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JP7628544B2 - Polarizing plate, polarizing plate with retardation layer, and image display device - Google Patents

Polarizing plate, polarizing plate with retardation layer, and image display device Download PDF

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JP7628544B2 JP2022531749A JP2022531749A JP7628544B2 JP 7628544 B2 JP7628544 B2 JP 7628544B2 JP 2022531749 A JP2022531749 A JP 2022531749A JP 2022531749 A JP2022531749 A JP 2022531749A JP 7628544 B2 JP7628544 B2 JP 7628544B2
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Description

本発明は、偏光板、位相差層付偏光板および画像表示装置に関する。 The present invention relates to a polarizing plate, a polarizing plate with a retardation layer, and an image display device.

近年、液晶表示装置およびエレクトロルミネセンス(EL)表示装置(例えば、有機EL表示装置、無機EL表示装置)に代表される画像表示装置が急速に普及している。画像表示装置には、通常、偏光子と該偏光子を保護する保護層とを含む偏光板および位相差板が用いられている。実用的には、偏光板と位相差板とを一体化した位相差層付偏光板が広く用いられている(例えば、特許文献1)。最近、画像表示装置の薄型化への要望が高まるのに伴い、偏光板および位相差層付偏光板についても薄型化の要望が高まっている。In recent years, image display devices such as liquid crystal display devices and electroluminescence (EL) display devices (e.g., organic EL display devices, inorganic EL display devices) have rapidly become widespread. Image display devices typically use a polarizing plate and a retardation plate that include a polarizer and a protective layer that protects the polarizer. In practice, a polarizing plate with a retardation layer that integrates a polarizing plate and a retardation plate is widely used (e.g., Patent Document 1). Recently, with the increasing demand for thinner image display devices, there is also an increasing demand for thinner polarizing plates and polarizing plates with a retardation layer.

偏光板を薄型化する方法として、保護層の厚みを薄くすること、および、偏光子の片側のみに保護層を積層することが提案されている。しかしながら、これらの方法では偏光子を十分に保護することができず、加熱によりクラックが生じやすくなるという問題がある。 As methods for making polarizing plates thinner, it has been proposed to reduce the thickness of the protective layer and to laminate a protective layer on only one side of the polarizer. However, these methods do not provide sufficient protection for the polarizer, and there is a problem in that cracks are easily generated when heated.

特開2015-210474号公報JP 2015-210474 A

本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、非常に薄いにもかかわらず、加熱によるクラックの発生が抑制された偏光板を提供することにある。The present invention has been made to solve the above-mentioned problems in the conventional art, and its main objective is to provide a polarizing plate which, despite being very thin, is less susceptible to cracking due to heating.

本発明の1つの局面によれば、二色性物質を含むポリビニルアルコール系樹脂フィルムで構成された偏光子と、該偏光子の一方の側に配置された保護層と、を有する偏光板であって、該偏光子が、その単体透過率をx%とし、該ポリビニルアルコール系樹脂の複屈折をyとした場合に、下記式(1)を満たし、該保護層が、10μm以下の厚みを有する樹脂膜で構成されている、偏光板が提供される。
y<-0.011x+0.525 (1)
本発明の1つの局面によれば、二色性物質を含むポリビニルアルコール系樹脂フィルムで構成された偏光子と、該偏光子の一方の側に配置された保護層と、を有する偏光板であって、該偏光子が、その単体透過率をx%とし、該ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの面内位相差をznmとした場合に、下記式(2)を満たし、該保護層が、10μm以下の厚みを有する樹脂膜で構成されている、偏光板が提供される。
z<-60x+2875 (2)
本発明の1つの局面によれば、二色性物質を含むポリビニルアルコール系樹脂フィルムで構成された偏光子と、該偏光子の一方の側に配置された保護層と、を有する偏光板であって、該偏光子が、その単体透過率をx%とし、該ポリビニルアルコール系樹脂の配向関数をfとした場合に、下記式(3)を満たし、該保護層が、10μm以下の厚みを有する樹脂膜で構成されている、偏光板が提供される。
f<-0.018x+1.11 (3)
本発明の1つの局面によれば、二色性物質を含むポリビニルアルコール系樹脂フィルムで構成された偏光子と、該偏光子の一方の側に配置された保護層と、を有する偏光板であって、該偏光子の突き刺し強度が、30gf/μm以上であり、該保護層が、10μm以下の厚みを有する樹脂膜で構成されている、偏光板が提供される。
1つの実施形態において、上記樹脂膜が、エポキシ樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂およびポリウレタン系樹脂から選択される少なくとも1種の樹脂を含む。
1つの実施形態において、上記樹脂膜が、エポキシ樹脂の光カチオン硬化物で構成されており、上記樹脂膜の軟化温度が、100℃以上である。
1つの実施形態において、上記樹脂膜が、エポキシ樹脂の有機溶媒溶液の塗布膜の固化物で構成されており、上記樹脂膜の軟化温度が、100℃以上である。
1つの実施形態において、上記樹脂膜が、熱可塑性(メタ)アクリル系樹脂の有機溶媒溶液の塗布膜の固化物で構成されており、上記樹脂膜の軟化温度が、100℃以上である。
1つの実施形態において、上記熱可塑性(メタ)アクリル系樹脂が、ラクトン環単位、無水グルタル酸単位、グルタルイミド単位、無水マレイン酸単位およびマレイミド単位からなる群から選択される少なくとも1つを有する。
1つの実施形態において、上記保護層のヨウ素吸着量が、25重量%以下である。
1つの実施形態において、上記偏光子の厚みが、10μm以下である。
1つの実施形態において、上記偏光板は、ロール状に巻回されている。
本発明の別の局面によれば、上記偏光板と、位相差層とを含み、該位相差層が、上記偏光子の上記保護層が配置された側と反対側に配置されている。
1つの実施形態において、上記位相差層が、粘着剤層を介して上記偏光板に積層されている。
1つの実施形態において、上記位相差層のRe(550)が100nm~190nmであり、Re(450)/Re(550)が0.8以上1未満であり、上記位相差層の遅相軸と上記偏光子の吸収軸とのなす角度が40°~50°である。
本発明の別の局面によれば、上記偏光板または位相差層付偏光板を備える、画像表示装置が提供される。
According to one aspect of the present invention, there is provided a polarizing plate having a polarizer constituted by a polyvinyl alcohol-based resin film containing a dichroic material and a protective layer arranged on one side of the polarizer, in which the polarizer satisfies the following formula (1) when the single transmittance of the polarizer is x% and the birefringence of the polyvinyl alcohol-based resin is y, and the protective layer is constituted by a resin film having a thickness of 10 μm or less.
y<-0.011x+0.525 (1)
According to one aspect of the present invention, there is provided a polarizing plate having a polarizer constituted by a polyvinyl alcohol-based resin film containing a dichroic material and a protective layer arranged on one side of the polarizer, in which the polarizer satisfies the following formula (2) when its single transmittance is x% and the in-plane retardation of the polyvinyl alcohol-based resin film is z nm, and the protective layer is constituted by a resin film having a thickness of 10 μm or less.
z<-60x+2875 (2)
According to one aspect of the present invention, there is provided a polarizing plate having a polarizer constituted by a polyvinyl alcohol-based resin film containing a dichroic material and a protective layer arranged on one side of the polarizer, in which the polarizer satisfies the following formula (3) when its single transmittance is x% and an orientation function of the polyvinyl alcohol-based resin is f, and the protective layer is constituted by a resin film having a thickness of 10 μm or less.
f<-0.018x+1.11 (3)
According to one aspect of the present invention, there is provided a polarizing plate having a polarizer composed of a polyvinyl alcohol-based resin film containing a dichroic material and a protective layer disposed on one side of the polarizer, wherein the polarizer has a piercing strength of 30 gf/μm or more and the protective layer is composed of a resin film having a thickness of 10 μm or less.
In one embodiment, the resin film contains at least one resin selected from an epoxy resin, a (meth)acrylic resin, a polyester resin, and a polyurethane resin.
In one embodiment, the resin film is made of a photocationically cured epoxy resin, and the softening temperature of the resin film is 100° C. or higher.
In one embodiment, the resin film is formed of a solidified coating of an organic solvent solution of an epoxy resin, and the softening temperature of the resin film is 100° C. or higher.
In one embodiment, the resin film is formed from a solidified coating of a solution of a thermoplastic (meth)acrylic resin in an organic solvent, and the softening temperature of the resin film is 100° C. or higher.
In one embodiment, the thermoplastic (meth)acrylic resin has at least one selected from the group consisting of a lactone ring unit, a glutaric anhydride unit, a glutarimide unit, a maleic anhydride unit, and a maleimide unit.
In one embodiment, the protective layer has an iodine adsorption amount of 25% by weight or less.
In one embodiment, the polarizer has a thickness of 10 μm or less.
In one embodiment, the polarizing plate is wound in a roll shape.
According to another aspect of the present invention, the liquid crystal display device includes the polarizing plate and a retardation layer, the retardation layer being disposed on the side of the polarizer opposite to the side on which the protective layer is disposed.
In one embodiment, the retardation layer is laminated on the polarizing plate via a pressure-sensitive adhesive layer.
In one embodiment, the retardation layer has an Re(550) of 100 nm to 190 nm, an Re(450)/Re(550) of 0.8 or more and less than 1, and an angle between the slow axis of the retardation layer and the absorption axis of the polarizer is 40° to 50°.
According to another aspect of the present invention, there is provided an image display device comprising the above polarizing plate or the retardation layer-attached polarizing plate.

本発明の偏光板によれば、ポリビニルアルコール(PVA)系樹脂の配向状態が制御された偏光子を採用することにより、保護層として極めて薄い樹脂膜を用いた場合であっても、加熱時のクラックの発生が抑制され得る。また、このような偏光子は、実用上許容可能な光学特性を発揮し得ることから、本発明の偏光板は、非常に薄いにもかかわらず、実用上許容可能な光学特性と加熱時のクラック発生の抑制とを両立し得る。According to the polarizing plate of the present invention, by adopting a polarizer in which the orientation state of the polyvinyl alcohol (PVA) resin is controlled, the occurrence of cracks during heating can be suppressed even when an extremely thin resin film is used as a protective layer. Furthermore, since such a polarizer can exhibit practically acceptable optical properties, the polarizing plate of the present invention, despite being very thin, can achieve both practically acceptable optical properties and suppression of the occurrence of cracks during heating.

本発明の1つの実施形態による偏光板の概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of a polarizing plate according to one embodiment of the present invention. 偏光子の作製における加熱ロールを用いた乾燥収縮処理の一例を示す概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of a drying shrinkage treatment using a heating roll in the production of a polarizer. 本発明の1つの実施形態による位相差層付偏光板の概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of a retardation layer-attached polarizing plate according to one embodiment of the present invention. 本発明の1つの実施形態による位相差層付偏光板の概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of a retardation layer-attached polarizing plate according to one embodiment of the present invention. 実施例および比較例で用いた偏光子の単体透過率とPVA系樹脂の複屈折との関係を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the single transmittance of a polarizer and the birefringence of a PVA-based resin used in Examples and Comparative Examples. 実施例および比較例で用いた偏光子の単体透過率とPVA系樹脂フィルムの面内位相差との関係を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the single transmittance of a polarizer and the in-plane retardation of a PVA-based resin film used in Examples and Comparative Examples. 実施例および比較例で用いた偏光子の単体透過率とPVA系樹脂の配向関数との関係を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the single transmittance of the polarizer used in the examples and comparative examples and the orientation function of the PVA-based resin.

以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。また、各実施形態は、適宜組み合わせることができる。 The following describes embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to these embodiments. In addition, each embodiment can be combined as appropriate.

(用語および記号の定義)
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
(1)屈折率(nx、ny、nz)
「nx」は面内の屈折率が最大になる方向(すなわち、遅相軸方向)の屈折率であり、「ny」は面内で遅相軸と直交する方向(すなわち、進相軸方向)の屈折率であり、「nz」は厚み方向の屈折率である。
(2)面内位相差(Re)
「Re(λ)」は、23℃における波長λnmの光で測定した面内位相差である。例えば、「Re(550)」は、23℃における波長550nmの光で測定した面内位相差である。Re(λ)は、層(フィルム)の厚みをd(nm)としたとき、式:Re(λ)=(nx-ny)×dによって求められる。
(3)厚み方向の位相差(Rth)
「Rth(λ)」は、23℃における波長λnmの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Rth(550)」は、23℃における波長550nmの光で測定した厚み方向の位相差である。Rth(λ)は、層(フィルム)の厚みをd(nm)としたとき、式:Rth(λ)=(nx-nz)×dによって求められる。
(4)Nz係数
Nz係数は、Nz=Rth/Reによって求められる。
(5)角度
本明細書において角度に言及するときは、当該角度は基準方向に対して時計回りおよび反時計回りの両方を包含する。したがって、例えば「45°」は±45°を意味する。
(Definition of terms and symbols)
The definitions of terms and symbols used in this specification are as follows.
(1) Refractive index (nx, ny, nz)
"nx" is the refractive index in the direction in which the in-plane refractive index is maximum (i.e., the slow axis direction), "ny" is the refractive index in the direction perpendicular to the slow axis in the plane (i.e., the fast axis direction), and "nz" is the refractive index in the thickness direction.
(2) In-plane phase difference (Re)
"Re(λ)" is the in-plane retardation measured with light having a wavelength of λ nm at 23° C. For example, "Re(550)" is the in-plane retardation measured with light having a wavelength of 550 nm at 23° C. Re(λ) is calculated by the formula: Re(λ)=(nx−ny)×d, where d (nm) is the thickness of the layer (film).
(3) Retardation in the thickness direction (Rth)
"Rth(λ)" is the retardation in the thickness direction measured with light having a wavelength of λ nm at 23° C. For example, "Rth(550)" is the retardation in the thickness direction measured with light having a wavelength of 550 nm at 23° C. Rth(λ) is calculated by the formula: Rth(λ)=(nx-nz)×d, where d (nm) is the thickness of the layer (film).
(4) Nz Coefficient The Nz coefficient is calculated by Nz=Rth/Re.
(5) Angle When referring to an angle in this specification, the angle includes both clockwise and counterclockwise angles with respect to a reference direction. Thus, for example, "45°" means ±45°.

A.偏光板
A-1.偏光板の概要
図1は、本発明の1つの実施形態による偏光板の概略断面図である。図示例の偏光板100は、偏光子10と、偏光子10の一方の側に配置された第1の保護層20と、他方の側に配置された第2の保護層30と、を有する。偏光子10は、二色性物質を含むポリビニルアルコール系樹脂フィルムで構成されている。第1の保護層20は、10μm以下の厚みを有する樹脂膜で構成されている。第2の保護層30は、目的に応じて省略され得る。また、図示しないが、必要に応じて、第1の保護層20の偏光子10と反対側にはハードコート層が設けられ得、第1の保護層20と偏光子10との間には易接着層が設けられ得る。
A. Polarizing Plate A-1. Overview of Polarizing Plate FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a polarizing plate according to one embodiment of the present invention. The polarizing plate 100 of the illustrated example has a polarizer 10, a first protective layer 20 arranged on one side of the polarizer 10, and a second protective layer 30 arranged on the other side. The polarizer 10 is composed of a polyvinyl alcohol-based resin film containing a dichroic material. The first protective layer 20 is composed of a resin film having a thickness of 10 μm or less. The second protective layer 30 may be omitted depending on the purpose. In addition, although not shown, a hard coat layer may be provided on the side of the first protective layer 20 opposite the polarizer 10 as necessary, and an easy-adhesion layer may be provided between the first protective layer 20 and the polarizer 10.

1つの実施形態において、偏光子10は、単体透過率をx%とし、当該偏光子を構成するポリビニルアルコール系樹脂の複屈折をyとした場合に、下記式(1)を満たす。1つの実施形態において、偏光子10は、単体透過率をx%とし、当該偏光子を構成するポリビニルアルコール系樹脂フィルムの面内位相差をznmとした場合に、下記式(2)を満たす。1つの実施形態において、偏光子10は、単体透過率をx%とし、当該偏光子を構成するポリビニルアルコール系樹脂の配向関数をfとした場合に、下記式(3)を満たす。1つの実施形態において、偏光子の突き刺し強度が、30gf/μm以上である。
y<-0.011x+0.525 (1)
z<-60x+2875 (2)
f< -0.018x+1.11 (3)
In one embodiment, the polarizer 10 satisfies the following formula (1) when the single transmittance is x% and the birefringence of the polyvinyl alcohol-based resin constituting the polarizer is y. In one embodiment, the polarizer 10 satisfies the following formula (2) when the single transmittance is x% and the in-plane retardation of the polyvinyl alcohol-based resin film constituting the polarizer is z nm. In one embodiment, the polarizer 10 satisfies the following formula (3) when the single transmittance is x% and the orientation function of the polyvinyl alcohol-based resin constituting the polarizer is f. In one embodiment, the piercing strength of the polarizer is 30 gf/μm or more.
y<-0.011x+0.525 (1)
z<-60x+2875 (2)
f< -0.018x+1.11 (3)

偏光板100の総厚みは、例えば20μm以下であり、好ましくは15μm以下であり、さらに好ましくは12μm以下であり、さらにより好ましくは10μm以下である。また、偏光板の総厚みは、例えば、5μm以上である。The total thickness of the polarizing plate 100 is, for example, 20 μm or less, preferably 15 μm or less, more preferably 12 μm or less, and even more preferably 10 μm or less. The total thickness of the polarizing plate is, for example, 5 μm or more.

偏光板を構成する各層または光学フィルムは、接着層を介して貼り合わせられていてもよく、接着層を介することなく密着して形成されていてもよい。接着層としては、接着剤層、粘着剤層が挙げられる。本発明の実施形態においては、接着剤層が好適に採用され得る。このような構成であれば、偏光板のさらなる薄型化が可能となる。接着剤層を構成する接着剤としては、代表的には、活性エネルギー線硬化型接着剤(例えば、紫外線硬化型接着剤)が挙げられる。Each layer or optical film constituting the polarizing plate may be bonded via an adhesive layer, or may be formed in close contact without an adhesive layer. Examples of the adhesive layer include an adhesive layer and a pressure-sensitive adhesive layer. In the embodiment of the present invention, an adhesive layer can be preferably used. With such a configuration, it is possible to further reduce the thickness of the polarizing plate. Representative examples of the adhesive constituting the adhesive layer include active energy ray curing adhesives (e.g., ultraviolet ray curing adhesives).

本発明の実施形態において偏光板の厚みはきわめて薄くなり得る。そのため、フレキシブルな画像表示装置に好適に適用され得る。より好ましくは、画像表示装置は、湾曲した形状(実質的には、湾曲した表示画面)を有し、および/または、屈曲もしくは折り曲げ可能である。画像表示装置の具体例としては、液晶表示装置、エレクトロルミネセンス(EL)表示装置(例えば、有機EL表示装置、無機EL表示装置)が挙げられる。言うまでもなく、上記の説明は、本発明の偏光板が通常の画像表示装置に適用されることを妨げるものではない。In the embodiment of the present invention, the polarizing plate can be extremely thin. Therefore, it can be suitably applied to a flexible image display device. More preferably, the image display device has a curved shape (essentially a curved display screen) and/or can be bent or folded. Specific examples of image display devices include liquid crystal display devices and electroluminescence (EL) display devices (e.g., organic EL display devices, inorganic EL display devices). Needless to say, the above description does not prevent the polarizing plate of the present invention from being applied to a normal image display device.

上記偏光板は、60℃および95%RHの環境下で500時間放置した後の単体透過率Tsの変化量ΔTsおよび偏光度Pの変化量ΔPが、それぞれ非常に小さいことが好ましい。単体透過率Tsは、例えば紫外可視分光光度計(日本分光社製、製品名「V7100」)を用いて測定され得る。偏光度Pは、紫外可視分光光度計を用いて測定される単体透過率(Ts)、平行透過率(Tp)および直交透過率(Tc)から、次式により算出される。
偏光度(P)(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2×100
なお、上記Ts、TpおよびTcは、JIS Z 8701の2度視野(C光源)により測定し、視感度補正を行ったY値である。また、TsおよびPは、実質的には偏光子の特性である。ΔTsおよびΔPは、それぞれ下記式により求められる。
ΔTs(%)=Ts500-Ts
ΔP(%)=P500-P
ここで、Tsは放置前(初期)の単体透過率であり、Ts500は放置後の単体透過率であり、Pは放置前(初期)の偏光度であり、P500は放置後の偏光度である。ΔTsは、好ましくは3.0%以下であり、より好ましくは2.5%以下であり、さらに好ましくは2.0%以下であり、さらにより好ましくは1.5%以下である。ΔPは、好ましくは-5.0%~0%であり、より好ましくは-3.0%~0%であり、さらに好ましくは-1.0%~0%であり、さらにより好ましくは-0.5%~0%である。
It is preferable that the polarizing plate has a very small change ΔTs in the single transmittance Ts and a very small change ΔP in the degree of polarization P after being left for 500 hours in an environment of 60° C. and 95% RH. The single transmittance Ts can be measured, for example, using a UV-Vis spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation, product name "V7100"). The degree of polarization P is calculated from the single transmittance (Ts), parallel transmittance (Tp), and cross transmittance (Tc) measured using the UV-Vis spectrophotometer according to the following formula.
Polarization degree (P) (%) = {(Tp-Tc)/(Tp+Tc)} 1/2 ×100
The above Ts, Tp and Tc are Y values measured using a 2-degree visual field (C light source) according to JIS Z 8701 and corrected for visibility. Ts and P are essentially characteristics of a polarizer. ΔTs and ΔP can be calculated by the following formulas.
ΔTs (%) = Ts 500 - Ts 0
ΔP (%) = P 500 - P 0
Here, Ts 0 is the single transmittance before being left alone (initial), Ts 500 is the single transmittance after being left alone, P 0 is the polarization degree before being left alone (initial), and P 500 is the polarization degree after being left alone. ΔTs is preferably 3.0% or less, more preferably 2.5% or less, even more preferably 2.0% or less, and even more preferably 1.5% or less. ΔP is preferably -5.0% to 0%, more preferably -3.0% to 0%, even more preferably -1.0% to 0%, and even more preferably -0.5% to 0%.

本発明の偏光板は、枚葉状であってもよく長尺状であってもよい。本明細書において「長尺状」とは、幅に対して長さが十分に長い細長形状を意味し、例えば、幅に対して長さが10倍以上、好ましくは20倍以上の細長形状を含む。長尺状の偏光板は、ロール状に巻回可能である。The polarizing plate of the present invention may be in the form of a sheet or a long sheet. In this specification, "long sheet" means a long and narrow shape whose length is sufficiently long relative to its width, and includes, for example, a long and narrow shape whose length is 10 times or more, preferably 20 times or more, relative to its width. A long and narrow polarizing plate can be wound into a roll.

A-2.偏光子
上記偏光子は、二色性物質を含むポリビニルアルコール系樹脂フィルムで構成される。1つの実施形態において、偏光子は、単体透過率をx%とし、当該偏光子を構成するポリビニルアルコール系樹脂の複屈折をyとした場合に、下記式(1)を満たす。1つの実施形態において、偏光子は、単体透過率をx%とし、当該偏光子を構成するポリビニルアルコール系樹脂フィルムの面内位相差をznmとした場合に、下記式(2)を満たす。1つの実施形態において、偏光子は、単体透過率をx%とし、当該偏光子を構成するポリビニルアルコール系樹脂の配向関数をfとした場合に、下記式(3)を満たす。1つの実施形態において、偏光子の突き刺し強度が、30gf/μm以上である。
y<-0.011x+0.525 (1)
z<-60x+2875 (2)
f<-0.018x+1.11 (3)
A-2. Polarizer The polarizer is composed of a polyvinyl alcohol-based resin film containing a dichroic material. In one embodiment, the polarizer satisfies the following formula (1) when the single transmittance is x% and the birefringence of the polyvinyl alcohol-based resin constituting the polarizer is y. In one embodiment, the polarizer satisfies the following formula (2) when the single transmittance is x% and the in-plane retardation of the polyvinyl alcohol-based resin film constituting the polarizer is z nm. In one embodiment, the polarizer satisfies the following formula (3) when the single transmittance is x% and the orientation function of the polyvinyl alcohol-based resin constituting the polarizer is f. In one embodiment, the piercing strength of the polarizer is 30 gf/μm or more.
y<-0.011x+0.525 (1)
z<-60x+2875 (2)
f<-0.018x+1.11 (3)

二色性物質を含むポリビニルアルコール系樹脂フィルムで構成される偏光子において、PVA系樹脂の複屈折(以下、PVAの複屈折またはPVAのΔnと表記する)、PVA系樹脂フィルムの面内位相差(以下、「PVAの面内位相差」と表記する)、PVA系樹脂の配向関数(以下、「PVAの配向関数」と表記する)および偏光子の突き刺し強度はいずれも、偏光子を構成するPVA系樹脂の分子鎖の配向度と関連する値である。具体的には、PVAの複屈折、面内位相差および配向関数は、配向度の上昇に伴って大きい値となり得、突き刺し強度は、配向度の上昇に伴って低下し得る。本発明で用いられる偏光子(すなわち、上記式(1)~(3)または突き刺し強度を満たす偏光子)は、PVA系樹脂の分子鎖の吸収軸方向への配向が従来の偏光子よりも緩やかであることに起因して、吸収軸方向の加熱収縮が抑制される。その結果、極めて薄型でありながら、加熱時のクラック発生が抑制された偏光板を得ることができる。また、このような偏光子は可撓性にも優れることから、可撓性および折り曲げ耐久性に優れた偏光板を得ることができ、好ましくは湾曲した画像表示装置、より好ましくは折り曲げ可能な画像表示装置、さらに好ましくは折り畳み可能な画像表示装置に適用され得る。従来、配向度が低い偏光子では許容可能な光学特性(代表的には、単体透過率および偏光度)を得るのが困難であったところ、本発明で用いられる偏光子は、従来よりも低いPVA系樹脂の配向度と許容可能な光学特性とを両立することができる。In a polarizer made of a polyvinyl alcohol-based resin film containing a dichroic material, the birefringence of the PVA-based resin (hereinafter referred to as the birefringence of PVA or Δn of PVA), the in-plane retardation of the PVA-based resin film (hereinafter referred to as the "in-plane retardation of PVA"), the orientation function of the PVA-based resin (hereinafter referred to as the "orientation function of PVA"), and the piercing strength of the polarizer are all values related to the degree of orientation of the molecular chains of the PVA-based resin constituting the polarizer. Specifically, the birefringence, in-plane retardation, and orientation function of PVA can become larger with an increase in the degree of orientation, and the piercing strength can decrease with an increase in the degree of orientation. The polarizer used in the present invention (i.e., a polarizer satisfying the above formulas (1) to (3) or the piercing strength) is suppressed from thermally shrinking in the absorption axis direction due to the fact that the orientation of the molecular chains of the PVA-based resin in the absorption axis direction is gentler than that of conventional polarizers. As a result, a polarizing plate that is extremely thin and yet suppresses cracking during heating can be obtained. In addition, since such a polarizer has excellent flexibility, a polarizing plate with excellent flexibility and bending durability can be obtained, and it can be preferably applied to a curved image display device, more preferably a bendable image display device, and even more preferably a foldable image display device. Conventionally, it has been difficult to obtain acceptable optical properties (typically, single transmittance and polarization degree) with a polarizer having a low degree of orientation, but the polarizer used in the present invention can achieve both a lower degree of orientation of the PVA-based resin than conventional ones and acceptable optical properties.

上記偏光子は、好ましくは下記式(1a)および/または式(2a)を満たし、より好ましくは下記式(1b)および/または式(2b)を満たす。
-0.004x+0.18<y<-0.011x+0.525 (1a)
-0.003x+0.145<y<-0.011x+0.520 (1b)
-40x+1800<z<-60x+2875 (2a)
-30x+1450<z<-60x+2850 (2b)
The polarizer preferably satisfies the following formula (1a) and/or formula (2a), and more preferably satisfies the following formula (1b) and/or formula (2b).
-0.004x+0.18<y<-0.011x+0.525 (1a)
-0.003x+0.145<y<-0.011x+0.520 (1b)
-40x+1800<z<-60x+2875 (2a)
-30x+1450<z<-60x+2850 (2b)

本明細書において、上記PVAの面内位相差は、23℃、波長1000nmにおけるPVA系樹脂フィルムの面内位相差値である。近赤外領域を測定波長とすることにより、偏光子中のヨウ素の吸収の影響を排除することができ、位相差を測定することが可能となる。また、上記PVAの複屈折(面内複屈折)は、PVAの面内位相差を偏光子の厚み(nm)で割った値である。In this specification, the in-plane retardation of the PVA is the in-plane retardation value of the PVA-based resin film at 23°C and a wavelength of 1000 nm. By using the near-infrared region as the measurement wavelength, the influence of iodine absorption in the polarizer can be eliminated, making it possible to measure the retardation. In addition, the birefringence (in-plane birefringence) of the PVA is the value obtained by dividing the in-plane retardation of the PVA by the thickness (nm) of the polarizer.

PVAの面内位相差は、下記のように評価する。まず、波長850nm以上の複数の波長で位相差値を測定し、測定された位相差値:R(λ)と波長:λのプロットを行い、これを下記のセルマイヤー式に最小二乗法でフィッティングさせる。ここで、AおよびBはフィッティングパラメータであり最小二乗法により決定される係数である。
R(λ)=A+B/(λ-600
このとき、この位相差値R(λ)は、波長依存性のないPVAの面内位相差(Rpva)と、波長依存性の強いヨウ素の面内位相差値(Ri)とに下記のように分離することができる。
Rpva= A
Ri = B/(λ-600
この分離式に基づいて、波長λ=1000nmにおけるPVAの面内位相差(すなわちRpva)を算出することができる。なお、当該PVAの面内位相差の評価方法については、特許第5932760号公報にも記載されており、必要に応じて、参照することができる。
また、この位相差を厚みで割ることでPVAの複屈折(Δn)を算出することができる。
The in-plane retardation of PVA is evaluated as follows: First, retardation values are measured at multiple wavelengths of 850 nm or more, and the measured retardation values: R(λ) are plotted against wavelengths: λ, which are then fitted to the Sellmeier equation below by the least squares method, where A and B are fitting parameters and are coefficients determined by the least squares method.
R(λ)=A+B/(λ 2 -600 2 )
In this case, the retardation value R(λ) can be separated into an in-plane retardation value (Rpva) of PVA that has no wavelength dependency and an in-plane retardation value (Ri) of iodine that has strong wavelength dependency, as shown below.
Rpva = A
Ri = B/(λ 2 -600 2 )
Based on this separation formula, the in-plane retardation (i.e., Rpva) of PVA at a wavelength λ=1000 nm can be calculated. The method for evaluating the in-plane retardation of PVA is also described in Japanese Patent No. 5932760, which can be referred to as necessary.
Moreover, the birefringence (Δn) of the PVA can be calculated by dividing this retardation by the thickness.

上記波長1000nmにおけるPVAの面内位相差を測定する市販の装置としては、王子計測社製のKOBRA-WR/IRシリーズ、KOBRA-31X/IRシリーズ等が挙げられる。 Commercially available devices for measuring the in-plane retardation of PVA at the above-mentioned wavelength of 1000 nm include the KOBRA-WR/IR series and KOBRA-31X/IR series manufactured by Oji Measurement Co., Ltd.

本発明で用いられる偏光子の配向関数(f)は、好ましくは下記式(3a)を満たし、より好ましくは下記式(3b)を満たす。配向関数が小さすぎると、許容可能な単体透過率および/または偏光度が得られない場合がある。
-0.01x+0.50<f<-0.018x+1.11 (3a)
-0.01x+0.57<f<-0.018x+1.1 (3b)
The orientation function (f) of the polarizer used in the present invention preferably satisfies the following formula (3a), and more preferably satisfies the following formula (3b): If the orientation function is too small, an acceptable single-unit transmittance and/or degree of polarization may not be obtained.
-0.01x+0.50<f<-0.018x+1.11 (3a)
-0.01x+0.57<f<-0.018x+1.1 (3b)

配向関数(f)は、例えば、フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR)を用い、偏光を測定光として、全反射減衰分光(ATR:attenuated total reflection)測定により求められる。具体的には、偏光子を密着させる結晶子はゲルマニウムを用い、測定光の入射角は45°入射とし、入射させる偏光された赤外光(測定光)は、ゲルマニウム結晶のサンプルを密着させる面に平行に振動する偏光(s偏光)とし、測定光の偏光方向に対し、偏光子の延伸方向を平行および垂直に配置した状態で測定を実施し、得られた吸光度スペクトルの2941cm-1の強度を用いて、下記式に従って算出される。ここで、強度Iは、3330cm-1を参照ピークとして、2941cm-1/3330cm-1の値である。なお、f=1のとき完全配向、f=0のときランダムとなる。また、2941cm-1のピークは、偏光子中のPVAの主鎖(-CH-)の振動に起因する吸収であると考えられている。
f=(3<cosθ>-1)/2
=(1-D)/[c(2D+1)]
=-2×(1-D)/(2D+1)
ただし、
c=(3cosβ-1)/2で、2941cm-1の振動の場合は、β=90°である。
θ:延伸方向に対する分子鎖の角度
β:分子鎖軸に対する遷移双極子モーメントの角度
D=(I)/(I//) (この場合、PVA分子が配向するほどDが大きくなる)
:測定光の偏光方向と偏光子の延伸方向が垂直の場合の吸収強度
// :測定光の偏光方向と偏光子の延伸方向が平行の場合の吸収強度
The orientation function (f) is obtained, for example, by using a Fourier transform infrared spectrophotometer (FT-IR), measuring polarized light as the measurement light, and measuring attenuated total reflection spectroscopy (ATR). Specifically, germanium is used as the crystallite to which the polarizer is attached, the angle of incidence of the measurement light is 45° incidence, and the polarized infrared light (measurement light) to be incident is polarized light (s-polarized light) that vibrates parallel to the surface to which the germanium crystal sample is attached, and the measurement is performed in a state in which the stretching direction of the polarizer is arranged parallel and perpendicular to the polarization direction of the measurement light, and the intensity of 2941 cm −1 of the obtained absorbance spectrum is used to calculate according to the following formula. Here, the intensity I is a value of 2941 cm −1 /3330 cm −1 , with 3330 cm −1 as the reference peak. Note that when f=1, it is fully oriented, and when f=0, it is random. The peak at 2941 cm −1 is believed to be absorption caused by vibration of the main chain (—CH 2 —) of PVA in the polarizer.
f=(3<cos 2 θ>-1)/2
=(1-D)/[c(2D+1)]
=-2×(1-D)/(2D+1)
however,
c=(3 cos 2 β-1)/2, and for the 2941 cm −1 vibration, β=90°.
θ: Angle of molecular chain with respect to stretching direction β: Angle of transition dipole moment with respect to molecular chain axis D = (I ) / (I // ) (In this case, D becomes larger as the PVA molecules are oriented.)
I : Absorption intensity when the polarization direction of the measurement light and the stretching direction of the polarizer are perpendicular I // : Absorption intensity when the polarization direction of the measurement light and the stretching direction of the polarizer are parallel

偏光子の厚みは、好ましくは10μm以下であり、より好ましくは8μm以下である。偏光子の厚みの下限は、例えば1μmであり得る。偏光子の厚みは、1つの実施形態においては2μm~10μm、別の実施形態においては2μm~8μmであってもよい。偏光子の厚みをこのように非常に薄くすることにより、熱収縮を非常に小さくすることができる。このような構成が、加熱によるクラック発生の抑制にも寄与し得ると推察される。The thickness of the polarizer is preferably 10 μm or less, and more preferably 8 μm or less. The lower limit of the polarizer thickness may be, for example, 1 μm. In one embodiment, the thickness of the polarizer may be 2 μm to 10 μm, and in another embodiment, 2 μm to 8 μm. By making the polarizer thickness so thin, it is possible to make the thermal shrinkage very small. It is presumed that such a configuration may also contribute to suppressing the occurrence of cracks due to heating.

