[go: up one dir, main page]

JP7611742B2 - Inorganic oxide micro hollow particles - Google Patents

Inorganic oxide micro hollow particles Download PDF

Info

Publication number
JP7611742B2
JP7611742B2 JP2021044983A JP2021044983A JP7611742B2 JP 7611742 B2 JP7611742 B2 JP 7611742B2 JP 2021044983 A JP2021044983 A JP 2021044983A JP 2021044983 A JP2021044983 A JP 2021044983A JP 7611742 B2 JP7611742 B2 JP 7611742B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
particle size
mass
oxide
less
inorganic oxide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021044983A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2022144115A (en
Inventor
広樹 山崎
賢太 増田
諒一 末松
秀樹 徳田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiheiyo Cement Corp
Original Assignee
Taiheiyo Cement Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taiheiyo Cement Corp filed Critical Taiheiyo Cement Corp
Priority to JP2021044983A priority Critical patent/JP7611742B2/en
Publication of JP2022144115A publication Critical patent/JP2022144115A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7611742B2 publication Critical patent/JP7611742B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Glass Compositions (AREA)

Description

本発明は、無機酸化物微小中空粒子に関する。 The present invention relates to inorganic oxide micro-hollow particles.

無機酸化物中空粒子は、外殻に包囲された空洞を有するため、非中空粒子に比べて軽量性、熱伝導率が小さく、熱安定性に優れており、断熱性材料、遮熱性材料、触媒担体、建築材料、電子材料等として広く普及している。近年、電子機器の高性能化、小型化が急速に進んでおり、電子機器に用いられる塗膜、樹脂製品やフィルム製品は、薄膜化の要望が高く、これら製品に用いられる無機酸化物中空粒子には、微小かつ粒度が均一であることが求められている。 Since inorganic oxide hollow particles have cavities surrounded by an outer shell, they are lighter, have lower thermal conductivity, and have better thermal stability than non-hollow particles, and are widely used as heat insulating materials, heat shielding materials, catalyst carriers, building materials, electronic materials, etc. In recent years, electronic devices have rapidly become more compact and more powerful, and there is a high demand for thinner coatings, resin products, and film products used in electronic devices, and the inorganic oxide hollow particles used in these products are required to be small and have a uniform particle size.

従来、微小かつ粒度の揃った無機酸化物中空粒子として、例えば、平均粒子径が5~50μmであり、5~50μmの粒子が全体の80%以上である微小中空ガラス球状体が知られている(特許文献1)。また、平均粒子径(体積基準)が15μm以下であり、最大粒子径が45μm以下であり、粒子密度が0.5g/cm3以下であり、 かつ(d10-d90)/d50により算出される粒度勾配が2.0以下であって、ガラスに含まれるB23含有量が9.0~20.0質量%である微小中空ガラス球状体の報告もある(特許文献2)。 Conventionally, hollow glass microspheres having an average particle size of 5 to 50 μm, with 80% or more of the total particles being 5 to 50 μm, have been known as small inorganic oxide hollow particles with a uniform particle size (Patent Document 1). In addition, there has been a report of hollow glass microspheres having an average particle size (volume basis ) of 15 μm or less, a maximum particle size of 45 μm or less, a particle density of 0.5 g/cm3 or less, a particle size gradient calculated by ( d10 - d90 )/ d50 of 2.0 or less, and a B2O3 content of 9.0 to 20.0 mass% in the glass (Patent Document 2).

特開平9-20526号公報Japanese Patent Application Publication No. 9-20526 国際公開第2001/2314号International Publication No. 2001/2314

しかしながら、特許文献1の無機酸化物中空粒子は、平均粒子径が5~50μmである粒子の割合が80%程度であるから、粒度の均一性の点で改善の余地がある。また、粒度の均一性が低いと、バインダーと混合して塗膜を形成した際に基材から剥離しやすいという問題もある。他方、特許文献2の無機酸化物中空粒子は、製造工程において水浮遊物のみを分級操作により選別しているにも拘わらず、最大粒子径が15μmと大きく、しかも収率が30~45質量%と低いものである。その要因として、微小粒子は分級操作で凝集しやすいため目詰まりを生じたこと、凝集物を解砕する際に粒子の強度が低いため破壊したことなどが推測される。この場合、無機酸化物中空粒子の膜厚を増大して粒子強度を向上させることが考えられるが、中空率が下がることで空気層の占有率が低下するため、断熱性能、誘電特性等の低下が避けられない。
本発明の課題は、粒度が均一で、かつ粒子強度に優れ、塗膜を形成したときに剥離し難い無機酸化物微小中空粒子を提供することにある。
However, the inorganic oxide hollow particles of Patent Document 1 have a particle size of 5 to 50 μm in a ratio of about 80%, so there is room for improvement in terms of particle size uniformity. In addition, if the particle size uniformity is low, there is also a problem that the particles are easily peeled off from the substrate when mixed with a binder to form a coating film. On the other hand, the inorganic oxide hollow particles of Patent Document 2 have a large maximum particle size of 15 μm and a low yield of 30 to 45 mass%, even though only water-suspended matter is selected by classification in the manufacturing process. The causes of this are presumed to be that fine particles tend to aggregate during classification, causing clogging, and that the particles are broken when the aggregates are broken down due to their low strength. In this case, it is possible to increase the film thickness of the inorganic oxide hollow particles to improve the particle strength, but the occupancy rate of the air layer decreases as the hollowness decreases, so that a decrease in the insulation performance, dielectric properties, etc. is inevitable.
An object of the present invention is to provide inorganic oxide fine hollow particles which have a uniform particle size, excellent particle strength, and are unlikely to peel off when a coating film is formed.

本発明者らは、上記課題に鑑み検討した結果、特定の無機酸化物を特定の割合で含む粒子径の小さい中空粒子であって、粒度分布が単峰性で、かつ特定の粒子径に基づいて算出される粒度勾配の小さい中空粒子が、粒子強度に優れ、かつ塗膜を形成したときに剥離し難いことを見出した。 As a result of investigations conducted in light of the above problems, the inventors have found that hollow particles with a small particle size that contain a specific inorganic oxide in a specific ratio, have a single-peaked particle size distribution, and have a small particle size gradient calculated based on the specific particle size, have excellent particle strength, and are less likely to peel off when a coating film is formed.

すなわち、本発明は、次の〔1〕~〔8〕を提供するものである。
〔1〕中空室を区画する殻を有する無機酸化物微小中空粒子であって、
アルカリ金属酸化物の含有量が2質量%以下であり、
カルシウム酸化物の含有量が5質量%以下であり、
ケイ素酸化物、ホウ素酸化物及びアルミニウム酸化物の合計含有量が50質量%以上であり、
粒度分布が単峰性であり、かつ下記式(1);
粒度勾配=(D90-D10)/D50 (1)
〔式中、D90は体積基準の粒度分布における累積90%粒子径を示し、D10は体積基準の粒度分布における累積10%粒子径を示し、D50は体積基準の粒度分布における累積50%粒子径を示す。〕
により算出される粒度勾配が2以下である、
無機酸化物微小中空粒子。
〔2〕D100が15μm以下である、前記〔1〕記載の無機酸化物微小中空粒子。
〔3〕D50が0.5~5μmである、前記〔1〕又は〔2〕記載の無機酸化物微小中空粒子。
〔4〕ケイ素酸化物の含有量が20~70質量%である、前記〔1〕~〔3〕のいずれか一に記載の無機酸化物微小中空粒子。
〔5〕ホウ素酸化物の含有量が15~35質量%である、前記〔1〕~〔4〕のいずれか一に記載の無機酸化物微小中空粒子。
〔6〕アルミニウム酸化物の含有量が5~20質量%である、前記〔1〕~〔5〕のいずれか一に記載の無機酸化物微小中空粒子。
〔7〕下記の方法により作製した銅板付き試験片について、JIS K 6854-1に準拠して測定したときに、銅板からの樹脂層の90度はく離接着強さが10N/m超となる、前記〔1〕~〔6〕のいずれか一に記載の無機酸化物微小中空粒子。
〔銅板付き試験片の作製〕
無機酸化物微小中空粒子の乾燥粉5gを、液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂と液状ビスフェノールF型エポキシ樹脂の混合物(平均エポキシ当量165g/モル)30g、液状フェノールノボラック(水酸基当量135g/モル)20g、及びトリフェニルホスフィン1gを混合したエポキシ樹脂液に添加、混合する。樹脂混合物を直角に曲がったたわみ性被着材の上に幅25mm、長さ150mm、厚さ1mm塗工し、水平の銅板に張り付けて、手動の油圧プレス機を使用し、1MPa、10分間圧力を加えて接着する。その後、乾燥機にて80℃12時間乾燥硬化させて試験片を作製する。
〔8〕前記〔1〕~〔7〕のいずれか一に記載の無機酸化物微小中空粒子を含む、樹脂組成物。
That is, the present invention provides the following [1] to [8].
[1] An inorganic oxide fine hollow particle having a shell that defines a hollow space,
The content of alkali metal oxide is 2 mass% or less,
The calcium oxide content is 5% by mass or less,
The total content of silicon oxide, boron oxide and aluminum oxide is 50 mass% or more,
The particle size distribution is monomodal and satisfies the following formula (1):
Particle size gradient = ( D90 - D10 ) / D50 (1)
(In the formula, D90 indicates a cumulative 90% particle size in the volume-based particle size distribution, D10 indicates a cumulative 10% particle size in the volume-based particle size distribution, and D50 indicates a cumulative 50% particle size in the volume-based particle size distribution.)
The particle size gradient calculated by is 2 or less.
Inorganic oxide micro hollow particles.
[2] The inorganic oxide fine hollow particles according to the above [1], having a D100 of 15 μm or less.
[3] The inorganic oxide fine hollow particles according to the above [1] or [2], having a D 50 of 0.5 to 5 μm.
[4] The inorganic oxide microhollow particles according to any one of [1] to [3] above, wherein the silicon oxide content is 20 to 70 mass %.
[5] The inorganic oxide fine hollow particles according to any one of [1] to [4] above, wherein the content of boron oxide is 15 to 35 mass %.
[6] The inorganic oxide microhollow particles according to any one of [1] to [5] above, wherein the aluminum oxide content is 5 to 20 mass %.
[7] The inorganic oxide microhollow particles according to any one of [1] to [6], wherein when a copper plate-attached test piece prepared by the following method is measured in accordance with JIS K 6854-1, the 90 degree peel adhesion strength of the resin layer from the copper plate exceeds 10 N/m.
[Preparation of test pieces with copper plates]
5 g of dried powder of inorganic oxide micro hollow particles is added to and mixed with an epoxy resin liquid containing 30 g of a mixture of liquid bisphenol A type epoxy resin and liquid bisphenol F type epoxy resin (average epoxy equivalent 165 g/mol), 20 g of liquid phenol novolac (hydroxyl equivalent 135 g/mol), and 1 g of triphenylphosphine. The resin mixture is applied to a flexible adherend bent at a right angle in a width of 25 mm, length of 150 mm, and thickness of 1 mm, and the adherend is attached to a horizontal copper plate, and a manual hydraulic press is used to apply pressure of 1 MPa for 10 minutes to bond the material. The material is then dried and cured in a dryer at 80°C for 12 hours to prepare a test piece.
[8] A resin composition comprising the inorganic oxide fine hollow particles according to any one of [1] to [7].

