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JP7598260B2 - Method for producing fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride or fluorine-containing vinyl sulfonate salt, and method for separating same - Google Patents

Method for producing fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride or fluorine-containing vinyl sulfonate salt, and method for separating same Download PDF

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JP7598260B2
JP7598260B2 JP2021027822A JP2021027822A JP7598260B2 JP 7598260 B2 JP7598260 B2 JP 7598260B2 JP 2021027822 A JP2021027822 A JP 2021027822A JP 2021027822 A JP2021027822 A JP 2021027822A JP 7598260 B2 JP7598260 B2 JP 7598260B2
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fluorine
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dissolved
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Description

本発明は、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド、又は含フッ素ビニルスルホン酸塩の製造方法、及び分離方法に関するものである。また、分離方法に用いた化合物等の再利用方法に関するものでもある。 The present invention relates to a method for producing fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride or a fluorine-containing vinyl sulfonate salt, and a separation method. It also relates to a method for reusing compounds used in the separation method.

従来、燃料電池用隔膜、燃料電池用触媒バインダーポリマー、食塩電解用隔膜等の主要成分として、下記一般式(5)で表されるフッ素系高分子電解質(5)が主に採用されている。

Figure 0007598260000001
(pは0~6の整数、qは1~6の整数)
一般式(5)で表されるフッ素系高分子電解質は、下記一般式(6)で表される含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(6)とテトラフルオロエチレン(TFE)との共重合体をケン化反応及び酸処理を施すことによって製造できることが知られている。
Figure 0007598260000002
(pは0~6の整数、qは1~6の整数)
上記一般式(6)で表される含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(6)の製造方法として、下記一般式(1):
Figure 0007598260000003
(式中、mは0~3の整数、nは1~6の整数)
で表される含フッ素ビニルスルホン酸無水物(1)と、
フッ化水素、金属フッ化物、4級アンモニウムフルオリド、及び4級ホスホニウムフルオリドからなる群より選択される1種以上であるフッ素化剤とを、
接触・混合させることにより、下記一般式(3):
Figure 0007598260000004
(式中、mは0~3の整数、nは1~6の整数)
で表される含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)を製造する方法が開示されている(特許文献1)。また、該特許文献では、前記含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)を製造する際、同時に下記一般式(4):
Figure 0007598260000005
(式中、mは0~3の整数、nは1~6の整数、MはLi、Na、K、Rb、又はCsである。)
で表される含フッ素ビニルスルホン酸塩(4)を製造できることが開示されている。さらに、前記含フッ素ビニルスルホン酸塩(4)を再利用し、前記含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)を製造する方法も開示されている。また、含フッ素ビニルスルホン酸塩(4)は、別法によっても含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)に変換できることが開示されており、有用な化合物であることが知られている(特許文献2)。 Conventionally, a fluoropolymer electrolyte (5) represented by the following general formula (5) has been mainly used as a main component of a membrane for a fuel cell, a catalyst binder polymer for a fuel cell, a membrane for salt electrolysis, and the like.
Figure 0007598260000001
(p is an integer from 0 to 6, and q is an integer from 1 to 6)
It is known that a fluorine-containing polymer electrolyte represented by the general formula (5) can be produced by subjecting a copolymer of fluorine-containing vinylsulfonic acid fluoride (6) represented by the following general formula (6) and tetrafluoroethylene (TFE) to a saponification reaction and an acid treatment.
Figure 0007598260000002
(p is an integer from 0 to 6, and q is an integer from 1 to 6)
The fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (6) represented by the above general formula (6) can be produced by a method represented by the following general formula (1):
Figure 0007598260000003
(wherein m is an integer from 0 to 3, and n is an integer from 1 to 6).
A fluorine-containing vinyl sulfonic anhydride (1) represented by the formula:
a fluorinating agent which is at least one selected from the group consisting of hydrogen fluoride, a metal fluoride, a quaternary ammonium fluoride, and a quaternary phosphonium fluoride;
By contacting and mixing, a compound represented by the following general formula (3):
Figure 0007598260000004
(wherein m is an integer from 0 to 3, and n is an integer from 1 to 6).
Patent Document 1 discloses a method for producing a fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (3) represented by the following general formula (4):
Figure 0007598260000005
(In the formula, m is an integer from 0 to 3, n is an integer from 1 to 6, and M2 is Li, Na, K, Rb, or Cs.)
It is disclosed that it is possible to produce a fluorine-containing vinyl sulfonate (4) represented by the following formula: Furthermore, a method for producing the fluorine-containing vinyl sulfonate (3) by reusing the fluorine-containing vinyl sulfonate (4) is also disclosed. It is also disclosed that the fluorine-containing vinyl sulfonate (4) can be converted to the fluorine-containing vinyl sulfonate (3) by another method, and it is known to be a useful compound (Patent Document 2).

国際公開第2020/012913号International Publication No. 2020/012913 米国特許第3560568号明細書U.S. Pat. No. 3,560,568

特許文献1では、m=0、n=2である含フッ素ビニルスルホン酸無水物(1)と、フッ化ナトリウム、又はフッ化カリウムとを反応させることで、m=0、n=2である含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)、及び含フッ素ビニルスルホン酸塩(4)を製造する方法が開示されているものの、前記フッ素系高分子電解質(5)の原料である含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)をより高い収率で得られる製造方法が求められている。また、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)、及び含フッ素ビニルスルホン酸塩(4)を分離する方法も求められている。 Patent Document 1 discloses a method for producing fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (3) and fluorine-containing vinyl sulfonate (4) by reacting fluorine-containing vinyl sulfonic acid anhydride (1) with sodium fluoride or potassium fluoride, where m = 0 and n = 2. However, there is a demand for a production method that can obtain fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (3), which is a raw material for the fluorine-based polymer electrolyte (5), in a higher yield. There is also a demand for a method for separating fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (3) and fluorine-containing vinyl sulfonate (4).

本発明者らは、上述の課題を解決するべく鋭意検討を重ねた結果、含フッ素ビニルスルホン酸無水物(1)(以下、「化合物(1)」ともいう。)と、アルカリ金属フッ化物(2)(以下、「化合物(2)」ともいう。)との反応において、加熱下で、アルカリ金属フッ化物(2)に、含フッ素ビニルスルホン酸無水物(1)を添加することで、上記目的を達成し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。また、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)、及び含フッ素ビニルスルホン酸塩(4)を分離できる方法、及び分離する際に用いた化合物等を再利用できる方法も見出した。 As a result of intensive research to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that the above-mentioned object can be achieved by adding fluorine-containing vinyl sulfonic anhydride (1) (hereinafter also referred to as "compound (1)") to alkali metal fluoride (2) (hereinafter also referred to as "compound (2)") under heating in the reaction between the fluorine-containing vinyl sulfonic anhydride (1) and the alkali metal fluoride (2), thereby completing the present invention. In addition, the present inventors have also found a method for separating fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (3) and fluorine-containing vinyl sulfonate (4), and a method for reusing the compounds and the like used in the separation.

即ち、本発明は以下のとおりである。
[1]
下記一般式(3):

Figure 0007598260000006
(式中、mは0~3の整数、nは1~6の整数)
で表される含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)、又は
下記一般式(4):
Figure 0007598260000007
(式中、mは0~3の整数、nは1~6の整数、MはK、Rb、又はCsである。)
で表される含フッ素ビニルスルホン酸塩(4)の製造方法であり、
下記一般式(1):
Figure 0007598260000008
(式中、mは0~3の整数、nは1~6の整数)
で表される含フッ素ビニルスルホン酸無水物(1)を、
下記一般式(2):
MF (2)
(式中、Mは、K、Rb、又はCsである。)
で表されるアルカリ金属フッ化物(2)に、加熱下で添加して反応させる、
ことを特徴とする、製造方法。
[2]
前記反応の反応温度が、60~250℃、である、[1]に記載の製造方法。
[3]
前記含フッ素ビニルスルホン酸無水物(1)の物質量(α)と前記アルカリ金属フッ化物(2)の物質量(β)の比率(β/α)が、1~100、である、[1]又は[2]に記載の製造方法。
[4]
下記一般式(3):
Figure 0007598260000009
(式中、mは0~3の整数、nは1~6の整数)
で表される含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)の製造方法である、[1]に記載の製造方法。
[5]
下記一般式(4):
Figure 0007598260000010
(式中、mは0~3の整数、nは1~6の整数、MはK、Rb、又はCsである。)
で表される含フッ素ビニルスルホン酸塩(4)の製造方法である、[1]に記載の製造方法。
[6]
前記含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)を分離する工程を含む、[1]に記載の製造方法。
[7]
前記含フッ素スルホン酸フルオリド(3)を蒸留する工程を含む、[6]に記載の製造方法。
[8]
前記含フッ素スルホン酸フルオリド(3)と、抽出化合物とを混合する工程を含む、[6]に記載の製造方法。
[9]
前記抽出化合物が、水、無機塩含有水溶液、アルコール化合物、アミド化合物、及びスルホ化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である、[8]に記載の製造方法。
[10]
前記無機塩含有水溶液が、炭酸塩類、硫酸塩類、チオ硫酸塩類、酢酸塩類、リン酸塩類、クエン酸塩類、酒石酸塩類、及び四ホウ酸塩類からなる群より選ばれる少なくとも1種の無機塩化合物を含む水溶液である、[9]に記載の製造方法。
[11]
前記含フッ素スルホン酸フルオリド(3)の質量(ε)に対する前記抽出化合物の質量(ζ)の比率(ζ/ε)が、0.1~100、である、[8]に記載の製造方法。
[12]
前記含フッ素スルホン酸フルオリド(3)と、抽出化合物とを混合する工程により得られた混合溶液を、静置し、前記含フッ素スルホン酸フルオリド(3)を含む相と、前記抽出化合物を含む相とに分離する工程を含む、[8]に記載の製造方法。
[13]
前記抽出化合物を含む相を、前記含フッ素スルホン酸フルオリド(3)と、抽出化合物とを混合する工程に再利用する、[12]に記載の製造方法。
[14]
前記含フッ素スルホン酸フルオリド(3)を含む相から、含フッ素スルホン酸フルオリド(3)を、蒸留により分離する工程を含む、[12]に記載の製造方法。
[15]
反応残渣を分離する工程を含む、[1]に記載の製造方法。
[16]
前記反応残渣と、溶解化合物とを混合し、含フッ素スルホン酸塩溶解液を調整する工程を含む、[15]に記載の製造方法。
[17]
前記溶解化合物が、エーテル化合物、ケトン化合物、エステル化合物、カーボネート化合物、及びニトリル化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である、[16]に記載の製造方法。
[18]
前記反応残渣の質量(γ)に対する前記溶解化合物の質量(δ)の比率(δ/γ)が、0.01~100である、[16]に記載の製造方法。
[19]
前記含フッ素スルホン酸塩溶解液をろ過し、含フッ素スルホン酸塩含有ろ液を得る工程を含む、[16]に記載の製造方法。
[20]
前記含フッ素スルホン酸塩溶解液をろ過し、アルカリ金属フッ化物(2)を含むろ物を得る工程を含む、[16]に記載の製造方法。
[21]
前記アルカリ金属フッ化物(2)を含むろ物を、前記含フッ素ビニルスルホン酸無水物(1)と反応させる際に再利用する、[20]に記載の製造方法。
[22]
前記含フッ素スルホン酸塩含有ろ液から、前記溶解化合物を含む揮発成分を分離し、前記含フッ素スルホン酸塩(4)を得る工程を含む
ことを特徴とする、[19]に記載の製造方法。
[23]
前記溶解化合物を含む揮発成分を、前記反応残渣と、溶解化合物とを混合し、含フッ素スルホン酸塩溶解液を調整する工程に再利用する、[22]に記載の製造方法。
[24]
前記含フッ素スルホン酸塩含有ろ液に、水を添加し、混合する工程を含む、[19]に記載の製造方法。
[25]
前記含フッ素スルホン酸塩含有ろ液の質量(ι)と水の総質量(κ)の比率(κ/ι)が、0.1~100である、[24]に記載の製造方法。
[26]
前記含フッ素スルホン酸塩含有ろ液に、水を添加し、混合する工程により得られた溶液から、前記溶解化合物を含む揮発成分を分離し、含フッ素スルホン酸塩含有水溶液を調整する工程を含む、[24]に記載の製造方法。
[27]
前記含フッ素スルホン酸塩含有ろ液に、水を添加し、混合する工程により得られた溶液から、前記溶解化合物を含む揮発成分を分離し、含フッ素スルホン酸塩含有水溶液を調整する工程において分離した前記溶解化合物を含む揮発成分から、水を分離する工程を含む、[26]に記載の製造方法。
[28]
前記溶解化合物含む揮発成分を、前記反応残渣と、溶解化合物とを混合し、含フッ素スルホン酸塩溶解液を調整する工程に再利用する、[26]又は[27]に記載の製造方法。
[29]
前記含フッ素スルホン酸塩含有ろ液に、水を添加し、混合する工程により得られた溶液から、前記溶解化合物を含む揮発成分を分離し、含フッ素スルホン酸塩含有水溶液を調整する工程において分離した前記溶解化合物を含む揮発成分から、水を分離する工程において分離した水を、前記含フッ素スルホン酸塩含有ろ液に、水を添加し、混合する工程に再利用する、[24]に記載の製造方法。 That is, the present invention is as follows.
[1]
The following general formula (3):
Figure 0007598260000006
(wherein m is an integer from 0 to 3, and n is an integer from 1 to 6).
Fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (3) represented by the following general formula (4):
Figure 0007598260000007
(In the formula, m is an integer of 0 to 3, n is an integer of 1 to 6, and M is K, Rb, or Cs.)
The present invention relates to a method for producing a fluorine-containing vinyl sulfonate (4) represented by the following formula:
The following general formula (1):
Figure 0007598260000008
(wherein m is an integer from 0 to 3, and n is an integer from 1 to 6).
A fluorine-containing vinyl sulfonic anhydride (1) represented by the following formula:
The following general formula (2):
Midfielder (2)
(In the formula, M is K, Rb, or Cs.)
and reacting the resulting mixture with an alkali metal fluoride (2) represented by the formula:
A manufacturing method comprising:
[2]
The method according to [1], wherein the reaction temperature is 60 to 250° C.
[3]
The production method according to [1] or [2], wherein a ratio (β/α) of the amount of substance (α) of the fluorinated vinyl sulfonic anhydride (1) to the amount of substance (β) of the alkali metal fluoride (2) is 1 to 100.
[4]
The following general formula (3):
Figure 0007598260000009
(wherein m is an integer from 0 to 3, and n is an integer from 1 to 6).
The method for producing a fluorinated vinyl sulfonic acid fluoride (3) represented by the formula (1) is described below.
[5]
The following general formula (4):
Figure 0007598260000010
(In the formula, m is an integer of 0 to 3, n is an integer of 1 to 6, and M is K, Rb, or Cs.)
The method for producing a fluorine-containing vinyl sulfonate (4) represented by the following formula (1):
[6]
The method according to [1], further comprising a step of separating the fluorinated vinyl sulfonic acid fluoride (3).
[7]
The method according to [6], further comprising a step of distilling the fluorine-containing sulfonic acid fluoride (3).
[8]
The method for producing a fluorine-containing sulfonic acid fluoride (3) according to [6], further comprising a step of mixing the fluorine-containing sulfonic acid fluoride (3) with an extraction compound.
[9]
The method according to [8], wherein the extract compound is at least one compound selected from the group consisting of water, an aqueous solution containing an inorganic salt, an alcohol compound, an amide compound, and a sulfo compound.
[10]
The method according to [9], wherein the inorganic salt-containing aqueous solution is an aqueous solution containing at least one inorganic salt compound selected from the group consisting of carbonates, sulfates, thiosulfates, acetates, phosphates, citrates, tartrates, and tetraborates.
[11]
The production method according to [8], wherein the ratio (ζ/ε) of the mass (ζ) of the extracted compound to the mass (ε) of the fluorine-containing sulfonic acid fluoride (3) is 0.1 to 100.
[12]
The production method according to [8], further comprising a step of allowing the mixed solution obtained by the step of mixing the fluorine-containing sulfonic acid fluoride (3) with the extract compound to stand and separating the mixed solution into a phase containing the fluorine-containing sulfonic acid fluoride (3) and a phase containing the extract compound.
[13]
The production method according to [12], wherein the phase containing the extracted compound is reused in the step of mixing the fluorine-containing sulfonic acid fluoride (3) with the extracted compound.
[14]
The production method according to [12], comprising a step of separating the fluorine-containing sulfonic acid fluoride (3) from the phase containing the fluorine-containing sulfonic acid fluoride (3) by distillation.
[15]
The method according to [1], further comprising a step of separating the reaction residue.
[16]
The production method according to [15], comprising a step of mixing the reaction residue with a dissolving compound to prepare a fluorine-containing sulfonate solution.
[17]
The method according to [16], wherein the dissolving compound is at least one compound selected from the group consisting of ether compounds, ketone compounds, ester compounds, carbonate compounds, and nitrile compounds.
[18]
The production method according to [16], wherein the ratio (δ/γ) of the mass (δ) of the dissolved compound to the mass (γ) of the reaction residue is 0.01 to 100.
[19]
The method according to [16], further comprising a step of filtering the solution of the fluorine-containing sulfonate to obtain a filtrate containing the fluorine-containing sulfonate.
[20]
The method according to [16], further comprising a step of filtering the fluorine-containing sulfonate solution to obtain a residue containing the alkali metal fluoride (2).
[21]
The method according to [20], wherein the filter cake containing the alkali metal fluoride (2) is reused in the reaction with the fluorine-containing vinyl sulfonic anhydride (1).
[22]
The production method according to [19], comprising a step of separating a volatile component containing the dissolved compound from the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate to obtain the fluorine-containing sulfonate (4).
[23]
The production method according to [22], wherein the volatile components containing the dissolved compound are reused in a step of mixing the reaction residue with the dissolved compound to prepare a fluorine-containing sulfonate solution.
[24]
The method according to [19], further comprising a step of adding water to the filtrate containing the fluorine-containing sulfonate and mixing the filtrate.
[25]
The production method according to [24], wherein the ratio (κ/ι) of the mass (ι) of the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate to the total mass (κ) of water is 0.1 to 100.
[26]
The production method according to [24], further comprising a step of adding water to the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate, and separating a volatile component containing the dissolved compound from the solution obtained by the step of mixing, thereby preparing an aqueous solution containing a fluorine-containing sulfonate.
[27]
The production method according to [26], further comprising a step of separating a volatile component containing the dissolved compound from a solution obtained by a step of adding water to and mixing the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate, and separating water from the volatile component containing the dissolved compound separated in the step of adjusting an aqueous solution containing a fluorine-containing sulfonate.
[28]
The production method according to [26] or [27], wherein the volatile components containing the dissolved compound are reused in a step of mixing the reaction residue with the dissolved compound to prepare a fluorine-containing sulfonate solution.
[29]
The production method according to [24], wherein a volatile component containing the dissolved compound is separated from a solution obtained by a step of adding water to the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate and mixing, and the water separated in a step of separating water from the volatile component containing the dissolved compound separated in the step of preparing an aqueous solution containing a fluorine-containing sulfonate is reused in the step of adding water to the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate and mixing.

本発明によれば、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)を高い収率で製造することができる。また、含フッ素ビニルスルホン酸塩(4)を製造することができる。さらに、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)、及び含フッ素ビニルスルホン酸塩(4)を分離することができ、分離する際に用いた化合物等を再利用することができる。 According to the present invention, fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (3) can be produced in high yield. In addition, fluorine-containing vinyl sulfonate (4) can be produced. Furthermore, fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (3) and fluorine-containing vinyl sulfonate (4) can be separated, and the compounds used in the separation can be reused.

以下、本発明を実施するための形態(以下、「本実施形態」という。)について詳細に説明する。ただし、本発明は、以下の本実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。 The following provides a detailed description of the embodiment of the present invention (hereinafter, referred to as the "present embodiment"). However, the present invention is not limited to the present embodiment, and can be modified in various ways within the scope of the gist of the present invention.

本実施形態の製造方法は、
下記一般式(3):

Figure 0007598260000011
(式中、mは0~3の整数、nは1~6の整数)
で表される含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)、又は
下記一般式(4):
Figure 0007598260000012
(式中、mは0~3の整数、nは1~6の整数、MはK、Rb、又はCsである。)
で表される含フッ素ビニルスルホン酸塩(4)の製造方法であり、
下記一般式(1):
Figure 0007598260000013
(式中、mは0~3の整数、nは1~6の整数)
で表される含フッ素ビニルスルホン酸無水物(1)を、
下記一般式(2):
MF (2)
(式中、Mは、K、Rb、又はCsである。)
で表されるアルカリ金属フッ化物(2)に、加熱下で添加して反応させる、
ことを特徴とする。 The manufacturing method of this embodiment is as follows:
The following general formula (3):
Figure 0007598260000011
(wherein m is an integer from 0 to 3, and n is an integer from 1 to 6).
Fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (3) represented by the following general formula (4):
Figure 0007598260000012
(In the formula, m is an integer of 0 to 3, n is an integer of 1 to 6, and M is K, Rb, or Cs.)
The present invention relates to a method for producing a fluorine-containing vinyl sulfonate (4) represented by the following formula:
The following general formula (1):
Figure 0007598260000013
(wherein m is an integer from 0 to 3, and n is an integer from 1 to 6).
A fluorine-containing vinyl sulfonic anhydride (1) represented by the following formula:
The following general formula (2):
Midfielder (2)
(In the formula, M is K, Rb, or Cs.)
and reacting the resulting mixture with an alkali metal fluoride (2) represented by the formula:
It is characterized by:

以下、化合物(1)、及び(2)、化合物(3)、又は(4)を製造する際の反応条件等の詳細について説明する。 Details of the reaction conditions for producing compounds (1), (2), (3), or (4) are described below.

<含フッ素ビニルスルホン酸無水物(1)(化合物(1))>
含フッ素ビニルスルホン酸無水物(1)は、下記一般式(1):

Figure 0007598260000014
(式中、mは0~3の整数、nは1~6の整数)
で表される。
含フッ素ビニルスルホン酸無水物(1)は、1種単独であっても、複数種を組み合わせて用いてもよい。 <Fluorine-containing vinyl sulfonic anhydride (1) (compound (1))>
The fluorine-containing vinyl sulfonic anhydride (1) is represented by the following general formula (1):
Figure 0007598260000014
(wherein m is an integer from 0 to 3, and n is an integer from 1 to 6).
It is expressed as:
The fluorine-containing vinyl sulfonic anhydride (1) may be used alone or in combination of two or more kinds.

mとしては、入手又は製造が容易であり、経済性に優れる傾向にあることから、0~1であることが好ましく、0であることがより好ましい。
nとしては、入手又は製造が容易であり、経済性に優れる傾向にあることから、1~4であることが好ましく、2~4であることがより好ましく、2であることがさらに好ましい。
mとnの組み合わせとしては、m=0、n=2であることが、特に好ましい。
As m, 0 to 1 is preferable, and 0 is more preferable, since it tends to be easily available or produced and is economically superior.
As n, it is preferable that n is 1 to 4, more preferably 2 to 4, and even more preferably 2, because n is easily available or produced and tends to be economical.
A particularly preferred combination of m and n is m=0 and n=2.

含フッ素ビニルスルホン酸無水物(1)の製造方法としては、特に限定されず、従来公知の方法で製造することができる。例えば、国際公開第2020/012913号に記載の方法により、製造することができる。 The method for producing the fluorine-containing vinyl sulfonic anhydride (1) is not particularly limited, and it can be produced by a conventionally known method. For example, it can be produced by the method described in WO 2020/012913.

<アルカリ金属フッ化物(2)(化合物2)>
アルカリ金属フッ化物(2)は、下記一般式(2):
MF (2)
(式中、Mは、K、Rb、又はCsである。)
で表される。
アルカリ金属フッ化物(2)は、1種単独であっても、複数種を組み合わせて用いてもよい。
<Alkali Metal Fluoride (2) (Compound 2)>
The alkali metal fluoride (2) is represented by the following general formula (2):
Midfielder (2)
(In the formula, M is K, Rb, or Cs.)
It is expressed as:
The alkali metal fluoride (2) may be used alone or in combination of two or more kinds.

Mとしては、入手が容易であり、経済性に優れる傾向にあることから、K、又はCsがより好ましく、同様の観点からKがさらに好ましい。 As M, K or Cs is more preferred because they are easily available and tend to be economical, and K is even more preferred from the same perspective.

化合物(2)は、必要に応じて、含水量を低減させたものを用いることもできる。
化合物(2)の含水量を低減させる方法としては、一般的に利用できる方法であれば特に限定されないが、加熱する方法、真空下で加熱する方法、乾燥ガス流通下で加熱する方法などが挙げられる。
加熱する温度は、化合物(2)の含水量を低減できる温度であれば特に限定されないが、化合物(2)の分解を抑制できる傾向にあることから、600℃以下であることが好ましい。過剰な加熱を抑制し、より経済性に優れる傾向にあることから、300℃以下であることがより好ましく、同様の観点から250℃以下であることがさらに好ましく、200℃以下であることが特に好ましい。また、含水量の低減が促進する傾向にあることから、100℃以上であることが好ましく、120℃以上であることがより好ましく、150℃以上であることがさらに好ましい。
乾燥ガスとしては、一般的に用いられる乾燥ガスであれば特に限定されず、乾燥空気、乾燥窒素などが挙げられる。
Compound (2) having a reduced water content can also be used, if necessary.
The method for reducing the water content of compound (2) is not particularly limited as long as it is a commonly available method, and examples of the method include a method of heating, a method of heating under vacuum, and a method of heating under a dry gas flow.
The heating temperature is not particularly limited as long as it is a temperature that can reduce the water content of compound (2), but since there is a tendency to suppress the decomposition of compound (2), it is preferably 600° C. or less. Since excessive heating is suppressed and there is a tendency to be more economical, it is more preferably 300° C. or less, and from the same viewpoint, it is even more preferably 250° C. or less, and particularly preferably 200° C. or less. In addition, since there is a tendency to promote the reduction of the water content, it is preferably 100° C. or more, more preferably 120° C. or more, and even more preferably 150° C. or more.
The dry gas is not particularly limited as long as it is a commonly used dry gas, and examples of the dry gas include dry air and dry nitrogen.

含フッ素ビニルスルホン酸無水物(1)と、アルカリ金属フッ化物(2)とを反応させる際、必要に応じて、例えば、エーテル化合物、ニトリル化合物、アミド化合物、スルホ化合物、飽和炭化水素化合物、芳香族炭化水素化合物、ハロゲン化炭化水素化合物、アルコール化合物、ケトン化合物、エステル化合物、及び水等を添加剤として用いることができる。
前記添加剤は1種単独でも、複数種組み合わせて用いてもよい。
前記添加剤は、化合物(1)、及び化合物(2)、若しくはいずれか一方と混合し、用いることもできるし、化合物(1)と化合物(2)との混合物にさらに添加剤を混合して用いることもができる。
When the fluorine-containing vinyl sulfonic anhydride (1) is reacted with the alkali metal fluoride (2), for example, an ether compound, a nitrile compound, an amide compound, a sulfo compound, a saturated hydrocarbon compound, an aromatic hydrocarbon compound, a halogenated hydrocarbon compound, an alcohol compound, a ketone compound, an ester compound, water, or the like can be used as an additive, if necessary.
The additives may be used alone or in combination of two or more.
The additives can be used by mixing with compound (1) and/or compound (2), or the additives can be further mixed into a mixture of compound (1) and compound (2).

前記添加物は、一般的に用いられる化合物であれば特に限定されないが、具体的に例示するならば、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、4-メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジペンチルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジヘプチルエーテル、ジオクチルエーテル、メチルtert-ブチルエーテル、1,4-ジオキサン、1,2-ジメトキシエタン、1,2-ジエトキシエタン、エチレングリコールジブチルエーテル、1,2-ジメトキシプロパン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、及びジプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル化合物、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、2-メチルブチロニトリル、シクロヘキサンカルボニトリル、ベンゾニトリル、アジポニトリル、m-フルオロベンゾニトリル、2,3-ジフルオロベンゾニトリル、2,3,4-トリフルオロベンゾニトリル、2,3,6-トリフルオロベンゾニトリル、2-フルオロ-3-(トリフルオロメチル)ベンゾニトリル、2-フルオロ-4-(トリフルオロメチル)ベンゾニトリル、2-フルオロ-5-(トリフルオロメチル)ベンゾニトリル、3-フルオロ-5-(トリフルオロメチル)ベンゾニトリル、2,3,4,5-テトラフルオロベンゾニトリル、フルオロアセトニトリル、ジフルオロアセトニトリル、2-フルオロベンゾニトリル、2,4,5-トリフルオロベンゾニトリル、o-(トリフルオロメチル)ベンゾニトリル、及びペンタフルオロベンゾニトリル等のニトリル化合物、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、テトラメチルウレア、及び1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のアミド化合物、ジメチルスルホキシド、ジブチルスルホキシド、エチルメチルスルホン、エチルイソプロピルスルホン、スルホラン、及び3-メチルスルホラン等のスルホ化合物、n-ペンタン、n-ヘキサン、イソヘキサン、n-ヘプタン、n-オクタン、イソオクタン、n-ノナン、n-デカン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、及びシクロオクタン等の飽和炭化水素化合物、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ナフタリン、テトラリン、及びビフェニル等の芳香族炭化水素化合物、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、塩化エチレン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、ヘキサクロロエタン、ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、ジクロロプロパン、トリクロロプロパン、塩化イソプロピル、塩化ブチル、塩化ヘキシル、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、クロロトルエン、及びクロロナフタリン等のハロゲン化炭化水素化合物、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、シクロヘキサノール、及びベンジルアルコール等のアルコール化合物、アセトン、メチルアセトン、エチルメチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルヘキシルケトン、ジエチルケトン、エチルブチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、及びシクロヘキサノン等のケトン化合物、及び酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチル、酢酸ヘキシル、酢酸オクチル、酢酸シクロヘキシル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、及び安息香酸ベンジル等のエステル化合物が挙げられる。 The additive is not particularly limited as long as it is a commonly used compound, but specific examples include ether compounds such as tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, tetrahydropyran, 4-methyltetrahydropyran, cyclopentyl methyl ether, diethyl ether, dipropyl ether, dibutyl ether, dipentyl ether, dihexyl ether, diheptyl ether, dioctyl ether, methyl tert-butyl ether, 1,4-dioxane, 1,2-dimethoxyethane, 1,2-diethoxyethane, ethylene glycol dibutyl ether, 1,2-dimethoxypropane, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol isopropyl methyl ether, diethylene glycol butyl methyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol butyl methyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, and dipropylene glycol dimethyl ether, acetonitrile, Nitrile compounds such as propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, 2-methylbutyronitrile, cyclohexanecarbonitrile, benzonitrile, adiponitrile, m-fluorobenzonitrile, 2,3-difluorobenzonitrile, 2,3,4-trifluorobenzonitrile, 2,3,6-trifluorobenzonitrile, 2-fluoro-3-(trifluoromethyl)benzonitrile, 2-fluoro-4-(trifluoromethyl)benzonitrile, 2-fluoro-5-(trifluoromethyl)benzonitrile, 3-fluoro-5-(trifluoromethyl)benzonitrile, 2,3,4,5-tetrafluorobenzonitrile, fluoroacetonitrile, difluoroacetonitrile, 2-fluorobenzonitrile, 2,4,5-trifluorobenzonitrile, o-(trifluoromethyl)benzonitrile, and pentafluorobenzonitrile; N,N-dimethylformamide, N,N-diethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N,N-diethylacetamide, N-methyl amide compounds such as dimethylsulfoxide, dibutylsulfoxide, ethylmethylsulfone, ethylisopropylsulfone, sulfolane, and 3-methylsulfolane; saturated hydrocarbon compounds such as n-pentane, n-hexane, isohexane, n-heptane, n-octane, isooctane, n-nonane, n-decane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, and cyclooctane; aromatic hydrocarbon compounds such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, diethylbenzene, isopropylbenzene, naphthalene, tetralin, and biphenyl; methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, ethylene chloride, trichloroethane, tetrachloroethane, pentachloroethane, hexachloroethane, dichloroethylene, trichloroethylene, tetrachloroethylene, dichloropropane, trichloropropane, isopropyl chloride, butyl chloride, hexyl chloride, chlorobenzene, dichlorobenzene, Examples of the organic solvent include halogenated hydrocarbon compounds such as benzene, trichlorobenzene, chlorotoluene, and chloronaphthalene; alcohol compounds such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, pentanol, hexanol, heptanol, octanol, nonanol, decanol, undecanol, dodecanol, cyclohexanol, and benzyl alcohol; ketone compounds such as acetone, methylacetone, ethyl methyl ketone, methyl propyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl hexyl ketone, diethyl ketone, ethyl butyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, and cyclohexanone; and ester compounds such as ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, pentyl acetate, hexyl acetate, octyl acetate, cyclohexyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, butyl propionate, methyl benzoate, ethyl benzoate, propyl benzoate, butyl benzoate, and benzyl benzoate.

前記添加剤は、必要に応じて、含水量を低減させたものを用いることもできる。
含水量が少ない添加剤は、購入することもできるし、添加剤の含水量を減少させる方法を利用することもできる。添加剤の含水量を減少させる方法としては、一般的に利用できる方法であれば特に限定されないが、例えば、脱水剤を利用する方法、蒸留する方法などが挙げられる。
脱水剤としては、一般的に用いられる脱水剤であれば特に限定されないが、水素化ナトリウム、硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、塩化カルシウム、塩化亜鉛、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、五酸化二リン、活性アルミナ、シリカゲル、及びモレキュラーシーブなどが挙げられる。脱水剤を用いた場合、化合物(1)と化合物(2)との反応に影響がなければ脱水剤を含んだ添加剤を利用してもよいし、ろ過などにより脱水剤を含まない添加剤を利用してもよい。
The additives may have a reduced water content, if necessary.
Additives with low water content can be purchased, or a method for reducing the water content of the additive can be used. The method for reducing the water content of the additive is not particularly limited as long as it is a commonly available method, and examples thereof include a method using a dehydrating agent and a distillation method.
The dehydrating agent is not particularly limited as long as it is a commonly used dehydrating agent, and examples thereof include sodium hydride, magnesium sulfate, sodium sulfate, calcium sulfate, calcium chloride, zinc chloride, calcium oxide, magnesium oxide, diphosphorus pentoxide, activated alumina, silica gel, molecular sieve, etc. When a dehydrating agent is used, an additive containing a dehydrating agent may be used as long as it does not affect the reaction between compound (1) and compound (2), or an additive that does not contain a dehydrating agent after filtration or the like may be used.

