に埋めるように、光吸収体LAが充填されている場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、光吸収体LAは、例えば、発光層E1からの光が出射する面である表示面DMから最も近い半導体層である下地層U1の表示面DM側の表面から表示面DMから最も近い発光層E1の表示面DM側の表面までの厚さに対応する高さ以下で形成してもよく、光吸収体LAを、下地層U1の表示面DM側の表面から発光層E1の表示面DM側の表面までの厚さに対応する高さで形成してもよい。 In the display panel 2 of embodiment 2 shown in Figure 26, the case where the light absorber LA is filled so as to completely fill the spaces between the island-shaped laminates 11' provided in each of the multiple light-emitting elements D1' has been described as an example, but this is not limited to this. The light absorber LA may be formed, for example, at a height equal to or less than the thickness from the display surface DM-side surface of the base layer U1, which is the semiconductor layer closest to the display surface DM, which is the surface from which light from the light-emitting layer E1 is emitted, to the display surface DM-side surface of the light-emitting layer E1 closest to the display surface DM, or the light absorber LA may be formed at a height corresponding to the thickness from the display surface DM-side surface of the base layer U1 to the display surface DM-side surface of the light-emitting layer E1.

〔実施形態3〕
図30は、実施形態3の表示パネル3の概略的な構成を示す断面図である。図31は、比較例3の表示パネル53の概略的な構成を示す断面図である。
[Embodiment 3]
Fig. 30 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a display panel 3 of embodiment 3. Fig. 31 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a display panel 53 of comparative example 3.

図30に示す実施形態3の表示パネル3および図31に示す比較例3の表示パネル53のそれぞれは、青色発光素子である発光素子D1’を含むチップと、緑色発光素子である発光素子D2’を含むチップと、赤色発光素子である発光素子D3’を含むチップとを複数個製造し、チップ単位で、一つの駆動基板DK上に整列させるように、駆動基板DKに導電性接着層JCを介して接合して製造している点において、実施形態1において上述した表示パネル1および比較例1の表示パネル51とは異なる。なお、図30に示す実施形態3の表示パネル3は光吸収体LAを備えている点のみで、図31に示す比較例3の表示パネル53とは異なる。 The display panel 3 of Embodiment 3 shown in FIG. 30 and the display panel 53 of Comparative Example 3 shown in FIG. 31 differ from the display panel 1 described above in Embodiment 1 and the display panel 51 of Comparative Example 1 in that they are manufactured by manufacturing a plurality of chips, each chip including a blue light-emitting element D1', a green light-emitting element D2', and a red light-emitting element D3', and bonding the chips to a single drive substrate DK via a conductive adhesive layer JC so that the chips are aligned on the drive substrate DK. The display panel 3 of Embodiment 3 shown in FIG. 30 differs from the display panel 53 of Comparative Example 3 shown in FIG. 31 only in that it includes a light absorber LA.

図示してないが、図2に示すH1方向における迷光の分布および図2に示すH2方向における迷光の分布の何れにおいても、図30に示す実施形態3の表示パネル3の場合、光吸収体LAを設けたことにより、周期的なスパイク状の迷光と、ブロードな迷光の両方を低減できる。また、光吸収体LAを備えていない図31に示す比較例3の表示パネル53と比較すると、図30に示す実施形態3の表示パネル3の場合、迷光の強度が少なくとも1/4に低減できる。 Although not shown, in both the distribution of stray light in the H1 direction shown in FIG. 2 and the distribution of stray light in the H2 direction shown in FIG. 2, the display panel 3 of embodiment 3 shown in FIG. 30 is able to reduce both periodic spike-like stray light and broad stray light by providing the light absorber LA. Furthermore, compared to the display panel 53 of comparative example 3 shown in FIG. 31, which does not have the light absorber LA, the intensity of stray light can be reduced to at least one-quarter in the case of the display panel 3 of embodiment 3 shown in FIG. 30.