本発明によれば、粒子径が小さく、粒度が均一であるだけでなく、粒子強度に優れ、かつ塗膜を形成したときに剥離し難い無機酸化物中空粒子を提供することができる。したがって、本発明の無機酸化物微小中空粒子は、配線回路基板や半導体封止材等の電子材料をはじめ、断熱材料、遮熱材料、触媒担体、建築材料等の各種用途に有用である。 According to the present invention, it is possible to provide inorganic oxide hollow particles that not only have a small particle diameter and uniform particle size, but also have excellent particle strength and are difficult to peel off when a coating film is formed. Therefore, the inorganic oxide micro hollow particles of the present invention are useful for various applications such as electronic materials such as wiring circuit boards and semiconductor encapsulants, as well as heat insulating materials, heat shielding materials, catalyst carriers, and building materials.

実施例4、比較例1で得られた無機酸化物中空粒子の粒度分布を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing the particle size distribution of the inorganic oxide hollow particles obtained in Example 4 and Comparative Example 1.

本明細書において「中空粒子」とは、内部に中空構造を有する粒子であって、中空部を区画する外殻部を有する粒子をいい、粒子の表面から内部へ延びる複数の細孔を有する多孔質粒子とは異なる。なお、中空粒子は、走査型電子顕微鏡(SEM)像により多孔質粒子と明確に区別することができる。 In this specification, "hollow particles" refers to particles that have a hollow structure inside and have an outer shell that defines the hollow space, and are different from porous particles that have multiple pores extending from the surface of the particle to the inside. Hollow particles can be clearly distinguished from porous particles by scanning electron microscope (SEM) images.

本発明の無機酸化物中空粒子は、外殻部がアルカリ金属酸化物、カルシウム酸化物、ケイ素酸化物、ホウ素酸化物及びアルミニウム酸化物を含む無機酸化物により形成されている。このような無機酸化物によって外殻部を構成することにより、粒子径が小さく、粒度が均一で、粒子強度に優れ、塗膜を形成したときに剥離し難い中空粒子になる。かかる観点から、外殻部は、無気孔であることが好ましい。なお、粒子表面が無気孔であることは、走査型電子顕微鏡(SEM)像や、水に浮かぶことにより確認できる。
なお、本明細書において、中空粒子を構成する無機酸化物の各含有量は、蛍光X線分析法にて酸化物換算で測定し化学成分を算出した値である。
The inorganic oxide hollow particles of the present invention have an outer shell formed of inorganic oxides including alkali metal oxides, calcium oxide, silicon oxide, boron oxide and aluminum oxide. By forming the outer shell with such inorganic oxides, the hollow particles have a small particle diameter, a uniform particle size, excellent particle strength, and are difficult to peel off when a coating film is formed. From this viewpoint, it is preferable that the outer shell is non-porous. The fact that the particle surface is non-porous can be confirmed by scanning electron microscope (SEM) images or by floating on water.
In this specification, the content of each of the inorganic oxides constituting the hollow particles is a value obtained by measuring the amount of each of the inorganic oxides by fluorescent X-ray analysis in terms of oxide and calculating the chemical composition.

アルカリ金属酸化物としては、例えば、Li2O、Na2O、K2O、Rb2O、Cs2Oを挙げることができる。中でも、微小化、粒度の均一性、粒子強度及び塗膜の剥離強度の向上の観点から、Li2O、Na2O及びK2Oから選択される1又は2以上が好ましく、Na2Oが更に好ましい。
カルシウム酸化物としては、微小化、粒度の均一性、粒子強度及び塗膜の剥離強度の向上の観点から、CaOが好ましい。
ケイ素酸化物としては、微小化、粒度の均一化、粒子強度及び塗膜の剥離強度の向上の観点から、SiO2が好ましい。
ホウ素酸化物としては、微小化、粒度の均一化、粒子強度及び塗膜の剥離強度の向上の観点から、B23が好ましい。
アルミニウム酸化物としては、微小化、粒度の均一化、粒子強度及び塗膜の剥離強度の向上の観点から、Al23が好ましい。
Examples of alkali metal oxides include Li 2 O, Na 2 O, K 2 O, Rb 2 O, and Cs 2 O. Among them, from the viewpoints of miniaturization, uniformity of particle size, particle strength, and improvement of peel strength of the coating film, one or more selected from Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O are preferred, and Na 2 O is more preferred.
As the calcium oxide, CaO is preferred from the viewpoints of miniaturization, uniformity of particle size, particle strength, and improvement of peel strength of the coating film.
As the silicon oxide, SiO2 is preferred from the viewpoints of miniaturization, uniform particle size, and improvement of particle strength and peel strength of the coating film.
As the boron oxide, B 2 O 3 is preferred from the viewpoints of miniaturization, uniformity of particle size, and improvement of particle strength and peel strength of the coating film.
As the aluminum oxide, Al 2 O 3 is preferred from the viewpoints of miniaturization, uniformity of particle size, and improvement of particle strength and peel strength of the coating film.

アルカリ金属酸化物の含有量は2質量%以下であるが、微小化、粒度の均一化、粒子強度及び塗膜の剥離強度の向上の観点から、1.8質量%以下が好ましく、1.5質量%以下がより好ましく、1.3質量%以下が更に好ましい。なお、アルカリ金属酸化物の含有量の下限値は0質量%であっても構わないが、無機酸化物の融点降下による焼成温度低下の観点から、0.1質量%以上が好ましく、0.2質量%以上がより好ましく、0.3質量%以上が更に好ましい。
カルシウム酸化物の含有量は、微小化、粒度の均一化、粒子強度及び塗膜の剥離強度の向上の観点から5質量%以下が好ましい。なお、カルシウム酸化物の含有量の下限値は0質量%であっても構わないが、無機酸化物の融点降下による焼成温度低下の観点から、0.5質量%以上が好ましく、1.0質量%以上がより好ましく、1.5質量%以上が更に好ましい。
The content of the alkali metal oxide is 2% by mass or less, but from the viewpoints of miniaturization, uniformity of particle size, and improvement of particle strength and peel strength of the coating film, it is preferably 1.8% by mass or less, more preferably 1.5% by mass or less, and even more preferably 1.3% by mass or less. The lower limit of the content of the alkali metal oxide may be 0% by mass, but from the viewpoint of lowering the firing temperature due to lowering the melting point of the inorganic oxide, it is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.2% by mass or more, and even more preferably 0.3% by mass or more.
The content of calcium oxide is preferably 5% by mass or less from the viewpoints of miniaturization, uniformity of particle size, and improvement of particle strength and peel strength of the coating film. The lower limit of the calcium oxide content may be 0% by mass, but from the viewpoint of lowering the firing temperature due to lowering of the melting point of the inorganic oxide, it is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1.0% by mass or more, and even more preferably 1.5% by mass or more.