<化合物(1)の物質量(α)に対する化合物(2)の物質量(β)の比率(β/α)>
化合物(1)の物質量(α)に対する化合物(2)の物質量(β)の比率(β/α)は、化合物(3)の収量が増える傾向にあり、化合物(3)を製造する方法の経済性が優れる傾向にあることから、0.5以上であることが好ましく、0.8以上であることがより好ましい。未反応の化合物(1)が残ることを抑制できる傾向にあることから、1以上であることがさらに好ましい。
<Ratio (β/α) of the amount of substance (β) of compound (2) to the amount of substance (α) of compound (1)>
The ratio (β/α) of the amount of substance (β) of compound (2) to the amount of substance (α) of compound (1) is preferably 0.5 or more, more preferably 0.8 or more, since the yield of compound (3) tends to increase and the economic efficiency of the method for producing compound (3) tends to be excellent, and further preferably 1 or more, since the amount of unreacted compound (1) tends to be suppressed.

化合物(1)の物質量(α)に対する化合物(2)の物質量(β)の比率(β/α)の上限は、特に限定されないが、化合物(2)の使用量が低減され、化合物(3)を製造する方法の経済性が優れる傾向にあることから、β/αが100以下であることが好ましく、同様の観点から、β/αが50以下であることがより好ましく、β/αが10以下であることがさらに好ましい。 The upper limit of the ratio (β/α) of the amount of substance (β) of compound (2) to the amount of substance (α) of compound (1) is not particularly limited, but since the amount of compound (2) used is reduced and the method for producing compound (3) tends to be more economical, it is preferable that β/α is 100 or less, and from the same viewpoint, it is more preferable that β/α is 50 or less, and even more preferable that β/α is 10 or less.

<化合物(1)と化合物(2)との反応>
本実施形態の明細書において、反応温度とは、化合物(2)を内包する容器、若しくは化合物(1)と化合物(2)とを反応させる容器を、外部より加熱する際の温度のことである。反応温度は、一般的に用いられる範囲であれば特に限定されないが、60~250℃であることが好ましい。
化合物(2)の種類によっては、化合物(1)との反応性が高まる傾向にあることから、70℃以上であることがより好ましく、80℃以上であることがさらに好ましく、90℃以上であることが特に好ましい。
化合物(1)、及び/又は化合物(3)の種類によっては、熱による劣化が抑制され、化合物(3)を製造する方法の経済性が優れる傾向にあることから、200℃以下であることがより好ましく、170℃以下であることがさらに好ましく、160℃以下であることが特に好ましい。
化合物(1)と化合物(2)の反応温度は、上記範囲であれば一定である必要はなく、途中で変化させてもよい。
<Reaction of Compound (1) and Compound (2)>
In the present embodiment, the reaction temperature refers to the temperature at which a container containing compound (2) or a container in which compound (1) and compound (2) are reacted is heated from the outside. The reaction temperature is not particularly limited as long as it is within a commonly used range, but is preferably 60 to 250° C.
Depending on the type of compound (2), the reactivity with compound (1) tends to increase, so the temperature is more preferably 70°C or higher, even more preferably 80°C or higher, and particularly preferably 90°C or higher.
Depending on the types of compound (1) and/or compound (3), deterioration due to heat is suppressed, and the method for producing compound (3) tends to be economically advantageous. For this reason, the temperature is more preferably 200° C. or lower, even more preferably 170° C. or lower, and particularly preferably 160° C. or lower.
The reaction temperature of the compound (1) and the compound (2) does not need to be constant so long as it is within the above range, and may be changed during the reaction.

化合物(1)を化合物(2)に添加する時間は、一般的に用いられる範囲であれば特に限定されないが、化合物(1)と化合物(2)との急激な反応による副反応が抑制される観点から、5分以上が好ましく、10分以上がより好ましく、15分以上がさらに好ましい。また、化合物(1)の反応が完了して化合物(1)が存在しなくなり、化合物(1)と化合物(2)とが反応しない状態が長く継続するような過剰な添加する時間としないことで、経済性により優れる製造方法となる傾向にあることから、化合物(1)を化合物(2)に添加する時間は、100時間以下であることが好ましく、50時間以下であることがより好ましく、10時間以下であることがさらに好ましく、5時間以下であることが特に好ましい。 The time for adding compound (1) to compound (2) is not particularly limited as long as it is within the range generally used, but from the viewpoint of suppressing side reactions due to the rapid reaction of compound (1) with compound (2), it is preferably 5 minutes or more, more preferably 10 minutes or more, and even more preferably 15 minutes or more. In addition, by avoiding an excessive addition time in which the reaction of compound (1) is completed and compound (1) no longer exists, and the state in which compound (1) and compound (2) do not react continues for a long time, a manufacturing method with better economics tends to be obtained. Therefore, the time for adding compound (1) to compound (2) is preferably 100 hours or less, more preferably 50 hours or less, even more preferably 10 hours or less, and particularly preferably 5 hours or less.

化合物(1)を化合物(2)に添加する速度(使用した化合物(1)の質量を添加した時間で除した値、を意味する)は、一般的に用いられる範囲であれば特に限定されないが、化合物(1)の反応が完了して化合物(1)が存在しなくなり、化合物(1)と化合物(2)とが反応しない状態が長く継続するような過剰な添加する時間としないことで、経済性により優れる製造方法となる傾向にあることから、0.01g/min以上であることが好ましく、0.1g/min以上であることがより好ましく、0.3g/min以上であることがさらに好ましく、0.5g/min以上であることが特に好ましい。化合物(1)と化合物(2)との急激な反応による副反応が抑制される観点から、化合物(1)を化合物(2)に添加する速度は、1000g/min以下であることが好ましく、100g/min以下であることがより好ましく、50g/min以下であることがさらに好ましく、30g/min以下であることが特に好ましい。
化合物(1)を化合物(2)に添加する速度は、上記範囲であれば一定である必要はなく、途中で変化させてもよい。化合物(1)の添加初期は、化合物(1)と化合物(2)との反応が生じやすいものの、化合物(1)の添加後期は、化合物(1)と化合物(2)との反応が生じにくくなることから、添加初期は添加する速度を遅くし、添加後期にかけて添加する速度を上げる方法が好ましい場合がある。
The rate of adding compound (1) to compound (2) (meaning the value obtained by dividing the mass of compound (1) used by the time of addition) is not particularly limited as long as it is within a commonly used range, but since the reaction of compound (1) is completed and compound (1) no longer exists, and the state in which compound (1) and compound (2) do not react continues for a long time, the production method tends to be more economical, so the rate is preferably 0.01 g/min or more, more preferably 0.1 g/min or more, even more preferably 0.3 g/min or more, and particularly preferably 0.5 g/min or more. From the viewpoint of suppressing side reactions due to the rapid reaction of compound (1) and compound (2), the rate of adding compound (1) to compound (2) is preferably 1000 g/min or less, more preferably 100 g/min or less, even more preferably 50 g/min or less, and particularly preferably 30 g/min or less.
The rate at which compound (1) is added to compound (2) does not need to be constant as long as it is within the above range, and may be changed during the process. At the beginning of the addition of compound (1), the reaction between compound (1) and compound (2) is likely to occur, but at the later stage of the addition of compound (1), the reaction between compound (1) and compound (2) is unlikely to occur. Therefore, it may be preferable to slow down the addition rate at the beginning of the addition and increase the addition rate toward the later stage of the addition.

化合物(2)に対する、化合物(1)を化合物(2)に添加する速度(使用した化合物(1)の質量を添加した時間と使用した化合物(2)の質量で除した値、を意味する)は、一般的に用いられる範囲であれば特に限定されないが、化合物(1)の反応が完了して化合物(1)が存在しなくなり、化合物(1)と化合物(2)とが反応しない状態が長く継続するような過剰な添加する時間としないことで、経済性により優れる製造方法となる傾向にあることから、0.01g/min/g以上であることが好ましく、0.1g/min/g以上であることがより好ましく、0.5g/min/g以上であることがさらに好ましく、1g/min/g以上であることが特に好ましい。化合物(1)と化合物(2)との急激な反応による副反応が抑制される観点から、化合物(2)に対する、化合物(1)を化合物(2)に添加する速度は、1000g/min/g以下であることが好ましく、100g/min/g以下であることがより好ましく、50g/min/g以下であることがさらに好ましく、30g/min/g以下であることが特に好ましい。
化合物(2)に対する、化合物(1)を化合物(2)に添加する速度は、上記範囲であれば一定である必要はなく、途中で変化させてもよい。
The rate of addition of compound (1) to compound (2) (meaning the value obtained by dividing the time for adding the mass of compound (1) used by the mass of compound (2) used) is not particularly limited as long as it is within a commonly used range. However, since a production method with better economic efficiency tends to be achieved by avoiding an excessive addition time in which the reaction of compound (1) is completed and compound (1) no longer exists, and a state in which compound (1) and compound (2) do not react continues for a long time, the rate is preferably 0.01 g/min/g or more, more preferably 0.1 g/min/g or more, even more preferably 0.5 g/min/g or more, and particularly preferably 1 g/min/g or more. From the viewpoint of suppressing a side reaction due to a rapid reaction between compound (1) and compound (2), the rate at which compound (1) is added to compound (2) is preferably 1000 g/min/g or less, more preferably 100 g/min/g or less, even more preferably 50 g/min/g or less, and particularly preferably 30 g/min/g or less.
The rate at which compound (1) is added to compound (2) does not need to be constant so long as it is within the above range, and may be changed during the addition.

化合物(1)の添加が完了した後、化合物(1)と化合物(2)とを含む混合物を反応させる時間は、一般的に用いられる範囲であれば特に限定されないが、化合物(3)の収率の安定性がより高まることから、0.1時間以上であることが好ましく、0.3時間以上であることがより好ましく、0.5時間以上であることがさらに好ましい。過剰な反応時間としないことで、経済性により優れる製造方法となる傾向にあることから、100時間以下であることが好ましく、同様の観点から50時間以下であることがより好ましく、10時間以下であることがさらに好ましく、5時間以下であることが特に好ましい。 After the addition of compound (1) is completed, the time for reacting the mixture containing compound (1) and compound (2) is not particularly limited as long as it is within a commonly used range, but since the stability of the yield of compound (3) is further increased, it is preferably 0.1 hours or more, more preferably 0.3 hours or more, and even more preferably 0.5 hours or more. Since avoiding an excessive reaction time tends to result in a more economical production method, it is preferably 100 hours or less, and from the same viewpoint, it is more preferably 50 hours or less, even more preferably 10 hours or less, and particularly preferably 5 hours or less.

化合物(1)と化合物(2)とを反応させる際の圧力は、通常用いられる範囲であれば特に限定されず、加圧、大気圧、減圧のいずれでもよく、反応中に途中で変化させてもよい。化合物(1)の種類によっては、反応温度において、揮発する場合があり、化合物(1)を液化させ、再利用できない場合には、大気圧以上の加圧を行うことが有効な手段である。生成する化合物(3)を、化合物(1)と化合物(2)との反応中に分離する場合には、大気圧、減圧のいずれかが好ましい。化合物(3)の分離を促進する観点からは、減圧であることがより好ましい。 The pressure when reacting compound (1) with compound (2) is not particularly limited as long as it is within the range normally used, and may be pressurized, atmospheric pressure, or reduced pressure, and may be changed during the reaction. Depending on the type of compound (1), it may volatilize at the reaction temperature. If compound (1) cannot be liquefied and reused, pressurization to atmospheric pressure or higher is an effective method. If the resulting compound (3) is to be separated during the reaction between compound (1) and compound (2), either atmospheric pressure or reduced pressure is preferable. From the viewpoint of promoting the separation of compound (3), reduced pressure is more preferable.

化合物(1)と化合物(2)との反応の雰囲気は、通常用いられる雰囲気であれば特に限定されず、通常は大気雰囲気、窒素雰囲気、及びアルゴン雰囲気等が用いられる。これらの中でも、より安全に化合物(3)を製造できる傾向にあることから、窒素雰囲気及びアルゴン雰囲気が好ましい。また、より経済性に優れる製造方法となる傾向にあることから、窒素雰囲気がより好ましい。化合物(3)の分離を促進できる傾向にあることから、流通した雰囲気とすることが好ましい方法として用いられる場合がある。
反応雰囲気は、1種単独で用いてもよいし、複数種の反応雰囲気を組み合わせて用いてもよい。
The atmosphere for the reaction of compound (1) and compound (2) is not particularly limited as long as it is a commonly used atmosphere, and usually, air atmosphere, nitrogen atmosphere, argon atmosphere, etc. are used. Among these, nitrogen atmosphere and argon atmosphere are preferred because they tend to produce compound (3) more safely. In addition, nitrogen atmosphere is more preferred because it tends to be a more economical production method. A circulating atmosphere may be used as a preferred method because it tends to promote the separation of compound (3).
The reaction atmosphere may be used alone or in combination of a plurality of reaction atmospheres.

化合物(1)と化合物(2)とを反応させる際に用いられる方法としては、一般的に用いられる方法であれば特に限定されないが、混合槽方式(横型、竪型)、攪拌軸数(2軸、3軸、4軸)、攪拌翼形状(例えば、ファン、プロペラ、十字、バタフライ、とんぼ、タービン、ディスクタービン、ディスパ、パドル、傾斜パドル、ヘリカル、ダブルヘリカル、リボン、ストレートブレード、45°ひねりブレード、90°ひねりブレード等)、混合槽へのバッフルの設置等が挙げられる。
より具体的に化合物(1)と化合物(2)とを反応させる際に用いられる装置を例示するならば、日本スピンドル製造株式会社製加圧型ニーダー、ワンダーニーダー、混練試験装置ミックスラボ、小容量加圧型ニーダー、MS式小型加圧ニーダー、双腕型ニーダー、バルブ付ニーダー、ニーダールーダー、特殊加圧型ニーダー、減圧式加圧型ニーダー、2軸テーパー押出機、2軸1軸押出機、及びフィーダールーダー、株式会社栗本鐵工所製KRCニーダ、バッチニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダ、CDドライヤ、SCプロセッサ、及びCDドライヤ、井上製作所株式会社製BDM2軸ミキサー、バタフライミキサー、CDM同芯2軸ミキサー、ポニーミキサー、トリミックス、プラネタリーミキサー、PDミキサー、ニーダー、フラッシングニーダー、ソルトミリングニーダー、加圧ニーダー、及びKXニーダー、太平洋機工株式会社製パムアペックスミキサ、スーパーダブルミキサ、株式会社西村機械製竪型ミキサー、リボンミキサー、高速パドルミキサー、及びパドルスミキサー、ホソカワミクロン株式会社製バイトミックス、ナウタミキサ、ソリッドエアー、ミクロンサーモプロセッサ、及びトーラスディスク、株式会社奈良機械製作所製パドルドライヤー、シングルパドルドライヤー、ブーノクーラー、マルチフィンプロセッサー、エクストルーダー、及び高速攪拌混合造粒機、株式会社神鋼環境ソリューション製PVミキサー、及びSVミキサー、株式会社大川原製作所製リボコーン、及びフロージェットグラニュレータ、株式会社日本製鋼所製二軸混練押出機、プライミクス株式会社製ハイビスミックス、ハイビスディスパーミックス、及びコンビミックス、株式会社愛工舎製作所製ACMシリーズ、株式会社品川工業所製混合撹拌機、ツインサーボミキサー、エスニーダー、球型ニーダー、球型斜軸ニーダー、及び高速混練造粒機、日本アイリッヒ株式会社製インテンシブミキサー、及びエバクテルム、杉山重工株式会社製アキシャルミキサー、及びヘミスフィアミキサー、カツラギ工業株式会社製真空式攪拌乾燥機、株式会社ヤスジマ製真空式攪拌乾燥機、株式会社エムアイジー製ミキサー、半加圧ニーダ、ニーダールーダー、及び真空押出機、株式会社栗本鐵工所製KIDドライヤ、ロートルーバドライヤ、ロータリードライヤ、及びロータリーキルン、株式会社神鋼環境ソリューション製コニカルドライヤー、高砂工業株式会社製電気加熱式ロータリキルン、ガス加熱式ロータリキルン、バッチ式ロータリキルン、デスクトップロータリキルン、真空デスクトップロータリキルン、及び特殊雰囲気+真空ロータリキルン、株式会社大川原製作所製スーパーロータリードライヤー、及びエコドライヤー、杉山重工株式会社製ロータリーキルン、及びダブルコーンミキサー、カツラギ工業株式会社製ダブルコーンドライヤ、株式会社ヤスジマ製ロータリーキルン等が挙げられる。
混合する装置は、1種単独で用いてもよいし、複数種の混合する装置を組み合わせて用いてもよい。
The method used in reacting compound (1) and compound (2) is not particularly limited as long as it is a commonly used method, and examples thereof include a mixing tank system (horizontal type, vertical type), the number of stirring shafts (two shafts, three shafts, four shafts), the shape of a stirring blade (for example, fan, propeller, cross, butterfly, dragonfly, turbine, disk turbine, disperse, paddle, inclined paddle, helical, double helical, ribbon, straight blade, 45° twist blade, 90° twist blade, etc.), and the installation of a baffle in a mixing tank.
More specifically, examples of the apparatuses used in reacting compound (1) with compound (2) include a pressure kneader, Wonder kneader, kneading test device Mixlab, small-volume pressure kneader, MS-type small pressure kneader, twin-arm kneader, valve-equipped kneader, kneader ruder, special pressure kneader, reduced-pressure pressure kneader, twin-screw taper extruder, twin-screw single-screw extruder, and feeder ruder, all of which are manufactured by Nihon Spindle Mfg. Co., Ltd.; a KRC kneader, batch kneader, pressure kneader, extruder, CD dryer, SC processor, and CD dryer, all of which are manufactured by Kurimoto Iron Works, Ltd.; and a BDM twin-screw mixer, butterfly mixer, CDM concentric twin-screw mixer, pony mixer, and trimmer, all of which are manufactured by Inoue Seisakusho Co., Ltd. Mixer, planetary mixer, PD mixer, kneader, flushing kneader, salt milling kneader, pressure kneader, and KX kneader manufactured by Pacific Machinery Co., Ltd., Pam Apex mixer, Super double mixer, vertical mixer, ribbon mixer, high-speed paddle mixer, and paddle mixer manufactured by Nishimura Machinery Co., Ltd., Byte mix, Nauta mixer, Solid air, Micron thermo processor, and Torus disk manufactured by Hosokawa Micron Co., Ltd., paddle dryer, single paddle dryer, Buno cooler, multi-fin processor, extruder, and high-speed stirring mixer granulator manufactured by Nara Machinery Co., Ltd., PV mixer, and S manufactured by Kobelco Eco-Solutions Co., Ltd. V mixer, Ribocone and Flowjet granulator manufactured by Okawara Manufacturing Co., Ltd., twin-screw kneading extruder manufactured by Japan Steel Works, Ltd., Hivismix, Hivisdispermix, and Combimix manufactured by Primix Corporation, ACM series manufactured by Aikosha Manufacturing Co., Ltd., mixer, twin servo mixer, S kneader, spherical kneader, spherical inclined axis kneader, and high-speed kneading granulator manufactured by Shinagawa Kogyosho Co., Ltd., intensive mixer and Evactherm manufactured by Nippon Eirich Co., Ltd., axial mixer and Hemisphere mixer manufactured by Sugiyama Heavy Industries Co., Ltd., vacuum mixer dryer manufactured by Katsuragi Kogyo Co., Ltd., vacuum mixer dryer manufactured by Yasujima Co., Ltd., mixer, semi-pressurized knee Examples of suitable dryers include kneader-ruders, kneader-ruders, and vacuum extruders, KID dryers, roto-louver dryers, rotary dryers, and rotary kilns manufactured by Kurimoto Iron Works, Ltd., conical dryers manufactured by Kobelco Eco-Solutions Co., Ltd., electrically heated rotary kilns, gas heated rotary kilns, batch rotary kilns, desktop rotary kilns, vacuum desktop rotary kilns, and special atmosphere + vacuum rotary kilns manufactured by Takasago Industrial Co., Ltd., super rotary dryers and eco dryers manufactured by Okawara Manufacturing Co., Ltd., rotary kilns and double cone mixers manufactured by Sugiyama Heavy Industries Co., Ltd., double cone dryers manufactured by Katsuragi Kogyo Co., Ltd., and rotary kilns manufactured by Yasujima Corporation.
The mixing device may be used alone or in combination of a plurality of types of mixing devices.

化合物(1)を添加する方法としては、自重を利用して添加する方法や、加圧して添加する方法や、送液ポンプ(例えば、スムーズフローポンプ、モータ駆動定量ポンプ、ソレノイド駆動定量ポンプ、エア駆動ポンプ、ダイナミックバキュームポンプ、チューブポンプ、スラリーポンプ、マグネットポンプ、空気駆動ベローズポンプ、電磁駆動定量ポンプ、回転容積ポンプ等が挙げられる)を用いて添加する方法等が例示できる。化合物(1)を添加する速度の制御性に優れる傾向にあることから、送液ポンプを用いる方法が好ましい。 Examples of methods for adding compound (1) include adding it by using its own weight, adding it by applying pressure, and adding it using a liquid delivery pump (e.g., a smooth flow pump, a motor-driven metering pump, a solenoid-driven metering pump, an air-driven pump, a dynamic vacuum pump, a tube pump, a slurry pump, a magnet pump, an air-driven bellows pump, an electromagnetically-driven metering pump, a rotary volumetric pump, etc.). The method of using a liquid delivery pump is preferred because it tends to have excellent controllability over the rate at which compound (1) is added.

上述の各装置や添加手段、容器等(例えば、化合物(1)と化合物(2)とを反応させる装置、自重を利用して化合物(1)を添加する際の容器、及び化合物(1)を添加する際に用いる送液ポンプ等)、それぞれを接続する配管等について、化合物(1)、及び/又は化合物(2)と接触する場所に用いられる材質としては、一般的に用いられる材質であれば特に限定されないが、金属、金属合金、樹脂、金属と樹脂との複合材、セラミック等が例示される。より具体的に例示するならば、チタン、ニッケル、ジルコニア、白金、炭素鋼、合金鋼、鋳鉄、ステンレス鋼(SUS304、SUS304L、SUS430、SUS410、SUS316、SUS316L、SUS329J1、SUS329J4L等)、ニッケルチタン合金、ニッケルクロムモリブデン合金(インコネル(登録商標)600、625、718、X750等、ハステロイ(登録商標)C-22、C276等)、ニッケル銅合金(モネル(登録商標)400、K、S、H、ニッケルヴァック(登録商標)400、ニコロス(登録商標)400等)、ニッケルコバルトクロムモリブデン合金、ニッケルモリブデン合金(ハステロイ(登録商標)ALLOY B2、B等)、ニッケルコバルト合金、ニッケル鉄合金、ニッケルタングステン合金、コバルトクロム合金、コバルトクロムモリブデン合金(エルギロイ(ELGILOY)、フィノックス(PHYNOX)(登録商標)等、プラチナ富化ステンレススチール、フッ素系樹脂(テフロン(登録商標)、四フッ化エチレンとパーフルオロアルコキシエチレンとの共重合体、パーフルオロエチレンプロペンコポリマー、エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー、ポリビニリデンフルオライド、ポリクロロトリフルオロエチレン、エチレンクロロトリフルオロエチレンコポリマー等)、ポリエーテルエーテルケトン、ポリプロピレン、ポリフェニレンエーテル、ポリアミド6、ポリアミド66、芳香族ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド等が挙げられる。
前記の材質は1種単独でも、複数種を組み合わせて用いてもよい。
Regarding the above-mentioned respective devices, adding means, containers, etc. (for example, a device for reacting compound (1) with compound (2), a container for adding compound (1) by utilizing its own weight, and a liquid-transfer pump for adding compound (1), etc.), and piping and the like connecting each of them, materials used in the places in contact with compound (1) and/or compound (2) are not particularly limited as long as they are commonly used materials, and examples thereof include metals, metal alloys, resins, composite materials of metals and resins, ceramics, etc. More specific examples include titanium, nickel, zirconia, platinum, carbon steel, alloy steel, cast iron, stainless steel (SUS304, SUS304L, SUS430, SUS410, SUS316, SUS316L, SUS329J1, SUS329J4L, etc.), nickel-titanium alloys, nickel-chromium-molybdenum alloys (Inconel (registered trademark) 600, 625, 718, X750, etc., Hastelloy (registered trademark) C-22, C276, etc.), nickel-cobalt alloys (Monel (registered trademark) 400, K, S, H, Nickelvac (registered trademark) 400, Nikoros (registered trademark) 400, etc.), nickel-cobalt chromium-molybdenum alloys, nickel-molybdenum alloys (Hastelloy (registered trademark) ALLOY B2, B, etc.), nickel-cobalt alloys, nickel-iron alloys, nickel-tungsten alloys, cobalt-chromium alloys, cobalt-chromium-molybdenum alloys (ELGILOY, PHYNOX (registered trademark), etc.), platinum-enriched stainless steel, fluorine-based resins (Teflon (registered trademark), copolymers of tetrafluoroethylene and perfluoroalkoxyethylene, perfluoroethylene propene copolymers, ethylene tetrafluoroethylene copolymers, polyvinylidene fluoride, polychlorotrifluoroethylene, ethylene chlorotrifluoroethylene copolymers, etc.), polyether ether ketone, polypropylene, polyphenylene ether, polyamide 6, polyamide 66, aromatic polyamide, polyphenylene sulfide, polysulfone, polyether sulfone, polyether imide, polyamide imide, etc.
The above materials may be used alone or in combination of two or more.

化合物(1)と化合物(2)とを反応させることで、化合物(3)と共に化合物(4)も生成する。化合物(3)と化合物(4)は、燃料電池用隔膜、燃料電池用触媒バインダーポリマー、食塩電解用隔膜等の主要成分であるフッ素系高分子電解質の原料や、各種のフッ素化合物に変換することができる原料として有用な化合物であることが知られているが、利用する際には、化合物(3)と化合物(4)とを分離し、それぞれの化合物として利用できることが、一般的には求められる。 Compound (1) and compound (2) are reacted to produce compound (3) and compound (4). Compound (3) and compound (4) are known to be useful compounds as raw materials for fluorine-based polymer electrolytes, which are the main components of membranes for fuel cells, catalyst binder polymers for fuel cells, membranes for salt electrolysis, etc., and as raw materials that can be converted into various fluorine compounds. However, when using them, it is generally required to separate compound (3) and compound (4) and use them as each compound.

化合物(3)を分離する方法としては、一般的に用いられる方法であれば特に限定されないが、化合物(1)と化合物(2)とを反応させながら、化合物(3)を留去し、分離する方法や、化合物(1)と化合物(2)との反応が終了した後、化合物(3)を留去し、分離する方法や、化合物(3)は溶解できるが、化合物(4)は溶解できない化合物により、化合物(3)を含む溶液とし、溶解に用いた化合物を除去し、化合物(3)を分離する方法等が例示できる。これらの中でも、煩雑な操作が必要なく、化合物(3)を分離できることから、化合物(1)と化合物(2)とを反応させながら、化合物(3)を留去し、分離する方法が好ましい。化合物(1)と化合物(2)とを反応させながら、化合物(3)を留去する際、反応温度が化合物(3)を留去できる温度である場合には、常圧で行ってもよいし、常圧で化合物(3)に不活性な気体(例えば、窒素)を流通させてもよいし、減圧で行ってもよいし、減圧で化合物(3)に不活性な気体(例えば、窒素)を流通させてもよい。また、反応温度が化合物(3)を留去するには不十分な温度である場合には、常圧で化合物(3)に不活性な気体(例えば、窒素)を流通させてもよいし、減圧で行ってもよいし、減圧で化合物(3)に不活性な気体(例えば、窒素)を流通させてもよい。 The method for separating compound (3) is not particularly limited as long as it is a commonly used method, but examples include a method in which compound (1) and compound (2) are reacted while compound (3) is distilled off and separated, a method in which compound (3) is distilled off and separated after the reaction between compound (1) and compound (2) is completed, and a method in which a solution containing compound (3) is made using a compound that can dissolve compound (3) but not compound (4), the compound used for dissolving the compound is removed, and compound (3) is separated. Among these, the method in which compound (3) is distilled off and separated while compound (1) and compound (2) are reacted is preferred because it does not require complicated operations and can separate compound (3). When compound (3) is distilled off while reacting compound (1) with compound (2), if the reaction temperature is a temperature at which compound (3) can be distilled off, the reaction may be carried out at normal pressure, or an inert gas (e.g., nitrogen) may be passed through compound (3) at normal pressure, or the reaction may be carried out at reduced pressure, or an inert gas (e.g., nitrogen) may be passed through compound (3) at reduced pressure. If the reaction temperature is insufficient to distill off compound (3), an inert gas (e.g., nitrogen) may be passed through compound (3) at normal pressure, or the reaction may be carried out at reduced pressure, or an inert gas (e.g., nitrogen) may be passed through compound (3) at reduced pressure.

前記の化合物(3)は溶解できるが、化合物(4)は溶解できない化合物としては、一般艇に用いられる化合物であれば特に限定されないが、n-ペンタン、n-ヘキサン、イソヘキサン、n-ヘプタン、n-オクタン、イソオクタン、n-ノナン、n-デカン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ナフタリン、テトラリン、ビフェニル、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、塩化エチレン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、ヘキサクロロエタン、ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、ジクロロプロパン、トリクロロプロパン、塩化イソプロピル、塩化ブチル、塩化ヘキシル、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、クロロトルエン、クロロナフタリン等の炭化水素化合物、ハイドロフルオロエーテル類、ハイドロフルオロカーボン類、ハイドロフルオロオレフィン類、ハイドロクロロフルオロカーボン類、ハイドロクロロフルオロオレフィン類等のフッ素系化合物(より具体的には、3M社製Novec(登録商標)シリーズ、及びフロリナート(登録商標)シリーズ、ケマーズ社製バートレル(登録商標)シリーズ、ソルベイ社製ソルカン(登録商標)、AGC株式会社製アサヒクリン(登録商標)シリーズ、及びアモレア(登録商標)シリーズ、セントラル硝子株式会社製セレフィン(登録商標))が例示できる。
化合物(3)は溶解できるが、化合物(4)は溶解できない化合物は、1種単独でも、複数種組み合わせて用いてもよい。
The compound capable of dissolving the compound (3) but not the compound (4) is not particularly limited as long as it is a compound used in general boats, and examples of the compound include n-pentane, n-hexane, isohexane, n-heptane, n-octane, isooctane, n-nonane, n-decane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, diethylbenzene, isopropylbenzene, naphthalene, tetralin, biphenyl, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, ethylene chloride, trichloroethane, tetrachloroethane, pentachloroethane, hexachloroethane, dichloroethylene, trichloroethylene, tetrachloroethylene, dichloropropane, trichloropropane, Examples of such compounds include hydrocarbon compounds such as pantothenic acid, isopropyl chloride, butyl chloride, hexyl chloride, chlorobenzene, dichlorobenzene, trichlorobenzene, chlorotoluene, and chloronaphthalene; and fluorine-based compounds such as hydrofluoroethers, hydrofluorocarbons, hydrofluoroolefins, hydrochlorofluorocarbons, and hydrochlorofluoroolefins (more specifically, Novec (registered trademark) series and Fluorinert (registered trademark) series manufactured by 3M Corporation, Vertrel (registered trademark) series manufactured by Chemours, Solkan (registered trademark) manufactured by Solvay, Asahiklin (registered trademark) series and Amorea (registered trademark) series manufactured by AGC Inc., and Cerefin (registered trademark) manufactured by Central Glass Co., Ltd.).
The compound capable of dissolving compound (3) but not compound (4) may be used alone or in combination of two or more kinds.

分離した化合物(3)は、必要に応じて、純度を高めることができる。純度を高める方法としては、一般的に用いられる方法であれば特に限定されないが、蒸留により純度を高める方法、純度を低下させている化合物に対して大きな溶解度を有し、化合物(3)と分離するような化合物(以下、「抽出化合物」ともいう。)により、化合物(3)に含まれている純度を低下せている化合物の含有量を低減させる方法、これらを組み合わせた方法等が例示できる。 The purity of the separated compound (3) can be increased as necessary. The method for increasing the purity is not particularly limited as long as it is a commonly used method, but examples include a method for increasing the purity by distillation, a method for reducing the content of the compound that reduces the purity contained in compound (3) by using a compound (hereinafter also referred to as an "extracted compound") that has a high solubility in the compound that reduces the purity and separates from compound (3), and a combination of these methods.

化合物(3)を蒸留する場合には、一般的に用いられる条件であれば特に限定されず、常圧蒸留、加圧蒸留、減圧蒸留のいずれであってもよい。蒸留装置としては、棚段塔、充填塔、それぞれを組み合わせた塔のいずれであってもよい。棚段塔のトレイデッキとしては、バブルキャップ、シーブトレイ、可動式バルブ、固定式バルブのいずれのトレイデッキを用いてもよい。充填塔の充填物としては、規則充填物、不規則充填物のいずれの充填物を用いてもよい。蒸留する化合物(3)の量が少ない場合には、オルダーショウ型蒸留装置、ビグリューカラムを備えた蒸留装置、回転バンドカラムを備えた蒸留装置、充填式蒸留装置を用いることができる。充填剤としては、一般的に用いられる充填剤であれば特に限定されないが、ラシヒリング、レッシングリング、ポールリング、クロスリング、メダルパック、トールパック、オムニパック、ベルルサドル、インタロックスサドル、ディクソンパッキング、マクマホンパッキング、ヘリパック、メラパック、ジェムパック、テクノパック、フレキシパック、スルザーパッキン、グッドロールパッキング、グッドロールパッキング等が例示できる。還流比、及び理論段数は、所望の化合物(3)の純度を達成できる還流比、及び理論段数であれば、一般的に用いられる範囲とすることができる。還流比としては、理論段数にもよるが、蒸留に要するエネルギーを抑制できる観点から、100以下であることが好ましく、50以下であることがより好ましく、25以下であることがさらに好ましい。化合物(3)の純度が向上する傾向にあることから、還流比は1以上であることが好ましく、3以上であることがより好ましく、5以上であることがさらに好ましい。理論段数としては、蒸留装置の費用が抑制でき、経済性に優れる傾向にあることから、300以下であることが好ましく、200以下であることがより好ましく、100以下であることがさらに好ましい。化合物(3)の純度が向上する傾向にあることから、理論段数は1以上であることが好ましく、5以上であることがより好ましく、10以上であることがさらに好ましい。 When compound (3) is distilled, the conditions are not particularly limited as long as they are generally used, and any of atmospheric distillation, pressurized distillation, and reduced pressure distillation may be used. The distillation apparatus may be a plate tower, a packed tower, or a combination of these. As the tray deck of the plate tower, any of bubble caps, sieve trays, movable valves, and fixed valves may be used. As the packing of the packed tower, any of regular packing and irregular packing may be used. When the amount of compound (3) to be distilled is small, an Oldershaw type distillation apparatus, a distillation apparatus equipped with a Vigreux column, a distillation apparatus equipped with a rotating band column, and a packed distillation apparatus may be used. The packing material is not particularly limited as long as it is a commonly used packing material, but examples thereof include Raschig rings, Lessing rings, Paul rings, Cross rings, Medal Packs, Toll Packs, Omni Packs, Berl Saddles, Intalox Saddles, Dixon Packings, McMahon Packings, Heli Packs, Mela Packs, Gem Packs, Techno Packs, Flexi Packs, Sulzer Packings, Good Roll Packings, Good Roll Packings, and the like. The reflux ratio and theoretical plate number can be in the commonly used range as long as they are capable of achieving the desired purity of compound (3). The reflux ratio, which depends on the theoretical plate number, is preferably 100 or less, more preferably 50 or less, and even more preferably 25 or less from the viewpoint of suppressing the energy required for distillation. Since the purity of compound (3) tends to improve, the reflux ratio is preferably 1 or more, more preferably 3 or more, and even more preferably 5 or more. The number of theoretical plates is preferably 300 or less, more preferably 200 or less, and even more preferably 100 or less, since this tends to reduce the cost of the distillation apparatus and is economical. The number of theoretical plates is preferably 1 or more, more preferably 5 or more, and even more preferably 10 or more, since this tends to improve the purity of compound (3).