なお、図30に示す実施形態3の表示パネル3の製造工程の場合、図3に示すS26工程で、複数の発光素子D1’・D2’・D3’それぞれは、個別にチップ化されるため、図3に示すS30工程を行う前に、チップ化された複数の発光素子D1’・D2’・D3’それぞれを駆動基板DKに実装する図3に示すS32工程を行う必要がある。なお、図3に示すS28工程は省いている。そして、図3に示すS30工程においては、上述したS32工程において生じる成長用基板SK間の隙間GPを利用して、光吸収体LAを島状の積層体の間に充填することができる。 In the manufacturing process of the display panel 3 of embodiment 3 shown in Figure 30, since each of the multiple light-emitting elements D1', D2', and D3' is individually chipped in step S26 shown in Figure 3, it is necessary to perform step S32 shown in Figure 3, in which each of the multiple chipped light-emitting elements D1', D2', and D3' is mounted on a drive substrate DK, before performing step S30 shown in Figure 3. Note that step S28 shown in Figure 3 has been omitted. Then, in step S30 shown in Figure 3, the gaps GP between the growth substrates SK created in step S32 described above can be used to fill the light absorber LA between the island-shaped laminates.

〔まとめ〕
本開示の態様1に係る表示パネルは、発光層を含む積層された複数の半導体層で構成された島状の積層体と、アノードと、カソードとを備えた発光素子を複数個含み、前記複数個の発光素子それぞれが備えている前記島状の積層体の間には、前記積層体を構成する材料とは異なる材料を含む、可視光領域の光を吸収する光吸収体が設けられている。
〔summary〕
The display panel according to aspect 1 of the present disclosure includes a plurality of light-emitting elements each having an island-shaped laminate composed of a plurality of stacked semiconductor layers including a light-emitting layer, an anode, and a cathode, and a light absorber that absorbs light in the visible light range and contains a material different from the material constituting the laminate is provided between the island-shaped laminates included in each of the plurality of light-emitting elements.

本開示の態様2に係る表示パネルは、態様1に係る表示パネルであり、前記島状の積層体と前記光吸収体との間には、絶縁膜が設けられていてもよい。 A display panel according to aspect 2 of the present disclosure is the display panel according to aspect 1, and may further include an insulating film between the island-shaped laminate and the light absorber.

本開示の態様3に係る表示パネルは、態様1または2に係る表示パネルであり、前記光吸収体の前記可視光領域における透過率は、0.7以下であってもよい。 A display panel according to aspect 3 of the present disclosure is the display panel according to aspect 1 or 2, and the transmittance of the light absorber in the visible light region may be 0.7 or less.

本開示の態様4に係る表示パネルは、態様1または2に係る表示パネルであり、前記光吸収体の前記可視光領域における透過率は、0.3以下であってもよい。 A display panel according to aspect 4 of the present disclosure is the display panel according to aspect 1 or 2, and the transmittance of the light absorber in the visible light region may be 0.3 or less.

本開示の態様5に係る表示パネルは、態様1~4の何れかに係る表示パネルであり、前記光吸収体の屈折率が、前記積層体を構成する材料の屈折率よりも0.1以上大きくてもよい。 A display panel according to aspect 5 of the present disclosure is a display panel according to any one of aspects 1 to 4, and the refractive index of the light absorber may be 0.1 or more higher than the refractive index of the material constituting the laminate.

本開示の態様6に係る表示パネルは、態様1~4の何れかに係る表示パネルであり、前記光吸収体の屈折率が、前記積層体を構成する材料の屈折率よりも1.5以上大きくてもよい。 A display panel according to aspect 6 of the present disclosure is a display panel according to any one of aspects 1 to 4, and the refractive index of the light absorber may be 1.5 or more higher than the refractive index of the material constituting the laminate.

本開示の態様7に係る表示パネルは、態様1~4の何れかに係る表示パネルであり、前記光吸収体の屈折率が、前記積層体を構成する材料の屈折率よりも0.1以上小さくてもよい。 A display panel according to aspect 7 of the present disclosure is a display panel according to any one of aspects 1 to 4, and the refractive index of the light absorber may be 0.1 or more lower than the refractive index of the material constituting the laminate.

本開示の態様8に係る表示パネルは、態様1~4の何れかに係る表示パネルであり、前記光吸収体の屈折率が、前記積層体を構成する材料の屈折率よりも1.5以上小さくてもよい。 A display panel according to aspect 8 of the present disclosure is a display panel according to any one of aspects 1 to 4, and the refractive index of the light absorber may be 1.5 or more lower than the refractive index of the material constituting the laminate.