ケイ素酸化物、ホウ素酸化物及びアルミニウム酸化物は、これらの合計含有量が50質量%以上であるが、微小化、粒度の均一化、粒子強度及び塗膜の剥離強度の向上の観点から、55質量%以上が好ましく、65質量%以上がより好ましく、70質量%以上が更に好ましい。なお、かかる合計含有量の上限値は、無機酸化物の融点降下による焼成温度低下の観点から、93質量%以下が好ましい。 The total content of silicon oxide, boron oxide and aluminum oxide is 50% by mass or more, but from the viewpoints of miniaturization, uniform particle size, and improved particle strength and peel strength of the coating film, it is preferably 55% by mass or more, more preferably 65% by mass or more, and even more preferably 70% by mass or more. The upper limit of this total content is preferably 93% by mass or less, from the viewpoint of lowering the firing temperature due to the lowering of the melting point of the inorganic oxide.

ケイ素酸化物、ホウ素酸化物及びアルミニウム酸化物は、これら3種のうち1種以上を含有すればよいが、3種すべてを含有することが、微小化、粒度の均一化、粒子強度及び塗膜の剥離強度の向上の観点から好ましい。
ケイ素酸化物の含有量は、微小化、粒度の均一化、粒子強度及び塗膜の剥離強度の向上の観点から、20~70質量%が好ましく、25~65質量%がより好ましく、30~60質量%が更に好ましく、40~55質量%が殊更に好ましい。
ホウ素酸化物の含有量は、微小化、粒度の均一化、粒子強度及び塗膜の剥離強度の向上の観点から、15~35質量%が好ましく、16~34質量%がより好ましく、17~33質量%が更に好ましく、18~32質量%が殊更に好ましい。
アルミニウム酸化物の含有量は、微小化、粒度の均一化、粒子強度及び塗膜の剥離強度の向上の観点から、5~20質量%が好ましく、5~19質量%がより好ましく、5~18質量%が更に好ましい。
The silicon oxide, boron oxide and aluminum oxide may contain one or more of these three types, but it is preferable to contain all three types from the viewpoints of miniaturization, uniform particle size, particle strength and improved peel strength of the coating film.
The content of silicon oxide is preferably 20 to 70 mass%, more preferably 25 to 65 mass%, even more preferably 30 to 60 mass%, and particularly preferably 40 to 55 mass%, from the viewpoints of miniaturization, uniform particle size, and improvement of particle strength and peel strength of the coating film.
The content of boron oxide is preferably 15 to 35 mass%, more preferably 16 to 34 mass%, even more preferably 17 to 33 mass%, and particularly preferably 18 to 32 mass%, from the viewpoints of miniaturization, uniform particle size, and improvement of particle strength and peel strength of the coating film.
The content of aluminum oxide is preferably 5 to 20 mass %, more preferably 5 to 19 mass %, and even more preferably 5 to 18 mass %, from the viewpoints of miniaturization, uniform particle size, and improvement of particle strength and peel strength of the coating film.

中でも、カルシウム酸化物の含有量を制御することが、微小化、粒度の均一化、粒子強度及び塗膜の剥離強度の向上に最も寄与する。 In particular, controlling the calcium oxide content contributes most to miniaturization, uniform particle size, and improved particle strength and peel strength of the coating film.

本発明の無機酸化物中空粒子は、外殻部を構成する無機酸化物として上記以外の無機酸化物を含んでいてもよい。例えば、カルシウム酸化物以外の2族元素酸化物、4族元素酸化物を挙げることができる。
カルシウム酸化物以外の2族元素酸化物としては、例えば、MgO、SrO、BaO、RaOを挙げることができる。
4族元素酸化物としては、例えば、TiO2、ZrO2、HfO2を挙げることができる。
なお、これら無機酸化物の含有量は、本発明の効果を阻害しない範囲内で適宜選択することが可能であるが、好適な態様は以下のとおりである。
カルシウム酸化物以外の2族元素酸化物の含有量は、粒子強度及び塗膜の剥離強度の向上の観点から、15質量%以下が好ましく、13質量%以下がより好ましく、11質量%以下が更に好ましい。
4族元素酸化物の含有量は、粒子強度及び塗膜の剥離強度の向上の観点から、5質量%以下が好ましく、3質量%以下がより好ましく、1質量%以下が更に好ましい。
なお、カルシウム酸化物以外の2族元素酸化物及び4族元素酸化物の含有量の下限値は0質量%であっても構わない。
The inorganic oxide hollow particles of the present invention may contain an inorganic oxide other than those mentioned above as the inorganic oxide constituting the outer shell, for example, an oxide of a Group 2 element other than calcium oxide, or an oxide of a Group 4 element.
Examples of Group 2 element oxides other than calcium oxide include MgO, SrO, BaO, and RaO.
Examples of Group 4 element oxides include TiO 2 , ZrO 2 , and HfO 2 .
The content of these inorganic oxides can be appropriately selected within a range that does not impair the effects of the present invention, and the preferred embodiments are as follows.
The content of the Group 2 element oxide other than calcium oxide is preferably 15% by mass or less, more preferably 13% by mass or less, and even more preferably 11% by mass or less, from the viewpoint of improving the particle strength and the peel strength of the coating film.
The content of the Group 4 element oxide is preferably 5% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, and even more preferably 1% by mass or less, from the viewpoint of improving the particle strength and the peel strength of the coating film.
The lower limit of the content of the Group 2 element oxide other than calcium oxide and the Group 4 element oxide may be 0 mass %.

本発明の無機酸化物中空粒子は、微小であることを特徴とする。より具体的には、粒度分布において下記の特性を具備することができる。ここで、本明細書において「粒度分布」とは、JIS R 1629「ファインセラミックス原料のレーザ回折・散乱法による粒子径分布測定方法」に準拠して測定される、体積基準の粒度分布をいう。そして、粒度分布は、横軸を粒子径(μm)、縦軸を体積基準の頻度(%)とする分布曲線により表される。なお、レーザ回折・散乱法による粒子径分布測定装置として、例えば、マイクロトラック(日機装株式会社製)を使用することができる。
体積基準の粒度分布における累積100%粒子径(D100)は、微小化、粒子強度及び塗膜の剥離強度の向上の観点から、好ましくは15μm以下であり、より好ましくは13μm以下である。なお、かかるD100の下限値は、断熱性能、誘電特性の向上の観点から、好ましくは5μm以上であり、より好ましくは6μm以上であり、更に好ましくは7μm以上である。
体積基準の粒度分布における累積10%粒子径(D10)は、粒度の均一化、塗膜の剥離強度の向上の観点から、好ましくは0.1μm以上であり、より好ましくは0.3μm以上であり、更に好ましくは0.5μm以上である。なお、かかるD10の上限値は、粒子強度向上の観点から、好ましくは3.0μm以下であり、より好ましくは2.0μm以下であり、更に好ましくは1.5μm以下である。
体積基準の粒度分布における累積50%粒子径、即ち平均粒子径(D50)は、微小化、粒度の均一化の観点から、好ましくは0.5μm以上であり、より好ましくは1.0μm以上であり、更に好ましくは1.5μm以上である。なお、かかるD50の上限値は、粒子強度向上の観点から、5μm以下であり、より好ましくは4.5μm以下であり、更に好ましくは4.0μm以下である。
体積基準の粒度分布における累積90%粒子径(D90)は、微小化、粒度の均一化の観点から、好ましくは3.0μm以上であり、より好ましくは3.5μm以上である。なお、かかるD90の上限値は、粒子強度向上の観点から、10μm以下であり、より好ましくは9.5μm以下である。
The inorganic oxide hollow particles of the present invention are characterized by being minute. More specifically, the particle size distribution can have the following characteristics. Here, in this specification, "particle size distribution" refers to a volume-based particle size distribution measured in accordance with JIS R 1629 "Method for measuring particle size distribution of fine ceramic raw materials by laser diffraction/scattering method". The particle size distribution is represented by a distribution curve with the horizontal axis representing particle size (μm) and the vertical axis representing the volume-based frequency (%). In addition, for example, Microtrac (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.) can be used as a particle size distribution measuring device using the laser diffraction/scattering method.
The cumulative 100% particle size ( D100 ) in the volumetric particle size distribution is preferably 15 μm or less, more preferably 13 μm or less, from the viewpoints of miniaturization, particle strength, and improved peel strength of the coating film. The lower limit of D100 is preferably 5 μm or more, more preferably 6 μm or more, and even more preferably 7 μm or more, from the viewpoints of improved heat insulating performance and dielectric properties.
The cumulative 10% particle size ( D10 ) in the volumetric particle size distribution is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.3 μm or more, and even more preferably 0.5 μm or more, from the viewpoint of uniform particle size and improving the peel strength of the coating film. The upper limit of D10 is preferably 3.0 μm or less, more preferably 2.0 μm or less, and even more preferably 1.5 μm or less, from the viewpoint of improving the particle strength.
The cumulative 50% particle size in the volume-based particle size distribution, i.e., the average particle size ( D50 ), is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1.0 μm or more, and even more preferably 1.5 μm or more, from the viewpoint of miniaturization and uniform particle size. The upper limit of D50 is 5 μm or less, more preferably 4.5 μm or less, and even more preferably 4.0 μm or less, from the viewpoint of improving particle strength.
The cumulative 90% particle size ( D90 ) in the volume-based particle size distribution is preferably 3.0 μm or more, more preferably 3.5 μm or more, from the viewpoint of miniaturization and uniform particle size. The upper limit of D90 is 10 μm or less, more preferably 9.5 μm or less, from the viewpoint of improving particle strength.