抽出化合物としては、一般的に用いられる化合物であれば特に限定されないが、水、無機塩含有水溶液、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセロール等のアルコール化合物、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、テトラメチルウレア、及び1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のアミド化合物、ジメチルスルホキシド、ジブチルスルホキシド、エチルメチルスルホン、エチルイソプロピルスルホン、スルホラン、及び3-メチルスルホラン等のスルホ化合物が例示できる。これらの中でも化合物(3)への混入が抑制できる傾向になることから、水、及び無機塩含有水溶液が好ましい。
抽出化合物は、1種単独でも、複数種組み合わせて用いてもよい。
The extraction compound is not particularly limited as long as it is a commonly used compound, but examples thereof include water, an aqueous solution containing an inorganic salt, alcohol compounds such as methanol, ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, and glycerol, amide compounds such as N,N-dimethylformamide, N,N-diethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N,N-diethylacetamide, N-methylpyrrolidone, tetramethylurea, and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and sulfo compounds such as dimethyl sulfoxide, dibutyl sulfoxide, ethyl methyl sulfone, ethyl isopropyl sulfone, sulfolane, and 3-methyl sulfolane. Among these, water and an aqueous solution containing an inorganic salt are preferred because they tend to suppress contamination of compound (3).
The extract compounds may be used alone or in combination of two or more.

本実施形態の明細書において、前記無機塩含有水溶液とは、炭酸塩類、硫酸塩類、チオ硫酸塩類、酢酸塩類、リン酸塩類、クエン酸塩類、酒石酸塩類、及び四ホウ酸塩類からなる群より選ばれる少なくとも1種の無機塩化合物を含む水溶液のことである。 In the specification of this embodiment, the inorganic salt-containing aqueous solution refers to an aqueous solution containing at least one inorganic salt compound selected from the group consisting of carbonates, sulfates, thiosulfates, acetates, phosphates, citrates, tartrates, and tetraborates.

無機塩化合物は、一般的に用いられる化合物であれば特に限定されないが、具体的に例示するならば、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ルビジウム、炭酸水素セシウム、炭酸水素アンモニウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ルビジウム、炭酸セシウム、炭酸アンモニウム等の炭酸塩類、硫酸水素リチウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸水素カリウム、硫酸水素ルビジウム、硫酸水素セシウム、硫酸水素アンモニウム、硫酸リチウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸ルビジウム、硫酸セシウム、硫酸アンモニウム等の硫酸塩類、チオ硫酸リチウム、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸カリウム、チオ硫酸ルビジウム、チオ硫酸セシウム、チオ硫酸アンモニウム、チオ硫酸マグネシウム等のチオ硫酸塩類、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸ルビジウム、酢酸セシウム、酢酸アンモニウム等の酢酸塩類、リン酸三リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸三ルビジウム、リン酸三セシウム、リン酸三アンモニウム、リン酸水素二リチウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ルビジウム、リン酸水素二セシウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸二水素リチウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ルビジウム、リン酸二水素セシウム、リン酸二水素アンモニウム等のリン酸塩類、クエン酸三リチウム、クエン酸三ナトリウム、クエン酸三カリウム、クエン酸三ルビジウム、クエン酸三セシウム、クエン酸三アンモニウム、クエン酸水素二リチウム、クエン酸水素二ナトリウム、クエン酸水素二カリウム、クエン酸水素二ルビジウム、クエン酸水素二セシウム、クエン酸水素二アンモニウム、クエン酸二水素リチウム、クエン酸二水素ナトリウム、クエン酸二水素カリウム、クエン酸二水素ルビジウム、クエン酸二水素セシウム、クエン酸二水素アンモニウム等のクエン酸塩類、酒石酸リチウム、酒石酸ナトリウム、酒石酸カリウム、酒石酸ルビジウム、酒石酸セシウム、酒石酸アンモニウム、酒石酸リチウムナトリウム、酒石酸ナトリウムカリウム、酒石酸ナトリウムカリウム、酒石酸ナトリウムアンモニウム、酒石酸カリウムアンモニウム等の酒石酸塩類、四ホウ酸リチウム、四ホウ酸ナトリウム、四ホウ酸カリウム、四ホウ酸ルビジウム、四ホウ酸セシウム、四ホウ酸アンモニウム等の四ホウ酸塩類等が挙げられる。 The inorganic salt compound is not particularly limited as long as it is a commonly used compound, but specific examples include carbonates such as lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, rubidium hydrogen carbonate, cesium hydrogen carbonate, ammonium hydrogen carbonate, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, rubidium carbonate, cesium carbonate, and ammonium carbonate; lithium hydrogen sulfate, sodium hydrogen sulfate, potassium hydrogen sulfate, rubidium hydrogen sulfate, cesium hydrogen sulfate, ammonium hydrogen sulfate; lithium sulfate, sodium sulfate, potassium sulfate, rubidium sulfate, cesium sulfate, and ammonium sulfate; thiosulfates such as lithium thiosulfate, sodium thiosulfate, potassium thiosulfate, rubidium thiosulfate, cesium thiosulfate, ammonium thiosulfate, magnesium thiosulfate, and other thiosulfates; acetates such as lithium acetate, sodium acetate, potassium acetate, rubidium acetate, cesium acetate, and ammonium acetate; trilithium phosphate, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, trirubidium phosphate, tricesium phosphate, triammonium phosphate, dilithium hydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, dipotassium hydrogen phosphate, dirubidium hydrogen phosphate, dicesium hydrogen phosphate; phosphorus Phosphates such as diammonium hydrogen citrate, lithium dihydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, rubidium dihydrogen phosphate, cesium dihydrogen phosphate, and ammonium dihydrogen phosphate; trilithium citrate, trisodium citrate, tripotassium citrate, trirubidium citrate, tricesium citrate, triammonium citrate, dilithium hydrogen citrate, disodium hydrogen citrate, dipotassium hydrogen citrate, dirubidium hydrogen citrate, discesium hydrogen citrate, diammonium hydrogen citrate, lithium dihydrogen citrate, sodium dihydrogen citrate, citrate Examples of the tartrate salts include potassium dihydrogen citrate, rubidium dihydrogen citrate, cesium dihydrogen citrate, and ammonium dihydrogen citrate; lithium tartrate, sodium tartrate, potassium tartrate, rubidium tartrate, cesium tartrate, ammonium tartrate, lithium sodium tartrate, potassium sodium tartrate, potassium sodium tartrate, ammonium sodium tartrate, and potassium ammonium tartrate; and tetraborates such as lithium tetraborate, sodium tetraborate, potassium tetraborate, rubidium tetraborate, cesium tetraborate, and ammonium tetraborate.

これらの中でも、入手が容易であり、経済性に優れる傾向にあることから、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム、炭酸水素アンモニウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ルビジウム、炭酸セシウム、炭酸アンモニウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸水素カリウム、硫酸リチウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸ルビジウム、硫酸セシウム、硫酸アンモニウム、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウム、チオ硫酸マグネシウム、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸ルビジウム、酢酸セシウム、酢酸アンモニウム、リン酸三リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素アンモニウム、クエン酸三リチウム、クエン酸三ナトリウム、クエン酸三カリウム、クエン酸三アンモニウム、クエン酸水素二ナトリウム、クエン酸水素二アンモニウム、酒石酸ナトリウム、四ホウ酸リチウム、四ホウ酸ナトリウム、四ホウ酸カリウム、四ホウ酸アンモニウムが好ましく、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸水素カリウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸アンモニウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素アンモニウム、クエン酸三ナトリウム、クエン酸三カリウム、クエン酸三アンモニウム、クエン酸水素二ナトリウム、クエン酸水素二アンモニウム、酒石酸ナトリウム、四ホウ酸ナトリウム、四ホウ酸カリウム、四ホウ酸アンモニウムがより好ましく、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸水素カリウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、チオ硫酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素カリウムがさらに好ましく、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、リン酸三ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素ナトリウムが特に好ましい。 Among these, the following are preferred because they tend to be easily available and economical: sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, cesium bicarbonate, ammonium bicarbonate, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, rubidium carbonate, cesium carbonate, ammonium carbonate, sodium hydrogen sulfate, potassium hydrogen sulfate, lithium sulfate, sodium sulfate, potassium sulfate, rubidium sulfate, cesium sulfate, ammonium sulfate, sodium thiosulfate, ammonium thiosulfate, magnesium thiosulfate, lithium acetate, sodium acetate, potassium acetate, rubidium acetate, cesium acetate, ammonium acetate, trilithium phosphate, Trisodium phosphate, tripotassium phosphate, disodium hydrogen phosphate, dipotassium hydrogen phosphate, diammonium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, trilithium citrate, trisodium citrate, tripotassium citrate, triammonium citrate, disodium hydrogen citrate, diammonium hydrogen citrate, sodium tartrate, lithium tetraborate, sodium tetraborate, potassium tetraborate, and ammonium tetraborate are preferred, and sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, ammonium bicarbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, and hydrogen sulfate are also preferred. Sodium, potassium hydrogen sulfate, sodium sulfate, potassium sulfate, ammonium sulfate, sodium thiosulfate, ammonium thiosulfate, sodium acetate, potassium acetate, ammonium acetate, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, disodium hydrogen phosphate, dipotassium hydrogen phosphate, diammonium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, trisodium citrate, tripotassium citrate, triammonium citrate, disodium hydrogen citrate, diammonium hydrogen citrate, sodium tartrate, sodium tetraborate, potassium tetraborate, and ammonium tetraborate are more preferred, and sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen sulfate, potassium hydrogen sulfate, sodium sulfate, potassium thiosulfate, sodium acetate, potassium acetate, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, disodium hydrogen phosphate, dipotassium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, and potassium dihydrogen phosphate are even more preferred, and sodium hydrogen carbonate, sodium carbonate, sodium hydrogen sulfate, sodium sulfate, sodium thiosulfate, sodium acetate, potassium acetate, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, disodium hydrogen phosphate, and sodium dihydrogen phosphate are particularly preferred.

無機塩含有水溶液の濃度は、無機塩化合物の溶解度を上限として、特に限定されない。無機塩含有水溶液を1回の利用で廃棄する場合には、過剰な無機塩化合物の使用が抑制され、化合物(3)を製造する際の経済性に優れる傾向にあることから、無機塩化合物の溶解度の0.5倍以下の濃度であることが好ましく、0.2倍以下の濃度であることがより好ましく、0.1倍以下の濃度であることがさらに好ましく、0.05倍以下の濃度であることが特に好ましい。無機塩含有水溶液を複数回利用する場合には、化合物(3)に含まれている純度を低下せている化合物の含有量を低減させる特性が維持できる傾向に優れることから、無機塩化合物の溶解度の0.5倍以上の濃度であることが好ましく、0.7倍以上の濃度であることがより好ましく、0.9倍以上であることがさらに好ましい。 The concentration of the inorganic salt-containing aqueous solution is not particularly limited, with the solubility of the inorganic salt compound as the upper limit. When the inorganic salt-containing aqueous solution is discarded after one use, the use of an excessive amount of the inorganic salt compound is suppressed, and the economic efficiency of producing the compound (3) tends to be excellent. Therefore, the concentration is preferably 0.5 times or less of the solubility of the inorganic salt compound, more preferably 0.2 times or less, even more preferably 0.1 times or less, and particularly preferably 0.05 times or less. When the inorganic salt-containing aqueous solution is used multiple times, the concentration is preferably 0.5 times or more of the solubility of the inorganic salt compound, more preferably 0.7 times or more, and even more preferably 0.9 times or more, since the property of reducing the content of the compound that reduces the purity contained in the compound (3) tends to be excellent.

<化合物(1)と化合物(2)との反応後分離した化合物(3)の質量(ε)に対する抽出化合物の質量(ζ)の比率(ζ/ε)>
化合物(1)と化合物(2)との反応後分離した化合物(3)の質量(ε)に対する抽出化合物の質量(ζ)の比率(ζ/ε)は、化合物(3)に含まれている純度を低下せている化合物の含有量がより低減する傾向にあることから、0.1以上であることが好ましく、0.3以上であることがより好ましく、0.5以上であることがさらに好ましい。
<Ratio (ζ/ε) of the mass (ζ) of the extracted compound to the mass (ε) of the compound (3) separated after the reaction of compound (1) with compound (2)>
The ratio (ζ/ε) of the mass (ζ) of the extracted compound to the mass (ε) of compound (3) separated after the reaction of compound (1) with compound (2) is preferably 0.1 or more, more preferably 0.3 or more, and even more preferably 0.5 or more, since the content of compounds that reduce the purity of compound (3) tends to be further reduced.

化合物(1)と化合物(2)との反応後分離した化合物(3)の質量(ε)に対する抽出化合物の質量(ζ)の比率(ζ/ε)の上限は、特に限定されないが、化合物(3)の抽出化合物への溶解量が低減する傾向にあること、及び化合物(3)の抽出化合物への分散量が低減する傾向にあることから、ζ/εが100以下であることが好ましく、20以下であることがより好ましく、10以下であることがさらに好ましく、5以下であることが特に好ましい。 The upper limit of the ratio (ζ/ε) of the mass (ζ) of the extracted compound to the mass (ε) of compound (3) separated after the reaction of compound (1) with compound (2) is not particularly limited, but since the amount of compound (3) dissolved in the extracted compound tends to decrease, and the amount of compound (3) dispersed in the extracted compound tends to decrease, ζ/ε is preferably 100 or less, more preferably 20 or less, even more preferably 10 or less, and particularly preferably 5 or less.

化合物(1)と化合物(2)との反応後分離した化合物(3)と、抽出化合物とを攪拌・混合することで、純度を低下させている化合物の抽出化合物へ溶解する速度が向上する傾向にある。攪拌する方法としては、一般的に用いられる攪拌方法であれば、特に限定されないが、具体的には、攪拌方式(攪拌翼形式、ホモジナイザー、高圧ホモジナイザー、超高圧ホモジナイザー、超音波ホモジナイザー、ポリトロンホモジナイザー等)、攪拌翼形状(例えば、ファン、プロペラ、十字、バタフライ、とんぼ、タービン、ディスクタービン、ディスパ、パドル、傾斜パドル等)、反応槽へのバッフルの設置、ホモジナイザーのシャフト形状(万能型、攪拌型、多重超音波型、オープン型、密閉型等)等が挙げられる。また、前記攪拌方法を備えた装置を用いることができる。
前記攪拌方法、及び攪拌方法を備えた装置は、1種単独でも、複数種を組み合わせて用いてもよい。
By stirring and mixing the compound (3) separated after the reaction of compound (1) with compound (2) with the extracted compound, the rate at which the compound with reduced purity dissolves in the extracted compound tends to improve. The stirring method is not particularly limited as long as it is a commonly used stirring method, but specifically includes stirring methods (stirring blade type, homogenizer, high pressure homogenizer, ultra-high pressure homogenizer, ultrasonic homogenizer, polytron homogenizer, etc.), stirring blade shapes (for example, fan, propeller, cross, butterfly, dragonfly, turbine, disk turbine, disperser, paddle, inclined paddle, etc.), installation of baffles in the reaction tank, homogenizer shaft shapes (universal type, stirring type, multiple ultrasonic type, open type, closed type, etc.), etc. Also, a device equipped with the stirring method can be used.
The stirring method and the device equipped with the stirring method may be used alone or in combination of two or more kinds.

攪拌・混合する時間は、一般的に用いられる範囲であれば特に限定されないが、化合物(3)の純度を低下させている化合物が抽出化合物へ溶解する量が増加する傾向にあることから、0.01時間以上であることが好ましく、0.1時間以上であることがより好ましく、0.5時間以上であることがさらに好ましく、1時間以上であることが特に好ましい。過剰な攪拌・混合する時間としないことで、経済性により優れる製造方法となる傾向にあることから、100時間以下であることが好ましく、同様の観点から50時間以下であることがより好ましく、10時間以下であることがさらに好ましく、5時間以下であることが特に好ましい。 The stirring/mixing time is not particularly limited as long as it is within a commonly used range, but since there is a tendency for the amount of compounds that reduce the purity of compound (3) to dissolve in the extracted compound to increase, it is preferably 0.01 hours or more, more preferably 0.1 hours or more, even more preferably 0.5 hours or more, and particularly preferably 1 hour or more. Since avoiding excessive stirring/mixing times tends to result in a more economical production method, it is preferably 100 hours or less, and from the same viewpoint, it is more preferably 50 hours or less, even more preferably 10 hours or less, and particularly preferably 5 hours or less.

化合物(3)と、抽出化合物とを、攪拌・混合した後、静置することで、化合物(3)を含む相と、抽出化合物を含む相とに相分離する。
相分離するため静置する時間は、一般的に用いられる範囲であれば特に限定されないが、化合物(3)を含む相が、抽出化合物を含む相に分散されている量が低減され、化合物(3)の得られる量が増加する傾向にあることから、0.01時間以上であることが好ましく、0.1時間以上であることがより好ましく、0.5時間以上であることがさらに好ましい。過剰な静置する時間としないことで、経済性により優れる製造方法となる傾向にあることから、100時間以下であることが好ましく、同様の観点から50時間以下であることがより好ましく、10時間以下であることがさらに好ましく、5時間以下であることが特に好ましい。
Compound (3) and the extracted compound are stirred and mixed, and then allowed to stand, causing phase separation into a phase containing compound (3) and a phase containing the extracted compound.
The time for standing for phase separation is not particularly limited as long as it is within a range generally used, but since the amount of the phase containing compound (3) dispersed in the phase containing the extracted compound tends to decrease and the amount of compound (3) obtained tends to increase, it is preferably 0.01 hours or more, more preferably 0.1 hours or more, and even more preferably 0.5 hours or more. By not leaving it for an excessive time, it tends to become a production method with better economic efficiency, so it is preferably 100 hours or less, and from the same viewpoint, it is more preferably 50 hours or less, even more preferably 10 hours or less, and particularly preferably 5 hours or less.

含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)と、抽出化合物とを攪拌・混合する温度、及び静置し相分離する温度は、一般的に用いられる温度であれば特に限定されないが、化合物(3)の純度を低下させている化合物が抽出化合物へ溶解する量が増加する傾向にあること、及び化合物(3)を含む相が、抽出化合物を含む相に分散されている量が低減され、化合物(3)の得られる量が増加する傾向にあることから、-40℃以上であることが好ましく、-20℃以上であることがより好ましい。同様の観点、及び工業的に温度調整する際の経済性に優れる傾向にあることから、0℃以上であることがさらに好ましく、10℃以上であることが特に好ましい。 The temperature at which the fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (3) and the extract compound are stirred and mixed, and the temperature at which the mixture is allowed to stand and separated into phases are not particularly limited as long as they are commonly used temperatures. However, since there is a tendency for the amount of compounds that reduce the purity of compound (3) to dissolve in the extract compound to increase, and the amount of the phase containing compound (3) dispersed in the phase containing the extract compound to decrease, and the amount of compound (3) obtained to increase, the temperature is preferably -40°C or higher, and more preferably -20°C or higher. From the same viewpoint, and from the tendency for there to be superior economical aspects when adjusting the temperature industrially, the temperature is more preferably 0°C or higher, and particularly preferably 10°C or higher.

含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)と、抽出化合物とを攪拌・混合する温度、及び静置し相分離する温度の上限は、特に限定されないが、化合物(3)の抽出化合物への溶解が抑制される傾向にあることから、120℃以下であることが好ましく、100℃以下がより好ましく、80℃以下であることがさらに好ましく、60℃以下であることが特に好ましい。
含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)と、抽出化合物とを攪拌・混合する温度、及び静置し相分離する温度は、上記範囲であれば一定である必要はなく、途中で変化させてもよい。
The upper limits of the temperature at which the fluorinated vinyl sulfonic acid fluoride (3) and the extract compound are stirred and mixed, and the temperature at which they are allowed to stand and undergo phase separation, are not particularly limited, but since there is a tendency for dissolution of the compound (3) in the extract compound to be suppressed, the upper limits are preferably 120° C. or lower, more preferably 100° C. or lower, even more preferably 80° C. or lower, and particularly preferably 60° C. or lower.
The temperature at which the fluorine-containing vinyl sulfonyl fluoride (3) and the extraction compound are stirred and mixed, and the temperature at which they are left to stand for phase separation, do not need to be constant so long as they are within the above-mentioned ranges, and may be changed during the process.

含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)と、抽出化合物とを攪拌・混合する圧力、及び静置し相分離する圧力は、通常用いられる範囲であれば特に限定されず、通常は大気圧下で反応が行われる。ただし、化合物(3)、抽出化合物の種類によっては揮発する場合があることから、揮発を抑制するため、大気圧以上の加圧を行うことが有効な手段である。揮発する化合物を液化させ、再利用する場合には、大気圧以下の減圧であってもよい。
含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)と、抽出化合物とを攪拌・混合する圧力、及び静置し相分離する圧力は、上記範囲であれば一定である必要はなく、途中で変化させてもよい。
The pressure for stirring and mixing the fluorine-containing vinylsulfonic acid fluoride (3) and the extracted compound, and the pressure for allowing to stand and phase-separate are not particularly limited as long as they are within the ranges usually used, and the reaction is usually carried out under atmospheric pressure. However, since the compound (3) and the extracted compound may volatilize depending on their types, it is effective to apply pressure at atmospheric pressure or higher to suppress volatilization. When the volatilized compound is liquefied and reused, the pressure may be reduced to atmospheric pressure or lower.
The pressure under which the fluorinated vinylsulfonic acid fluoride (3) and the extracted compound are stirred and mixed, and the pressure under which the mixture is left to stand for phase separation, do not need to be constant so long as they are within the above-mentioned ranges, and may be changed during the process.

含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)と、抽出化合物とを攪拌・混合する雰囲気、及び静置し相分離する雰囲気は、通常用いられる雰囲気であれば特に限定されず、通常は大気雰囲気、窒素雰囲気、及びアルゴン雰囲気等が用いられる。これらの中でも、より安全に化合物(3)を製造できる傾向にあることから、窒素雰囲気及びアルゴン雰囲気が好ましい。また、より経済性に優れる製造方法となる傾向にあることから、窒素雰囲気がより好ましい。
含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)と、抽出化合物とを攪拌・混合する雰囲気、及び静置し相分離する雰囲気は、1種単独で用いてもよいし、複数種の雰囲気を組み合わせて用いてもよい。
The atmosphere for stirring and mixing the fluorine-containing vinylsulfonic acid fluoride (3) and the extracted compound, and the atmosphere for allowing to stand and separate the phases are not particularly limited as long as they are commonly used, and usually, air atmosphere, nitrogen atmosphere, argon atmosphere, etc. are used. Among these, nitrogen atmosphere and argon atmosphere are preferred because they tend to produce the compound (3) more safely. In addition, nitrogen atmosphere is more preferred because they tend to be a more economical production method.
The atmosphere for stirring and mixing the fluorinated vinylsulfonic acid fluoride (3) and the extracted compound, and the atmosphere for leaving them to separate into phases may be one kind alone or a combination of two or more kinds of atmospheres.

含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)と、抽出化合物とを攪拌・混合し、静置することで相分離し、得られた抽出化合物を含む相は、化合物(1)と化合物(2)との反応後、分離した化合物(3)の純度を高めるために再利用してもよい。 The fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (3) and the extracted compound are stirred and mixed, and then allowed to stand to separate into phases. The phase containing the extracted compound obtained may be reused to increase the purity of the separated compound (3) after the reaction of compound (1) with compound (2).

化合物(1)と化合物(2)との反応において、化合物(1)の物質量よりも化合物(2)の物質量を少なく用い、未反応の化合物(1)を残留させ、生成する化合物(3)を分離後、化合物(1)と生成する化合物(4)を分離することで化合物(1)を回収する方法や生成する化合物(3)と化合物(1)とを化合物(4)から分離し、化合物(3)と化合物(1)とを分離することで化合物(1)を回収する方法が考えられる。分離後の化合物(1)を再利用することで、化合物(1)の廃棄を抑制し、化合物(3)を製造する際の経済性を向上させることが考えられるものの、回収するための工程が必要となる。前記観点、及び化合物(1)と化合物(2)とでは、化合物(2)の方が入手が容易であり、化合物(3)を製造するための経済性に優れる傾向にあることから、化合物(1)の物質量よりも化合物(2)の物質量を多く用い、未反応の化合物(1)を低減させ、化合物(2)と、化合物(3)と、化合物(4)を含む混合物とし、化合物(3)を分離した後、化合物(2)と、化合物(4)とを含む混合物から化合物(4)を分離する方法の方が、化合物(3)を製造する際の経済性に優れる傾向にあると考えられる。 In the reaction between compound (1) and compound (2), a smaller amount of compound (2) is used than the amount of compound (1), unreacted compound (1) is left behind, and the resulting compound (3) is separated, and then compound (1) is separated from the resulting compound (4) to recover compound (1), or compound (3) and compound (1) are separated from compound (4), and compound (1) is recovered by separating compound (3) and compound (1). Reusing compound (1) after separation can reduce the waste of compound (1) and improve the economic efficiency of producing compound (3), but a recovery process is required. From the above viewpoint, and because compound (2) is easier to obtain than compound (1) and tends to be more economical for producing compound (3), it is believed that a method of using a larger amount of compound (2) than compound (1), reducing the amount of unreacted compound (1), forming a mixture containing compound (2), compound (3), and compound (4), separating compound (3), and then separating compound (4) from the mixture containing compound (2) and compound (4) tends to be more economical for producing compound (3).

化合物(1)と、化合物(2)とを反応させ、化合物(3)を生成し、化合物(3)を分離した後得られる化合物(2)と化合物(4)とを含む混合物(以下、「反応残渣」という。)から、化合物(4)を分離する方法としては、一般的に用いられる方法であれば特に限定されないが、例えば、化合物(4)に対して大きな溶解度を有し、化合物(2)に対して小さな溶解度を有する化合物(以下、「溶解化合物」という。)を加え、化合物(4)が溶解化合物に溶解した溶液(以下、「含フッ素スルホン酸塩溶解液」という。)とした後、化合物(2)をろ過により除去した後、化合物(4)に対して大きな溶解度を有する化合物を留去する、若しくは化合物(4)を晶析することで、化合物(4)を得る方法が挙げられる。 The method for separating compound (4) from a mixture containing compound (2) and compound (4) (hereinafter referred to as "reaction residue") obtained after reacting compound (1) with compound (2) to produce compound (3) and separating compound (3) is not particularly limited as long as it is a commonly used method. For example, a method of obtaining compound (4) from a mixture containing compound (2) and compound (4) (hereinafter referred to as "dissolved compound") that has a high solubility in compound (4) and a low solubility in compound (2) is added to obtain a solution in which compound (4) is dissolved in the dissolved compound (hereinafter referred to as "fluorine-containing sulfonate solution"), removing compound (2) by filtration, and then distilling off the compound that has a high solubility in compound (4) or crystallizing compound (4) can be mentioned.

溶解化合物としては、一般的に用いられる化合物であれば特に限定されないが、エーテル化合物、ケトン化合物、エステル化合物、カーボネート化合物、ニトリル化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であることが好ましい。 The dissolving compound is not particularly limited as long as it is a commonly used compound, but it is preferably at least one compound selected from the group consisting of ether compounds, ketone compounds, ester compounds, carbonate compounds, and nitrile compounds.

溶解化合物を具体的に例示するならば、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、4-メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジペンチルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジヘプチルエーテル、ジオクチルエーテル、メチルtert-ブチルエーテル、1,4-ジオキサン、1,2-ジメトキシエタン、1,2-ジエトキシエタン、エチレングリコールジブチルエーテル、1,2-ジメトキシプロパン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、及びジプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル化合物、アセトン、メチルアセトン、エチルメチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルヘキシルケトン、ジエチルケトン、エチルブチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、及びシクロヘキサノン等のケトン化合物、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチル、酢酸ヘキシル、酢酸オクチル、酢酸シクロヘキシル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、及び安息香酸ベンジル等のエステル化合物、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジプロピルカーボネート、ジブチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、フルオロメチルメチルカ一ボネ一卜、ジフルオロメチルメチルカーボネート、卜リフルオロメチルメチルカーボネート、ビス(フルオロメチル)カーボネート、ビス(ジフルオロメチル)カーボネート、ビス(卜リフルオロメチル)カーボネート、フルオロメチルジフルオロメチルカーボネート、2,2,2-トリフルオロエチルメチルカーボネート、ペンタフルオロエチルメチルカーボネート、エチル卜リフルオロメチルカーボネート、ビス(2,2,2-トリフルオロエチル)カーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、フルオロエチレンカーボネート、4-(卜リフルオロメチル)-1,3-ジオキソラン-2-オン、4,4-ジフルオロ-1,3-ジオキソラン-2-オン、4-フルオロ-4-メチル-1,3-ジオキソラン-2-オン、4-(フルオロメチル)-1,3-ジオキソラン-2-オン、4,5-ジフルオロ-1,3-ジオキソラン-2-オン、4-フルオロ-5-メチル-1,3-ジオキソラン-2-オン、4,5-ジフルオロ-4,5-ジメチル-1,3-ジオキソラン-2-オン、ビニレン力一ボネ一卜、ビニルエチレンカーボネート、メチルビニレンカーボネート、エチルビニレンカーボネート等のカーボネート化合物、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、2-メチルブチロニトリル、シクロヘキサンカルボニトリル、ベンゾニトリル、アジポニトリル、フルオロアセトニトリル、ジフルオロアセトニトリル、2-フルオロベンゾニトリル、2,4,5-トリフルオロベンゾニトリル、o-(トリフルオロメチル)ベンゾニトリル、ペンタフルオロベンゾニトリルがより好ましく、2-フルオロベンゾニトリル、2,4,5-トリフルオロベンゾニトリル、o-(トリフルオロメチル)ベンゾニトリル、及びペンタフルオロベンゾニトリル等のニトリル化合物が挙げられる。 Specific examples of dissolving compounds include tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, tetrahydropyran, 4-methyltetrahydropyran, cyclopentyl methyl ether, diethyl ether, dipropyl ether, dibutyl ether, dipentyl ether, dihexyl ether, diheptyl ether, dioctyl ether, methyl tert-butyl ether, 1,4-dioxane, 1,2-dimethoxyethane, 1,2-diethoxyethane, ethylene glycol dibutyl ether, 1,2-dimethoxypropane, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol isopropyl methyl ether, diethylene glycol butyl methyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol butyl methyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, and ether compounds such as acetone, methyl acetone, ethyl methyl ketone, methyl propyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl hexyl ketone, diethyl ketone, ethyl butyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, and cyclohexanone; ketone compounds such as ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, pentyl acetate, hexyl acetate, octyl acetate, cyclohexyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, butyl propionate, methyl benzoate, ethyl benzoate, propyl benzoate, butyl benzoate, and benzyl benzoate; ester compounds such as dimethyl carbonate, diethyl carbonate, dipropyl carbonate, dibutyl carbonate, ethyl methyl carbonate, fluoromethyl methyl carbonate, difluoromethyl methyl carbonate, ester, trifluoromethyl methyl carbonate, bis(fluoromethyl)carbonate, bis(difluoromethyl)carbonate, bis(trifluoromethyl)carbonate, fluoromethyl difluoromethyl carbonate, 2,2,2-trifluoroethyl methyl carbonate, pentafluoroethyl methyl carbonate, ethyl trifluoromethyl carbonate, bis(2,2,2-trifluoroethyl)carbonate , ethylene carbonate, propylene carbonate, fluoroethylene carbonate, 4-(trifluoromethyl)-1,3-dioxolan-2-one, 4,4-difluoro-1,3-dioxolan-2-one, 4-fluoro-4-methyl-1,3-dioxolan-2-one, 4-(fluoromethyl)-1,3-dioxolan-2-one, 4,5-difluoro-1,3-dioxolan-2-one, 4-fluoro-5-methyl-1 ,3-dioxolane-2-one, 4,5-difluoro-4,5-dimethyl-1,3-dioxolane-2-one, vinylene carbonate, vinyl ethylene carbonate, methyl vinylene carbonate, ethyl vinylene carbonate, and other carbonate compounds; acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, 2-methylbutyronitrile, cyclohexanecarbonitrile, benzonitrile, adiponitrile, fluoroacetonitrile, difluoroacetonitrile, 2-fluorobenzonitrile, 2,4,5-trifluorobenzonitrile, o-(trifluoromethyl)benzonitrile, and pentafluorobenzonitrile are more preferred, and examples of such nitrile compounds include 2-fluorobenzonitrile, 2,4,5-trifluorobenzonitrile, o-(trifluoromethyl)benzonitrile, and pentafluorobenzonitrile.

