JP7593437B2 - Decorative sheet and method for producing the same - Google Patents
Decorative sheet and method for producing the same Download PDFInfo
- Publication number
- JP7593437B2 JP7593437B2 JP2023076448A JP2023076448A JP7593437B2 JP 7593437 B2 JP7593437 B2 JP 7593437B2 JP 2023076448 A JP2023076448 A JP 2023076448A JP 2023076448 A JP2023076448 A JP 2023076448A JP 7593437 B2 JP7593437 B2 JP 7593437B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- transparent resin
- decorative sheet
- nucleating agent
- sheet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 170
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 170
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 161
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 claims description 54
- -1 polypropylene Polymers 0.000 claims description 37
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 34
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims description 33
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 claims description 14
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 claims description 14
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 13
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims description 13
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 12
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 9
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 6
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 6
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 5
- 229920005633 polypropylene homopolymer resin Polymers 0.000 claims description 5
- HZVFRKSYUGFFEJ-YVECIDJPSA-N (2r,3r,4s,5r)-7-phenylhept-6-ene-1,2,3,4,5,6-hexol Chemical group OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=CC1=CC=CC=C1 HZVFRKSYUGFFEJ-YVECIDJPSA-N 0.000 claims description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 claims description 3
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 claims description 3
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 claims description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 3
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 claims description 3
- RKFMOTBTFHXWCM-UHFFFAOYSA-M [AlH2]O Chemical compound [AlH2]O RKFMOTBTFHXWCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 26
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 21
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 21
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 16
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 11
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 11
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 11
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 10
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 8
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 6
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 6
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 5
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 5
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 5
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 5
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 5
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 5
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 5
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 5
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 5
- 238000010971 suitability test Methods 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 5
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 4
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 4
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 4
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 4
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 3
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 229920006038 crystalline resin Polymers 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 3
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 3
- 150000003904 phospholipids Chemical class 0.000 description 3
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 3
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 3
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JLPULHDHAOZNQI-ZTIMHPMXSA-N 1-hexadecanoyl-2-(9Z,12Z-octadecadienoyl)-sn-glycero-3-phosphocholine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@H](COP([O-])(=O)OCC[N+](C)(C)C)OC(=O)CCCCCCC\C=C/C\C=C/CCCCC JLPULHDHAOZNQI-ZTIMHPMXSA-N 0.000 description 2
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- YDNKGFDKKRUKPY-JHOUSYSJSA-N C16 ceramide Natural products CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)N[C@@H](CO)[C@H](O)C=CCCCCCCCCCCCCC YDNKGFDKKRUKPY-JHOUSYSJSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CRJGESKKUOMBCT-VQTJNVASSA-N N-acetylsphinganine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC[C@@H](O)[C@H](CO)NC(C)=O CRJGESKKUOMBCT-VQTJNVASSA-N 0.000 description 2
- SUHOOTKUPISOBE-UHFFFAOYSA-N O-phosphoethanolamine Chemical compound NCCOP(O)(O)=O SUHOOTKUPISOBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N [3-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2-bis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxymethyl]propyl] 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCC(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940106189 ceramide Drugs 0.000 description 2
- ZVEQCJWYRWKARO-UHFFFAOYSA-N ceramide Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)C(=O)NC(CO)C(O)C=CCCC=C(C)CCCCCCCCC ZVEQCJWYRWKARO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 210000002969 egg yolk Anatomy 0.000 description 2
- 239000008344 egg yolk phospholipid Substances 0.000 description 2
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 2
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 2
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 229910001463 metal phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- VVGIYYKRAMHVLU-UHFFFAOYSA-N newbouldiamide Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)C(O)C(O)C(CO)NC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC VVGIYYKRAMHVLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- WTJKGGKOPKCXLL-RRHRGVEJSA-N phosphatidylcholine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@H](COP([O-])(=O)OCC[N+](C)(C)C)OC(=O)CCCCCCCC=CCCCCCCCC WTJKGGKOPKCXLL-RRHRGVEJSA-N 0.000 description 2
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 239000012321 sodium triacetoxyborohydride Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PORPENFLTBBHSG-MGBGTMOVSA-N 1,2-dihexadecanoyl-sn-glycerol-3-phosphate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@H](COP(O)(O)=O)OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCC PORPENFLTBBHSG-MGBGTMOVSA-N 0.000 description 1
- TZCPCKNHXULUIY-RGULYWFUSA-N 1,2-distearoyl-sn-glycero-3-phosphoserine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@H](COP(O)(=O)OC[C@H](N)C(O)=O)OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC TZCPCKNHXULUIY-RGULYWFUSA-N 0.000 description 1
- CAAMSDWKXXPUJR-UHFFFAOYSA-N 3,5-dihydro-4H-imidazol-4-one Chemical compound O=C1CNC=N1 CAAMSDWKXXPUJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWZWYGMENQVNFU-UHFFFAOYSA-N Glycerophosphorylserin Natural products OC(=O)C(N)COP(O)(=O)OCC(O)CO ZWZWYGMENQVNFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATBOMIWRCZXYSZ-XZBBILGWSA-N [1-[2,3-dihydroxypropoxy(hydroxy)phosphoryl]oxy-3-hexadecanoyloxypropan-2-yl] (9e,12e)-octadeca-9,12-dienoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(COP(O)(=O)OCC(O)CO)OC(=O)CCCCCCC\C=C\C\C=C\CCCCC ATBOMIWRCZXYSZ-XZBBILGWSA-N 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- AWUCVROLDVIAJX-UHFFFAOYSA-N alpha-glycerophosphate Natural products OCC(O)COP(O)(O)=O AWUCVROLDVIAJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 238000003705 background correction Methods 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid;ethene Chemical compound C=C.OC(=O)CC=C DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009820 dry lamination Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical group C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000011094 fiberboard Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 150000002327 glycerophospholipids Chemical class 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940099578 hydrogenated soybean lecithin Drugs 0.000 description 1
- 238000004433 infrared transmission spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- GWVMLCQWXVFZCN-UHFFFAOYSA-N isoindoline Chemical compound C1=CC=C2CNCC2=C1 GWVMLCQWXVFZCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000003905 phosphatidylinositols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001748 polybutylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000346 polystyrene-polyisoprene block-polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229920001384 propylene homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229940083466 soybean lecithin Drugs 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000349 titanium oxysulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/54—Improvements relating to the production of bulk chemicals using solvents, e.g. supercritical solvents or ionic liquids
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Finishing Walls (AREA)
Description
本発明は、建築物の外装および内装に用いられる建装材、建具の表面、家電品の表面材等に用いられる化粧シートに係り、フーリエ型赤外分光測定において得られた吸光スペクトルから算出されるピーク強度比xを所定の範囲内に特定した透明樹脂シートからなる透明樹脂層を具備した化粧シートおよび化粧シートの製造方法に関する。 The present invention relates to a decorative sheet used for building materials for the exterior and interior of buildings, surfaces of fittings, surface materials for home appliances, etc., and relates to a decorative sheet having a transparent resin layer made of a transparent resin sheet in which the peak intensity ratio x calculated from the absorption spectrum obtained by Fourier infrared spectroscopy is specified to be within a predetermined range, and a method for manufacturing the decorative sheet.
近年、特許文献1乃至5に示すように、ポリ塩化ビニル製の化粧シートに替わる化粧シートとして、オレフィン系樹脂を使用した化粧シートが数多く提案されている。
In recent years, as shown in
しかし、これらの化粧シートは塩化ビニル樹脂を使用しないことで、焼却時における有毒ガス等の発生は抑制されるものの、一般的なポリプロピレンシートもしくは軟質ポリプロピレンシートを使用しているために表面の耐傷性が悪く、従来のポリ塩化ビニル化粧シートの耐傷性からはるかに劣っているものであった。 However, although these decorative sheets do not use polyvinyl chloride resin and thus suppress the generation of toxic gases during incineration, they use general polypropylene sheets or soft polypropylene sheets, which means that their surface has poor scratch resistance, far inferior to the scratch resistance of conventional polyvinyl chloride decorative sheets.