本開示の態様9に係る表示パネルは、態様1~8の何れかに係る表示パネルであり、前記光吸収体は、有機化合物または無機化合物であってもよい。 A display panel according to aspect 9 of the present disclosure is a display panel according to any one of aspects 1 to 8, and the light absorber may be an organic compound or an inorganic compound.

本開示の態様10に係る表示パネルは、態様1~8の何れかに係る表示パネルであり、前記光吸収体は、ピリジン骨格を含んでいてもよい。 A display panel according to aspect 10 of the present disclosure is a display panel according to any one of aspects 1 to 8, and the light absorber may include a pyridine skeleton.

本開示の態様11に係る表示パネルは、態様1~8の何れかに係る表示パネルであり、前記光吸収体は、変性アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、シアノアクリレート系樹脂、フルオロエチレン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリビニルアルコール(PVA)およびポリ塩化ビニル(PVC)の中から選択される一つ以上を含んでいてもよい。 A display panel according to aspect 11 of the present disclosure is a display panel according to any one of aspects 1 to 8, wherein the light absorber may include one or more selected from modified acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, cyanoacrylate resin, fluoroethylene resin, silicone resin, polyvinyl alcohol (PVA), and polyvinyl chloride (PVC).

本開示の態様12に係る表示パネルは、態様1~8の何れかに係る表示パネルであり、前記光吸収体は、アゾ系の染料、キノン系の染料、インジゴ系の染料、ポリメチン系の染料、スチリル系の染料、アゾ系の顔料、キノン系の顔料、インジゴ系の顔料、ポリメチン系の顔料およびスチリル系の顔料の中から選択される一つ以上を含んでいてもよい。 A display panel according to aspect 12 of the present disclosure is a display panel according to any one of aspects 1 to 8, wherein the light absorber may include one or more selected from azo dyes, quinone dyes, indigo dyes, polymethine dyes, styryl dyes, azo pigments, quinone pigments, indigo pigments, polymethine pigments, and styryl pigments.

本開示の態様13に係る表示パネルは、態様1~8の何れかに係る表示パネルであり、前記光吸収体は、炭素材料、金属硫化物および前記可視光領域において吸収を有する半導体材料から選択される一つ以上を含んでいてもよい。 A display panel according to aspect 13 of the present disclosure is a display panel according to any one of aspects 1 to 8, and the light absorber may include one or more selected from a carbon material, a metal sulfide, and a semiconductor material that absorbs light in the visible light region.

本開示の態様14に係る表示パネルは、態様2に係る表示パネルであり、前記絶縁膜は、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、酸窒化シリコン膜および酸化アルミニウム膜の何れかを含んでいてもよい。 A display panel according to aspect 14 of the present disclosure is the display panel according to aspect 2, and the insulating film may include any one of a silicon oxide film, a silicon nitride film, a silicon oxynitride film, and an aluminum oxide film.

本開示の態様15に係る表示パネルは、態様2または14に係る表示パネルであり、前記島状の積層体の側壁に垂直な方向に、前記絶縁膜が3nm以上、100nm以下の厚さで形成されていてもよい。 A display panel according to aspect 15 of the present disclosure is a display panel according to aspect 2 or 14, and the insulating film may be formed with a thickness of 3 nm or more and 100 nm or less in a direction perpendicular to the sidewall of the island-shaped laminate.

本開示の態様16に係る表示パネルは、態様1~15の何れかに係る表示パネルであり、前記光吸収体は、前記発光層からの光が出射する面である表示面から最も近い前記半導体層の前記表示面側の表面から前記表示面から最も近い前記発光層の前記表示面側の表面までの厚さに対応する高さ以下で形成されていてもよい。 A display panel according to aspect 16 of the present disclosure is a display panel according to any one of aspects 1 to 15, and the light absorber may be formed to a height equal to or less than the thickness from the display surface side surface of the semiconductor layer closest to the display surface, which is the surface through which light from the light-emitting layer is emitted, to the display surface side surface of the light-emitting layer closest to the display surface.