前記エーテル化合物の内、エーテル化合物を留去しやすい傾向にあることから、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、4-メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジペンチルエーテル、ジヘキシルエーテル、メチルtert-ブチルエーテル、1,4-ジオキサン、1,2-ジメトキシエタン、1,2-ジエトキシエタン、エチレングリコールジブチルエーテル、1,2-ジメトキシプロパン、ジエチレングリコールジメチルエーテルが好ましい。化合物(4)の溶解性が高い傾向にあることから、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、メチルtert-ブチルエーテル、1,4-ジオキサン、1,2-ジメトキシエタン、1,2-ジエトキシエタン、1,2-ジメトキシプロパンがより好ましい。入手又は製造が容易であり、経済性に優れる傾向にあることから、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、メチルtert-ブチルエーテル、1,4-ジオキサン、1,2-ジメトキシエタンがさらに好ましい。 Among the ether compounds, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, tetrahydropyran, 4-methyltetrahydropyran, cyclopentyl methyl ether, diethyl ether, dipropyl ether, dibutyl ether, dipentyl ether, dihexyl ether, methyl tert-butyl ether, 1,4-dioxane, 1,2-dimethoxyethane, 1,2-diethoxyethane, ethylene glycol dibutyl ether, 1,2-dimethoxypropane, and diethylene glycol dimethyl ether are preferred because they tend to be easily distilled off. Compound (4) tends to have high solubility, so tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, tetrahydropyran, diethyl ether, dipropyl ether, dibutyl ether, methyl tert-butyl ether, 1,4-dioxane, 1,2-dimethoxyethane, 1,2-diethoxyethane, and 1,2-dimethoxypropane are more preferred. Tetrahydrofuran, tetrahydropyran, methyl tert-butyl ether, 1,4-dioxane, and 1,2-dimethoxyethane are more preferred because they are easy to obtain or produce and tend to be economical.

前記ケトン化合物の内、化合物(4)の溶解性が高い傾向にあることから、アセトン、エチルメチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが好ましく、アセトン、エチルメチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトンがより好ましい。入手が容易であり、経済性に優れる傾向にあることから、アセトン、エチルメチルケトン、メチルイソブチルケトンがさらに好ましい。 Among the ketone compounds, acetone, ethyl methyl ketone, methyl propyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone are preferred because compound (4) tends to have high solubility, and acetone, ethyl methyl ketone, methyl propyl ketone, and methyl isobutyl ketone are more preferred. Acetone, ethyl methyl ketone, and methyl isobutyl ketone are even more preferred because they are easily available and tend to be economical.

前記エステル化合物の内、エステル化合物を留去しやすい傾向にあることから、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチル、酢酸ヘキシル、酢酸シクロヘキシル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチルが好ましく、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチルがより好ましい。入手が容易であり、経済性に優れる傾向にあることから、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチルがさらに好ましい。 Among the above ester compounds, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, pentyl acetate, hexyl acetate, cyclohexyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, and butyl propionate are preferred because they tend to be easily distilled off, and ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, and butyl propionate are more preferred. Ethyl acetate, butyl acetate, and isobutyl acetate are even more preferred because they tend to be easily available and economical.

前記カーボネート化合物の内、入手が容易であり、経済性に優れる傾向にあることから、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジプロピルカーボネート、ジブチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ビニレン力一ボネ一卜、ビニルエチレンカーボネート、メチルビニレンカーボネート、エチルビニレンカーボネートが好ましく、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジプロピルカーボネート、ジブチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートがより好ましい。化合物(4)の溶解性が高い傾向にあることから、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートがさらに好ましく、ジメチルカーボネート、エチレンカーボネートが特に好ましい。 Among the carbonate compounds, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, dipropyl carbonate, dibutyl carbonate, ethyl methyl carbonate, ethylene carbonate, propylene carbonate, vinylene carbonate, vinyl ethylene carbonate, methyl vinylene carbonate, and ethyl vinylene carbonate are preferred because they tend to be easily available and economical, and dimethyl carbonate, diethyl carbonate, dipropyl carbonate, dibutyl carbonate, ethyl methyl carbonate, ethylene carbonate, and propylene carbonate are more preferred because they tend to have high solubility of compound (4). Dimethyl carbonate, diethyl carbonate, ethyl methyl carbonate, ethylene carbonate, and propylene carbonate are even more preferred, and dimethyl carbonate and ethylene carbonate are particularly preferred.

前記ニトリル化合物の内、入手が容易であり、経済性に優れる傾向にあることから、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、2-メチルブチロニトリル、シクロヘキサンカルボニトリル、ベンゾニトリル、アジポニトリルが好ましく、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、ベンゾニトリル、アジポニトリルがより好ましい。化合物(4)の溶解性が高い傾向にあることから、アセトニトリル、プロピオニトリル、アジポニトリルがさらに好ましい。 Of the above nitrile compounds, acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, 2-methylbutyronitrile, cyclohexanecarbonitrile, benzonitrile, and adiponitrile are preferred because they tend to be easily available and economically advantageous, and acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, benzonitrile, and adiponitrile are more preferred. Acetonitrile, propionitrile, and adiponitrile are even more preferred because compound (4) tends to have high solubility.

<反応残渣の質量(γ)に対する溶解化合物の質量(δ)の比率(δ/γ)>
反応残渣の質量(γ)に対する溶解化合物の質量(δ)の比率(δ/γ)は、化合物(4)が溶解化合物に含有される量が増加する傾向にあることから、0.01以上であることが好ましく、0.1以上であることがより好ましく、0.5以上であることがさらに好ましく、0.7以上であることがよりさらに好ましく、1.0以上であることが特に好ましい。反応残渣の質量(γ)に対する溶解化合物の質量(δ)の比率(δ/γ)の上限は、特に限定されないが、過剰な溶解化合物の使用が抑制され、化合物(4)を製造する際の経済性に優れる傾向にあることから、100以下であることが好ましく、50以下であることがより好ましく、25以下であることがさらに好ましく、10以下であることが特に好ましい。
<Ratio (δ/γ) of mass of dissolved compound (δ) to mass of reaction residue (γ)>
The ratio (δ/γ) of the mass (δ) of the dissolved compound to the mass (γ) of the reaction residue is preferably 0.01 or more, more preferably 0.1 or more, even more preferably 0.5 or more, even more preferably 0.7 or more, and particularly preferably 1.0 or more, since the amount of compound (4) contained in the dissolved compound tends to increase. The upper limit of the ratio (δ/γ) of the mass (δ) of the dissolved compound to the mass (γ) of the reaction residue is not particularly limited, but is preferably 100 or less, more preferably 50 or less, even more preferably 25 or less, and particularly preferably 10 or less, since the use of excessive dissolved compound is suppressed and the economical efficiency when producing compound (4) tends to be excellent.

反応残渣と溶解化合物とを攪拌する方法としては、一般的に用いられる攪拌方法であれば、特に限定されないが、具体的には、攪拌方式(攪拌翼形式、ホモジナイザー、高圧ホモジナイザー、超高圧ホモジナイザー、超音波ホモジナイザー、ポリトロンホモジナイザー等)、攪拌翼形状(例えば、ファン、プロペラ、十字、バタフライ、とんぼ、タービン、ディスクタービン、ディスパ、パドル、傾斜パドル等)、反応槽へのバッフルの設置、ホモジナイザーのシャフト形状(万能型、攪拌型、多重超音波型、オープン型、密閉型等)等が挙げられる。また、前記攪拌方法を備えた装置を用いることができる。
前記攪拌方法、及び攪拌方法を備えた装置は、1種単独でも、複数種を組み合わせて用いてもよい。
The method of stirring the reaction residue and the dissolved compound is not particularly limited as long as it is a commonly used stirring method, but specific examples include stirring methods (stirring blade type, homogenizer, high pressure homogenizer, ultra-high pressure homogenizer, ultrasonic homogenizer, polytron homogenizer, etc.), stirring blade shapes (for example, fan, propeller, cross, butterfly, dragonfly, turbine, disk turbine, disperser, paddle, inclined paddle, etc.), installation of baffles in the reaction tank, homogenizer shaft shapes (universal type, stirring type, multiple ultrasonic type, open type, closed type, etc.), etc. Also, an apparatus equipped with the above stirring method can be used.
The stirring method and the device equipped with the stirring method may be used alone or in combination of two or more kinds.

反応残渣と溶解化合物とを攪拌する時間は、一般的に用いられる範囲であれば特に限定されないが、化合物(4)が溶解化合物に溶解する量が増加する傾向にあることから、0.01時間以上であることが好ましく、0.1時間以上であることがより好ましく、0.5時間以上であることがさらに好ましく、1時間以上であることが特に好ましい。過剰な攪拌・混合する時間としないことで、経済性により優れる製造方法となる傾向にあることから、100時間以下であることが好ましく、同様の観点から50時間以下であることがより好ましく、10時間以下であることがさらに好ましく、5時間以下であることが特に好ましい。 The time for stirring the reaction residue and the dissolving compound is not particularly limited as long as it is within a commonly used range, but since the amount of compound (4) dissolved in the dissolving compound tends to increase, it is preferably 0.01 hours or more, more preferably 0.1 hours or more, even more preferably 0.5 hours or more, and particularly preferably 1 hour or more. Since avoiding excessive stirring and mixing times tends to result in a more economical production method, it is preferably 100 hours or less, and from the same perspective, it is more preferably 50 hours or less, even more preferably 10 hours or less, and particularly preferably 5 hours or less.

反応残渣と溶解化合物とを攪拌する温度は、一般的に用いられる温度であれば特に限定されないが、化合物(4)の溶解化合物への溶解する速度が向上する傾向にあることから、-40℃以上であることが好ましく、-20℃以上であることがより好ましい。同様の観点、及び工業的に温度調整する際の経済性に優れる傾向にあることから、0℃以上であることがさらに好ましく、10℃以上であることが特に好ましい。反応残渣と溶解化合物とを攪拌する温度の上限は、特に限定されないが、溶解化合物の種類によっては揮発する場合があることから、揮発を抑制でき、化合物(4)の析出を抑制できる傾向にあることから、120℃以下であることが好ましく、100℃以下がより好ましく、80℃以下であることがさらに好ましく、60℃以下であることが特に好ましい。
反応残渣と溶解化合物とを攪拌する温度は、上記範囲であれば一定である必要はなく、途中で変化させてもよい。
The temperature at which the reaction residue and the dissolved compound are stirred is not particularly limited as long as it is a commonly used temperature, but since the rate at which the compound (4) dissolves in the dissolved compound tends to improve, it is preferably -40°C or higher, and more preferably -20°C or higher. From the same viewpoint and from the tendency to be economically superior when adjusting the temperature industrially, it is more preferably 0°C or higher, and particularly preferably 10°C or higher. The upper limit of the temperature at which the reaction residue and the dissolved compound are stirred is not particularly limited, but since the dissolved compound may volatilize depending on the type, it tends to be possible to suppress volatilization and to suppress precipitation of the compound (4), so it is preferably 120°C or lower, more preferably 100°C or lower, more preferably 80°C or lower, and particularly preferably 60°C or lower.
The temperature at which the reaction residue and the dissolved compound are stirred does not need to be constant so long as it is within the above range, and may be changed during the process.

反応残渣と溶解化合物とを攪拌する圧力は、通常用いられる範囲であれば特に限定されず、通常は大気圧下で攪拌する。ただし、溶解化合物の種類によっては揮発する場合があることから、揮発を抑制するため、大気圧以上の加圧を行うことが有効な手段である。揮発する化合物を液化させ、再利用する場合には、大気圧以下の減圧であってもよい。
反応残渣と溶解化合物とを攪拌する圧力は、上記範囲であれば一定である必要はなく、途中で変化させてもよい。
The pressure for stirring the reaction residue and the dissolved compound is not particularly limited as long as it is within the range that is usually used, and stirring is usually performed under atmospheric pressure. However, since some types of dissolved compounds may volatilize, it is effective to apply pressure at atmospheric pressure or higher to suppress volatilization. When the volatilized compounds are liquefied and reused, reduced pressure below atmospheric pressure may be used.
The pressure under which the reaction residue and the dissolved compound are stirred does not need to be constant so long as it is within the above range, and may be changed during the process.

反応残渣と溶解化合物とを攪拌する雰囲気は、通常用いられる雰囲気であれば特に限定されず、通常は大気雰囲気、窒素雰囲気、及びアルゴン雰囲気等が用いられる。これらの中でも、より安全に化合物(4)を製造できる傾向にあることから、窒素雰囲気及びアルゴン雰囲気が好ましい。また、より経済性に優れる製造方法となる傾向にあることから、窒素雰囲気がより好ましい。
反応残渣と溶解化合物とを攪拌する雰囲気は、1種単独で用いてもよいし、複数種の雰囲気を組み合わせて用いてもよい。
The atmosphere in which the reaction residue and the dissolved compound are stirred is not particularly limited as long as it is a commonly used atmosphere, and usually, air atmosphere, nitrogen atmosphere, argon atmosphere, etc. are used. Among these, nitrogen atmosphere and argon atmosphere are preferred because they tend to produce compound (4) more safely. In addition, nitrogen atmosphere is more preferred because they tend to be a more economical production method.
The atmosphere for stirring the reaction residue and the dissolved compound may be one type alone or a combination of multiple types of atmospheres.

含フッ素スルホン酸塩溶解液に溶解していない化合物(2)を分離する方法としては、一般的に用いられる方法であれば特に限定されないが、例えば、ろ過分離する方法、遠心分離又は静置により化合物(2)を沈降させ固液分離して上澄みを採取する方法等が挙げられる。中でも、化合物(4)の回収量が多くなり、化合物(4)を製造する際の経済性に優れる傾向にあることから、ろ過分離が好ましい。 The method for separating compound (2) that is not dissolved in the fluorine-containing sulfonate solution is not particularly limited as long as it is a commonly used method, and examples thereof include a method of filtration separation, a method of precipitating compound (2) by centrifugation or leaving to stand, followed by solid-liquid separation and collection of the supernatant. Among these, filtration separation is preferred because it tends to increase the recovery amount of compound (4) and is therefore more economical when producing compound (4).

ろ過分離の方法としては、一般的に用いられる方法であれば特に限定されないが、例えば、重力式ろ過、遠心式ろ過、加圧式ろ過、減圧式ろ過、圧搾式ろ過、磁気式ろ過、静電式ろ過等の方法が挙げられる。これらはバッチ方式でも、連続方式でもよい。
ろ過装置は、ろ過方式により一般的に用いられる装置であれば、特に限定されないが、大別するならば、例えば、水平ろ板型装置、多室水平ろ板型装置、セラミック膜型装置、円筒多室型装置、円筒単室型装置、水平走行型装置、サイホン型装置、バスケット型装置、分離板型装置、デカンタ型装置、キャンドルフィルター等が挙げられる。
ろ過装置は、1種単独でも、複数種組み合わせて用いてもよい。
The method of filtration and separation is not particularly limited as long as it is a commonly used method, and examples thereof include gravity filtration, centrifugal filtration, pressure filtration, reduced pressure filtration, squeeze filtration, magnetic filtration, electrostatic filtration, etc. These may be batch or continuous.
The filtration device is not particularly limited as long as it is a device commonly used depending on the filtration method, but can be broadly classified into, for example, horizontal filter plate type devices, multi-chamber horizontal filter plate type devices, ceramic membrane type devices, cylindrical multi-chamber type devices, cylindrical single-chamber type devices, horizontal traveling type devices, siphon type devices, basket type devices, separation plate type devices, decanter type devices, candle filters, etc.
The filtration device may be used alone or in combination of two or more types.

ろ過装置をより具体的に例示するならば、ストレーナ、砂ろ過機、コークスフィルタろ過機、焼結ろ材ろ過機、ヌッチェフィルタ、振動スクリーン、ロータリースクリーン、ベルトストレーナ、キャンドルプレートディスク、ロータリードラムフィルタ、ロータリーディスクフィルタ、ベルトフィルタ、テーブルフィルタ、パンフィルタ、内部フィード型ドラムフィルタ等の重力式ろ過装置;バッチフィルタ、クオータフィルタ、スクロールフィルタ、プッシャ、バイブレータ、遠心ろ過機等の遠心式ろ過装置;加圧ヌッチェ、フィルタプレス、エッジフィルタ、コンパートメントフィルタ、ペーパーロールフィルタ、遠心排出リーフ、リパルブリーフ、ピストンプレス、プレートプレス、スクリュープレス、シュナイダフィルタ、加圧型スクレーパーディスチャージフィルタ、バグフィルタ、キャンドルフィルタ、ドルックフィルター、焼結ろ材ろ過機等の加圧式ろ過装置;真空ヌッチェ、ドラムフィルタ、ヤングフィルタ、ディクスフィルタ、ホリゾンタルフィルタ、水平ベルトフィルタ、ヌッチェフィルタ、リーフフィルタ、キャンドルプレートディスク、ロータリーディスクフィルタ、ロータリードラムフィルタ、ベルトフィルタ、テーブルフィルタ、パンフィルタ、内部フィード型ドラムフィルタ、焼結ろ材ろ過機等の減圧式ろ過装置;ベルトプレス、スクリュープレス、チューブプレス、マルスプレス等の圧搾式ろ過装置;リング形磁気セパレータ、シリンダ形磁気セパレータ等の磁気式ろ過装置;回転式静電セパレータ等の静電式ろ過装置等が挙げられる。
なお、ろ過分離する際に利用するろ過装置には、固体を捕集し、液体を透過させるろ過層が具備されているが、本願においては、該ろ過層のことをろ材、という。
More specific examples of filtration devices include gravity type filtration devices such as strainers, sand filters, coke filter filters, sintered filter media filters, Nutsche filters, vibrating screens, rotary screens, belt strainers, candle plate discs, rotary drum filters, rotary disc filters, belt filters, table filters, pan filters, and internal feed type drum filters; centrifugal type filtration devices such as batch filters, quarter filters, scroll filters, pushers, vibrators, and centrifugal filters; pressurized Nutsche filters, filter presses, edge filters, compartment filters, paper roll filters, centrifugal discharge leaves, repulsive leaves, piston presses, plate presses, screw presses, Schneider filters, and pressurized pressurized filtration devices such as scraper discharge filters, bag filters, candle filters, Druck filters, and sintered media filters; reduced pressure filtration devices such as vacuum Nutsche filters, drum filters, Young filters, Dix filters, horizontal filters, horizontal belt filters, Nutsche filters, leaf filters, candle plate discs, rotary disc filters, rotary drum filters, belt filters, table filters, pan filters, internal feed type drum filters, and sintered media filters; compression filtration devices such as belt presses, screw presses, tube presses, and Mars presses; magnetic filtration devices such as ring-type magnetic separators and cylindrical magnetic separators; and electrostatic filtration devices such as rotary electrostatic separators.
The filtration device used for filtration and separation is equipped with a filtration layer that collects solids and allows liquids to pass through, and in this application, the filtration layer is referred to as a filter medium.

化合物(2)を沈降させ固液分離して上澄みを採取する方法に利用できる装置としては、一般的に用いられる装置であれば特に限定されないが、例えば、デカンター、静止スクリーンジング機、運動スクリーンジング機、テーブル機、連続沈降タンク、バッチ沈降タンク、プレート付タンク、沈降浮上タンク、傾斜分級機、スパイラル分級機、沈降コーン、フィルター、シックナー、スクロール、スクロールディスク、グラビトロール、ディスクバッチ、円筒型ボウル、同心円形ボウル、ドラム沈降機、ハイドロサイクロン、セントル等が挙げられる。 The apparatus that can be used in the method of settling compound (2), separating the solid and liquid, and collecting the supernatant is not particularly limited as long as it is a commonly used apparatus, but examples include a decanter, a static screening machine, a moving screening machine, a table machine, a continuous settling tank, a batch settling tank, a tank with plates, a settling and flotation tank, an inclined classifier, a spiral classifier, a settling cone, a filter, a thickener, a scroll, a scroll disc, a gravitrol, a disc batch, a cylindrical bowl, a concentric circular bowl, a drum settling machine, a hydrocyclone, a centrifugal separator, and the like.

ろ過分離においては、必要に応じてろ過助剤を用いることができる。ろ過助剤を用いることで、化合物(2)の除去効率の向上(残留量の低減及びろ過時間の短縮)を図ることができる。 In the filtration separation, a filter aid can be used as necessary. By using a filter aid, the removal efficiency of compound (2) can be improved (reducing the amount of residue and shortening the filtration time).

ろ過助剤としては、一般的に利用されるろ過助剤であれば特に限定されないが、例示するならば、珪藻土(例えば、昭和化学工業株式会社製ラヂオライト、イメリス社製セライト等)、パーライト(例えば、昭和化学工業株式会社製トプコ、三井金属鉱業株式会社製ロカヘルプ等)、粉末セルロース(例えば、日本製紙株式会社製KCフロック、株式会社武蔵野化学研究所製ロカエース・シルキーエイド等)等が挙げられる。また、乾燥品、焼成品、融剤焼成品いずれのものであっても利用できる。これらの中でも化合物(2)の除去効率に優れていることに加え、入手が容易であり、スルホン酸基含有モノマーを精製する工程の経済性が向上する傾向にあることから、珪藻土、及び/又はパーライトが好ましく、珪藻土がより好ましい。
ろ過助剤は、1種単独でも複数種組み合わせて用いてもよい。
The filter aid is not particularly limited as long as it is a commonly used filter aid, but examples include diatomaceous earth (e.g., Radiolite manufactured by Showa Chemical Industry Co., Ltd., Celite manufactured by Imerys Co., Ltd., etc.), perlite (e.g., Topco manufactured by Showa Chemical Industry Co., Ltd., Rocahelp manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd., etc.), powdered cellulose (e.g., KC Flock manufactured by Nippon Paper Industries Co., Ltd., Rocaace Silky Aid manufactured by Musashino Chemical Research Institute Co., Ltd., etc.), etc. In addition, any of dried products, fired products, and flux fired products can be used. Among these, diatomaceous earth and/or perlite are preferred, and diatomaceous earth is more preferred, because they have excellent removal efficiency of compound (2), are easily available, and tend to improve the economic efficiency of the process of purifying sulfonic acid group-containing monomers.
The filter aids may be used alone or in combination of two or more.

ろ過助剤の透過率(Darcy)は、一般的に利用される透過率(Darcy)の範囲内であれば特に限定されないが、0.01~30であることが好ましい。化合物(2)の残留量が少なく、且つろ過時間が短くなる傾向にあることから、0.03以上であることが好ましく、0.05以上であることがより好ましい。化合物(2)のろ過時間が短く、且つ残留量が少なくなる傾向にあることから、22以下であることが好ましく、2以下であることがより好ましく、0.25以下であることがさらに好ましい。 The transmittance (Darcy) of the filter aid is not particularly limited as long as it is within the range of transmittances (Darcy) commonly used, but is preferably 0.01 to 30. Since the amount of compound (2) remaining is small and the filtration time tends to be short, it is preferably 0.03 or more, and more preferably 0.05 or more. Since the filtration time of compound (2) is short and the amount of compound (2) remaining is small, it is preferably 22 or less, more preferably 2 or less, and even more preferably 0.25 or less.

ろ過助剤の使用量は、一般的に利用される使用量であれば特に限定されないが、化合物(2)の質量(η)とろ過助剤の質量(θ)との比率(θ/η)が、0.1~100、であることが好ましい。化合物(2)の残留量がより少なくなる傾向にあり、ろ過時間が短くなる傾向になることから、β/αは0.5以上であることが好ましく、0.8以上であることがより好ましく、1以上であることがさらに好ましい。化合物(2)のろ過時間が短くなる傾向にあることから、β/αは50以下であることが好ましく、30以下であることがより好ましい。同様の観点、及びろ過助剤の使用量が低減し、化合物(4)を製造する際の経済性が向上する傾向にあることから、20以下であることがさらに好ましく、10以下であることが特に好ましい。 The amount of the filter aid used is not particularly limited as long as it is a commonly used amount, but it is preferable that the ratio (θ/η) of the mass (η) of compound (2) to the mass (θ) of the filter aid is 0.1 to 100. Since the amount of residual compound (2) tends to be smaller and the filtration time tends to be shorter, β/α is preferably 0.5 or more, more preferably 0.8 or more, and even more preferably 1 or more. Since the filtration time of compound (2) tends to be shorter, β/α is preferably 50 or less, and more preferably 30 or less. From the same viewpoint, and since the amount of filter aid used tends to be reduced and the economic efficiency of producing compound (4) tends to be improved, it is more preferable that it is 20 or less, and particularly preferable that it is 10 or less.

なお、ここでいうろ過助剤の使用量とは、ろ過分離に用いられるろ過助剤の総量である。例えば、プリコート法とボディーフィード法を併用した場合には、2つの方法で使用したろ過助剤の総量である。また、ろ過分離で形成されたろ過助剤層を部分的に除去し、残ったろ過助剤層を再利用する場合には、供給するろ過助剤と残ったろ過助剤層との総量である。 The amount of filter aid used here refers to the total amount of filter aid used in filtration and separation. For example, when the precoat method and the body feed method are used in combination, it refers to the total amount of filter aid used in the two methods. Also, when the filter aid layer formed in filtration and separation is partially removed and the remaining filter aid layer is reused, it refers to the total amount of the filter aid supplied and the remaining filter aid layer.

ろ過助剤の使用方法は、一般的に利用される使用方法であれば特に限定されないが、例えば、ろ材にろ過助剤を張り付けてろ過助剤の層を形成させ、ろ過を行うプリコート法、ろ過したい液にろ過助剤を添加してろ過するボディーフィード法等が挙げられる。これらは1種単独でも、複数種組み合わせて用いてもよい。ろ材の目詰まりが抑制できる傾向にあり、ろ過助剤の層の表面の目詰まりが抑制できる傾向にあり、工業的な規模で運転できる期間が延びる傾向にあることから、プリコート法とボディーフィード法を併用する方法が好ましい。 The method of using the filter aid is not particularly limited as long as it is a commonly used method, but examples include the precoat method in which the filter aid is attached to a filter medium to form a layer of the filter aid and then filtration is performed, and the body feed method in which the filter aid is added to the liquid to be filtered and then filtered. These methods may be used alone or in combination of multiple types. A combined use of the precoat method and the body feed method is preferred, as this tends to suppress clogging of the filter medium, tends to suppress clogging of the surface of the filter aid layer, and tends to extend the period during which operation can be performed on an industrial scale.

ろ過分離する際に用いるろ材は、一般的に用いられるろ材であれば特に限定されないが、例えば、ろ布、金属フィルター、金属焼結フィルター、金属繊維/粉末積層タイプ等が挙げられる。これらは1種単独でも、複数種組み合わせて用いてもよい。ろ布を用いる場合には、ろ布の強度を向上させるため、金属フィルター等のろ布を支持するろ材と組み合わせて用いることもできる。 The filter medium used for filtration and separation is not particularly limited as long as it is a commonly used filter medium, but examples include filter cloth, metal filters, sintered metal filters, metal fiber/powder laminated types, etc. These may be used alone or in combination of multiple types. When using filter cloth, it can also be used in combination with a filter medium that supports the filter cloth, such as a metal filter, in order to improve the strength of the filter cloth.

ろ布の材質は、一般的に用いられるものであれば特に限定されないが、例えば、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリアミド、塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリテトラフルオロエチレン、モダアクリル、綿等が挙げられる。入手容易であり、スルホン酸基含有モノマーを精製する工程の経済性が向上する傾向にあることから、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリアミドが好ましく、ポリプロピレン、ポリエステルであることがより好ましい。ろ過したい液の性状により、ろ布の耐久性が求められる場合には、塩化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレンが好ましく、ポリテトラフルオロエチレンがより好ましい。 The material of the filter cloth is not particularly limited as long as it is a commonly used material, but examples include polypropylene, polyester, polyamide, vinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polytetrafluoroethylene, modacrylic, cotton, etc. Polypropylene, polyester, and polyamide are preferred, and polypropylene and polyester are more preferred, because they are easily available and tend to improve the economic efficiency of the process of purifying sulfonic acid group-containing monomers. When durability of the filter cloth is required due to the properties of the liquid to be filtered, vinylidene chloride and polytetrafluoroethylene are preferred, and polytetrafluoroethylene is more preferred.

金属製のろ材の材質は、一般的に用いられるものであれば特に限定されないが、鉄、炭素鋼、ステンレススチール、ニッケルにモリブデン・クロム・鉄等を加えた合金(例えば、ハステロイ(商品名)、インコネル(商品名)等)、ニッケル、チタン等が挙げられる。入手容易であり、スルホン酸基含有モノマーを精製する工程の経済性が向上する傾向にあることから、鉄、炭素鋼、ステンレススチールが好ましく、同時に金属製ろ材の耐久性が求められる場合には、ステンレススチールがより好ましい。ろ過したい液の性状により、金属製ろ材の耐久性が求められる場合には、ニッケルにモリブデン・クロム・鉄等を加えた合金、ニッケルが好ましく、同時に入手容易であることが求められる場合には、ニッケルにモリブデン・クロム・鉄等を加えた合金がより好ましい。 The material of the metallic filter medium is not particularly limited as long as it is a commonly used material, but examples thereof include iron, carbon steel, stainless steel, alloys of nickel with molybdenum, chromium, iron, etc. (e.g. Hastelloy (trade name), Inconel (trade name), etc.), nickel, titanium, etc. Iron, carbon steel, and stainless steel are preferred because they are easily available and tend to improve the economic efficiency of the process of refining sulfonic acid group-containing monomers, and stainless steel is more preferred when durability of the metallic filter medium is required at the same time. When durability of the metallic filter medium is required due to the properties of the liquid to be filtered, alloys of nickel with molybdenum, chromium, iron, etc. and nickel are preferred, and when ease of availability is required at the same time, alloys of nickel with molybdenum, chromium, iron, etc. are more preferred.

ろ材の通気度は、一般的な範囲であれば特に限定されないが、0.01~200cm/cm・sであることが好ましい。化合物(2)のろ過時間が短くなる傾向にあることから、0.05cm/cm・s以上であることが好ましく、0.1cm/cm・s以上であることがより好ましい。化合物(2)の残留量がより少なくなる傾向にあり、ろ過助剤を使用した場合にはろ過助剤の透過量が少なくなる傾向にあることから、100cm/cm・s以下であることが50cm/cm・s以下であることがより好ましく、20cm/cm・s以下であることがさらに好ましい。 The air permeability of the filter medium is not particularly limited as long as it is in a general range, but is preferably 0.01 to 200 cm 3 /cm 2 ·s. Since the filtration time of the compound (2) tends to be shorter, it is preferably 0.05 cm 3 /cm 2 ·s or more, and more preferably 0.1 cm 3 /cm 2 ·s or more. Since the residual amount of the compound (2) tends to be smaller, and when a filter aid is used, the permeation amount of the filter aid tends to be smaller, it is more preferably 100 cm 3 /cm 2 ·s or less, more preferably 50 cm 3 /cm 2 ·s or less, and even more preferably 20 cm 3 /cm 2 ·s or less.

ろ過分離する際の温度は、一般的な温度範囲であれば特に限定されないが、0~120℃であることが好ましい。ろ液の粘性が低下し、ろ過時間が短くなる傾向にあることや、化合物(2)以外の析出を抑制できる場合があることから、ろ過分離する温度は、10℃以上であることが好ましく、20℃以上であることがより好ましい。ろ過したい液から生じる揮発成分の量が低減する傾向にあり、析出物の状態の変化が抑制できる傾向にあることから、100℃以下であることが好ましく、80℃以下であることがより好ましい。化合物(2)が溶解化合物に溶解する量が低減し、化合物(2)の残留量がより少なくなる傾向にあることから、70℃以下であることがさらに好ましく、60℃以下であることが特に好ましい。
ろ過分離する際の温度は、一定であっても、変化させてもよい。
The temperature during filtration and separation is not particularly limited as long as it is within a general temperature range, but is preferably 0 to 120°C. The temperature during filtration and separation is preferably 10°C or higher, more preferably 20°C or higher, since the viscosity of the filtrate tends to decrease, the filtration time tends to be shortened, and precipitation of compounds other than compound (2) may be suppressed. The temperature during filtration and separation is preferably 100°C or lower, more preferably 80°C or lower, since the amount of volatile components generated from the liquid to be filtered tends to decrease and changes in the state of the precipitate tend to be suppressed. The temperature is further preferably 70°C or lower, and particularly preferably 60°C or lower, since the amount of compound (2) dissolved in the dissolving compound tends to decrease and the remaining amount of compound (2) tends to be smaller.
The temperature during filtration and separation may be constant or may be varied.

ろ材を挟んでろ過する液を供給する側の圧力(以下、「上流側圧力」という)よりも、ろ材を挟んでろ過する液が透過する側の圧力(以下、「下流圧力」という)の方が低いことで、ろ材を挟んでろ過する液を供給する側に化合物(2)が捕集され、ろ材を挟んでろ過する液が透過する側にろ液が回収できる。 The pressure on the side where the liquid passes through the filter media (hereinafter referred to as the "downstream pressure") is lower than the pressure on the side where the liquid is supplied through the filter media (hereinafter referred to as the "upstream pressure"), so that compound (2) is captured on the side where the liquid is supplied through the filter media, and the filtrate can be recovered on the side where the liquid passes through the filter media.

ろ過する際の上流側圧力、及び下流側圧力は、前記圧力の状態であって、一般的に用いられる圧力であれば特に限定されず、一定であっても、変化させてもよい。 The upstream pressure and downstream pressure during filtration are not particularly limited as long as they are in the above-mentioned pressure state and are commonly used pressures, and may be constant or may be changed.

ろ過の方法が重力式ろ過では、上流側圧力は常圧であり、ろ過する液の重量によって生じる圧力によって、ろ過分離することができる。 When the filtration method is gravity filtration, the upstream pressure is normal pressure, and filtration and separation are achieved by the pressure generated by the weight of the liquid being filtered.

ろ過の方法が加圧式ろ過では、上流側圧力を加圧することで、ろ過分離することができる。加圧式ろ過での上流側圧力は、一般的に用いられる圧力であれば特に限定されないが、0.01~2.0MPaGであることが好ましい。化合物(2)のろ過時間が短くなる傾向にあることから、0.05MPaG以上であることがより好ましく、0.1MPaG以上であることがさらに好ましい。ろ過装置の圧力耐性が低くても、工業的にろ過することが可能となり、ろ過装置の一般的な入手が容易となる傾向にあることから、1.0MPaG以下であることがより好ましく、0.6MPaG以下であることがさらに好ましく、0.4MPaG以下であることが特に好ましい。加圧式ろ過での下流側圧力は、通常常圧だが、化合物(2)のろ過時間をより短くしたい場合には、減圧することもできる。
加圧式ろ過での上流側圧力、下流側圧力は、一定でも変化させてもよい。
In the case of pressure filtration, the upstream pressure is increased to perform filtration and separation. The upstream pressure in pressure filtration is not particularly limited as long as it is a commonly used pressure, but is preferably 0.01 to 2.0 MPaG. Since the filtration time of compound (2) tends to be shortened, it is more preferably 0.05 MPaG or more, and even more preferably 0.1 MPaG or more. Even if the pressure resistance of the filtration device is low, industrial filtration is possible, and filtration devices tend to be generally easily available, so it is more preferably 1.0 MPaG or less, even more preferably 0.6 MPaG or less, and particularly preferably 0.4 MPaG or less. The downstream pressure in pressure filtration is usually normal pressure, but can be reduced if it is desired to shorten the filtration time of compound (2).
The upstream and downstream pressures in pressure filtration may be constant or may be varied.