そこで、本発明者等は、これらの欠点を解消するべく、特許文献6に記載の表面の耐傷性および後加工性に優れた化粧シートを提案した。しかし、係る如き化粧シートを用いた化粧板の用途が益々拡大しているとともに、消費者の品質に対する意識も益々高度化している。
Therefore, in order to eliminate these drawbacks, the present inventors proposed a decorative sheet with excellent surface scratch resistance and post-processability, as described in
一般的に、ポリプロピレン樹脂などの結晶性樹脂は、樹脂中の結晶質成分と非晶質成分との比である結晶化度をコントロールすることによって、機械的特性を変化させることが可能であり、この結晶化度をコントロールするための因子は、樹脂自身の分子構造や造核剤を添加などによる材料因子と、結晶性樹脂を加工する際の成形加工条件などの工程因子とがある。本発明者等は、本発明においては、特に、工程因子に着目して鋭意研究を行い、当該工程因子をコントロールすることで耐後加工性に優れた結晶化度の範囲を特定した樹脂シートを備えた化粧シートを完成するに至った。 In general, the mechanical properties of crystalline resins such as polypropylene resin can be changed by controlling the crystallinity, which is the ratio of crystalline to amorphous components in the resin. Factors for controlling this crystallinity include material factors such as the molecular structure of the resin itself and the addition of a nucleating agent, and process factors such as the molding conditions when processing the crystalline resin. In this invention, the inventors have conducted extensive research, focusing particularly on process factors, and have completed a decorative sheet equipped with a resin sheet that has a specified range of crystallinity with excellent post-processing resistance by controlling the process factors.
また、通常、ポリプロピレン樹脂の結晶部における球晶サイズは、可視光の波長(400~750nm)よりも大きいために光の散乱が多くなって乳白色を呈しているが、ポリプロピレン樹脂へ代替が期待されている透明樹脂層は、その下層に形成された絵柄や模様などが当該透明樹脂層を介してクリアに見えることが必要であり、意匠性の観点から高い透明性が求められている。 In addition, the size of spherulites in the crystals of polypropylene resin is usually larger than the wavelength of visible light (400-750 nm), which causes a lot of light scattering and gives the resin a milky white color. However, the transparent resin layer that is expected to be used as a replacement for polypropylene resin must allow pictures and designs formed in the layer below to be clearly visible through the transparent resin layer, and high transparency is required from the standpoint of design.
本発明においては、優れた耐後加工性と、高い透明性とを備えた透明樹脂層を具備する化粧シートおよび化粧シートの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention aims to provide a decorative sheet having a transparent resin layer with excellent post-processing resistance and high transparency, and a method for producing the decorative sheet.
上記目的を達成するべく、本発明の第1の態様の化粧シートは、隠蔽層と、絵柄印刷層と、結晶性ポリプロピレン樹脂90~100重量%を主成分とする透明樹脂層と、トップコート層とをこの順に少なくとも具備してなる化粧シート、または、隠蔽層と、結晶性ポリプロピレン樹脂90~100重量%を主成分とする透明樹脂層と、トップコート層とをこの順に少なくとも具備してなり、且つ前記透明樹脂層の前記トップコート層側の面にエンボス模様を具備する化粧シートであって、前記透明樹脂層としての透明樹脂シートのフーリエ型赤外分光測定において得られた吸光スペクトルから下記の数式1を用いて算出されるピーク強度比xの値が、0.55≦x<0.65であり、前記透明樹脂シートを、ナノサイズの造核剤を添加して形成することを特徴とする。ここで、数式1において、I997は波数997cm-1のピーク強度値、I938は波数938cm-1のピーク強度値、I973は波数973cm-1のピーク強度値をあらわす。
In order to achieve the above object, the decorative sheet of a first aspect of the present invention is a decorative sheet comprising at least a concealing layer, a picture-printed layer, a transparent resin layer mainly composed of 90 to 100% by weight of crystalline polypropylene resin, and a topcoat layer, in this order, or a decorative sheet comprising at least a concealing layer, a transparent resin layer mainly composed of 90 to 100% by weight of crystalline polypropylene resin, and a topcoat layer, in this order, and having an embossed pattern on the surface of the transparent resin layer facing the topcoat layer, wherein the value of the peak intensity ratio x calculated using the following
このような、本発明の第1の態様の化粧シートとすることにより、優れた耐後加工性を備えた透明樹脂層を具備する化粧シートを提供することができる。また、本発明の第1の態様とすることにより、隠蔽層によって透明層より裏側の隠蔽性を確実に保持することができ、透明層によるデザインの自由度を高くしてした化粧シートを提供することができる。 By adopting the decorative sheet of the first aspect of the present invention, it is possible to provide a decorative sheet having a transparent resin layer with excellent post-processing resistance. Furthermore, by adopting the first aspect of the present invention, it is possible to reliably maintain the concealment of the back side of the transparent layer by the concealing layer, and it is possible to provide a decorative sheet with high design freedom due to the transparent layer.
本発明の第2の態様の化粧シートは、隠蔽層と、絵柄印刷層と、結晶性ポリプロピレン樹脂90~100重量%を主成分とする透明樹脂層と、トップコート層とをこの順に少なくとも具備してなる化粧シート、または、隠蔽層と、結晶性ポリプロピレン樹脂90~100重量%を主成分とする透明樹脂層と、トップコート層とをこの順に少なくとも具備してなり、且つ前記透明樹脂層の前記トップコート層側の面にエンボス模様を具備する化粧シートであって、前記透明樹脂層としての透明樹脂シートのフーリエ型赤外分光測定において得られた吸光スペクトルから上記の数式1を用いて算出されるピーク強度比xの値が、0.55≦x<0.65であり、前記透明樹脂シートを、造核剤を添加して形成し、前記造核剤は、安息香酸金属塩、ピメリン酸金属塩、ロジン金属塩、ベンジリデンソルビトール、キトクリドン、シアニンブルー、またはタルクであることを特徴とする。
The decorative sheet of the second aspect of the present invention is a decorative sheet comprising at least a concealing layer, a pattern printed layer, a transparent resin layer mainly composed of 90 to 100% by weight of crystalline polypropylene resin, and a topcoat layer in this order, or a decorative sheet comprising at least a concealing layer, a transparent resin layer mainly composed of 90 to 100% by weight of crystalline polypropylene resin, and a topcoat layer in this order, and having an embossed pattern on the surface of the transparent resin layer facing the topcoat layer, characterized in that the value of the peak intensity ratio x calculated using the
本発明の第3の態様の化粧シートは、隠蔽層と、絵柄印刷層と、結晶性ポリプロピレン樹脂90~100重量%を主成分とする透明樹脂層と、トップコート層とをこの順に少なくとも具備してなる化粧シート、または、隠蔽層と、結晶性ポリプロピレン樹脂90~100重量%を主成分とする透明樹脂層と、トップコート層とをこの順に少なくとも具備してなり、且つ前記透明樹脂層の前記トップコート層側の面にエンボス模様を具備する化粧シートであって、前記透明樹脂層としての透明樹脂シートのフーリエ型赤外分光測定において得られた吸光スペクトルから上記の数式1を用いて算出されるピーク強度比xの値が、0.55≦x<0.65であり、前記透明樹脂シートを、単層膜の外膜を具備するベシクルに造核剤を内包させたナノサイズの造核剤ベシクルを添加して形成することを特徴とする。
The decorative sheet of the third aspect of the present invention is a decorative sheet comprising at least a concealing layer, a pattern printed layer, a transparent resin layer mainly composed of 90 to 100% by weight of crystalline polypropylene resin, and a topcoat layer in this order, or a decorative sheet comprising at least a concealing layer, a transparent resin layer mainly composed of 90 to 100% by weight of crystalline polypropylene resin, and a topcoat layer in this order, and having an embossed pattern on the surface of the transparent resin layer facing the topcoat layer, characterized in that the value of the peak intensity ratio x calculated using the
本発明の第4の態様の化粧シートは、前記透明樹脂シートを、単層膜の外膜を具備するベシクルに前記造核剤を内包させたナノサイズの造核剤ベシクルを添加して形成すること
を特徴とする。
The decorative sheet of the fourth aspect of the present invention is characterized in that the transparent resin sheet is formed by adding nano-sized nucleating agent vesicles having a single-layer outer membrane and encapsulating the nucleating agent.