本開示の態様17に係る表示パネルは、態様1~15の何れかに係る表示パネルであり、前記複数個の発光素子は、第1色を発光する第1発光素子と、前記第1色とは異なる第2色を発光する第2発光素子と、前記第1色および前記第2色とは異なる第3色を発光する第3発光素子とを含み、前記第1発光素子は、前記島状の積層体として、前記第1色を発光する第1発光層を含む第1積層体を備えており、前記第2発光素子は、前記島状の積層体として、前記第1積層体と、前記発光層からの光が出射する面である表示面から前記第1積層体よりも遠くに設けられた前記第2色を発光する第2発光層を含む第2積層体とを備えており、前記第3発光素子は、前記島状の積層体として、前記第1積層体と、前記第2積層体と、前記表示面から前記第2積層体よりも遠くに設けられた前記第3色を発光する第3発光層を含む第3積層体とを備えており、前記光吸収体は、前記表示面から最も近い半導体層の前記表示面側の表面から前記第3発光層の前記表示面側の表面までの厚さに対応する高さ以下で形成されていてもよい。 A display panel according to aspect 17 of the present disclosure is a display panel according to any one of aspects 1 to 15, wherein the plurality of light-emitting elements include a first light-emitting element that emits a first color, a second light-emitting element that emits a second color different from the first color, and a third light-emitting element that emits a third color different from the first color and the second color, and the first light-emitting element has, as the island-shaped laminate, a first stacked body including a first light-emitting layer that emits the first color, and the second light-emitting element has, as the island-shaped laminate, a first stacked body including a first light-emitting layer that emits the first color, and a second light-emitting element that has, as the island-shaped laminate, a first stacked body and a second light-emitting layer that has, as the island-shaped laminate, a first light-emitting layer that emits the first color. and a second stack including a second light-emitting layer emitting the second color and disposed farther from a display surface than the first stack, and the third light-emitting element includes, as the island-shaped stack, the first stack, the second stack, and a third stack including a third light-emitting layer emitting the third color and disposed farther from the display surface than the second stack, and the light absorber may be formed to a height equal to or less than the thickness from the display surface side surface of the semiconductor layer closest to the display surface to the display surface side surface of the third light-emitting layer.

〔付記事項〕
本開示は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本開示の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。
[Additional Notes]
The present disclosure is not limited to the above-described embodiments, and various modifications are possible within the scope of the claims. Embodiments obtained by appropriately combining the technical means disclosed in different embodiments are also included in the technical scope of the present disclosure. Furthermore, new technical features can be formed by combining the technical means disclosed in each embodiment.

1、1a、1b、2、3 表示パネル
11、12、13、11’、12’ 島状の積層体
W 島状の積層体の側壁
SK 成長用基板
DM 表示面
D1~D3、D1’~D3’ 発光素子
E1~E3 発光層
LA 光吸収体
PF 絶縁膜
JC 導電性接着層
DK 駆動基板
A1~A3 アノード
K1~K3 カソード
L1~L3 発光層からの光
PI 画素
RSUB、GSUB、BSUB サブ画素
H1 第1方向
H2 第2方向
1, 1a, 1b, 2, 3 Display panel 11, 12, 13, 11', 12' Island-shaped laminated body W Side wall of island-shaped laminated body SK Growth substrate DM Display surface D1 to D3, D1' to D3' Light-emitting element E1 to E3 Light-emitting layer LA Light absorber PF Insulating film JC Conductive adhesive layer DK Drive substrate A1 to A3 Anode K1 to K3 Cathode L1 to L3 Light from light-emitting layer PI Pixel RSUB, GSUB, BSUB Sub-pixel H1 First direction H2 Second direction

Claims (17)