減圧式ろ過での下流側圧力は、一般的に用いられる圧力であれば特に限定されないが、常圧以下である。化合物(2)のろ過時間が短くなる傾向にあることから、0.08MPaA以下であることが好ましく、0.06MPaA以下であることがより好ましく、0.04MPaA以下であることがさらに好ましい。減圧式ろ過での下流側圧力の下限は特に限定されず、減圧するためのポンプ等の能力やろ過装置の気密度等により変化するが、減圧するためのポンプの大きさが低減される傾向にあることや、ろ過装置の気密度を高くするためにろ過装置の構造が複雑になることが抑制される傾向にあることから、0.1kPaA以上であることが好ましく、1kPaA以上であることがより好ましく、2kPaA以上であることがより好ましい。
減圧式ろ過での下流側圧力は、一定でも変化させてもよい。
The downstream pressure in the reduced pressure filtration is not particularly limited as long as it is a commonly used pressure, but is below normal pressure. Since the filtration time of compound (2) tends to be shortened, it is preferably 0.08 MPaA or less, more preferably 0.06 MPaA or less, and even more preferably 0.04 MPaA or less. The lower limit of the downstream pressure in the reduced pressure filtration is not particularly limited, and varies depending on the capacity of the pump for reducing the pressure and the airtightness of the filtration device, etc., but since the size of the pump for reducing the pressure tends to be reduced and the structure of the filtration device tends to be suppressed from becoming complicated in order to increase the airtightness of the filtration device, it is preferably 0.1 kPaA or more, more preferably 1 kPaA or more, and more preferably 2 kPaA or more.
The downstream pressure in vacuum filtration may be constant or may vary.

遠心ろ過する際の遠心力は、一般的に用いられる遠心力の範囲であれば特に限定されないが、100~10000Gであることが好ましい。化合物(2)のろ過時間が短くなる傾向にあることから、500G以上であることがより好ましく、1000G以上であることがさらに好ましい。遠心ろ過装置の構造が複雑になることが抑制される傾向にあることから、8000G以下であることがより好ましく、7000G以下であることがさらに好ましい。
遠心ろ過する際の遠心力は、一定でも変化させもよい。
The centrifugal force during centrifugal filtration is not particularly limited as long as it is within the range of commonly used centrifugal forces, but is preferably 100 to 10,000 G. Since the filtration time of compound (2) tends to be shortened, it is more preferably 500 G or more, and even more preferably 1,000 G or more. Since the structure of the centrifugal filtration device tends to be prevented from becoming complicated, it is more preferably 8,000 G or less, and even more preferably 7,000 G or less.
The centrifugal force during centrifugal filtration may be constant or may be varied.

ろ過する液の供給量は、一般的な供給量の範囲であれば特に限定されないが、10~10000kg/m・hrであることが好ましい。化合物(4)の時間当たりの回収量が向上し、化合物(4)を精製する際の経済性が向上する傾向にあることから、50kg/m・hr以上であることがより好ましく、80kg/m・hr以上であることがさらに好ましい。ろ過する液の供給量が多い場合、ろ材を透過する液の量を多くする必要がある。そのため、ろ材やろ過助剤での抵抗を下げる必要があり、ろ材の通気度やろ過助剤の透気度を大きくする必要がある。結果として、化合物(2)の残留量が多くなることになる。以上のことより、化合物(2)の残留量を少なくする傾向にあることから、5000kg/m・hr以下であることがより好ましく、1000kg/m・hr以下であることがさらに好ましい。
ろ過する液の供給量は、一定でも変化させてもよい。
The supply amount of the liquid to be filtered is not particularly limited as long as it is within the range of a general supply amount, but is preferably 10 to 10,000 kg/m 2 ·hr. Since the recovery amount per hour of compound (4) is improved and the economy when purifying compound (4) tends to improve, it is more preferable that it is 50 kg/m 2 ·hr or more, and even more preferable that it is 80 kg/m 2 ·hr or more. When the supply amount of the liquid to be filtered is large, it is necessary to increase the amount of liquid passing through the filter medium. Therefore, it is necessary to reduce the resistance of the filter medium and the filter aid, and it is necessary to increase the air permeability of the filter medium and the air permeability of the filter aid. As a result, the residual amount of compound (2) will increase. From the above, since there is a tendency to reduce the residual amount of compound (2), it is more preferable that it is 5000 kg/m 2 ·hr or less, and even more preferable that it is 1000 kg/m 2 ·hr or less.
The supply of liquid to be filtered may be constant or may vary.

ろ過する際の雰囲気は、通常用いられる雰囲気であれば特に限定されず、通常は大気雰囲気、窒素雰囲気、及びアルゴン雰囲気等が用いられる。これらの中でも、より安全に化合物(4)を製造できる傾向にあることから、窒素雰囲気及びアルゴン雰囲気が好ましい。また、より経済性に優れる製造方法となる傾向にあることから、窒素雰囲気がより好ましい。
ろ過する雰囲気は、1種単独で用いてもよいし、複数種の雰囲気を組み合わせて用いてもよい。
The atmosphere during filtration is not particularly limited as long as it is a commonly used atmosphere, and usually, air atmosphere, nitrogen atmosphere, argon atmosphere, etc. are used. Among these, nitrogen atmosphere and argon atmosphere are preferred because they tend to produce compound (4) more safely. In addition, nitrogen atmosphere is more preferred because they tend to be a more economical production method.
The filtration atmosphere may be one type alone or a combination of a plurality of types of atmospheres.

含フッ素スルホン酸塩溶解液をろ過し、回収した化合物(2)を含む混合物(以下、「ろ物」という)は、化合物(1)から化合物(3)を製造する方法に再利用することができる。ろ物はそのまま用いてもよいし、溶解化合物を真空乾燥等により乾燥した後、用いてもよい。また、化合物(1)から化合物(3)を製造する方法に再利用する際には、化合物(1)から化合物(3)を製造する方法に、未利用の化合物(2)とろ物、又は乾燥したろ物を混合し、利用してもよい。 The mixture containing compound (2) recovered by filtering the fluorine-containing sulfonate solution (hereinafter referred to as the "filtered residue") can be reused in the method for producing compound (3) from compound (1). The filtered residue may be used as is, or the dissolved compound may be dried by vacuum drying or the like before being used. When reusing the filtered residue in the method for producing compound (3) from compound (1), the unused compound (2) and the filtered residue, or the dried filtered residue, may be mixed and used in the method for producing compound (3) from compound (1).

含フッ素スルホン酸塩溶解液をろ過し、回収した化合物(4)を含む溶液(以下、「含フッ素スルホン酸塩含有ろ液」という。)から溶解化合物を分離し、化合物(4)を得る方法としては、一般的に用いられる方法であれば特に限定されず、例えば、常圧、又は減圧の圧力状態にて、常温、又は加熱条件にて、溶解化合物を留去し、化合物(4)を分離する方法が挙げられる。常温を越える温度に加熱する際の温度としては、一般的に用いられる範囲であれば特に限定されないが、化合物(4)の変質が抑制できる傾向にあることから、250℃以下であることが好ましく、200℃以下であることがより好ましく、150℃以下であることがさらに好ましく、120℃以下であることが特に好ましい。
前記の加熱する際の温度は、一定であっても、途中で変化させてもよい。
The method for obtaining compound (4) by filtering the fluorine-containing sulfonate solution and separating the dissolved compounds from the recovered solution containing compound (4) (hereinafter referred to as "fluorine-containing sulfonate-containing filtrate") is not particularly limited as long as it is a commonly used method, and examples thereof include a method in which the dissolved compounds are distilled off under normal pressure or reduced pressure at room temperature or under heating conditions to separate compound (4). The temperature when heating to a temperature above room temperature is not particularly limited as long as it is within a commonly used range, but since there is a tendency for deterioration of compound (4) to be suppressed, it is preferably 250°C or less, more preferably 200°C or less, even more preferably 150°C or less, and particularly preferably 120°C or less.
The temperature during the heating may be constant or may be changed during the heating process.

溶解化合物を留去し、化合物(4)を分離する際、常圧より低い圧力に減圧する時の圧力下限は特に限定されず、減圧するためのポンプ等の能力や用いられる装置の気密度等により変化するが、減圧するためのポンプの大きさが低減される傾向にあることや、用いられる装置の気密度を高くするためにろ過装置の構造が複雑になることが抑制される傾向にあることから、0.1kPaA以上であることが好ましく、1kPaA以上であることがより好ましく、2kPaA以上であることがより好ましい。
減圧の圧力は、一定でも変化させてもよい。
When the dissolved compounds are distilled off and compound (4) is separated, the lower limit of the pressure when reducing the pressure to a pressure lower than normal pressure is not particularly limited and varies depending on the capacity of a pump or the like for reducing the pressure and the airtightness of the apparatus used. However, since there is a tendency for the size of the pump for reducing the pressure to be reduced and for the airtightness of the apparatus used to be increased, the structure of the filtration apparatus to be prevented from becoming complicated, the lower limit is preferably 0.1 kPaA or more, more preferably 1 kPaA or more, and even more preferably 2 kPaA or more.
The reduced pressure may be constant or may vary.

溶解化合物を留去し、化合物(4)を分離する際の雰囲気は、通常用いられる雰囲気であれば特に限定されず、通常は大気雰囲気、窒素雰囲気、及びアルゴン雰囲気等が用いられる。これらの中でも、より安全に化合物(4)を製造できる傾向にあることから、窒素雰囲気及びアルゴン雰囲気が好ましい。また、より経済性に優れる製造方法となる傾向にあることから、窒素雰囲気がより好ましい。溶解化合物を留去する際には、雰囲気を流通させることで、溶解化合物の留去を促進できる傾向にあるため、好ましい方法として用いられる場合がある。
溶解化合物を留去し、化合物(4)を分離する際の雰囲気は、1種単独で用いてもよいし、複数種の雰囲気を組み合わせて用いてもよい。
The atmosphere in which the dissolved compounds are distilled off and the compound (4) is separated is not particularly limited as long as it is a commonly used atmosphere, and usually, an air atmosphere, a nitrogen atmosphere, an argon atmosphere, etc. are used. Among these, a nitrogen atmosphere and an argon atmosphere are preferred because they tend to produce the compound (4) more safely. In addition, a nitrogen atmosphere is more preferred because they tend to be a more economical production method. When the dissolved compounds are distilled off, circulation of the atmosphere tends to promote the distillation of the dissolved compounds, and therefore may be used as a preferred method.
The atmosphere used for distilling off the dissolved compounds and separating the compound (4) may be one type alone or a combination of two or more types of atmospheres.

含フッ素スルホン酸塩含有ろ液から溶解化合物を分離する際に用いられる装置としては、一般的に用いられる装置であれば特に限定されないが、例えば、竪型混合乾燥機、横型混合乾燥機、噴霧乾燥機、振動乾燥機、棚段乾燥機、ダブルコーンドライヤー、ベルト式乾燥機、ロータリーエバポレータ等が挙げられる。より具体的に例示するならば、リボコーン、インナーチューブロータリー、スラッジ・ドライヤー、スーパーロータリードライヤー、FVドライヤー、横型流動層乾燥装置、スリットフロー、コンダクションフロー、スラリードライヤー、ロートスルー、カスタムドライヤー、エコドライヤー、グルーヴィードライヤー、及びH-VCDドライヤー(株式会社大川原製作所製)、PV Mixer、SV Mixer、コニカルドライヤ、及び回転型ろ過乾燥機(株式会社神鋼環境ソリューション製)、真空攪拌ドライヤー、振動流動層装置、振動乾燥機、ドラムドライヤー、棚式真空ドライヤー、ダブルコーンドライヤー(中央化工機株式会社製)、パドルドライヤー、ブーノクーラー、シングルパドルドライヤー、マルチフィンプロセッサー、連続式流動層乾燥機、バッチ式流動乾燥機、トルネッシュドライヤー、媒体流動乾燥機、タワードライヤー、及び瞬間気流乾燥機(株式会社奈良機械製作所製)、CDドライヤ、M-CDドライヤ、KIDドライヤ、スチームチューブドライヤ、気流乾燥システム、流動層乾燥装置、バンドドライヤ、ロートルーバドライヤ、ロータリードライヤ、気流乾燥装置、SCプロセッサ、及びロータリーキルン(株式会社栗本鐵工所製)、バンド乾燥機、熱風箱型乾燥機、流動乾燥機、振動流動乾燥機、気流乾燥機、ロータリクラッシャドライヤ、コニカルブレンダドライヤ、ドラムドライヤ、ジャケットロータリドライヤ、真空棚段乾燥機、真空振動乾燥機、及び攪拌乾燥機(日本乾燥機株式会社製)、ドラムドライヤ、真空式ドラムドライヤ、真空式攪拌乾燥機、及びダブルコーンドライヤ(カツラギ工業株式会社製)、ハイエバオレーター(株式会社櫻製作所製)、竪型攪拌乾燥機(サリエント工業株式会社製)が挙げられる。
これらの装置は、1種単独でも、複数種組み合わせて用いてもよい。
The apparatus used in separating the dissolved compound from the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate is not particularly limited as long as it is a commonly used apparatus, and examples thereof include a vertical mixer dryer, a horizontal mixer dryer, a spray dryer, a vibration dryer, a tray dryer, a double cone dryer, a belt dryer, a rotary evaporator, etc. More specific examples include a rebo-cone, an inner tube rotary, a sludge dryer, a super rotary dryer, an FV dryer, a horizontal fluidized bed dryer, a slit flow, a conduction flow, a slurry dryer, a rototiller, a custom dryer, an eco dryer, a groovy dryer, and an H-VCD dryer (manufactured by Okawara Manufacturing Co., Ltd.), a PV Mixer, an SV Mixer, conical dryer, and rotary filter dryer (manufactured by Kobelco Eco-Solutions Co., Ltd.), vacuum agitator dryer, vibrating fluidized bed device, vibrating dryer, drum dryer, shelf-type vacuum dryer, double cone dryer (manufactured by Chuo Kakoki Co., Ltd.), paddle dryer, Boono cooler, single paddle dryer, multi-fin processor, continuous fluidized bed dryer, batch-type fluidized dryer, Tornesch dryer, media fluidized dryer, tower dryer, and instantaneous airflow dryer (manufactured by Nara Machinery Co., Ltd.), CD dryer, M-CD dryer, KID dryer, steam tube dryer, airflow drying system, fluidized bed dryer, band dryer Examples of such dryers include dryers, rotovad dryers, rotary dryers, airflow dryers, SC processors, and rotary kilns (manufactured by Kurimoto Iron Works, Ltd.), band dryers, hot air box dryers, fluidized bed dryers, vibration fluidized bed dryers, airflow dryers, rotary crusher dryers, conical blender dryers, drum dryers, jacketed rotary dryers, vacuum tray dryers, vacuum vibration dryers, and agitator dryers (manufactured by Nippon Dryer Co., Ltd.), drum dryers, vacuum drum dryers, vacuum agitator dryers, and double cone dryers (manufactured by Katsuragi Kogyo Co., Ltd.), high evaporators (manufactured by Sakura Seisakusho Co., Ltd.), and vertical agitator dryers (manufactured by Salient Kogyo Co., Ltd.).
These devices may be used alone or in combination of two or more types.

上記のようにして、化合物(2)から分離した化合物(4)は、国際公開第2020/012913号に記載の方法に従い、化合物(1)の原料として再利用することができる。 Compound (4) separated from compound (2) as described above can be reused as a raw material for compound (1) according to the method described in WO 2020/012913.

溶解化合物を留去し、化合物(4)を分離する際に得られる溶解化合物は、反応残渣から化合物(4)を分離する方法に再利用することができる。再利用する際は、溶解化合物を留去し、化合物(4)を分離する際に得られる溶解化合物と、未利用の溶解化合物を混合して用いてもよい。 The dissolved compound obtained when the dissolved compound is distilled off and compound (4) is separated can be reused in a method for separating compound (4) from a reaction residue. When reusing, the dissolved compound obtained when the dissolved compound is distilled off and compound (4) is separated may be mixed with unused dissolved compound.

含フッ素スルホン酸塩含有ろ液へ水を添加する、又は含フッ素スルホン酸塩含有ろ液を水へ添加し、溶解化合物を留去することによって、化合物(4)を析出させることなく、化合物(4)を含む水溶液(以下、「含フッ素スルホン酸塩含有水溶液」という。)を調整することができる。含フッ素スルホン酸塩含有ろ液へ水を添加する場合、水の添加を1回として溶解化合物を留去し、含フッ素スルホン酸塩含有水溶液を調整してもよいし、水の添加、及び留去を複数回繰り返して、含フッ素スルホン酸塩含有水溶液を調整してもよい。含フッ素スルホン酸塩含有水溶液に含まれる溶解化合物を低減する際に用いられる水の総質量を低減できる傾向にあることから、水の添加、及び留去を複数回繰返し行う方法がより好ましい。含フッ素スルホン酸塩含有ろ液を水へ添加する場合、含フッ素スルホン酸塩含有ろ液を一回で水へ添加した後、溶解化合物を留去し、その後必要に応じて、水をさらに添加し、留去することで、用いる水の総質量を低減できる傾向にあることから、好ましい方法である。 By adding water to the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate or by adding the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate to water and distilling off the dissolved compounds, an aqueous solution containing compound (4) (hereinafter referred to as "fluorine-containing sulfonate-containing aqueous solution") can be prepared without precipitating compound (4). When water is added to the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate, the aqueous solution containing fluorine-containing sulfonate may be prepared by adding water once and distilling off the dissolved compounds, or the aqueous solution containing fluorine-containing sulfonate may be prepared by repeating the addition and distillation of water multiple times. Since the total mass of water used to reduce the dissolved compounds contained in the aqueous solution containing fluorine-containing sulfonate tends to be reduced, a method in which water is added and distilled off multiple times is more preferable. When the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate is added to water, the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate is added to water once, and then the dissolved compounds are distilled off, and then water is further added and distilled off as necessary, which tends to reduce the total mass of water used, and is therefore a preferred method.

含フッ素スルホン酸水溶液を調整する際に用いる、含フッ素スルホン酸塩含有ろ液の質量(ι)と用いる水の総質量(κ)との比率(κ/ι)は、一般的に用いられる範囲であれば特に限定されないが、含フッ素スルホン酸水溶液に含まれる溶解化合物の量が低減できる傾向にあることから、0.1以上であることが好ましく、0.5以上であることがより好ましく、1.0以上であることがさらに好ましく、1.2以上であることが特に好ましい。所望の含フッ素スルホン酸水溶液中の化合物(4)の濃度により、κ/ιの上限は特に限定されないが、含フッ素スルホン酸塩含有ろ液と水との総質量が小さくなり、溶解化合物を留去するための時間が短くなる傾向にあることから、100以下であることが好ましく、50以下であることがより好ましく、25以下であることがさらに好ましく、10以下であることが特に好ましい。所望の含フッ素スルホン酸水溶液中の化合物(4)の濃度が低い場合には、κ/ιが小さい比率で溶解化合物の留去を行い、その後水を加えて、所望の含フッ素スルホン酸水溶液中の化合物(4)の濃度に調整する方が、留去する際に用いる装置の容積が小さくなる傾向にあり、また利用する熱源や減圧する場合には減圧ポンプを駆動するために必要となるエネルギーが低減する傾向にあることからより好ましい。 The ratio (κ/ι) of the mass (ι) of the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate to the total mass (κ) of the water used when preparing the fluorine-containing sulfonic acid aqueous solution is not particularly limited as long as it is within a commonly used range, but since the amount of dissolved compounds contained in the fluorine-containing sulfonic acid aqueous solution tends to be reduced, it is preferably 0.1 or more, more preferably 0.5 or more, even more preferably 1.0 or more, and particularly preferably 1.2 or more. Depending on the concentration of compound (4) in the desired fluorine-containing sulfonic acid aqueous solution, the upper limit of κ/ι is not particularly limited, but since the total mass of the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate and water tends to be small and the time required to distill off the dissolved compounds tends to be short, it is preferably 100 or less, more preferably 50 or less, even more preferably 25 or less, and particularly preferably 10 or less. When the concentration of compound (4) in the desired aqueous solution of fluorinated sulfonic acid is low, it is more preferable to distill off the dissolved compound at a small ratio of κ/ι and then add water to adjust the concentration of compound (4) in the desired aqueous solution of fluorinated sulfonic acid, since this tends to reduce the volume of the apparatus used for distillation and also tends to reduce the heat source used and the energy required to drive the vacuum pump when reducing the pressure.

含フッ素スルホン酸塩含有ろ液に水を添加する温度、含フッ素スルホン酸塩含有ろ液を水に添加する温度、及び溶解化合物の留去を行った後、さらに水を添加する温度は、一般的に用いられる温度であれば特に限定されないが、化合物(4)の析出を抑制できる傾向にあることから、-40℃以上であることが好ましく、-20℃以上であることがより好ましい。同様の観点、及び工業的に温度調整する際の経済性に優れる傾向にあることから、0℃以上であることがさらに好ましく、10℃以上であることが特に好ましい。含フッ素スルホン酸塩含有ろ液に水を添加する温度、含フッ素スルホン酸塩含有ろ液を水に添加する温度、及び溶解化合物の留去を行った後、さらに水を添加する温度の上限は、特に限定されないが、水、及び溶解化合物の種類によっては揮発する場合があることから、揮発を抑制でき、化合物(4)の析出を抑制できる傾向にあることから、120℃以下であることが好ましく、100℃以下がより好ましく、80℃以下であることがさらに好ましく、60℃以下であることが特に好ましい。
含フッ素スルホン酸塩含有ろ液に水を添加する温度、含フッ素スルホン酸塩含有ろ液を水に添加する温度、及び溶解化合物の留去を行った後、さらに水を添加する温度は、一定であっても、途中で変化させてもよい。
The temperature at which water is added to the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate, the temperature at which the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate is added to water, and the temperature at which water is added after distillation of the dissolved compounds are not particularly limited as long as they are commonly used temperatures, but since there is a tendency to be able to suppress precipitation of compound (4), it is preferably -40 ° C. or higher, and more preferably -20 ° C. or higher. From the same viewpoint and from the tendency to be excellent in economics when adjusting the temperature industrially, it is more preferable to be 0 ° C. or higher, and particularly preferable to be 10 ° C. or higher. The upper limit of the temperature at which water is added to the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate, the temperature at which the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate is added to water, and the temperature at which water is added after distillation of the dissolved compounds is not particularly limited, but since there is a case where water and the dissolved compounds may volatilize depending on the type, it is possible to suppress volatilization and to suppress precipitation of compound (4), so it is preferably 120 ° C. or lower, more preferably 100 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. or lower, and particularly preferably 60 ° C. or lower.
The temperature at which water is added to the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate, the temperature at which the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate is added to water, and the temperature at which water is further added after the dissolved compounds have been distilled off may be constant or may be changed during the process.

含フッ素スルホン酸塩含有ろ液に水を添加する圧力、含フッ素スルホン酸塩含有ろ液を水に添加する際の圧力、及び溶解化合物の留去を行った後、さらに水を添加する際の圧力は、通常用いられる範囲であれば特に限定されず、通常は大気圧下で行われる。ただし、溶解化合物の種類によっては揮発する場合があることから、揮発を抑制するため、大気圧以上の加圧を行うことが有効な手段である。揮発する化合物を液化させ、再利用する場合には、大気圧以下の減圧であってもよい。
含フッ素スルホン酸塩含有ろ液に水を添加する圧力、含フッ素スルホン酸塩含有ろ液を水に添加する際の圧力、及び溶解化合物の留去を行った後、さらに水を添加する際の圧力は、上記範囲であれば一定である必要はなく、途中で変化させてもよい。
The pressure of adding water to the filtrate containing fluorine-containing sulfonate, the pressure of adding the filtrate containing fluorine-containing sulfonate to water, and the pressure of adding water after distilling off the dissolved compounds are not particularly limited as long as they are within the ranges usually used, and are usually carried out under atmospheric pressure. However, since some types of dissolved compounds may volatilize, it is effective to pressurize at atmospheric pressure or higher in order to suppress volatilization. When volatilizing compounds are liquefied and reused, reduced pressure below atmospheric pressure may be used.
The pressure when water is added to the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate, the pressure when the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate is added to water, and the pressure when water is further added after the dissolved compounds have been distilled off do not need to be constant so long as they are within the above-mentioned ranges and may be changed during the process.

含フッ素スルホン酸塩含有ろ液に水を添加する雰囲気、含フッ素スルホン酸塩含有ろ液を水に添加する際の雰囲気、及び溶解化合物の留去を行った後、さらに水を添加する際の雰囲気は、通常用いられる雰囲気であれば特に限定されず、通常は大気雰囲気、窒素雰囲気、及びアルゴン雰囲気等が用いられる。これらの中でも、より安全に化合物(4)を製造できる傾向にあることから、窒素雰囲気及びアルゴン雰囲気が好ましい。また、より経済性に優れる製造方法となる傾向にあることから、窒素雰囲気がより好ましい。
含フッ素スルホン酸塩含有ろ液に水を添加する雰囲気、含フッ素スルホン酸塩含有ろ液を水に添加する際の雰囲気、及び溶解化合物の留去を行った後、さらに水を添加する際の雰囲気は、1種単独で用いてもよいし、複数種の雰囲気を組み合わせて用いてもよい。
The atmosphere in which water is added to the filtrate containing fluorine-containing sulfonate, the atmosphere in which the filtrate containing fluorine-containing sulfonate is added to water, and the atmosphere in which water is further added after distilling off the dissolved compounds are not particularly limited as long as they are commonly used atmospheres, and usually air atmosphere, nitrogen atmosphere, argon atmosphere, etc. are used.Among these, nitrogen atmosphere and argon atmosphere are preferred because they tend to produce compound (4) more safely.In addition, nitrogen atmosphere is more preferred because they tend to be a more economical production method.
The atmosphere in which water is added to the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate, the atmosphere in which the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate is added to water, and the atmosphere in which water is further added after distilling off the dissolved compounds may be one kind alone or a combination of two or more kinds of atmospheres may be used.

含フッ素スルホン酸塩含有ろ液と水との混合物から、溶解化合物を留去する際の温度は、一般的に用いられる温度であれば特に限定されないが、溶解化合物を留去する際の効率(溶解化合物の残留量の低減及び留去時間の短縮)が向上する傾向にあることから、0℃以上であることが好ましく、20℃以上であることがより好ましく、30℃以上であることがさらに好ましく、40℃以上であることが特に好ましい。含フッ素スルホン酸塩含有ろ液と水との混合物から、溶解化合物を留去する際の温度の上限は特に限定されないが、化合物(4)の変質を抑制できる傾向にあることから、250℃以下であることが好ましく、200℃以下であることがより好ましく、150℃以下であることがさらに好ましく、120℃以下であることが特に好ましい。
含フッ素スルホン酸塩含有ろ液と水との混合物から、溶解化合物を留去する際の温度は、一定であっても、途中で変化させてもよい。
The temperature when the dissolved compound is distilled off from the mixture of the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate and water is not particularly limited as long as it is a commonly used temperature, but since there is a tendency for the efficiency when distilling off the dissolved compound (reduction in the amount of the dissolved compound remaining and shortening the distillation time) to be improved, it is preferably 0° C. or higher, more preferably 20° C. or higher, even more preferably 30° C. or higher, and particularly preferably 40° C. or higher. The upper limit of the temperature when the dissolved compound is distilled off from the mixture of the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate and water is not particularly limited, but since there is a tendency for the deterioration of compound (4) to be suppressed, it is preferably 250° C. or lower, more preferably 200° C. or lower, even more preferably 150° C. or lower, and particularly preferably 120° C. or lower.
The temperature at which the dissolved compounds are distilled off from the mixture of the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate and water may be constant or may be changed during the process.

含フッ素スルホン酸塩含有ろ液と水との混合物から、溶解化合物を留去する際の圧力は、通常用いられる範囲であれば特に限定されず、加圧、常圧、減圧いずれであってもよいが、通常は常圧、減圧で行われる。溶解化合物の留去を減圧で行う場合、留去する際の温度は、常圧で留去する場合よりも低くでき、化合物(4)の種類によっては化合物(4)の変質を抑制できる傾向にあることから、好ましい方法である。常圧で溶解化合物を留去する場合、所望の圧力とするために用いられる装置を駆動させるために必要となるエネルギーが不要となることから、好ましい方法である。
含フッ素スルホン酸塩含有ろ液と水との混合物から、溶解化合物を留去する際の圧力は、上記範囲であれば一定である必要はなく、途中で変化させてもよい。
The pressure when distilling off the dissolved compound from the mixture of the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate and water is not particularly limited as long as it is within the range of normal use, and may be any of pressurized, normal pressure, and reduced pressure, but is usually performed at normal pressure or reduced pressure.When distilling off the dissolved compound at reduced pressure, the temperature during distillation can be lower than that when distilling off at normal pressure, and depending on the type of compound (4), the deterioration of compound (4) tends to be suppressed, so this is a preferred method.When distilling off the dissolved compound at normal pressure, the energy required to drive the device used to achieve the desired pressure is not required, so this is a preferred method.
The pressure when the dissolved compounds are distilled off from the mixture of the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate and water does not have to be constant so long as it is within the above range, and may be changed during the process.

含フッ素スルホン酸塩含有ろ液と水との混合物から、溶解化合物を留去する際の雰囲気は、通常用いられる雰囲気であれば特に限定されず、通常は大気雰囲気、窒素雰囲気、及びアルゴン雰囲気等が用いられる。これらの中でも、より安全に化合物(4)を製造できる傾向にあることから、窒素雰囲気及びアルゴン雰囲気が好ましい。また、より経済性に優れる製造方法となる傾向にあることから、窒素雰囲気がより好ましい。
含フッ素スルホン酸塩含有ろ液と水との混合物から、溶解化合物を留去する際の雰囲気は、1種単独で用いてもよいし、複数種の雰囲気を組み合わせて用いてもよい。
The atmosphere in which the dissolved compound is distilled off from the mixture of the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate and water is not particularly limited as long as it is a commonly used atmosphere, and usually, air atmosphere, nitrogen atmosphere, argon atmosphere, etc. are used. Among these, nitrogen atmosphere and argon atmosphere are preferred because they tend to produce compound (4) more safely. In addition, nitrogen atmosphere is more preferred because they tend to be a more economical production method.
The atmosphere used for distilling off the dissolved compounds from the mixture of the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate and water may be one type alone or a combination of two or more types of atmospheres.

上記のようにして得られた含フッ素スルホン酸水溶液は、国際公開第2020/012913号に記載の方法に従い、化合物(1)の原料として再利用することができる。 The aqueous fluorine-containing sulfonic acid solution obtained as described above can be reused as a raw material for compound (1) according to the method described in WO 2020/012913.

含フッ素スルホン酸塩含有ろ液と水との混合物から、溶解化合物を留去し得られる溶解化合物は、全部、又はその一部を反応残渣と溶解化合物とから含フッ素スルホン酸塩溶解液を調整する際に再利用することができる。 The dissolved compounds obtained by distilling off the dissolved compounds from the mixture of the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate and water can be reused in whole or in part when preparing a fluorine-containing sulfonate solution from the reaction residue and the dissolved compounds.

含フッ素スルホン酸塩含有ろ液と水との混合物から、溶解化合物を留去し得られる溶解化合物に含まれる水が多く、反応残渣に含まれる化合物(2)の含フッ素スルホン酸塩溶解液への溶解量が多い場合には、溶解化合物と水とを留去により分離する方法や、溶解化合物の種類によっては、溶解化合物と水とが相分離するため、溶解化合物の相と水の相を分離する方法や、溶解化合物の相を留去し、含有量を高めた溶解化合物を分離する方法や、水の相を留去し、含有量を高めた水を分離する方法を用いることにより、溶解化合物、及び水を得ることができる。前記の方法により得られる溶解化合物は、全部、又はその一部を反応残渣と溶解化合物とから含フッ素スルホン酸塩溶解液を調整する際に再利用することができる。また、前記方法により得られる水は、全部、又はその一部を含フッ素塩含有水溶液を調整する際に再利用することができる。 When the dissolved compound obtained by distilling off the dissolved compound from the mixture of the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate and water contains a large amount of water and the amount of compound (2) contained in the reaction residue dissolved in the fluorine-containing sulfonate solution is large, the dissolved compound and water can be separated by distillation, or, depending on the type of dissolved compound, the dissolved compound and water are separated into phases, so that the dissolved compound and water can be separated by distilling off the dissolved compound phase and separating the dissolved compound with an increased content, or by distilling off the water phase and separating the water with an increased content. The dissolved compound obtained by the above method can be reused in whole or in part when preparing the fluorine-containing sulfonate solution from the reaction residue and the dissolved compound. In addition, the water obtained by the above method can be reused in whole or in part when preparing the fluorine-containing salt-containing aqueous solution.

以上のように、本発明は、燃料電池用隔膜、燃料電池用触媒バインダーポリマー、食塩電解用隔膜等の主要成分であるフッ素系高分子電解質の原料として有用である含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)を、高い収率で製造することができる。また、各種のフッ素化合物に変換することができる含フッ素ビニルスルホン酸塩(4)を製造することができる。さらに、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)、及び含フッ素ビニルスルホン酸塩(4)を分離でき、分離する際に用いた化合物を再利用することもできる。 As described above, the present invention can produce, in high yield, fluorine-containing vinyl sulfonate fluoride (3), which is useful as a raw material for fluorine-based polymer electrolytes that are the main components of membranes for fuel cells, catalyst binder polymers for fuel cells, membranes for salt electrolysis, etc. Also, it can produce fluorine-containing vinyl sulfonate salts (4), which can be converted into various fluorine compounds. Furthermore, it is possible to separate fluorine-containing vinyl sulfonate fluoride (3) and fluorine-containing vinyl sulfonate salts (4), and it is also possible to reuse the compounds used in the separation.

以下に本実施形態を具体的に説明した実施例を例示する。本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。 The following are examples that specifically explain this embodiment. The present invention is not limited to the following examples as long as they do not exceed the gist of the invention.