本発明の化粧シートの製造方法は、隠蔽層と、絵柄印刷層と、結晶性ポリプロピレン樹脂90~100重量%を主成分とする透明樹脂層と、トップコート層とをこの順に少なくとも具備してなる化粧シート、または、隠蔽層と、結晶性ポリプロピレン樹脂90~100重量%を主成分とする透明樹脂層と、トップコート層とをこの順に少なくとも具備してなり、且つ前記透明樹脂層の前記トップコート層側の面にエンボス模様を具備する化粧シートの製造方法であって、前記結晶性ポリプロピレン樹脂に対して、超臨界逆相蒸発法により単層膜の外膜を具備するベシクルに造核剤を内包したナノサイズの造核剤ベシクルを添加し、フーリエ型赤外分光測定において得られる吸光スペクトルから上記の数式1を用いて算出されるピーク強度比xの値が、0.55≦x<0.65となるように前記透明樹脂層としての透明樹脂シートを形成することを特徴とする。
本発明の化粧シートの製造方法は、隠蔽層と、絵柄印刷層と、結晶性ポリプロピレン樹脂90~100重量%を主成分とする透明樹脂層と、トップコート層とをこの順に少なくとも具備してなる化粧シート、または、隠蔽層と、結晶性ポリプロピレン樹脂90~100重量%を主成分とする透明樹脂層と、トップコート層とをこの順に少なくとも具備してなり、且つ前記透明樹脂層の前記トップコート層側の面にエンボス模様を具備する化粧シートの製造方法であって、前記結晶性ポリプロピレン樹脂に対して、超臨界逆相蒸発法により単層膜の外膜を具備するベシクルに造核剤を内包した造核剤ベシクルを添加し、フーリエ型赤外分光測定において得られる吸光スペクトルから上記の数式1を用いて算出されるピーク強度比xの値が、0.55≦x<0.65となるように前記透明樹脂層としての透明樹脂シートを形成し、前記造核剤は、安息香酸金属塩、ピメリン酸金属塩、ロジン金属塩、ベンジリデンソルビトール、キトクリドン、シアニンブルー、またはタルクであることを特徴とする。
The method for producing a decorative sheet of the present invention is a method for producing a decorative sheet comprising at least a concealing layer, a picture-printed layer, a transparent resin layer mainly composed of 90 to 100% by weight of crystalline polypropylene resin, and a topcoat layer, in this order, or a decorative sheet comprising at least a concealing layer, a transparent resin layer mainly composed of 90 to 100% by weight of crystalline polypropylene resin, and a topcoat layer, in this order, and having an embossed pattern on the surface of the transparent resin layer facing the topcoat layer, characterized in that nano-sized nucleating agent vesicles, in which a nucleating agent is encapsulated in a vesicle having a single-layer outer membrane, are added to the crystalline polypropylene resin by supercritical reverse phase evaporation, and a transparent resin sheet is formed as the transparent resin layer such that the value of the peak intensity ratio x calculated using the
The method for producing a decorative sheet of the present invention is a method for producing a decorative sheet comprising at least a concealing layer, a pattern printed layer, a transparent resin layer mainly composed of 90 to 100% by weight of crystalline polypropylene resin, and a topcoat layer in this order, or a decorative sheet comprising at least a concealing layer, a transparent resin layer mainly composed of 90 to 100% by weight of crystalline polypropylene resin, and a topcoat layer in this order, and having an embossed pattern on the surface of the transparent resin layer facing the topcoat layer, The present invention is characterized in that a nucleating agent vesicle encapsulating a nucleating agent in a vesicle having a monolayer outer membrane by supercritical reverse phase evaporation is added to a fat, and a transparent resin sheet is formed as the transparent resin layer so that the value of the peak intensity ratio x calculated using the
本発明によれば、優れた耐後加工性と、高い透明性とを備えた透明樹脂層を具備する化粧シートを提供することを可能とする。 The present invention makes it possible to provide a decorative sheet having a transparent resin layer that has excellent post-processing resistance and high transparency.
また、透明樹脂シートに対して、ナノサイズの造核剤、より具体的には、単層膜の外膜を具備するベシクルに造核剤が内包されている造核剤ベシクルを添加することにより、極めて高い透明性を実現した化粧シートを提供することができる。 In addition, by adding a nano-sized nucleating agent to a transparent resin sheet, more specifically, a nucleating agent vesicle in which a nucleating agent is encapsulated in a vesicle having a single-layer outer membrane, it is possible to provide a decorative sheet that achieves extremely high transparency.
本発明の化粧シートは、結晶性ポリプロピレン樹脂90~100重量%を主成分とする透明樹脂層を少なくとも具備してなる化粧シートであって、当該透明樹脂層としての透明樹脂シートのフーリエ型赤外分光測定において得られた吸光スペクトルから下記の数式1を用いて算出されるピーク強度比xの値が、x<0.65とされていることが重要である。ここで、数式1において、I997は波数997cm-1のピーク強度値、I938は波数938cm-1のピーク強度値、I973は波数973cm-1のピーク強度値をあらわす。
The decorative sheet of the present invention is a decorative sheet comprising at least a transparent resin layer containing 90 to 100% by weight of a crystalline polypropylene resin as a main component, and it is important that the value of the peak intensity ratio x calculated from the absorption spectrum obtained in Fourier infrared spectroscopy measurement of the transparent resin sheet as the transparent resin layer using the following
また、特に、当該透明樹脂シートのピーク強度比xが、0.55≦x<0.65であることが好ましい。ピーク強度比xを上記の範囲内とすることによって、極めて耐後加工性に優れた透明樹脂層を具備する化粧シートを提供することができる。 In particular, it is preferable that the peak intensity ratio x of the transparent resin sheet is 0.55≦x<0.65. By setting the peak intensity ratio x within the above range, it is possible to provide a decorative sheet having a transparent resin layer that has extremely excellent post-processing resistance.
本発明の化粧シートにおいては、工程因子としての製膜条件をコントロールすることによって、透明樹脂シートのピーク強度値xを上記の範囲内に設定している。この時、当該透明樹脂シートは、20~200μmの厚さに形成されていることが重要であり、上記範囲の厚さよりも薄いと耐傷性の確保が困難であり、上記範囲の厚さよりも厚いと当該樹脂シートの厚み方向への冷却が均一に行われずに、その結果、樹脂を均一に硬化させることができない。透明樹脂層は、特に、30~150μmの厚さに形成されていることが好ましい。 In the decorative sheet of the present invention, the peak strength value x of the transparent resin sheet is set within the above range by controlling the film-forming conditions as process factors. At this time, it is important that the transparent resin sheet is formed to a thickness of 20 to 200 μm. If the thickness is thinner than the above range, it is difficult to ensure scratch resistance, and if the thickness is thicker than the above range, the resin sheet is not cooled uniformly in the thickness direction, and as a result, the resin cannot be cured uniformly. It is particularly preferable that the transparent resin layer is formed to a thickness of 30 to 150 μm.
より具体的には、樹脂温度とは、製膜時において溶融された樹脂が吐出される際の温度であり、当該樹脂温度を上げる(高温にする)ほどピーク強度比xは大きくなる。冷却温度とは、吐出された樹脂を冷却する温度のことであり、当該冷却温度を上げる(高温にする)ほどピーク強度比xは大きくなる。冷却時間については、ポリプロピレン樹脂の結晶化温度付近(100~130℃)の通過時間を長くすることによりピーク強度比xは大きくなる。上述の条件を組み合わせることにより、樹脂中の結晶化および結晶サイズをコントロールして、ピーク強度比xを適切に調整することができる。 More specifically, the resin temperature is the temperature at which the molten resin is extruded during film formation, and the higher the resin temperature (the higher the temperature), the higher the peak intensity ratio x. The cooling temperature is the temperature at which the extruded resin is cooled, and the higher the cooling temperature (the higher the temperature), the higher the peak intensity ratio x. As for the cooling time, the peak intensity ratio x increases by extending the time it takes to pass near the crystallization temperature of the polypropylene resin (100-130°C). By combining the above conditions, the crystallization and crystal size in the resin can be controlled, and the peak intensity ratio x can be appropriately adjusted.
ここで、フーリエ型赤外分光測定に関して説明する。まず、赤外分光測定とは、2.5~25μmの波長の光である赤外光が、物質の分子の振動や回転運動に基づいて、当該物質に吸収される量に変化が生じるという原理を利用して、当該物質に吸収された赤外光を測定することにより、物質の化学構造や状態に関する情報を得る測定方法である。具体的な測定方法は、物質に対して光源から赤外光を照射し、分割された透過光と反射光とを合成することで干渉波を発生させて、当該干渉波の信号強度から各波数成分の光の強度を算出することにより赤外スペクトルを測定する。特に、本発明においては、当該干渉波の算出をフーリエ変換法を用いて行い、赤外スペクトルを測定する方式であるフーリエ型赤外分光測定により測定を行った。上記方法によって得られた波数を横軸、測定された吸光度(または透過率)を縦軸にプロットしたグラフを赤外吸光スペクトル(または赤外透過スペクトル)といい、物質ごとに固有のパターンが認められる。この時、縦軸の吸光度は、物質の濃度や厚み、結晶性樹脂の場合には結晶質部または非晶質部の量に比例して所定の波数におけるピーク強度の値が変化するため、当該ピークの高さや面積から定量分析を行うことも可能である。 Here, we will explain about Fourier infrared spectrometry. First, infrared spectrometry is a measurement method that obtains information about the chemical structure and state of a substance by measuring the infrared light absorbed by the substance, utilizing the principle that the amount of infrared light, which is light with a wavelength of 2.5 to 25 μm, absorbed by the substance changes based on the vibration and rotational motion of the molecules of the substance. In a specific measurement method, infrared light is irradiated from a light source onto the substance, and the split transmitted light and reflected light are combined to generate an interference wave, and the infrared spectrum is measured by calculating the light intensity of each wave number component from the signal intensity of the interference wave. In particular, in the present invention, the calculation of the interference wave is performed using the Fourier transform method, and the measurement is performed by Fourier infrared spectrometry, which is a method of measuring infrared spectra. A graph in which the wave number obtained by the above method is plotted on the horizontal axis and the measured absorbance (or transmittance) on the vertical axis is called an infrared absorption spectrum (or infrared transmission spectrum), and a unique pattern is recognized for each substance. In this case, the absorbance on the vertical axis changes as the peak intensity value at a given wavenumber in proportion to the concentration and thickness of the substance, and in the case of crystalline resins, the amount of crystalline or amorphous parts, making it possible to perform quantitative analysis from the height and area of the peak.