また、本発明の無機酸化物中空粒子は、粒度分布が単峰性であり、その形状がシャープであることを特徴とする。
本発明の無機酸化物微小中空粒子の粒度分布の一例を図1に示す。無機酸化物中空粒子は、粒度分布において、通常、図1の比較例1に示されるような粒度勾配の大きいブロードな分布となる。これに対し、本発明の無機酸化物微小中空粒子は、粒度分布において、図1の実施例4に示されるように、粒子径の大きな粒子が排除され、粒子径の小さな粒子によって構成された、シャープな形状の単一のピークからなる。このように、本発明の無機酸化物中空粒子は、微小粒子で構成され、かつ粒度が均一であるため、粒子強度が向上するとともに、バインダーを用いて塗膜を形成した際に、粒子がバインダー中に均一に分散され、粒子間にバインダーが十分充填される結果、塗膜の密着性がより高められ剥離し難くなる。
The inorganic oxide hollow particles of the present invention are also characterized in that they have a unimodal particle size distribution and a sharp shape.
An example of the particle size distribution of the inorganic oxide hollow particles of the present invention is shown in Figure 1. In the particle size distribution of the inorganic oxide hollow particles, the distribution is generally broad with a large particle size gradient as shown in Comparative Example 1 in Figure 1. In contrast, the inorganic oxide hollow particles of the present invention have a particle size distribution in which particles with large diameters are excluded and a single peak with a sharp shape is composed of particles with small diameters as shown in Example 4 in Figure 1. As described above, the inorganic oxide hollow particles of the present invention are composed of fine particles and have a uniform particle size, so that the particle strength is improved, and when a coating film is formed using a binder, the particles are uniformly dispersed in the binder and the binder is sufficiently filled between the particles, resulting in improved adhesion of the coating film and less peeling.

更に、本発明の無機酸化物中空粒子は、上記において説明したとおり、粒径分布がシャープな形状を有するところ、下記式(1)により算出される粒度勾配が2以下であることを特徴とする。 Furthermore, as described above, the inorganic oxide hollow particles of the present invention are characterized in that they have a sharp particle size distribution and a particle size gradient calculated by the following formula (1) of 2 or less.

粒度勾配=(D90-D10)/D50 (1) Particle size gradient = ( D90 - D10 ) / D50 (1)

〔式中、D90は体積基準の粒度分布における累積90%粒子径を示し、D10は体積基準の粒度分布における累積10%粒子径を示し、D50は体積基準の粒度分布における累積50%粒子径を示す。〕 (In the formula, D90 indicates a cumulative 90% particle size in the volume-based particle size distribution, D10 indicates a cumulative 10% particle size in the volume-based particle size distribution, and D50 indicates a cumulative 50% particle size in the volume-based particle size distribution.)

かかる粒度勾配は、粒度の均一化、塗膜の剥離強度のより一層の向上の観点から、1.8以下が好ましく、1.7以下がより好ましく、1.6以下が更に好ましい。なお、かかる粒度勾配の下限値は、樹脂混練時の充填性の向上の観点から、1.0以上が好ましく、1.1以上がより好ましく、1.2以上が更に好ましい。 From the viewpoint of uniform particle size and further improving the peel strength of the coating film, the particle size gradient is preferably 1.8 or less, more preferably 1.7 or less, and even more preferably 1.6 or less. The lower limit of the particle size gradient is preferably 1.0 or more, more preferably 1.1 or more, and even more preferably 1.2 or more, from the viewpoint of improving the filling property during resin kneading.

また、本発明の無機酸化物中空粒子の外殻部の厚みは、50nm以上が好ましく、100nm以上が更に好ましく、そして1μm以下が好ましく、500nm以下が更に好ましい。外殻部の厚みを上記範囲とすることで、粒子強度を損なうことなく、中空部を十分確保できるため、断熱性能、誘電特性等を向上させることができる。なお、外殻部の厚みは、走査型電子顕微鏡(SEM)像から測定できる。 The thickness of the outer shell of the inorganic oxide hollow particles of the present invention is preferably 50 nm or more, more preferably 100 nm or more, and preferably 1 μm or less, more preferably 500 nm or less. By setting the thickness of the outer shell within the above range, the hollow portion can be sufficiently secured without impairing the particle strength, and therefore the heat insulating performance, dielectric properties, etc. can be improved. The thickness of the outer shell can be measured from a scanning electron microscope (SEM) image.

本発明の無機酸化物中空粒子の中空率は、断熱性能、誘電特性等の向上の観点から、70%以上が好ましく、75%以上がより好ましく、80%以上が更に好ましい。なお、中空率の上限値は、粒子強度を十分確保する観点から、95%以下が好ましく、90%以下が更に好ましい。ここで、本明細書において「中空率」は、密度計により測定された見かけ密度と真密度とから、下記式により求めるものとする。なお、「真密度」は、空隙部分を取り除くために、箱型電気炉にて融点以上で6時間加熱、冷却した後、密度計で測定するものとする。また、密度計として、例えば、乾式自動密度計アキュピック(島津製作所)を使用することができる。 The hollow ratio of the inorganic oxide hollow particles of the present invention is preferably 70% or more, more preferably 75% or more, and even more preferably 80% or more, from the viewpoint of improving the heat insulating performance and dielectric properties. The upper limit of the hollow ratio is preferably 95% or less, and even more preferably 90% or less, from the viewpoint of ensuring sufficient particle strength. Here, in this specification, the "hollow ratio" is calculated from the apparent density and true density measured by a density meter using the following formula. In addition, the "true density" is measured by a density meter after heating at or above the melting point in a box-type electric furnace for 6 hours and cooling in order to remove the voids. In addition, as the density meter, for example, a dry automatic density meter Accupic (Shimadzu Corporation) can be used.

中空率=(1-見かけ密度÷真密度)×100 Hollow ratio = (1 - apparent density ÷ true density) x 100

本発明の無機酸化物中空粒子の形状は、真球状、扁楕円体や長楕円体等の略球状のいずれであってもよい。平均円形度は、誘電特性の向上の観点から、0.85以上が好ましく、0.90以上が更に好ましい。ここで、「円形度」は、走査型電子顕微鏡写真から粒子の投影面積(A)と周囲長(PM)を測定し、周囲長(PM)に対する真円の面積を(B)とすると、その粒子の円形度はA/Bとして表される。そこで、試料粒子の周囲長(PM)と同一の周囲長を持つ真円の周囲長および面積は、それぞれPM=2πr、B=πr2であるから、B=π×(PM/2π)2となり、この粒子の円形度は、円形度=A/B=A×4π/(PM)2として算出される。100個の粒子について円形度を測定し、その平均値でもって平均円形度とする。 The shape of the inorganic oxide hollow particles of the present invention may be any of a perfect sphere, an oblate ellipsoid, an oblate ellipsoid, and an approximately spherical shape such as a sphere. From the viewpoint of improving the dielectric properties, the average circularity is preferably 0.85 or more, and more preferably 0.90 or more. Here, the "circularity" is expressed as A/B, where the projected area (A) and the perimeter (PM) of a particle are measured from a scanning electron microscope photograph, and the area of a perfect circle relative to the perimeter (PM) is (B). Therefore, the perimeter and area of a perfect circle having the same perimeter as the perimeter (PM) of the sample particle are PM=2πr and B= πr2 , respectively, so that B=π×(PM/2π) 2 , and the circularity of this particle is calculated as circularity=A/B=A×4π/(PM) 2 . The circularity of 100 particles is measured, and the average value is taken as the average circularity.

本発明の無機酸化物中空粒子の粒子強度は、十分な強度を確保する観点から、18MPa以上が好ましく、20MPa以上がより好ましく、23MPa以上が更に好ましい。ここで、本明細書において「粒子強度」とは、加圧成型プレス機で中空粒子に印加した際の無機酸化物蛍光体中空粒子残存率が50%時の粒子強度である。具体的には、後掲の実施例に記載の方法により測定することができる。 The particle strength of the inorganic oxide hollow particles of the present invention is preferably 18 MPa or more, more preferably 20 MPa or more, and even more preferably 23 MPa or more, from the viewpoint of ensuring sufficient strength. Here, in this specification, "particle strength" refers to the particle strength when the inorganic oxide phosphor hollow particle residual rate is 50% when pressure is applied to the hollow particles with a pressure molding press. Specifically, it can be measured by the method described in the examples below.

また、本発明の無機酸化物中空粒子は、それを用いて所定の方法により作製した銅板付き基材について、JIS K 6854-1に準拠して測定したときに、銅板からの樹脂層の90度はく離接着強さを、好ましくは10N/m超とすることができる。このように、本発明の無機酸化物微小中空粒子は、微小かつ粒度が均一であるため、バインダーに粒子を分散させた際に粒子間にバインダーが十分に充填され、塗膜の密着性が高められ剥離し難くなる。なお、銅板付き基材の作製方法は、後掲の実施例に記載の方法にしたがうものとする。 The inorganic oxide hollow particles of the present invention can also provide a 90 degree peel adhesion strength of the resin layer from the copper plate, preferably exceeding 10 N/m, when measured in accordance with JIS K 6854-1 for a substrate with a copper plate prepared using the inorganic oxide hollow particles of the present invention. As described above, the inorganic oxide micro hollow particles of the present invention are small and have a uniform particle size, so that when the particles are dispersed in a binder, the binder is sufficiently filled between the particles, enhancing the adhesion of the coating film and making it difficult to peel off. The method for preparing the substrate with a copper plate follows the method described in the examples below.