実施例及び比較例において使用された分析方法は、以下のとおりである。 The analytical methods used in the examples and comparative examples are as follows:

<核磁気共鳴分析(NMR):19F-NMRによる分子構造解析>
実施例及び比較例で得られた生成物について、19F-NMRを用いて、下記測定条件にて分子構造解析を行った。
[測定条件]
測定装置:JNM-ECZ400S型核磁気共鳴装置(日本電子株式会社製)
観測核:19
溶媒:重クロロホルム
基準物質:テトラメチルシラン(0.00ppm)
観測周波数:400MHz(H)
パルス幅:6.5μ秒
待ち時間:2秒
積算回数:16回
<Nuclear Magnetic Resonance Analysis (NMR): Molecular Structure Analysis by 19 F-NMR>
The products obtained in the examples and comparative examples were subjected to molecular structure analysis using 19 F-NMR under the following measurement conditions.
[Measurement conditions]
Measurement device: JNM-ECZ400S nuclear magnetic resonance device (manufactured by JEOL Ltd.)
Observed nucleus: 19F
Solvent: deuterated chloroform Standard substance: tetramethylsilane (0.00 ppm)
Observation frequency: 400MHz ( 1H )
Pulse width: 6.5 μsec Waiting time: 2 sec Number of integrations: 16

<核磁気共鳴分析(NMR):H-NMRによる分子構造解析>
実施例及び比較例で得られた生成物について、H-NMRを用いて、下記測定条件にて分子構造解析を行った。
[測定条件]
測定装置:JNM-ECZ400S型核磁気共鳴装置(日本電子株式会社製)
観測核:
溶媒:重クロロホルム
基準物質:テトラメチルシラン(0.00ppm)
観測周波数:400MHz(H)
パルス幅:7.3μ秒
待ち時間:5秒
積算回数:8回
<Nuclear Magnetic Resonance Analysis (NMR): Molecular Structure Analysis by 1 H-NMR>
The products obtained in the examples and comparative examples were subjected to molecular structure analysis using 1 H-NMR under the following measurement conditions.
[Measurement conditions]
Measurement device: JNM-ECZ400S nuclear magnetic resonance device (manufactured by JEOL Ltd.)
Observed nucleus: 1 H
Solvent: deuterated chloroform Standard substance: tetramethylsilane (0.00 ppm)
Observation frequency: 400MHz ( 1H )
Pulse width: 7.3 μsec Waiting time: 5 sec Number of integrations: 8

<ガスクロマトグラフィー(GC)>
実施例で得られた生成物について、GCを用いて、下記測定条件にて分子構造解析を行った。
[測定条件]
測定装置:GC-2010Plus
カラム:米国RESTEK社製 キャピラリーカラム RTX-200(内径0.25mm、長さ60m、膜厚1μm)
キャリアガス:ヘリウム
キャリアガス流量:30mL/min
注入量:1μL
スプリット比:30
気化室温度:200℃
カラム温度プログラム:40℃で10min保持後、20℃/minで昇温した後、280℃で10min保持
検出:FID、200℃
<Gas Chromatography (GC)>
The products obtained in the examples were subjected to molecular structure analysis using GC under the following measurement conditions.
[Measurement conditions]
Measuring device: GC-2010Plus
Column: Capillary column RTX-200 (inner diameter 0.25 mm, length 60 m, film thickness 1 μm) manufactured by RESTEK, USA
Carrier gas: Helium Carrier gas flow rate: 30 mL/min
Injection volume: 1 μL
Split ratio: 30
Vaporization chamber temperature: 200°C
Column temperature program: 40°C for 10 min, then heated at 20°C/min, then held at 280°C for 10 min. Detection: FID, 200°C

実施例及び比較例で使用した原材料を以下に示す。 The raw materials used in the examples and comparative examples are listed below.

[製造例1]
(含フッ素ビニルスルホン酸無水物(1)(化合物(1))
特開2019/156782号公報に従い、下記式(7)で表される化合物(7)を製造した。
CF=CFOCFCFSONa (7)
得られた上記式(7)の化合物を用い、国際公開第2020/012913号に従い、下記式(8)で表される化合物(8)を製造した。
(CF=CFOCFCFSOO (8)
得られた化合物(8)を蒸留することで、精製した化合物(8)を得た。得られた化合物(8)は純度が98質量%であり、下記式(9)で表される化合物(9)を2質量%含んでいた。
CF=CFOCFCFSOH (9)
[Production Example 1]
(Fluorine-containing vinyl sulfonic anhydride (1) (compound (1))
According to JP 2019/156782 A, compound (7) represented by the following formula (7) was produced.
CF 2 =CFOCF 2 CF 2 SO 3 Na (7)
Using the obtained compound of formula (7) above, a compound (8) represented by the following formula (8) was produced according to WO 2020/012913.
(CF 2 = CFOCF 2 CF 2 SO 2 ) 2 O (8)
The obtained compound (8) was distilled to obtain a purified compound (8). The obtained compound (8) had a purity of 98% by mass and contained 2% by mass of a compound (9) represented by the following formula (9).
CF2 = CFOCF2CF2SO3H ( 9 )

(アルカリ金属フッ化物(2)(化合物(2))
・フッ化カリウム(富士フィルム和光純薬株式会社製、試薬特級)
・フッ化ルビジウム(Aldrich社製、純度99.8%)
・フッ化セシウム(富士フィルム和光純薬株式会社製、試薬特級)
(Alkali Metal Fluoride (2) (Compound (2))
・Potassium fluoride (Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, special grade reagent)
Rubidium fluoride (Aldrich, purity 99.8%)
・Cesium fluoride (Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, special grade reagent)

(その他)
・エタノール(富士フィルム和光純薬株式会社製、試薬特級)
・ヘキサフルオロベンゼン(東京化成工業株式会社製)
・ベンゾトリフルオリド(東京化成工業株式会社製)
・精製水(富士フィルム和光純薬株式会社製)
・2,2,2-トリフルオロエタノール(東京化成工業株式会社製)
・アセトニトリル(富士フィルム和光純薬株式会社製、試薬特級)
・酢酸ブチル(富士フィルム和光純薬株式会社製、試薬特級)
・4-メチル-2-ペンタノン(富士フィルム和光純薬株式会社製、試薬特級)
・炭酸ジメチル(富士フィルム和光純薬株式会社製、試薬特級)
・1,2-ジメトキシエタン(富士フィルム和光純薬株式会社製、和光特級)
・炭酸水素ナトリウム水溶液:炭酸水素ナトリウム(富士フィルム和光純薬株式会社製、試薬特級)18.0gと精製水182.0gを混合し、調整した。
(others)
- Ethanol (Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, special grade reagent)
- Hexafluorobenzene (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
- Benzotrifluoride (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・Purified water (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
2,2,2-trifluoroethanol (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・Acetonitrile (Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, special grade reagent)
-Butyl acetate (Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, special grade reagent)
・4-Methyl-2-pentanone (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd., special grade reagent)
- Dimethyl carbonate (Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, special grade reagent)
1,2-Dimethoxyethane (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd., Wako special grade)
Sodium bicarbonate aqueous solution: This solution was prepared by mixing 18.0 g of sodium bicarbonate (special grade reagent, manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 182.0 g of purified water.

[実施例1]
スリーワンモータ(新東科学株式会社製、BLW300)、半月型攪拌棒、受器を付けたリービッヒ冷却管を備えたフラスコに、フッ化カリウム(56.8g、0.977mol)を入れ、オイルバス(東京理化器械株式会社製、OHB-3100S)に設置し、真空下150℃で5時間乾燥させ、室温に戻し、窒素雰囲気とした。窒素雰囲気の空間内で、滴下ロートに製造例1で製造した化合物(8)を入れ、窒素雰囲気の空間から滴下ロートを取出し、窒素を流通させながら、前記フラスコに滴下ロートを取付けた。リービッヒ冷却管に-5℃の冷媒を流通させ、リービッヒ冷却管に付属された受器をドライアイスで冷却したエタノールで冷却した。フラスコを110℃に設定したオイルバスに設置し、スリーワンモータを120rpmで回転させ、10分間攪拌した後、フラスコ内を70kPaAに減圧した。滴下ロートより製造例1で製造した化合物(8)を徐々に滴下した。滴下完了までには62分間要した。なお、反応が終了した後、滴下前後の滴下ロートの質量を測定することで、製造例1で製造した化合物(8)を342.5g(化合物(8)が335.7g(0.624mol)と化合物(9)が6.85g(0.025mol)からなる)滴下したことが分かった。製造例1で製造した化合物(8)を滴下すると、徐々に液体の留出が始まり、受器へ留出する液体の速度が2滴/分となった段階で、徐々に圧力を下げ、最終的に2kPaAとした。受器へ留出する液体が2分以上出なくなった段階で反応終了と判断し、フラスコをオイルバスから外し、窒素雰囲気とした後、スリーワンモータの回転を止めた。リービッヒ冷却管に流通した冷媒を止め、受器を常温に戻し、受器に入っている留分の質量を測定したところ、172.8g、であった。分析のため、留分(0.30g)、ヘキサフルオロベンゼン(1.30g)、ベンゾトリフルオリド(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、下記一般式(10)で表される含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)が生成していた(生成量:166.9g、生成物質量:0.596mol、生成率:95.6%)。なお、分析においては、ベンゾトリフルオリドの質量、ベンゾトリフルオリドのCF及び含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)のCFの積分値より、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)の生成量等を算出した。また、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)の生成率は、下記式(1)により算出した。
含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)の生成率(%)=含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)の物質量/化合物(8)の物質量×100 (1)
例えば、本実施例における含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)の生成率(%)=0.596(mol)/0.624(mol)×100=95.6、である。
本実施例では、β/αは、1.6、であった。
CF=CFOCFCFSOF (10)
19F-NMR:δ(ppm)42.43(1F)、-86.34(2F)、-114.21(2F)、-116.58(1F)、-123.87(1F)、-138.96(1F)
また、フラスコに残った残渣を回収し、質量を測定したところ、217.4g、であった。分析のため、残渣(0.20g)、精製水(1.00g)、2,2,2-トリフルオロエタノール(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、下記一般式(11)で表される含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)が生成していることも確認された(生成量:198.1g、生成物質量:0.626mol)。なお、分析においては、2,2,2-トリフルオロエタノールの質量、2,2,2-トリフルオロエタノールのCF及び含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)のCFの積分値より、含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)の生成量等を算出した。
CF=CFOCFCFSOK (11)
19F-NMR:δ(ppm)-84.83(2F)、-113.83(1F)、-118.30(2F)、-122.05(1F)、-135.70(1F)
本実施例において、製造例1で製造した化合物(8)の滴下速度(以下、「添加速度」、という)は、5.5g/min、であった。添加速度は、使用した製造例1で製造した化合物(8)の質量(342.5g)と、滴下時間(62min)から、342.5(g)/62(min)=5.5(g/min)、として算出した。以下の実施例においても、同様の算出を行った。
本実施例における、化合物(2)に対する製造例1で製造した化合物(8)の滴下速度(以下、「質量比添加速度」、という)は、5.8g/min/g、であった。質量比添加速度は、使用した製造例1で製造した化合物(8)の質量(342.5g)と、滴下時間(62min)と、化合物(2)の質量(56.8g)から、342.5(g)/62(min)/56.8(g)=5.8(g/min/g)、として算出した。以下の実施例においても、同様の算出を行った。
[Example 1]
Potassium fluoride (56.8 g, 0.977 mol) was placed in a flask equipped with a three-one motor (BLW300, manufactured by Shinto Scientific Co., Ltd.), a crescent-shaped stirring rod, and a Liebig condenser with a receiver attached, and the flask was placed in an oil bath (OHB-3100S, manufactured by Tokyo Rikakikai Co., Ltd.), dried at 150°C under vacuum for 5 hours, returned to room temperature, and placed in a nitrogen atmosphere. In the nitrogen atmosphere space, the compound (8) produced in Production Example 1 was placed in the dropping funnel, the dropping funnel was removed from the nitrogen atmosphere space, and the dropping funnel was attached to the flask while flowing nitrogen. A refrigerant at -5°C was passed through the Liebig condenser, and the receiver attached to the Liebig condenser was cooled with ethanol cooled with dry ice. The flask was placed in an oil bath set at 110°C, the three-one motor was rotated at 120 rpm, and the flask was stirred for 10 minutes, after which the pressure in the flask was reduced to 70 kPaA. The compound (8) produced in Production Example 1 was gradually dripped from the dropping funnel. It took 62 minutes to complete the dripping. After the reaction was completed, the mass of the dropping funnel before and after the dripping was measured, and it was found that 342.5 g of the compound (8) produced in Production Example 1 (335.7 g (0.624 mol) of the compound (8) and 6.85 g (0.025 mol) of the compound (9)) was dripped. When the compound (8) produced in Production Example 1 was dripped, the liquid gradually began to be distilled, and when the rate of the liquid distilled into the receiver reached 2 drops/min, the pressure was gradually reduced, and finally reached 2 kPaA. When the liquid did not distill into the receiver for more than 2 minutes, it was determined that the reaction was completed, the flask was removed from the oil bath, and the flask was placed in a nitrogen atmosphere, and the rotation of the three-one motor was stopped. The refrigerant flowing through the Liebig condenser was stopped, the receiver was returned to room temperature, and the mass of the fraction in the receiver was measured, which was 172.8 g. For analysis, the fraction (0.30 g), hexafluorobenzene (1.30 g), and benzotrifluoride (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the analysis, it was found that fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (10) represented by the following general formula (10) was produced (production amount: 166.9 g, product mass: 0.596 mol, production rate: 95.6%). In the analysis, the production amount of fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (10) was calculated from the mass of benzotrifluoride, the integral value of CF3 of benzotrifluoride, and the integral value of CF2 of fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (10). The production rate of the fluorinated vinyl sulfonic acid fluoride (10) was calculated by the following formula (1).
Production rate (%) of fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (10)=amount of substance of fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (10)/amount of substance of compound (8)×100 (1)
For example, the production rate (%) of the fluorine-containing vinylsulfonic acid fluoride (10) in this example is 0.596 (mol)/0.624 (mol)×100=95.6.
In this embodiment, β/α was 1.6.
CF 2 =CFOCF 2 CF 2 SO 2 F (10)
19 F-NMR: δ (ppm) 42.43 (1F), -86.34 (2F), -114.21 (2F), -116.58 (1F), -123.87 (1F), -138.96 (1F)
The residue remaining in the flask was collected and its mass was measured, which was 217.4 g. For analysis, the residue (0.20 g), purified water (1.00 g), and 2,2,2-trifluoroethanol (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the analysis, it was confirmed that fluorine-containing vinyl sulfonate (11) represented by the following general formula (11) was produced (amount produced: 198.1 g, product mass: 0.626 mol). In the analysis, the amount of fluorine-containing vinyl sulfonate (11) produced and the like were calculated from the mass of 2,2,2-trifluoroethanol, the integral values of CF3 of 2,2,2-trifluoroethanol, and CF2 of fluorine-containing vinyl sulfonate (11).
CF 2 =CFOCF 2 CF 2 SO 3 K (11)
19 F-NMR: δ (ppm) -84.83 (2F), -113.83 (1F), -118.30 (2F), -122.05 (1F), -135.70 (1F)
In this example, the dropwise addition rate (hereinafter referred to as "addition rate") of compound (8) produced in Production Example 1 was 5.5 g/min. The addition rate was calculated from the mass (342.5 g) of compound (8) produced in Production Example 1 used and the dropwise addition time (62 min) as 342.5 (g)/62 (min)=5.5 (g/min). The same calculation was performed in the following examples.
In this example, the dropwise addition rate of compound (8) produced in Production Example 1 relative to compound (2) (hereinafter referred to as "mass ratio addition rate") was 5.8 g/min/g. The mass ratio addition rate was calculated as 342.5 (g)/62 (min)/56.8 (g) = 5.8 (g/min/g) from the mass (342.5 g) of compound (8) produced in Production Example 1 used, the dropwise addition time (62 min), and the mass (56.8 g) of compound (2). Similar calculations were performed in the following examples.

[実施例2]
スリーワンモータ(新東科学株式会社製、BLW300)、半月型攪拌棒、受器を付けたリービッヒ冷却管を備えたフラスコに、フッ化カリウム(55.2g、0.950mol)を入れ、オイルバス(東京理化器械株式会社製、OHB-3100S)に設置し、真空下150℃で5時間乾燥させ、室温に戻し、窒素雰囲気とした。窒素雰囲気の空間内で、滴下ロートに製造例1で製造した化合物(8)を入れ、窒素雰囲気の空間から滴下ロートを取出し、窒素を流通させながら、前記フラスコに滴下ロートを取付けた。リービッヒ冷却管に-5℃の冷媒を流通させ、リービッヒ冷却管に付属された受器をドライアイスで冷却したエタノールで冷却した。フラスコを130℃に設定したオイルバスに設置し、スリーワンモータを120rpmで回転させ、10分間攪拌した後、フラスコ内を80kPaAに減圧した。滴下ロートより製造例1で製造した化合物(8)を徐々に滴下した。滴下完了までには38分間要した。なお、反応が終了した後、滴下前後の滴下ロートの質量を測定することで、製造例1で製造した化合物(8)を334.1g(化合物(8)が327.4g(0.608mol)と化合物(9)が6.68g(0.024mol)からなる)滴下したことが分かった。製造例1で製造した化合物(8)を滴下すると、徐々に液体の留出が始まり、受器へ留出する液体の速度が2滴/分となった段階で、徐々に圧力を下げ、最終的に2kPaAとした。受器へ留出する液体が2分以上出なくなった段階で反応終了と判断し、フラスコをオイルバスから外し、窒素雰囲気とした後、スリーワンモータの回転を止めた。リービッヒ冷却管に流通した冷媒を止め、受器を常温に戻し、受器に入っている留分の質量を測定したところ、166.6g、であった。分析のため、留分(0.30g)、ヘキサフルオロベンゼン(1.30g)、ベンゾトリフルオリド(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)が生成していた(生成量:160.7g、生成物質量:0.574mol、生成率:94.3%)。
本実施例では、β/αは、1.6、であった。
また、フラスコに残った残渣を回収し、質量を測定したところ、213.1g、であった。分析のため、残渣(0.20g)、精製水(1.00g)、2,2,2-トリフルオロエタノール(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)が生成していることも確認された(生成量:194.5g、生成物質量:0.615mol)。
本実施例では、添加速度は、8.8g/min、であり、質量比添加速度は、9.6g/min/g、であった。
[Example 2]
Potassium fluoride (55.2 g, 0.950 mol) was placed in a flask equipped with a three-one motor (BLW300, manufactured by Shinto Scientific Co., Ltd.), a crescent-shaped stirring rod, and a Liebig condenser with a receiver attached, and the flask was placed in an oil bath (OHB-3100S, manufactured by Tokyo Rikakikai Co., Ltd.), dried at 150° C. under vacuum for 5 hours, returned to room temperature, and placed in a nitrogen atmosphere. In the nitrogen atmosphere space, the compound (8) produced in Production Example 1 was placed in the dropping funnel, the dropping funnel was removed from the nitrogen atmosphere space, and the dropping funnel was attached to the flask while flowing nitrogen. A refrigerant at −5° C. was passed through the Liebig condenser, and the receiver attached to the Liebig condenser was cooled with ethanol cooled with dry ice. The flask was placed in an oil bath set at 130° C., the three-one motor was rotated at 120 rpm, and the flask was stirred for 10 minutes, after which the pressure in the flask was reduced to 80 kPaA. The compound (8) produced in Production Example 1 was gradually dripped from the dropping funnel. It took 38 minutes to complete the dripping. After the reaction was completed, the mass of the dropping funnel before and after the dripping was measured, and it was found that 334.1 g of the compound (8) produced in Production Example 1 (327.4 g (0.608 mol) of the compound (8) and 6.68 g (0.024 mol) of the compound (9)) was dripped. When the compound (8) produced in Production Example 1 was dripped, the liquid gradually began to be distilled, and when the rate of the liquid distilled into the receiver reached 2 drops/min, the pressure was gradually reduced, and finally reached 2 kPaA. When the liquid did not distill into the receiver for more than 2 minutes, it was determined that the reaction was completed, the flask was removed from the oil bath, and the flask was placed in a nitrogen atmosphere, and the rotation of the three-one motor was stopped. The refrigerant flowing through the Liebig condenser was stopped, the receiver was returned to room temperature, and the mass of the fraction in the receiver was measured, which was 166.6 g. For analysis, the fraction (0.30 g), hexafluorobenzene (1.30 g), and benzotrifluoride (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the analysis, it was found that fluorine-containing vinylsulfonic acid fluoride (10) was produced (amount produced: 160.7 g, product mass: 0.574 mol, production rate: 94.3%).
In this embodiment, β/α was 1.6.
The residue remaining in the flask was collected and its mass was measured, which was 213.1 g. For analysis, the residue (0.20 g), purified water (1.00 g), and 2,2,2-trifluoroethanol (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the analysis, it was also confirmed that fluorine-containing vinyl sulfonate (11) was produced (amount produced: 194.5 g, product mass: 0.615 mol).
In this example, the addition rate was 8.8 g/min, and the mass specific addition rate was 9.6 g/min/g.

[実施例3]
スリーワンモータ(新東科学株式会社製、BLW300)、半月型攪拌棒、受器を付けたリービッヒ冷却管を備えたフラスコに、フッ化カリウム(59.1g、1.02mol)を入れ、オイルバス(東京理化器械株式会社製、OHB-3100S)に設置し、真空下150℃で5時間乾燥させ、室温に戻し、窒素雰囲気とした。窒素雰囲気の空間内で、滴下ロートに製造例1で製造した化合物(8)を入れ、窒素雰囲気の空間から滴下ロートを取出し、窒素を流通させながら、前記フラスコに滴下ロートを取付けた。リービッヒ冷却管に-5℃の冷媒を流通させ、リービッヒ冷却管に付属された受器をドライアイスで冷却したエタノールで冷却した。フラスコを150℃に設定したオイルバスに設置し、スリーワンモータを120rpmで回転させ、10分間攪拌した後、フラスコ内を90kPaAに減圧した。滴下ロートより製造例1で製造した化合物(8)を徐々に滴下した。滴下完了までには19分間要した。なお、反応が終了した後、滴下前後の滴下ロートの質量を測定することで、製造例1で製造した化合物(8)を356.2g(化合物(8)が349.1g(0.649mol)と化合物(9)が7.12g(0.026mol)からなる)滴下したことが分かった。製造例1で製造した化合物(8)を滴下すると、徐々に液体の留出が始まり、受器へ留出する液体の速度が2滴/分となった段階で、徐々に圧力を下げ、最終的に2kPaAとした。受器へ留出する液体が2分以上出なくなった段階で反応終了と判断し、フラスコをオイルバスから外し、窒素雰囲気とした後、スリーワンモータの回転を止めた。リービッヒ冷却管に流通した冷媒を止め、受器を常温に戻し、受器に入っている留分の質量を測定したところ、177.9g、であった。分析のため、留分(0.30g)、ヘキサフルオロベンゼン(1.30g)、ベンゾトリフルオリド(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)が生成していた(生成量:164.1g、生成物質量:0.586mol、生成率:90.3%)。
本実施例では、β/αは、1.6、であった。
また、フラスコに残った残渣を回収し、質量を測定したところ、229.5g、であった。分析のため、残渣(0.20g)、精製水(1.00g)、2,2,2-トリフルオロエタノール(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)が生成していることも確認された(生成量:209.0g、生成物質量:0.661mol)。
本実施例では、添加速度は、18.7g/min、であり、質量比添加速度は、19.0g/min/g、であった。
[Example 3]
Potassium fluoride (59.1 g, 1.02 mol) was placed in a flask equipped with a three-one motor (BLW300, manufactured by Shinto Scientific Co., Ltd.), a crescent-shaped stirring rod, and a Liebig condenser with a receiver attached, and the flask was placed in an oil bath (OHB-3100S, manufactured by Tokyo Rikakikai Co., Ltd.), dried at 150°C under vacuum for 5 hours, returned to room temperature, and placed in a nitrogen atmosphere. In the nitrogen atmosphere space, the compound (8) produced in Production Example 1 was placed in the dropping funnel, the dropping funnel was removed from the nitrogen atmosphere space, and the dropping funnel was attached to the flask while flowing nitrogen. A refrigerant at -5°C was passed through the Liebig condenser, and the receiver attached to the Liebig condenser was cooled with ethanol cooled with dry ice. The flask was placed in an oil bath set at 150°C, the three-one motor was rotated at 120 rpm, and the flask was stirred for 10 minutes, after which the pressure in the flask was reduced to 90 kPaA. The compound (8) produced in Production Example 1 was gradually dripped from the dropping funnel. It took 19 minutes to complete the dripping. After the reaction was completed, the mass of the dropping funnel before and after the dripping was measured, and it was found that 356.2 g of the compound (8) produced in Production Example 1 (349.1 g (0.649 mol) of the compound (8) and 7.12 g (0.026 mol) of the compound (9)) was dripped. When the compound (8) produced in Production Example 1 was dripped, the liquid gradually began to be distilled, and when the rate of the liquid distilled into the receiver reached 2 drops/min, the pressure was gradually reduced, and finally reached 2 kPaA. When the liquid did not distill into the receiver for more than 2 minutes, it was determined that the reaction was completed, the flask was removed from the oil bath, and the flask was placed in a nitrogen atmosphere, and the rotation of the three-one motor was stopped. The refrigerant flowing through the Liebig condenser was stopped, the receiver was returned to room temperature, and the mass of the fraction in the receiver was measured, which was 177.9 g. For analysis, the fraction (0.30 g), hexafluorobenzene (1.30 g), and benzotrifluoride (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the analysis, it was found that fluorine-containing vinylsulfonic acid fluoride (10) was produced (amount produced: 164.1 g, product mass: 0.586 mol, production rate: 90.3%).
In this embodiment, β/α was 1.6.
The residue remaining in the flask was collected and its mass was measured, which was 229.5 g. For analysis, the residue (0.20 g), purified water (1.00 g), and 2,2,2-trifluoroethanol (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the analysis, it was also confirmed that fluorine-containing vinyl sulfonate (11) was produced (amount produced: 209.0 g, product mass: 0.661 mol).
In this example, the addition rate was 18.7 g/min, and the mass specific addition rate was 19.0 g/min/g.

[実施例4]
スリーワンモータ(新東科学株式会社製、BLW300)、半月型攪拌棒、受器を付けたリービッヒ冷却管を備えたフラスコに、フッ化カリウム(17.4g、0.300mol)を入れ、オイルバス(東京理化器械株式会社製、OHB-3100S)に設置し、真空下150℃で5時間乾燥させ、室温に戻し、窒素雰囲気とした。窒素雰囲気の空間内で、滴下ロートに製造例1で製造した化合物(8)を入れ、窒素雰囲気の空間から滴下ロートを取出し、窒素を流通させながら、前記フラスコに滴下ロートを取付けた。リービッヒ冷却管に-5℃の冷媒を流通させ、リービッヒ冷却管に付属された受器をドライアイスで冷却したエタノールで冷却した。フラスコを90℃に設定したオイルバスに設置し、スリーワンモータを120rpmで回転させ、10分間攪拌した後、フラスコ内を60kPaAに減圧した。滴下ロートより製造例1で製造した化合物(8)を徐々に滴下した。滴下完了までには175分間要した。なお、反応が終了した後、滴下前後の滴下ロートの質量を測定することで、製造例1で製造した化合物(8)を105.1g(化合物(8)が103.0g(0.191mol)と化合物(9)が2.10g(0.008mol)からなる)滴下したことが分かった。製造例1で製造した化合物(8)を滴下すると、徐々に液体の留出が始まり、受器へ留出する液体の速度が2滴/分となった段階で、徐々に圧力を下げ、最終的に2kPaAとした。受器へ留出する液体が2分以上出なくなった段階で反応終了と判断し、フラスコをオイルバスから外し、窒素雰囲気とした後、スリーワンモータの回転を止めた。リービッヒ冷却管に流通した冷媒を止め、受器を常温に戻し、受器に入っている留分の質量を測定したところ、53.6g、であった。分析のため、留分(0.30g)、ヘキサフルオロベンゼン(1.30g)、ベンゾトリフルオリド(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)が生成していた(生成量:51.1g、生成物質量:0.183mol、生成率:95.4%)。
本実施例では、β/αは、1.6、であった。
また、フラスコに残った残渣を回収し、質量を測定したところ、66.6g、であった。分析のため、残渣(0.20g)、精製水(1.00g)、2,2,2-トリフルオロエタノール(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)が生成していることも確認された(生成量:60.6g、生成物質量:0.192mol)。
本実施例では、添加速度は、0.60g/min、であり、質量比添加速度は、2.1g/min/g、であった。
[Example 4]
Potassium fluoride (17.4 g, 0.300 mol) was placed in a flask equipped with a three-one motor (BLW300, manufactured by Shinto Scientific Co., Ltd.), a crescent-shaped stirring rod, and a Liebig condenser with a receiver attached, and the flask was placed in an oil bath (OHB-3100S, manufactured by Tokyo Rikakikai Co., Ltd.), dried at 150°C under vacuum for 5 hours, returned to room temperature, and placed in a nitrogen atmosphere. In the nitrogen atmosphere space, the compound (8) produced in Production Example 1 was placed in the dropping funnel, the dropping funnel was removed from the nitrogen atmosphere space, and the dropping funnel was attached to the flask while flowing nitrogen. A refrigerant at -5°C was passed through the Liebig condenser, and the receiver attached to the Liebig condenser was cooled with ethanol cooled with dry ice. The flask was placed in an oil bath set at 90°C, the three-one motor was rotated at 120 rpm, and the flask was stirred for 10 minutes, after which the pressure in the flask was reduced to 60 kPaA. The compound (8) produced in Production Example 1 was gradually dripped from the dropping funnel. It took 175 minutes to complete the dripping. After the reaction was completed, the mass of the dropping funnel before and after the dripping was measured, and it was found that 105.1 g of the compound (8) produced in Production Example 1 (103.0 g (0.191 mol) of the compound (8) and 2.10 g (0.008 mol) of the compound (9)) was dripped. When the compound (8) produced in Production Example 1 was dripped, the liquid gradually began to be distilled, and when the rate of the liquid distilled into the receiver reached 2 drops/min, the pressure was gradually reduced, and finally reached 2 kPaA. When the liquid did not distill into the receiver for more than 2 minutes, it was determined that the reaction was completed, the flask was removed from the oil bath, and the flask was placed in a nitrogen atmosphere, and the rotation of the three-one motor was stopped. The refrigerant flowing through the Liebig condenser was stopped, the receiver was returned to room temperature, and the mass of the fraction in the receiver was measured, which was 53.6 g. For analysis, the fraction (0.30 g), hexafluorobenzene (1.30 g), and benzotrifluoride (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the analysis, it was found that fluorine-containing vinyl sulfonyl fluoride (10) was produced (amount produced: 51.1 g, product mass: 0.183 mol, production rate: 95.4%).
In this embodiment, β/α was 1.6.
The residue remaining in the flask was collected and its mass was measured, which was 66.6 g. For analysis, the residue (0.20 g), purified water (1.00 g), and 2,2,2-trifluoroethanol (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the analysis, it was also confirmed that fluorine-containing vinyl sulfonate (11) was produced (amount produced: 60.6 g, product mass: 0.192 mol).
In this example, the addition rate was 0.60 g/min, and the mass specific addition rate was 2.1 g/min/g.

[実施例5]
スリーワンモータ(新東科学株式会社製、BLW300)、半月型攪拌棒、受器を付けたリービッヒ冷却管を備えたフラスコに、フッ化カリウム(39.0g、0.672mol)を入れ、オイルバス(東京理化器械株式会社製、OHB-3100S)に設置し、真空下150℃で5時間乾燥させ、室温に戻し、窒素雰囲気とした。窒素雰囲気の空間内で、滴下ロートに製造例1で製造した化合物(8)を入れ、窒素雰囲気の空間から滴下ロートを取出し、窒素を流通させながら、前記フラスコに滴下ロートを取付けた。リービッヒ冷却管に-5℃の冷媒を流通させ、リービッヒ冷却管に付属された受器をドライアイスで冷却したエタノールで冷却した。フラスコを110℃に設定したオイルバスに設置し、スリーワンモータを120rpmで回転させ、10分間攪拌した後、フラスコ内を70kPaAに減圧した。滴下ロートより製造例1で製造した化合物(8)を徐々に滴下した。滴下完了までには112分間要した。なお、反応が終了した後、滴下前後の滴下ロートの質量を測定することで、製造例1で製造した化合物(8)を322.6g(化合物(8)が316.1g(0.587mol)と化合物(9)が6.45g(0.023mol)からなる)滴下したことが分かった。製造例1で製造した化合物(8)を滴下すると、徐々に液体の留出が始まり、受器へ留出する液体の速度が2滴/分となった段階で、徐々に圧力を下げ、最終的に2kPaAとした。受器へ留出する液体が2分以上出なくなった段階で反応終了と判断し、フラスコをオイルバスから外し、窒素雰囲気とした後、スリーワンモータの回転を止めた。リービッヒ冷却管に流通した冷媒を止め、受器を常温に戻し、受器に入っている留分の質量を測定したところ、165.9g、であった。分析のため、留分(0.30g)、ヘキサフルオロベンゼン(1.30g)、ベンゾトリフルオリド(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)が生成していた(生成量:152.5g、生成物質量:0.544mol、生成率:92.7%)。
本実施例では、β/αは、1.1、であった。
また、フラスコに残った残渣を回収し、質量を測定したところ、189.3g、であった。分析のため、残渣(0.20g)、精製水(1.00g)、2,2,2-トリフルオロエタノール(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)が生成していることも確認された(生成量:184.7g、生成物質量:0.584mol)。
本実施例では、添加速度は、2.9g/min、であり、質量比添加速度は、4.4g/min/g、であった。
[Example 5]
Potassium fluoride (39.0 g, 0.672 mol) was placed in a flask equipped with a three-one motor (BLW300, manufactured by Shinto Scientific Co., Ltd.), a crescent-shaped stirring rod, and a Liebig condenser with a receiver attached, and the flask was placed in an oil bath (OHB-3100S, manufactured by Tokyo Rikakikai Co., Ltd.), dried at 150° C. under vacuum for 5 hours, returned to room temperature, and placed in a nitrogen atmosphere. In the nitrogen atmosphere space, the compound (8) produced in Production Example 1 was placed in the dropping funnel, the dropping funnel was removed from the nitrogen atmosphere space, and the dropping funnel was attached to the flask while flowing nitrogen. A refrigerant at −5° C. was passed through the Liebig condenser, and the receiver attached to the Liebig condenser was cooled with ethanol cooled with dry ice. The flask was placed in an oil bath set at 110° C., the three-one motor was rotated at 120 rpm, and the flask was stirred for 10 minutes, after which the pressure in the flask was reduced to 70 kPaA. The compound (8) produced in Production Example 1 was gradually dripped from the dropping funnel. It took 112 minutes to complete the dripping. After the reaction was completed, the mass of the dropping funnel before and after the dripping was measured, and it was found that 322.6 g of the compound (8) produced in Production Example 1 (316.1 g (0.587 mol) of the compound (8) and 6.45 g (0.023 mol) of the compound (9)) was dripped. When the compound (8) produced in Production Example 1 was dripped, the liquid gradually began to be distilled, and when the rate of the liquid distilled into the receiver reached 2 drops/min, the pressure was gradually reduced, and finally reached 2 kPaA. When the liquid did not distill into the receiver for more than 2 minutes, it was determined that the reaction was completed, the flask was removed from the oil bath, and the flask was placed in a nitrogen atmosphere, and the rotation of the three-one motor was stopped. The refrigerant flowing through the Liebig condenser was stopped, the receiver was returned to room temperature, and the mass of the fraction in the receiver was measured, which was 165.9 g. For analysis, the fraction (0.30 g), hexafluorobenzene (1.30 g), and benzotrifluoride (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the analysis, it was found that fluorine-containing vinyl sulfonyl fluoride (10) was produced (amount produced: 152.5 g, product mass: 0.544 mol, production rate: 92.7%).
In this embodiment, β/α was 1.1.
The residue remaining in the flask was collected and its mass was measured, which was 189.3 g. For analysis, the residue (0.20 g), purified water (1.00 g), and 2,2,2-trifluoroethanol (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the analysis, it was also confirmed that fluorine-containing vinyl sulfonate (11) was produced (amount produced: 184.7 g, product mass: 0.584 mol).
In this example, the addition rate was 2.9 g/min, and the mass specific addition rate was 4.4 g/min/g.