偏光子は、好ましくは、波長380nm~780nmのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光子の単体透過率は、好ましくは40.0%以上であり、より好ましくは41.0%以上である。単体透過率は、例えば49.0%以下であり得る。偏光子の単体透過率は、1つの実施形態においては40.0%~45.0%である。偏光子の偏光度は、好ましくは99.0%以上であり、より好ましくは99.4%以上である。偏光度は、例えば99.999%以下であり得る。偏光子の偏光度は、1つの実施形態においては99.0%~99.99%である。本発明で用いられる偏光子は、当該偏光子を構成するPVA系樹脂の配向度が従来よりも低く、上記のような面内位相差、複屈折および/または配向関数を有するにもかかわらず、このような実用上許容可能な単体透過率および偏光度を実現できることを1つの特徴とする。これは、後述する製造方法に起因するものと推察される。なお、単体透過率は、代表的には、紫外可視分光光度計を用いて測定し、視感度補正を行なったY値である。偏光度は、代表的には、紫外可視分光光度計を用いて測定して視感度補正を行なった平行透過率Tpおよび直交透過率Tcに基づいて、下記式により求められる。
偏光度(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2×100
The polarizer preferably exhibits absorption dichroism at any wavelength of 380 nm to 780 nm. The single transmittance of the polarizer is preferably 40.0% or more, more preferably 41.0% or more. The single transmittance may be, for example, 49.0% or less. In one embodiment, the single transmittance of the polarizer is 40.0% to 45.0%. The degree of polarization of the polarizer is preferably 99.0% or more, more preferably 99.4% or more. The degree of polarization may be, for example, 99.999% or less. In one embodiment, the degree of polarization of the polarizer is 99.0% to 99.99%. One of the features of the polarizer used in the present invention is that the degree of orientation of the PVA-based resin constituting the polarizer is lower than that of a conventional polarizer, and the polarizer has the above-mentioned in-plane retardation, birefringence, and/or orientation function, yet the polarizer can achieve such practically acceptable single transmittance and degree of polarization. This is presumably due to the manufacturing method described below. The single transmittance is typically a Y value measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer and subjected to luminosity correction. The polarization degree is typically calculated by the following formula based on the parallel transmittance Tp and the crossed transmittance Tc measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer and subjected to luminosity correction.
Degree of polarization (%) = {(Tp-Tc)/(Tp+Tc)} 1/2 ×100

偏光子の突き刺し強度は、例えば30gf/μm以上であり、好ましくは35gf/μm以上であり、より好ましくは40gf/μm以上であり、さらに好ましくは45gf/μm以上であり、特に好ましくは50gf/μm以上である。突き刺し強度の上限は、例えば80gf/μmであり得る。偏光子の突き刺し強度をこのような範囲とすることにより、加熱時に偏光子にクラックが発生すること、および、偏光子が吸収軸方向に沿って裂けることを顕著に抑制することができる。その結果、屈曲性に非常に優れた偏光子(結果として、偏光板)が得られ得る。突き刺し強度は、所定の強さで偏光子を突き刺した時の偏光子の割れ耐性を示す。突き刺し強度は、例えば、圧縮試験機に所定のニードルを装着し、当該ニードルを所定速度で偏光子に突き刺したときに偏光子が割れる強度(破断強度)として表され得る。なお、単位から明らかなとおり、突き刺し強度は、偏光子の単位厚み(1μm)あたりの突き刺し強度を意味する。The piercing strength of the polarizer is, for example, 30 gf/μm or more, preferably 35 gf/μm or more, more preferably 40 gf/μm or more, even more preferably 45 gf/μm or more, and particularly preferably 50 gf/μm or more. The upper limit of the piercing strength can be, for example, 80 gf/μm. By setting the piercing strength of the polarizer in such a range, it is possible to significantly suppress the occurrence of cracks in the polarizer when heated and the polarizer from tearing along the absorption axis direction. As a result, a polarizer (and, as a result, a polarizing plate) with very excellent flexibility can be obtained. The piercing strength indicates the crack resistance of the polarizer when the polarizer is pierced with a predetermined strength. The piercing strength can be expressed, for example, as the strength (breaking strength) at which the polarizer breaks when a predetermined needle is attached to a compression tester and the needle is pierced into the polarizer at a predetermined speed. As is clear from the units, the piercing strength means the piercing strength per unit thickness (1 μm) of the polarizer.

偏光子は、上記のとおり、二色性物質を含むPVA系樹脂フィルムで構成される。好ましくは、PVA系樹脂フィルム(実質的には、偏光子)を構成するPVA系樹脂は、アセトアセチル変性されたPVA系樹脂を含む。このような構成であれば、所望の突き刺し強度を有する偏光子が得られ得る。アセトアセチル変性されたPVA系樹脂の配合量は、PVA系樹脂全体を100重量%としたときに、好ましくは5重量%~20重量%であり、より好ましくは8重量%~12重量%である。配合量がこのような範囲であれば、突き刺し強度をより好適な範囲とすることができる。As described above, the polarizer is composed of a PVA-based resin film containing a dichroic material. Preferably, the PVA-based resin constituting the PVA-based resin film (effectively, the polarizer) contains an acetoacetyl-modified PVA-based resin. With this configuration, a polarizer having the desired puncture strength can be obtained. The amount of the acetoacetyl-modified PVA-based resin is preferably 5% to 20% by weight, and more preferably 8% to 12% by weight, when the entire PVA-based resin is taken as 100% by weight. If the amount is within this range, the puncture strength can be set to a more suitable range.

偏光子は、代表的には、二層以上の積層体を用いて作製され得る。積層体を用いて得られる偏光子の具体例としては、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたPVA系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたPVA系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子は、例えば、PVA系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にPVA系樹脂層を形成して、樹脂基材とPVA系樹脂層との積層体を得ること;当該積層体を延伸および染色してPVA系樹脂層を偏光子とすること;により作製され得る。本実施形態においては、好ましくは、樹脂基材の片側に、ハロゲン化物とポリビニルアルコール系樹脂とを含むポリビニルアルコール系樹脂層を形成する。延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、好ましくは、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温(例えば、95℃以上)で空中延伸することをさらに含む。本発明の実施形態においては、延伸の総倍率は好ましくは3.0倍~4.5倍であり、通常に比べて顕著に小さい。このような延伸の総倍率であっても、ハロゲン化物の添加および乾燥収縮処理との組み合わせにより、許容可能な光学特性を有する偏光子を得ることができる。さらに、本発明の実施形態においては、好ましくは空中補助延伸の延伸倍率がホウ酸水中延伸の延伸倍率よりも大きい。このような構成とすることにより、延伸の総倍率が小さくても許容可能な光学特性を有する偏光子を得ることができる。加えて、積層体は、好ましくは長手方向に搬送しながら加熱することにより幅方向に2%以上収縮させる乾燥収縮処理に供される。1つの実施形態においては、偏光子の製造方法は、積層体に、空中補助延伸処理と染色処理と水中延伸処理と乾燥収縮処理とをこの順に施すことを含む。補助延伸を導入することにより、熱可塑性樹脂上にPVA系樹脂を塗布する場合でも、PVA系樹脂の結晶性を高めることが可能となり、高い光学特性を達成することが可能となる。また、同時にPVA系樹脂の配向性を事前に高めることで、後の染色工程や延伸工程で水に浸漬された時に、PVA系樹脂の配向性の低下や溶解等の問題を防止することができ、高い光学特性を達成することが可能になる。さらに、PVA系樹脂層を液体に浸漬した場合において、PVA系樹脂層がハロゲン化物を含まない場合に比べて、ポリビニルアルコール分子の配向の乱れ、および配向性の低下が抑制され得る。これにより、染色処理および水中延伸処理等、積層体を液体に浸漬して行う処理工程を経て得られる偏光子の光学特性を向上し得る。さらに、乾燥収縮処理により積層体を幅方向に収縮させることにより、光学特性を向上させることができる。得られた樹脂基材/偏光子の積層体はそのまま用いてもよく(すなわち、樹脂基材を偏光子の保護層としてもよく)、樹脂基材/偏光子の積層体から樹脂基材を剥離し、当該剥離面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。偏光子の製造方法の詳細については、A-3項で詳述する。A polarizer can be typically produced using a laminate of two or more layers. A specific example of a polarizer obtained using a laminate is a polarizer obtained using a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer coated on the resin substrate. A polarizer obtained using a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer coated on the resin substrate can be produced, for example, by applying a PVA-based resin solution to a resin substrate, drying the substrate to form a PVA-based resin layer on the resin substrate, and obtaining a laminate of the resin substrate and the PVA-based resin layer; stretching and dyeing the laminate to make the PVA-based resin layer into a polarizer. In this embodiment, a polyvinyl alcohol-based resin layer containing a halide and a polyvinyl alcohol-based resin is preferably formed on one side of the resin substrate. The stretching typically includes immersing the laminate in an aqueous boric acid solution to stretch the laminate. Furthermore, the stretching preferably further includes stretching the laminate in the air at a high temperature (e.g., 95°C or higher) before stretching in the aqueous boric acid solution. In an embodiment of the present invention, the total stretching ratio is preferably 3.0 to 4.5 times, which is significantly smaller than normal. Even at such a total stretching ratio, a polarizer having acceptable optical properties can be obtained by adding a halide and combining it with a drying shrinkage treatment. Furthermore, in an embodiment of the present invention, the stretching ratio of the auxiliary air stretching is preferably larger than the stretching ratio of the boric acid water stretching. With this configuration, a polarizer having acceptable optical properties can be obtained even if the total stretching ratio is small. In addition, the laminate is preferably subjected to a drying shrinkage treatment in which the laminate is heated while being transported in the longitudinal direction to shrink the laminate by 2% or more in the width direction. In one embodiment, the method for producing a polarizer includes subjecting the laminate to an auxiliary air stretching treatment, a dyeing treatment, an underwater stretching treatment, and a drying shrinkage treatment in this order. By introducing the auxiliary stretching, even when a PVA-based resin is applied onto a thermoplastic resin, it is possible to increase the crystallinity of the PVA-based resin and achieve high optical properties. At the same time, by increasing the orientation of the PVA-based resin in advance, problems such as a decrease in the orientation or dissolution of the PVA-based resin when immersed in water in the subsequent dyeing step or stretching step can be prevented, and high optical properties can be achieved. Furthermore, when the PVA-based resin layer is immersed in a liquid, the disorder of the orientation of the polyvinyl alcohol molecules and the decrease in the orientation can be suppressed compared to when the PVA-based resin layer does not contain a halide. This can improve the optical properties of the polarizer obtained through a treatment step in which the laminate is immersed in a liquid, such as a dyeing treatment and an underwater stretching treatment. Furthermore, the optical properties can be improved by shrinking the laminate in the width direction by a drying shrinkage treatment. The obtained resin substrate/polarizer laminate may be used as it is (i.e., the resin substrate may be used as a protective layer for the polarizer), or the resin substrate may be peeled off from the resin substrate/polarizer laminate, and any suitable protective layer according to the purpose may be laminated on the peeled surface. Details of the method for producing a polarizer will be described in detail in Section A-3.

A-3.偏光子の製造方法
本発明の1つの実施形態による偏光子の製造方法は、長尺状の熱可塑性樹脂基材の片側に、ハロゲン化物とポリビニルアルコール系樹脂(PVA系樹脂)とを含むポリビニルアルコール系樹脂層(PVA系樹脂層)を形成して積層体とすること、および、積層体に、空中補助延伸処理と、染色処理と、水中延伸処理と、長手方向に搬送しながら加熱することにより幅方向に1%~10%収縮させる乾燥収縮処理と、をこの順に施すことを含む。PVA系樹脂層におけるハロゲン化物の含有量は、好ましくは、PVA系樹脂100重量部に対して5重量部~20重量部である。乾燥収縮処理は、加熱ロールを用いて処理することが好ましく、加熱ロールの温度は、好ましくは60℃~120℃である。乾燥収縮処理による積層体の幅方向の収縮率は、好ましくは1%~10%である。このような製造方法によれば、上記A-2項で説明した偏光子を得ることができる。特に、ハロゲン化物を含むPVA系樹脂層を含む積層体を作製し、上記積層体の延伸を空中補助延伸及び水中延伸を含む多段階延伸とし、延伸後の積層体を加熱ロールで加熱することにより、優れた光学特性(代表的には、単体透過率および偏光度)を有する偏光子を得ることができる。
A-3. Manufacturing method of polarizer A manufacturing method of a polarizer according to one embodiment of the present invention includes forming a polyvinyl alcohol-based resin layer (PVA-based resin layer) containing a halide and a polyvinyl alcohol-based resin (PVA-based resin) on one side of a long thermoplastic resin substrate to form a laminate, and subjecting the laminate to an auxiliary air stretching treatment, a dyeing treatment, an underwater stretching treatment, and a drying shrinkage treatment in this order, in which the laminate is heated while being conveyed in the longitudinal direction to shrink the laminate by 1% to 10% in the width direction. The content of the halide in the PVA-based resin layer is preferably 5 parts by weight to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the PVA-based resin. The drying shrinkage treatment is preferably performed using a heating roll, and the temperature of the heating roll is preferably 60° C. to 120° C. The shrinkage rate of the laminate in the width direction due to the drying shrinkage treatment is preferably 1% to 10%. According to such a manufacturing method, the polarizer described in the above item A-2 can be obtained. In particular, a laminate including a PVA-based resin layer containing a halide is prepared, the laminate is stretched in multiple stages including auxiliary air stretching and underwater stretching, and the stretched laminate is heated with a heating roll, whereby a polarizer having excellent optical properties (typically, single transmittance and degree of polarization) can be obtained.

A-3-1.積層体の作製
熱可塑性樹脂基材とPVA系樹脂層との積層体を作製する方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。好ましくは、熱可塑性樹脂基材の表面に、ハロゲン化物とPVA系樹脂とを含む塗布液を塗布し、乾燥することにより、熱可塑性樹脂基材上にPVA系樹脂層を形成する。上記のとおり、PVA系樹脂層におけるハロゲン化物の含有量は、好ましくは、PVA系樹脂100重量部に対して5重量部~20重量部である。
A-3-1. Preparation of Laminate Any appropriate method may be adopted as a method for preparing a laminate of a thermoplastic resin substrate and a PVA-based resin layer. Preferably, a coating liquid containing a halide and a PVA-based resin is applied to the surface of the thermoplastic resin substrate, and then dried to form a PVA-based resin layer on the thermoplastic resin substrate. As described above, the content of the halide in the PVA-based resin layer is preferably 5 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of the PVA-based resin.

塗布液の塗布方法としては、任意の適切な方法を採用することができる。例えば、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、ダイコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ナイフコート法(コンマコート法等)等が挙げられる。上記塗布液の塗布・乾燥温度は、好ましくは50℃以上である。Any suitable method can be used to apply the coating liquid. Examples include roll coating, spin coating, wire bar coating, dip coating, die coating, curtain coating, spray coating, and knife coating (comma coating, etc.). The application and drying temperature of the coating liquid is preferably 50°C or higher.

PVA系樹脂層の厚みは、好ましくは、2μm~30μm、さらに好ましくは2μm~20μmである。延伸前のPVA系樹脂層の厚みをこのように非常に薄くし、かつ、後述するように総延伸倍率を小さくすることにより、配向関数が非常に小さいにもかかわらず許容可能な単体透過率および偏光度を有する偏光子を得ることができる。The thickness of the PVA-based resin layer is preferably 2 μm to 30 μm, and more preferably 2 μm to 20 μm. By making the thickness of the PVA-based resin layer before stretching very thin in this manner and reducing the total stretch ratio as described below, it is possible to obtain a polarizer that has an acceptable single-unit transmittance and polarization degree despite a very small orientation function.

PVA系樹脂層を形成する前に、熱可塑性樹脂基材に表面処理(例えば、コロナ処理等)を施してもよいし、熱可塑性樹脂基材上に易接着層を形成してもよい。このような処理を行うことにより、熱可塑性樹脂基材とPVA系樹脂層との密着性を向上させることができる。Before forming the PVA-based resin layer, the thermoplastic resin substrate may be subjected to a surface treatment (e.g., corona treatment, etc.), or an easy-adhesion layer may be formed on the thermoplastic resin substrate. By carrying out such treatment, the adhesion between the thermoplastic resin substrate and the PVA-based resin layer can be improved.

A-3-1-1.熱可塑性樹脂基材
熱可塑性樹脂基材としては、任意の適切な熱可塑性樹脂フィルムが採用され得る。熱可塑性樹脂基材の詳細については、例えば特開2012-73580号公報および特許第6470455号に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
A-3-1-1. Thermoplastic resin substrate Any suitable thermoplastic resin film may be used as the thermoplastic resin substrate. Details of the thermoplastic resin substrate are described in, for example, JP 2012-73580 A and Japanese Patent No. 6470455 A. The entire disclosure of these publications is incorporated herein by reference.

A-3-1-2.塗布液
塗布液は、上記のとおり、ハロゲン化物とPVA系樹脂とを含む。上記塗布液は、代表的には、上記ハロゲン化物および上記PVA系樹脂を溶媒に溶解させた溶液である。溶媒としては、例えば、水、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、各種グリコール類、トリメチロールプロパン等の多価アルコール類、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン等のアミン類が挙げられる。これらは単独で、または、二種以上組み合わせて用いることができる。これらの中でも、好ましくは、水である。溶液のPVA系樹脂濃度は、溶媒100重量部に対して、好ましくは3重量部~20重量部である。このような樹脂濃度であれば、熱可塑性樹脂基材に密着した均一な塗布膜を形成することができる。塗布液におけるハロゲン化物の含有量は、好ましくは、PVA系樹脂100重量部に対して5重量部~20重量部である。
A-3-1-2. Coating liquid The coating liquid contains a halide and a PVA-based resin as described above. The coating liquid is typically a solution in which the halide and the PVA-based resin are dissolved in a solvent. Examples of the solvent include water, dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, various glycols, polyhydric alcohols such as trimethylolpropane, and amines such as ethylenediamine and diethylenetriamine. These can be used alone or in combination of two or more. Of these, water is preferred. The concentration of the PVA-based resin in the solution is preferably 3 to 20 parts by weight relative to 100 parts by weight of the solvent. With such a resin concentration, a uniform coating film that is in close contact with the thermoplastic resin substrate can be formed. The content of the halide in the coating liquid is preferably 5 to 20 parts by weight relative to 100 parts by weight of the PVA-based resin.

塗布液に、添加剤を配合してもよい。添加剤としては、例えば、可塑剤、界面活性剤等が挙げられる。可塑剤としては、例えば、エチレングリコールやグリセリン等の多価アルコールが挙げられる。界面活性剤としては、例えば、非イオン界面活性剤が挙げられる。これらは、得られるPVA系樹脂層の均一性や染色性、延伸性をより一層向上させる目的で使用され得る。Additives may be added to the coating liquid. Examples of additives include plasticizers and surfactants. Examples of plasticizers include polyhydric alcohols such as ethylene glycol and glycerin. Examples of surfactants include nonionic surfactants. These can be used to further improve the uniformity, dyeability, and stretchability of the resulting PVA-based resin layer.

上記PVA系樹脂としては、任意の適切な樹脂が採用され得る。例えば、ポリビニルアルコールおよびエチレン-ビニルアルコール共重合体が挙げられる。ポリビニルアルコールは、ポリ酢酸ビニルをケン化することにより得られる。エチレン-ビニルアルコール共重合体は、エチレン-酢酸ビニル共重合体をケン化することにより得られる。PVA系樹脂のケン化度は、通常85モル%~100モル%であり、好ましくは95.0モル%~99.95モル%、さらに好ましくは99.0モル%~99.93モル%である。ケン化度は、JIS K 6726-1994に準じて求めることができる。このようなケン化度のPVA系樹脂を用いることによって、耐久性に優れた偏光子が得られ得る。ケン化度が高すぎる場合には、ゲル化してしまうおそれがある。上記のとおり、PVA系樹脂は、好ましくはアセトアセチル変性されたPVA系樹脂を含む。Any suitable resin may be used as the PVA-based resin. Examples include polyvinyl alcohol and ethylene-vinyl alcohol copolymer. Polyvinyl alcohol is obtained by saponifying polyvinyl acetate. Ethylene-vinyl alcohol copolymer is obtained by saponifying ethylene-vinyl acetate copolymer. The saponification degree of the PVA-based resin is usually 85 mol% to 100 mol%, preferably 95.0 mol% to 99.95 mol%, and more preferably 99.0 mol% to 99.93 mol%. The saponification degree can be determined in accordance with JIS K 6726-1994. By using a PVA-based resin with such a saponification degree, a polarizer with excellent durability can be obtained. If the saponification degree is too high, there is a risk of gelation. As described above, the PVA-based resin preferably includes an acetoacetyl-modified PVA-based resin.

PVA系樹脂の平均重合度は、目的に応じて適切に選択し得る。平均重合度は、通常1000~10000であり、好ましくは1200~4500、さらに好ましくは1500~4300である。なお、平均重合度は、JIS K 6726-1994に準じて求めることができる。The average degree of polymerization of the PVA-based resin can be appropriately selected depending on the purpose. The average degree of polymerization is usually 1000 to 10000, preferably 1200 to 4500, and more preferably 1500 to 4300. The average degree of polymerization can be determined in accordance with JIS K 6726-1994.

上記ハロゲン化物としては、任意の適切なハロゲン化物が採用され得る。例えば、ヨウ化物および塩化ナトリウムが挙げられる。ヨウ化物としては、例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム、およびヨウ化リチウムが挙げられる。これらの中でも、好ましくは、ヨウ化カリウムである。Any suitable halide may be used as the halide. Examples include iodide and sodium chloride. Examples of iodide include potassium iodide, sodium iodide, and lithium iodide. Of these, potassium iodide is preferred.

塗布液におけるハロゲン化物の量は、好ましくは、PVA系樹脂100重量部に対して5重量部~20重量部であり、より好ましくは、PVA系樹脂100重量部に対して10重量部~15重量部である。PVA系樹脂100重量部に対するハロゲン化物の量が20重量部を超えると、ハロゲン化物がブリードアウトし、最終的に得られる偏光子が白濁する場合がある。The amount of halide in the coating solution is preferably 5 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of PVA-based resin, and more preferably 10 to 15 parts by weight per 100 parts by weight of PVA-based resin. If the amount of halide exceeds 20 parts by weight per 100 parts by weight of PVA-based resin, the halide may bleed out and the final polarizer may become cloudy.

一般に、PVA系樹脂層が延伸されることによって、PVA系樹脂層中のポリビニルアルコール分子の配向性が高くなるが、延伸後のPVA系樹脂層を、水を含む液体に浸漬すると、ポリビニルアルコール分子の配向が乱れ、配向性が低下する場合がある。特に、熱可塑性樹脂基材とPVA系樹脂層との積層体をホウ酸水中延伸する場合において、熱可塑性樹脂基材の延伸を安定させるために比較的高い温度で上記積層体をホウ酸水中で延伸する場合、上記配向度低下の傾向が顕著である。例えば、PVAフィルム単体のホウ酸水中での延伸が60℃で行われることが一般的であるのに対し、A-PET(熱可塑性樹脂基材)とPVA系樹脂層との積層体の延伸は70℃前後の温度という高い温度で行われ、この場合、延伸初期のPVAの配向性が水中延伸により上がる前の段階で低下し得る。これに対して、ハロゲン化物を含むPVA系樹脂層と熱可塑性樹脂基材との積層体を作製し、積層体をホウ酸水中で延伸する前に空気中で高温延伸(補助延伸)することにより、補助延伸後の積層体のPVA系樹脂層中のPVA系樹脂の結晶化が促進され得る。その結果、PVA系樹脂層を液体に浸漬した場合において、PVA系樹脂層がハロゲン化物を含まない場合に比べて、ポリビニルアルコール分子の配向の乱れ、および配向性の低下が抑制され得る。これにより、染色処理および水中延伸処理等、積層体を液体に浸漬して行う処理工程を経て得られる偏光子の光学特性を向上し得る。Generally, the orientation of the polyvinyl alcohol molecules in the PVA-based resin layer increases when the PVA-based resin layer is stretched, but when the stretched PVA-based resin layer is immersed in a liquid containing water, the orientation of the polyvinyl alcohol molecules may become disordered, and the orientation may decrease. In particular, when a laminate of a thermoplastic resin substrate and a PVA-based resin layer is stretched in boric acid water, the tendency for the degree of orientation to decrease is remarkable when the laminate is stretched in boric acid water at a relatively high temperature to stabilize the stretching of the thermoplastic resin substrate. For example, while a PVA film alone is generally stretched in boric acid water at 60°C, a laminate of A-PET (thermoplastic resin substrate) and a PVA-based resin layer is stretched at a high temperature of around 70°C, in this case, the orientation of the PVA at the beginning of the stretching may decrease before it increases due to the stretching in water. In contrast, by preparing a laminate of a PVA-based resin layer containing a halide and a thermoplastic resin substrate, and then stretching the laminate in boric acid water at high temperature (auxiliary stretching) in air, the crystallization of the PVA-based resin in the PVA-based resin layer of the laminate after auxiliary stretching can be promoted. As a result, when the PVA-based resin layer is immersed in a liquid, the orientation disorder and the decrease in the orientation of the polyvinyl alcohol molecules can be suppressed compared to when the PVA-based resin layer does not contain a halide. This can improve the optical properties of the polarizer obtained by immersing the laminate in a liquid through a treatment process such as a dyeing treatment and an underwater stretching treatment.

A-3-2.空中補助延伸処理
特に、高い光学特性を得るためには、乾式延伸(補助延伸)とホウ酸水中延伸を組み合わせる、2段延伸の方法が選択される。2段延伸のように、補助延伸を導入することにより、熱可塑性樹脂基材の結晶化を抑制しながら延伸することができる。さらには、熱可塑性樹脂基材上にPVA系樹脂を塗布する場合、熱可塑性樹脂基材のガラス転移温度の影響を抑制するために、通常の金属ドラム上にPVA系樹脂を塗布する場合と比べて塗布温度を低くする必要があり、その結果、PVA系樹脂の結晶化が相対的に低くなり、十分な光学特性が得られない、という問題が生じ得る。これに対して、補助延伸を導入することにより、熱可塑性樹脂上にPVA系樹脂を塗布する場合でも、PVA系樹脂の結晶性を高めることが可能となり、高い光学特性を達成することが可能となる。また、同時にPVA系樹脂の配向性を事前に高めることで、後の染色工程や延伸工程で水に浸漬された時に、PVA系樹脂の配向性の低下や溶解等の問題を防止することができ、高い光学特性を達成することが可能になる。
A-3-2. Auxiliary Air Stretching Treatment In particular, in order to obtain high optical properties, a two-stage stretching method is selected that combines dry stretching (auxiliary stretching) and stretching in boric acid water. By introducing auxiliary stretching like two-stage stretching, it is possible to stretch while suppressing crystallization of the thermoplastic resin substrate. Furthermore, when applying a PVA-based resin on a thermoplastic resin substrate, it is necessary to lower the application temperature compared to when applying a PVA-based resin on a normal metal drum in order to suppress the influence of the glass transition temperature of the thermoplastic resin substrate, and as a result, the crystallization of the PVA-based resin becomes relatively low, and a problem that sufficient optical properties cannot be obtained may occur. On the other hand, by introducing auxiliary stretching, it is possible to increase the crystallinity of the PVA-based resin even when applying a PVA-based resin on a thermoplastic resin, and it is possible to achieve high optical properties. At the same time, by increasing the orientation of the PVA-based resin in advance, problems such as a decrease in the orientation of the PVA-based resin or dissolution can be prevented when immersed in water in the subsequent dyeing process or stretching process, and it is possible to achieve high optical properties.

空中補助延伸の延伸方法は、固定端延伸(たとえば、テンター延伸機を用いて延伸する方法)でもよく、自由端延伸(たとえば、周速の異なるロール間に積層体を通して一軸延伸する方法)でもよい。高い光学特性を得るためには、自由端延伸が積極的に採用され得る。1つの実施形態においては、空中延伸処理は、上記積層体をその長手方向に搬送しながら、加熱ロール間の周速差により延伸する加熱ロール延伸工程を含む。空中延伸処理は、代表的には、ゾーン延伸工程と加熱ロール延伸工程とを含む。なお、ゾーン延伸工程と加熱ロール延伸工程の順序は限定されず、ゾーン延伸工程が先に行われてもよく、加熱ロール延伸工程が先に行われてもよい。ゾーン延伸工程は省略されてもよい。1つの実施形態においては、ゾーン延伸工程および加熱ロール延伸工程がこの順に行われる。また、別の実施形態では、テンター延伸機において、フィルム端部を把持し、テンター間の距離を流れ方向に広げることで延伸される(テンター間の距離の広がりが延伸倍率となる)。この時、幅方向(流れ方向に対して、垂直方向)のテンターの距離は、任意に近づくように設定される。好ましくは、流れ方向の延伸倍率に対して、自由端延伸により近くなるように設定され得る。自由端延伸の場合、幅方向の収縮率=(1/延伸倍率)1/2で計算される。 The stretching method of the auxiliary air stretching may be fixed end stretching (for example, a method of stretching using a tenter stretching machine) or free end stretching (for example, a method of uniaxially stretching a laminate between rolls with different peripheral speeds). In order to obtain high optical properties, free end stretching may be actively adopted. In one embodiment, the air stretching process includes a heated roll stretching process in which the laminate is stretched by the difference in peripheral speed between heated rolls while being transported in its longitudinal direction. The air stretching process typically includes a zone stretching process and a heated roll stretching process. The order of the zone stretching process and the heated roll stretching process is not limited, and the zone stretching process may be performed first, or the heated roll stretching process may be performed first. The zone stretching process may be omitted. In one embodiment, the zone stretching process and the heated roll stretching process are performed in this order. In another embodiment, the film is stretched by gripping the film end in a tenter stretching machine and widening the distance between the tenters in the flow direction (the widening of the distance between the tenters is the stretching ratio). In this case, the tenter distance in the width direction (perpendicular to the machine direction) is set to be as close as possible. Preferably, it can be set to be as close as possible to the free end stretching ratio in the machine direction. In the case of free end stretching, the shrinkage ratio in the width direction is calculated as (1/stretching ratio) 1/2 .

空中補助延伸は、一段階で行ってもよいし、多段階で行ってもよい。多段階で行う場合、延伸倍率は、各段階の延伸倍率の積である。空中補助延伸における延伸方向は、好ましくは、水中延伸の延伸方向と略同一である。The air-assisted stretching may be performed in one stage or in multiple stages. When it is performed in multiple stages, the stretching ratio is the product of the stretching ratios in each stage. The stretching direction in the air-assisted stretching is preferably approximately the same as the stretching direction in the underwater stretching.

空中補助延伸における延伸倍率は、好ましくは1.0倍~4.0倍であり、より好ましくは1.5倍~3.5倍であり、さらに好ましくは2.0倍~3.0倍である。空中補助延伸の延伸倍率がこのような範囲であれば、水中延伸と組み合わせた場合に延伸の総倍率を所望の範囲に設定することができ、所望の配向関数を実現することができる。その結果、加熱によるクラック発生が抑制された偏光子を得ることができる。さらに、上記のとおり、空中補助延伸の延伸倍率はホウ酸水中延伸の延伸倍率よりも大きいことが好ましい。このような構成とすることにより、延伸の総倍率が小さくても許容可能な光学特性を有する偏光子を得ることができる。より詳細には、空中補助延伸の延伸倍率と水中延伸の延伸倍率との比(水中延伸/空中補助延伸)は、好ましくは0.4~0.9であり、より好ましくは0.5~0.8である。The stretching ratio in the auxiliary air stretching is preferably 1.0 to 4.0 times, more preferably 1.5 to 3.5 times, and even more preferably 2.0 to 3.0 times. If the stretching ratio of the auxiliary air stretching is in such a range, the total stretching ratio can be set to a desired range when combined with underwater stretching, and the desired orientation function can be realized. As a result, a polarizer in which crack generation due to heating is suppressed can be obtained. Furthermore, as described above, the stretching ratio of the auxiliary air stretching is preferably larger than the stretching ratio of the underwater stretching. With this configuration, a polarizer having acceptable optical properties can be obtained even if the total stretching ratio is small. More specifically, the ratio of the stretching ratio of the auxiliary air stretching to the stretching ratio of the underwater stretching (underwater stretching/air-auxiliary stretching) is preferably 0.4 to 0.9, more preferably 0.5 to 0.8.