本発明の無機酸化物中空粒子は、断熱材料、遮熱材料、触媒担体、建築材料、電子材料等に適用することができる。とりわけ、本発明の無機酸化物中空粒子は、粒度が均一で、粒子強度及び塗膜の剥離強度に優れる微小粒子であることから、電子材料、とりわけ配線回路基板、半導体封止材等に有用である。 The inorganic oxide hollow particles of the present invention can be applied to heat insulating materials, heat shielding materials, catalyst carriers, building materials, electronic materials, etc. In particular, the inorganic oxide hollow particles of the present invention are fine particles with uniform particle size and excellent particle strength and coating peel strength, so they are useful for electronic materials, particularly wiring circuit boards, semiconductor encapsulants, etc.

また、本発明の無機酸化物中空粒子は、微小な粒子であるため、媒体への分散性にも優れる。
媒体としては特に限定されないが、本発明の効果を享受しやすい点で、例えば、樹脂、塗料、ゴム、溶剤を挙げることができる。
媒体として樹脂を用いた場合には、電子材料、例えば、配線回路基板や半導体封止材等を形成するための樹脂組成物とすることができる。なお、樹脂としては、配線回路や半導体封止材の分野において一般的に使用されているものであれば、特に限定されない。
In addition, the inorganic oxide hollow particles of the present invention are very small particles and therefore have excellent dispersibility in a medium.
The medium is not particularly limited, but examples thereof include resin, paint, rubber, and solvent, which are likely to provide the effects of the present invention.
When a resin is used as the medium, it can be used as a resin composition for forming electronic materials, such as wiring circuit boards and semiconductor encapsulants. The resin is not particularly limited as long as it is generally used in the fields of wiring circuits and semiconductor encapsulants.

樹脂組成物中の無機酸化物中空粒子の含有量は、その用途により適宜選択可能であるが、通常1~97質量%であり、好ましくは5~60質量%であり、更に好ましくは15~40質量%である。 The content of inorganic oxide hollow particles in the resin composition can be appropriately selected depending on the application, but is usually 1 to 97% by mass, preferably 5 to 60% by mass, and more preferably 15 to 40% by mass.

また、樹脂組成物は、有機溶媒に溶解又は分散したワニスの形態であってもよく、該ワニスを基材に含浸させてプリプレグとすることもできる。
ワニス中の固形分(不揮発分)濃度は、その用途に応じて適宜選択可能であるが、通常5~80質量%であり、好ましくは10~70質量%である。
ワニスを含浸させる基材としては特に限定されず、例えば、無機繊維、有機繊維、炭素繊維等が挙げられる。なお、含浸は、浸漬(ディッピング)や塗布等によって行うことができる。
The resin composition may be in the form of a varnish in which it is dissolved or dispersed in an organic solvent, and the varnish may be impregnated into a substrate to form a prepreg.
The solids (non-volatile content) concentration in the varnish can be appropriately selected depending on the application, but is usually 5 to 80% by mass, and preferably 10 to 70% by mass.
The substrate to be impregnated with the varnish is not particularly limited, and examples thereof include inorganic fibers, organic fibers, carbon fibers, etc. The impregnation can be carried out by immersion (dipping) or coating.

更に、例えば、金属箔付基板上に、上記したワニスを塗布した後、加熱・硬化を行って金属基板上に樹脂層を形成した後、金属をエッチングにより除去して導体パターンを形成することにより配線回路基板を製造することもできる。なお、ワニスを基材上に塗布する際には、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法(スピンコート法)、スリットダイ塗布法(スリット塗布法)、バー塗布法等の適宜の塗布法を採用することができる。 Furthermore, for example, a wiring circuit board can be manufactured by applying the above-mentioned varnish to a metal foil substrate, heating and curing the varnish to form a resin layer on the metal substrate, and then removing the metal by etching to form a conductor pattern. When applying the varnish to the substrate, any suitable application method can be used, such as spraying, roll coating, rotary coating (spin coating), slit die coating (slit coating), or bar coating.

媒体と無機酸化物中空粒子との混合方法は特に限定されないが、例えば、各成分をミキサー等によって十分に均一に撹拌及び混合した後、ミキシングロール、押出機、ニーダー、ロール、エクストルーダー等を用いて混練すればよい。なお、混合条件は、混合方法により適宜設定することができる。 The method for mixing the medium and the inorganic oxide hollow particles is not particularly limited, but for example, each component may be thoroughly and uniformly stirred and mixed using a mixer or the like, and then kneaded using a mixing roll, extruder, kneader, roll, extruder, or the like. The mixing conditions can be appropriately set depending on the mixing method.

本発明の無機酸化物中空粒子の製造方法は、上記構成を有する無機酸化物中空粒子を得ることができれば特に限定されないが、例えば、原料化合物を含む被噴霧液体を、噴霧熱分解装置内に装着された噴霧装置から噴霧し、噴霧された液滴(ミスト)を熱分解する方法を挙げることができる。 The method for producing the inorganic oxide hollow particles of the present invention is not particularly limited as long as it can produce inorganic oxide hollow particles having the above-mentioned configuration. For example, a method can be mentioned in which a liquid to be sprayed containing a raw material compound is sprayed from a spray device installed in a spray pyrolysis device, and the sprayed droplets (mist) are pyrolyzed.

原料化合物としては、酸化物を構成する元素としてアルカリ金属、カルシウム、ケイ素、ホウ素及びアルミニウムから選択される1又は2以上の元素を含有する化合物を挙げることができる。かかる化合物としては、水に溶解する化合物であれば特に限定されないが、例えば、無機塩、有機塩、アルコキシドを挙げられ、1又は2以上を含有することができる。無機塩としては、例えば、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、水酸化物、ハロゲン化物を挙げられる。有機塩としては、例えば、ギ酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、シュウ酸塩、クエン酸塩を挙げることができる。 Examples of raw material compounds include compounds containing one or more elements selected from alkali metals, calcium, silicon, boron, and aluminum as elements that constitute oxides. Such compounds are not particularly limited as long as they are compounds that dissolve in water, and examples include inorganic salts, organic salts, and alkoxides, which may contain one or more elements. Examples of inorganic salts include nitrates, sulfates, carbonates, hydroxides, and halides. Examples of organic salts include formates, acetates, propionates, oxalates, and citrates.

アルカリ金属含有化合物としては、例えば、リチウム含有化合物、ナトリウム含有化合物、カリウム含有化合物、ルビジウム含有化合物、セシウム含有化合物を挙げることができる。中でも、微小化、粒度の均一化、粒子強度及び塗膜の剥離強度の向上の観点から、リチウム含有化合物、ナトリウム含有化合物及びカリウム含有化合物から選択される1又は2以上が好ましく、ナトリウム含有化合物が更に好ましい。ナトリウム含有化合物の具体例としては、例えば、硝酸ナトリウム、塩化ナトリウム、水酸化ナトリウム、硫酸ナトリウム、ホウ酸ナトリウム等のナトリウム塩が挙げられる。なお、ナトリウム含有化合物以外のアルカリ金属含有化合物の具体例としては、ナトリウム含有化合物と同様の塩を挙げることができる。 Examples of alkali metal-containing compounds include lithium-containing compounds, sodium-containing compounds, potassium-containing compounds, rubidium-containing compounds, and cesium-containing compounds. Among them, from the viewpoints of miniaturization, uniform particle size, and improvement of particle strength and peel strength of the coating film, one or more selected from lithium-containing compounds, sodium-containing compounds, and potassium-containing compounds are preferred, and sodium-containing compounds are even more preferred. Specific examples of sodium-containing compounds include sodium salts such as sodium nitrate, sodium chloride, sodium hydroxide, sodium sulfate, and sodium borate. Specific examples of alkali metal-containing compounds other than sodium-containing compounds include salts similar to those of sodium-containing compounds.

カルシウム含有化合物としては、例えば、カルシウム塩を挙げることができる。カルシウム塩としては、例えば、硝酸カルシウム、塩化カルシウム、水酸化カルシウム、蟻酸カルシウム、酢酸カルシウム、プロピオン酸カルシウムが挙げられる。
ホウ素含有化合物としては、例えば、ホウ酸塩、ホウ酸を挙げることができる。ホウ酸塩としては、例えば、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム等のメタホウ酸塩、四ホウ酸ナトリウム、四ホウ酸カリウム等の四ホウ酸塩、五ホウ酸ナトリウム、五ホウ酸カリウム等の五ホウ酸塩等が挙げられる。
Examples of calcium-containing compounds include calcium salts, such as calcium nitrate, calcium chloride, calcium hydroxide, calcium formate, calcium acetate, and calcium propionate.
Examples of boron-containing compounds include borates and boric acid. Examples of borates include metaborates such as sodium borate and potassium borate, tetraborates such as sodium tetraborate and potassium tetraborate, and pentaborates such as sodium pentaborate and potassium pentaborate.