[実施例6]
スリーワンモータ(新東科学株式会社製、BLW300)、半月型攪拌棒、受器を付けたリービッヒ冷却管を備えたフラスコに、フッ化カリウム(121.8g、2.10mol)を入れ、オイルバス(東京理化器械株式会社製、OHB-3100S)に設置し、真空下150℃で5時間乾燥させ、室温に戻し、窒素雰囲気とした。窒素雰囲気の空間内で、滴下ロートに製造例1で製造した化合物(8)を入れ、窒素雰囲気の空間から滴下ロートを取出し、窒素を流通させながら、前記フラスコに滴下ロートを取付けた。リービッヒ冷却管に-5℃の冷媒を流通させ、リービッヒ冷却管に付属された受器をドライアイスで冷却したエタノールで冷却した。フラスコを110℃に設定したオイルバスに設置し、スリーワンモータを120rpmで回転させ、10分間攪拌した後、フラスコ内を70kPaAに減圧した。滴下ロートより製造例1で製造した化合物(8)を徐々に滴下した。滴下完了までには42分間要した。なお、反応が終了した後、滴下前後の滴下ロートの質量を測定することで、製造例1で製造した化合物(8)を123.1g(化合物(8)が120.6g(0.224mol)と化合物(9)が2.46g(0.009mol)からなる)滴下したことが分かった。製造例1で製造した化合物(8)を滴下すると、徐々に液体の留出が始まり、受器へ留出する液体の速度が2滴/分となった段階で、徐々に圧力を下げ、最終的に2kPaAとした。受器へ留出する液体が2分以上出なくなった段階で反応終了と判断し、フラスコをオイルバスから外し、窒素雰囲気とした後、スリーワンモータの回転を止めた。リービッヒ冷却管に流通した冷媒を止め、受器を常温に戻し、受器に入っている留分の質量を測定したところ、61.8g、であった。分析のため、留分(0.30g)、ヘキサフルオロベンゼン(1.30g)、ベンゾトリフルオリド(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)が生成していた(生成量:60.0g、生成物質量:0.214mol、生成率:95.6%)。
本実施例では、β/αは、9.4、であった。
また、フラスコに残った残渣を回収し、質量を測定したところ、179.2g、であった。分析のため、残渣(0.20g)、精製水(1.00g)、2,2,2-トリフルオロエタノール(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)が生成していることも確認された(生成量:71.9g、生成物質量:0.227mol)。
本実施例では、添加速度は、2.9g/min、であり、質量比添加速度は、1.4g/min/g、であった。
[Example 6]
Potassium fluoride (121.8 g, 2.10 mol) was placed in a flask equipped with a three-one motor (BLW300, manufactured by Shinto Scientific Co., Ltd.), a crescent-shaped stirring rod, and a Liebig condenser with a receiver attached, and the flask was placed in an oil bath (OHB-3100S, manufactured by Tokyo Rikakikai Co., Ltd.), dried at 150°C under vacuum for 5 hours, returned to room temperature, and placed in a nitrogen atmosphere. In the nitrogen atmosphere space, the compound (8) produced in Production Example 1 was placed in the dropping funnel, the dropping funnel was removed from the nitrogen atmosphere space, and the dropping funnel was attached to the flask while flowing nitrogen. A refrigerant at -5°C was passed through the Liebig condenser, and the receiver attached to the Liebig condenser was cooled with ethanol cooled with dry ice. The flask was placed in an oil bath set at 110°C, the three-one motor was rotated at 120 rpm, and the flask was stirred for 10 minutes, after which the pressure in the flask was reduced to 70 kPaA. The compound (8) produced in Production Example 1 was gradually dripped from the dropping funnel. It took 42 minutes to complete the dripping. After the reaction was completed, the mass of the dropping funnel before and after the dripping was measured, and it was found that 123.1 g of the compound (8) produced in Production Example 1 (120.6 g (0.224 mol) of the compound (8) and 2.46 g (0.009 mol) of the compound (9)) was dripped. When the compound (8) produced in Production Example 1 was dripped, the liquid gradually began to be distilled, and when the rate of the liquid distilled into the receiver reached 2 drops/min, the pressure was gradually reduced, and finally reached 2 kPaA. When the liquid did not distill into the receiver for more than 2 minutes, it was determined that the reaction was completed, the flask was removed from the oil bath, and the flask was placed in a nitrogen atmosphere, and the rotation of the three-one motor was stopped. The refrigerant flowing through the Liebig condenser was stopped, the receiver was returned to room temperature, and the mass of the fraction in the receiver was measured, which was 61.8 g. For analysis, the fraction (0.30 g), hexafluorobenzene (1.30 g), and benzotrifluoride (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the analysis, it was found that fluorine-containing vinyl sulfonyl fluoride (10) was produced (amount produced: 60.0 g, product mass: 0.214 mol, production rate: 95.6%).
In this embodiment, β/α was 9.4.
The residue remaining in the flask was collected and its mass was measured, which was 179.2 g. For analysis, the residue (0.20 g), purified water (1.00 g), and 2,2,2-trifluoroethanol (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the analysis, it was also confirmed that fluorine-containing vinyl sulfonate (11) was produced (amount produced: 71.9 g, product mass: 0.227 mol).
In this example, the addition rate was 2.9 g/min, and the mass specific addition rate was 1.4 g/min/g.

[実施例7]
スリーワンモータ(新東科学株式会社製、BLW300)、半月型攪拌棒、受器を付けたリービッヒ冷却管を備えたフラスコに、フッ化ルビジウム(31.7g、0.303mol)を入れ、オイルバス(東京理化器械株式会社製、OHB-3100S)に設置し、真空下150℃で5時間乾燥させ、室温に戻し、窒素雰囲気とした。窒素雰囲気の空間内で、滴下ロートに製造例1で製造した化合物(8)を入れ、窒素雰囲気の空間から滴下ロートを取出し、窒素を流通させながら、前記フラスコに滴下ロートを取付けた。リービッヒ冷却管に-5℃の冷媒を流通させ、リービッヒ冷却管に付属された受器をドライアイスで冷却したエタノールで冷却した。フラスコを80℃に設定したオイルバスに設置し、スリーワンモータを120rpmで回転させ、10分間攪拌した後、フラスコ内を70kPaAに減圧した。滴下ロートより製造例1で製造した化合物(8)を徐々に滴下した。滴下完了までには57分間要した。なお、反応が終了した後、滴下前後の滴下ロートの質量を測定することで、製造例1で製造した化合物(8)を95.7g(化合物(8)が93.8g(0.174mol)と化合物(9)が1.91g(0.007mol)からなる)滴下したことが分かった。製造例1で製造した化合物(8)を滴下すると、徐々に液体の留出が始まり、受器へ留出する液体の速度が2滴/分となった段階で、徐々に圧力を下げ、最終的に2kPaAとした。受器へ留出する液体が2分以上出なくなった段階で反応終了と判断し、フラスコをオイルバスから外し、窒素雰囲気とした後、スリーワンモータの回転を止めた。リービッヒ冷却管に流通した冷媒を止め、受器を常温に戻し、受器に入っている留分の質量を測定したところ、46.4g、であった。分析のため、留分(0.30g)、ヘキサフルオロベンゼン(1.30g)、ベンゾトリフルオリド(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)が生成していた(生成量:45.8g、生成物質量:0.163mol、生成率:93.8%)。
本実施例では、β/αは、1.7、であった。
また、フラスコに残った残渣を回収し、質量を測定したところ、76.5g、であった。分析のため、残渣(0.20g)、精製水(1.00g)、2,2,2-トリフルオロエタノール(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、含フッ素ビニルスルホン酸塩(4)が生成していることも確認された(生成量:63.8g、生成物質量:0.176mol)。
本実施例では、添加速度は、1.7g/min、であり、質量比添加速度は、3.2g/min/g、であった。
[Example 7]
Rubidium fluoride (31.7 g, 0.303 mol) was placed in a flask equipped with a three-one motor (BLW300, manufactured by Shinto Scientific Co., Ltd.), a crescent-shaped stirring rod, and a Liebig condenser with a receiver attached, and the flask was placed in an oil bath (OHB-3100S, manufactured by Tokyo Rikakikai Co., Ltd.), dried at 150° C. under vacuum for 5 hours, returned to room temperature, and placed in a nitrogen atmosphere. In the nitrogen atmosphere space, the compound (8) produced in Production Example 1 was placed in the dropping funnel, the dropping funnel was removed from the nitrogen atmosphere space, and the dropping funnel was attached to the flask while flowing nitrogen. A refrigerant at −5° C. was passed through the Liebig condenser, and the receiver attached to the Liebig condenser was cooled with ethanol cooled with dry ice. The flask was placed in an oil bath set at 80° C., the three-one motor was rotated at 120 rpm, and the flask was stirred for 10 minutes, after which the pressure in the flask was reduced to 70 kPaA. The compound (8) produced in Production Example 1 was gradually dropped from the dropping funnel. It took 57 minutes to complete the dropping. After the reaction was completed, the mass of the dropping funnel before and after the dropping was measured, and it was found that 95.7 g of the compound (8) produced in Production Example 1 (93.8 g (0.174 mol) of the compound (8) and 1.91 g (0.007 mol) of the compound (9)) was dropped. When the compound (8) produced in Production Example 1 was dropped, the liquid gradually started to be distilled, and when the rate of the liquid distilled into the receiver reached 2 drops/min, the pressure was gradually reduced, and finally reached 2 kPaA. When the liquid did not distill into the receiver for more than 2 minutes, it was determined that the reaction was completed, the flask was removed from the oil bath, and the flask was placed in a nitrogen atmosphere, and the rotation of the three-one motor was stopped. The refrigerant flowing through the Liebig condenser was stopped, the receiver was returned to room temperature, and the mass of the fraction in the receiver was measured, which was 46.4 g. For analysis, the fraction (0.30 g), hexafluorobenzene (1.30 g), and benzotrifluoride (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the analysis, it was found that fluorine-containing vinyl sulfonyl fluoride (10) was produced (amount produced: 45.8 g, product mass: 0.163 mol, production rate: 93.8%).
In this embodiment, β/α was 1.7.
The residue remaining in the flask was collected and its mass was measured, which was 76.5 g. For analysis, the residue (0.20 g), purified water (1.00 g), and 2,2,2-trifluoroethanol (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the analysis, it was also confirmed that fluorine-containing vinyl sulfonate (4) was produced (amount produced: 63.8 g, product mass: 0.176 mol).
In this example, the addition rate was 1.7 g/min, and the mass specific addition rate was 3.2 g/min/g.

[実施例8]
スリーワンモータ(新東科学株式会社製、BLW300)、半月型攪拌棒、受器を付けたリービッヒ冷却管を備えたフラスコに、フッ化セシウム(52.3g、0.344mol)を入れ、オイルバス(東京理化器械株式会社製、OHB-3100S)に設置し、真空下150℃で5時間乾燥させ、室温に戻し、窒素雰囲気とした。窒素雰囲気の空間内で、滴下ロートに製造例1で製造した化合物(8)を入れ、窒素雰囲気の空間から滴下ロートを取出し、窒素を流通させながら、前記フラスコに滴下ロートを取付けた。リービッヒ冷却管に-5℃の冷媒を流通させ、リービッヒ冷却管に付属された受器をドライアイスで冷却したエタノールで冷却した。フラスコを60℃に設定したオイルバスに設置し、スリーワンモータを120rpmで回転させ、10分間攪拌した後、フラスコ内を70kPaAに減圧した。滴下ロートより製造例1で製造した化合物(8)を徐々に滴下した。滴下完了までには65分間要した。なお、反応が終了した後、滴下前後の滴下ロートの質量を測定することで、製造例1で製造した化合物(8)を112.1g(化合物(8)が109.9g(0.204mol)と化合物(9)が2.24g(0.008mol)からなる)滴下したことが分かった。製造例1で製造した化合物(8)を滴下すると、徐々に液体の留出が始まり、受器へ留出する液体の速度が2滴/分となった段階で、徐々に圧力を下げ、最終的に2kPaAとした。受器へ留出する液体が2分以上出なくなった段階で反応終了と判断し、フラスコをオイルバスから外し、窒素雰囲気とした後、スリーワンモータの回転を止めた。リービッヒ冷却管に流通した冷媒を止め、受器を常温に戻し、受器に入っている留分の質量を測定したところ、54.4g、であった。分析のため、留分(0.30g)、ヘキサフルオロベンゼン(1.30g)、ベンゾトリフルオリド(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)が生成していた(生成量:53.8g、生成物質量:0.192mol、生成率:94.1%)。
本実施例では、β/αは、1.7、であった。
また、フラスコに残った残渣を回収し、質量を測定したところ、104.2g、であった。分析のため、残渣(0.20g)、精製水(1.00g)、2,2,2-トリフルオロエタノール(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、含フッ素ビニルスルホン酸塩(4)が生成していることも確認された(生成量:84.3g、生成物質量:0.206mol)。
本実施例では、添加速度は、1.7g/min、であり、質量比添加速度は、2.0g/min/g、であった。
[Example 8]
Cesium fluoride (52.3 g, 0.344 mol) was placed in a flask equipped with a three-one motor (BLW300, manufactured by Shinto Scientific Co., Ltd.), a crescent-shaped stirring rod, and a Liebig condenser with a receiver attached, and the flask was placed in an oil bath (OHB-3100S, manufactured by Tokyo Rikakikai Co., Ltd.), dried at 150° C. under vacuum for 5 hours, returned to room temperature, and placed in a nitrogen atmosphere. In the nitrogen atmosphere space, the compound (8) produced in Production Example 1 was placed in a dropping funnel, the dropping funnel was removed from the nitrogen atmosphere space, and the dropping funnel was attached to the flask while flowing nitrogen. A refrigerant at −5° C. was passed through the Liebig condenser, and the receiver attached to the Liebig condenser was cooled with ethanol cooled with dry ice. The flask was placed in an oil bath set at 60° C., the three-one motor was rotated at 120 rpm, and stirring was performed for 10 minutes, after which the pressure in the flask was reduced to 70 kPaA. The compound (8) produced in Production Example 1 was gradually dripped from the dropping funnel. It took 65 minutes to complete the dripping. After the reaction was completed, the mass of the dropping funnel before and after the dripping was measured, and it was found that 112.1 g of the compound (8) produced in Production Example 1 (109.9 g (0.204 mol) of the compound (8) and 2.24 g (0.008 mol) of the compound (9)) was dripped. When the compound (8) produced in Production Example 1 was dripped, the liquid gradually began to be distilled, and when the rate of the liquid distilled into the receiver reached 2 drops/min, the pressure was gradually reduced, and finally reached 2 kPaA. When the liquid did not distill into the receiver for more than 2 minutes, it was determined that the reaction was completed, the flask was removed from the oil bath, and the flask was placed in a nitrogen atmosphere, and the rotation of the three-one motor was stopped. The refrigerant flowing through the Liebig condenser was stopped, the receiver was returned to room temperature, and the mass of the fraction in the receiver was measured, which was 54.4 g. For analysis, the fraction (0.30 g), hexafluorobenzene (1.30 g), and benzotrifluoride (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the analysis, it was found that fluorine-containing vinylsulfonic acid fluoride (10) was produced (amount produced: 53.8 g, product mass: 0.192 mol, production rate: 94.1%).
In this embodiment, β/α was 1.7.
The residue remaining in the flask was collected and its mass was measured, which was 104.2 g. For analysis, the residue (0.20 g), purified water (1.00 g), and 2,2,2-trifluoroethanol (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the analysis, it was also confirmed that fluorine-containing vinyl sulfonate (4) was produced (amount produced: 84.3 g, product mass: 0.206 mol).
In this example, the addition rate was 1.7 g/min, and the mass specific addition rate was 2.0 g/min/g.

[比較例1]
スリーワンモータ(新東科学株式会社製、BLW300)、半月型攪拌棒、受器を付けたリービッヒ冷却管を備えたフラスコに、フッ化カリウム(54.7g、0.941mol)を入れ、オイルバス(東京理化器械株式会社製、OHB-3100S)に設置し、真空下150℃で5時間乾燥させ、室温に戻し、窒素雰囲気とした。製造例1で製造した化合物(8)(324.8g、化合物(8)が318.3g(0.591mol)と化合物(9)が6.50g(0.023mol)からなる)を添加した。リービッヒ冷却管に-5℃の冷媒を流通させ、リービッヒ冷却管に付属された受器をドライアイスで冷却したエタノールで冷却した。フラスコ内を50kPaAに減圧し、スリーワンモータを120rpmで回転させ、フラスコを50℃に設定したオイルバスに設置した。1時間経過しても液体の留去が始まらなかったことから、徐々に圧力を下げたところ、液体の留去が始まり、最終的に2kPaAとした。受器へ留去される液体が2分以上なくなった段階で反応終了と判断し、フラスコをオイルバスから外し、窒素雰囲気とした後、スリーワンモータの回転を止めた。リービッヒ冷却管に流通した冷媒を止め、受器を常温に戻し、受器に入っている留分の質量を測定したところ、279.3g、であった。分析のため、留分(0.30g)、ヘキサフルオロベンゼン(1.30g)、ベンゾトリフルオリド(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)が生成していた(生成量:40.2g、生成物質量:0.143mol、生成率:24.3%)。
本実施例では、β/αは、1.6、であった。
[Comparative Example 1]
Potassium fluoride (54.7 g, 0.941 mol) was placed in a flask equipped with a three-one motor (BLW300, manufactured by Shinto Scientific Co., Ltd.), a crescent-shaped stirring rod, and a Liebig condenser with a receiver attached, and placed in an oil bath (OHB-3100S, manufactured by Tokyo Rikakikai Co., Ltd.), dried at 150°C under vacuum for 5 hours, returned to room temperature, and placed in a nitrogen atmosphere. Compound (8) (324.8 g, consisting of 318.3 g (0.591 mol) of compound (8) and 6.50 g (0.023 mol) of compound (9)) produced in Production Example 1 was added. A refrigerant at -5°C was circulated through the Liebig condenser, and the receiver attached to the Liebig condenser was cooled with ethanol cooled with dry ice. The pressure inside the flask was reduced to 50 kPaA, the three-one motor was rotated at 120 rpm, and the flask was placed in an oil bath set to 50°C. Since the liquid did not start to distill off even after 1 hour, the pressure was gradually lowered, and the liquid started to distill off, eventually reaching 2 kPaA. When the liquid was no longer distilled off into the receiver for more than 2 minutes, the reaction was judged to be complete, the flask was removed from the oil bath, a nitrogen atmosphere was created, and the rotation of the three-one motor was stopped. The refrigerant flowing through the Liebig condenser was stopped, the receiver was returned to room temperature, and the mass of the fraction in the receiver was measured, which was 279.3 g. For analysis, the fraction (0.30 g), hexafluorobenzene (1.30 g), and benzotrifluoride (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the analysis, fluorine-containing vinyl sulfonyl fluoride (10) was produced (amount produced: 40.2 g, product mass: 0.143 mol, production rate: 24.3%).
In this embodiment, β/α was 1.6.

[比較例2]
スリーワンモータ(新東科学株式会社製、BLW300)、半月型攪拌棒、受器を付けたリービッヒ冷却管を備えたフラスコに、フッ化カリウム(27.8g、0.479mol)を入れ、オイルバス(東京理化器械株式会社製、OHB-3100S)に設置し、真空下150℃で5時間乾燥させ、室温に戻し、窒素雰囲気とした。製造例1で製造した化合物(8)(168.4g、化合物(8)が165.0g(0.307mol)と化合物(9)が3.37g(0.012mol)からなる)を添加した。リービッヒ冷却管に-5℃の冷媒を流通させ、リービッヒ冷却管に付属された受器をドライアイスで冷却したエタノールで冷却した。フラスコ内を95kPaAに減圧し、スリーワンモータを120rpmで回転させ、フラスコを130℃に設定したオイルバスに設置した。液体の留去が始まり、受器へ留去される液体の速度が2滴/分となった段階で、徐々に圧力を下げ、最終的に2kPaAとした。受器へ留去される液体が2分以上なくなった段階で反応終了と判断し、フラスコをオイルバスから外し、窒素雰囲気とした後、スリーワンモータの回転を止めた。リービッヒ冷却管に流通した冷媒を止め、受器を常温に戻し、受器に入っている留分の質量を測定したところ、100.3g、であった。分析のため、留分(0.30g)、ヘキサフルオロベンゼン(1.30g)、ベンゾトリフルオリド(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)が生成していた(生成量:53.9g、生成物質量:0.192mol、生成率:62.7%)。
本実施例では、β/αは、1.6、であった。
[Comparative Example 2]
Potassium fluoride (27.8 g, 0.479 mol) was placed in a flask equipped with a three-one motor (BLW300, manufactured by Shinto Scientific Co., Ltd.), a crescent-shaped stirring rod, and a Liebig condenser with a receiver attached, and placed in an oil bath (OHB-3100S, manufactured by Tokyo Rikakikai Co., Ltd.), dried at 150°C under vacuum for 5 hours, returned to room temperature, and placed in a nitrogen atmosphere. Compound (8) (168.4 g, consisting of 165.0 g (0.307 mol) of compound (8) and 3.37 g (0.012 mol) of compound (9)) produced in Production Example 1 was added. A refrigerant at -5°C was circulated through the Liebig condenser, and the receiver attached to the Liebig condenser was cooled with ethanol cooled with dry ice. The pressure inside the flask was reduced to 95 kPaA, the three-one motor was rotated at 120 rpm, and the flask was placed in an oil bath set to 130°C. When the liquid started to be distilled off and the rate of the liquid distilled off to the receiver reached 2 drops/min, the pressure was gradually reduced to 2 kPaA. When the liquid was no longer distilled off to the receiver for more than 2 minutes, the reaction was judged to be complete, the flask was removed from the oil bath, the atmosphere was replaced with nitrogen, and the rotation of the three-one motor was stopped. The refrigerant flowing through the Liebig condenser was stopped, the receiver was returned to room temperature, and the mass of the fraction in the receiver was measured, which was 100.3 g. For analysis, the fraction (0.30 g), hexafluorobenzene (1.30 g), and benzotrifluoride (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the analysis, fluorine-containing vinyl sulfonyl fluoride (10) was produced (amount produced: 53.9 g, product mass: 0.192 mol, production rate: 62.7%).
In this embodiment, β/α was 1.6.

実施例1~8に示すように、含フッ素ビニルスルホン酸無水物(1)と、アルカリ金属フッ化物(2)との反応において、加熱下で、アルカリ金属フッ化物(2)に、含フッ素ビニルスルホン酸無水物(1)を添加することにより、高い収率で含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)が得られることが示された。また、含フッ素ビニルスルホン酸塩(4)を得られることが示された。 As shown in Examples 1 to 8, in the reaction between fluorine-containing vinylsulfonic anhydride (1) and alkali metal fluoride (2), it was shown that fluorine-containing vinylsulfonic acid fluoride (3) can be obtained in high yield by adding fluorine-containing vinylsulfonic anhydride (1) to alkali metal fluoride (2) under heating. It was also shown that fluorine-containing vinylsulfonate (4) can be obtained.

[実施例9]
実施例1で得られた含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)を含む残渣10.1gを、攪拌子の入ったフラスコに入れ、アセトニトリル39.2gを添加し、30分攪拌した。得られた溶液を、出口にフラスコを備えたタンク付ステンレスホルダー(アドバンテック東洋株式会社製、KST-47。ろ紙として、中尾フィルター工業株式会社製TR G940B2K、を用いた。)に入れ、窒素で0.2MPaGに加圧し、ろ過した。フラスコに得たろ液を、ロータリーエバポレータ(東京理化機器株式会社製、N-1300V)を用いて、揮発成分を留去し、さらに真空乾燥機(アズワン株式会社製、AVO-250V)で真空乾燥することで、固体を得た。分析のため、得られた固体(0.20g)、精製水(1.00g)、2,2,2-トリフルオロエタノール(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)を9.11g(28.8mmol)得られたことが確認された。
本実施例では、γ/δは、3.9、であった。
[Example 9]
10.1 g of the residue containing the fluorine-containing vinyl sulfonate (11) obtained in Example 1 was placed in a flask containing a stirrer, 39.2 g of acetonitrile was added, and the mixture was stirred for 30 minutes. The obtained solution was placed in a tank-attached stainless steel holder equipped with a flask at the outlet (KST-47, manufactured by Advantec Toyo Co., Ltd.; TR G940B2K, manufactured by Nakao Filter Kogyo Co., Ltd., was used as the filter paper), pressurized to 0.2 MPaG with nitrogen, and filtered. The filtrate obtained in the flask was subjected to distillation of volatile components using a rotary evaporator (N-1300V, manufactured by Tokyo Rikakikai Co., Ltd.), and further vacuum-dried in a vacuum dryer (AVO-250V, manufactured by AS ONE Corporation) to obtain a solid. For analysis, the obtained solid (0.20 g), purified water (1.00 g), and 2,2,2-trifluoroethanol (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of analysis, it was confirmed that 9.11 g (28.8 mmol) of the fluorinated vinyl sulfonate (11) was obtained.
In this embodiment, γ/δ was 3.9.

[実施例10]
実施例1で得られた含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)を含む残渣9.90gを、攪拌子の入ったフラスコに入れ、酢酸ブチル94.7gを添加し、30分攪拌した。得られた溶液を、出口にフラスコを備えたタンク付ステンレスホルダー(アドバンテック東洋株式会社製、KST-47。ろ紙として、中尾フィルター工業株式会社製TR G940B2K、を用いた。)に入れ、窒素で0.2MPaGに加圧し、ろ過した。フラスコに得たろ液を、ロータリーエバポレータ(東京理化機器株式会社製、N-1300V)を用いて、揮発成分を留去し、さらに真空乾燥機(アズワン株式会社製、AVO-250V)で真空乾燥することで、固体を得た。分析のため、得られた固体(0.20g)、精製水(1.00g)、2,2,2-トリフルオロエタノール(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)を8.91g(28.2mmol)得られたことが確認された。
本実施例では、γ/δは、9.6、であった。
[Example 10]
9.90 g of the residue containing the fluorine-containing vinyl sulfonate (11) obtained in Example 1 was placed in a flask containing a stirrer, and 94.7 g of butyl acetate was added and stirred for 30 minutes. The obtained solution was placed in a tank-attached stainless steel holder equipped with a flask at the outlet (KST-47, manufactured by Advantec Toyo Co., Ltd.; TR G940B2K, manufactured by Nakao Filter Kogyo Co., Ltd., was used as the filter paper), pressurized to 0.2 MPaG with nitrogen, and filtered. The filtrate obtained in the flask was distilled to remove volatile components using a rotary evaporator (N-1300V, manufactured by Tokyo Rikakikai Co., Ltd.), and further vacuum-dried in a vacuum dryer (AVO-250V, manufactured by AS ONE Corporation) to obtain a solid. For analysis, the obtained solid (0.20 g), purified water (1.00 g), and 2,2,2-trifluoroethanol (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of analysis, it was confirmed that 8.91 g (28.2 mmol) of the fluorinated vinyl sulfonate (11) was obtained.
In this embodiment, γ/δ was 9.6.

[実施例11]
実施例1で得られた含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)を含む残渣10.2gを、攪拌子の入ったフラスコに入れ、4-メチル-2-ペンタノン86.5gを添加し、30分攪拌した。得られた溶液を、出口にフラスコを備えたタンク付ステンレスホルダー(アドバンテック東洋株式会社製、KST-47。ろ紙として、中尾フィルター工業株式会社製TR G940B2K、を用いた。)に入れ、窒素で0.2MPaGに加圧し、ろ過した。フラスコに得たろ液を、ロータリーエバポレータ(東京理化機器株式会社製、N-1300V)を用いて、揮発成分を留去し、さらに真空乾燥機(アズワン株式会社製、AVO-250V)で真空乾燥することで、固体を得た。分析のため、得られた固体(0.20g)、精製水(1.00g)、2,2,2-トリフルオロエタノール(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)を9.16g(29.0mmol)得られたことが確認された。
本実施例では、γ/δは、8.5、であった。
[Example 11]
10.2 g of the residue containing the fluorine-containing vinyl sulfonate (11) obtained in Example 1 was placed in a flask containing a stirrer, and 86.5 g of 4-methyl-2-pentanone was added and stirred for 30 minutes. The obtained solution was placed in a tank-attached stainless steel holder equipped with a flask at the outlet (KST-47, manufactured by Advantec Toyo Co., Ltd.; TR G940B2K, manufactured by Nakao Filter Kogyo Co., Ltd., was used as the filter paper), pressurized to 0.2 MPaG with nitrogen, and filtered. The filtrate obtained in the flask was distilled to remove volatile components using a rotary evaporator (N-1300V, manufactured by Tokyo Rikakiki Co., Ltd.), and further vacuum-dried in a vacuum dryer (AVO-250V, manufactured by AS ONE Corporation) to obtain a solid. For analysis, the obtained solid (0.20 g), purified water (1.00 g), and 2,2,2-trifluoroethanol (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of analysis, it was confirmed that 9.16 g (29.0 mmol) of the fluorinated vinyl sulfonate (11) was obtained.
In this embodiment, γ/δ was 8.5.

[実施例12]
実施例1で得られた含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)を含む残渣51.0gを、攪拌子の入ったフラスコに入れ、炭酸ジメチル113.8gを添加し、1時間攪拌した。得られた溶液を、出口にフラスコを備えたタンク付ステンレスホルダー(アドバンテック東洋株式会社製、KST-47。ろ紙として、中尾フィルター工業株式会社製TR G940B2K、を用いた。)に入れ、窒素で0.2MPaGに加圧し、ろ過した。フラスコに得たろ液を、ロータリーエバポレータ(東京理化機器株式会社製、N-1300V)を用いて、揮発成分を留去し、さらに真空乾燥機(アズワン株式会社製、AVO-250V)で真空乾燥することで、固体を得た。分析のため、得られた固体(0.20g)、精製水(1.00g)、2,2,2-トリフルオロエタノール(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)を45.8g(0.145mol)得られたことが確認された。
本実施例では、γ/δは、2.2、であった。
ロータリーエバポレータにより留去した揮発成分をH-NMRにより分析した結果、炭酸ジメチルが主成分であることが確認できた。炭酸ジメチルが主成分である揮発成分30.0gと、実施例1で得られた含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)を含む残渣10.1gとを混合し、本実施例記載と同様に、ろ過し、ろ液から揮発成分を留去し、真空乾燥することで固体を得た。得られた固体を19F-NMRにて分析した結果、含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)を得られたことが確認された。
ろ過によりろ紙上に得たろ物を、真空乾燥機(アズワン株式会社製、AVO-250V)で真空乾燥し、乾燥したろ物を5.11g得た。乾燥したろ物を、スリーワンモータ(新東科学株式会社製、BLW300)、半月型攪拌棒、受器を付けたリービッヒ冷却管を備えたフラスコに入れ、オイルバス(東京理化器械株式会社製、OHB-3100S)に設置し、真空下150℃で5時間乾燥させ、室温に戻し、窒素雰囲気とした。窒素雰囲気の空間内で、滴下ロートに製造例1で製造した化合物(8)を入れ、窒素雰囲気の空間から滴下ロートを取出し、窒素を流通させながら、前記フラスコに滴下ロートを取付けた。リービッヒ冷却管に-5℃の冷媒を流通させ、リービッヒ冷却管に付属された受器をドライアイスで冷却したエタノールで冷却した。フラスコを110℃に設定したオイルバスに設置し、スリーワンモータを120rpmで回転させ、10分間攪拌した後、フラスコ内を70kPaAに減圧した。滴下ロートより製造例1で製造した化合物(8)を徐々に滴下した。滴下完了までには10分間要した。なお、反応が終了した後、滴下前後の滴下ロートの質量を測定することで、製造例1で製造した化合物(8)を24.0g(化合物(8)が23.5g(43.7mmol)と化合物(9)が0.48g(1.73mmol)からなる)滴下したことが分かった。製造例1で製造した化合物(8)を滴下すると、徐々に液体の留出が始まり、受器へ留出する液体の速度が2滴/分となった段階で、徐々に圧力を下げ、最終的に2kPaAとした。受器へ留出する液体が2分以上出なくなった段階で反応終了と判断し、フラスコをオイルバスから外し、窒素雰囲気とした後、スリーワンモータの回転を止めた。リービッヒ冷却管に流通した冷媒を止め、受器を常温に戻し、受器に入っている留分の質量を測定したところ、12.1g、であった。分析のため、留分(0.30g)、ヘキサフルオロベンゼン(1.30g)、ベンゾトリフルオリド(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)が生成していた(生成量:11.3g、生成物質量:40.3mmol、生成率:92.2%)。
本実施例では、添加速度は、2.4g/min、であり、質量比添加速度は、33.5g/min/g、であった。
[Example 12]
51.0 g of the residue containing the fluorine-containing vinyl sulfonate (11) obtained in Example 1 was placed in a flask containing a stirrer, 113.8 g of dimethyl carbonate was added, and the mixture was stirred for 1 hour. The obtained solution was placed in a tank-attached stainless steel holder equipped with a flask at the outlet (KST-47, manufactured by Advantec Toyo Co., Ltd.; TR G940B2K, manufactured by Nakao Filter Kogyo Co., Ltd., was used as the filter paper), pressurized to 0.2 MPaG with nitrogen, and filtered. The filtrate obtained in the flask was distilled to remove volatile components using a rotary evaporator (N-1300V, manufactured by Tokyo Rikakikai Co., Ltd.), and further vacuum-dried in a vacuum dryer (AVO-250V, manufactured by AS ONE Corporation) to obtain a solid. For analysis, the obtained solid (0.20 g), purified water (1.00 g), and 2,2,2-trifluoroethanol (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of analysis, it was confirmed that 45.8 g (0.145 mol) of the fluorinated vinyl sulfonate (11) was obtained.
In this embodiment, γ/δ was 2.2.
The volatile components distilled off by the rotary evaporator were analyzed by 1 H-NMR, and it was confirmed that dimethyl carbonate was the main component. 30.0 g of the volatile components mainly composed of dimethyl carbonate were mixed with 10.1 g of the residue containing the fluorinated vinyl sulfonate (11) obtained in Example 1, and the mixture was filtered in the same manner as described in this example, and the volatile components were distilled off from the filtrate, followed by vacuum drying to obtain a solid. The obtained solid was analyzed by 19 F-NMR, and it was confirmed that the fluorinated vinyl sulfonate (11) was obtained.
The residue obtained on the filter paper by filtration was vacuum-dried using a vacuum dryer (AVO-250V, manufactured by AS ONE CORPORATION) to obtain 5.11 g of dried residue. The dried residue was placed in a flask equipped with a three-one motor (BLW300, manufactured by Shinto Scientific Co., Ltd.), a crescent-shaped stirring rod, and a Liebig condenser equipped with a receiver, and placed in an oil bath (OHB-3100S, manufactured by Tokyo Rikakikai Co., Ltd.), dried at 150°C under vacuum for 5 hours, returned to room temperature, and placed in a nitrogen atmosphere. In a space with a nitrogen atmosphere, the compound (8) produced in Production Example 1 was placed in a dropping funnel, the dropping funnel was removed from the space with a nitrogen atmosphere, and the dropping funnel was attached to the flask while flowing nitrogen. A refrigerant at -5°C was passed through the Liebig condenser, and the receiver attached to the Liebig condenser was cooled with ethanol cooled with dry ice. The flask was placed in an oil bath set at 110°C, and the three-one motor was rotated at 120 rpm to stir for 10 minutes, after which the pressure in the flask was reduced to 70 kPaA. Compound (8) produced in Production Example 1 was gradually dripped from the dropping funnel. It took 10 minutes to complete the dripping. After the reaction was completed, the mass of the dropping funnel before and after the dripping was measured, and it was found that 24.0 g of compound (8) produced in Production Example 1 (23.5 g (43.7 mmol) of compound (8) and 0.48 g (1.73 mmol) of compound (9)) had been dripped. When compound (8) produced in Production Example 1 was dripped, the liquid gradually began to be distilled out, and when the rate of the liquid distilled into the receiver reached 2 drops/min, the pressure was gradually reduced to 2 kPaA. When the liquid distilled into the receiver did not come out for more than 2 minutes, the reaction was judged to be over, the flask was removed from the oil bath, and the atmosphere was changed to nitrogen, and the rotation of the three-one motor was stopped. The refrigerant flowing through the Liebig condenser was stopped, the receiver was returned to room temperature, and the mass of the fraction in the receiver was measured, which was 12.1 g. For analysis, the fraction (0.30 g), hexafluorobenzene (1.30 g), and benzotrifluoride (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the analysis, fluorine-containing vinyl sulfonyl fluoride (10) was produced (amount produced: 11.3 g, product mass: 40.3 mmol, production rate: 92.2%).
In this example, the addition rate was 2.4 g/min, and the mass specific addition rate was 33.5 g/min/g.