発光層を含む積層された複数の半導体層で構成された島状の積層体と、アノードと、カソードとを備えた発光素子を複数個含み、
前記複数個の発光素子それぞれが備えている前記島状の積層体の間には、前記積層体を構成する材料とは異なる材料を含む、可視光領域の光を吸収する光吸収体が設けられており、
前記光吸収体は、前記発光層からの光が出射する面である表示面最も近い前記半導体層の前記表示面側の表面から前記発光層の前記表示面側の表面までの厚さに対応する高さで形成されている、表示パネル。
The light-emitting device includes a plurality of light-emitting elements each including an island-shaped laminate composed of a plurality of laminated semiconductor layers including a light-emitting layer, an anode, and a cathode;
a light absorber that absorbs light in the visible light region and that contains a material different from the material constituting the stack is provided between the island-shaped stacks that each of the plurality of light-emitting elements includes,
a display panel, wherein the light absorber is formed to a height corresponding to a thickness from a surface of the semiconductor layer closest to a display surface, which is a surface through which light from the light emitting layer is emitted, to a surface of the light emitting layer closest to the display surface.
発光層を含む積層された複数の半導体層で構成された島状の積層体と、アノードと、カソードとを備えた発光素子を複数個含み、
前記複数個の発光素子それぞれが備えている前記島状の積層体の間には、前記積層体を構成する材料とは異なる材料を含む、可視光領域の光を吸収する光吸収体が設けられており、
前記複数個の発光素子は、第1色を発光する第1発光素子と、前記第1色とは異なる第2色を発光する第2発光素子と、前記第1色および前記第2色とは異なる第3色を発光する第3発光素子とを含み、
前記第1発光素子は、前記島状の積層体として、前記第1色を発光する第1発光層を含む第1積層体を備えており、
前記第2発光素子は、前記島状の積層体として、前記第1積層体と、前記発光層からの光が出射する面である表示面から前記第1積層体よりも遠くに設けられた前記第2色を発光する第2発光層を含む第2積層体とを備えており、
前記第3発光素子は、前記島状の積層体として、前記第1積層体と、前記第2積層体と、前記表示面から前記第2積層体よりも遠くに設けられた前記第3色を発光する第3発光層を含む第3積層体とを備えており、
前記光吸収体は、前記表示面最も近い前記半導体層の前記表示面側の表面から、前記第1発光層の前記表示面側の表面以上、前記第3発光層の前記表示面側の表面以下の厚さに対応する高さで形成されている、表示パネル。
The light-emitting device includes a plurality of light-emitting elements each including an island-shaped laminate composed of a plurality of laminated semiconductor layers including a light-emitting layer, an anode, and a cathode;
a light absorber that absorbs light in the visible light region and that contains a material different from the material constituting the stack is provided between the island-shaped stacks that each of the plurality of light-emitting elements includes,
the plurality of light-emitting elements include a first light-emitting element that emits a first color, a second light-emitting element that emits a second color different from the first color, and a third light-emitting element that emits a third color different from the first color and the second color;
the first light-emitting element includes, as the island-shaped laminate, a first laminate including a first light-emitting layer that emits light of the first color;
the second light-emitting element includes, as the island-shaped laminate, the first laminate and a second laminate including a second light-emitting layer that emits light of the second color and is provided farther from a display surface, which is a surface through which light from the light-emitting layer is emitted, than the first laminate;
the third light-emitting element includes, as the island-shaped laminate, the first laminate, the second laminate, and a third laminate including a third light-emitting layer that emits light of the third color and is provided farther from the display surface than the second laminate,
the light absorber is formed at a height corresponding to a thickness from a surface of the semiconductor layer closest to the display surface that faces the display surface to a surface that is equal to or greater than the surface of the first light-emitting layer that faces the display surface and that is equal to or smaller than the surface of the third light-emitting layer that faces the display surface.
発光層を含む積層された複数の半導体層で構成された島状の積層体と、アノードと、カソードとを備えた発光素子を複数個含み、
前記複数個の発光素子それぞれが備えている前記島状の積層体の間には、前記積層体を構成する材料とは異なる材料を含む、可視光領域の光を吸収する光吸収体が設けられており、
前記光吸収体の前記可視光領域における透過率は、0.7以下であり、
前記光吸収体の屈折率が、前記積層体を構成する材料の屈折率よりも0.1以上大きい、表示パネル。
The light-emitting device includes a plurality of light-emitting elements each including an island-shaped laminate composed of a plurality of laminated semiconductor layers including a light-emitting layer, an anode, and a cathode;