ケイ素含有化合物としては、例えば、ケイ酸アルコキシドを挙げることができる。ケイ酸アルコキシドとしては、例えば、オルトケイ酸テトラメチル(TMOS)、オルトケイ酸テトラエチル(TEOS)、オルトケイ酸テトラプロピル(TPOS)、テトラブトキシシランが挙げられる。
アルミニウム含有化合物としては、例えば、アルミニウム塩、アルミニウムアルコキシドを挙げることができる。アルミニウム塩としては、例えば、硝酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、燐酸アルミニウム、水酸化アルミニウム、酢酸アルミニウム、シュウ酸アルミニウムが挙げられる。アルミニウムアルコキシドとしては、例えば、アルミニウムメトキシド、アルミニウムエトキシド、アルミニウムイソプロポキシドが挙げられる。
ケイ素及びアルミニウム含有化合物としては、例えば、アルミノケイ酸塩を挙げることができる。アルミノケイ酸塩としては、例えば、アルミノケイ酸ナトリウム、アルミノケイ酸カリウム、アルミノケイ酸カルシウムが挙げられる。
また、アルミニウム酸化物、ケイ素酸化物を溶媒に分散した溶液、アルミニウム酸化物、ケイ素酸化物のゾル溶液も原料化合物溶液として用いることができる。
Examples of silicon-containing compounds include silicate alkoxides, such as tetramethyl orthosilicate (TMOS), tetraethyl orthosilicate (TEOS), tetrapropyl orthosilicate (TPOS), and tetrabutoxysilane.
Examples of aluminum-containing compounds include aluminum salts and aluminum alkoxides. Examples of aluminum salts include aluminum nitrate, aluminum sulfate, aluminum chloride, aluminum phosphate, aluminum hydroxide, aluminum acetate, and aluminum oxalate. Examples of aluminum alkoxides include aluminum methoxide, aluminum ethoxide, and aluminum isopropoxide.
Examples of silicon and aluminum-containing compounds include aluminosilicates, such as sodium aluminosilicate, potassium aluminosilicate, and calcium aluminosilicate.
Furthermore, a solution in which aluminum oxide or silicon oxide is dispersed in a solvent, or a sol solution of aluminum oxide or silicon oxide can also be used as the raw compound solution.

本発明においては、原料化合物として、アルカリ金属、カルシウム、ケイ素、ホウ素及びアルミニウム以外の元素を含有する化合物が更に含まれていてもよい。
このような化合物としては水に溶解する金属化合物であれば特に限定されないが、例えば、カルシウム含有化合物以外の2族元素含有化合物、4族元素含有化合物を挙げることができる。カルシウム含有化合物以外の2族元素含有化合物としては、例えば、マグネシウム塩、ストロンチウム塩、バリウム塩、ラジウム塩が挙げられる。また、4族元素含有化合物としては、例えば、チタン塩、ジルコニウム塩、ハフニウム塩が挙げられる。その他、亜鉛塩、イットリウム塩を挙げることができる。これら化合物は、1又は2以上を使用することができる。これら金属の塩としては、例えば、無機塩、有機塩、アルコキシドが挙げられ、その具体例は上記において説明したとおりである。
In the present invention, the raw material compounds may further contain compounds containing elements other than alkali metals, calcium, silicon, boron and aluminum.
Such compounds are not particularly limited as long as they are water-soluble metal compounds, and include, for example, Group 2 element-containing compounds other than calcium-containing compounds, and Group 4 element-containing compounds. Examples of Group 2 element-containing compounds other than calcium-containing compounds include magnesium salts, strontium salts, barium salts, and radium salts. Examples of Group 4 element-containing compounds include titanium salts, zirconium salts, and hafnium salts. Other examples include zinc salts and yttrium salts. These compounds can be used alone or in combination. Examples of salts of these metals include inorganic salts, organic salts, and alkoxides, and specific examples thereof are as described above.

これら原料化合物の中でも、本発明の効果を享受しやすい点で、アルカリ金属塩、カルシウム塩、ケイ酸アルコキシド、アルミニウムアルコキシド、アルミノケイ酸塩、ホウ酸塩及びホウ素から選択される1又は2以上と、必要によりマグネシウム塩、ストロンチウム塩、バリウム塩、チタン塩及びジルコニウム塩から選択される1又は2以上を含むことが好ましい。 Among these raw material compounds, it is preferable to use one or more selected from alkali metal salts, calcium salts, silicate alkoxides, aluminum alkoxides, aluminosilicates, borates, and boron, and, if necessary, one or more selected from magnesium salts, strontium salts, barium salts, titanium salts, and zirconium salts, in order to easily obtain the effects of the present invention.

被噴霧液体は、原料化合物を、水又はエタノール等の有機溶媒と混合して調製できる。なお、原料化合物の配合割合は、上記した組成の無機酸化物微小中空粒子となるように、原料化合物の種類に応じて適宜調整すればよい。 The liquid to be sprayed can be prepared by mixing the raw material compounds with water or an organic solvent such as ethanol. The mixing ratio of the raw material compounds can be adjusted appropriately according to the type of raw material compounds so as to obtain inorganic oxide micro-hollow particles of the above-mentioned composition.

被噴霧液体中の原料化合物濃度は、各元素の総量として、0.01mol/L~2.0mol/Lが好ましく、0.1mol/L~1.0mol/Lがより好ましい。 The concentration of the raw material compounds in the liquid to be sprayed is preferably 0.01 mol/L to 2.0 mol/L, and more preferably 0.1 mol/L to 1.0 mol/L, as the total amount of each element.

噴霧熱分解装置は、熱分解炉の形状が堅型円筒状であることが好ましく、熱分解炉の大きさは、製造スケールにより適宜選択することができる。 The spray pyrolysis device preferably has a pyrolysis furnace with a vertical cylindrical shape, and the size of the pyrolysis furnace can be appropriately selected depending on the production scale.

噴霧装置としては、例えば、2流体ノズル、3流体ノズル、4流体ノズル等の流体ノズルを挙げることができる。ここで、流体ノズルの方式には、気体と原料溶液とをノズル内部で混合する内部混合方式と、ノズル外部で気体と原料溶液を混合する外部混合方式があるが、いずれも採用できる。ノズルに供給する気体としては、例えば、空気や、窒素、アルゴン等の不活性ガス等を使用することができる。中でも、経済性の観点から、空気が好ましい。なお、噴霧装置は、1基又は2基以上設置することができる。 Examples of spray devices include fluid nozzles such as two-fluid nozzles, three-fluid nozzles, and four-fluid nozzles. Fluid nozzles can be either an internal mixing method in which the gas and raw material solution are mixed inside the nozzle, or an external mixing method in which the gas and raw material solution are mixed outside the nozzle, and either method can be used. Gases that can be supplied to the nozzle include, for example, air, and inert gases such as nitrogen and argon. Among these, air is preferred from the viewpoint of economy. One or more spray devices can be installed.

被噴霧液体の流量は、通常1~100L/hであり、好ましくは3~80L/hであり、更に好ましくは5~60L/hである。 The flow rate of the liquid to be sprayed is usually 1 to 100 L/h, preferably 3 to 80 L/h, and more preferably 5 to 60 L/h.

噴霧装置から噴霧された液滴は、熱分解炉内の加熱装置により加熱されて無機化合物を含む膜が形成され、それを起点に無機酸化物中空粒子が形成される。
液滴の噴出速度は、通常1~50m/sであり、好ましくは5~35m/sであり、更に好ましくは10~20m/sである。
The droplets sprayed from the spray device are heated by a heater in the pyrolysis furnace to form a film containing an inorganic compound, and the film acts as a starting point for the formation of hollow inorganic oxide particles.
The droplet ejection speed is usually 1 to 50 m/s, preferably 5 to 35 m/s, and more preferably 10 to 20 m/s.

加熱装置は、例えば、燃焼バーナー、熱風ヒータ、電気ヒータ等を挙げることができる。加熱装置は、1基又は2基以上設置することが可能である。なお、燃焼バーナー、熱風ヒータ及び電気ヒータは、一般的に販売されているものあれば、いずれも使用することができる。
加熱装置の温度は、400~1800℃が好ましく、600~1500℃がより好ましく、700~1400℃が更に好ましく、800~1200℃がより更に好ましい。このような温度であれば、熱分解が十分となり、また粒子が熱分解炉外に排出されたときに粒子同士が凝集し難くなる。
Examples of the heating device include a combustion burner, a hot air heater, an electric heater, etc. One or more heating devices can be installed. Any of the combustion burners, hot air heaters, and electric heaters that are generally available on the market can be used.
The temperature of the heating device is preferably 400 to 1800° C., more preferably 600 to 1500° C., even more preferably 700 to 1400° C., and even more preferably 800 to 1200° C. At such a temperature, pyrolysis is sufficient, and the particles are less likely to aggregate when discharged outside the pyrolysis furnace.