空中補助延伸の延伸温度は、熱可塑性樹脂基材の形成材料、延伸方式等に応じて、任意の適切な値に設定することができる。延伸温度は、好ましくは熱可塑性樹脂基材のガラス転移温度(Tg)以上であり、さらに好ましくは熱可塑性樹脂基材のガラス転移温度(Tg)+10℃以上、特に好ましくはTg+15℃以上である。一方、延伸温度の上限は、好ましくは170℃である。このような温度で延伸することで、PVA系樹脂の結晶化が急速に進むのを抑制して、当該結晶化による不具合(例えば、延伸によるPVA系樹脂層の配向を妨げる)を抑制することができる。The stretching temperature for the auxiliary air stretching can be set to any appropriate value depending on the material of the thermoplastic resin substrate, the stretching method, etc. The stretching temperature is preferably equal to or higher than the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin substrate, more preferably equal to or higher than the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin substrate + 10°C, and particularly preferably equal to or higher than Tg + 15°C. On the other hand, the upper limit of the stretching temperature is preferably 170°C. By stretching at such a temperature, the crystallization of the PVA-based resin can be prevented from progressing rapidly, and defects due to the crystallization (for example, preventing the orientation of the PVA-based resin layer by stretching) can be prevented.

A-3-3.不溶化処理、染色処理および架橋処理
必要に応じて、空中補助延伸処理の後、水中延伸処理や染色処理の前に、不溶化処理を施す。上記不溶化処理は、代表的には、ホウ酸水溶液にPVA系樹脂層を浸漬することにより行う。上記染色処理は、代表的には、PVA系樹脂層を二色性物質(代表的には、ヨウ素)で染色することにより行う。必要に応じて、染色処理の後、水中延伸処理の前に、架橋処理を施す。上記架橋処理は、代表的には、ホウ酸水溶液にPVA系樹脂層を浸漬させることにより行う。不溶化処理、染色処理および架橋処理の詳細については、例えば特開2012-73580号公報(上記)に記載されている。
A-3-3. Insolubilization treatment, dyeing treatment, and crosslinking treatment If necessary, an insolubilization treatment is performed after the auxiliary air stretching treatment and before the underwater stretching treatment or the dyeing treatment. The insolubilization treatment is typically performed by immersing the PVA-based resin layer in an aqueous boric acid solution. The dyeing treatment is typically performed by dyeing the PVA-based resin layer with a dichroic substance (typically iodine). If necessary, a crosslinking treatment is performed after the dyeing treatment and before the underwater stretching treatment. The crosslinking treatment is typically performed by immersing the PVA-based resin layer in an aqueous boric acid solution. Details of the insolubilization treatment, dyeing treatment, and crosslinking treatment are described, for example, in JP-A-2012-73580 (above).

A-3-4.水中延伸処理
水中延伸処理は、積層体を延伸浴に浸漬させて行う。水中延伸処理によれば、上記熱可塑性樹脂基材やPVA系樹脂層のガラス転移温度(代表的には、80℃程度)よりも低い温度で延伸し得、PVA系樹脂層を、その結晶化を抑えながら延伸することができる。その結果、優れた光学特性を有する偏光子を製造することができる。
A-3-4. Underwater stretching treatment Underwater stretching treatment is performed by immersing the laminate in a stretching bath. According to the underwater stretching treatment, stretching can be performed at a temperature lower than the glass transition temperature (typically, about 80° C.) of the thermoplastic resin substrate or the PVA-based resin layer, and the PVA-based resin layer can be stretched while suppressing crystallization. As a result, a polarizer having excellent optical properties can be produced.

積層体の延伸方法は、任意の適切な方法を採用することができる。具体的には、固定端延伸でもよいし、自由端延伸(例えば、周速の異なるロール間に積層体を通して一軸延伸する方法)でもよい。好ましくは、自由端延伸が選択される。積層体の延伸は、一段階で行ってもよいし、多段階で行ってもよい。多段階で行う場合、延伸の総倍率は、各段階の延伸倍率の積である。Any appropriate method can be adopted as the method for stretching the laminate. Specifically, it may be fixed-end stretching or free-end stretching (for example, a method in which the laminate is uniaxially stretched by passing it between rolls with different peripheral speeds). Preferably, free-end stretching is selected. The stretching of the laminate may be carried out in one stage or in multiple stages. When it is carried out in multiple stages, the total stretch ratio is the product of the stretch ratios in each stage.

水中延伸は、好ましくは、ホウ酸水溶液中に積層体を浸漬させて行う(ホウ酸水中延伸)。延伸浴としてホウ酸水溶液を用いることで、PVA系樹脂層に、延伸時にかかる張力に耐える剛性と、水に溶解しない耐水性とを付与することができる。具体的には、ホウ酸は、水溶液中でテトラヒドロキシホウ酸アニオンを生成してPVA系樹脂と水素結合により架橋し得る。その結果、PVA系樹脂層に剛性と耐水性とを付与して、良好に延伸することができ、優れた光学特性を有する偏光子を製造することができる。The underwater stretching is preferably performed by immersing the laminate in an aqueous solution of boric acid (underwater stretching in boric acid). By using an aqueous solution of boric acid as the stretching bath, the PVA-based resin layer can be given rigidity that can withstand the tension applied during stretching and water resistance that does not dissolve in water. Specifically, boric acid can generate tetrahydroxyborate anions in the aqueous solution and crosslink with the PVA-based resin through hydrogen bonds. As a result, the PVA-based resin layer can be given rigidity and water resistance, and can be stretched well, making it possible to produce a polarizer with excellent optical properties.

上記ホウ酸水溶液は、好ましくは、溶媒である水にホウ酸および/またはホウ酸塩を溶解させることにより得られる。ホウ酸濃度は、水100重量部に対して、好ましくは1重量部~10重量部であり、より好ましくは2.5重量部~6重量部であり、特に好ましくは3重量部~5重量部である。ホウ酸濃度を1重量部以上とすることにより、PVA系樹脂層の溶解を効果的に抑制することができ、より高特性の偏光子を製造することができる。なお、ホウ酸またはホウ酸塩以外に、ホウ砂等のホウ素化合物、グリオキザール、グルタルアルデヒド等を溶媒に溶解して得られた水溶液も用いることができる。The boric acid aqueous solution is preferably obtained by dissolving boric acid and/or a borate in water, which is a solvent. The boric acid concentration is preferably 1 to 10 parts by weight, more preferably 2.5 to 6 parts by weight, and particularly preferably 3 to 5 parts by weight, per 100 parts by weight of water. By making the boric acid concentration 1 part by weight or more, dissolution of the PVA-based resin layer can be effectively suppressed, and a polarizer with higher characteristics can be produced. In addition to boric acid or a borate, an aqueous solution obtained by dissolving a boron compound such as borax, glyoxal, glutaraldehyde, or the like in a solvent can also be used.

好ましくは、上記延伸浴(ホウ酸水溶液)にヨウ化物を配合する。ヨウ化物を配合することにより、PVA系樹脂層に吸着させたヨウ素の溶出を抑制することができる。ヨウ化物の具体例は、上述のとおりである。ヨウ化物の濃度は、水100重量部に対して、好ましくは0.05重量部~15重量部、より好ましくは0.5重量部~8重量部である。Preferably, iodide is added to the stretching bath (boric acid aqueous solution). By adding iodide, it is possible to suppress the elution of iodine adsorbed in the PVA-based resin layer. Specific examples of iodide are as described above. The concentration of iodide is preferably 0.05 to 15 parts by weight, more preferably 0.5 to 8 parts by weight, per 100 parts by weight of water.

延伸温度(延伸浴の液温)は、好ましくは40℃~85℃、より好ましくは60℃~75℃である。このような温度であれば、PVA系樹脂層の溶解を抑制しながら高倍率に延伸することができる。具体的には、上述のように、熱可塑性樹脂基材のガラス転移温度(Tg)は、PVA系樹脂層の形成との関係で、好ましくは60℃以上である。この場合、延伸温度が40℃を下回ると、水による熱可塑性樹脂基材の可塑化を考慮しても、良好に延伸できないおそれがある。一方、延伸浴の温度が高温になるほど、PVA系樹脂層の溶解性が高くなって、優れた光学特性が得られないおそれがある。積層体の延伸浴への浸漬時間は、好ましくは15秒~5分である。The stretching temperature (liquid temperature of the stretching bath) is preferably 40°C to 85°C, more preferably 60°C to 75°C. At such a temperature, the PVA-based resin layer can be stretched at a high ratio while suppressing dissolution of the PVA-based resin layer. Specifically, as described above, the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin substrate is preferably 60°C or higher in relation to the formation of the PVA-based resin layer. In this case, if the stretching temperature is below 40°C, even if the plasticization of the thermoplastic resin substrate by water is taken into consideration, there is a risk that the substrate cannot be stretched well. On the other hand, the higher the temperature of the stretching bath, the higher the solubility of the PVA-based resin layer, and the higher the risk of not being able to obtain excellent optical properties. The immersion time of the laminate in the stretching bath is preferably 15 seconds to 5 minutes.

水中延伸による延伸倍率は、好ましくは1.0倍~2.2倍であり、より好ましくは1.1倍~2.0倍であり、さらに好ましくは1.1倍~1.8倍であり、さらにより好ましくは1.2倍~1.6倍である。水中延伸における延伸倍率がこのような範囲であれば、延伸の総倍率を所望の範囲に設定することができ、所望の複屈折、面内位相差および/または配向関数を実現することができる。その結果、加熱によるクラック発生が抑制された偏光子を得ることができる。延伸の総倍率(空中補助延伸と水中延伸とを組み合わせた場合の延伸倍率の合計)は、上記のとおり、積層体の元長に対して、好ましくは3.0倍~4.5倍であり、より好ましくは3.0倍~4.3倍であり、さらに好ましくは3.0倍~4.0倍である。塗布液へのハロゲン化物の添加、空中補助延伸および水中延伸の延伸倍率の調整、および乾燥収縮処理を適切に組み合わせることにより、このような延伸の総倍率であっても許容可能な光学特性を有する偏光子を得ることができる。The stretching ratio in underwater stretching is preferably 1.0 to 2.2 times, more preferably 1.1 to 2.0 times, even more preferably 1.1 to 1.8 times, and even more preferably 1.2 to 1.6 times. If the stretching ratio in underwater stretching is in such a range, the total stretching ratio can be set in the desired range, and the desired birefringence, in-plane retardation, and/or orientation function can be realized. As a result, a polarizer in which crack generation due to heating is suppressed can be obtained. As described above, the total stretching ratio (the total stretching ratio when the auxiliary air stretching and the underwater stretching are combined) is preferably 3.0 to 4.5 times, more preferably 3.0 to 4.3 times, and even more preferably 3.0 to 4.0 times, relative to the original length of the laminate. By appropriately combining the addition of a halide to the coating solution, the adjustment of the stretching ratios of the auxiliary air stretching and the underwater stretching, and the drying shrinkage treatment, a polarizer having acceptable optical properties can be obtained even at such a total stretching ratio.

A-3-5.乾燥収縮処理
上記乾燥収縮処理は、ゾーン全体を加熱して行うゾーン加熱により行っても良いし、搬送ロールを加熱する(いわゆる加熱ロールを用いる)ことにより行う(加熱ロール乾燥方式)こともできる。好ましくは、その両方を用いる。加熱ロールを用いて乾燥させることにより、効率的に積層体の加熱カールを抑制して、外観に優れた偏光子を製造することができる。具体的には、加熱ロールに積層体を沿わせた状態で乾燥することにより、上記熱可塑性樹脂基材の結晶化を効率的に促進させて結晶化度を増加させることができ、比較的低い乾燥温度であっても、熱可塑性樹脂基材の結晶化度を良好に増加させることができる。その結果、熱可塑性樹脂基材は、その剛性が増加して、乾燥によるPVA系樹脂層の収縮に耐え得る状態となり、カールが抑制される。また、加熱ロールを用いることにより、積層体を平らな状態に維持しながら乾燥できるので、カールだけでなくシワの発生も抑制することができる。この時、積層体は、乾燥収縮処理により幅方向に収縮させることにより、光学特性を向上させることができる。PVAおよびPVA/ヨウ素錯体の配向性を効果的に高めることができるからである。乾燥収縮処理による積層体の幅方向の収縮率は、好ましくは1%~10%であり、より好ましくは2%~8%であり、特に好ましくは4%~6%である。
A-3-5. Drying shrinkage treatment The drying shrinkage treatment may be performed by zone heating in which the entire zone is heated, or by heating the transport roll (using a so-called heating roll) (heat roll drying method). Preferably, both are used. By drying using a heating roll, it is possible to efficiently suppress the heat curl of the laminate and produce a polarizer with excellent appearance. Specifically, by drying the laminate in a state where it is aligned with the heating roll, it is possible to efficiently promote the crystallization of the thermoplastic resin substrate and increase the crystallinity, and even at a relatively low drying temperature, it is possible to satisfactorily increase the crystallinity of the thermoplastic resin substrate. As a result, the rigidity of the thermoplastic resin substrate increases and it becomes in a state where it can withstand the shrinkage of the PVA-based resin layer due to drying, and curling is suppressed. In addition, by using a heating roll, it is possible to dry the laminate while maintaining it in a flat state, so that it is possible to suppress not only curling but also wrinkles. At this time, the laminate can be shrunk in the width direction by the drying shrinkage treatment, thereby improving the optical properties. This is because it is possible to effectively increase the orientation of the PVA and the PVA/iodine complex. The shrinkage rate in the width direction of the laminate due to the drying shrinkage treatment is preferably 1% to 10%, more preferably 2% to 8%, and particularly preferably 4% to 6%.

図2は、乾燥収縮処理の一例を示す概略図である。乾燥収縮処理では、所定の温度に加熱された搬送ロールR1~R6と、ガイドロールG1~G4とにより、積層体50を搬送しながら乾燥させる。図示例では、PVA樹脂層の面と熱可塑性樹脂基材の面を交互に連続加熱するように搬送ロールR1~R6が配置されているが、例えば、積層体50の一方の面(たとえば熱可塑性樹脂基材面)のみを連続的に加熱するように搬送ロールR1~R6を配置してもよい。 Figure 2 is a schematic diagram showing an example of a drying shrinkage process. In the drying shrinkage process, the laminate 50 is dried while being transported by transport rolls R1 to R6 heated to a predetermined temperature and guide rolls G1 to G4. In the illustrated example, the transport rolls R1 to R6 are arranged so as to alternately and continuously heat the surface of the PVA resin layer and the surface of the thermoplastic resin substrate, but, for example, the transport rolls R1 to R6 may be arranged so as to continuously heat only one surface of the laminate 50 (for example, the thermoplastic resin substrate surface).

搬送ロールの加熱温度(加熱ロールの温度)、加熱ロールの数、加熱ロールとの接触時間等を調整することにより、乾燥条件を制御することができる。加熱ロールの温度は、好ましくは60℃~120℃であり、さらに好ましくは65℃~100℃であり、特に好ましくは70℃~80℃である。熱可塑性樹脂の結晶化度を良好に増加させて、カールを良好に抑制することができるとともに、耐久性に極めて優れた光学積層体を製造することができる。なお、加熱ロールの温度は、接触式温度計により測定することができる。図示例では、6個の搬送ロールが設けられているが、搬送ロールは複数個であれば特に制限はない。搬送ロールは、通常2個~40個、好ましくは4個~30個設けられる。積層体と加熱ロールとの接触時間(総接触時間)は、好ましくは1秒~300秒であり、より好ましくは1~20秒であり、さらに好ましくは1~10秒である。Drying conditions can be controlled by adjusting the heating temperature of the transport roll (temperature of the heating roll), the number of heating rolls, the contact time with the heating roll, etc. The temperature of the heating roll is preferably 60°C to 120°C, more preferably 65°C to 100°C, and particularly preferably 70°C to 80°C. The crystallization degree of the thermoplastic resin can be increased well, curling can be suppressed well, and an optical laminate with extremely excellent durability can be produced. The temperature of the heating roll can be measured by a contact thermometer. In the illustrated example, six transport rolls are provided, but there is no particular restriction as long as there are multiple transport rolls. The number of transport rolls is usually 2 to 40, preferably 4 to 30. The contact time (total contact time) between the laminate and the heating roll is preferably 1 to 300 seconds, more preferably 1 to 20 seconds, and even more preferably 1 to 10 seconds.

加熱ロールは、加熱炉(例えば、オーブン)内に設けてもよいし、通常の製造ライン(室温環境下)に設けてもよい。好ましくは、送風手段を備える加熱炉内に設けられる。加熱ロールによる乾燥と熱風乾燥とを併用することにより、加熱ロール間での急峻な温度変化を抑制することができ、幅方向の収縮を容易に制御することができる。熱風乾燥の温度は、好ましくは30℃~100℃である。また、熱風乾燥時間は、好ましくは1秒~300秒である。熱風の風速は、好ましくは10m/s~30m/s程度である。なお、当該風速は加熱炉内における風速であり、ミニベーン型デジタル風速計により測定することができる。The heating roll may be installed in a heating furnace (e.g., an oven) or in a normal production line (at room temperature). It is preferably installed in a heating furnace equipped with a blowing means. By using both drying with a heating roll and hot air drying, it is possible to suppress abrupt temperature changes between the heating rolls, and it is possible to easily control shrinkage in the width direction. The hot air drying temperature is preferably 30°C to 100°C. The hot air drying time is preferably 1 second to 300 seconds. The hot air speed is preferably about 10 m/s to 30 m/s. The wind speed is the wind speed in the heating furnace and can be measured by a mini-vane type digital anemometer.

A-3-6.その他の処理
好ましくは、水中延伸処理の後、乾燥収縮処理の前に、洗浄処理を施す。上記洗浄処理は、代表的には、ヨウ化カリウム水溶液にPVA系樹脂層を浸漬させることにより行う。
A-3-6. Other Treatments Preferably, after the underwater stretching treatment and before the drying shrinkage treatment, a washing treatment is carried out. The washing treatment is typically carried out by immersing the PVA-based resin layer in an aqueous potassium iodide solution.

A-4.第1の保護層
上記第1の保護層の厚みは10μm以下である。第1の保護層の厚みが10μm以下であることにより、偏光板の薄型化に寄与し得る。また、従来、偏光子の加熱時の収縮に追随して偏光子を保護する観点から、20μm以上の厚みを有する保護層が用いられている。これに対し、本発明の実施形態で用いられる偏光子は、上記の通り、従来よりもPVA系樹脂の配向度が低く、結果として、加熱による収縮が小さいことから、厚みが10μm以下の保護層を用いた場合であっても、加熱時のクラックの発生が抑制される。
A-4. First Protective Layer The thickness of the first protective layer is 10 μm or less. The thickness of the first protective layer is 10 μm or less, which can contribute to making the polarizing plate thinner. Conventionally, a protective layer having a thickness of 20 μm or more has been used from the viewpoint of protecting the polarizer by following the shrinkage of the polarizer when heated. In contrast, the polarizer used in the embodiment of the present invention has a lower degree of orientation of the PVA-based resin than conventional ones as described above, and as a result, shrinkage due to heating is small, so that even when a protective layer having a thickness of 10 μm or less is used, the occurrence of cracks during heating is suppressed.

第1の保護層の厚みは、好ましくは7μm以下であり、より好ましくは5μm以下であり、さらに好ましくは3μm以下である。第1の保護層の厚みは、例えば1μm以上である。The thickness of the first protective layer is preferably 7 μm or less, more preferably 5 μm or less, and even more preferably 3 μm or less. The thickness of the first protective layer is, for example, 1 μm or more.

第1の保護層は樹脂膜で構成される。樹脂膜を形成する樹脂としては、目的に応じて任意の適切な樹脂が用いられ得る。具体例としては、(メタ)アクリル系、トリアセチルセルロース(TAC)等のセルロース系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、アセテート系等の熱可塑性樹脂;(メタ)アクリル系、ウレタン系、(メタ)アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または活性エネルギー線硬化型樹脂;シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーが挙げられる。1つの実施形態において、樹脂膜を形成する樹脂としては、エポキシ樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂およびウレタン系樹脂から選択される少なくとも1種の樹脂が用いられる。The first protective layer is composed of a resin film. As the resin forming the resin film, any suitable resin may be used depending on the purpose. Specific examples include thermoplastic resins such as (meth)acrylic, cellulose-based such as triacetyl cellulose (TAC), polyester-based, polyurethane-based, polyvinyl alcohol-based, polycarbonate-based, polyamide-based, polyimide-based, polyethersulfone-based, polysulfone-based, polystyrene-based, polynorbornene-based, polyolefin-based, acetate-based, etc.; thermosetting resins or active energy ray-curable resins such as (meth)acrylic, urethane-based, (meth)acrylic urethane-based, epoxy-based, silicone-based, etc.; glassy polymers such as siloxane-based polymers. In one embodiment, at least one resin selected from epoxy resins, (meth)acrylic resins, polyester resins, and urethane resins is used as the resin forming the resin film.

第1の保護層を構成する樹脂膜は、例えば、溶融樹脂の成形物であってもよく、樹脂を水性溶媒または有機溶媒に溶解または分散して得られる樹脂溶液の塗布膜の固化物であってもよく、硬化型樹脂の硬化物(例えば、光カチオン硬化物)であってもよい。The resin film constituting the first protective layer may be, for example, a molded product of molten resin, or a solidified coating film of a resin solution obtained by dissolving or dispersing a resin in an aqueous solvent or an organic solvent, or a cured product of a curable resin (for example, a photocationically cured product).

1つの実施形態において、第1の保護層は、熱可塑性(メタ)アクリル系樹脂(以下、(メタ)アクリル系樹脂を単に「アクリル系樹脂」と称する場合がある)の有機溶媒溶液の塗布膜の固化物、エポキシ樹脂の光カチオン硬化物およびエポキシ樹脂の有機溶媒溶液の塗布膜の固化物からなる群より選択される少なくとも1種で構成されている。以下、具体的に説明する。In one embodiment, the first protective layer is composed of at least one selected from the group consisting of a solidified coating film of an organic solvent solution of a thermoplastic (meth)acrylic resin (hereinafter, (meth)acrylic resin may be simply referred to as "acrylic resin"), a photocationically cured product of an epoxy resin, and a solidified coating film of an organic solvent solution of an epoxy resin. The details are described below.

A-4-1.熱可塑性アクリル系樹脂の有機溶媒溶液の塗布膜の固化物
1つの実施形態においては、第1の保護層は熱可塑性アクリル系樹脂の有機溶媒溶液の塗布膜の固化物で構成されている。本実施形態の第1の保護層の軟化温度は、加湿耐久性の観点から、好ましくは100℃以上、より好ましくは115℃以上、さらに好ましくは120℃以上、特に好ましくは125℃以上であり、また、成形性の観点から、好ましくは300℃以下、より好ましくは250℃以下、さらに好ましくは200℃以下、特に好ましくは160℃以下である。
A-4-1. Solidified Coating Film of Organic Solvent Solution of Thermoplastic Acrylic Resin In one embodiment, the first protective layer is composed of a solidified coating film of an organic solvent solution of a thermoplastic acrylic resin. The softening temperature of the first protective layer in this embodiment is preferably 100°C or higher, more preferably 115°C or higher, even more preferably 120°C or higher, and particularly preferably 125°C or higher from the viewpoint of humidification durability, and is preferably 300°C or lower, more preferably 250°C or lower, even more preferably 200°C or lower, and particularly preferably 160°C or lower from the viewpoint of moldability.

A-4-1-1.アクリル系樹脂
アクリル系樹脂は、ガラス転移温度(Tg)が好ましくは100℃以上である。その結果、第1の保護層の軟化温度も、ほぼ100℃以上となる。アクリル系樹脂のTgが100℃以上であれば、このような樹脂から得られた保護層を含む偏光板は、クラック耐性に加えて加湿耐久性にも優れたものとなり得る。アクリル系樹脂のTgは、より好ましくは110℃以上、さらに好ましくは115℃以上、さらにより好ましくは120℃以上、特に好ましくは125℃以上である。一方、アクリル系樹脂のTgは、好ましくは300℃以下、より好ましくは250℃以下、さらに好ましくは200℃以下、特に好ましくは160℃以下である。アクリル系樹脂のTgがこのような範囲であれば、成形性に優れ得る。
A-4-1-1. Acrylic resin The glass transition temperature (Tg) of the acrylic resin is preferably 100°C or higher. As a result, the softening temperature of the first protective layer is also approximately 100°C or higher. If the Tg of the acrylic resin is 100°C or higher, a polarizing plate including a protective layer obtained from such a resin can be excellent in humidification durability in addition to crack resistance. The Tg of the acrylic resin is more preferably 110°C or higher, even more preferably 115°C or higher, even more preferably 120°C or higher, and particularly preferably 125°C or higher. On the other hand, the Tg of the acrylic resin is preferably 300°C or lower, more preferably 250°C or lower, even more preferably 200°C or lower, and particularly preferably 160°C or lower. If the Tg of the acrylic resin is in such a range, it can be excellent in moldability.

アクリル系樹脂としては、上記のようなTgを有する限りにおいて任意の適切なアクリル系樹脂が採用され得る。アクリル系樹脂は、代表的には、モノマー単位(繰り返し単位)として、アルキル(メタ)アクリレートを主成分として含有する。本明細書において「(メタ)アクリル」とは、アクリルおよび/またはメタクリルを意味する。アクリル系樹脂の主骨格を構成するアルキル(メタ)アクリレートとしては、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基の炭素数1~18のものを例示できる。これらは単独であるいは組み合わせて使用することができる。さらに、アクリル系樹脂には、任意の適切な共重合モノマーを共重合により導入してもよい。アルキル(メタ)アクリレート由来の繰り返し単位は、代表的には、下記一般式(1)で表される:As the acrylic resin, any suitable acrylic resin may be used as long as it has the above Tg. The acrylic resin typically contains alkyl (meth)acrylate as the main component as a monomer unit (repeating unit). In this specification, "(meth)acrylic" means acrylic and/or methacrylic. Examples of the alkyl (meth)acrylate constituting the main skeleton of the acrylic resin include linear or branched alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms. These can be used alone or in combination. Furthermore, any suitable copolymerization monomer may be introduced into the acrylic resin by copolymerization. The repeating unit derived from the alkyl (meth)acrylate is typically represented by the following general formula (1):

Figure 0007628544000001
Figure 0007628544000001

一般式(1)において、Rは、水素原子またはメチル基を示し、Rは、水素原子、あるいは、置換されていてもよい炭素数1~6の脂肪族または脂環式炭化水素基を示す。置換基としては、例えば、ハロゲン、水酸基が挙げられる。アルキル(メタ)アクリレートの具体例としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n-プロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、(メタ)アクリル酸n-ヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニルオキシエチル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニル、(メタ)アクリル酸クロロメチル、(メタ)アクリル酸2-クロロエチル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2,3,4,5,6-ペンタヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸2,3,4,5-テトラヒドロキシペンチル、2-(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル、2-(ヒドロキシメチル)アクリル酸エチル、2-(ヒドロキシエチル)アクリル酸メチルが挙げられる。一般式(1)において、Rは、好ましくは、水素原子またはメチル基である。したがって、特に好ましいアルキル(メタ)アクリレートは、アクリル酸メチルまたはメタクリル酸メチルである。 In general formula (1), R4 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R5 represents a hydrogen atom or an optionally substituted aliphatic or alicyclic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. Examples of the substituent include halogen and a hydroxyl group. Specific examples of alkyl (meth)acrylates include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, dicyclopentanyloxyethyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, chloromethyl (meth)acrylate, 2-chloroethyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2,3,4,5,6-pentahydroxyhexyl (meth)acrylate, 2,3,4,5-tetrahydroxypentyl (meth)acrylate, methyl 2-(hydroxymethyl)acrylate, ethyl 2-(hydroxymethyl)acrylate, and methyl 2-(hydroxyethyl)acrylate. In the general formula (1), R5 is preferably a hydrogen atom or a methyl group. Therefore, a particularly preferred alkyl (meth)acrylate is methyl acrylate or methyl methacrylate.

アクリル系樹脂は、単一のアルキル(メタ)アクリレート単位のみを含んでいてもよいし、上記一般式(1)におけるRおよびRが異なる複数のアルキル(メタ)アクリレート単位を含んでいてもよい。 The acrylic resin may contain only a single alkyl(meth)acrylate unit, or may contain a plurality of alkyl(meth)acrylate units in which R 4 and R 5 in the above general formula (1) are different.

アクリル系樹脂におけるアルキル(メタ)アクリレート単位の含有割合は、好ましくは50モル%~98モル%、より好ましくは55モル%~98モル%、さらに好ましくは60モル%~98モル%、特に好ましくは65モル%~98モル%、最も好ましくは70モル%~97モル%である。含有割合が50モル%より少ないと、アルキル(メタ)アクリレート単位に由来して発現される効果(例えば、高い耐熱性、高い透明性)が十分に発揮されないおそれがある。上記含有割合が98モル%よりも多いと、樹脂が脆くて割れやすくなり、高い機械的強度が十分に発揮できず、生産性に劣るおそれがある。The content of alkyl (meth)acrylate units in the acrylic resin is preferably 50 mol% to 98 mol%, more preferably 55 mol% to 98 mol%, even more preferably 60 mol% to 98 mol%, particularly preferably 65 mol% to 98 mol%, and most preferably 70 mol% to 97 mol%. If the content is less than 50 mol%, the effects derived from the alkyl (meth)acrylate units (e.g., high heat resistance, high transparency) may not be fully exhibited. If the content is more than 98 mol%, the resin may be brittle and easily cracked, and high mechanical strength may not be fully exhibited, resulting in poor productivity.

アクリル系樹脂は、好ましくは、環構造を含む繰り返し単位を有する。環構造を含む繰り返し単位としては、ラクトン環単位、無水グルタル酸単位、グルタルイミド単位、無水マレイン酸単位、マレイミド(N-置換マレイミド)単位が挙げられる。環構造を含む繰り返し単位は、1種類のみがアクリル系樹脂の繰り返し単位に含まれていてもよく、2種類以上が含まれていてもよい。The acrylic resin preferably has a repeating unit containing a ring structure. Examples of repeating units containing a ring structure include lactone ring units, glutaric anhydride units, glutarimide units, maleic anhydride units, and maleimide (N-substituted maleimide) units. The repeating units of the acrylic resin may contain only one type of repeating unit containing a ring structure, or may contain two or more types.

ラクトン環単位は、好ましくは、下記一般式(2)で表される:The lactone ring unit is preferably represented by the following general formula (2):

Figure 0007628544000002
一般式(2)において、R、RおよびRは、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1~20の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。アクリル系樹脂には、単一のラクトン環単位のみが含まれていてもよく、上記一般式(2)におけるR、RおよびRが異なる複数のラクトン環単位が含まれていてもよい。ラクトン環単位を有するアクリル系樹脂は、例えば特開2008-181078号公報に記載されており、当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。
Figure 0007628544000002
In the general formula (2), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms. The organic residue may contain an oxygen atom. The acrylic resin may contain only a single lactone ring unit, or may contain a plurality of lactone ring units in which R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (2) are different. An acrylic resin having a lactone ring unit is described, for example, in JP 2008-181078 A, and the description of this publication is incorporated herein by reference.

グルタルイミド単位は、好ましくは、下記一般式(3)で表される:The glutarimide unit is preferably represented by the following general formula (3):

Figure 0007628544000003
Figure 0007628544000003

一般式(3)において、R11およびR12は、それぞれ独立して、水素または炭素数1~8のアルキル基を示し、R13は、水素、炭素数1~18のアルキル基、炭素数3~12のシクロアルキル基、または炭素数6~10のアリール基を示す。一般式(3)において、好ましくは、R11およびR12は、それぞれ独立して水素またはメチル基であり、R13は水素、メチル基、ブチル基またはシクロヘキシル基である。より好ましくは、R11はメチル基であり、R12は水素であり、R13はメチル基である。アクリル系樹脂には、単一のグルタルイミド単位のみが含まれていてもよく、上記一般式(3)におけるR11、R12およびR13が異なる複数のグルタルイミド単位が含まれていてもよい。グルタルイミド単位を有するアクリル系樹脂は、例えば、特開2006-309033号公報、特開2006-317560号公報、特開2006-328334号公報、特開2006-337491号公報、特開2006-337492号公報、特開2006-337493号公報、特開2006-337569号公報に記載されており、当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。なお、無水グルタル酸単位については、上記一般式(3)におけるR13で置換された窒素原子が酸素原子となること以外は、グルタルイミド単位に関する上記の説明が適用される。 In the general formula (3), R 11 and R 12 each independently represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R 13 represents hydrogen, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. In the general formula (3), preferably, R 11 and R 12 each independently represent hydrogen or a methyl group, and R 13 represents hydrogen, a methyl group, a butyl group, or a cyclohexyl group. More preferably, R 11 represents a methyl group, R 12 represents hydrogen, and R 13 represents a methyl group. The acrylic resin may contain only a single glutarimide unit, or may contain a plurality of glutarimide units in which R 11 , R 12, and R 13 in the general formula (3) are different. Acrylic resins having glutarimide units are described, for example, in JP-A-2006-309033, JP-A-2006-317560, JP-A-2006-328334, JP-A-2006-337491, JP-A-2006-337492, JP-A-2006-337493, and JP-A-2006-337569, the disclosures of which are incorporated herein by reference. Note that, for the glutaric anhydride unit, the above description of the glutarimide unit applies, except that the nitrogen atom substituted with R 13 in the above general formula (3) is an oxygen atom.

無水マレイン酸単位およびマレイミド(N-置換マレイミド)単位については、名称から構造が特定されるので、具体的な説明は省略する。 As the structures of maleic anhydride units and maleimide (N-substituted maleimide) units are specified from their names, detailed explanations are omitted.

アクリル系樹脂における環構造を含む繰り返し単位の含有割合は、好ましくは1モル%~50モル%、より好ましくは10モル%~40モル%、さらに好ましくは20モル%~30モル%である。含有割合が少なすぎると、Tgが100℃未満となる場合があり、得られる保護層の耐熱性、耐溶剤性および表面硬度が不十分となる場合がある。含有割合が多すぎると、成形性および透明性が不十分となる場合がある。The content of repeating units containing a ring structure in the acrylic resin is preferably 1 mol% to 50 mol%, more preferably 10 mol% to 40 mol%, and even more preferably 20 mol% to 30 mol%. If the content is too low, the Tg may be less than 100°C, and the heat resistance, solvent resistance, and surface hardness of the resulting protective layer may be insufficient. If the content is too high, the moldability and transparency may be insufficient.