本発明においては、赤外吸光スペクトルの上述のような特性を利用して、前述の測定によって得られた吸光スペクトルにおけるポリプロピレンの透明樹脂シートの結晶質部の吸光度に該当する波数997cm-1のピーク強度と、透明樹脂シートの非晶質部の吸光度に該当する波数973cm-1のピーク強度との比、すなわちポリプロピレンの結晶化度を表すピーク強度比xを上記の数式1を用いて算出し、当該ピーク強度比xと透明樹脂シートの耐傷性との関係を明らかとし、所定の範囲内のピーク強度比xの透明樹脂シートを透明樹脂層に採用した耐傷性に優れる化粧シートを提供するものである。なお、波数997cm-1のピーク強度と波数973cm-1のピーク強度とは、それぞれ波数938cm-1のピーク強度を用いてバックグラウンド補正を行っている。
In the present invention, the above-mentioned characteristics of the infrared absorption spectrum are utilized to calculate the ratio of the peak intensity at wave number 997 cm -1 corresponding to the absorbance of the crystalline part of the polypropylene transparent resin sheet in the absorption spectrum obtained by the above-mentioned measurement to the peak intensity at wave number 973 cm -1 corresponding to the absorbance of the amorphous part of the transparent resin sheet, i.e., the peak intensity ratio x representing the crystallinity of polypropylene, using the above-mentioned
また、本発明の化粧シートにおいては、透明樹脂層としての透明樹脂シートを、ナノサイズの造核剤を添加して形成することが重要であり、特に、単層膜の外膜を具備するベシクルに内包させた造核剤ベシクルを添加して形成することが好ましい。ポリプロピレン樹脂に対して当該造核剤ベシクルを添加することにより、ポリプロピレン樹脂の結晶化度を向上させて、極めて高い透明性を有する透明樹脂シートを得ることができる。 In addition, in the decorative sheet of the present invention, it is important to form the transparent resin sheet as the transparent resin layer by adding a nano-sized nucleating agent, and it is particularly preferable to form it by adding a nucleating agent vesicle encapsulated in a vesicle having a single-layer outer membrane. By adding the nucleating agent vesicle to the polypropylene resin, the crystallization degree of the polypropylene resin can be improved, and a transparent resin sheet with extremely high transparency can be obtained.
前記造核剤ベシクルは、超臨界逆相蒸発法によって作製することができる。超臨界逆相蒸発法とは、超臨界状態または臨界点以上の温度条件下もしくは臨界点以上の圧力条件下の二酸化炭素を用いて対象物質を内包したナノサイズのベシクル(カプセル)を作製する方法である。超臨界状態の二酸化炭素とは、臨界温度(30.98℃)および臨界圧力(7.3773±0.0030MPa)以上の超臨界状態にある二酸化炭素を意味し、臨界点以上の温度条件下もしくは臨界点以上の圧力条件下の二酸化炭素とは、臨界温度だけ、あるいは臨界圧力だけが臨界条件を超えた条件下の二酸化炭素を意味する。 The nucleating agent vesicles can be prepared by supercritical reverse phase evaporation. Supercritical reverse phase evaporation is a method for preparing nano-sized vesicles (capsules) encapsulating a target substance using carbon dioxide in a supercritical state or under temperature conditions above the critical point or under pressure conditions above the critical point. Carbon dioxide in a supercritical state means carbon dioxide in a supercritical state above the critical temperature (30.98°C) and critical pressure (7.3773±0.0030 MPa), and carbon dioxide under temperature conditions above the critical point or under pressure conditions above the critical point means carbon dioxide under conditions where only the critical temperature or only the critical pressure exceeds the critical conditions.
具体的には、超臨界二酸化炭素とリン脂質と内包物質としての造核剤の混合流体中に水相を注入し、攪拌することによって超臨界二酸化炭素と水相のエマルジョンが生成する。その後、減圧すると二酸化炭素が膨張・蒸発して転相が生じ、リン脂質が造核剤ナノ粒子の表面を単層膜で覆ったナノベシクルが生成する。この超臨界逆相蒸発法によれば、単層膜のベシクルを生成することができるので、極めて小さいサイズのベシクルを得ることができる。 Specifically, an aqueous phase is injected into a mixed fluid of supercritical carbon dioxide, phospholipids, and a nucleating agent as an encapsulated substance, and then stirred to produce an emulsion of supercritical carbon dioxide and aqueous phase. The pressure is then reduced, causing the carbon dioxide to expand and evaporate, resulting in phase inversion, and producing nanovesicles in which the phospholipids cover the surface of the nucleating agent nanoparticles with a monolayer membrane. This supercritical reverse phase evaporation method can produce vesicles with a monolayer membrane, making it possible to obtain vesicles of extremely small size.
造核剤ベシクルの平均粒径は、可視光波長(400~750nm)の1/2以下、より具体的には200nm~375nm以下とされていることが好ましい。なお、造核剤ベシクルは、樹脂組成物中においてはベシクルの外膜が破れてナノサイズの造核剤が露出している状態で存在している。造核剤の粒径を上記の範囲内のように極小サイズとすることにより、光の散乱を小さくして高い透明性を有する透明樹脂シートを実現することができる。 The average particle size of the nucleating agent vesicles is preferably 1/2 or less of the visible light wavelength (400 to 750 nm), more specifically 200 nm to 375 nm. In the resin composition, the nucleating agent vesicles are present in a state where the outer membrane of the vesicle is broken and the nano-sized nucleating agent is exposed. By making the particle size of the nucleating agent extremely small within the above range, it is possible to realize a transparent resin sheet with low light scattering and high transparency.
造核剤としては、樹脂が結晶化する際に結晶化の起点となる物質であれば特に限定するものではないが、例えば、リン酸エステル金属塩、安息香酸金属塩、ピメリン酸金属塩、ロジン金属塩、ベンジリデンソルビトール、キトクリドン、シアニンブルーおよびタルク等が挙げられる。特に、本発明においては、透明性が期待できるリン酸エステル金属塩、安息香酸金属塩、ピメリン酸金属塩、ロジン金属塩を用いることが好ましい。 The nucleating agent is not particularly limited as long as it is a substance that serves as a starting point for crystallization when the resin crystallizes, but examples include metal phosphate salts, metal benzoates, metal pimelate salts, metal rosin salts, benzylidene sorbitol, chitocridone, cyanine blue, and talc. In particular, in the present invention, it is preferable to use metal phosphate salts, metal benzoates, metal pimelate salts, and metal rosin salts, which are expected to be transparent.
リン脂質としては、ホスファチジルコリン、ホスファチジエタノールアミン、ホスファチジルセリン、ホスファチジン酸、ホスファチジルグリセルロール、ホスファチジルイノシトール、カルジオピン、黄卵レシチン、水添黄卵レシチン、大豆レシチン、水添大豆レシチン等のグリセロリン脂質、スフィンゴミエリン、セラミドホスホリエタノールアミン、セラミドホスホリルグリセロール等のスフィンゴリン脂質などが挙げられる。 Examples of phospholipids include glycerophospholipids such as phosphatidylcholine, phosphatidiethanolamine, phosphatidylserine, phosphatidic acid, phosphatidylglycerol, phosphatidylinositol, cardiopin, yolk egg lecithin, hydrogenated yolk egg lecithin, soybean lecithin, and hydrogenated soybean lecithin, and sphingophospholipids such as sphingomyelin, ceramide phosphorylethanolamine, and ceramide phosphorylglycerol.
結晶性ポリプロピレン樹脂としては、特に限定するものではないが、ペンタッド分率(mmmm分率)が95%以上、より好ましくは96%以上のプロピレンの単独重合体、すなわちホモポリマーである高結晶性ホモポリプロピレン樹脂を用いることが好ましい。 The crystalline polypropylene resin is not particularly limited, but it is preferable to use a highly crystalline homopolypropylene resin, which is a propylene homopolymer, i.e., a homopolymer, with a pentad fraction (mmmm fraction) of 95% or more, more preferably 96% or more.