熱分解反応によって生じた無機酸化物中空粒子は、熱分解炉の下流側から回収される。無機酸化物中空粒子の回収は、高性能サイクロン粉体回収機やバグフィルターを用いた粉体回収装置を用いることができる。 The inorganic oxide hollow particles produced by the pyrolysis reaction are collected downstream of the pyrolysis furnace. The inorganic oxide hollow particles can be collected using a powder collection device that uses a high-performance cyclone powder collection machine or a bag filter.

以下、実施例を挙げて、本発明の実施の形態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、下記の実施例に限定されるものではない。 The following examples are provided to further explain the embodiments of the present invention. However, the present invention is not limited to the following examples.

1.化学組成の分析
無機酸化物中空粒子をプレス機で成型してブリケットを作製し、そのブリケットを蛍光X線分析装置(ZSX primus II、リガク社製)にて酸化物換算で測定し化学成分を算出した。
1. Analysis of Chemical Composition The inorganic oxide hollow particles were molded using a press to prepare briquettes, and the chemical components of the briquettes were measured in terms of oxides using an X-ray fluorescence analyzer (ZSX primus II, manufactured by Rigaku Corporation) to calculate the chemical components.

2.粒度分布の測定、粒度勾配の算出
粒子径分布測定装置(MT3000II、マイクロトラックベル社製)を用い、JIS R 1629に準拠して体積基準の粒度分布を作成し、D100、D90、D50、D10を求め、下記式(1)により粒度勾配を算出した。
2. Measurement of particle size distribution and calculation of particle size gradient Using a particle size distribution measuring device (MT3000II, manufactured by Microtrackbell Co., Ltd.), a volume-based particle size distribution was prepared in accordance with JIS R 1629, and D100 , D90 , D50 , and D10 were obtained, and the particle size gradient was calculated by the following formula (1).

粒度勾配=(D90-D10)/D50 (1) Particle size gradient = ( D90 - D10 ) / D50 (1)

〔式中、D90は体積基準の粒度分布における累積90%粒子径を示し、D10は体積基準の粒度分布における累積10%粒子径を示し、D50は体積基準の粒度分布における累積50%粒子径を示す。〕 (In the formula, D90 indicates a cumulative 90% particle size in the volume-based particle size distribution, D10 indicates a cumulative 10% particle size in the volume-based particle size distribution, and D50 indicates a cumulative 50% particle size in the volume-based particle size distribution.)

3.粒子強度の測定
粒子強度は、次の粉体加圧法により測定した。
(1)中空粒子とエタノールとを質量比4:1で混合し、試料を調製した。
(2)試料を圧力成形器に入れ、油圧プレス機で所定の圧力(10MPa、20MPa、30MPa)を印加した。
(3)所定の圧力を印加した状態で1分間静置した。
(4)圧力成形器から試料を取り出し、80℃で2時間乾燥した。
(5)微小圧縮試験機(MCT-510、島津製作所社製)を用い、加圧後の中空粒子の密度を測定した。
3. Measurement of Particle Strength Particle strength was measured by the following powder pressing method.
(1) Hollow particles and ethanol were mixed in a mass ratio of 4:1 to prepare a sample.
(2) The sample was placed in a pressure molding machine, and a predetermined pressure (10 MPa, 20 MPa, 30 MPa) was applied using a hydraulic press.
(3) The sample was left to stand for one minute while a predetermined pressure was applied.
(4) The sample was removed from the pressure molder and dried at 80° C. for 2 hours.
(5) The density of the hollow particles after compression was measured using a microcompression tester (MCT-510, manufactured by Shimadzu Corporation).

そして、加圧前後の中空粒子の密度から、下記式により、所定圧力ごとの残存率を算出し、残存率と印加圧力のグラフより、50%残存時の圧力を読み取った。なお、密度の測定には、上記した密度測定機を使用し、中空殻の真密度は、空隙部分を取り除くために、箱型電気炉にて融点以上で6時間加熱、冷却した後に測定した。 Then, the remaining rate for each given pressure was calculated from the density of the hollow particles before and after pressure application using the following formula, and the pressure at which 50% remained was read from a graph of the remaining rate and applied pressure. The density was measured using the density measuring device described above, and the true density of the hollow shell was measured after heating above the melting point for 6 hours in a box-type electric furnace and then cooling in order to remove voids.

残存率P[%]=(1-ρ/y)/ρ×(1/x-1/y)×100 Survival rate P [%] = (1-ρ/y)/ρ×(1/x-1/y)×100

〔式中、ρは、加圧後の密度を示し、yは、中空殻の真密度を示し、xは、加圧前の密度を示す。〕 [In the formula, ρ represents the density after compression, y represents the true density of the hollow shell, and x represents the density before compression.]

4.90度はく離接着強さの試験
下記の方法で作製した試験片を、90度はく離試験機(P90-200N、イマダ社製)にセットし、JIS K 6854-1:1999に準拠して50mm/分の引張速度で、銅板からの樹脂層の90度はく離接着強さを測定し、下記の基準で評価した。
4. Test for 90 degree peel adhesive strength Test pieces prepared by the method described below were set in a 90 degree peel tester (P90-200N, manufactured by Imada Co., Ltd.), and the 90 degree peel adhesive strength of the resin layer from the copper plate was measured at a tensile speed of 50 mm/min in accordance with JIS K 6854-1:1999, and evaluated according to the following criteria.

〔銅板付き試験片の作製〕
無機酸化物微小中空粒子の乾燥粉5gを、液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂と液状ビスフェノールF型エポキシ樹脂の混合物(平均エポキシ当量165g/モル)30g、液状フェノールノボラック(水酸基当量135g/モル)20g、及びトリフェニルホスフィン1gを混合したエポキシ樹脂液に添加・混合した。樹脂混合物を直角に曲がったたわみ性被着材の上に幅25mm、長さ150mm、厚さ1mm塗工し、水平の銅板に張り付けて、手動の油圧プレス機を使用し、1MPa、10分間圧力を加えて接着させた。その後、乾燥機にて80℃12時間乾燥硬化させて試験片を作製した。
[Preparation of test pieces with copper plates]
5 g of dried powder of inorganic oxide micro hollow particles was added and mixed with an epoxy resin liquid containing 30 g of a mixture of liquid bisphenol A type epoxy resin and liquid bisphenol F type epoxy resin (average epoxy equivalent 165 g/mol), 20 g of liquid phenol novolac (hydroxyl equivalent 135 g/mol), and 1 g of triphenylphosphine. The resin mixture was applied to a flexible adherend bent at a right angle with a width of 25 mm, a length of 150 mm, and a thickness of 1 mm, and the adherend was attached to a horizontal copper plate and bonded by applying a pressure of 1 MPa for 10 minutes using a manual hydraulic press. The mixture was then dried and cured in a dryer at 80°C for 12 hours to prepare a test specimen.

〔評価基準〕
〇:90度はく離接着強さが10N/m超である
×:90度はく離接着強さが10N/m以下である
[Evaluation Criteria]
Good: 90 degree peel adhesive strength is more than 10 N/m Bad: 90 degree peel adhesive strength is 10 N/m or less

実施例1~6及び比較例1、2
原料化合物(コロイダルシリカ、オルトケイ酸テトラエチル、硝酸アルミニウム九水和物、硝酸マグネシウム六水和物、硝酸カルシウム四水和物、ホウ酸、四ほう酸ナトリウム十水和物)を蒸留水30リットル中に、表1のモル濃度となるように溶解させ、原料化合物水溶液を溶液タンクに投入した。次に、投入された原料化合物水溶液を送液ポンプにより2流体ノズルに送液してミスト状に噴霧し、炉内(1000℃)で加熱した。なお、2流体ノズルの運転条件は、ノズルエアー量100L/min、送液量67mL/minとした。そして、炉の反応ゾーン出口に設置した冷却機構にて急冷し、その後バグフィルターを用いて無機酸化物中空粒子を回収した。
Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2
The raw material compounds (colloidal silica, tetraethyl orthosilicate, aluminum nitrate nonahydrate, magnesium nitrate hexahydrate, calcium nitrate tetrahydrate, boric acid, sodium tetraborate decahydrate) were dissolved in 30 L of distilled water to the molar concentrations shown in Table 1, and the aqueous solution of the raw material compounds was charged into a solution tank. Next, the charged aqueous solution of the raw material compounds was sent to a two-fluid nozzle by a liquid sending pump and sprayed in the form of mist, and heated in a furnace (1000°C). The operating conditions of the two-fluid nozzle were a nozzle air volume of 100 L/min and a liquid sending volume of 67 mL/min. Then, the mixture was quenched by a cooling mechanism installed at the outlet of the reaction zone of the furnace, and then the inorganic oxide hollow particles were collected using a bag filter.

Figure 0007611742000001
Figure 0007611742000001

得られた無機酸化物中空粒子について、化学組成及び粒度を分析し、粒子強度及び90度はく離接着強さを評価した。これらの結果を表2に示す。また、実施例4及び比較例1で得られた無機酸化物中空粒子の粒度分布を示す図1に示す。 The chemical composition and particle size of the obtained inorganic oxide hollow particles were analyzed, and the particle strength and 90-degree peel adhesion strength were evaluated. The results are shown in Table 2. The particle size distribution of the inorganic oxide hollow particles obtained in Example 4 and Comparative Example 1 is shown in Figure 1.