アクリル系樹脂は、アルキル(メタ)アクリレート単位および環構造を含む繰り返し単位以外の繰り返し単位を含んでいてもよい。そのような繰り返し単位としては、上記の単位を構成する単量体と共重合可能なビニル系単量体由来の繰り返し単位(他のビニル系単量体単位)が挙げられる。他のビニル系単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、2-(ヒドロキシメチル)アクリル酸、2-(ヒドロキシエチル)アクリル酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エタクリロニトリル、アリルグリシジルエーテル、無水マレイン酸、無水イタコン酸、N-メチルマレイミド、N-エチルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、アクリル酸アミノエチル、アクリル酸プロピルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸エチルアミノプロピル、メタクリル酸シクロヘキシルアミノエチル、N-ビニルジエチルアミン、N-アセチルビニルアミン、アリルアミン、メタアリルアミン、N-メチルアリルアミン、2-イソプロペニル-オキサゾリン、2-ビニル-オキサゾリン、2-アクロイル-オキサゾリン、N-フェニルマレイミド、メタクリル酸フェニルアミノエチル、スチレン、α-メチルスチレン、p-グリシジルスチレン、p-アミノスチレン、2-スチリル-オキサゾリン等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく併用してもよい。他のビニル系単量体単位の種類、数、組み合わせ、含有割合等は、目的に応じて適切に設定され得る。The acrylic resin may contain repeating units other than the alkyl (meth)acrylate units and the repeating units containing a ring structure. Examples of such repeating units include repeating units derived from vinyl monomers that are copolymerizable with the monomers that constitute the above units (other vinyl monomer units). Examples of other vinyl monomers include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, 2-(hydroxymethyl)acrylic acid, 2-(hydroxyethyl)acrylic acid, acrylonitrile, methacrylonitrile, ethacrylonitrile, allyl glycidyl ether, maleic anhydride, itaconic anhydride, N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, aminoethyl acrylate, propylaminoethyl acrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, ethylaminopropyl methacrylate, cyclohexylaminoethyl methacrylate, N-vinyldiethylamine, N-acetylvinylamine, allylamine, methallylamine, N-methylallylamine, 2-isopropenyl-oxazoline, 2-vinyl-oxazoline, 2-acroyl-oxazoline, N-phenylmaleimide, phenylaminoethyl methacrylate, styrene, α-methylstyrene, p-glycidylstyrene, p-aminostyrene, and 2-styryl-oxazoline. These may be used alone or in combination. The type, number, combination, content ratio, etc. of the other vinyl monomer units may be appropriately set depending on the purpose.

アクリル系樹脂の重量平均分子量は、好ましくは1000~2000000、より好ましくは5000~1000000、さらに好ましくは10000~500000、特に好ましくは50000~500000、最も好ましくは60000~150000である。重量平均分子量は、例えば、ゲル浸透クロマトグラフ(GPCシステム,東ソー製)を用いて、ポリスチレン換算により求めることができる。なお、溶剤としてはテトラヒドロフランが用いられ得る。The weight average molecular weight of the acrylic resin is preferably 1,000 to 2,000,000, more preferably 5,000 to 1,000,000, even more preferably 10,000 to 500,000, particularly preferably 50,000 to 500,000, and most preferably 60,000 to 150,000. The weight average molecular weight can be determined, for example, using a gel permeation chromatograph (GPC system, manufactured by Tosoh Corporation) in terms of polystyrene. Tetrahydrofuran can be used as the solvent.

アクリル系樹脂は、上記の単量体単位を適切に組み合わせて用いて、任意の適切な重合方法により重合され得る。The acrylic resin may be polymerized by any suitable polymerization method using an appropriate combination of the above monomer units.

本発明の実施形態においては、アクリル系樹脂と他の樹脂とを併用してもよい。すなわち、アクリル系樹脂を構成するモノマー成分と他の樹脂を構成するモノマー成分とを共重合し、当該共重合体を後述する保護層の成形に供してもよく;アクリル系樹脂と他の樹脂とのブレンドを保護層の成形に供してもよい。他の樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール、ポリイミド、ポリエーテルイミド等の熱可塑性樹脂が挙げられる。併用する樹脂の種類および配合量は、目的および得られるフィルムに所望される特性等に応じて適切に設定され得る。例えば、スチレン系樹脂(好ましくは、アクリロニトリル-スチレン共重合体)は、位相差制御剤として併用され得る。In an embodiment of the present invention, an acrylic resin may be used in combination with another resin. That is, a monomer component constituting an acrylic resin may be copolymerized with a monomer component constituting another resin, and the copolymer may be used to form a protective layer described later; a blend of an acrylic resin and another resin may be used to form a protective layer. Examples of other resins include thermoplastic resins such as styrene resins, polyethylene, polypropylene, polyamide, polyphenylene sulfide, polyether ether ketone, polyester, polysulfone, polyphenylene oxide, polyacetal, polyimide, and polyetherimide. The type and amount of the resin used in combination may be appropriately set depending on the purpose and the desired properties of the resulting film. For example, a styrene resin (preferably an acrylonitrile-styrene copolymer) may be used in combination as a retardation control agent.

本実施形態の第1の保護層におけるアクリル系樹脂の含有量は、好ましくは50重量%~100重量%、より好ましくは60重量%~100重量%、さらに好ましくは70重量%~100重量%、特に好ましくは80重量%~100重量%である。含有量が50重量%未満である場合には、アクリル系樹脂が本来有する高い耐熱性、高い透明性が十分に反映できないおそれがある。The content of the acrylic resin in the first protective layer of this embodiment is preferably 50% by weight to 100% by weight, more preferably 60% by weight to 100% by weight, even more preferably 70% by weight to 100% by weight, and particularly preferably 80% by weight to 100% by weight. If the content is less than 50% by weight, the high heat resistance and high transparency inherent to the acrylic resin may not be fully reflected.

本実施形態の第1の保護層は、例えば、偏光子表面に、アクリル系樹脂の有機溶媒溶液を塗布して塗布膜を形成し、当該塗布膜を固化させることによって形成され得る。The first protective layer of this embodiment can be formed, for example, by applying an organic solvent solution of an acrylic resin to the polarizer surface to form a coating film and then solidifying the coating film.

有機溶媒としては、アクリル系樹脂を溶解または均一に分散し得る任意の適切な有機溶媒を用いることができる。有機溶媒の具体例としては、酢酸エチル、トルエン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、シクロペンタノン、シクロヘキサノンが挙げられる。As the organic solvent, any suitable organic solvent capable of dissolving or uniformly dispersing the acrylic resin can be used. Specific examples of organic solvents include ethyl acetate, toluene, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclopentanone, and cyclohexanone.

溶液のアクリル系樹脂濃度は、溶媒100重量部に対して、好ましくは3重量部~20重量部である。このような樹脂濃度であれば、偏光子に密着した均一な塗布膜を形成することができる。The acrylic resin concentration in the solution is preferably 3 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of the solvent. With such a resin concentration, a uniform coating film that adheres closely to the polarizer can be formed.

溶液は、任意の適切な基材に塗布してもよく、偏光子に塗布してもよい。基材に塗布する場合には、基材上に形成された塗布膜の固化物が偏光子に転写される。偏光子に塗布する場合には、塗布膜を乾燥(固化)させることにより、偏光子上に第1の保護層が直接形成される。好ましくは、溶液は偏光子に塗布され、偏光子上に第1の保護層が直接形成される。このような構成であれば、転写に必要とされる接着剤層または粘着剤層を省略することができるので、偏光板をさらに薄くすることができる。溶液の塗布方法としては、任意の適切な方法を採用することができる。具体例としては、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、ダイコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ナイフコート法(コンマコート法等)が挙げられる。The solution may be applied to any suitable substrate or to a polarizer. When the solution is applied to a substrate, the solidified coating film formed on the substrate is transferred to the polarizer. When the solution is applied to a polarizer, the coating film is dried (solidified) to form a first protective layer directly on the polarizer. Preferably, the solution is applied to a polarizer, and a first protective layer is formed directly on the polarizer. With such a configuration, the adhesive layer or pressure-sensitive adhesive layer required for transfer can be omitted, so that the polarizing plate can be made even thinner. Any suitable method can be adopted as a method for applying the solution. Specific examples include roll coating, spin coating, wire bar coating, dip coating, die coating, curtain coating, spray coating, and knife coating (comma coating, etc.).

溶液の塗布膜を乾燥(固化)させることにより、第1の保護層が形成され得る。乾燥温度は、好ましくは100℃以下であり、より好ましくは50℃~70℃である。乾燥温度がこのような範囲であれば、偏光子に対する悪影響を防止することができる。乾燥時間は、乾燥温度に応じて変化し得る。乾燥時間は、例えば1分~10分であり得る。The first protective layer can be formed by drying (solidifying) the coating film of the solution. The drying temperature is preferably 100°C or less, and more preferably 50°C to 70°C. If the drying temperature is in this range, adverse effects on the polarizer can be prevented. The drying time can vary depending on the drying temperature. The drying time can be, for example, 1 minute to 10 minutes.

A-4-2.エポキシ樹脂の光カチオン硬化物
1つの実施形態においては、第1の保護層は、エポキシ樹脂の光カチオン硬化物で構成される。このような保護層を用いることにより、クラックの発生が抑制され、かつ、優れた加湿耐久性が得られ得る。上記のとおり、第1の保護層が光カチオン硬化物であるため、保護層形成用組成物は光カチオン重合開始剤を含む。光カチオン重合開始剤は、光酸発生剤の機能を持つ感光剤であり、代表的にはカチオン部とアニオン部とからなるイオン性のオニウム塩が挙げられる。このオニウム塩において、カチオン部は光を吸収し、アニオン部は酸の発生源となる。この光カチオン重合開始剤から発生した酸によりエポキシ基の開環重合が進行する。得られる光カチオン硬化物である第1の保護層は軟化温度が高く、ヨウ素吸着量が低減され得る。そのため、クラックの発生が抑制され、かつ、優れた加湿耐久性を有する偏光板を提供することができる。
A-4-2. Photo-cured epoxy resin In one embodiment, the first protective layer is composed of a photo-cured epoxy resin. By using such a protective layer, the occurrence of cracks is suppressed and excellent humidification durability can be obtained. As described above, since the first protective layer is a photo-cured epoxy resin, the protective layer forming composition contains a photo-cured cationic polymerization initiator. The photo-cured cationic polymerization initiator is a photosensitive agent having a function of a photoacid generator, and a representative example is an ionic onium salt consisting of a cationic portion and an anionic portion. In this onium salt, the cationic portion absorbs light, and the anionic portion serves as a source of acid generation. The acid generated from this photo-cured cationic polymerization initiator causes ring-opening polymerization of the epoxy group. The first protective layer, which is the obtained photo-cured cationic portion, has a high softening temperature and can have a reduced amount of iodine adsorption. Therefore, it is possible to provide a polarizing plate that is suppressed from causing cracks and has excellent humidification durability.

本実施形態の第1の保護層の軟化温度は、加湿耐久性の観点から、好ましくは100℃以上、より好ましくは110℃以上、さらに好ましくは120℃以上、特に好ましくは125℃以上であり、また、成形性の観点から、好ましくは300℃以下、より好ましくは250℃以下、さらに好ましくは200℃以下、特に好ましくは160℃以下である。The softening temperature of the first protective layer in this embodiment is, from the viewpoint of humid durability, preferably 100°C or higher, more preferably 110°C or higher, even more preferably 120°C or higher, and particularly preferably 125°C or higher, and from the viewpoint of formability, is preferably 300°C or lower, more preferably 250°C or lower, even more preferably 200°C or lower, and particularly preferably 160°C or lower.

A-4-2-1.エポキシ樹脂
エポキシ樹脂としては、任意の適切なエポキシ樹脂を用いることができ、芳香環または脂環を有するエポキシ樹脂が好ましく用いられ得る。本実施形態においては、好ましくは芳香族骨格および水素添加された芳香族骨格からなる群より選択される少なくとも1種を有するエポキシ樹脂を用いることができる。芳香族骨格としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環等が挙げられる。エポキシ樹脂は1種のみを用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。好ましくは芳香族骨格としてビフェニル骨格もしくはビスフェノール骨格を有するエポキシ樹脂またはその水添物が用いられる。このようなエポキシ樹脂を用いることにより、より優れた耐久性を有し、屈曲性にも優れた偏光板が提供され得る。以下、代表例として、ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂について詳細に説明する。
A-4-2-1. Epoxy resin Any suitable epoxy resin can be used as the epoxy resin, and an epoxy resin having an aromatic ring or an alicyclic ring can be preferably used. In this embodiment, an epoxy resin having at least one selected from the group consisting of an aromatic skeleton and a hydrogenated aromatic skeleton can be preferably used. Examples of the aromatic skeleton include a benzene ring, a naphthalene ring, and a fluorene ring. Only one type of epoxy resin may be used, or two or more types may be used in combination. Preferably, an epoxy resin having a biphenyl skeleton or a bisphenol skeleton as the aromatic skeleton, or a hydrogenated product thereof, is used. By using such an epoxy resin, a polarizing plate having excellent durability and excellent flexibility can be provided. Hereinafter, an epoxy resin having a biphenyl skeleton will be described in detail as a representative example.

1つの実施形態において、ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂は、以下の構造を含むエポキシ樹脂である。ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂は1種のみを用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(式中、R14~R21は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1~12の直鎖状もしくは分岐状の置換または非置換の炭化水素基、または、ハロゲン元素を表す)。
In one embodiment, the epoxy resin having a biphenyl skeleton is an epoxy resin having the following structure: The epoxy resin having a biphenyl skeleton may be used alone or in combination of two or more kinds.
(In the formula, R 14 to R 21 each independently represent a hydrogen atom, a linear or branched, substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or a halogen element).

14~R21は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1~12の直鎖状もしくは分岐状の置換または非置換の炭化水素基、または、ハロゲン元素を表す。炭素数1~12の直鎖状または分岐状の置換または非置換の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert-ペンチル基、シクロペンチル基、n-ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル基、n-ヘプチル基、シクロヘプチル基、メチルシクロヘキシル基、n-オクチル基、シクロオクチル基、n-ノニル基、3,3,5-トリメチルシクロヘキシル基、n-デシル基、シクロデシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル基、シクロドデシル基、フェニル基、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基、2-フェニルイソプロピル基等が挙げられる。炭素数1~12の直鎖状もしくは分岐状の置換または非置換の炭化水素基としては、好ましくはメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基等の炭素数1~4のアルキル基が挙げられる。ハロゲン元素としては、好ましくはフッ素および臭素が挙げられる。 R 14 to R 21 each independently represent a hydrogen atom, a linear or branched, substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or a halogen element. Examples of linear or branched, substituted or unsubstituted hydrocarbon groups having 1 to 12 carbon atoms include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, isopentyl, neopentyl, tert-pentyl, cyclopentyl, n-hexyl, isohexyl, cyclohexyl, n-heptyl, cycloheptyl, methylcyclohexyl, n-octyl, cyclooctyl, n-nonyl, 3,3,5-trimethylcyclohexyl, n-decyl, cyclodecyl, n-undecyl, n-dodecyl, cyclododecyl, phenyl, benzyl, methylbenzyl, dimethylbenzyl, trimethylbenzyl, naphthylmethyl, phenethyl, and 2-phenylisopropyl groups. Preferred examples of the linear or branched, substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, etc. Preferred examples of the halogen element include fluorine and bromine.

1つの実施形態においては、ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂は下記式で表されるエポキシ樹脂である。
(式中、R14~R21は上記の通りであり、nは0~6の整数を表す)。
In one embodiment, the epoxy resin having a biphenyl skeleton is an epoxy resin represented by the following formula:
(wherein R 14 to R 21 are as defined above, and n represents an integer of 0 to 6).

1つの実施形態において、ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂はビフェニル骨格のみを有するエポキシ樹脂である。ビフェニル骨格のみを有するエポキシ樹脂を用いることにより、得られる保護層の耐久性がさらに向上し得る。In one embodiment, the epoxy resin having a biphenyl skeleton is an epoxy resin having only a biphenyl skeleton. By using an epoxy resin having only a biphenyl skeleton, the durability of the obtained protective layer can be further improved.

1つの実施形態においては、ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂はビフェニル骨格以外の化学構造を含んでいてもよい。ビフェニル骨格以外の化学構造としては、例えば、ビスフェノール骨格、脂環式構造、芳香族環構造等が挙げられる。この実施形態においては、ビフェニル骨格以外の化学構造の割合(モル比)はビフェニル骨格よりも少ないことが好ましい。In one embodiment, the epoxy resin having a biphenyl skeleton may contain a chemical structure other than the biphenyl skeleton. Examples of the chemical structure other than the biphenyl skeleton include a bisphenol skeleton, an alicyclic structure, and an aromatic ring structure. In this embodiment, the proportion (molar ratio) of the chemical structure other than the biphenyl skeleton is preferably less than that of the biphenyl skeleton.

ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂としては市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、三菱ケミカル社製、商品名:jER YX4000、jER YX4000H、jER YL6121、jER YL664、jER YL6677、jER YL6810、jER YL7399等が挙げられる。Commercially available epoxy resins having a biphenyl skeleton may be used. Examples of commercially available products include jER YX4000, jER YX4000H, jER YL6121, jER YL664, jER YL6677, jER YL6810, and jER YL7399 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation.

上記エポキシ樹脂(光カチオン硬化後のエポキシ樹脂)は、好ましくはガラス転移温度(Tg)が100℃以上である。その結果、保護層の軟化温度も、ほぼ100℃以上となる。エポキシ樹脂のTgが100℃以上であれば、得られる保護層を含む偏光板は、耐久性に優れたものとなりやすい。エポキシ樹脂のTgは、より好ましくは110℃以上、さらに好ましくは120℃以上、特に好ましくは125℃以上である。一方、エポキシ樹脂のTgは、好ましくは300℃以下、より好ましくは250℃以下、さらに好ましくは200℃以下、特に好ましくは160℃以下である。エポキシ樹脂のTgがこのような範囲であれば、成形性に優れ得る。The above epoxy resin (epoxy resin after photocationic curing) preferably has a glass transition temperature (Tg) of 100°C or higher. As a result, the softening temperature of the protective layer is also approximately 100°C or higher. If the Tg of the epoxy resin is 100°C or higher, the resulting polarizing plate including the protective layer tends to have excellent durability. The Tg of the epoxy resin is more preferably 110°C or higher, even more preferably 120°C or higher, and particularly preferably 125°C or higher. On the other hand, the Tg of the epoxy resin is preferably 300°C or lower, more preferably 250°C or lower, even more preferably 200°C or lower, and particularly preferably 160°C or lower. If the Tg of the epoxy resin is in such a range, it can have excellent moldability.

上記エポキシ樹脂のエポキシ当量は、好ましくは100g/当量以上であり、より好ましくは150g/当量以上、さらに好ましくは200g/当量以上である。また、エポキシ樹脂のエポキシ当量は、好ましくは3000g/当量以下であり、より好ましくは2500g/当量以下、さらに好ましくは2000g/当量以下である。エポキシ当量が上記範囲であることにより、より安定した保護層(残存モノマーが少なく、十分に硬化した保護層)が得られる。なお、本明細書において「エポキシ当量」とは、「1当量のエポキシ基を含むエポキシ樹脂の質量」をいい、JIS K7236に準じて測定することができる。The epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 100 g/equivalent or more, more preferably 150 g/equivalent or more, and even more preferably 200 g/equivalent or more. The epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 3000 g/equivalent or less, more preferably 2500 g/equivalent or less, and even more preferably 2000 g/equivalent or less. By setting the epoxy equivalent within the above range, a more stable protective layer (a protective layer with less residual monomer and sufficiently cured) can be obtained. In this specification, the term "epoxy equivalent" refers to the "mass of an epoxy resin containing one equivalent of epoxy groups" and can be measured in accordance with JIS K7236.

本実施形態においては、上記エポキシ樹脂と他の樹脂とを併用してもよい。すなわち、上記エポキシ樹脂(例えば、芳香族骨格および水素添加された芳香族骨格からなる群より選択される少なくとも1種を有するエポキシ樹脂)と他の樹脂とのブレンドを保護層の成形に供してもよい。他の樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール、ポリイミド、ポリエーテルイミド等の熱可塑性樹脂、アクリル系樹脂およびオキセタン系樹脂等の硬化型樹脂が挙げられる。好ましくは、アクリル系樹脂およびオキセタン系樹脂が用いられる。併用する樹脂の種類および配合量は、目的および得られるフィルムに所望される特性等に応じて適切に設定され得る。例えば、スチレン系樹脂は、位相差制御剤として併用され得る。In this embodiment, the epoxy resin may be used in combination with other resins. That is, a blend of the epoxy resin (e.g., an epoxy resin having at least one selected from the group consisting of an aromatic skeleton and a hydrogenated aromatic skeleton) with other resins may be used to form the protective layer. Examples of other resins include thermoplastic resins such as styrene-based resins, polyethylene, polypropylene, polyamide, polyphenylene sulfide, polyether ether ketone, polyester, polysulfone, polyphenylene oxide, polyacetal, polyimide, and polyetherimide, and curable resins such as acrylic resins and oxetane resins. Preferably, acrylic resins and oxetane resins are used. The type and amount of the resin used in combination can be appropriately set depending on the purpose and the properties desired for the resulting film. For example, a styrene-based resin can be used in combination as a retardation control agent.

アクリル系樹脂としては、任意の適切な(メタ)アクリル系化合物を用いることができる。例えば、(メタ)アクリル系化合物としては、例えば、分子内に一個の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリル系化合物(以下、「単官能(メタ)アクリル系化合物」ともいう)、分子内に二個以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリル系化合物(以下、「多官能(メタ)アクリル系化合物」ともいう)が挙げられる。これらの(メタ)アクリル系化合物は、単独で用いてもよく、2種類以上組み合わせて用いてもよい。これらのアクリル系樹脂については、例えば特開2019-168500号公報に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。Any suitable (meth)acrylic compound can be used as the acrylic resin. For example, the (meth)acrylic compound may be, for example, a (meth)acrylic compound having one (meth)acryloyl group in the molecule (hereinafter also referred to as a "monofunctional (meth)acrylic compound"), or a (meth)acrylic compound having two or more (meth)acryloyl groups in the molecule (hereinafter also referred to as a "polyfunctional (meth)acrylic compound"). These (meth)acrylic compounds may be used alone or in combination of two or more. These acrylic resins are described, for example, in JP 2019-168500 A. The entire disclosure of this publication is incorporated herein by reference.

オキセタン樹脂としては、分子内にオキセタニル基を1個以上有する任意の適切な化合物が用いられる。例えば、3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン、3-エチル-3-(2-エチルヘキシルオキシメチル)オキセタン、3-エチル-3-(フェノキシメチル)オキセタン、3-エチル-3-(シクロヘキシルオキシメチル)オキセタン、3-エチル-3-(オキシラニルメトキシ)オキセタン、(メタ)アクリル酸(3-エチルオキセタン-3-イル)メチル等の分子内にオキセタニル基を1個有するオキセタン化合物;3-エチル-3{[(3-エチルオキセタン-3-イル)メトキシ]メチル}オキセタン、1,4-ビス[(3-エチル-3-オキセタニル)メトキシメチル]ベンゼン、4,4’-ビス[(3-エチル-3-オキセタニル)メトキシメチル]ビフェニル等の分子内にオキセタニル基を2個以上有するオキセタン化合物;等が挙げられる。これらオキセタン樹脂は1種のみを用いてもよく、2種以上を組み合わせてもよい。 As the oxetane resin, any suitable compound having one or more oxetanyl groups in the molecule can be used. Examples of the oxetane compounds include oxetane compounds having one oxetanyl group in the molecule, such as 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 3-ethyl-3-(2-ethylhexyloxymethyl)oxetane, 3-ethyl-3-(phenoxymethyl)oxetane, 3-ethyl-3-(cyclohexyloxymethyl)oxetane, 3-ethyl-3-(oxiranylmethoxy)oxetane, and (meth)acrylate (3-ethyloxetan-3-yl)methyl; and oxetane compounds having two or more oxetanyl groups in the molecule, such as 3-ethyl-3{[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]methyl}oxetane, 1,4-bis[(3-ethyl-3-oxetanyl)methoxymethyl]benzene, and 4,4'-bis[(3-ethyl-3-oxetanyl)methoxymethyl]biphenyl. These oxetane resins may be used alone or in combination of two or more.

オキセタン樹脂としては、好ましくは3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン、1,4-ビス[(3-エチル-3-オキセタニル)メトキシメチル]ベンゼン、3-エチル-3-(2-エチルヘキシルオキシメチル)オキセタン、3-エチル-3-(オキシラニルメトキシ)オキセタン、(メタ)アクリル酸(3-エチルオキセタン-3-イル)メチル、3-エチル-3{[(3-エチルオキセタン-3-イル)メトキシ]メチル}オキセタン等が用いられる。これらのオキセタン樹脂は、容易に入手可能であり、希釈性(低粘度)、相溶性に優れ得る。 As the oxetane resin, preferably used are 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 1,4-bis[(3-ethyl-3-oxetanyl)methoxymethyl]benzene, 3-ethyl-3-(2-ethylhexyloxymethyl)oxetane, 3-ethyl-3-(oxiranylmethoxy)oxetane, (3-ethyloxetan-3-yl)methyl (meth)acrylate, 3-ethyl-3{[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]methyl}oxetane, etc. These oxetane resins are easily available and have excellent dilution properties (low viscosity) and compatibility.

1つの実施形態においては、相溶性や接着性の点から、好ましくは分子量500以下であり、室温(25℃)で液状のオキセタン樹脂が用いられる。1つの実施形態においては、好ましくは分子内に2個以上のオキセタニル基を含有するオキセタン化合物、分子内に1個のオキセタニル基と1個の(メタ)アクリロイル基または1個のエポキシ基を含有するオキセタン化合物が用いられ、より好ましくは3-エチル-3{[(3-エチルオキセタン-3-イル)メトキシ]メチル}オキセタン、3-エチル-3-(オキシラニルメトキシ)オキセタン、(メタ)アクリル酸(3-エチルオキセタン-3-イル)メチルが用いられる。これらのオキセタン樹脂を用いることにより、保護層の硬化性および耐久性が向上し得る。In one embodiment, from the viewpoint of compatibility and adhesiveness, an oxetane resin is used that has a molecular weight of 500 or less and is liquid at room temperature (25°C). In one embodiment, an oxetane compound containing two or more oxetanyl groups in the molecule, or an oxetane compound containing one oxetanyl group and one (meth)acryloyl group or one epoxy group in the molecule is preferably used, and more preferably 3-ethyl-3{[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]methyl}oxetane, 3-ethyl-3-(oxiranylmethoxy)oxetane, or (3-ethyloxetan-3-yl)methyl (meth)acrylate is used. By using these oxetane resins, the curing property and durability of the protective layer can be improved.

オキセタン樹脂としては、市販品を用いてもよい。具体的には、アロンオキセタンOXT-101、アロンオキセタンOXT-121、アロンオキセタンOXT-212、アロンオキセタンOXT-221(いずれも東亞合成社製)を用いることができる。好ましくはアロンオキセタンOXT-101およびアロンオキセタンOXT-221を用いることができる。As the oxetane resin, a commercially available product may be used. Specifically, ARON OXT-101, ARON OXT-121, ARON OXT-212, and ARON OXT-221 (all manufactured by Toagosei Co., Ltd.) may be used. Preferably, ARON OXT-101 and ARON OXT-221 can be used.

本実施形態の第1の保護層における上記エポキシ樹脂(例えば、芳香族骨格および水素添加された芳香族骨格からなる群より選択される少なくとも1種を有するエポキシ樹脂)の含有量は、好ましくは50重量%~100重量%、より好ましくは60重量%~100重量%、さらに好ましくは70重量%~100重量%、特に好ましくは80重量%~100重量%である。含有量が50重量%未満である場合には、保護層の耐熱性および偏光子との十分な密着性とが得られないおそれがある。The content of the above-mentioned epoxy resin (e.g., an epoxy resin having at least one selected from the group consisting of an aromatic skeleton and a hydrogenated aromatic skeleton) in the first protective layer of this embodiment is preferably 50% by weight to 100% by weight, more preferably 60% by weight to 100% by weight, even more preferably 70% by weight to 100% by weight, and particularly preferably 80% by weight to 100% by weight. If the content is less than 50% by weight, the heat resistance of the protective layer and sufficient adhesion to the polarizer may not be obtained.

ビフェニル骨格またはビスフェノール骨格を有するエポキシ樹脂とオキセタン樹脂とを併用する場合、エポキシ系樹脂とオキセタン樹脂の合計量100重量部に対して、オキセタン樹脂の含有量は好ましくは1重量部~50重量部、より好ましくは5重量部~45重量部、さらに好ましくは10重量部~40重量部である。上記範囲とすることにより、硬化性が向上し、保護層と偏光子との密着性も向上し得る。When an epoxy resin having a biphenyl skeleton or a bisphenol skeleton is used in combination with an oxetane resin, the content of the oxetane resin is preferably 1 to 50 parts by weight, more preferably 5 to 45 parts by weight, and even more preferably 10 to 40 parts by weight, per 100 parts by weight of the total amount of the epoxy resin and the oxetane resin. By setting the content within the above range, the curability is improved, and the adhesion between the protective layer and the polarizer can also be improved.

A-4-2-2.光カチオン重合開始剤
光カチオン重合開始剤は、光酸発生剤の機能を持つ感光剤であり、代表的にはカチオン部とアニオン部とからなるイオン性のオニウム塩が挙げられる。このオニウム塩において、カチオン部は光を吸収し、アニオン部は酸の発生源となる。この光カチオン重合開始剤から発生した酸によりエポキシ基の開環重合が進行する。光カチオン重合開始剤としては、紫外線等の光照射により芳香族骨格および水素添加された芳香族骨格からなる群より選択される少なくとも1種を有するエポキシ樹脂を硬化させることができる任意の適切な化合物を用いることができる。光カチオン重合開始剤は1種のみを用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
A-4-2-2. Photocationic polymerization initiator The photocationic polymerization initiator is a photosensitive agent having the function of a photoacid generator, and a representative example is an ionic onium salt consisting of a cationic portion and an anionic portion. In this onium salt, the cationic portion absorbs light, and the anionic portion serves as a source of acid generation. Ring-opening polymerization of the epoxy group proceeds due to the acid generated from this photocationic polymerization initiator. As the photocationic polymerization initiator, any appropriate compound that can cure an epoxy resin having at least one selected from the group consisting of an aromatic skeleton and a hydrogenated aromatic skeleton by irradiation with light such as ultraviolet light can be used. Only one type of photocationic polymerization initiator may be used, or two or more types may be used in combination.

光カチオン重合開始剤としては、例えば、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、p-(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、p-(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、4-クロルフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、4-クロルフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス[4-(ジフェニルスルフォニオ)フェニル]スルフィドビスヘキサフルオロホスフェート、ビス[4-(ジフェニルスルフォニオ)フェニル]スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート、(2,4-シクロペンタジエン-1-イル)[(1-メチルエチル)ベンゼン]-Fe-ヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。好ましくは、トリフェニルスルホニウム塩系ヘキサフルオロアンチモネートタイプの光カチオン重合開始剤、ジフェニルヨードニウム塩系ヘキサフルオロアンチモネートタイプの光カチオン重合開始剤が用いられる。Examples of photocationic polymerization initiators include triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium hexafluorophosphate, p-(phenylthio)phenyl diphenylsulfonium hexafluoroantimonate, p-(phenylthio)phenyl diphenylsulfonium hexafluorophosphate, 4-chlorophenyl diphenylsulfonium hexafluorophosphate, 4-chlorophenyl diphenylsulfonium hexafluoroantimonate, bis[4-(diphenylsulfonio)phenyl]sulfide bishexafluorophosphate, bis[4-(diphenylsulfonio)phenyl]sulfide bishexafluoroantimonate, (2,4-cyclopentadiene-1-yl)[(1-methylethyl)benzene]-Fe-hexafluorophosphate, and diphenyliodonium hexafluoroantimonate. Preferably, a triphenylsulfonium salt-based hexafluoroantimonate type photocationic polymerization initiator or a diphenyliodonium salt-based hexafluoroantimonate type photocationic polymerization initiator is used.

光カチオン重合開始剤としては市販品を用いてもよい。市販品としては、トリフェニルスルホニウム塩系ヘキサフルオロアンチモネートタイプのSP-170(ADEKA社製)、CPI-101A(サンアプロ社製)、WPAG-1056(和光純薬工業社製)、ジフェニルヨードニウム塩系ヘキサフルオロアンチモネートタイプのWPI-116(和光純薬工業社製)等が挙げられる。Commercially available photocationic polymerization initiators may be used. Examples of commercially available products include triphenylsulfonium salt-based hexafluoroantimonate type SP-170 (manufactured by ADEKA Corporation), CPI-101A (manufactured by San-Apro Corporation), WPAG-1056 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and diphenyliodonium salt-based hexafluoroantimonate type WPI-116 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.).

光カチオン重合開始剤の含有量は、上記エポキシ樹脂(例えば、芳香族骨格および水素添加された芳香族骨格からなる群より選択される少なくとも1種を有するエポキシ樹脂)100重量部に対して、好ましくは0.1重量部~3重量部であり、より好ましくは0.25重量部~2重量部である。光カチオン重合開始剤の含有量が0.1重量部未満の場合、光(紫外線)を照射しても十分に硬化しない場合がある。The content of the cationic photopolymerization initiator is preferably 0.1 to 3 parts by weight, and more preferably 0.25 to 2 parts by weight, per 100 parts by weight of the epoxy resin (e.g., an epoxy resin having at least one selected from the group consisting of an aromatic skeleton and a hydrogenated aromatic skeleton). If the content of the cationic photopolymerization initiator is less than 0.1 part by weight, the resin may not be sufficiently cured even when irradiated with light (ultraviolet rays).