なお、上記ペンタッド分率(mmmm分率)とは、質量13の炭素C(核種)を用いた13C-NMR測定法(核磁気共鳴測定法)により、上記透明樹脂層を構成する樹脂組成物を所定の共鳴周波数にて共鳴させて得られる数値(電磁波吸収率)から算出されるものであり、樹脂組成物中の原子配置、電子構造、分子の微細構造を規定するものであり、ポリプロピレン樹脂のペンタッド分率とは、13C-NMRにより求めたプロピレン単位が
5個並んだ割合のことであって、結晶化度あるいは立体規則性の尺度として用いられる。そして、このようなペンタッド分率は、主に表面の耐傷性を決定付ける重要な要因の一つであり、基本的にはペンタッド分率が高いほどシートの結晶化度が高くなるため、耐傷性が向上する。
The pentad fraction (mmmm fraction) is calculated from a numerical value (electromagnetic wave absorptivity) obtained by resonating the resin composition constituting the transparent resin layer at a predetermined resonance frequency by 13C-NMR measurement (nuclear magnetic resonance measurement) using carbon C (nuclear species) with a mass of 13, and specifies the atomic arrangement, electronic structure, and molecular microstructure in the resin composition, and the pentad fraction of a polypropylene resin is the ratio of five propylene units lined up as determined by 13C-NMR, and is used as a measure of crystallinity or stereoregularity. Such a pentad fraction is one of the important factors that mainly determine the scratch resistance of the surface, and basically, the higher the pentad fraction, the higher the crystallinity of the sheet, and therefore the better the scratch resistance.
以下に本発明の化粧シートの構成およびこの化粧シートの製造方法の具体例を図1および図2を用いて説明する。 The configuration of the decorative sheet of the present invention and a specific example of a method for manufacturing this decorative sheet are described below with reference to Figures 1 and 2.
図1は、本発明の化粧シート1の第1実施形態を示し、化粧シート1の構成は、化粧シート1を貼り付ける基材B側からプライマー層6、隠蔽層2、絵柄印刷層3、透明樹脂層4およびトップコート層5が順に積層されて形成されている。なお、基材Bとしては、木質ボード類、無機系ボード類、金属板などが挙げられる。
Figure 1 shows a first embodiment of the
プライマー層6としては、バインダーとしての硝化綿、セルロース、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、ポリウレタン、アクリル、ポリエステル系等の単独もしくは各変性物の中から適宜選定して用いることができる。これらは水性、溶剤系、エマルジョンタイプなど特にその形態を問わない。また、硬化方法についても、単独で硬化する一液タイプ、主剤と合わせて硬化剤を使用する二液タイプ、紫外線や電子線等の照射により硬化させるタイプなどから適宜選択して用いることができる。一般的な硬化方法としては、ウレタン系の主剤に対して、イソシアネート系の硬化剤を合わせることによって硬化させる二液タイプが用いられており、この方法は作業性、価格、樹脂自体の凝集力の観点から好適である。上記のバインダー以外には、顔料、染料などの着色剤、体質顔料、溶剤、各種添加剤などが添加されている。特に、プライマー層6においては、化粧シート1の最背面に位置するため、化粧シート1を連続的なプラスチックフィルム(ウエブ状)として巻き取りを行うことを考慮すると、フィルム同士が密着して滑りにくくなったり、剥がれなくなるなどのブロッキングが生じることを避けるとともに、接着剤との密着を高めるために、シリカ、アルミナ、マグネシア、酸化チタン、硫酸バリウムなどを無機充填剤を添加してもよい。層厚は、基材Bとの密着性を確保することが目的であるので、0.1~3μmの範囲内とすることが好ましい。
For the
隠蔽層2としては、基本的には、プライマー層6に使用される材料を用いることができるが、隠蔽性を重視すると、顔料としては不透明顔料である酸化チタン、酸化鉄などを用いることが好ましい。また、さらに隠蔽性を向上させるためには、金、銀、銅、アルミニウムなどの金属を添加することも好適である。一般的には、フレーク状のアルミニウムを添加させることが多い。隠蔽層2は、上記材料を用いて、コンマコーター、ナイフコーター、リップコーター、金属蒸着またはスパッタ法などにより形成することができる。層厚は、2μm未満では隠蔽性が不十分であり、10μmを超えると主成分としての樹脂材料の凝集力が弱くなるため、2~10μm程度の厚さとすることが妥当である。
Basically, the material used for the
絵柄印刷層3についても、プライマー層6と同様の材料を用いることができる。汎用性の高い顔料としては、縮合アゾ、不溶性アゾ、キナクリドン、イソインドリン、アンスラキノン、イミダゾロン、コバルト、フタロシアニン、カーボン、酸化チタン、酸化鉄、雲母等のパール顔料等が挙げられる。前述の材料を用いて透明樹脂層4に対して、グラビア印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷、静電印刷、インキジェット印刷等を施して絵柄印刷層3を形成することができる。また、上記バインダーと顔料との混合物からなるインキを塗布して絵柄印刷層3を形成する方法とは別に、各種金属の蒸着やスパッタリングで絵柄を施すことも可能である。
The
透明樹脂層4としては、結晶性ポリプロピレン樹脂90~100重量%を主成分とし、必要に応じて既存の熱安定化剤、難燃化剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、ブロッキング防
止剤、触媒捕捉剤、着色剤、光散乱剤および艶調整剤などの各種添加剤を添加した樹脂組成物をシート状に成形した透明樹脂シート4を用いることができる。特に、本発明の化粧シート1においては、成形加工条件をコントロールして、フーリエ型赤外分光測定によって測定された赤外吸収スペクトルから上記の数式1を用いて算出されるピーク強度比xがx<0.65とされた透明樹脂シート4を用いることが重要である。この時、透明樹脂シート4の厚さは、20~200μmとされている。成形加工条件の具体例としては、樹脂組成物の溶融温度、製膜に係る押出温度やロール温度などの温度条件、シートの巻き取り速度などの搬送条件などが挙げられ、これらの温度条件および搬送条件をコントロールすることによって、製膜時の冷却速度を調整して得られる透明樹脂シート4の結晶化度を調整し、上記ピーク強度比xをx<0.65、好ましくは0.55≦x<0.65としている。
The
さらに、透明樹脂層4を構成する樹脂組成物には、造核剤ベシクルが添加されている。これによって、樹脂組成物の結晶化度を容易に向上させて、極めて透明性に優れた透明樹脂シート4とすることができる。
Furthermore, nucleating agent vesicles are added to the resin composition that constitutes the
熱安定化剤としては、フェノール系、硫黄系、リン系、ヒドラジン系などを用いることができる。難燃化剤としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウムなどを用いることができる。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、ベンゾフェノン系、トリアンジン系などを用いることができる。光安定化剤としては、ヒンダードアミン系などを用いることができる。 As heat stabilizers, phenol-based, sulfur-based, phosphorus-based, hydrazine-based, etc. can be used. As flame retardants, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, etc. can be used. As ultraviolet absorbers, benzotriazole-based, benzoate-based, benzophenone-based, triazine-based, etc. can be used. As light stabilizers, hindered amine-based, etc. can be used.