[実施例13]
実施例1で得られた含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)を含む残渣10.3gを、攪拌子の入ったフラスコに入れ、1,2-ジメトキシエタン14.0gを添加し、1時間攪拌した。得られた溶液を、出口にフラスコを備えたタンク付ステンレスホルダー(アドバンテック東洋株式会社製、KST-47。ろ紙として、中尾フィルター工業株式会社製TR G940B2K、を用いた。)に入れ、窒素で0.2MPaGに加圧し、ろ過した。フラスコに得たろ液を、ロータリーエバポレータ(東京理化機器株式会社製、N-1300V)を用いて、揮発成分を留去し、さらに真空乾燥機(アズワン株式会社製、AVO-250V)で真空乾燥することで、固体を得た。分析のため、得られた固体(0.20g)、精製水(1.00g)、2,2,2-トリフルオロエタノール(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。分析の結果、含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)を9.20g(29.1mmol)得られたことが確認された。
本実施例では、γ/δは、1.4、であった。
[Example 13]
10.3 g of the residue containing the fluorine-containing vinyl sulfonate (11) obtained in Example 1 was placed in a flask containing a stirrer, 14.0 g of 1,2-dimethoxyethane was added, and the mixture was stirred for 1 hour. The obtained solution was placed in a tank-attached stainless steel holder equipped with a flask at the outlet (KST-47, manufactured by Advantec Toyo Co., Ltd.; TR G940B2K, manufactured by Nakao Filter Kogyo Co., Ltd., was used as the filter paper), pressurized to 0.2 MPaG with nitrogen, and filtered. The filtrate obtained in the flask was subjected to distillation of volatile components using a rotary evaporator (N-1300V, manufactured by Tokyo Rika Kiki Co., Ltd.), and further vacuum-dried in a vacuum dryer (AVO-250V, manufactured by AS ONE Corporation) to obtain a solid. For analysis, the obtained solid (0.20 g), purified water (1.00 g), and 2,2,2-trifluoroethanol (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of analysis, it was confirmed that 9.20 g (29.1 mmol) of the fluorinated vinyl sulfonate (11) was obtained.
In this embodiment, γ/δ was 1.4.

[実施例14]
実施例1で得られた含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)を含む残渣52.0gを、攪拌子の入ったフラスコに入れ、炭酸ジメチル110.6gを添加し、1時間攪拌した。得られた溶液を、出口にフラスコを備えたタンク付ステンレスホルダー(アドバンテック東洋株式会社製、KST-47。ろ紙として、中尾フィルター工業株式会社製TR G940B2K、を用いた。)に入れ、窒素で0.2MPaGに加圧し、ろ過した。フラスコに得たろ液105.0gを別のフラスコに移し、精製水を58.5g添加し、ロータリーエバポレータ(東京理化機器株式会社製、N-1300V)を用いて、揮発成分を留去した(フラスコ内容物の量は、92.1gであった)。フラスコに精製水を58.5g添加し、ロータリーエバポレータ(東京理化機器株式会社製、N-1300V)を用いて、揮発成分を留去した(フラスコ内容物の量は、90.5gであった)。フラスコに精製水を58.5g添加し、ロータリーエバポレータ(東京理化機器株式会社製、N-1300V)を用いて、揮発成分を留去した(フラスコ内容物の量は、90.0gであった)。分析のため、得られたフラスコ内容物(1.00g)に2,2,2-トリフルオロエタノール(0.10g)を混合し、19F-NMR、及びH-NMRにて分析した。19F-NMRでの分析の結果、フラスコ内容物には、含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)が31.5g含まれていることが確認された。また、H-NMRでの分析の結果、炭酸ジメチルは観測されなかった。このことから、フラスコ内容物は、含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)の水溶液であることが確認された。
本実施例では、κ/ιは、1.7、であった。
エバポレータにより留去した揮発成分を全て回収したところ、2相に分離していた。それぞれの相をH-NMRにより分析した結果、下相は炭酸ジメチルが主成分の相であり、上相は水が主成分の層であることが確認できた。分液ロートを用い、炭酸ジメチルが主成分の相(96.4g)と、水が主成分の相(131.2g)に分離した。炭酸ジメチルが主成分の相の水分量を、カールフィッシャー水分計(京都電子工業株式会社製、MKC-710D)にて分析した結果、水分量は、3.0質量%、であった。
得られた炭酸ジメチルが主成分の相12.8gと、実施例1で得られた含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)を含む残渣6.00gとを混合し、本実施例記載と同様に、ろ過し、ろ液から揮発成分を留去し、真空乾燥することで固体を得た。得られた固体を19F-NMRにて分析した結果、含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)を得られたことが確認された。
得られた炭酸ジメチルが主成分の相(83.6g)を蒸留装置のフラスコに入れ、揮発成分を留去した(フラスコ内容物の量は、67.2g、であった)。得られたフラスコ内容物の水分量を、カールフィッシャー水分計(京都電子工業株式会社製、MKC-710D)にて分析した結果、水分量は、1.0質量%、であり、水分量が低減された炭酸ジメチルが主成分の相を調整できた。水分量が低減された炭酸ジメチルが主成分の相20.2gと、実施例1で得られた含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)を含む残渣9.50gとを混合し、本実施例記載と同様に、ろ過し、ろ液から揮発成分を留去し、真空乾燥することで固体を得た。得られた固体を19F-NMRにて分析した結果、含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)を得られたことが確認された。
含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)の水溶液49.7g(含フッ素ビニルスルホン酸塩(11)を17.4g(55.0mmol)含む)をセパラブルフラスコに入れ、攪拌しながら硫酸(富士フィルム和光純薬株式会社製、試薬特級)(10.8g)を徐々に加えた。続いて、シクロペンチルメチルエーテル(富士フィルム和光純薬株式会社製、和光特級)(34.8g)を加え、1時間攪拌した後、2時間静置した。上相のシクロペンチルメチルエーテル相(1.0g)を取出し、19F-NMRにて分析した結果、化合物(9)を得られたことが確認された。
[Example 14]
52.0 g of the residue containing the fluorine-containing vinyl sulfonate (11) obtained in Example 1 was placed in a flask containing a stirrer, 110.6 g of dimethyl carbonate was added, and the mixture was stirred for 1 hour. The obtained solution was placed in a tank-equipped stainless steel holder equipped with a flask at the outlet (KST-47, manufactured by Advantec Toyo Co., Ltd.; TR G940B2K, manufactured by Nakao Filter Kogyo Co., Ltd., was used as the filter paper), pressurized to 0.2 MPaG with nitrogen, and filtered. 105.0 g of the filtrate obtained in the flask was transferred to another flask, 58.5 g of purified water was added, and the volatile components were distilled off using a rotary evaporator (N-1300V, manufactured by Tokyo Rika Kiki Co., Ltd.) (the amount of the flask contents was 92.1 g). 58.5 g of purified water was added to the flask, and the volatile components were distilled off using a rotary evaporator (N-1300V, manufactured by Tokyo Rika Kiki Co., Ltd.) (the amount of the flask contents was 90.5 g). 58.5 g of purified water was added to the flask, and volatile components were distilled off using a rotary evaporator (Tokyo Rikakiki Co., Ltd., N-1300V) (the amount of the flask contents was 90.0 g). For analysis, the obtained flask contents (1.00 g) were mixed with 2,2,2-trifluoroethanol (0.10 g) and analyzed by 19 F-NMR and 1 H-NMR. As a result of the 19 F-NMR analysis, it was confirmed that the flask contents contained 31.5 g of fluorine-containing vinyl sulfonate (11). Furthermore, as a result of the 1 H-NMR analysis, dimethyl carbonate was not observed. From this, it was confirmed that the flask contents were an aqueous solution of fluorine-containing vinyl sulfonate (11).
In this example, κ/ι was 1.7.
When all the volatile components distilled off by the evaporator were collected, the mixture was separated into two phases. Analysis of each phase by 1 H-NMR confirmed that the lower phase was a phase mainly composed of dimethyl carbonate, and the upper phase was a layer mainly composed of water. Using a separatory funnel, the mixture was separated into a phase mainly composed of dimethyl carbonate (96.4 g) and a phase mainly composed of water (131.2 g). The moisture content of the phase mainly composed of dimethyl carbonate was analyzed using a Karl Fischer moisture meter (MKC-710D, manufactured by Kyoto Electronics Manufacturing Co., Ltd.), and the moisture content was 3.0% by mass.
12.8 g of the obtained phase mainly composed of dimethyl carbonate was mixed with 6.00 g of the residue containing the fluorinated vinyl sulfonate (11) obtained in Example 1, and the mixture was filtered in the same manner as described in this Example, and the volatile components were distilled off from the filtrate, followed by vacuum drying to obtain a solid. The obtained solid was analyzed by 19F -NMR, and it was confirmed that the fluorinated vinyl sulfonate (11) was obtained.
The obtained phase (83.6 g) mainly composed of dimethyl carbonate was placed in a flask of a distillation apparatus, and volatile components were distilled off (the amount of the flask contents was 67.2 g). The water content of the obtained flask contents was analyzed using a Karl Fischer moisture meter (MKC-710D, manufactured by Kyoto Electronics Manufacturing Co., Ltd.), and the water content was 1.0 mass%, and a phase mainly composed of dimethyl carbonate with a reduced water content was prepared. 20.2 g of the phase mainly composed of dimethyl carbonate with a reduced water content was mixed with 9.50 g of the residue containing the fluorine-containing vinyl sulfonate (11) obtained in Example 1, and the mixture was filtered in the same manner as described in this example, and the volatile components were distilled off from the filtrate, and the mixture was vacuum-dried to obtain a solid. The obtained solid was analyzed by 19 F-NMR, and it was confirmed that the fluorine-containing vinyl sulfonate (11) was obtained.
49.7 g of an aqueous solution of the fluorinated vinyl sulfonate (11) (containing 17.4 g (55.0 mmol) of the fluorinated vinyl sulfonate (11)) was placed in a separable flask, and sulfuric acid (special grade reagent, manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) (10.8 g) was gradually added with stirring. Subsequently, cyclopentyl methyl ether (special grade reagent, manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) (34.8 g) was added, and the mixture was stirred for 1 hour and then allowed to stand for 2 hours. The upper cyclopentyl methyl ether phase (1.0 g) was taken out and analyzed by 19 F-NMR, and it was confirmed that compound (9) had been obtained.

[実施例15]
実施例1で得られた含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)39.8gを蒸留装置(充填剤として、スルザー社製スルザーEXラボラトリーパッキンを使用)のフラスコに入れ、蒸留した。初流として1.92gを分け、その後34.6gの留分を得た。得られた留分(0.30g)、ヘキサフルオロベンゼン(3.00g)、ベンゾトリフルオリド(0.10g)を混合し、GCにより分析した結果、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)の純度は、99.9%、であった。
[Example 15]
39.8 g of the fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (10) obtained in Example 1 was placed in a flask of a distillation apparatus (Sulzer EX Laboratory Packing manufactured by Sulzer was used as a packing material) and distilled. 1.92 g was separated as an initial stream, and then 34.6 g of a fraction was obtained. The obtained fraction (0.30 g), hexafluorobenzene (3.00 g), and benzotrifluoride (0.10 g) were mixed and analyzed by GC, and the purity of the fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (10) was 99.9%.

[実施例16]
実施例1で得られた含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)39.0gと、精製水19.5gとを、攪拌子の入ったフラスコに入れ、30分間撹拌し、分液ロートに入れ、30分間静置し、上相(19.8g)と下相(38.1g)を得た。分析のため、得られた下相(0.30g)、1,2-ジメトキシエタン(1.00g)、ベンゾトリフルオリド(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。19F-NMRでの分析の結果、拐取した下相には、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)が37.2g含まれていることが確認された。
本実施例における、ζ/εは、0.50、であった。
前記下相を蒸留装置(充填剤として、スルザー社製スルザーEXラボラトリーパッキンを使用)のフラスコに入れ、蒸留した。初流として3.05gを分け、その後32.0gの留分を得た。得られた留分(0.30g)、ヘキサフルオロベンゼン(3.00g)、ベンゾトリフルオリド(0.10g)を混合し、GCにより分析した結果、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)の純度は、99.9%、であった。
得られた上相(10.1g)と、実施例1で得られた含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)9.90gとを、攪拌子の入ったフラスコに入れ、30分間撹拌し、分液ロートに入れ、30分間静置し、下相(9.72g)を得た。得られた下相(0.30g)、1,2-ジメトキシエタン(1.00g)、ベンゾトリフルオリド(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。19F-NMRでの分析の結果、拐取した下相には、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)が9.45g含まれていることが確認された。
[Example 16]
39.0 g of the fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (10) obtained in Example 1 and 19.5 g of purified water were placed in a flask containing a stirrer, stirred for 30 minutes, and placed in a separatory funnel and allowed to stand for 30 minutes to obtain an upper phase (19.8 g) and a lower phase (38.1 g). For analysis, the obtained lower phase (0.30 g), 1,2-dimethoxyethane (1.00 g), and benzotrifluoride (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the 19 F-NMR analysis, it was confirmed that the separated lower phase contained 37.2 g of fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (10).
In this embodiment, ζ/ε was 0.50.
The lower phase was placed in a flask of a distillation apparatus (Sulzer EX Laboratory Packing, manufactured by Sulzer, was used as a packing material) and distilled. 3.05 g was separated as an initial stream, and then 32.0 g of a fraction was obtained. The obtained fraction (0.30 g), hexafluorobenzene (3.00 g), and benzotrifluoride (0.10 g) were mixed and analyzed by GC, and the purity of the fluorine-containing vinyl sulfonyl fluoride (10) was 99.9%.
The obtained upper phase (10.1 g) and 9.90 g of the fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (10) obtained in Example 1 were placed in a flask containing a stirrer, stirred for 30 minutes, and then placed in a separatory funnel and allowed to stand for 30 minutes to obtain a lower phase (9.72 g). The obtained lower phase (0.30 g), 1,2-dimethoxyethane (1.00 g), and benzotrifluoride (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the 19 F-NMR analysis, it was confirmed that the separated lower phase contained 9.45 g of the fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (10).

[実施例17]
実施例1で得られた含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)41.2gと、炭酸水素ナトリウム水溶液41.2gとを、攪拌子の入ったフラスコに入れ、30分間撹拌し、分液ロートに入れ、30分間静置し、上相(41.2g)と下相(40.0g)を得た。分析のため、得られた下相(0.30g)、1,2-ジメトキシエタン(1.00g)、ベンゾトリフルオリド(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。19F-NMRでの分析の結果、拐取した下相には、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)が39.3g含まれていることが確認された。
本実施例における、ζ/εは、1.0、であった。
前記下相を蒸留装置(充填剤として、スルザー社製スルザーEXラボラトリーパッキンを使用)のフラスコに入れ、蒸留した。初流として2.60gを分け、その後34.2gの留分を得た。得られた留分(0.30g)、ヘキサフルオロベンゼン(3.00g)、ベンゾトリフルオリド(0.10g)を混合し、GCにより分析した結果、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)の純度は、99.9%、であった。
得られた上相(19.6g)と、実施例1で得られた含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)9.80gとを、攪拌子の入ったフラスコに入れ、30分間撹拌し、分液ロートに入れ、30分間静置し、下相(9.55g)を得た。得られた下相(0.30g)、1,2-ジメトキシエタン(1.00g)、ベンゾトリフルオリド(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。19F-NMRでの分析の結果、拐取した下相には、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)が9.35g含まれていることが確認された。
[Example 17]
41.2 g of the fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (10) obtained in Example 1 and 41.2 g of an aqueous sodium hydrogen carbonate solution were placed in a flask containing a stirrer, stirred for 30 minutes, and placed in a separatory funnel and allowed to stand for 30 minutes to obtain an upper phase (41.2 g) and a lower phase (40.0 g). For analysis, the obtained lower phase (0.30 g), 1,2-dimethoxyethane (1.00 g), and benzotrifluoride (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the 19 F-NMR analysis, it was confirmed that the separated lower phase contained 39.3 g of fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (10).
In this example, ζ/ε was 1.0.
The lower phase was placed in a flask of a distillation apparatus (Sulzer EX Laboratory Packing, manufactured by Sulzer, was used as a packing material) and distilled. 2.60 g was separated as an initial stream, and then 34.2 g of a fraction was obtained. The obtained fraction (0.30 g), hexafluorobenzene (3.00 g), and benzotrifluoride (0.10 g) were mixed and analyzed by GC, and the purity of the fluorine-containing vinyl sulfonyl fluoride (10) was 99.9%.
The obtained upper phase (19.6 g) and 9.80 g of the fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (10) obtained in Example 1 were placed in a flask containing a stirrer, stirred for 30 minutes, and placed in a separatory funnel and allowed to stand for 30 minutes to obtain a lower phase (9.55 g). The obtained lower phase (0.30 g), 1,2-dimethoxyethane (1.00 g), and benzotrifluoride (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the 19 F-NMR analysis, it was confirmed that the separated lower phase contained 9.35 g of the fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (10).

[実施例18]
実施例1で得られた含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)10.1gと、炭酸水素ナトリウム水溶液50.5gとを、攪拌子の入ったフラスコに入れ、30分間撹拌し、分液ロートに入れ、30分間静置し、上相(50.1g)、下相(9.77g)を得た。分析のため、得られた下相(0.30g)、1,2-ジメトキシエタン(1.00g)、ベンゾトリフルオリド(0.10g)を混合し、19F-NMRにて分析した。19F-NMRでの分析の結果、拐取した下相には、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(10)が9.64g含まれていることが確認された。
本実施例における、ζ/εは、5.0、であった。
[Example 18]
10.1 g of the fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (10) obtained in Example 1 and 50.5 g of an aqueous sodium hydrogen carbonate solution were placed in a flask containing a stirrer, stirred for 30 minutes, and then placed in a separatory funnel and allowed to stand for 30 minutes to obtain an upper phase (50.1 g) and a lower phase (9.77 g). For analysis, the obtained lower phase (0.30 g), 1,2-dimethoxyethane (1.00 g), and benzotrifluoride (0.10 g) were mixed and analyzed by 19 F-NMR. As a result of the 19 F-NMR analysis, it was confirmed that the separated lower phase contained 9.64 g of fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (10).
In this example, ζ/ε was 5.0.

実施例9~18で示したように、含フッ素ビニルスルホン酸無水物(1)と、アルカリ金属フッ化物(2)とを、反応させることにより得られる含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)、又は含フッ素ビニルスルホン酸塩(4)を分離できることが示された。また、分離する際に用いた化合物等が再利用できることも示された。 As shown in Examples 9 to 18, it was demonstrated that fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (3) or fluorine-containing vinyl sulfonate (4) obtained by reacting fluorine-containing vinyl sulfonic acid anhydride (1) with alkali metal fluoride (2) can be separated. It was also demonstrated that the compounds used in the separation can be reused.

本発明の製造方法によれば、従来よりも収率よく含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)を製造することができるため、各種フッ素含有化合物、イオン交換樹脂、イオン交換膜、食塩電解膜、燃料電池膜、レドックスフロー電池用膜、水電解用膜等の原料の製造において好適に用いることができる。また、各種のフッ素化合物に変換することができる含フッ素ビニルスルホン酸塩(4)を製造することができる。さらに、含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)、及び/又は含フッ素ビニルスルホン酸塩(4)を分離でき、分離する際に用いた化合物等を再利用することができる。 According to the production method of the present invention, fluorine-containing vinyl sulfonate fluoride (3) can be produced in a higher yield than in the past, and can therefore be suitably used in the production of raw materials for various fluorine-containing compounds, ion exchange resins, ion exchange membranes, salt electrolysis membranes, fuel cell membranes, membranes for redox flow batteries, membranes for water electrolysis, and the like. In addition, fluorine-containing vinyl sulfonate salts (4) that can be converted into various fluorine compounds can be produced. Furthermore, fluorine-containing vinyl sulfonate salts (3) and/or fluorine-containing vinyl sulfonate salts (4) can be separated, and the compounds used in the separation can be reused.

Claims (29)

下記一般式(3):
Figure 0007598260000015
(式中、mは0~3の整数、nは1~6の整数)
で表される含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)、又は
下記一般式(4):
Figure 0007598260000016
(式中、mは0~3の整数、nは1~6の整数、MはK、Rb、又はCsである。)
で表される含フッ素ビニルスルホン酸塩(4)の製造方法であり、
下記一般式(1):
Figure 0007598260000017
(式中、mは0~3の整数、nは1~6の整数)
で表される含フッ素ビニルスルホン酸無水物(1)を、
下記一般式(2):
MF (2)
(式中、Mは、K、Rb、又はCsである。)
で表されるアルカリ金属フッ化物(2)に、加熱下で添加して反応させる、
ことを特徴とする、製造方法。
The following general formula (3):
Figure 0007598260000015
(wherein m is an integer from 0 to 3, and n is an integer from 1 to 6).
Fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (3) represented by the following general formula (4):
Figure 0007598260000016
(In the formula, m is an integer of 0 to 3, n is an integer of 1 to 6, and M is K, Rb, or Cs.)
The present invention relates to a method for producing a fluorine-containing vinyl sulfonate (4) represented by the following formula:
The following general formula (1):
Figure 0007598260000017
(wherein m is an integer from 0 to 3, and n is an integer from 1 to 6).
A fluorine-containing vinyl sulfonic anhydride (1) represented by the following formula:
The following general formula (2):
Midfielder (2)
(In the formula, M is K, Rb, or Cs.)
and reacting the resulting mixture with an alkali metal fluoride (2) represented by the formula:
A manufacturing method comprising:
前記反応の反応温度が、60~250℃、である、請求項1に記載の製造方法。 The method according to claim 1, wherein the reaction temperature is 60 to 250°C. 前記含フッ素ビニルスルホン酸無水物(1)の物質量(α)と前記アルカリ金属フッ化物(2)の物質量(β)の比率(β/α)が、1~100、である、請求項1又は2に記載の製造方法。 The method according to claim 1 or 2, wherein the ratio (β/α) of the amount of substance (α) of the fluorine-containing vinyl sulfonic anhydride (1) to the amount of substance (β) of the alkali metal fluoride (2) is 1 to 100. 下記一般式(3):
Figure 0007598260000018
(式中、mは0~3の整数、nは1~6の整数)
で表される含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)の製造方法である、請求項1に記載の製造方法。
The following general formula (3):
Figure 0007598260000018
(wherein m is an integer from 0 to 3, and n is an integer from 1 to 6).
The method according to claim 1, which is a method for producing a fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (3) represented by the following formula:
下記一般式(4):
Figure 0007598260000019
(式中、mは0~3の整数、nは1~6の整数、MはK、Rb、又はCsである。)
で表される含フッ素ビニルスルホン酸塩(4)の製造方法である、請求項1に記載の製造方法。
The following general formula (4):
Figure 0007598260000019
(In the formula, m is an integer of 0 to 3, n is an integer of 1 to 6, and M is K, Rb, or Cs.)
The method according to claim 1, which is a method for producing a fluorine-containing vinyl sulfonate (4) represented by the following formula:
前記含フッ素ビニルスルホン酸フルオリド(3)を分離する工程を含む、請求項1に記載の製造方法。 The method according to claim 1, further comprising a step of separating the fluorine-containing vinyl sulfonic acid fluoride (3). 前記含フッ素スルホン酸フルオリド(3)を蒸留する工程を含む、請求項6に記載の製造方法。 The method according to claim 6, further comprising a step of distilling the fluorine-containing sulfonic acid fluoride (3). 前記含フッ素スルホン酸フルオリド(3)と、抽出化合物とを混合する工程を含む、請求項6に記載の製造方法。 The method according to claim 6, further comprising a step of mixing the fluorine-containing sulfonic acid fluoride (3) with an extraction compound. 前記抽出化合物が、水、無機塩含有水溶液、アルコール化合物、アミド化合物、及びスルホ化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である、請求項8に記載の製造方法。 The method according to claim 8, wherein the extraction compound is at least one compound selected from the group consisting of water, an aqueous solution containing an inorganic salt, an alcohol compound, an amide compound, and a sulfo compound. 前記無機塩含有水溶液が、炭酸塩類、硫酸塩類、チオ硫酸塩類、酢酸塩類、リン酸塩類、クエン酸塩類、酒石酸塩類、及び四ホウ酸塩類からなる群より選ばれる少なくとも1種の無機塩化合物を含む水溶液である、請求項9に記載の製造方法。 The method according to claim 9, wherein the inorganic salt-containing aqueous solution is an aqueous solution containing at least one inorganic salt compound selected from the group consisting of carbonates, sulfates, thiosulfates, acetates, phosphates, citrates, tartrates, and tetraborates. 前記含フッ素スルホン酸フルオリド(3)の質量(ε)に対する前記抽出化合物の質量(ζ)の比率(ζ/ε)が、0.1~100、である、請求項8に記載の製造方法。 The method according to claim 8, wherein the ratio (ζ/ε) of the mass (ζ) of the extracted compound to the mass (ε) of the fluorine-containing sulfonic acid fluoride (3) is 0.1 to 100. 前記含フッ素スルホン酸フルオリド(3)と、抽出化合物とを混合する工程により得られた混合溶液を、静置し、前記含フッ素スルホン酸フルオリド(3)を含む相と、前記抽出化合物を含む相とに分離する工程を含む、請求項8に記載の製造方法。 The method according to claim 8, further comprising a step of allowing the mixed solution obtained by the step of mixing the fluorine-containing sulfonic acid fluoride (3) with the extracting compound to stand and separating the mixed solution into a phase containing the fluorine-containing sulfonic acid fluoride (3) and a phase containing the extracting compound. 前記抽出化合物を含む相を、前記含フッ素スルホン酸フルオリド(3)と、抽出化合物とを混合する工程に再利用する、請求項12に記載の製造方法。 The method according to claim 12, wherein the phase containing the extracted compound is reused in the step of mixing the fluorine-containing sulfonic acid fluoride (3) with the extracted compound. 前記含フッ素スルホン酸フルオリド(3)を含む相から、含フッ素スルホン酸フルオリド(3)を、蒸留により分離する工程を含む、請求項12に記載の製造方法。 The method according to claim 12, further comprising a step of separating the fluorine-containing sulfonic acid fluoride (3) from the phase containing the fluorine-containing sulfonic acid fluoride (3) by distillation. 反応残渣を分離する工程を含む、請求項1に記載の製造方法。 The method of claim 1, further comprising a step of separating the reaction residue. 前記反応残渣と、溶解化合物とを混合し、含フッ素スルホン酸塩溶解液を調整する工程を含む、請求項15に記載の製造方法。 The method according to claim 15, further comprising the step of mixing the reaction residue with a dissolving compound to prepare a fluorine-containing sulfonate solution. 前記溶解化合物が、エーテル化合物、ケトン化合物、エステル化合物、カーボネート化合物、及びニトリル化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である、請求項16に記載の製造方法。 The method according to claim 16, wherein the dissolving compound is at least one compound selected from the group consisting of ether compounds, ketone compounds, ester compounds, carbonate compounds, and nitrile compounds. 前記反応残渣の質量(γ)に対する前記溶解化合物の質量(δ)の比率(δ/γ)が、0.01~100である、請求項16に記載の製造方法。 The method according to claim 16, wherein the ratio (δ/γ) of the mass (δ) of the dissolved compound to the mass (γ) of the reaction residue is 0.01 to 100. 前記含フッ素スルホン酸塩溶解液をろ過し、含フッ素スルホン酸塩含有ろ液を得る工程を含む、請求項16に記載の製造方法。 The method according to claim 16, further comprising a step of filtering the fluorine-containing sulfonate solution to obtain a filtrate containing the fluorine-containing sulfonate. 前記含フッ素スルホン酸塩溶解液をろ過し、アルカリ金属フッ化物(2)を含むろ物を得る工程を含む、請求項16に記載の製造方法。 The method according to claim 16, further comprising a step of filtering the fluorine-containing sulfonate solution to obtain a residue containing the alkali metal fluoride (2). 前記アルカリ金属フッ化物(2)を含むろ物を、前記含フッ素ビニルスルホン酸無水物(1)と反応させる際に再利用する、請求項20に記載の製造方法。 The method according to claim 20, wherein the residue containing the alkali metal fluoride (2) is reused in the reaction with the fluorine-containing vinyl sulfonic anhydride (1). 前記含フッ素スルホン酸塩含有ろ液から、前記溶解化合物を含む揮発成分を分離し、前記含フッ素スルホン酸塩(4)を得る工程を含む
ことを特徴とする、請求項19に記載の製造方法。
The production method according to claim 19, comprising a step of separating a volatile component containing the dissolved compound from the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate to obtain the fluorine-containing sulfonate (4).
前記溶解化合物を含む揮発成分を、前記反応残渣と、溶解化合物とを混合し、含フッ素スルホン酸塩溶解液を調整する工程に再利用する、請求項22に記載の製造方法。 The method according to claim 22, wherein the volatile components containing the dissolved compound are reused in a step of mixing the reaction residue with the dissolved compound to prepare a fluorine-containing sulfonate solution. 前記含フッ素スルホン酸塩含有ろ液に、水を添加し、混合する工程を含む、請求項19に記載の製造方法。 The method according to claim 19, further comprising the step of adding water to the filtrate containing the fluorine-containing sulfonate and mixing it. 前記含フッ素スルホン酸塩含有ろ液の質量(ι)と水の総質量(κ)の比率(κ/ι)が、0.1~100である、請求項24に記載の製造方法。 The method according to claim 24, wherein the ratio (κ/ι) of the mass (ι) of the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate to the total mass (κ) of water is 0.1 to 100. 前記含フッ素スルホン酸塩含有ろ液に、水を添加し、混合する工程により得られた溶液から、前記溶解化合物を含む揮発成分を分離し、含フッ素スルホン酸塩含有水溶液を調整する工程を含む、請求項24に記載の製造方法。 The method according to claim 24, further comprising the step of adding water to the filtrate containing the fluorine-containing sulfonate, and separating volatile components containing the dissolved compound from the solution obtained by the step of mixing, thereby preparing an aqueous solution containing the fluorine-containing sulfonate. 前記含フッ素スルホン酸塩含有ろ液に、水を添加し、混合する工程により得られた溶液から、前記溶解化合物を含む揮発成分を分離し、含フッ素スルホン酸塩含有水溶液を調整する工程において分離した前記溶解化合物を含む揮発成分から、水を分離する工程を含む、請求項26に記載の製造方法。 The method according to claim 26, further comprising a step of separating volatile components containing the dissolved compounds from the solution obtained by adding water to the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate and mixing the filtrate, and separating water from the volatile components containing the dissolved compounds separated in the step of preparing the fluorine-containing sulfonate-containing aqueous solution. 前記溶解化合物含む揮発成分を、前記反応残渣と、溶解化合物とを混合し、含フッ素スルホン酸塩溶解液を調整する工程に再利用する、請求項26又は27に記載の製造方法。 The method according to claim 26 or 27, wherein the volatile components containing the dissolved compound are reused in a step of mixing the reaction residue with the dissolved compound and preparing a fluorine-containing sulfonate solution. 前記含フッ素スルホン酸塩含有ろ液に、水を添加し、混合する工程により得られた溶液から、前記溶解化合物を含む揮発成分を分離し、含フッ素スルホン酸塩含有水溶液を調整する工程において分離した前記溶解化合物を含む揮発成分から、水を分離する工程において分離した水を、前記含フッ素スルホン酸塩含有ろ液に、水を添加し、混合する工程に再利用する、請求項24に記載の製造方法。 The method according to claim 24, wherein a volatile component containing the dissolved compound is separated from the solution obtained by the step of adding water to the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate and mixing, and the water separated in the step of separating water from the volatile component containing the dissolved compound separated in the step of preparing the fluorine-containing sulfonate-containing aqueous solution is reused in the step of adding water to the fluorine-containing sulfonate-containing filtrate and mixing.
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