本実施形態の第1の保護層は、例えば、上記エポキシ樹脂と光カチオン重合開始剤とを含む組成物を塗布して塗膜を形成し、該塗膜に光(例えば、紫外線)を照射することにより形成され得る。The first protective layer of this embodiment can be formed, for example, by applying a composition containing the above-mentioned epoxy resin and a photocationic polymerization initiator to form a coating film, and then irradiating the coating film with light (e.g., ultraviolet light).

上記組成物に含まれる溶媒としては、エポキシ樹脂および硬化剤を溶解または均一に分散し得る任意の適切な溶媒を用いることができる。溶媒の具体例としては、酢酸エチル、トルエン、メチリエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、シクロペンタノン、シクロヘキサノンが挙げられる。The solvent contained in the composition may be any suitable solvent capable of dissolving or uniformly dispersing the epoxy resin and the curing agent. Specific examples of the solvent include ethyl acetate, toluene, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclopentanone, and cyclohexanone.

上記組成物におけるエポキシ樹脂濃度は、溶媒100重量部に対して、好ましくは10重量部~30重量部である。このような樹脂濃度であれば、偏光子に密着した均一な塗布膜を形成することができる。The epoxy resin concentration in the above composition is preferably 10 to 30 parts by weight per 100 parts by weight of the solvent. With such a resin concentration, a uniform coating film that adheres closely to the polarizer can be formed.

上記組成物は、任意の適切な基材に塗布してもよく、偏光子に塗布してもよい。基材に塗布する場合には、基材上に形成された塗布膜の硬化物が偏光子に転写される。偏光子に塗布する場合には、塗布膜を例えば光照射により硬化させることにより、偏光子上に第1の保護層が直接形成される。好ましくは、上記組成物は偏光子に塗布され、偏光子上に第1の保護層が直接形成される。このような構成であれば、転写に必要とされる接着剤層または粘着剤層を省略することができるので、偏光板をさらに薄くすることができる。組成物の塗布方法としては、上述の通りである。The composition may be applied to any suitable substrate or to a polarizer. When the composition is applied to a substrate, the cured product of the coating film formed on the substrate is transferred to the polarizer. When the composition is applied to a polarizer, the coating film is cured, for example, by light irradiation, to form a first protective layer directly on the polarizer. Preferably, the composition is applied to a polarizer, and a first protective layer is formed directly on the polarizer. With this configuration, the adhesive layer or pressure-sensitive adhesive layer required for transfer can be omitted, making it possible to further thin the polarizing plate. The method of applying the composition is as described above.

光照射により塗布膜を硬化させる場合、任意の適切な光源を用いて任意の適切な照射量となるよう塗布膜に光(代表的には紫外線)が照射され得る。紫外線の光源としては、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、無電極ランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライドランプ、ケミカルランプ、ブラックライト、LEDランプ等を用いることができる。紫外線の照射量は、例えば、2mJ/cm~3000mJ/cm、好ましくは10mJ/cm~2000mJ/cmである。具体的には、光源として高圧水銀灯を用いる場合、照射量は通常5mJ/cm~3000mJ/cm、好ましくは50mJ/cm~2000mJ/cmの条件で行われる。光源として無電極ランプを用いる場合、照射量は、通常2mJ/cm~2000mJ/cm、好ましくは10mJ/cm~1000mJ/cmの条件で行われる。 When the coating film is cured by light irradiation, the coating film can be irradiated with light (typically ultraviolet light) using any suitable light source so as to have any suitable irradiation amount. As the light source of ultraviolet light, for example, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, an electrodeless lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a chemical lamp, a black light, an LED lamp, etc. can be used. The irradiation amount of ultraviolet light is, for example, 2 mJ/cm 2 to 3000 mJ/cm 2 , preferably 10 mJ/cm 2 to 2000 mJ/cm 2. Specifically, when a high pressure mercury lamp is used as the light source, the irradiation amount is usually 5 mJ/cm 2 to 3000 mJ/cm 2 , preferably 50 mJ/cm 2 to 2000 mJ/cm 2 . When an electrodeless lamp is used as the light source, the irradiation amount is usually 2 mJ/cm 2 to 2000 mJ/cm 2 , preferably 10 mJ/cm 2 to 1000 mJ/cm 2 .

照射時間は、光源の種類、光源と塗布面との距離、塗布厚、その他の条件に応じて、任意の適切な値に設定され得る。照射時間は、通常は、数秒~数十秒であり、数分の1秒でもよい。光の照射は、任意の適切な方向から照射することができる。不均一な硬化を防ぐ点で、保護層形成用組成物の塗工面側から照射することが好ましい。The irradiation time can be set to any appropriate value depending on the type of light source, the distance between the light source and the coating surface, the coating thickness, and other conditions. The irradiation time is usually several seconds to several tens of seconds, and may be a fraction of a second. Light can be irradiated from any appropriate direction. In order to prevent uneven curing, it is preferable to irradiate from the coated surface side of the composition for forming a protective layer.

紫外線照射等の光照射による露光後、光反応による硬化を完結させるために加熱処理をさらに施してもよい。加熱処理は任意の適切な温度および時間で行われ得る。加熱温度は、例えば、80℃~250℃であり、好ましくは100℃~150℃である。加熱時間は、例えば、10秒~2時間であり、好ましくは5分~1時間である。After exposure to light such as ultraviolet light, a heat treatment may be further carried out to complete the curing by photoreaction. The heat treatment may be carried out at any appropriate temperature and time. The heating temperature is, for example, 80°C to 250°C, and preferably 100°C to 150°C. The heating time is, for example, 10 seconds to 2 hours, and preferably 5 minutes to 1 hour.

A-4-3.エポキシ樹脂の有機溶媒溶液の塗布膜の固化物
1つの実施形態においては、第1の保護層はエポキシ樹脂の有機溶媒溶液の塗布膜の固化物で構成される。本実施形態の第1の保護層の軟化温度は、加湿耐久性の観点から、好ましくは100℃以上、より好ましくは110℃以上、さらに好ましくは120℃以上、特に好ましくは125℃以上であり、また、成形性の観点から、好ましくは300℃以下、より好ましくは250℃以下、さらに好ましくは200℃以下、特に好ましくは160℃以下である。
A-4-3. Solidified Coating Film of Epoxy Resin Organic Solvent Solution In one embodiment, the first protective layer is composed of a solidified coating film of an epoxy resin organic solvent solution. The softening temperature of the first protective layer in this embodiment is preferably 100°C or higher, more preferably 110°C or higher, even more preferably 120°C or higher, and particularly preferably 125°C or higher from the viewpoint of humidification durability, and is preferably 300°C or lower, more preferably 250°C or lower, even more preferably 200°C or lower, and particularly preferably 160°C or lower from the viewpoint of moldability.

A-4-3-1.エポキシ樹脂
本実施形態において、エポキシ樹脂は、好ましくはガラス転移温度(Tg)が100℃以上である。その結果、保護層の軟化温度も、ほぼ100℃以上となる。エポキシ樹脂のTgが100℃以上であれば、このような樹脂から得られた保護層を含む偏光板は、耐久性に優れたものとなりやすい。エポキシ樹脂のTgは、より好ましくは110℃以上、さらに好ましくは120℃以上、特に好ましくは125℃以上である。一方、エポキシ樹脂のTgは、好ましくは300℃以下、より好ましくは250℃以下、さらに好ましくは200℃以下、特に好ましくは160℃以下である。エポキシ樹脂のTgがこのような範囲であれば、成形性に優れ得る。
A-4-3-1. Epoxy resin In this embodiment, the epoxy resin preferably has a glass transition temperature (Tg) of 100° C. or higher. As a result, the softening temperature of the protective layer is also approximately 100° C. or higher. If the Tg of the epoxy resin is 100° C. or higher, a polarizing plate including a protective layer obtained from such a resin is likely to have excellent durability. The Tg of the epoxy resin is more preferably 110° C. or higher, even more preferably 120° C. or higher, and particularly preferably 125° C. or higher. On the other hand, the Tg of the epoxy resin is preferably 300° C. or lower, more preferably 250° C. or lower, even more preferably 200° C. or lower, and particularly preferably 160° C. or lower. If the Tg of the epoxy resin is in such a range, it can have excellent moldability.

エポキシ樹脂としては、上記のようなTgを有する限りにおいて任意の適切なエポキシ樹脂が採用され得る。エポキシ樹脂は、代表的には、分子構造内にエポキシ基を有する樹脂をいう。エポキシ樹脂としては、好ましくは分子構造内に芳香族環を有するエポキシ樹脂が用いられる。芳香族環を有するエポキシ樹脂を用いることにより、より高いTgを有するエポキシ樹脂が得られ得る。分子構造内に芳香族環を有するエポキシ樹脂における芳香族環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環等が挙げられる。エポキシ樹脂は1種のみを用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。2種以上のエポキシ樹脂を用いる場合、芳香族環を含むエポキシ樹脂と、芳香族環を含まないエポキシ樹脂を組み合わせて用いてもよい。As the epoxy resin, any suitable epoxy resin may be used as long as it has the above-mentioned Tg. Epoxy resins are typically resins having epoxy groups in their molecular structure. As the epoxy resin, an epoxy resin having an aromatic ring in its molecular structure is preferably used. By using an epoxy resin having an aromatic ring, an epoxy resin having a higher Tg can be obtained. Examples of the aromatic ring in an epoxy resin having an aromatic ring in its molecular structure include a benzene ring, a naphthalene ring, and a fluorene ring. Only one type of epoxy resin may be used, or two or more types may be used in combination. When two or more types of epoxy resins are used, an epoxy resin having an aromatic ring and an epoxy resin not having an aromatic ring may be used in combination.

分子構造内に芳香族環を有するエポキシ樹脂としては、具体的には、ビスフェノールAジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、ビスフェノールFジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、ビスフェノールSジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、レゾルシンジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、ヒドロキノンジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、テレフタル酸ジグリシジルエステル型エポキシ樹脂、ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、ビスクレゾールフルオレンジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂等の2つのエポキシ基を有するエポキシ樹脂;ノボラック型エポキシ樹脂、N,N,O-トリグリシジル-P-又は-m-アミノフェノール型エポキシ樹脂、N,N,O-トリグリシジル-4-アミノ-m-又は-5-アミノ-o-クレゾール型エポキシ樹脂、1,1,1-(トリグリシジルオキシフェニル)メタン型エポキシ樹脂等の3つのエポキシ基を有するエポキシ樹脂;グリシジルアミン型エポキシ樹脂(例えば、ジアミノジフェニルメタン型、ジアミノジフェニルスルホン型、メタキシレンジアミン型)等の4つのエポキシ基を有するエポキシ樹脂等が挙げられる。また、ヘキサヒドロ無水フタル酸型エポキシ樹脂、テトラヒドロ無水フタル酸型エポキシ樹脂、ダイマー酸型エポキシ樹脂、p-オキシ安息香酸型等のグリシジルエステル型エポキシ樹脂を用いてもよい。 Specific examples of epoxy resins having an aromatic ring in the molecular structure include bisphenol A diglycidyl ether type epoxy resins, bisphenol F diglycidyl ether type epoxy resins, bisphenol S diglycidyl ether type epoxy resins, resorcinol diglycidyl ether type epoxy resins, hydroquinone diglycidyl ether type epoxy resins, terephthalic acid diglycidyl ester type epoxy resins, bisphenoxyethanol fluorene diglycidyl ether type epoxy resins, bisphenol fluorene diglycidyl ether type epoxy resins, and biscresol fluorene diglycidyl ether type epoxy resins. epoxy resins having two epoxy groups such as phenol-type epoxy resins; epoxy resins having three epoxy groups such as novolac-type epoxy resins, N,N,O-triglycidyl-p- or -m-aminophenol-type epoxy resins, N,N,O-triglycidyl-4-amino-m- or -5-amino-o-cresol-type epoxy resins, and 1,1,1-(triglycidyloxyphenyl)methane-type epoxy resins; and epoxy resins having four epoxy groups such as glycidylamine-type epoxy resins (e.g., diaminodiphenylmethane-type, diaminodiphenylsulfone-type, and metaxylenediamine-type). In addition, glycidyl ester-type epoxy resins such as hexahydrophthalic anhydride-type epoxy resins, tetrahydrophthalic anhydride-type epoxy resins, dimer acid-type epoxy resins, and p-oxybenzoic acid-type epoxy resins may also be used.

エポキシ樹脂の重量平均分子量は、好ましくは1000~2000000、より好ましくは5000~1000000、さらに好ましくは10000~500000、特に好ましくは50000~500000、最も好ましくは60000~150000である。重量平均分子量は、例えば、ゲル浸透クロマトグラフ(GPCシステム,東ソー製)を用いて、ポリスチレン換算により求めることができる。なお、溶剤としてはテトラヒドロフランが用いられ得る。The weight average molecular weight of the epoxy resin is preferably 1,000 to 2,000,000, more preferably 5,000 to 1,000,000, even more preferably 10,000 to 500,000, particularly preferably 50,000 to 500,000, and most preferably 60,000 to 150,000. The weight average molecular weight can be determined, for example, using a gel permeation chromatograph (GPC system, manufactured by Tosoh Corporation) in terms of polystyrene. Tetrahydrofuran can be used as the solvent.

エポキシ樹脂のエポキシ当量は、好ましくは1000g/当量以上であり、より好ましくは3000g/当量以上、さらに好ましくは5000g/当量以上である。また、エポキシ樹脂のエポキシ当量は、好ましくは30000g/当量以下であり、より好ましくは25000g/当量以下、さらに好ましくは20000g/当量以下である。エポキシ当量が上記範囲であることにより、より安定した保護層が得られる。なお、本明細書において「エポキシ当量」とは、「1当量のエポキシ基を含むエポキシ樹脂の質量」をいい、JIS K7236に準じて測定することができる。The epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 1000 g/equivalent or more, more preferably 3000 g/equivalent or more, and even more preferably 5000 g/equivalent or more. The epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 30000 g/equivalent or less, more preferably 25000 g/equivalent or less, and even more preferably 20000 g/equivalent or less. By having the epoxy equivalent in the above range, a more stable protective layer can be obtained. In this specification, "epoxy equivalent" refers to "the mass of an epoxy resin containing one equivalent of epoxy groups" and can be measured in accordance with JIS K7236.

本実施形態においては、エポキシ樹脂と他の樹脂とを併用してもよい。すなわち、エポキシ樹脂と他の樹脂とのブレンドを保護層の成形に供してもよい。他の樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール、ポリイミド、ポリエーテルイミド等の熱可塑性樹脂が挙げられる。併用する樹脂の種類および配合量は、目的および得られるフィルムに所望される特性等に応じて適切に設定され得る。例えば、スチレン系樹脂は、位相差制御剤として併用され得る。In this embodiment, the epoxy resin may be used in combination with other resins. That is, a blend of the epoxy resin and other resins may be used to form the protective layer. Examples of the other resins include thermoplastic resins such as styrene-based resins, polyethylene, polypropylene, polyamide, polyphenylene sulfide, polyether ether ketone, polyester, polysulfone, polyphenylene oxide, polyacetal, polyimide, and polyetherimide. The type and amount of the resin used in combination may be appropriately set depending on the purpose and the desired properties of the resulting film. For example, a styrene-based resin may be used in combination as a retardation control agent.

本実施形態の第1の保護層における上記エポキシ樹脂の含有量は、好ましくは50重量%~100重量%、より好ましくは60重量%~100重量%、さらに好ましくは70重量%~100重量%、特に好ましくは80重量%~100重量%である。含有量が50重量%未満である場合には、保護層の耐熱性および偏光子との十分な密着性とが得られないおそれがある。The content of the epoxy resin in the first protective layer of this embodiment is preferably 50% by weight to 100% by weight, more preferably 60% by weight to 100% by weight, even more preferably 70% by weight to 100% by weight, and particularly preferably 80% by weight to 100% by weight. If the content is less than 50% by weight, the protective layer may not have sufficient heat resistance and adhesion to the polarizer.

本実施形態の第1の保護層は、例えば、上記エポキシ樹脂を含む有機溶媒溶液を塗布して塗膜を形成し、該塗膜を固化させることにより、形成され得る。有機溶媒溶液におけるエポキシ樹脂濃度は、溶媒100重量部に対して、好ましくは3重量部~20重量部である。このような樹脂濃度であれば、偏光子に密着した均一な塗布膜を形成することができる。The first protective layer of this embodiment can be formed, for example, by applying an organic solvent solution containing the epoxy resin to form a coating film and then solidifying the coating film. The epoxy resin concentration in the organic solvent solution is preferably 3 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of the solvent. With such a resin concentration, a uniform coating film that adheres closely to the polarizer can be formed.

上記有機溶媒としては、エポキシ樹脂を溶解または均一に分散し得る任意の適切な溶媒を用いることができる。溶媒の具体例としては、酢酸エチル、トルエン、メチリエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、シクロペンタノン、シクロヘキサノンが挙げられる。As the organic solvent, any suitable solvent capable of dissolving or uniformly dispersing the epoxy resin can be used. Specific examples of the solvent include ethyl acetate, toluene, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclopentanone, and cyclohexanone.

溶液は、任意の適切な基材に塗布してもよく、偏光子に塗布してもよい。基材に塗布する場合には、基材上に形成された塗布膜の固化物が偏光子に転写される。偏光子に塗布する場合には、塗布膜を乾燥(固化)させることにより、偏光子上に第1の保護層が直接形成される。好ましくは、溶液は偏光子に塗布され、偏光子上に第1の保護層が直接形成される。このような構成であれば、転写に必要とされる接着剤層または粘着剤層を省略することができるので、偏光板をさらに薄くすることができる。溶液の塗布方法としては、上述の通りである。The solution may be applied to any suitable substrate or to a polarizer. When the solution is applied to a substrate, the solidified coating film formed on the substrate is transferred to the polarizer. When the solution is applied to a polarizer, the coating film is dried (solidified) to form a first protective layer directly on the polarizer. Preferably, the solution is applied to a polarizer, and the first protective layer is formed directly on the polarizer. With this configuration, the adhesive layer or pressure-sensitive adhesive layer required for transfer can be omitted, making it possible to make the polarizing plate even thinner. The method of applying the solution is as described above.

溶液の塗布膜を乾燥(固化)させることにより、塗布膜の固化物である保護層が形成され得る。乾燥温度は、好ましくは100℃以下であり、より好ましくは50℃~70℃である。乾燥温度がこのような範囲であれば、偏光子に対する悪影響を防止することができる。乾燥時間は、乾燥温度に応じて変化し得る。乾燥時間は、例えば1分~10分であり得る。 By drying (solidifying) the coating film of the solution, a protective layer, which is a solidified coating film, can be formed. The drying temperature is preferably 100°C or less, and more preferably 50°C to 70°C. If the drying temperature is in this range, adverse effects on the polarizer can be prevented. The drying time can vary depending on the drying temperature. The drying time can be, for example, 1 minute to 10 minutes.

A-4-4.保護層の構成および特性
1つの実施形態において、第1の保護層は、上記のとおり、熱可塑性アクリル系樹脂の有機溶媒溶液の塗布膜の固化物、エポキシ樹脂の光カチオン硬化物およびエポキシ樹脂の有機溶媒溶液の塗布膜の固化物からなる群より選択される少なくとも1種で構成されている。このような保護層であれば、押出成形フィルムに比べて厚みを格段に薄くすることができる。第1の保護層の厚みは、上記のとおり10μm以下である。また、理論的には明らかではないが、このような保護層は、他の熱硬化性樹脂または活性エネルギー線硬化性樹脂(例えば、紫外線硬化性樹脂)の硬化物に比べてフィルム成形時の収縮が小さい、および、残存モノマー等が含まれないのでフィルム自体の劣化が抑制され、かつ、残存モノマー等に起因する偏光板(偏光子)に対する悪影響を抑制することができるという利点を有する。さらに、水溶液または水分散体のような水系の塗布膜の固化物に比べて吸湿性および透湿性が小さいので加湿耐久性に優れるという利点を有する。その結果、加熱加湿環境下においても光学特性を維持し得る、耐久性に優れた偏光板を実現することができる。
A-4-4. Constitution and characteristics of protective layer In one embodiment, the first protective layer is composed of at least one selected from the group consisting of a solidified coating film of an organic solvent solution of a thermoplastic acrylic resin, a photocationically cured product of an epoxy resin, and a solidified coating film of an organic solvent solution of an epoxy resin, as described above. Such a protective layer can be made significantly thinner than an extrusion-molded film. The thickness of the first protective layer is 10 μm or less, as described above. In addition, although it is not theoretically clear, such a protective layer has the advantages of being smaller in shrinkage during film molding than cured products of other thermosetting resins or active energy ray-curable resins (e.g., ultraviolet-curable resins), and being free of residual monomers, etc., suppressing deterioration of the film itself, and being able to suppress adverse effects on the polarizing plate (polarizer) caused by residual monomers, etc. Furthermore, it has the advantage of being excellent in humidification durability because it has smaller hygroscopicity and moisture permeability than solidified products of aqueous coating films such as aqueous solutions or aqueous dispersions. As a result, a polarizing plate with excellent durability that can maintain optical properties even under heated and humidified environments can be realized.

第1の保護層は、好ましくは、実質的に光学的に等方性を有する。本明細書において「実質的に光学的に等方性を有する」とは、面内位相差Re(550)が0nm~10nmであり、厚み方向の位相差Rth(550)が-20nm~+10nmであることをいう。面内位相差Re(550)は、より好ましくは0nm~5nmであり、さらに好ましくは0nm~3nmであり、特に好ましくは0nm~2nmである。厚み方向の位相差Rth(550)は、より好ましくは-5nm~+5nmであり、さらに好ましくは-3nm~+3nmであり、特に好ましくは-2nm~+2nmである。第1の保護層のRe(550)およびRth(550)がこのような範囲であれば、当該保護層を含む偏光板を画像表示装置に適用した場合に表示特性に対する悪影響を防止することができる。The first protective layer is preferably substantially optically isotropic. In this specification, "substantially optically isotropic" means that the in-plane retardation Re(550) is 0 nm to 10 nm, and the thickness direction retardation Rth(550) is -20 nm to +10 nm. The in-plane retardation Re(550) is more preferably 0 nm to 5 nm, even more preferably 0 nm to 3 nm, and particularly preferably 0 nm to 2 nm. The thickness direction retardation Rth(550) is more preferably -5 nm to +5 nm, even more preferably -3 nm to +3 nm, and particularly preferably -2 nm to +2 nm. If the Re(550) and Rth(550) of the first protective layer are in such ranges, adverse effects on the display characteristics can be prevented when a polarizing plate including the protective layer is applied to an image display device.

第1の保護層の厚み3μmにおける380nmでの光線透過率は、高ければ高いほど好ましい。具体的には、光線透過率は、好ましくは85%以上、より好ましくは88%以上、さらに好ましくは90%以上である。光線透過率がこのような範囲であれば、所望の透明性を確保することができる。光線透過率は、例えば、ASTM-D-1003に準じた方法で測定され得る。The higher the light transmittance at 380 nm for a thickness of 3 μm of the first protective layer, the better. Specifically, the light transmittance is preferably 85% or more, more preferably 88% or more, and even more preferably 90% or more. If the light transmittance is within this range, the desired transparency can be ensured. The light transmittance can be measured, for example, by a method conforming to ASTM-D-1003.

第1の保護層のヘイズは、低ければ低いほど好ましい。具体的には、ヘイズは、好ましくは5%以下、より好ましくは3%以下、さらに好ましくは1.5%以下、特に好ましくは1%以下である。ヘイズが5%以下であると、フィルムに良好なクリヤー感を与えることができる。さらに、画像表示装置の視認側偏光板に使用する場合でも、表示内容が良好に視認できる。The lower the haze of the first protective layer, the better. Specifically, the haze is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, even more preferably 1.5% or less, and particularly preferably 1% or less. A haze of 5% or less can give the film a good sense of clarity. Furthermore, even when used as the viewing side polarizing plate of an image display device, the displayed content can be clearly seen.

第1の保護層の厚み3μmにおけるYIは、好ましくは1.27以下、より好ましくは1.25以下、さらに好ましくは1.23以下、特に好ましくは1.20以下である。YIが1.3を超えると、光学的透明性が不十分となる場合がある。なお、YIは、例えば、高速積分球式分光透過率測定機(商品名DOT-3C:村上色彩技術研究所製)を用いた測定で得られる色の三刺激値(X、Y、Z)より、次式によって求めることができる。
YI=[(1.28X-1.06Z)/Y]×100
The YI of the first protective layer at a thickness of 3 μm is preferably 1.27 or less, more preferably 1.25 or less, even more preferably 1.23 or less, and particularly preferably 1.20 or less. If the YI exceeds 1.3, the optical transparency may be insufficient. The YI can be calculated from the tristimulus values (X, Y, Z) of the color obtained by measurement using, for example, a high-speed integrating sphere type spectral transmittance measuring device (product name DOT-3C: manufactured by Murakami Color Research Laboratory) according to the following formula:
YI=[(1.28X-1.06Z)/Y]×100

第1の保護層の厚み3μmにおけるb値(ハンターの表色系に準じた色相の尺度)は、好ましくは1.5未満、より好ましくは1.0以下である。b値が1.5以上である場合、所望でない色味が出る場合がある。なお、b値は、例えば、保護層を構成するフィルムのサンプルを3cm角に裁断し、高速積分球式分光透過率測定機(商品名DOT-3C:村上色彩技術研究所製)を用いて色相を測定し、当該色相をハンターの表色系に準じて評価することにより得られ得る。The b value (a measure of hue according to the Hunter color system) of the first protective layer at a thickness of 3 μm is preferably less than 1.5, and more preferably 1.0 or less. If the b value is 1.5 or more, an undesired color tone may result. The b value can be obtained, for example, by cutting a sample of the film constituting the protective layer into a 3 cm square, measuring the hue using a high-speed integrating sphere spectral transmittance measuring instrument (product name DOT-3C: manufactured by Murakami Color Research Laboratory), and evaluating the hue according to the Hunter color system.

第1の保護層のヨウ素吸着量は、好ましくは25重量%以下であり、より好ましくは10重量%以下であり、さらに好ましくは6.0重量%以下であり、特に好ましくは3.0重量%以下である。ヨウ素吸着量は小さいほど好ましい。ヨウ素吸着量がこのような範囲であれば、さらに優れた耐久性を有する偏光板が得られ得る。ヨウ素吸着量は、以下の方法で測定され得る。
基材(PETフィルム)に保護層(厚み3μm)を形成し、保護層付PETフィルムを得る。得られた保護層付PETフィルムを1cm×1cm(1cm)に切り出して試料とし、ヘッドスペースバイアル瓶(20mL容量)に採取・秤量する。次に、ヨウ素溶液1mLを入れたスクリュー管瓶(1.5mL容量)もこのヘッドスペースバイアル瓶に入れ、密栓する。その後、ヘッドスペースバイアル瓶を65℃の乾燥機に入れ、6時間加温することにより、試料にガス状態のIを吸着させる。その後、試料をセラミックボートに採取し自動試料燃焼装置を用いて燃焼させ、発生したガスを吸収液10mLに捕集する。捕集後、この吸収液を純水で15mLに調製し、原液または適宜希釈した液についてIC定量分析を行う。なお、PETフィルムのみで同様の測定を行った場合のヨウ素吸着量はほぼ0である。IC定量分析で得られたヨウ素重量と、保護層単体の重量(「保護層付PETフィルムの重量」-「PETフィルムの重量」)とに基づいて、以下の式からヨウ素吸着量(重量%)を算出する。
ヨウ素吸着量(重量%)=IC定量分析で得られたヨウ素重量/保護層単体の重量×100
分析には、例えば、以下の測定装置を用いることができる。
[測定装置]
自動試料燃焼装置:三菱ケミカルアナリテック社製、「AQF-2100H」
IC(アニオン):Thermo Fisher Scientific社製、「ICS-3000」
The iodine adsorption amount of the first protective layer is preferably 25% by weight or less, more preferably 10% by weight or less, even more preferably 6.0% by weight or less, and particularly preferably 3.0% by weight or less. The smaller the iodine adsorption amount, the more preferable. If the iodine adsorption amount is within such a range, a polarizing plate having even better durability can be obtained. The iodine adsorption amount can be measured by the following method.
A protective layer (thickness 3 μm) is formed on the substrate (PET film) to obtain a PET film with a protective layer. The obtained PET film with a protective layer is cut into a size of 1 cm x 1 cm (1 cm 2 ) to be used as a sample, which is collected and weighed in a headspace vial (20 mL capacity). Next, a screw tube bottle (1.5 mL capacity) containing 1 mL of iodine solution is also placed in this headspace vial and sealed. Then, the headspace vial is placed in a dryer at 65°C and heated for 6 hours to allow the sample to adsorb I 2 in a gaseous state. Then, the sample is collected in a ceramic boat and burned using an automatic sample combustion device, and the generated gas is collected in 10 mL of absorption liquid. After collection, the absorption liquid is adjusted to 15 mL with pure water, and the original solution or a solution diluted appropriately is subjected to IC quantitative analysis. Note that the amount of iodine adsorption when a similar measurement is performed only on a PET film is almost 0. Based on the weight of iodine obtained by the IC quantitative analysis and the weight of the protective layer alone ("weight of PET film with protective layer" - "weight of PET film"), the iodine adsorption amount (% by weight) is calculated using the following formula.
Iodine adsorption amount (wt%)=weight of iodine obtained by IC quantitative analysis/weight of protective layer alone×100
For the analysis, for example, the following measuring devices can be used.
[Measuring device]
Automatic sample combustion device: Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd., "AQF-2100H"
IC (anion): "ICS-3000" manufactured by Thermo Fisher Scientific

第1の保護層(例えば、塗布膜の固化物または光カチオン硬化物)は、目的に応じて任意の適切な添加剤を含んでいてもよい。添加剤の具体例としては、紫外線吸収剤;レベリング剤;ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系等の酸化防止剤;耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤等の安定剤;ガラス繊維、炭素繊維等の補強材;近赤外線吸収剤;トリス(ジブロモプロピル)ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモン等の難燃剤;アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤等の帯電防止剤;無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤;有機フィラーまたは無機フィラー;樹脂改質剤;有機充填剤や無機充填剤;可塑剤;滑剤;帯電防止剤;難燃剤;等が挙げられる。添加剤は樹脂の重合時に添加されてもよく、保護層形成時に添加されてもよい。添加剤の種類、数、組み合わせ、添加量等は、目的に応じて適切に設定され得る。The first protective layer (for example, a solidified product of a coating film or a photocationically cured product) may contain any suitable additive depending on the purpose. Specific examples of additives include ultraviolet absorbers; leveling agents; antioxidants such as hindered phenols, phosphorus, and sulfur; stabilizers such as light stabilizers, weather stabilizers, and heat stabilizers; reinforcing materials such as glass fibers and carbon fibers; near-infrared absorbers; flame retardants such as tris(dibromopropyl)phosphate, triallyl phosphate, and antimony oxide; antistatic agents such as anionic, cationic, and nonionic surfactants; colorants such as inorganic pigments, organic pigments, and dyes; organic or inorganic fillers; resin modifiers; organic and inorganic fillers; plasticizers; lubricants; antistatic agents; flame retardants; and the like. The additives may be added during polymerization of the resin or during formation of the protective layer. The type, number, combination, and amount of additives may be appropriately set depending on the purpose.

A-5.第2の保護層
1つの実施形態において、第2の保護層は、偏光子の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成される。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース(TAC)等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、(メタ)アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、(メタ)アクリル系、ウレタン系、(メタ)アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。本実施形態における第2の保護層の厚みは、好ましくは5μm~80μm、より好ましくは5μm~40μm、さらに好ましくは5μm~25μmである。
A-5. Second Protective Layer In one embodiment, the second protective layer is formed of any suitable film that can be used as a protective layer for a polarizer. Specific examples of materials that are the main components of the film include cellulose-based resins such as triacetyl cellulose (TAC), and transparent resins such as polyesters, polyvinyl alcohols, polycarbonates, polyamides, polyimides, polyethersulfones, polysulfones, polystyrenes, polynorbornenes, polyolefins, (meth)acrylics, and acetates. In addition, thermosetting resins or ultraviolet-curing resins such as (meth)acrylics, urethanes, (meth)acrylic urethanes, epoxy resins, and silicone resins are also included. In addition, glassy polymers such as siloxane polymers are also included. The thickness of the second protective layer in this embodiment is preferably 5 μm to 80 μm, more preferably 5 μm to 40 μm, and even more preferably 5 μm to 25 μm.

別の実施形態において、第2の保護層は、樹脂溶液の塗布膜の固化物であってもよく、硬化型樹脂の硬化物(例えば、光カチオン硬化物)であってもよい。本実施形態の第2の保護層については、第1の保護層と同様の説明を適用することができる。In another embodiment, the second protective layer may be a solidified coating of a resin solution, or a cured product of a curable resin (e.g., a photocationically cured product). The same description as for the first protective layer can be applied to the second protective layer of this embodiment.

A-6.その他の層
保護層(代表的には、第1の保護層)の偏光子側には、易接着層が形成されていてもよい。易接着層は、例えば、水系ポリウレタンとオキサゾリン系架橋剤とを含む。このような易接着層を形成することにより、保護層と偏光子との密着性を高めることができる。また、保護層(代表的には、第1の保護層)の偏光子と反対側には、ハードコート層が形成されていてもよい。なお、ハードコート層が形成される場合、保護層(例えば、塗布膜の固化物)の厚みとハードコート層の厚みとの合計が10μm以下、好ましくは7μm以下、さらに好ましくは5μm以下となるようハードコート層が形成され得る。ハードコート層は、視認側保護層の視認側に形成され得る。易接着層およびハードコート層の両方が形成される場合、代表的には、これらはそれぞれ保護層の異なる側に形成され得る。
A-6. Other layers An easy-adhesion layer may be formed on the polarizer side of the protective layer (typically, the first protective layer). The easy-adhesion layer contains, for example, a water-based polyurethane and an oxazoline-based crosslinking agent. By forming such an easy-adhesion layer, the adhesion between the protective layer and the polarizer can be increased. In addition, a hard coat layer may be formed on the side of the protective layer (typically, the first protective layer) opposite to the polarizer. In addition, when a hard coat layer is formed, the hard coat layer may be formed so that the total thickness of the protective layer (for example, the solidified product of the coating film) and the hard coat layer is 10 μm or less, preferably 7 μm or less, and more preferably 5 μm or less. The hard coat layer may be formed on the viewing side of the viewing-side protective layer. When both the easy-adhesion layer and the hard coat layer are formed, typically, they may be formed on different sides of the protective layer.