トップコート層5としては、ポリウレタン系、アクリル系、アクリルシリコン系、フッ素系、エポキシ系、ビニル系、ポリエステル系、メラミン系、アミノアルキッド系、尿素系などから適宜選択して用いることができる。材料の形態も、水性、エマルジョン、溶剤系など特に限定するものではない。硬化方法についても、単独で硬化する一液タイプ、主剤と合わせて硬化剤を使用する二液タイプ、紫外線や電子線等の照射により硬化させるタイプなどから適宜選択して用いることができる。特に、ウレタン系の主剤に対して、イソシアネート系の硬化剤を混合して硬化させるものが作業性、価格、樹脂自体の凝集力などの観点から好適である。
The
ここで、透明樹脂シート4の詳しい製膜フローを説明する。まず、主成分としての結晶性ポリプロピレン樹脂に対して、上述のように既存の各種添加剤を添加した樹脂組成物のペレットを溶融押出機に投入し、加熱しながら混練してペレットを液状に溶融し、押出口に設けられたTダイから液状の樹脂組成物を下流側に設けられた冷却ロールに向けて所定の幅で押し出す。このとき、Tダイから押し出された液状の樹脂組成物は、冷却ロールに至るまで結晶化を進め、当該冷却ロールに接触することで結晶化が完了されるようにされている。当該冷却ロールは、ロールの中心軸周りに所定の回転速度で回転しており、冷却ロールに接触した樹脂組成物はシート状の透明樹脂シート4となり、所定の搬送速度で下流側へ搬送されて、最終的には巻き取りロールに巻き取られる。なお、本発明においては、得られる透明樹脂シート4のピーク強度比xを所定の範囲内とするために、製膜条件としての溶融押出機から押し出される樹脂組成物の温度、冷却ロールの温度およびシートの搬送速度を調整することとした。
Here, a detailed film-forming flow of the
本実施形態の化粧シート1は、上記製膜フローによって形成された透明樹脂シート4の一方の面に対して、上記材料を上記方法によって絵柄印刷層3、隠蔽層2およびプライマー層6の順にそれぞれ積層させて形成する。透明樹脂層4にエンボス模様4aを設ける場合には、エンボス用の金型ロールを用いて当該透明樹脂シート4をプレスして、当該透明樹脂シート4の他方の面にエンボス模様4aを施す。さらに、エンボス模様4aの面上にトップコート層5を形成して化粧シート1を得る。
The
第1実施形態の化粧シート1においては、プライマー層6は0.1~3.0μm、隠蔽層2は2~10μm、絵柄印刷層3は20~200μm、透明樹脂層4としての透明樹脂シート4は20~100μm、トップコート層5は3~20μmとすることが望ましく、化粧シート1の総厚は130~500μmの範囲内とすることが好適である。
In the
図2は、本発明の化粧シート1の第2実施形態を示し、化粧シート1の構成は、化粧シート1を貼り付ける基材B側からプライマー層6、原反層7、絵柄印刷層3、接着剤層8、透明樹脂層4およびトップコート層5が順に積層されて形成されている。なお、生地Bとしては、木質ボード類、無機系ボード類、金属板などが挙げられる。
Figure 2 shows a second embodiment of the
プライマー層6、絵柄印刷層3、透明樹脂層4およびトップコート層5については、第1実施形態と同様の構成のものを用いることができる。
The
原反層7としては、薄葉紙、チタン紙、樹脂含浸紙などの紙、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、エチレン-酢酸ビニル重合体、ポリビニルアルコール、アクリルなどの合成樹脂、あるいは、これら合成樹脂の発泡体、エチレン-プロピレン重合体ゴム、エチレン-ポロピレン-ジエン共重合ゴム、スチレン-ブタジエン共重合ゴム、スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合ゴム、ポリウレタンなどのゴム、有機系もしくは無機系の不織布、合成紙、アルミニウム、鉄、金、銀などの金属箔などから任意に選択して用いることができる。原反層7として、ポリオレフィン系樹脂を主成分とする原反樹脂シート7を用いる場合には、表面が不活性であるので、原反樹脂シート7の両面に対してコロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、電子線処理、紫外線処理、重クロム酸処理などによって表面の活性化処理を施すことが好ましい。さらには、原反樹脂シート7と絵柄印刷層3との間においても、十分な密着性を確保するためにプライマー層6を設けてもよい。また、化粧シート1に隠蔽性を付与したい場合には、隠蔽層2を設けるか、原反樹脂シート7自体に不透明顔料などを添加することによって隠蔽性を持たせるようにしてもよい。
The
接着剤層8としては、アクリル系、ポリエステル系、ポリウレタン系などから選択して用いることができる。一般的には、作業性、価格、凝集力の高さから、主剤をウレタン系のポリオール、硬化剤をイソシアネートとした二液タイプの材料が用いられている。
The
本実施形態の化粧シート1は、まず、原反層7としての原反樹脂シート7の両面にコロナ処理を施し、当該原反樹脂シート7の一方の面上に対して絵柄印刷層3、プライマー層6を順に積層する。そして、上記製膜フローによって形成された透明樹脂層4としての透明樹脂シート4と、絵柄印刷層3およびプライマー層6とが積層された原反樹脂シート7とを、接着剤層8を間に介して、熱圧を応用した方法、押出ラミネート方法またはドライラミネート方法などの方法を用いて接着して積層し、積層フィルムを形成する。この時、透明樹脂層4の表面にエンボス模様4aを設ける場合には、当該積層フィルムに対して、熱圧による方法、もしくは、凹凸が形成された冷却ロールを用いる方法によって、エンボス模様4aが形成される。最後に、当該積層フィルムの透明樹脂層4の表面に対して、トップコート層5を積層して化粧シート1を得る。
In the present embodiment, the
第2実施形態の化粧シート1においては、原反層7は印刷作業性、コストなどを考慮して100μm~250μm、接着剤層8は1μm~20μm、透明樹脂層4は20μm~200μm、トップコート層5は3μm~20μmとすることが望ましく、化粧シート1の総厚は130μm~500μmの範囲内とすることが好適である。
In the
本発明の化粧シート1は、上記の実施形態のように透明樹脂層4としての透明樹脂シー
ト4について、フーリエ型赤外分光測定において得られた吸光スペクトルから数式1を用いて算出されるピーク強度比xの値を、x<0.65、より好ましくは、0.55≦x<0.65の範囲内としていることにより、従来の化粧シートと比較して耐後加工性に優れた化粧シート1を提供することができる。
In the
また、本発明の化粧シート1は、当該透明樹脂シート4を構成する樹脂組成物に対して、ナノサイズの造核剤、より具体的には、単層膜の外膜を具備するベシクルに造核剤が内包されている造核剤ベシクルが添加されているので、樹脂組成物中において造核剤の高い分散性を実現し、当該造核剤によって樹脂組成物の結晶化度を向上させて、高い透明性を備えた透明樹脂シート4を具備する化粧シート1を提供することができる。
In addition, in the
以下に、本発明の化粧シート1および化粧シート1の製造方法の具体的な実施例について説明する。
The following describes specific examples of the
<実施例1~4,比較例1~4>
本発明の実施例1~4および比較例1~4においては、高結晶性ホモポリプロピレン樹脂に対して、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(イルガノックス1010、チバスペシャリティケミカルズ社製)を500PPMと、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(チヌビン328、チバスペシャリティケミカルズ社製)2000PPMと、ヒンダードアミン系光安定化剤(キマソーブ944、チバスペシャリティケミカルズ社製)2000PPMと、リン酸エステル金属塩系造核剤(アデカスタブNA-21、ADEKA社製)1000PPMとを添加した樹脂組成物を溶融押出機を用いて上記の製膜フローを行うことにより、透明樹脂層4として使用する厚さ100μmの透明樹脂シート4をそれぞれ製膜する。得られた各透明樹脂シート4について、製膜時の押出温度、ロール温度およびシート搬送速度と、得られた各透明樹脂シート4のピーク強度比xとを表1に示す。
<Examples 1 to 4, Comparative Examples 1 to 4>
In Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 of the present invention, a resin composition obtained by adding 500 PPM of a hindered phenol-based antioxidant (Irganox 1010, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 2000 PPM of a benzotriazole-based ultraviolet absorber (Tinuvin 328, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 2000 PPM of a hindered amine-based light stabilizer (Chimasorb 944, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), and 1000 PPM of a phosphate metal salt-based nucleating agent (Adeka STAB NA-21, manufactured by ADEKA) to a highly crystalline homopolypropylene resin is subjected to the above-mentioned film formation flow using a melt extruder to form a
<実施例5,6>
本発明の実施例5,6においては、高結晶性ホモポリプロピレン樹脂に対して、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(イルガノックス1010、チバスペシャリティケミカルズ社製)500PPMと、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(チヌビン328、チバスペシャリティケミカルズ社製)2000PPMと、ヒンダードアミン系光安定化剤(キマソーブ944、チバスペシャリティケミカルズ社製)2000PPMと、造核剤ベシクル1000PPMとを添加した樹脂を溶融押出機を用いて上記の製膜フローを行うことにより、透明樹脂層4として使用する厚さ100μmの透明樹脂シート4をそれぞれ製膜する。得られた各透明樹脂シート4について、製膜時の押出温度、ロール温度およびシート搬送速度と、得られた各透明樹脂シート4のピーク強度比xとを表1に示す。
<Examples 5 and 6>
In Examples 5 and 6 of the present invention, a resin containing 500 PPM of a hindered phenol-based antioxidant (Irganox 1010, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 2000 PPM of a benzotriazole-based ultraviolet absorber (Tinuvin 328, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 2000 PPM of a hindered amine-based light stabilizer (Chimasorb 944, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), and 1000 PPM of a nucleating agent vesicle was added to a highly crystalline homopolypropylene resin, and the resin was subjected to the above-mentioned film-forming flow using a melt extruder to form a
なお、前記造核剤ベシクルは、メタノール100重量部、リン酸エステル金属塩系造核剤(アデカスタブNA-21、ADEKA社製)82重量部、ホスファチジルコリン5重量部を60℃に保たれた高圧ステンレス容器に入れて密閉し、圧力が20MPaとなるように二酸化炭素を注入して超臨界状態とした後、激しく攪拌混合しながらイオン交換水を100重量部注入する。容器内の温度および圧力を保持した状態で15分間攪拌後、二酸化炭素排出して大気圧に戻すことによって単層膜の外膜を具備するベシクルに前記リン酸エステル金属塩系造核剤が内包された造核剤ベシクルを得る。得られた造核剤ベシクルの粒径は、0.05~0.8μmのサイズとされていた。 The nucleating agent vesicles are prepared by sealing 100 parts by weight of methanol, 82 parts by weight of a phosphate metal salt nucleating agent (Adeka STAB NA-21, manufactured by ADEKA Corporation), and 5 parts by weight of phosphatidylcholine in a high-pressure stainless steel container maintained at 60°C, injecting carbon dioxide to a pressure of 20 MPa to create a supercritical state, and then injecting 100 parts by weight of ion-exchanged water while vigorously stirring and mixing. After stirring for 15 minutes while maintaining the temperature and pressure inside the container, carbon dioxide is discharged and the pressure is returned to atmospheric pressure, thereby obtaining nucleating agent vesicles in which the phosphate metal salt nucleating agent is encapsulated in a vesicle having a single-layer outer membrane. The particle size of the obtained nucleating agent vesicles was 0.05 to 0.8 μm.