Figure 0007611742000002
Figure 0007611742000002

表2から、本実施例の無機酸化物中空粒子は、粒子径が小さく、粒度が均一であるだけでなく、粒子強度に優れ、かつ塗膜である樹脂組成物を形成したときに剥離し難いことがわかる。 From Table 2, it can be seen that the inorganic oxide hollow particles of this example not only have a small particle diameter and uniform particle size, but also have excellent particle strength and are not easily peeled off when a resin composition is formed as a coating film.

Claims (5)

中空室を区画する殻を有する無機酸化物微小中空粒子であって、
殻がアルカリ金属酸化物、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ケイ素、酸化ホウ素及び酸化アルミニウムを含む無機酸化物により構成され、
アルカリ金属酸化物の含有量が0.1質量%以上2質量%以下であり、
酸化マグネシウムの含有量が1.2質量%以上9.5質量%以下であり、
酸化カルシウムの含有量が0.5質量%以上5質量%以下であり、
酸化ケイ素の含有量が20質量%以上70質量%以下であり、
酸化ホウ素の含有量が15質量%以上35質量%以下であり、
酸化アルミニウムの含有量が5質量%以上20質量%以下であり、
酸化ケイ素、酸化ホウ素及び酸化アルミニウムの合計含有量が70質量%以上であり、
粒度分布が単峰性であり、かつ下記式(1);
粒度勾配=(D90-D10)/D50 (1)
〔式中、D90は体積基準の粒度分布における累積90%粒子径を示し、D10は体積基準の粒度分布における累積10%粒子径を示し、D50は体積基準の粒度分布における累積50%粒子径を示す。〕
により算出される粒度勾配が2以下である、
無酸化物微小中空粒子。
An inorganic oxide hollow microparticle having a shell defining a hollow chamber,
The shell is composed of inorganic oxides including alkali metal oxides, magnesium oxide, calcium oxide, silicon oxide, boron oxide, and aluminum oxide;
The content of alkali metal oxide is 0.1% by mass or more and 2% by mass or less,
The magnesium oxide content is 1.2% by mass or more and 9.5% by mass or less,
The calcium oxide content is 0.5% by mass or more and 5% by mass or less,
The silicon oxide content is 20% by mass or more and 70% by mass or less,
The content of boron oxide is 15% by mass or more and 35% by mass or less,
The content of aluminum oxide is 5% by mass or more and 20% by mass or less,
The total content of silicon oxide, boron oxide and aluminum oxide is 70 mass% or more,
The particle size distribution is monomodal and satisfies the following formula (1):
Particle size gradient = ( D90 - D10 ) / D50 (1)
(In the formula, D90 indicates a cumulative 90% particle size in the volume-based particle size distribution, D10 indicates a cumulative 10% particle size in the volume-based particle size distribution, and D50 indicates a cumulative 50% particle size in the volume-based particle size distribution.)
The particle size gradient calculated by is 2 or less.
Non-oxide micro hollow particles.
100が15μm以下である、請求項1記載の無機酸化物微小中空粒子。 2. The inorganic oxide hollow fine particles according to claim 1, having a D100 of 15 μm or less. 50が0.5~5μmである、請求項1又は2記載の無機酸化物微小中空粒子。 3. The inorganic oxide hollow microparticles according to claim 1 or 2, wherein D 50 is from 0.5 to 5 μm. 下記の方法により作製した銅板付き試験片について、JIS K 6854-1に準拠して測定したときに、銅板からの樹脂層の90度はく離接着強さが10N/m超となる、請求項1~のいずれか1項に記載の無機酸化物微小中空粒子。
〔銅板付き試験片の作製〕
無機酸化物微小中空粒子の乾燥粉5gを、液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂と液状ビスフェノールF型エポキシ樹脂の混合物(平均エポキシ当量165g/モル)30g、液状フェノールノボラック(水酸基当量135g/モル)20g、及びトリフェニルホスフィン1gを混合したエポキシ樹脂液に添加、混合する。樹脂混合物を直角に曲がったたわみ性被着材の上に幅25mm、長さ150mm、厚さ1mm塗工し、水平の銅板に張り付けて、手動の油圧プレス機を使用し、1MPa、10分間圧力を加えて接着する。その後、乾燥機にて80℃12時間乾燥硬化させて試験片を作製する。
The inorganic oxide microhollow particles according to any one of claims 1 to 3, wherein a 90 degree peel adhesive strength of the resin layer from the copper plate exceeds 10 N/m when a copper plate-attached test piece prepared by the following method is measured in accordance with JIS K 6854-1.
[Preparation of test pieces with copper plates]
5 g of dried powder of inorganic oxide micro hollow particles is added to and mixed with an epoxy resin liquid containing 30 g of a mixture of liquid bisphenol A type epoxy resin and liquid bisphenol F type epoxy resin (average epoxy equivalent 165 g/mol), 20 g of liquid phenol novolac (hydroxyl equivalent 135 g/mol), and 1 g of triphenylphosphine. The resin mixture is applied to a flexible adherend bent at a right angle in a width of 25 mm, length of 150 mm, and thickness of 1 mm, and the adherend is attached to a horizontal copper plate, and a manual hydraulic press is used to apply pressure of 1 MPa for 10 minutes to bond the material. The material is then dried and cured in a dryer at 80°C for 12 hours to prepare a test piece.
請求項1~のいずれか1項に記載の無機酸化物中空粒子を含む、樹脂組成物。 A resin composition comprising the inorganic oxide hollow particles according to any one of claims 1 to 4 .
JP2021044983A 2021-03-18 2021-03-18 Inorganic oxide micro hollow particles Active JP7611742B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021044983A JP7611742B2 (en) 2021-03-18 2021-03-18 Inorganic oxide micro hollow particles

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021044983A JP7611742B2 (en) 2021-03-18 2021-03-18 Inorganic oxide micro hollow particles

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2022144115A JP2022144115A (en) 2022-10-03
JP7611742B2 true JP7611742B2 (en) 2025-01-10

Family

ID=83454799

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021044983A Active JP7611742B2 (en) 2021-03-18 2021-03-18 Inorganic oxide micro hollow particles

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7611742B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102644460B1 (en) * 2023-12-27 2024-03-07 홍은정 Functional waterproofing material composition for composite waterproofing of newly established and repaired asphalt bridge surfaces and construction method for composite waterproofing of newly established and repaired asphalt bridge surfaces using the same

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007102569A1 (en) 2006-03-08 2007-09-13 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Inorganic hollow powder, process for producing the inorganic hollow powder, and composition comprising the inorganic hollow powder
JP2016023095A (en) 2014-07-17 2016-02-08 太平洋セメント株式会社 Inorganic oxide micro hollow particles
JP2017165592A (en) 2016-03-14 2017-09-21 太平洋セメント株式会社 Inorganic oxide fine hollow particle

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007102569A1 (en) 2006-03-08 2007-09-13 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Inorganic hollow powder, process for producing the inorganic hollow powder, and composition comprising the inorganic hollow powder
JP2016023095A (en) 2014-07-17 2016-02-08 太平洋セメント株式会社 Inorganic oxide micro hollow particles
JP2017165592A (en) 2016-03-14 2017-09-21 太平洋セメント株式会社 Inorganic oxide fine hollow particle

Also Published As

Publication number Publication date
JP2022144115A (en) 2022-10-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW567103B (en) Copper powder for use in conductive paste having excellent anti oxidization property and process
TW201202144A (en) Method for producing spherical alumina powder
KR102729172B1 (en) Hollow particle, method of producing the hollow particle, resin composition, and resin molded product and laminate each using the resin composition
JP7171829B2 (en) Aluminum nitride filler
JP7611742B2 (en) Inorganic oxide micro hollow particles
JP2020079165A (en) Hollow silica particles and method for producing the same
WO2011038311A1 (en) Glass-crystalline particles including a glass component and a crystalline component
JP7624888B2 (en) Inorganic oxide hollow particles
JPWO2020145342A1 (en) Spinel particles and their manufacturing methods, resin compositions, molded products, compositions, green sheets, fired products, and glass-ceramic substrates.
JP6959467B1 (en) Inorganic oxide hollow particles
JP2009073681A (en) Porous silica agglomerated particles
JP4644390B2 (en) Method for producing silica-coated metal composite powder
JP2003034522A (en) Method for manufacturing coated magnesium oxide powder
JP7107075B2 (en) Composition, green sheet, fired product, and glass-ceramic substrate
JP7435473B2 (en) Resin compositions, molded products, compositions, green sheets, fired products, and glass ceramic substrates
TW202237528A (en) Hexagonal boron nitride powder
JP6975575B2 (en) Oxide hollow particles
JP2023151180A (en) Silica-based hollow particle and method for manufacturing the same
JP2024037036A (en) Multi-bubble inorganic oxide hollow particle
JP7421378B2 (en) Inorganic oxide hollow particles
JP7266498B2 (en) hollow particles
JP7584973B2 (en) Inorganic oxide secondary particles
JP7675588B2 (en) Inorganic oxide hollow particles
EP0538397A1 (en) Boron aluminum phosphates and boron aluminum phosphosilicates for electronic packaging.
JP2024146810A (en) Powder containing hollow particles and method for producing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20240105

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20240819

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20240827

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20241021

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20241210

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20241224

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7611742

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150