B.位相差層付偏光板
B-1.位相差層付偏光板の全体構成
図3は、本発明の1つの実施形態による位相差層付偏光板の概略断面図である。本実施形態の位相差層付偏光板200aは、偏光子10とその一方の側に配置された第1の保護層20とを有する偏光板100と、偏光子10の第1の保護層20が配置された側と反対側に配置された位相差層110と、を有する。位相差層付偏光板200aにおいては、位相差層110が偏光子10の保護層としても機能し得る。位相差層110は、代表的には、接着層(図示せず)を介して、偏光板100に積層されている。接着層は、接着剤層または粘着剤層であり、リワーク性等の観点からは粘着剤層(例えば、アクリル系粘着剤層)であることが好ましい。図示しないが、必要に応じて、偏光板100は、偏光子10の位相差層110側に第2の保護層を有していてもよい。
B. Retardation Layer-Attached Polarizing Plate B-1. Overall Configuration of Retardation Layer-Attached Polarizing Plate FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a retardation layer-attached polarizing plate according to one embodiment of the present invention. The retardation layer-attached polarizing plate 200a of this embodiment has a polarizing plate 100 having a polarizer 10 and a first protective layer 20 arranged on one side thereof, and a retardation layer 110 arranged on the side opposite to the side on which the first protective layer 20 of the polarizer 10 is arranged. In the retardation layer-attached polarizing plate 200a, the retardation layer 110 can also function as a protective layer for the polarizer 10. The retardation layer 110 is typically laminated on the polarizing plate 100 via an adhesive layer (not shown). The adhesive layer is an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer, and is preferably a pressure-sensitive adhesive layer (for example, an acrylic pressure-sensitive adhesive layer) from the viewpoint of reworkability and the like. Although not shown, the polarizing plate 100 may have a second protective layer on the retardation layer 110 side of the polarizer 10, if necessary.

図4に示すように、別の実施形態による位相差層付偏光板200bにおいては、別の位相差層120ならびに/あるいは導電層または導電層付等方性基材130が設けられてもよい。別の位相差層120ならびに導電層または導電層付等方性基材130は、代表的には、位相差層110の外側(偏光板100と反対側)に設けられる。別の位相差層120は、代表的には、屈折率特性がnz>nx=nyの関係を示す。別の位相差層120ならびに導電層または導電層付等方性基材130は、代表的には、位相差層110側からこの順に設けられる。別の位相差層120ならびに導電層または導電層付等方性基材130は、代表的には、必要に応じて設けられる任意の層であり、いずれか一方または両方が省略されてもよい。なお、便宜上、位相差層110を第1の位相差層と称し、別の位相差層120を第2の位相差層と称する場合がある。なお、導電層または導電層付等方性基材が設けられる場合、位相差層付偏光板は、画像表示セル(例えば、有機ELセル)と偏光板との間にタッチセンサが組み込まれた、いわゆるインナータッチパネル型入力表示装置に適用され得る。As shown in FIG. 4, in the retardation layer-attached polarizing plate 200b according to another embodiment, another retardation layer 120 and/or a conductive layer or a conductive layer-attached isotropic substrate 130 may be provided. The other retardation layer 120 and the conductive layer or the conductive layer-attached isotropic substrate 130 are typically provided on the outside of the retardation layer 110 (the opposite side to the polarizing plate 100). The other retardation layer 120 typically exhibits a refractive index characteristic of nz>nx=ny. The other retardation layer 120 and the conductive layer or the conductive layer-attached isotropic substrate 130 are typically provided in this order from the retardation layer 110 side. The other retardation layer 120 and the conductive layer or the conductive layer-attached isotropic substrate 130 are typically any layers provided as necessary, and either one or both may be omitted. For convenience, the retardation layer 110 may be referred to as the first retardation layer, and the other retardation layer 120 may be referred to as the second retardation layer. In addition, when a conductive layer or an isotropic substrate with a conductive layer is provided, the polarizing plate with a retardation layer can be applied to a so-called inner touch panel type input display device in which a touch sensor is incorporated between an image display cell (e.g., an organic EL cell) and a polarizing plate.

本発明の実施形態においては、第1の位相差層110のRe(550)は、好ましくは100nm~190nmであり、Re(450)/Re(550)は、好ましくは0.8以上1未満である。さらに、代表的には、第1の位相差層110の遅相軸と偏光子10の吸収軸とのなす角度は40°~50°である。In an embodiment of the present invention, the Re(550) of the first retardation layer 110 is preferably 100 nm to 190 nm, and Re(450)/Re(550) is preferably 0.8 or more and less than 1. Furthermore, typically, the angle between the slow axis of the first retardation layer 110 and the absorption axis of the polarizer 10 is 40° to 50°.

上記の実施形態は適宜組み合わせてもよく、上記の実施形態における構成要素に当業界で自明の改変を加えてもよい。例えば、第2の位相差層120の外側に導電層付等方性基材130を設ける構成を、光学的に等価な構成(例えば、第2の位相差層と導電層との積層体)に置き換えてもよい。The above embodiments may be appropriately combined, and the components in the above embodiments may be modified as would be obvious in the art. For example, the configuration in which the conductive layer-attached isotropic substrate 130 is provided on the outside of the second retardation layer 120 may be replaced with an optically equivalent configuration (for example, a laminate of the second retardation layer and a conductive layer).

本発明の実施形態による位相差層付偏光板は、その他の位相差層をさらに含んでいてもよい。その他の位相差層の光学的特性(例えば、屈折率特性、面内位相差、Nz係数、光弾性係数)、厚み、配置位置等は、目的に応じて適切に設定され得る。The polarizing plate with a retardation layer according to the embodiment of the present invention may further include other retardation layers. The optical properties (e.g., refractive index properties, in-plane retardation, Nz coefficient, photoelastic coefficient), thickness, arrangement position, etc. of the other retardation layers may be appropriately set according to the purpose.

B-2.偏光板
偏光板100は、A項に記載の偏光板である。
B-2. Polarizing Plate The polarizing plate 100 is the polarizing plate described in Section A.

B-3.第1の位相差層
第1の位相差層110は、目的に応じて任意の適切な光学的特性および/または機械的特性を有し得る。第1の位相差層は、代表的には遅相軸を有する。1つの実施形態においては、第1の位相差層の遅相軸と偏光子10の吸収軸とのなす角度θは、上記のとおり40°~50°であり、好ましくは42°~48°であり、さらに好ましくは約45°である。角度θがこのような範囲であれば、後述するように第1の位相差層をλ/4板とすることにより、非常に優れた円偏光特性(結果として、非常に優れた反射防止特性)を有する位相差層付偏光板が得られ得る。
B-3. First retardation layer The first retardation layer 110 may have any suitable optical properties and/or mechanical properties depending on the purpose. The first retardation layer typically has a slow axis. In one embodiment, the angle θ between the slow axis of the first retardation layer and the absorption axis of the polarizer 10 is 40° to 50°, preferably 42° to 48°, and more preferably about 45°, as described above. If the angle θ is in such a range, a retardation layer-attached polarizing plate having very excellent circular polarization properties (as a result, very excellent antireflection properties) can be obtained by making the first retardation layer a λ/4 plate as described later.

第1の位相差層は、好ましくは屈折率特性がnx>ny≧nzの関係を示す。第1の位相差層は、代表的には偏光板に反射防止特性を付与するために設けられ、1つの実施形態においてはλ/4板として機能し得る。この場合、第1の位相差層の面内位相差Re(550)は、好ましくは100nm~190nm、より好ましくは110nm~170nm、さらに好ましくは130nm~160nmである。なお、ここで「ny=nz」はnyとnzが完全に等しい場合だけではなく、実質的に等しい場合を包含する。したがって、本発明の効果を損なわない範囲で、ny<nzとなる場合があり得る。The first retardation layer preferably has a refractive index characteristic of nx>ny≧nz. The first retardation layer is typically provided to impart anti-reflection properties to the polarizing plate, and in one embodiment, can function as a λ/4 plate. In this case, the in-plane retardation Re(550) of the first retardation layer is preferably 100 nm to 190 nm, more preferably 110 nm to 170 nm, and even more preferably 130 nm to 160 nm. Note that here, "ny=nz" includes not only the case where ny and nz are completely equal, but also the case where they are substantially equal. Therefore, there may be cases where ny<nz within a range that does not impair the effects of the present invention.

第1の位相差層のNz係数は、好ましくは0.9~3、より好ましくは0.9~2.5、さらに好ましくは0.9~1.5、特に好ましくは0.9~1.3である。このような関係を満たすことにより、得られる位相差層付偏光板を画像表示装置に用いた場合に、非常に優れた反射色相を達成し得る。The Nz coefficient of the first retardation layer is preferably 0.9 to 3, more preferably 0.9 to 2.5, even more preferably 0.9 to 1.5, and particularly preferably 0.9 to 1.3. By satisfying such a relationship, when the resulting retardation layer-attached polarizing plate is used in an image display device, a very excellent reflection hue can be achieved.

第1の位相差層は、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長に応じて小さくなる正の波長分散特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長によってもほとんど変化しないフラットな波長分散特性を示してもよい。1つの実施形態においては、第1の位相差層は、逆分散波長特性を示す。この場合、位相差層のRe(450)/Re(550)は、好ましくは0.8以上1未満であり、より好ましくは0.8以上0.95以下である。このような構成であれば、非常に優れた反射防止特性を実現することができる。The first retardation layer may exhibit a reverse dispersion wavelength characteristic in which the retardation value increases according to the wavelength of the measurement light, may exhibit a positive wavelength dispersion characteristic in which the retardation value decreases according to the wavelength of the measurement light, or may exhibit a flat wavelength dispersion characteristic in which the retardation value hardly changes according to the wavelength of the measurement light. In one embodiment, the first retardation layer exhibits a reverse dispersion wavelength characteristic. In this case, Re(450)/Re(550) of the retardation layer is preferably 0.8 or more and less than 1, and more preferably 0.8 or more and 0.95 or less. With such a configuration, very excellent anti-reflection properties can be realized.

第1の位相差層は、光弾性係数の絶対値が好ましくは2×10-11/N以下、より好ましくは2.0×10-13/N~1.5×10-11/N、さらに好ましくは1.0×10-12/N~1.2×10-11/Nの樹脂を含む。光弾性係数の絶対値がこのような範囲であれば、加熱時の収縮応力が発生した場合に位相差変化が生じにくい。その結果、得られる画像表示装置の熱ムラが良好に防止され得る。 The first retardation layer contains a resin having an absolute value of a photoelastic coefficient of preferably 2×10 −11 m 2 /N or less, more preferably 2.0×10 −13 m 2 /N to 1.5×10 −11 m 2 /N, and even more preferably 1.0×10 −12 m 2 /N to 1.2 ×10 −11 m 2 /N. If the absolute value of the photoelastic coefficient is in such a range, a change in retardation is unlikely to occur when shrinkage stress occurs during heating. As a result, thermal unevenness in the obtained image display device can be effectively prevented.

第1の位相差層は、代表的には樹脂フィルムの延伸フィルムで構成される。1つの実施形態において、第1の位相差層の厚みは、好ましくは70μm以下であり、より好ましくは45μm~60μmである。第1の位相差層の厚みがこのような範囲であれば、加熱時のカールを良好に抑制しつつ、貼り合わせ時のカールを良好に調整することができる。また、後述するように第1の位相差層がポリカーボネート系樹脂フィルムで構成される実施形態においては、第1の位相差層の厚みは、好ましくは40μm以下であり、より好ましくは10μm~40μmであり、さらに好ましくは20μm~30μmである。第1の位相差層が、このような厚みを有するポリカーボネート系樹脂フィルムで構成されることにより、カールの発生を抑制しつつ、折り曲げ耐久性および反射色相の向上にも寄与し得る。The first retardation layer is typically composed of a stretched resin film. In one embodiment, the thickness of the first retardation layer is preferably 70 μm or less, more preferably 45 μm to 60 μm. If the thickness of the first retardation layer is in such a range, curling during heating can be well suppressed while curling during lamination can be well adjusted. In addition, in an embodiment in which the first retardation layer is composed of a polycarbonate-based resin film as described below, the thickness of the first retardation layer is preferably 40 μm or less, more preferably 10 μm to 40 μm, and even more preferably 20 μm to 30 μm. By having the first retardation layer composed of a polycarbonate-based resin film having such a thickness, it is possible to suppress the occurrence of curling while also contributing to improving bending durability and reflective hue.

第1の位相差層は、上記の特性を満足し得る任意の適切な樹脂フィルムで構成され得る。そのような樹脂の代表例としては、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステルカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、環状オレフィン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリル系樹脂が挙げられる。これらの樹脂は、単独で用いてもよく組み合わせて(例えば、ブレンド、共重合)用いてもよい。第1の位相差層が逆分散波長特性を示す樹脂フィルムで構成される場合、ポリカーボネート系樹脂またはポリエステルカーボネート系樹脂(以下、単にポリカーボネート系樹脂と称する場合がある)が好適に用いられ得る。The first retardation layer may be composed of any suitable resin film that satisfies the above characteristics. Representative examples of such resins include polycarbonate-based resins, polyester carbonate-based resins, polyester-based resins, polyvinyl acetal-based resins, polyarylate-based resins, cyclic olefin-based resins, cellulose-based resins, polyvinyl alcohol-based resins, polyamide-based resins, polyimide-based resins, polyether-based resins, polystyrene-based resins, and acrylic-based resins. These resins may be used alone or in combination (e.g., blended or copolymerized). When the first retardation layer is composed of a resin film that exhibits reverse dispersion wavelength characteristics, polycarbonate-based resins or polyester carbonate-based resins (hereinafter sometimes simply referred to as polycarbonate-based resins) may be suitably used.

上記ポリカーボネート系樹脂としては、本発明の効果が得られる限りにおいて、任意の適切なポリカーボネート系樹脂を用いることができる。例えば、ポリカーボネート系樹脂は、フルオレン系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、イソソルビド系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、脂環式ジオール、脂環式ジメタノール、ジ、トリまたはポリエチレングリコール、ならびに、アルキレングリコールまたはスピログリコールからなる群から選択される少なくとも1つのジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、を含む。好ましくは、ポリカーボネート系樹脂は、フルオレン系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、イソソルビド系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、脂環式ジメタノールに由来する構造単位ならびに/あるいはジ、トリまたはポリエチレングリコールに由来する構造単位と、を含み;さらに好ましくは、フルオレン系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、イソソルビド系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、ジ、トリまたはポリエチレングリコールに由来する構造単位と、を含む。ポリカーボネート系樹脂は、必要に応じてその他のジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含んでいてもよい。なお、本発明に好適に用いられ得るポリカーボネート系樹脂の詳細は、例えば、特開2014-10291号公報、特開2014-26266号公報、特開2015-212816号公報、特開2015-212817号公報、特開2015-212818号公報に記載されており、当該記載は本明細書に参考として援用される。As the polycarbonate-based resin, any suitable polycarbonate-based resin can be used as long as the effects of the present invention can be obtained. For example, the polycarbonate-based resin contains a structural unit derived from a fluorene-based dihydroxy compound, a structural unit derived from an isosorbide-based dihydroxy compound, and a structural unit derived from at least one dihydroxy compound selected from the group consisting of an alicyclic diol, an alicyclic dimethanol, a di-, tri- or polyethylene glycol, and an alkylene glycol or a spiro glycol. Preferably, the polycarbonate-based resin contains a structural unit derived from a fluorene-based dihydroxy compound, a structural unit derived from an isosorbide-based dihydroxy compound, a structural unit derived from an alicyclic dimethanol and/or a structural unit derived from a di-, tri- or polyethylene glycol; more preferably, it contains a structural unit derived from a fluorene-based dihydroxy compound, a structural unit derived from an isosorbide-based dihydroxy compound, and a structural unit derived from a di-, tri- or polyethylene glycol. The polycarbonate-based resin may contain a structural unit derived from another dihydroxy compound as necessary. Details of polycarbonate-based resins that can be suitably used in the present invention are described, for example, in JP-A-2014-10291, JP-A-2014-26266, JP-A-2015-212816, JP-A-2015-212817, and JP-A-2015-212818, the disclosures of which are incorporated herein by reference.

前記ポリカーボネート系樹脂のガラス転移温度は、110℃以上150℃以下であることが好ましく、より好ましくは120℃以上140℃以下である。ガラス転移温度が過度に低いと耐熱性が悪くなる傾向にあり、フィルム成形後に寸法変化を起こす可能性があり、又、得られる有機ELパネルの画像品質を下げる場合がある。ガラス転移温度が過度に高いと、フィルム成形時の成形安定性が悪くなる場合があり、又フィルムの透明性を損なう場合がある。なお、ガラス転移温度は、JIS K 7121(1987)に準じて求められる。The glass transition temperature of the polycarbonate resin is preferably 110°C or higher and 150°C or lower, more preferably 120°C or higher and 140°C or lower. If the glass transition temperature is too low, the heat resistance tends to be poor, and dimensional changes may occur after film formation, and the image quality of the resulting organic EL panel may be reduced. If the glass transition temperature is too high, the molding stability during film formation may be poor, and the transparency of the film may be impaired. The glass transition temperature is determined in accordance with JIS K 7121 (1987).

前記ポリカーボネート系樹脂の分子量は、還元粘度で表すことができる。還元粘度は、溶媒として塩化メチレンを用い、ポリカーボネート濃度を0.6g/dLに精密に調製し、温度20.0℃±0.1℃でウベローデ粘度管を用いて測定される。還元粘度の下限は、通常0.30dL/gが好ましく、より好ましは0.35dL/g以上である。還元粘度の上限は、通常1.20dL/gが好ましく、より好ましくは1.00dL/g、更に好ましくは0.80dL/gである。還元粘度が前記下限値より小さいと成形品の機械的強度が小さくなるという問題が生じる場合がある。一方、還元粘度が前記上限値より大きいと、成形する際の流動性が低下し、生産性や成形性が低下するという問題が生じる場合がある。The molecular weight of the polycarbonate resin can be expressed by the reduced viscosity. The reduced viscosity is measured using methylene chloride as a solvent, a polycarbonate concentration precisely adjusted to 0.6 g/dL, and an Ubbelohde viscometer at a temperature of 20.0°C ± 0.1°C. The lower limit of the reduced viscosity is usually preferably 0.30 dL/g, more preferably 0.35 dL/g or more. The upper limit of the reduced viscosity is usually preferably 1.20 dL/g, more preferably 1.00 dL/g, and even more preferably 0.80 dL/g. If the reduced viscosity is smaller than the lower limit, the mechanical strength of the molded product may be reduced. On the other hand, if the reduced viscosity is larger than the upper limit, the fluidity during molding may be reduced, and problems such as reduced productivity and moldability may occur.

ポリカーボネート系樹脂フィルムとして市販のフィルムを用いてもよい。市販品の具体例としては、帝人社製の商品名「ピュアエースWR-S」、「ピュアエースWR-W」、「ピュアエースWR-M」、日東電工社製の商品名「NRF」が挙げられる。Commercially available films may be used as the polycarbonate resin film. Specific examples of commercially available products include "Pure Ace WR-S", "Pure Ace WR-W", and "Pure Ace WR-M" manufactured by Teijin Limited, and "NRF" manufactured by Nitto Denko Corporation.

第1の位相差層は、例えば、上記ポリカーボネート系樹脂から形成されたフィルムを延伸することにより得られる。ポリカーボネート系樹脂からフィルムを形成する方法としては、任意の適切な成形加工法が採用され得る。具体例としては、圧縮成形法、トランスファー成形法、射出成形法、押出成形法、ブロー成形法、粉末成形法、FRP成形法、キャスト塗工法(例えば、流延法)、カレンダー成形法、熱プレス法等が挙げられる。押出成形法またはキャスト塗工法が好ましい。得られるフィルムの平滑性を高め、良好な光学的均一性を得ることができるからである。成形条件は、使用される樹脂の組成や種類、位相差層に所望される特性等に応じて適宜設定され得る。なお、上記のとおり、ポリカーボネート系樹脂は、多くのフィルム製品が市販されているので、当該市販フィルムをそのまま延伸処理に供してもよい。The first retardation layer is obtained, for example, by stretching a film formed from the polycarbonate-based resin. Any appropriate molding method can be adopted as a method for forming a film from a polycarbonate-based resin. Specific examples include compression molding, transfer molding, injection molding, extrusion molding, blow molding, powder molding, FRP molding, cast coating (e.g., casting), calendar molding, and heat pressing. The extrusion molding method or cast coating method is preferred. This is because it is possible to increase the smoothness of the resulting film and obtain good optical uniformity. The molding conditions can be appropriately set according to the composition and type of the resin used, the properties desired for the retardation layer, and the like. As mentioned above, many film products of polycarbonate-based resins are commercially available, so the commercially available film may be directly subjected to the stretching process.

樹脂フィルム(未延伸フィルム)の厚みは、第1の位相差層の所望の厚み、所望の光学特性、後述の延伸条件等に応じて、任意の適切な値に設定され得る。好ましくは50μm~300μmである。The thickness of the resin film (unstretched film) can be set to any appropriate value depending on the desired thickness of the first retardation layer, the desired optical properties, the stretching conditions described below, etc. Preferably, it is 50 μm to 300 μm.

上記延伸は、任意の適切な延伸方法、延伸条件(例えば、延伸温度、延伸倍率、延伸方向)が採用され得る。具体的には、自由端延伸、固定端延伸、自由端収縮、固定端収縮等の様々な延伸方法を、単独で用いることも、同時もしくは逐次で用いることもできる。延伸方向に関しても、長さ方向、幅方向、厚さ方向、斜め方向等、様々な方向や次元に行なうことができる。延伸の温度は、樹脂フィルムのガラス転移温度(Tg)に対し、Tg-30℃~Tg+60℃であることが好ましく、より好ましくはTg-10℃~Tg+50℃である。For the above stretching, any appropriate stretching method and stretching conditions (e.g., stretching temperature, stretching ratio, stretching direction) may be adopted. Specifically, various stretching methods such as free end stretching, fixed end stretching, free end shrinkage, fixed end shrinkage, etc. may be used alone or simultaneously or sequentially. Stretching may also be performed in various directions or dimensions, such as the length direction, width direction, thickness direction, and diagonal direction. The stretching temperature is preferably Tg-30°C to Tg+60°C relative to the glass transition temperature (Tg) of the resin film, and more preferably Tg-10°C to Tg+50°C.

上記延伸方法、延伸条件を適宜選択することにより、上記所望の光学特性(例えば、屈折率特性、面内位相差、Nz係数)を有する位相差フィルムを得ることができる。By appropriately selecting the above-mentioned stretching method and stretching conditions, a retardation film having the desired optical properties (e.g., refractive index characteristics, in-plane retardation, Nz coefficient) can be obtained.

1つの実施形態においては、位相差フィルムは、樹脂フィルムを一軸延伸もしくは固定端一軸延伸することにより作製される。固定端一軸延伸の具体例としては、樹脂フィルムを長手方向に走行させながら、幅方向(横方向)に延伸する方法が挙げられる。延伸倍率は、好ましくは1.1倍~3.5倍である。In one embodiment, the retardation film is produced by uniaxially stretching or fixed-end uniaxially stretching a resin film. A specific example of fixed-end uniaxial stretching is a method in which a resin film is stretched in the width direction (lateral direction) while running in the longitudinal direction. The stretching ratio is preferably 1.1 to 3.5 times.

別の実施形態においては、位相差フィルムは、長尺状の樹脂フィルムを長手方向に対して上記の角度θの方向に連続的に斜め延伸することにより作製され得る。斜め延伸を採用することにより、フィルムの長手方向に対して角度θの配向角(角度θの方向に遅相軸)を有する長尺状の延伸フィルムが得られ、例えば、偏光子との積層に際してロールトゥロールが可能となり、製造工程を簡略化することができる。なお、角度θは、位相差層付偏光板において偏光子の吸収軸と位相差層の遅相軸とがなす角度であり得る。角度θは、上記のとおり、好ましくは40°~50°であり、より好ましくは42°~48°であり、さらに好ましくは約45°である。In another embodiment, the retardation film can be produced by continuously obliquely stretching a long resin film in the direction of the above angle θ with respect to the longitudinal direction. By employing oblique stretching, a long stretched film having an orientation angle of angle θ with respect to the longitudinal direction of the film (slow axis in the direction of angle θ) can be obtained, which enables roll-to-roll lamination with a polarizer, for example, and simplifies the manufacturing process. The angle θ can be the angle between the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the retardation layer in a retardation layer-attached polarizing plate. As described above, the angle θ is preferably 40° to 50°, more preferably 42° to 48°, and even more preferably about 45°.

斜め延伸に用いる延伸機としては、例えば、横および/または縦方向に、左右異なる速度の送り力もしくは引張り力または引き取り力を付加し得るテンター式延伸機が挙げられる。テンター式延伸機には、横一軸延伸機、同時二軸延伸機等があるが、長尺状の樹脂フィルムを連続的に斜め延伸し得る限り、任意の適切な延伸機が用いられ得る。 An example of a stretching machine used for diagonal stretching is a tenter-type stretching machine that can apply a feeding force, a pulling force, or a take-up force at different speeds in the transverse and/or longitudinal directions. Tenter-type stretching machines include a transverse uniaxial stretching machine and a simultaneous biaxial stretching machine, but any appropriate stretching machine can be used as long as it can continuously stretch a long resin film diagonally.

上記延伸機において左右の速度をそれぞれ適切に制御することにより、上記所望の面内位相差を有し、かつ、上記所望の方向に遅相軸を有する位相差層(実質的には、長尺状の位相差フィルム)が得られ得る。By appropriately controlling the left and right speeds in the stretching machine, a retardation layer (essentially a long retardation film) having the desired in-plane retardation and a slow axis in the desired direction can be obtained.

上記フィルムの延伸温度は、位相差層に所望される面内位相差値および厚み、使用される樹脂の種類、使用されるフィルムの厚み、延伸倍率等に応じて変化し得る。具体的には、延伸温度は、好ましくはTg-30℃~Tg+30℃、さらに好ましくはTg-15℃~Tg+15℃、最も好ましくはTg-10℃~Tg+10℃である。このような温度で延伸することにより、本発明において適切な特性を有する第1の位相差層が得られ得る。なお、Tgは、フィルムの構成材料のガラス転移温度である。The stretching temperature of the film may vary depending on the in-plane retardation value and thickness desired for the retardation layer, the type of resin used, the thickness of the film used, the stretching ratio, etc. Specifically, the stretching temperature is preferably Tg-30°C to Tg+30°C, more preferably Tg-15°C to Tg+15°C, and most preferably Tg-10°C to Tg+10°C. By stretching at such a temperature, a first retardation layer having suitable properties in the present invention can be obtained. Note that Tg is the glass transition temperature of the constituent material of the film.

B-4.第2の位相差層
第2の位相差層は、上記のとおり、屈折率特性がnz>nx=nyの関係を示す、いわゆるポジティブCプレートであり得る。第2の位相差層としてポジティブCプレートを用いることにより、斜め方向の反射を良好に防止することができ、反射防止機能の広視野角化が可能となる。この場合、第2の位相差層の厚み方向の位相差Rth(550)は、好ましくは-50nm~-300nm、より好ましくは-70nm~-250nm、さらに好ましくは-90nm~-200nm、特に好ましくは-100nm~-180nmである。ここで、「nx=ny」は、nxとnyが厳密に等しい場合のみならず、nxとnyが実質的に等しい場合も包含する。すなわち、第2の位相差層の面内位相差Re(550)は10nm未満であり得る。
B-4. Second retardation layer The second retardation layer may be a so-called positive C plate, whose refractive index characteristics show the relationship nz>nx=ny, as described above. By using a positive C plate as the second retardation layer, it is possible to effectively prevent reflection in an oblique direction, and the anti-reflection function can be made wider in viewing angle. In this case, the retardation Rth(550) in the thickness direction of the second retardation layer is preferably -50 nm to -300 nm, more preferably -70 nm to -250 nm, even more preferably -90 nm to -200 nm, and particularly preferably -100 nm to -180 nm. Here, "nx=ny" includes not only the case where nx and ny are strictly equal, but also the case where nx and ny are substantially equal. That is, the in-plane retardation Re(550) of the second retardation layer may be less than 10 nm.

nz>nx=nyの屈折率特性を有する第2の位相差層は、任意の適切な材料で形成され得る。第2の位相差層は、好ましくは、ホメオトロピック配向に固定された液晶材料を含むフィルムからなる。ホメオトロピック配向させることができる液晶材料(液晶化合物)は、液晶モノマーであっても液晶ポリマーであってもよい。当該液晶化合物および当該位相差層の形成方法の具体例としては、特開2002-333642号公報の[0020]~[0028]に記載の液晶化合物および当該位相差層の形成方法が挙げられる。この場合、第2の位相差層の厚みは、好ましくは0.5μm~10μmであり、より好ましくは0.5μm~8μmであり、さらに好ましくは0.5μm~5μmである。The second retardation layer having a refractive index characteristic of nz>nx=ny may be formed of any suitable material. The second retardation layer is preferably made of a film containing a liquid crystal material fixed in a homeotropic alignment. The liquid crystal material (liquid crystal compound) that can be homeotropically aligned may be a liquid crystal monomer or a liquid crystal polymer. Specific examples of the liquid crystal compound and the method of forming the retardation layer include the liquid crystal compound and the method of forming the retardation layer described in [0020] to [0028] of JP-A-2002-333642. In this case, the thickness of the second retardation layer is preferably 0.5 μm to 10 μm, more preferably 0.5 μm to 8 μm, and even more preferably 0.5 μm to 5 μm.

B-5.導電層または導電層付等方性基材
導電層は、任意の適切な成膜方法(例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング法、スプレー法等)により、任意の適切な基材上に、金属酸化物膜を成膜して形成され得る。金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム-スズ複合酸化物、スズ-アンチモン複合酸化物、亜鉛-アルミニウム複合酸化物、インジウム-亜鉛複合酸化物が挙げられる。なかでも好ましくは、インジウム-スズ複合酸化物(ITO)である。
B-5. Conductive layer or isotropic substrate with conductive layer The conductive layer can be formed by forming a metal oxide film on any suitable substrate by any suitable film forming method (e.g., vacuum deposition, sputtering, CVD, ion plating, spraying, etc.). Examples of metal oxides include indium oxide, tin oxide, zinc oxide, indium-tin composite oxide, tin-antimony composite oxide, zinc-aluminum composite oxide, and indium-zinc composite oxide. Among these, indium-tin composite oxide (ITO) is preferred.

導電層が金属酸化物を含む場合、該導電層の厚みは、好ましくは50nm以下であり、より好ましくは35nm以下である。導電層の厚みの下限は、好ましくは10nmである。When the conductive layer contains a metal oxide, the thickness of the conductive layer is preferably 50 nm or less, more preferably 35 nm or less. The lower limit of the thickness of the conductive layer is preferably 10 nm.

導電層は、上記基材から第1の位相差層(または、存在する場合には第2の位相差層)に転写されて導電層単独で位相差層付偏光板の構成層とされてもよく、基材との積層体(導電層付基材)として第1の位相差層(または、存在する場合には第2の位相差層)に積層されてもよい。好ましくは、上記基材は光学的に等方性であり、したがって、導電層は導電層付等方性基材として位相差層付偏光板に用いられ得る。The conductive layer may be transferred from the substrate to the first retardation layer (or the second retardation layer, if present) and used alone as a constituent layer of the retardation layer-attached polarizing plate, or may be laminated with the substrate (substrate with conductive layer) to the first retardation layer (or the second retardation layer, if present). Preferably, the substrate is optically isotropic, and therefore the conductive layer may be used in the retardation layer-attached polarizing plate as an isotropic substrate with conductive layer.

光学的に等方性の基材(等方性基材)としては、任意の適切な等方性基材を採用し得る。等方性基材を構成する材料としては、例えば、ノルボルネン系樹脂やオレフィン系樹脂等の共役系を有さない樹脂を主骨格としている材料、ラクトン環やグルタルイミド環等の環状構造をアクリル系樹脂の主鎖中に有する材料等が挙げられる。このような材料を用いると、等方性基材を形成した際に、分子鎖の配向に伴う位相差の発現を小さく抑えることができる。等方性基材の厚みは、好ましくは50μm以下であり、より好ましくは35μm以下である。等方性基材の厚みの下限は、例えば20μmである。Any suitable isotropic substrate may be used as the optically isotropic substrate (isotropic substrate). Examples of materials constituting the isotropic substrate include materials having a resin without a conjugated system, such as norbornene resins and olefin resins, as the main skeleton, and materials having a ring structure, such as a lactone ring or a glutarimide ring, in the main chain of an acrylic resin. By using such materials, when an isotropic substrate is formed, the occurrence of phase difference associated with the orientation of the molecular chain can be suppressed to a small value. The thickness of the isotropic substrate is preferably 50 μm or less, more preferably 35 μm or less. The lower limit of the thickness of the isotropic substrate is, for example, 20 μm.

上記導電層および/または上記導電層付等方性基材の導電層は、必要に応じてパターン化され得る。パターン化によって、導通部と絶縁部とが形成され得る。結果として、電極が形成され得る。電極は、タッチパネルへの接触を感知するタッチセンサ電極として機能し得る。パターニング方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。パターニング方法の具体例としては、ウエットエッチング法、スクリーン印刷法が挙げられる。The conductive layer and/or the conductive layer of the isotropic substrate with the conductive layer may be patterned as necessary. By patterning, conductive parts and insulating parts may be formed. As a result, electrodes may be formed. The electrodes may function as touch sensor electrodes that sense contact with the touch panel. Any appropriate method may be adopted as the patterning method. Specific examples of the patterning method include wet etching and screen printing.