続いて、上記の方法によって得られた実施例1~6および比較例1~4の各透明樹脂シート4の両面にコロナ処理を施して表面の濡れを40dyn/cm以上とし、当該透明樹脂シート4の一方の表面に2液硬化型ウレタンインキ(V180、東洋インキ製造株式会社製)にて絵柄印刷を施して絵柄印刷層3を形成するとともに、当該絵柄印刷層3に重ね
て隠蔽性のある2液効果型ウレタンインキ(V180、東洋インキ製造株式会社製)を塗布量6g/m2にて塗布して隠蔽層2を形成した。また、隠蔽層2に重ねて2液硬化型ウレタンインキ(PET-E、レジウサー、大日精化株式会社製)を塗布量1g/m2にて塗布してプライマー層6を形成した。その後、透明樹脂シート4の他方の表面に対して、エンボス用の金型ロールを用いてプレスしてエンボス模様4aを施し、当該エンボス模様4aの表面に2液硬化型ウレタントップコート(W184、大日本インキ株式会社製)を塗布量3g/m2にて塗布して、図1に示す層厚110μmの化粧シート1を得た。
Subsequently, both sides of each of the
上記の方法により得られた実施例1~6および比較例1~4の化粧シート1について、V溝曲げ加工適正試験およびヘイズ値測定試験を行い耐後加工性の評価を行った。
The
<V溝曲げ加工適正試験>
以下に、V溝曲げ加工適正試験の詳しい方法について述べる。まず、基材Bとしての中質繊維板(MDF)の一方の面に対して、上記の方法により得られた実施例1~7および比較例1~3の各化粧シート1をウレタン系の接着剤を用いて貼り付け、基材Bの他方の面に対して、反対側の化粧シート1にキズが付かないようにV型の溝を基材Bと化粧シート1とを貼り合わせている境界まで入れる。次に、化粧シート1の面が山折りとなるように基材Bを当該V型の溝に沿って90度まで曲げ、化粧シート1の表面の折れ曲がった部分に白化や亀裂などが生じていないかを光学顕微鏡を用いて観察し、耐後加工性の優劣の評価を行う。評価は下記の3段階にて行った。
○:白化・亀裂などが認められなかった
×:化粧シートとして容認できない白化・亀裂が認められた
<V-groove bending process suitability test>
The detailed method of the V-groove bending process suitability test is described below. First, the
○: No whitening or cracking was observed. ×: Whitening or cracking that is unacceptable for a decorative sheet was observed.
<ヘイズ値測定試験>
ここで、ヘイズ値とは、物体の一方の面から入射した光が他方の面に出射する場合に、他方の面から出射した光線のすべての積分値(全光線透過率)から他方の面から出射した光線のうち直線成分のみの積分値(直線透過率)を指し引いた値(拡散透過率)を、全光線透過率で除した値を百分率で表した値であり、値が小さいほど透明性が高いことを表す。このヘイズ値は、結晶部における結晶化度や球晶サイズなどの物体の内部の状態によって決まる内部ヘイズと、入射面および出射面の凹凸の有無などの物体の表面の状態によって決まる外部ヘイズとによって決定付けされる。なお、本発明においては、単にヘイズ値と称する場合には、内部ヘイズおよび外部ヘイズとによって決定される値を意味する。本実施例においては、ヘイズ値測定試験は、ヘイズ値測定試験器(日本電色社製;NDH2000)を用いて、各透明樹脂シートについて行った。予め、サンプルホルダーに何も取り付けない状態でブランク測定を行っておく。各透明樹脂シートの測定においては、サンプルホルダーにサンプルを取り付けてブランク測定と同じ条件でサンプル透過測定を行い、サンプル透過測定とブランク測定との比を百分率で表したものをヘイズ値として算出した。そして、本発明においては、ヘイズ値を15%未満のものを合格であると判断した。
<Haze value measurement test>
Here, the haze value is a percentage value obtained by subtracting the integral value (linear transmittance) of only the linear components of the light beams emitted from the other surface from the integral value (total light transmittance) of all the light beams emitted from the other surface when the light incident from one surface of the object is emitted to the other surface, and the smaller the value, the higher the transparency. This haze value is determined by the internal haze, which is determined by the internal state of the object, such as the degree of crystallinity and spherulite size in the crystal part, and the external haze, which is determined by the surface state of the object, such as the presence or absence of unevenness on the entrance surface and exit surface. In the present invention, when simply referred to as the haze value, it means a value determined by the internal haze and the external haze. In this embodiment, the haze value measurement test was performed on each transparent resin sheet using a haze value measurement tester (manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd.; NDH2000). A blank measurement was performed in advance with nothing attached to the sample holder. In the measurement of each transparent resin sheet, a sample was attached to a sample holder and the sample transmission measurement was performed under the same conditions as the blank measurement, and the ratio of the sample transmission measurement to the blank measurement, expressed as a percentage, was calculated as the haze value. In the present invention, a haze value of less than 15% was judged to be acceptable.
上記のV溝曲げ加工適正試験およびヘイズ値測定試験結果を表1に示す。 The results of the V-groove bending process suitability test and the haze value measurement test are shown in Table 1.
各化粧シート1の評価試験結果は、表1に示すように、透明樹脂シート4のピーク強度比xが0.55≦x<0.65とされている実施例1~6の各化粧シート1およびx=0.53とされている比較例1の化粧シート1は、V溝曲げ加工適正試験において白化・亀裂などが認められず、優れた耐後加工性を有していることが明らかとなった。なお、ピーク強度比xがx<0.53とされた比較例1については、製膜することができなかった。ピーク強度比xがx>0.65とされている比較例3,4の化粧シート1については、化粧シートとして容認できない白化・亀裂が認められた。
As shown in Table 1, the evaluation test results of each
また、ヘイズ値については、実施例1~6および比較例2~4のいずれについても15%以下となり、化粧シート1に適した透明性を有していた。特に、造核剤ベシクルを添加した実施例5,6の化粧シート1においては、同様のピーク強度比xとされている比較例1,2の化粧シート1と比較してヘイズ値が小さい値となっており、より優れた透明性を有していることがわかる。これは、樹脂組成物に添加した造核剤の分散性が向上したために光の散乱が少なくなり、透明性が向上したと考えられる。
In addition, the haze value was 15% or less in all of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 2 to 4, and the
以上の結果から、透明樹脂層4としての透明樹脂シート4のピーク強度比xをx≦0.65、好ましくは、0.55≦x≦0.65とすることにより、耐後加工性および透明性に優れた化粧シート1を得ることができることが明らかとなった。
From the above results, it became clear that by setting the peak intensity ratio x of the
また、当該透明樹脂シート4に対して、造核剤ベシクルを添加することによって、透明樹脂シート4における造核剤の分散性を向上させて、極めて透明性が高く意匠性に優れた化粧シート1を得ることができることが明らかとなった。
It was also revealed that by adding nucleating agent vesicles to the
本発明の化粧シート1および化粧シート1の製造方法は、上記の実施形態および実施例に限定されるものではなく、発明の特徴を損なわない範囲において種々の変更が可能である。
The
1 化粧シート
2 隠蔽層
3 絵柄印刷層
4 透明樹脂層、透明樹脂シート
4a エンボス模様
5 トップコート層
6 プライマー層
7 原反層、原反樹脂シート
8 接着剤層
1
Claims (7)
前記透明樹脂層としての透明樹脂シートのフーリエ型赤外分光測定において得られた吸光スペクトルから下記の数式1を用いて算出されるピーク強度比xの値が、0.55≦x<0.65であり、
前記隠蔽層は、バインダーと、前記バインダーに添加した、酸化チタン、酸化鉄、金、銀、銅、またはアルミニウムと、を含み、
前記バインダーは、硝化綿、セルロース、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、ポリウレタン、アクリル、またはポリエステルを含み、
前記透明樹脂シートを、単層膜の外膜を具備するベシクルに造核剤を内包させたナノサイズの造核剤ベシクルを添加して形成する
ことを特徴とする化粧シート。
ここで、数式1において、I997は波数997cm-1のピーク強度値、I938は波数938cm-1のピーク強度値、I973は波数973cm-1のピーク強度値をあらわす。
a value of a peak intensity ratio x calculated by using the following formula 1 from an absorption spectrum obtained by Fourier infrared spectroscopy of the transparent resin sheet as the transparent resin layer is 0.55≦x<0.65,
The concealing layer includes a binder and titanium oxide, iron oxide, gold, silver, copper, or aluminum added to the binder,
The binder comprises soluble nitrocellulose, cellulose, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, polyurethane, acrylic, or polyester;
The decorative sheet is characterized in that the transparent resin sheet is formed by adding nano-sized nucleating agent vesicles in which a nucleating agent is encapsulated in a vesicle having a single-layer outer membrane.