a light absorber that absorbs light in the visible light region and that contains a material different from the material constituting the stack is provided between the island-shaped stacks that each of the plurality of light-emitting elements includes,
the transmittance of the light absorber in the visible light region is 0.7 or less,
A display panel, wherein the refractive index of the light absorber is 0.1 or more higher than the refractive index of the material constituting the laminate.
前記島状の積層体と前記光吸収体との間には、絶縁膜が設けられている、請求項1から3の何れか1項に記載の表示パネル。 A display panel according to any one of claims 1 to 3, wherein an insulating film is provided between the island-shaped laminate and the light absorber. 前記光吸収体の前記可視光領域における透過率は、0.7以下である、請求項1または2に記載の表示パネル。 The display panel of claim 1 or 2, wherein the transmittance of the light absorber in the visible light region is 0.7 or less. 前記光吸収体の前記可視光領域における透過率は、0.3以下である、請求項1または2に記載の表示パネル。 The display panel of claim 1 or 2, wherein the transmittance of the light absorber in the visible light region is 0.3 or less. 前記光吸収体の屈折率が、前記積層体を構成する材料の屈折率よりも0.1以上大きい、請求項5に記載の表示パネル。 The display panel of claim 5, wherein the refractive index of the light absorber is at least 0.1 greater than the refractive index of the material constituting the laminate. 前記光吸収体の屈折率が、前記積層体を構成する材料の屈折率よりも1.5以上大きい、請求項3に記載の表示パネル。 The display panel of claim 3, wherein the refractive index of the light absorber is at least 1.5 higher than the refractive index of the material constituting the laminate. 前記光吸収体の屈折率が、前記積層体を構成する材料の屈折率よりも0.1以上小さい、請求項5に記載の表示パネル。 The display panel of claim 5, wherein the refractive index of the light absorber is at least 0.1 lower than the refractive index of the material constituting the laminate. 前記光吸収体の屈折率が、前記積層体を構成する材料の屈折率よりも1.5以上小さい、請求項9に記載の表示パネル。 The display panel of claim 9, wherein the refractive index of the light absorber is at least 1.5 lower than the refractive index of the material constituting the laminate. 前記光吸収体は、有機化合物または無機化合物である、請求項1から3の何れか1項に記載の表示パネル。 A display panel according to any one of claims 1 to 3, wherein the light absorber is an organic compound or an inorganic compound. 前記光吸収体は、ピリジン骨格を含む、請求項1から3の何れか1項に記載の表示パネル。 A display panel according to any one of claims 1 to 3, wherein the light absorber includes a pyridine skeleton. 前記光吸収体は、変性アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、シアノアクリレート系樹脂、フルオロエチレン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリビニルアルコール(PVA)およびポリ塩化ビニル(PVC)の中から選択される一つ以上を含む、請求項1から3の何れか1項に記載の表示パネル。 The display panel of any one of claims 1 to 3, wherein the light absorber includes one or more selected from the group consisting of modified acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, cyanoacrylate resin, fluoroethylene resin, silicone resin, polyvinyl alcohol (PVA), and polyvinyl chloride (PVC). 前記光吸収体は、アゾ系の染料、キノン系の染料、インジゴ系の染料、ポリメチン系の染料、スチリル系の染料、アゾ系の顔料、キノン系の顔料、インジゴ系の顔料、ポリメチン系の顔料およびスチリル系の顔料の中から選択される一つ以上を含む、請求項1から3の何れか1項に記載の表示パネル。 The display panel of any one of claims 1 to 3, wherein the light absorber includes one or more selected from the group consisting of azo dyes, quinone dyes, indigo dyes, polymethine dyes, styryl dyes, azo pigments, quinone pigments, indigo pigments, polymethine pigments, and styryl pigments. 前記光吸収体は、炭素材料、金属硫化物および前記可視光領域において吸収を有する半導体材料から選択される一つ以上を含む、請求項1から3の何れか1項に記載の表示パネル。 A display panel according to any one of claims 1 to 3, wherein the light absorber includes one or more selected from the group consisting of carbon materials, metal sulfides, and semiconductor materials that absorb light in the visible light region. 前記絶縁膜は、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、酸窒化シリコン膜および酸化アルミニウム膜の何れかを含む、請求項4に記載の表示パネル。 The display panel of claim 4, wherein the insulating film includes any one of a silicon oxide film, a silicon nitride film, a silicon oxynitride film, and an aluminum oxide film. 前記島状の積層体の側壁に垂直な方向に、前記絶縁膜が3nm以上、100nm以下の厚さで形成されている、請求項4に記載の表示パネル。 The display panel of claim 4, wherein the insulating film is formed to a thickness of 3 nm or more and 100 nm or less in a direction perpendicular to the sidewalls of the island-shaped laminate.
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