C.画像表示装置
上記偏光板または位相差層付偏光板は、画像表示装置に適用され得る。したがって、本発明は、上記偏光板または位相差層付偏光板を備えた画像表示装置を包含する。画像表示装置の代表例としては、液晶表示装置、エレクトロルミネセンス(EL)表示装置(例えば、有機EL表示装置、無機EL表示装置)が挙げられる。本発明の実施形態による画像表示装置は、その視認側に上記A項に記載の偏光板またはB項に記載の位相差層付偏光板を備える。位相差層付偏光板は、位相差層が画像表示セル(例えば、液晶セル、有機ELセル、無機ELセル)側となるように(偏光子が視認側となるように)積層されている。1つの実施形態においては、画像表示装置は、湾曲した形状(実質的には、湾曲した表示画面)を有し、および/または、屈曲もしくは折り曲げ可能である。このような画像表示装置においては、本発明の位相差層付偏光板の効果が顕著となる。
C. Image display device The polarizing plate or the retardation layer-attached polarizing plate can be applied to an image display device. Therefore, the present invention includes an image display device equipped with the polarizing plate or the retardation layer-attached polarizing plate. Representative examples of image display devices include liquid crystal display devices and electroluminescence (EL) display devices (e.g., organic EL display devices, inorganic EL display devices). The image display device according to the embodiment of the present invention is equipped with the polarizing plate described in the above item A or the retardation layer-attached polarizing plate described in the above item B on the viewing side. The retardation layer-attached polarizing plate is laminated so that the retardation layer is on the image display cell (e.g., liquid crystal cell, organic EL cell, inorganic EL cell) side (so that the polarizer is on the viewing side). In one embodiment, the image display device has a curved shape (substantially a curved display screen) and/or can be bent or folded. In such an image display device, the effect of the retardation layer-attached polarizing plate of the present invention becomes remarkable.

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。各特性の測定方法は以下の通りである。なお、特に明記しない限り、実施例における「部」および「%」は重量基準である。The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. The methods for measuring each property are as follows. Unless otherwise specified, "parts" and "%" in the examples are by weight.

(1)厚み
偏光子の厚みは、干渉膜厚計(大塚電子社製、製品名「MCPD-3000」)を用いて測定した。厚み算出に用いた計算波長範囲は400nm~500nmで、屈折率は1.53とした。また、保護層の厚みは、干渉膜厚計(大塚電子社製、製品名「MCPD-3000」)を用い、計算波長範囲および屈折率は適宜選択して測定した。易接着層の厚みは、走査型電子顕微鏡(SEM)観察から求めた。10μmを超える厚みは、デジタルマイクロメーター(アンリツ社製、製品名「KC-351C」)を用いて測定した。
(2)PVAの配向関数
実施例および比較例に用いた偏光子/熱可塑性樹脂基材の積層体から樹脂基材を剥離除去した偏光子(偏光子単体)について、樹脂基材を剥離した面と反対側の面に対して、フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR)(Perkin Elmer社製、商品名:「Frontier」)を用い、偏光された赤外光を測定光として、偏光子表面の全反射減衰分光(ATR:attenuated total reflection)測定を行った。偏光子を密着させる結晶子はゲルマニウムを用い、測定光の入射角は45°入射とした。配向関数の算出は以下の手順で行った。入射させる偏光された赤外光(測定光)は、ゲルマニウム結晶のサンプルを密着させる面に平行に振動する偏光(s偏光)とし、測定光の偏光方向に対し、偏光子の延伸方向を垂直(⊥)および平行(//)に配置した状態で各々の吸光度スペクトルを測定した。得られた吸光度スペクトルから、(3330cm-1強度)を参照とした(2941cm-1強度)Iを算出した。Iは、測定光の偏光方向に対し偏光子の延伸方向を垂直(⊥)に配置した場合に得られる吸光度スペクトルから得られる(2941cm-1強度)/(3330cm-1強度)である。また、I//は、測定光の偏光方向に対し偏光子の延伸方向を平行(//)に配置した場合に得られる吸光度スペクトルから得られる(2941cm-1強度)/(3330cm-1強度)である。ここで、(2941cm-1強度)は、吸光度スペクトルのボトムである、2770cm-1と2990cm-1をベースラインとしたときの2941cm-1の吸光度であり、(3330cm-1強度)は、2990cm-1と3650cm-1をベースラインとしたときの3330cm-1の吸光度である。得られたIおよびI// を用い、式1に従って配向関数fを算出した。なお、f=1のとき完全配向、f=0のときランダムとなる。また、2941cm-1のピークは、偏光子中のPVAの主鎖(-CH-)の振動起因の吸収といわれている。また、3330cm-1のピークは、PVAの水酸基の振動起因の吸収といわれている。
(式1)f=(3<cosθ>-1)/2
=(1-D)/[c(2D+1)]
但し
c=(3cosβ-1)/2
で、上記のように2941cm-1を用いた場合、β=90°⇒f=-2×(1-D)/(2D+1)である。
θ:延伸方向に対する分子鎖の角度
β:分子鎖軸に対する遷移双極子モーメントの角度
D=(I)/(I//
:測定光の偏光方向と偏光子の延伸方向が垂直の場合の吸収強度
//:測定光の偏光方向と偏光子の延伸方向が平行の場合の吸収強度
(3)PVAの面内位相差(Re)
実施例および比較例で得られた偏光子/熱可塑性樹脂基材の積層体から樹脂基材を剥離除去した偏光子(偏光子単体)について、位相差測定装置(王子計測機器社製 製品名「KOBRA-31X100/IR」)を用いて、波長1000nmにおけるPVAの面内位相差(Rpva)を評価した(説明した原理にしたがい、波長1000nmにおけるトータルの面内位相差から、ヨウ素の面内位相差(Ri)を引いた数値である)。吸収端波長は600nmとした。
(4)PVAの複屈折(Δn)
上記(3)で測定したPVAの面内位相差を、偏光子の厚みで割ることによりPVAの複屈折(Δn)を算出した。
(5)突き刺し強度
実施例および比較例に用いた偏光子/樹脂基材の積層体から偏光子を剥離し、ニードルを装着した圧縮試験機(カトーテック社製、製品名「NDG5」ニードル貫通力測定仕様)に載置し、室温(23℃±3℃)環境下、突き刺し速度0.33cm/秒で突き刺し、偏光子が割れたときの強度を破断強度(突き刺し強度)とした。評価値は試料片10個の破断強度を測定し、その平均値を用いた。なお、ニードルは、先端径1mmφ、0.5Rのものを用いた。測定する偏光子については、直径約11mmの円形の開口部を有する治具を偏光子の両面から挟んで固定し、開口部の中央にニードルを突き刺して試験を行った。
(6)クラック
実施例および比較例で得られた偏光板または位相差層付偏光板を100mm×100mmサイズに切り出した。切り出したサンプルを、保護層が外側となるように厚み15μmのアクリル系粘着剤層を介してガラス板(厚み1.1mm)に貼り付けた。ガラス板に貼り付けたサンプルを85℃のオーブン内に120時間置いた後、目視にて偏光子の吸収軸方向(MD方向)のクラック発生の有無を目視で確認した。この評価を3枚の位相差層付偏光板を用いて行い、1枚でもクラックが発生したものを「発生」、3枚すべてにクラックが発生しなかったものを「なし」と評価した。
(7)単体透過率および偏光度
実施例および比較例で得られた偏光子/熱可塑性樹脂基材の積層体から樹脂基材を剥離除去した偏光子(偏光子単体)について、紫外可視分光光度計(日本分光社製「V-7100」)を用いて単体透過率Ts、平行透過率Tp、直交透過率Tcを測定した。これらのTs、TpおよびTcは、JIS Z8701の2度視野(C光源)により測定して視感度補正を行なったY値である。得られたTpおよびTcから、下記式により偏光度Pを求めた。
偏光度P(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2×100
なお、分光光度計は、大塚電子社製「LPF-200」等でも同等の測定をすることが可能であり、いずれの分光光度計を用いた場合であっても同等の測定結果が得られることが確認されている。
(8)加湿耐久性
実施例および比較例で得られた偏光板または位相差層付偏光板から、偏光子の吸収軸方向に直交する方向および吸収軸方向をそれぞれ対向する二辺とする試験片(50mm×50mm)を切り出した。保護層が外側となるようにして粘着剤で試験片を無アルカリガラス板に貼り合わせ試験サンプルとし、当該試験サンプルについて、紫外可視分光光度計(日本分光社製、製品名「V7100」)を用いて、(7)と同様に、単体透過率(Ts)、平行透過率(Tp)および直交透過率(Tc)を測定し、偏光度(P)を求めた。この時、測定光は保護層側から入射させた。
次に、当該試験サンプルを60℃および95%RHのオーブン内で500時間放置して加熱加湿し(湿熱試験)、湿熱試験前の偏光度Pおよび湿熱試験後の偏光度P500から、下記式を用いて偏光度の変化量ΔPを求めた。
ΔP(%)=P500-P
得られたΔPの結果から、以下の基準で評価した。
良:ΔPが-5.0%~0%
不良::ΔPが-5.0%未満、または、色抜けが発生
(9)保護層の軟化温度
各実施例および比較例における保護層の形成と同様にして、比較例1で作製した偏光子(総延伸倍率:5.5倍)の片面に保護層(厚み:3μm)を形成した。得られた偏光板[保護層/偏光子]の保護層表面に対して、局所熱分析(ナノTA測定)を行い、保護層の軟化温度を算出した。測定装置および測定条件は、以下の通りである。
測定装置:日立ハイテクサイエンス社製、製品名「AFM5300E//Nano-TA2」
測定モード:コンタクトモード
探針:AN2-200
測定面積:8μm□スキャン
測定雰囲気:大気圧
(10)ヨウ素吸着量
各実施例および比較例における保護層の形成と同様にして、PETフィルムの片面に保護層(厚み:3μm)を形成した。得られた保護層付PETフィルムを1cm×1cm(1cm)に切り出して試料とし、ヘッドスペースバイアル瓶(20mL容量)に採取・秤量した。次に、ヨウ素溶液1mL(ヨウ素濃度1重量%、ヨウ化カリウム濃度7重量%)を入れたスクリュー管瓶(1.5mL容量)もこのヘッドスペースバイアル瓶に入れ、密栓した。その後、ヘッドスペースバイアル瓶を65℃の乾燥機に入れ、6時間加温した(これにより、ガス状態のIが試料に吸着する)。その後、試料をセラミックボートに採取し自動試料燃焼装置を用いて燃焼させ、発生したガスを吸収液10mLに捕集した。捕集後、この吸収液を純水で15mLに調製し、原液または適宜希釈した液についてIC定量分析を行った。なお、PETフィルムのみで同様の測定を行った場合のヨウ素吸着量がほぼ0であったため、IC定量分析で得られたヨウ素重量と、保護層単体の重量(「保護層付PETフィルムの重量」-「PETフィルムの重量」)とに基づいて、以下の式からヨウ素吸着量(重量%)を算出した。
ヨウ素吸着量(重量%)=IC定量分析で得られたヨウ素重量/保護層単体の重量×100
また、測定装置は、以下の通りである。
[測定装置]
自動試料燃焼装置:三菱ケミカルアナリテック社製、「AQF-2100H」
IC(アニオン):Thermo Fisher Scientific社製、「ICS-3000」
(1) Thickness The thickness of the polarizer was measured using an interference thickness meter (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., product name "MCPD-3000"). The calculated wavelength range used for thickness calculation was 400 nm to 500 nm, and the refractive index was 1.53. The thickness of the protective layer was measured using an interference thickness meter (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., product name "MCPD-3000"), with the calculated wavelength range and refractive index appropriately selected. The thickness of the easy-adhesion layer was obtained by observation with a scanning electron microscope (SEM). Thicknesses exceeding 10 μm were measured using a digital micrometer (manufactured by Anritsu Co., Ltd., product name "KC-351C").
(2) Orientation function of PVA For the polarizer (single polarizer) obtained by peeling off the resin substrate from the laminate of polarizer/thermoplastic resin substrate used in the examples and comparative examples, a Fourier transform infrared spectrophotometer (FT-IR) (manufactured by Perkin Elmer, product name: "Frontier") was used for the surface opposite to the surface from which the resin substrate was peeled off, and attenuated total reflection spectroscopy (ATR: attenuated total reflection) was performed on the polarizer surface using polarized infrared light as the measurement light. Germanium was used as the crystallite to which the polarizer was in close contact, and the angle of incidence of the measurement light was set to 45°. The orientation function was calculated by the following procedure. The polarized infrared light (measurement light) to be incident was polarized light (s-polarized light) that vibrated parallel to the surface to which the germanium crystal sample was in close contact, and the absorbance spectrum of each was measured in a state in which the stretching direction of the polarizer was arranged perpendicular (⊥) and parallel (//) to the polarization direction of the measurement light. From the obtained absorbance spectrum, (2941 cm -1 intensity) I was calculated using (3330 cm -1 intensity) as a reference. I ⊥ is (2941 cm -1 intensity)/(3330 cm -1 intensity) obtained from the absorbance spectrum obtained when the stretch direction of the polarizer is arranged perpendicular (⊥) to the polarization direction of the measurement light. I // is (2941 cm -1 intensity)/(3330 cm -1 intensity) obtained from the absorbance spectrum obtained when the stretch direction of the polarizer is arranged parallel ( // ) to the polarization direction of the measurement light. Here, (2941 cm -1 intensity) is the absorbance at 2941 cm -1 when 2770 cm -1 and 2990 cm -1 , which are the bottoms of the absorbance spectrum, are used as the baseline, and (3330 cm -1 intensity) is the absorbance at 3330 cm -1 when 2990 cm -1 and 3650 cm -1 are used as the baseline. The obtained I and I // were used to calculate the orientation function f according to formula 1. Note that f = 1 indicates complete orientation, and f = 0 indicates random. The peak at 2941 cm -1 is said to be due to absorption caused by vibration of the main chain (-CH 2 -) of PVA in the polarizer. The peak at 3330 cm -1 is said to be due to absorption caused by vibration of the hydroxyl group of PVA.
(Formula 1) f=(3<cos 2 θ>-1)/2
=(1-D)/[c(2D+1)]
However, c = (3 cos 2 β-1)/2
When 2941 cm −1 is used as described above, β=90°⇒f=−2×(1−D)/(2D+1).
θ: Angle of the molecular chain with respect to the stretching direction β: Angle of the transition dipole moment with respect to the molecular chain axis D = (I ) / (I // )
I : Absorption intensity when the polarization direction of the measurement light and the stretching direction of the polarizer are perpendicular I // : Absorption intensity when the polarization direction of the measurement light and the stretching direction of the polarizer are parallel (3) In-plane retardation (Re) of PVA
For the polarizer (single polarizer) obtained by peeling and removing the resin substrate from the laminate of polarizer/thermoplastic resin substrate obtained in the examples and comparative examples, the in-plane retardation (Rpva) of PVA at a wavelength of 1000 nm was evaluated using a retardation measurement device (manufactured by Oji Scientific Instruments, product name "KOBRA-31X100/IR") (this is a numerical value obtained by subtracting the in-plane retardation (Ri) of iodine from the total in-plane retardation at a wavelength of 1000 nm, according to the principle explained above). The absorption edge wavelength was set to 600 nm.
(4) Birefringence of PVA (Δn)
The birefringence (Δn) of the PVA was calculated by dividing the in-plane retardation of the PVA measured in (3) above by the thickness of the polarizer.
(5) Piercing strength The polarizer was peeled off from the laminate of polarizer/resin substrate used in the examples and comparative examples, and placed on a compression tester (manufactured by Kato Tech Co., Ltd., product name "NDG5" needle penetration force measurement specifications) equipped with a needle, and pierced at a piercing speed of 0.33 cm/sec under a room temperature (23°C ± 3°C) environment. The strength at which the polarizer broke was taken as the breaking strength (piercing strength). The evaluation value was the breaking strength of 10 sample pieces, and the average value was used. The needle used had a tip diameter of 1 mmφ and 0.5R. The polarizer to be measured was fixed by clamping it from both sides with a jig having a circular opening with a diameter of about 11 mm, and the needle was pierced into the center of the opening to perform the test.
(6) Cracks The polarizing plate or the polarizing plate with a retardation layer obtained in the examples and comparative examples was cut into a size of 100 mm x 100 mm. The cut sample was attached to a glass plate (thickness 1.1 mm) via an acrylic adhesive layer with a thickness of 15 μm so that the protective layer was on the outside. The sample attached to the glass plate was placed in an oven at 85 ° C. for 120 hours, and then visually confirmed whether or not cracks occurred in the absorption axis direction (MD direction) of the polarizer. This evaluation was performed using three polarizing plates with a retardation layer, and the one with cracks was evaluated as "occurred" when even one of them had cracks, and the one without cracks was evaluated as "absent" when all three of them had cracks.
(7) Single transmittance and polarization degree For a polarizer (single polarizer) obtained by peeling and removing the resin substrate from the polarizer/thermoplastic resin substrate laminate obtained in the Examples and Comparative Examples, the single transmittance Ts, parallel transmittance Tp, and crossed transmittance Tc were measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer ("V-7100" manufactured by JASCO Corporation). These Ts, Tp, and Tc are Y values measured using a 2-degree visual field (C light source) according to JIS Z8701 and corrected for visibility. From the obtained Tp and Tc, the polarization degree P was calculated according to the following formula.
Polarization degree P (%) = {(Tp-Tc)/(Tp+Tc)} 1/2 ×100
It should be noted that equivalent measurements can also be made using a spectrophotometer such as the Otsuka Electronics LPF-200, and it has been confirmed that equivalent measurement results can be obtained regardless of which spectrophotometer is used.
(8) Moisture durability From the polarizing plate or retardation layer-attached polarizing plate obtained in the examples and comparative examples, a test piece (50 mm x 50 mm) was cut out with two sides perpendicular to the absorption axis direction of the polarizer and facing the absorption axis direction. The test piece was attached to an alkali-free glass plate with an adhesive so that the protective layer was on the outside to obtain a test sample. The test sample was measured for the single transmittance (Ts), parallel transmittance (Tp) and cross transmittance (Tc) using an ultraviolet-visible spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation, product name "V7100") in the same manner as in (7), and the polarization degree (P) was obtained. At this time, the measurement light was incident from the protective layer side.
Next, the test sample was left in an oven at 60° C. and 95% RH for 500 hours to be heated and humidified (humid heat test), and the change in the degree of polarization ΔP was calculated from the degree of polarization P0 before the moist heat test and the degree of polarization P500 after the moist heat test using the following formula.
ΔP (%) = P 500 - P 0
The obtained ΔP results were evaluated according to the following criteria.
Good: ΔP is -5.0% to 0%
Poor: ΔP is less than -5.0%, or color loss occurs (9) Softening temperature of protective layer A protective layer (thickness: 3 μm) was formed on one side of the polarizer (total stretch ratio: 5.5 times) produced in Comparative Example 1 in the same manner as in the formation of the protective layer in each of the Examples and Comparative Examples. A local thermal analysis (nano TA measurement) was performed on the protective layer surface of the obtained polarizing plate [protective layer/polarizer], and the softening temperature of the protective layer was calculated. The measurement device and measurement conditions are as follows.
Measuring device: Hitachi High-Tech Science Corporation, product name "AFM5300E//Nano-TA2"
Measurement mode: Contact mode Probe: AN2-200
Measurement area: 8 μm□Scan Measurement atmosphere: Atmospheric pressure (10) Iodine adsorption amount A protective layer (thickness: 3 μm) was formed on one side of a PET film in the same manner as in the formation of the protective layer in each Example and Comparative Example. The obtained PET film with protective layer was cut into 1 cm×1 cm (1 cm 2 ) to prepare a sample, which was collected and weighed in a headspace vial (20 mL capacity). Next, a screw tube bottle (1.5 mL capacity) containing 1 mL of iodine solution (iodine concentration 1 wt%, potassium iodide concentration 7 wt%) was also placed in this headspace vial and sealed. Then, the headspace vial was placed in a dryer at 65° C. and heated for 6 hours (this causes I 2 in a gaseous state to be adsorbed on the sample). Then, the sample was collected in a ceramic boat and burned using an automatic sample combustion device, and the generated gas was collected in 10 mL of absorption liquid. After collection, this absorption liquid was adjusted to 15 mL with pure water, and IC quantitative analysis was performed on the original solution or a solution appropriately diluted. In addition, since the amount of iodine adsorption was almost zero when a similar measurement was performed using only the PET film, the amount of iodine adsorption (wt%) was calculated from the following formula based on the weight of iodine obtained by IC quantitative analysis and the weight of the protective layer alone ("weight of PET film with protective layer" - "weight of PET film").
Iodine adsorption amount (wt%)=weight of iodine obtained by IC quantitative analysis/weight of protective layer alone×100
The measuring device is as follows.
[Measuring device]
Automatic sample combustion device: Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd., "AQF-2100H"
IC (anion): Thermo Fisher Scientific, "ICS-3000"

[実施例1-1]
1.偏光子/樹脂基材の積層体の作製
樹脂基材として、長尺状で、吸水率0.75%、Tg約75℃である、非晶質のイソフタル共重合ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み:100μm)を用いた。樹脂基材の片面に、コロナ処理を施した。
ポリビニルアルコール(重合度4200、ケン化度99.2モル%)およびアセトアセチル変性PVA(三菱ケミカル社製、商品名「ゴーセファイマーZ410」)を9:1で混合したPVA系樹脂100重量部に、ヨウ化カリウム13重量部を添加し、PVA水溶液(塗布液)を調製した。
樹脂基材のコロナ処理面に、上記PVA水溶液を塗布して60℃で乾燥することにより、厚み13μmのPVA系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
得られた積層体を、130℃のオーブン内で周速の異なるロール間で縦方向(長手方向)に2.4倍に自由端一軸延伸した(空中補助延伸処理)。
次いで、積層体を、液温40℃の不溶化浴(水100重量部に対して、ホウ酸を4重量部配合して得られたホウ酸水溶液)に30秒間浸漬させた(不溶化処理)。
次いで、液温30℃の染色浴(水100重量部に対して、ヨウ素とヨウ化カリウムを1:7の重量比で配合して得られたヨウ素水溶液)に、最終的に得られる偏光子の単体透過率(Ts)が41.5%となるように濃度を調整しながら60秒間浸漬させた(染色処理)。
次いで、液温40℃の架橋浴(水100重量部に対して、ヨウ化カリウムを3重量部配合し、ホウ酸を5重量部配合して得られたホウ酸水溶液)に30秒間浸漬させた(架橋処理)。
その後、積層体を、液温70℃のホウ酸水溶液(ホウ酸濃度4.0重量%)に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向(長手方向)に1.46倍に一軸延伸を行った(水中延伸処理)(結果として、総延伸倍率は2.4×1.46=3.5倍であった)。
その後、積層体を液温20℃の洗浄浴(水100重量部に対して、ヨウ化カリウムを4重量部配合して得られた水溶液)に浸漬させた(洗浄処理)。
その後、90℃に保たれたオーブン中で乾燥しながら、表面温度が75℃に保たれたSUS製の加熱ロールに約2秒接触させた(乾燥収縮処理)。乾燥収縮処理による積層体の幅方向の収縮率は2%であった。
このようにして、樹脂基材上に厚み6.7μmの偏光子を形成し、偏光子/樹脂基材の積層体を作製した。偏光子の単体透過率(初期単体透過率)Tsは41.5%であり、偏光度(初期偏光度)Pは99.99%であった。
[Example 1-1]
1. Preparation of a laminate of a polarizer and a resin substrate As a resin substrate, a long amorphous isophthalic copolymerized polyethylene terephthalate film (thickness: 100 μm) having a water absorption rate of 0.75% and a Tg of about 75° C. was used. One surface of the resin substrate was subjected to a corona treatment.
A PVA aqueous solution (coating solution) was prepared by adding 13 parts by weight of potassium iodide to 100 parts by weight of a PVA-based resin prepared by mixing polyvinyl alcohol (polymerization degree 4,200, saponification degree 99.2 mol%) and acetoacetyl-modified PVA (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product name "GOHSEFEIMER Z410") in a ratio of 9:1.
The above PVA aqueous solution was applied to the corona-treated surface of a resin substrate and dried at 60° C. to form a PVA-based resin layer having a thickness of 13 μm, thereby producing a laminate.
The resulting laminate was uniaxially stretched at its free end to 2.4 times its original size in the machine direction (longitudinal direction) between rolls having different peripheral speeds in an oven at 130° C. (auxiliary air stretching treatment).
Next, the laminate was immersed in an insolubilizing bath (a boric acid aqueous solution obtained by mixing 4 parts by weight of boric acid with 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 40° C. for 30 seconds (insolubilizing treatment).
Next, the film was immersed in a dye bath (an aqueous iodine solution obtained by mixing iodine and potassium iodide in a weight ratio of 1:7 with 100 parts by weight of water) having a liquid temperature of 30° C. for 60 seconds while adjusting the concentration so that the single transmittance (Ts) of the finally obtained polarizer would be 41.5% (dyeing treatment).
Next, the plate was immersed in a crosslinking bath (a boric acid aqueous solution obtained by mixing 3 parts by weight of potassium iodide and 5 parts by weight of boric acid with 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 40° C. for 30 seconds (crosslinking treatment).
Thereafter, the laminate was immersed in an aqueous boric acid solution (boric acid concentration: 4.0 wt %) at a liquid temperature of 70° C. and uniaxially stretched in the longitudinal direction (longitudinal direction) by 1.46 times between rolls having different peripheral speeds (underwater stretching treatment) (as a result, the total stretching ratio was 2.4 × 1.46 = 3.5 times).
Thereafter, the laminate was immersed in a cleaning bath (an aqueous solution obtained by mixing 4 parts by weight of potassium iodide with 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 20° C. (cleaning treatment).
Thereafter, while drying in an oven maintained at 90° C., the laminate was brought into contact with a SUS heated roll having a surface temperature maintained at 75° C. for about 2 seconds (drying shrinkage treatment). The shrinkage rate of the laminate in the width direction due to the drying shrinkage treatment was 2%.
In this manner, a polarizer having a thickness of 6.7 μm was formed on the resin substrate, and a laminate of the polarizer and the resin substrate was produced. The polarizer had a single transmittance (initial single transmittance) Ts 0 of 41.5% and a polarization degree (initial polarization degree) P 0 of 99.99%.

2.易接着層の形成
得られた積層体の偏光子面に、易接着層としてポリウレタン系の水系分散樹脂(第一工業製薬社製、製品名:スーパーフレックスSF210)を厚みが0.1μmになるように塗布し、易接着層を形成した。
2. Formation of Easy-Adhesion Layer A polyurethane-based aqueous dispersion resin (manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., product name: Superflex SF210) was applied to a thickness of 0.1 μm on the polarizer surface of the obtained laminate to form an easy-adhesion layer.

3.保護層の作製
100%ポリメチルメタクリレートであるアクリル系樹脂(楠本化成社製、製品名:B-728)20重量部をメチルエチルケトン80重量部に溶解し、アクリル系樹脂溶液(20%)を得た。このアクリル系樹脂溶液を、上記で得られた積層体の易接着層表面にワイヤーバーを用いて塗布し、塗布膜を60℃で5分間乾燥して、塗布膜の固化物として構成される保護層を形成した。保護層の厚みは3μmであった。次いで、得られた積層体から樹脂基材を剥離して、保護層(塗布膜の固化物)/易接着層/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
3. Preparation of protective layer 20 parts by weight of acrylic resin (Kusumoto Chemical Industries, Ltd., product name: B-728) which is 100% polymethyl methacrylate was dissolved in 80 parts by weight of methyl ethyl ketone to obtain an acrylic resin solution (20%). This acrylic resin solution was applied to the surface of the easy-adhesion layer of the laminate obtained above using a wire bar, and the coating film was dried at 60°C for 5 minutes to form a protective layer constituted as a solidified coating film. The thickness of the protective layer was 3 μm. Next, the resin substrate was peeled off from the obtained laminate to obtain a polarizing plate having a configuration of protective layer (solidified coating film)/easy-adhesion layer/polarizer.

[実施例1-2]
保護層厚みを2μmとしたこと、および、保護層の易接着層と反対側の面にさらにハードコート層(厚み3μm)を形成したこと以外は、実施例1-1と同様にして、ハードコート層/保護層(塗布膜の固化物)/易接着層/偏光子の構成を有する偏光板を得た。なお、ハードコート層は、ジメチロール-トリシクロデカンジアクリレート(共栄社化学製、商品名:ライトアクリレートDCP-A)70重量部、イソボルニルアクリレート(共栄社化学製、商品名:ライトアクリレートIB-XA)20重量部、1,9-ノナンジオールジアクリレート(共栄社化学製、商品名:ライトアクリレート1.9NA-A)10重量部、さらに、光重合開始剤(BASF社製、商品名:イルガキュア907)3重量部を、適当な溶媒を用いて混合し、得られた塗工液を、硬化後に3μmになるように保護層面上に塗布し、次いで、溶媒を乾燥させ、高圧水銀ランプを用いて積算光量300mJ/cmとなるよう紫外線を窒素雰囲気下にて照射すること形成した。
[Example 1-2]
A polarizing plate having a structure of hard coat layer/protective layer (solidified coating film)/easy-adhesion layer/polarizer was obtained in the same manner as in Example 1-1, except that the thickness of the protective layer was set to 2 μm and a hard coat layer (thickness 3 μm) was further formed on the surface of the protective layer opposite the easy-adhesion layer. The hard coat layer was formed by mixing 70 parts by weight of dimethylol-tricyclodecane diacrylate (Kyoeisha Chemical, product name: Light Acrylate DCP-A), 20 parts by weight of isobornyl acrylate (Kyoeisha Chemical, product name: Light Acrylate IB-XA), 10 parts by weight of 1,9-nonanediol diacrylate (Kyoeisha Chemical, product name: Light Acrylate 1.9NA-A), and 3 parts by weight of a photopolymerization initiator (BASF, product name: Irgacure 907) using an appropriate solvent, and applying the resulting coating liquid onto the protective layer surface so that the thickness would be 3 μm after curing. The solvent was then dried, and ultraviolet light was irradiated under a nitrogen atmosphere using a high-pressure mercury lamp so that the accumulated light amount was 300 mJ/cm 2 .

[実施例1-3]
100%ポリメチルメタクリレートであるアクリル系樹脂に代えて、ラクトン環単位を有するポリメチルメタクリレートであるアクリル系樹脂(ラクトン環単位30モル%)を用いたこと、保護層厚みを2μmとしたこと、および、保護層の易接着層と反対側の面にさらにハードコート層(厚み3μm)を形成したこと以外は、実施例1-1と同様にして、ハードコート層/保護層(塗布膜の固化物)/易接着層/偏光子の構成を有する偏光板を得た。なお、ハードコート層の形成は、実施例1-2と同様に行った。
[Examples 1-3]
A polarizing plate having a hard coat layer/protective layer (solidified coating film)/easy adhesion layer/polarizer structure was obtained in the same manner as in Example 1-1, except that an acrylic resin that is 100% polymethyl methacrylate was replaced with an acrylic resin that is polymethyl methacrylate having a lactone ring unit (lactone ring unit 30 mol%), the thickness of the protective layer was set to 2 μm, and a hard coat layer (thickness 3 μm) was further formed on the surface of the protective layer opposite to the easy adhesion layer. The hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1-2.

[実施例1-4]
100%ポリメチルメタクリレートであるアクリル系樹脂に代えて、グルタルイミド環単位を有するポリメチルメタクリレートであるアクリル系樹脂(グルタルイミド環単位4モル%)を用いたこと、保護層厚みを2μmとしたこと、および、保護層の易接着層と反対側の面にさらにハードコート層(厚み3μm)を形成したこと以外は、実施例1-1と同様にして、ハードコート層/保護層(塗布膜の固化物)/易接着層/偏光子の構成を有する偏光板を得た。なお、ハードコート層の形成は、実施例1-2と同様に行った。
[Examples 1 to 4]
A polarizing plate having a hard coat layer/protective layer (solidified coating film)/easy adhesion layer/polarizer structure was obtained in the same manner as in Example 1-1, except that an acrylic resin (4 mol% glutarimide ring unit) that is polymethyl methacrylate having a glutarimide ring unit was used instead of the acrylic resin that is 100% polymethyl methacrylate, the thickness of the protective layer was set to 2 μm, and a hard coat layer (3 μm thick) was further formed on the surface of the protective layer opposite to the easy adhesion layer. The hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1-2.

[実施例1-5]
100%ポリメチルメタクリレートであるアクリル系樹脂に代えて、メチルメタクリレート/ブチルメタクリレート(モル比80/20)の共重合体であるアクリル系樹脂を用いたこと以外は実施例1-1と同様にして、保護層(塗布膜の固化物)/易接着層/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
[Examples 1 to 5]
A polarizing plate having a configuration of protective layer (solidified coating film)/easy-adhesion layer/polarizer was obtained in the same manner as in Example 1-1, except that an acrylic resin which is a copolymer of methyl methacrylate/butyl methacrylate (molar ratio 80/20) was used instead of the acrylic resin which is 100% polymethyl methacrylate.

[実施例1-6]
100%ポリメチルメタクリレートであるアクリル系樹脂に代えて、メチルメタクリレート/ブチルメタクリレート(モル比80/20)の共重合体であるアクリル系樹脂を用いたこと、保護層厚みを2μmとしたこと、および、保護層の易接着層と反対側の面にさらにハードコート層(厚み3μm)を形成したこと以外は、実施例1-1と同様にして、ハードコート層/保護層(塗布膜の固化物)/易接着層/偏光子の構成を有する偏光板を得た。なお、ハードコート層の形成は、実施例1-2と同様に行った。
[Examples 1 to 6]
A polarizing plate having a hard coat layer/protective layer (solidified coating film)/easy adhesion layer/polarizer structure was obtained in the same manner as in Example 1-1, except that an acrylic resin that is a copolymer of methyl methacrylate/butyl methacrylate (molar ratio 80/20) was used instead of the acrylic resin that is 100% polymethyl methacrylate, the thickness of the protective layer was set to 2 μm, and a hard coat layer (thickness 3 μm) was further formed on the surface of the protective layer opposite to the easy adhesion layer. The hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1-2.

[実施例1-7]
100%ポリメチルメタクリレートであるアクリル系樹脂に代えて、メチルメタクリレート/エチルアクリレート(モル比55/45)の共重合体であるアクリル系樹脂(楠本化成社製、製品名「B-722」)を用いたこと以外は実施例1-1と同様にして、保護層(塗布膜の固化物)/易接着層/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
[Examples 1 to 7]
A polarizing plate having a configuration of protective layer (solidified coating film)/easy-adhesion layer/polarizer was obtained in the same manner as in Example 1-1, except that an acrylic resin (manufactured by Kusumoto Chemical Industries, Ltd., product name "B-722") which is a copolymer of methyl methacrylate/ethyl acrylate (molar ratio 55/45) was used instead of the acrylic resin which was 100% polymethyl methacrylate.

[実施例1-8]
100%ポリメチルメタクリレートであるアクリル系樹脂に代えて、メチルメタクリレート/ブチルメタクリレート(モル比35/65)の共重合体であるアクリル系樹脂(楠本化成社製、製品名「B-734」)を用いたこと以外は実施例1-1と同様にして、保護層(塗布膜の固化物)/易接着層/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
[Examples 1 to 8]
A polarizing plate having a configuration of protective layer (solidified coating film)/easy-adhesion layer/polarizer was obtained in the same manner as in Example 1-1, except that an acrylic resin (manufactured by Kusumoto Chemical Industries, Ltd., product name "B-734") which is a copolymer of methyl methacrylate/butyl methacrylate (molar ratio 35/65) was used instead of the acrylic resin which was 100% polymethyl methacrylate.

[実施例2-1]
1.偏光子/樹脂基材の積層体の作製
実施例1-1と同様にして、樹脂基材上に厚み6.7μmの偏光子を形成し、偏光子/樹脂基材の積層体を作製した。
2.保護層の作製
ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂(三菱ケミカル社製、商品名:jER(登録商標) YX4000)15部をメチルエチルケトン83.8部に溶解し、エポキシ樹脂溶液を得た。得られたエポキシ樹脂溶液に、光カチオン重合開始剤(サンアプロ社製、商品名:CPI(登録商標)-100P)1.2部を添加し、保護層形成組成物を得た。得られた保護層形成組成物を、偏光子表面に直接(すなわち、易接着層を形成せずに)ワイヤーバーを用いて塗布し、塗布膜を60℃で3分間乾燥した。次いで、高圧水銀ランプを用いて積算光量が600mJ/cmとなるよう紫外線を照射し、保護層を形成した。保護層の厚みは3μmであった。次いで、得られた積層体から樹脂基材を剥離して、保護層(エポキシ樹脂の光カチオン硬化層)/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
[Example 2-1]
1. Preparation of Laminate of Polarizer/Resin Substrate In the same manner as in Example 1-1, a polarizer having a thickness of 6.7 μm was formed on a resin substrate to prepare a laminate of polarizer/resin substrate.
2. Preparation of protective layer 15 parts of an epoxy resin having a biphenyl skeleton (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product name: jER (registered trademark) YX4000) was dissolved in 83.8 parts of methyl ethyl ketone to obtain an epoxy resin solution. 1.2 parts of a photocationic polymerization initiator (manufactured by San-Apro Co., Ltd., product name: CPI (registered trademark)-100P) was added to the obtained epoxy resin solution to obtain a protective layer forming composition. The obtained protective layer forming composition was directly applied to the polarizer surface (i.e., without forming an easy-adhesion layer) using a wire bar, and the coating film was dried at 60 ° C. for 3 minutes. Next, ultraviolet rays were irradiated using a high-pressure mercury lamp so that the accumulated light amount was 600 mJ / cm 2 to form a protective layer. The thickness of the protective layer was 3 μm. Next, the resin substrate was peeled off from the obtained laminate to obtain a polarizing plate having a configuration of a protective layer (photocationic cured layer of epoxy resin) / polarizer.

[実施例2-2]
ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂(三菱ケミカル社製、商品名:jER(登録商標) YX4000)15部とオキセタン樹脂(東亞合成社製、商品名:アロンオキセタン(登録商標) OXT-221)10重量部と、をメチルエチルケトン73部に溶解し、エポキシ樹脂溶液を得た。得られたエポキシ樹脂溶液に、光カチオン重合開始剤(サンアプロ社製、商品名:CPI(登録商標)-100P)2部を添加し、保護層形成組成物を得た。このエポキシ樹脂溶液を用いて保護層形成組成物を得たこと、種々のヨウ素濃度の染色浴(ヨウ素とヨウ化カリウムの重量比=1:7)を用いたこと、および、偏光子を作製する際の水中延伸の延伸倍率を1.25倍としたこと(総延伸倍率:3.0倍)以外は実施例2-1と同様にして、保護層(エポキシ樹脂の光カチオン硬化層)/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
[Example 2-2]
15 parts of an epoxy resin having a biphenyl skeleton (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product name: jER (registered trademark) YX4000) and 10 parts by weight of an oxetane resin (manufactured by Toagosei Co., Ltd., product name: Aron Oxetane (registered trademark) OXT-221) were dissolved in 73 parts of methyl ethyl ketone to obtain an epoxy resin solution. 2 parts of a photocationic polymerization initiator (manufactured by San-Apro Co., Ltd., product name: CPI (registered trademark)-100P) were added to the obtained epoxy resin solution to obtain a protective layer-forming composition. A polarizing plate having a configuration of a protective layer (photocationic cured layer of epoxy resin)/polarizer was obtained in the same manner as in Example 2-1, except that the protective layer-forming composition was obtained using this epoxy resin solution, dye baths with various iodine concentrations (weight ratio of iodine to potassium iodide = 1:7) were used, and the stretching ratio of the underwater stretching when preparing the polarizer was 1.25 times (total stretching ratio: 3.0 times).

[実施例2-3]
種々のヨウ素濃度の染色浴(ヨウ素とヨウ化カリウムの重量比=1:7)を用いたこと、および、偏光子を作製する際の水中延伸の延伸倍率を1.46倍としたこと(総延伸倍率:3.5倍)以外は実施例2-2と同様にして、保護層(エポキシ樹脂の光カチオン硬化層)/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
[Example 2-3]
A polarizing plate having a configuration of protective layer (photocationically cured layer of epoxy resin)/polarizer was obtained in the same manner as in Example 2-2, except that dye baths having various iodine concentrations (weight ratio of iodine to potassium iodide=1:7) were used and the stretching ratio in the underwater stretching when preparing the polarizer was set to 1.46 times (total stretching ratio: 3.5 times).

[実施例2-4]
種々のヨウ素濃度の染色浴(ヨウ素とヨウ化カリウムの重量比=1:7)を用いたこと、および、偏光子を作製する際の水中延伸の延伸倍率を1.67倍としたこと(総延伸倍率:4.0倍)以外は実施例2-2と同様にして、保護層(エポキシ樹脂の光カチオン硬化層)/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
[Example 2-4]
A polarizing plate having a configuration of protective layer (photocationically cured layer of epoxy resin)/polarizer was obtained in the same manner as in Example 2-2, except that dye baths having various iodine concentrations (weight ratio of iodine to potassium iodide=1:7) were used and the stretching ratio in the underwater stretching when preparing the polarizer was set to 1.67 times (total stretching ratio: 4.0 times).

[実施例2-5]
種々のヨウ素濃度の染色浴(ヨウ素とヨウ化カリウムの重量比=1:7)を用いたこと、および、偏光子を作製する際の水中延伸の延伸倍率を1.88倍としたこと(総延伸倍率:4.5倍)以外は実施例2-2と同様にして、保護層(エポキシ樹脂の光カチオン硬化層)/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
[Example 2-5]
A polarizing plate having a configuration of protective layer (photocationically cured layer of epoxy resin)/polarizer was obtained in the same manner as in Example 2-2, except that dye baths having various iodine concentrations (weight ratio of iodine to potassium iodide=1:7) were used and the stretching ratio in the underwater stretching when preparing the polarizer was set to 1.88 times (total stretching ratio: 4.5 times).

[実施例2-6]
ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂に代えて、ビスフェノール型エポキシ樹脂(三菱ケミカル社製、商品名:jER(登録商標) 828)を用いたこと以外は実施例2-1と同様にして、保護層(エポキシ樹脂の光カチオン硬化層)/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
[Example 2-6]
A polarizing plate having a configuration of protective layer (photocationically cured layer of epoxy resin)/polarizer was obtained in the same manner as in Example 2-1, except that a bisphenol-type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product name: jER (registered trademark) 828) was used instead of the epoxy resin having a biphenyl skeleton.

[実施例2-7]
ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂に代えて、ビスフェノール型エポキシ樹脂(三菱ケミカル社製、商品名:jER(登録商標) 828)を用いたこと以外は実施例2-3と同様にして、保護層(エポキシ樹脂の光カチオン硬化層)/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
[Example 2-7]
A polarizing plate having a configuration of protective layer (photocationically cured layer of epoxy resin)/polarizer was obtained in the same manner as in Example 2-3, except that a bisphenol-type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product name: jER (registered trademark) 828) was used instead of the epoxy resin having a biphenyl skeleton.

[実施例2-8]
ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂に代えて、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂(三菱ケミカル社製、商品名:jER(登録商標) YX8000)を用いたこと以外は実施例2-1と同様にして、保護層(エポキシ樹脂の光カチオン硬化層)/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
[Example 2-8]
A polarizing plate having a configuration of protective layer (photocationically cured layer of epoxy resin)/polarizer was obtained in the same manner as in Example 2-1, except that a hydrogenated bisphenol type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product name: jER (registered trademark) YX8000) was used instead of the epoxy resin having a biphenyl skeleton.

[実施例2-9]
ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂に代えて、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂(三菱ケミカル社製、商品名:jER(登録商標) YX8000)を用いたこと以外は実施例2-3と同様にして、保護層(エポキシ樹脂の光カチオン硬化層)/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
[Example 2-9]
A polarizing plate having a configuration of protective layer (photocationically cured layer of epoxy resin)/polarizer was obtained in the same manner as in Example 2-3, except that a hydrogenated bisphenol type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product name: jER (registered trademark) YX8000) was used instead of the epoxy resin having a biphenyl skeleton.

[実施例2-10]
1.偏光板の作製
実施例2-3と同様にして、保護層(エポキシ樹脂の光カチオン硬化層)/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
[Example 2-10]
1. Preparation of Polarizing Plate A polarizing plate having a structure of protective layer (photocationically cured layer of epoxy resin)/polarizer was obtained in the same manner as in Example 2-3.

2.第1の位相差層の作製
撹拌翼および100℃に制御された還流冷却器を具備した縦型反応器2器からなるバッチ重合装置を用いて重合を行った。ビス[9-(2-フェノキシカルボニルエチル)フルオレン-9-イル]メタン29.60質量部(0.046mol)、イソソルビド(ISB)29.21質量部(0.200mol)、スピログリコール(SPG)42.28質量部(0.139mol)、ジフェニルカーボネート(DPC)63.77質量部(0.298mol)及び触媒として酢酸カルシウム1水和物1.19×10-2質量部(6.78×10-5mol)を仕込んだ。反応器内を減圧窒素置換した後、熱媒で加温を行い、内温が100℃になった時点で撹拌を開始した。昇温開始40分後に内温を220℃に到達させ、この温度を保持するように制御すると同時に減圧を開始し、220℃に到達してから90分で13.3kPaにした。重合反応とともに副生するフェノール蒸気を100℃の還流冷却器に導き、フェノール蒸気中に若干量含まれるモノマー成分を反応器に戻し、凝縮しないフェノール蒸気は45℃の凝縮器に導いて回収した。第1反応器に窒素を導入して一旦大気圧まで復圧させた後、第1反応器内のオリゴマー化された反応液を第2反応器に移した。次いで、第2反応器内の昇温および減圧を開始して、50分で内温240℃、圧力0.2kPaにした。その後、所定の攪拌動力となるまで重合を進行させた。所定動力に到達した時点で反応器に窒素を導入して復圧し、生成したポリエステルカーボネート系樹脂を水中に押し出し、ストランドをカッティングしてペレットを得た。
2. Preparation of the first retardation layer Polymerization was carried out using a batch polymerization apparatus consisting of two vertical reactors equipped with stirring blades and a reflux condenser controlled at 100 ° C. Bis[9-(2-phenoxycarbonylethyl)fluoren-9-yl]methane 29.60 parts by mass (0.046 mol), isosorbide (ISB) 29.21 parts by mass (0.200 mol), spiroglycol (SPG) 42.28 parts by mass (0.139 mol), diphenyl carbonate (DPC) 63.77 parts by mass (0.298 mol) and calcium acetate monohydrate 1.19 × 10 -2 parts by mass (6.78 × 10 -5 mol) as a catalyst were charged. After the inside of the reactor was replaced with nitrogen under reduced pressure, it was heated with a heat medium, and stirring was started when the internal temperature reached 100 ° C. The internal temperature was allowed to reach 220°C 40 minutes after the start of the temperature rise, and the pressure was simultaneously reduced to 13.3 kPa in 90 minutes after the temperature reached 220°C. Phenol vapor by-produced during the polymerization reaction was led to a reflux condenser at 100°C, a small amount of monomer components contained in the phenol vapor were returned to the reactor, and uncondensed phenol vapor was led to a condenser at 45°C and recovered. Nitrogen was introduced into the first reactor to restore the pressure to atmospheric pressure, and the oligomerized reaction liquid in the first reactor was transferred to the second reactor. Next, the temperature rise and pressure reduction in the second reactor were started, and the internal temperature was set to 240°C and the pressure to 0.2 kPa in 50 minutes. Thereafter, polymerization was allowed to proceed until a predetermined stirring power was reached. When the predetermined power was reached, nitrogen was introduced into the reactor to restore the pressure, and the polyester carbonate resin produced was extruded into water, and the strands were cut to obtain pellets.

得られたポリエステルカーボネート系樹脂(ペレット)を80℃で5時間真空乾燥をした後、単軸押出機(東芝機械社製、シリンダー設定温度:250℃)、Tダイ(幅200mm、設定温度:250℃)、チルロール(設定温度:120~130℃)および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み130μmの長尺状の樹脂フィルムを作製した。得られた長尺状の樹脂フィルムを、所定の位相差が得られるように調整しながら延伸し、厚み48μmの位相差フィルムを得た。延伸条件は、幅方向に、延伸温度143℃、延伸倍率2.8倍であった。得られた位相差フィルムのRe(550)は141nmであり、Re(450)/Re(550)は0.86であり、Nz係数は1.12であった。The obtained polyester carbonate resin (pellets) was vacuum dried at 80°C for 5 hours, and then a long resin film with a thickness of 130 μm was produced using a film-making device equipped with a single-screw extruder (manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd., cylinder setting temperature: 250°C), a T-die (width 200 mm, setting temperature: 250°C), a chill roll (setting temperature: 120-130°C) and a winder. The obtained long resin film was stretched while adjusting so as to obtain a predetermined phase difference, and a phase difference film with a thickness of 48 μm was obtained. The stretching conditions were a stretching temperature of 143°C and a stretching ratio of 2.8 times in the width direction. The Re (550) of the obtained phase difference film was 141 nm, Re (450) / Re (550) was 0.86, and the Nz coefficient was 1.12.

3.第2の位相差層
屈折率特性がnz>nx=nyの関係を満たし、厚み方向の位相差Rth(550)が-135nmである位相差フィルム(大日本印刷株式会社製、「MCP-N」)を第2の位相差層として用いた。
3. Second Retardation Layer A retardation film (manufactured by Dai Nippon Printing Co., Ltd., "MCP-N") having refractive index characteristics satisfying the relationship nz>nx=ny and a thickness direction retardation Rth(550) of -135 nm was used as the second retardation layer.

4.位相差層付偏光板の作製
まず、第1の位相差層面に第2の位相差層を紫外線硬化型接着剤を介して貼り合わせた。続いて、上記偏光板の偏光子面に上記第1の位相差層/第2の位相差層の積層体の第1位相差層面を、厚み12μmのアクリル系粘着剤層を介して貼り合わせた。その際、第1の位相差層の遅相軸と偏光子の吸収軸とが45°の角度をなすようにして貼り合わせた。このようにして、保護層(エポキシ樹脂の光カチオン硬化層)/偏光子/粘着剤層/第1の位相差層/第2の位相差層の構成を有する位相差層付偏光板を得た。
4. Preparation of a polarizing plate with a retardation layer First, the second retardation layer was attached to the first retardation layer surface via an ultraviolet curing adhesive. Then, the first retardation layer surface of the laminate of the first retardation layer/second retardation layer was attached to the polarizer surface of the polarizing plate via an acrylic adhesive layer having a thickness of 12 μm. At that time, the slow axis of the first retardation layer and the absorption axis of the polarizer were attached so as to form an angle of 45°. In this way, a polarizing plate with a retardation layer having a configuration of a protective layer (photocationic curing layer of epoxy resin)/polarizer/adhesive layer/first retardation layer/second retardation layer was obtained.

[実施例3-1]
1.偏光子/樹脂基材の積層体の作製
実施例1-1と同様にして、樹脂基材上に厚み6.7μmの偏光子を形成し、偏光子/樹脂基材の積層体を作製した。
2.保護層の作製
エポキシ樹脂1(三菱ケミカル株式会社製、商品名:jER(登録商標) 1256B40、重量平均分子量:40000、エポキシ当量:7350)20部をメチルエチルケトン80部に溶解し、エポキシ樹脂溶液(20%)を得た。このエポキシ樹脂溶液を、上記積層体の偏光子表面にワイヤーバーを用いて塗布し、塗布膜を60℃で3分間乾燥して、塗布膜の固化物として構成される保護層を形成した。保護層の厚みは3μmであった。次いで、得られた積層体から樹脂基材を剥離して、保護層(エポキシ樹脂の塗布膜の固化層)/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
[Example 3-1]
1. Preparation of Laminate of Polarizer/Resin Substrate In the same manner as in Example 1-1, a polarizer having a thickness of 6.7 μm was formed on a resin substrate to prepare a laminate of polarizer/resin substrate.
2. Preparation of protective layer Epoxy resin 1 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name: jER (registered trademark) 1256B40, weight average molecular weight: 40000, epoxy equivalent: 7350) 20 parts was dissolved in 80 parts of methyl ethyl ketone to obtain an epoxy resin solution (20%). This epoxy resin solution was applied to the polarizer surface of the laminate using a wire bar, and the coating film was dried at 60 ° C for 3 minutes to form a protective layer constituted as a solidified coating film. The thickness of the protective layer was 3 μm. Next, the resin substrate was peeled off from the obtained laminate to obtain a polarizing plate having a configuration of protective layer (solidified layer of coating film of epoxy resin) / polarizer.

[実施例3-2]
エポキシ樹脂1に代えて、エポキシ樹脂2(三菱ケミカル株式会社製、商品名:jER(登録商標) YX6954BH30、重量平均分子量:36000、エポキシ当量:13000)を用いたこと以外は実施例3-1と同様にして、保護層(エポキシ樹脂の塗布膜の固化層)/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
[Example 3-2]
A polarizing plate having a protective layer (solidified layer of the epoxy resin coating film)/polarizer configuration was obtained in the same manner as in Example 3-1, except that epoxy resin 2 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product name: jER (registered trademark) YX6954BH30, weight average molecular weight: 36000, epoxy equivalent: 13000) was used instead of epoxy resin 1.

[実施例4]
易接着層を形成しなかった(すなわち偏光子に直接保護層を形成した)こと、および、水系ポリエステル系樹脂(日本合成化学社製、製品名「ポリエスターWR905」)を用いたこと以外は実施例1-1と同様にして、保護層(塗布膜の固化物)/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
[Example 4]
A polarizing plate having a protective layer (solidified coating film)/polarizer structure was obtained in the same manner as in Example 1-1, except that no easy-adhesion layer was formed (i.e., the protective layer was formed directly on the polarizer) and that a water-based polyester resin (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., product name "Polyester WR905") was used.

[実施例5]
易接着層を形成しなかった(すなわち偏光子に直接保護層を形成した)こと、および、水系ポリウレタン系樹脂(第一工業製薬社製、製品名「スーパーフレックスSF210」)用いたこと以外は実施例1-1と同様にして、保護層(塗布膜の固化物)/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
[Example 5]
A polarizing plate having a protective layer (solidified coating film)/polarizer configuration was obtained in the same manner as in Example 1-1, except that no easy-adhesion layer was formed (i.e., the protective layer was formed directly on the polarizer) and that a water-based polyurethane resin (manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., product name "Superflex SF210") was used.

[比較例1]
偏光子を作製する際の水中延伸の延伸倍率を2.29倍としたこと(総延伸倍率:5.5倍)以外は実施例1-1と同様にして、保護層(塗布膜の固化物)/易接着層/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
[Comparative Example 1]
A polarizing plate having a structure of protective layer (solidified coating film)/easy-adhesion layer/polarizer was obtained in the same manner as in Example 1-1, except that the stretching ratio in the underwater stretching when producing a polarizer was 2.29 times (total stretching ratio: 5.5 times).

[比較例2]
偏光子を作製する際の水中延伸の延伸倍率を2.29倍としたこと(総延伸倍率:5.5倍)以外は実施例1-2と同様にして、ハードコート層/保護層(塗布膜の固化物)/易接着層/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
[Comparative Example 2]
A polarizing plate having a structure of hard coat layer/protective layer (solidified coating film)/easy-adhesion layer/polarizer was obtained in the same manner as in Example 1-2, except that the stretching ratio in the underwater stretching in producing the polarizer was set to 2.29 times (total stretching ratio: 5.5 times).

[比較例3]
種々のヨウ素濃度の染色浴(ヨウ素とヨウ化カリウムの重量比=1:7)を用いたこと、および、偏光子を作製する際の水中延伸の延伸倍率を2.29倍としたこと(総延伸倍率:5.5倍)以外は実施例2-3と同様にして、保護層(エポキシ樹脂の光カチオン硬化層)/易接着層/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
[Comparative Example 3]
A polarizing plate having a configuration of protective layer (photocationically cured layer of epoxy resin)/easy-adhesion layer/polarizer was obtained in the same manner as in Example 2-3, except that dye baths having various iodine concentrations (weight ratio of iodine to potassium iodide=1:7) were used and that the stretching ratio in the underwater stretching when preparing the polarizer was set to 2.29 times (total stretching ratio: 5.5 times).

[比較例4]
偏光子を作製する際の水中延伸の延伸倍率を2.29倍としたこと(総延伸倍率:5.5倍)以外は実施例2-10と同様にして、保護層(エポキシ樹脂の光カチオン硬化層)/偏光子/粘着剤層/第1の位相差層/第2の位相差層の構成を有する位相差層付偏光板を得た。
[Comparative Example 4]
A polarizing plate with a retardation layer having a configuration of protective layer (photocationically cured layer of epoxy resin)/polarizer/adhesive layer/first retardation layer/second retardation layer was obtained in the same manner as in Example 2-10, except that the stretching ratio in the underwater stretching when preparing the polarizer was 2.29 times (total stretching ratio: 5.5 times).

[比較例5]
偏光子を作製する際の水中延伸の延伸倍率を2.29倍としたこと(総延伸倍率:5.5倍)以外は実施例1-7と同様にして、保護層(塗布膜の固化物)/易接着層/偏光子の構成を有する偏光板を得た。
[Comparative Example 5]
A polarizing plate having a structure of protective layer (solidified coating film)/easy-adhesion layer/polarizer was obtained in the same manner as in Example 1-7, except that the stretching ratio in the underwater stretching when producing a polarizer was 2.29 times (total stretching ratio: 5.5 times).

[比較例6]
偏光子を作製する際の水中延伸の延伸倍率を2.29倍としたこと(総延伸倍率:5.5倍)、および、保護層として片面に易接着処理をしたアクリル系樹脂フィルム(屈折率:1.50、厚さ:20μm)を用いたこと以外は、実施例1-1と同様にして、保護層(アクリル系樹脂フィルム)/偏光子の構成を有する偏光板を得た。アクリル系樹脂フィルムは、紫外線硬化接着剤を介して偏光子面に直接貼り合せた。具体的には、硬化型接着剤の総厚みが1.0μmになるように塗工し、ロール機を使用して貼り合わせた。その後、UV光線をアクリル系樹脂フィルム側から照射して接着剤を硬化させた。
[Comparative Example 6]
A polarizing plate having a protective layer (acrylic resin film)/polarizer structure was obtained in the same manner as in Example 1-1, except that the stretching ratio in the underwater stretching when preparing the polarizer was 2.29 times (total stretching ratio: 5.5 times) and an acrylic resin film (refractive index: 1.50, thickness: 20 μm) with easy-adhesion treatment on one side was used as the protective layer. The acrylic resin film was directly bonded to the polarizer surface via an ultraviolet curing adhesive. Specifically, the curing adhesive was applied so that the total thickness of the curing adhesive was 1.0 μm, and the two were bonded using a rolling machine. Then, UV rays were irradiated from the acrylic resin film side to cure the adhesive.

評価結果を表1~表3に示す。
The evaluation results are shown in Tables 1 to 3.

表1~3に示される通り、PVA系樹脂の配向度が所定の状態に制御された偏光子(結果として、所定の範囲の突き刺し強度を有する偏光子)を用いた実施例の偏光板は、保護層の厚みが極めて小さい場合であっても、加熱時のクラックが抑制されている。また、特定の保護層を有する偏光板は、優れた加湿耐久性を示す。 As shown in Tables 1 to 3, the polarizing plates of the examples using polarizers in which the orientation degree of the PVA-based resin is controlled to a specified state (and, as a result, polarizers with a piercing strength within a specified range) suppress cracking when heated, even when the protective layer is extremely thin. Furthermore, polarizing plates having a specific protective layer exhibit excellent humidity durability.

また、図5~図7にそれぞれ、実施例および比較例で用いた偏光子(総延伸倍率が3.0、3.5、4.0、4.5または5.5倍の偏光子)の単体透過率とPVAのΔn、面内位相差または配向関数との関係を示す。図5~図7および表1~3に示される通り、式(1)、式(2)および/または式(3)を満たす偏光子は、所定の値以下の突き刺し強度を示し、また、このような偏光子を用いて作製された偏光板は、保護層の厚みが極めて小さい場合であっても、加熱時のクラックが抑制されることがわかる。 Figures 5 to 7 show the relationship between the single transmittance of the polarizers (with total stretch ratios of 3.0, 3.5, 4.0, 4.5, or 5.5 times) used in the examples and comparative examples and the Δn, in-plane retardation, or orientation function of the PVA. As shown in Figures 5 to 7 and Tables 1 to 3, polarizers satisfying formula (1), formula (2), and/or formula (3) exhibit piercing strengths equal to or less than a predetermined value, and it can be seen that a polarizing plate made using such a polarizer suppresses cracking during heating even when the protective layer has an extremely thin thickness.

本発明の偏光板は、画像表示装置に好適に用いられる。画像表示装置としては、例えば、携帯情報端末(PDA)、スマートフォン、携帯電話、時計、デジタルカメラ、携帯ゲーム機等の携帯機器;パソコンモニター、ノートパソコン、コピー機等のOA機器;ビデオカメラ、テレビ、電子レンジ等の家庭用電気機器;バックモニター、カーナビゲーションシステム用モニター、カーオーディオ等の車載用機器;デジタルサイネージ、商業店舗用インフォメーション用モニター等の展示機器;監視用モニター等の警備機器;介護用モニター、医療用モニター等の介護・医療機器;が挙げられる。The polarizing plate of the present invention is suitable for use in image display devices. Examples of image display devices include portable devices such as personal digital assistants (PDAs), smartphones, mobile phones, watches, digital cameras, and portable game consoles; office automation devices such as personal computer monitors, notebook computers, and copy machines; household electrical appliances such as video cameras, televisions, and microwave ovens; in-vehicle devices such as rear monitors, monitors for car navigation systems, and car audio; exhibition devices such as digital signage and information monitors for commercial stores; security devices such as surveillance monitors; and nursing and medical devices such as nursing monitors and medical monitors.

10 偏光子
20 第1の保護層
100 偏光板
110 位相差層
200 位相差層付偏光板
10 Polarizer 20 First protective layer 100 Polarizing plate 110 Retardation layer 200 Retardation layer-attached polarizing plate

Claims (11)

二色性物質を含むポリビニルアルコール系樹脂フィルムで構成された偏光子と、該偏光子の一方の側に配置された保護層と、を有する偏光板であって、
該偏光子の突き刺し強度が、30gf/μm以上であり、
該偏光子の単体透過率が40.0%以上であり、かつ、偏光度が99.0%以上であり、
該偏光子の厚みが、10μm以下であり、
該保護層が、1μm以上3μm以下の厚みを有する樹脂膜で構成されており、
該樹脂膜が、エポキシ樹脂の有機溶媒溶液の塗布膜の固化物または熱可塑性(メタ)アクリル系樹脂の有機溶媒溶液の塗布膜の固化物で構成されており、
該樹脂膜の軟化温度が、100℃以上であり、
ここで、該偏光子の突き刺し強度は、先端径1mmφ、0.5Rのニードルを0.33cm/秒の速度で該偏光子に突き刺したときに該偏光子が割れる強度である、偏光板。
A polarizing plate having a polarizer made of a polyvinyl alcohol-based resin film containing a dichroic material and a protective layer disposed on one side of the polarizer,
The piercing strength of the polarizer is 30 gf/μm or more,
The polarizer has a single transmittance of 40.0% or more and a polarization degree of 99.0% or more,
The thickness of the polarizer is 10 μm or less,
The protective layer is made of a resin film having a thickness of 1 μm or more and 3 μm or less ,
the resin film is composed of a solidified coating film of an organic solvent solution of an epoxy resin or a solidified coating film of an organic solvent solution of a thermoplastic (meth)acrylic resin,
The softening temperature of the resin film is 100° C. or higher,
Here, the piercing strength of the polarizer is the strength at which the polarizer breaks when a needle having a tip diameter of 1 mmφ and a radius of 0.5 R is pierced into the polarizer at a speed of 0.33 cm/sec.
前記偏光子が、その単体透過率をx%とし、前記ポリビニルアルコール系樹脂の波長1000nmにおける複屈折をyとした場合に、下記式(1)を満たす、請求項1に記載の偏光板;
y<-0.011x+0.525 (1)。
2. The polarizing plate according to claim 1, wherein the polarizer satisfies the following formula (1), where the single transmittance of the polarizer is x% and the birefringence of the polyvinyl alcohol-based resin at a wavelength of 1000 nm is y:
y<-0.011x+0.525 (1).
前記偏光子が、その単体透過率をx%とし、前記ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの波長1000nmにおける面内位相差をznmとした場合に、下記式(2)を満たす、請求項1に記載の偏光板;
z<-60x+2875 (2)。
2. The polarizing plate according to claim 1, wherein the polarizer satisfies the following formula (2) when its single transmittance is x % and the in-plane retardation of the polyvinyl alcohol-based resin film at a wavelength of 1000 nm is z nm:
z<-60x+2875 (2).
前記偏光子が、その単体透過率をx%とし、前記ポリビニルアルコール系樹脂の配向関数をfとした場合に、下記式(3)を満たす、請求項1に記載の偏光板;
f<-0.018x+1.11 (3)
ここで、前記ポリビニルアルコール系樹脂の配向関数は、フーリエ変換赤外分光光度計を用い、偏光を測定光としたATR法により求められる値である。
2. The polarizing plate according to claim 1, wherein the polarizer satisfies the following formula (3), where the single transmittance of the polarizer is x % and the orientation function of the polyvinyl alcohol-based resin is f:
f<-0.018x+1.11 (3)
Here, the orientation function of the polyvinyl alcohol resin is a value determined by an ATR method using a Fourier transform infrared spectrophotometer and polarized light as measuring light.
前記熱可塑性(メタ)アクリル系樹脂が、ラクトン環単位、無水グルタル酸単位、グルタルイミド単位、無水マレイン酸単位およびマレイミド単位からなる群から選択される少なくとも1つを有する、請求項に記載の偏光板。 2. The polarizing plate according to claim 1 , wherein the thermoplastic (meth)acrylic resin has at least one unit selected from the group consisting of a lactone ring unit, a glutaric anhydride unit, a glutarimide unit, a maleic anhydride unit, and a maleimide unit. 前記保護層のヨウ素吸着量が、25重量%以下であり、
該ヨウ素吸着量が、3μmの厚みを有するようにPETフィルム上に形成された前記保護層を用いて測定されるヨウ素吸着量である、請求項1からのいずれかに記載の偏光板。
the protective layer has an iodine adsorption amount of 25% by weight or less;
6. The polarizing plate according to claim 1 , wherein the iodine adsorption amount is measured using the protective layer formed on a PET film so as to have a thickness of 3 μm.
ロール状に巻回されている、請求項1からのいずれかに記載の偏光板。 The polarizing plate according to claim 1 , which is wound in a roll shape. 請求項1からのいずれかに記載の偏光板と、位相差層とを含み、
該位相差層が、前記偏光子の前記保護層が配置された側と反対側に配置されている、位相差層付偏光板。
A polarizing plate according to any one of claims 1 to 7 and a retardation layer,
The retardation layer is disposed on the side of the polarizer opposite to the side on which the protective layer is disposed.
前記位相差層が、粘着剤層を介して前記偏光板に積層されている、請求項に記載の位相差層付偏光板。 The retardation layer-attached polarizing plate according to claim 8 , wherein the retardation layer is laminated on the polarizing plate via a pressure-sensitive adhesive layer. 前記位相差層のRe(550)が100nm~190nmであり、Re(450)/Re(550)が0.8以上1未満であり、
前記位相差層の遅相軸と前記偏光子の吸収軸とのなす角度が40°~50°である、請求項またはに記載の位相差層付偏光板。
The retardation layer has an Re(550) of 100 nm to 190 nm, and an Re(450)/Re(550) ratio of 0.8 or more and less than 1;
10. The polarizing plate with a retardation layer according to claim 8 , wherein an angle between a slow axis of the retardation layer and an absorption axis of the polarizer is from 40° to 50°.
請求項1からのいずれかに記載の偏光板または請求項から10のいずれかに記載の位相差層付偏光板を備える、画像表示装置。
An image display device comprising the polarizing plate according to claim 1 or the retardation layer-attached polarizing plate according to claim 8 .
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