Here, in Equation 1, I997 represents the peak intensity value at wave number 997 cm −1 , I938 represents the peak intensity value at wave number 938 cm −1 , and I973 represents the peak intensity value at wave number 973 cm −1 .
前記造核剤ベシクルの平均粒径は、200nm以上375nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の化粧シート。 The crystalline polypropylene resin is a homopolypropylene resin having a pentad fraction (mmmm fraction) of 95% or more,
2. The decorative sheet according to claim 1, wherein the average particle size of the nucleating agent vesicles is from 200 nm to 375 nm .
前記結晶性ポリプロピレン樹脂に対して、超臨界逆相蒸発法により単層膜の外膜を具備するベシクルに造核剤を内包したナノサイズの造核剤ベシクルを添加し、フーリエ型赤外分光測定において得られる吸光スペクトルから下記の数式1を用いて算出されるピーク強度比xの値が、0.55≦x<0.65となるように前記透明樹脂層としての透明樹脂シートを形成し、
前記隠蔽層は、バインダーと、前記バインダーに添加した、酸化チタン、酸化鉄、金、銀、銅、またはアルミニウムと、を含み、
前記バインダーは、硝化綿、セルロース、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、ポリウレタン、アクリル、またはポリエステルを含む
ことを特徴とする化粧シートの製造方法。
A nano-sized nucleating agent vesicle having a single-layer outer membrane and encapsulating a nucleating agent is added to the crystalline polypropylene resin by a supercritical reverse phase evaporation method, and a transparent resin sheet is formed as the transparent resin layer so that the value of the peak intensity ratio x calculated from the absorption spectrum obtained by Fourier infrared spectroscopy using the following formula 1 is 0.55≦x<0.65;
The concealing layer includes a binder and titanium oxide, iron oxide, gold, silver, copper, or aluminum added to the binder,
A method for producing a decorative sheet, wherein the binder comprises soluble nitrocellulose, cellulose, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, polyurethane, acrylic, or polyester.
前記造核剤ベシクルの平均粒径は、200nm以上375nm以下であることを特徴とする請求項6に記載の化粧シートの製造方法。 The crystalline polypropylene resin is a homopolypropylene resin having a pentad fraction (mmmm fraction) of 95% or more,
7. The method for producing a decorative sheet according to claim 6 , wherein the average particle size of the nucleating agent vesicles is 200 nm or more and 375 nm or less .
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2023076448A JP7593437B2 (en) | 2022-06-09 | 2023-05-08 | Decorative sheet and method for producing the same |
JP2024203382A JP2025028921A (en) | 2022-06-09 | 2024-11-21 | Decorative sheet and method for producing the same |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022093768A JP7276565B2 (en) | 2020-09-11 | 2022-06-09 | Decorative sheet and method for producing decorative sheet |
JP2023076448A JP7593437B2 (en) | 2022-06-09 | 2023-05-08 | Decorative sheet and method for producing the same |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022093768A Division JP7276565B2 (en) | 2020-09-11 | 2022-06-09 | Decorative sheet and method for producing decorative sheet |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024203382A Division JP2025028921A (en) | 2022-06-09 | 2024-11-21 | Decorative sheet and method for producing the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023109800A JP2023109800A (en) | 2023-08-08 |
JP7593437B2 true JP7593437B2 (en) | 2024-12-03 |
Family
ID=82848243
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023076448A Active JP7593437B2 (en) | 2022-06-09 | 2023-05-08 | Decorative sheet and method for producing the same |
JP2024203382A Pending JP2025028921A (en) | 2022-06-09 | 2024-11-21 | Decorative sheet and method for producing the same |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024203382A Pending JP2025028921A (en) | 2022-06-09 | 2024-11-21 | Decorative sheet and method for producing the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP7593437B2 (en) |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003039613A (en) | 2001-08-01 | 2003-02-13 | Toppan Printing Co Ltd | Decorative sheet |
JP3772634B2 (en) | 2000-03-23 | 2006-05-10 | 凸版印刷株式会社 | Decorative sheet |
WO2006057294A1 (en) | 2004-11-24 | 2006-06-01 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Polypropylene polymer film and pressure-sensitive adhesive film employing the same |
JP2007023091A (en) | 2005-07-13 | 2007-02-01 | Nakamoto Pakkusu Kk | Uniaxial stretched polyproylene film for thermoforming sheet |
JP2007077345A (en) | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Masamitsu Nagahama | Resin material, production method of resin material, use of liposome |
JP2007508423A (en) | 2003-10-07 | 2007-04-05 | ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド | Polypropylene composition for air quench bron film |
JP2010069710A (en) | 2008-09-18 | 2010-04-02 | Toppan Cosmo Inc | Decorative sheet |
JP7276565B2 (en) | 2020-09-11 | 2023-05-18 | 凸版印刷株式会社 | Decorative sheet and method for producing decorative sheet |
-
2023
- 2023-05-08 JP JP2023076448A patent/JP7593437B2/en active Active
-
2024
- 2024-11-21 JP JP2024203382A patent/JP2025028921A/en active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3772634B2 (en) | 2000-03-23 | 2006-05-10 | 凸版印刷株式会社 | Decorative sheet |
JP2003039613A (en) | 2001-08-01 | 2003-02-13 | Toppan Printing Co Ltd | Decorative sheet |
JP2007508423A (en) | 2003-10-07 | 2007-04-05 | ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド | Polypropylene composition for air quench bron film |
WO2006057294A1 (en) | 2004-11-24 | 2006-06-01 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Polypropylene polymer film and pressure-sensitive adhesive film employing the same |
JP2007023091A (en) | 2005-07-13 | 2007-02-01 | Nakamoto Pakkusu Kk | Uniaxial stretched polyproylene film for thermoforming sheet |
JP2007077345A (en) | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Masamitsu Nagahama | Resin material, production method of resin material, use of liposome |
JP2010069710A (en) | 2008-09-18 | 2010-04-02 | Toppan Cosmo Inc | Decorative sheet |
JP7276565B2 (en) | 2020-09-11 | 2023-05-18 | 凸版印刷株式会社 | Decorative sheet and method for producing decorative sheet |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2023109800A (en) | 2023-08-08 |
JP2025028921A (en) | 2025-03-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6787642B2 (en) | Cosmetic sheet | |
WO2017033971A1 (en) | Decorative sheet, and transparent resin sheet | |
JP6787641B2 (en) | Cosmetic sheet | |
JP7276565B2 (en) | Decorative sheet and method for producing decorative sheet | |
JP7276564B2 (en) | Decorative sheet and method for producing decorative sheet | |
JP7593437B2 (en) | Decorative sheet and method for producing the same | |
JP6994633B2 (en) | Decorative sheet and manufacturing method of decorative sheet | |
JP7593436B2 (en) | Decorative sheet and method for producing the same | |
JP7007546B2 (en) | Decorative sheets and transparent resin sheets, and their manufacturing methods | |
JP6629602B2 (en) | Decorative sheet and transparent resin sheet, and method for manufacturing decorative sheet and transparent resin sheet | |
JP7088248B2 (en) | Decorative sheet and manufacturing method of decorative sheet | |
JP7088247B2 (en) | Decorative sheet and manufacturing method of decorative sheet | |
JP6994632B2 (en) | Decorative sheet and manufacturing method of decorative sheet |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230607 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230616 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20240216 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240312 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240430 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240806 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240930 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20241022 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20241104 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7593437 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |