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JP7585604B2 - Resin composition and optical film using same - Google Patents

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JP7585604B2 JP2019175041A JP2019175041A JP7585604B2 JP 7585604 B2 JP7585604 B2 JP 7585604B2 JP 2019175041 A JP2019175041 A JP 2019175041A JP 2019175041 A JP2019175041 A JP 2019175041A JP 7585604 B2 JP7585604 B2 JP 7585604B2
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Description

本発明は、樹脂組成物およびそれを用いたフィルムに関するものであり、より詳しくは、位相差特性および波長分散特性並びに耐熱性に優れた液晶ディスプレイおよび有機EL用の光学フィルムに好適な樹脂組成物およびそれを用いた光学フィルムに関する。 The present invention relates to a resin composition and a film using the same, and more specifically to a resin composition suitable for optical films for liquid crystal displays and organic electroluminescence displays, which have excellent retardation characteristics, wavelength dispersion characteristics, and heat resistance, and an optical film using the same.

近年、種々のディスプレイにおいて、表示性能や耐久性に対する要求がより高くなり、応答速度の向上や、表示画像に対して斜め方向から観察した場合のコントラストやカラーバランスといった視野角をより広範囲で補償することが課題となっている。これらの課題を解決すべく、VA(Vertical Alignment)方式、OCB(Optical Compensated Bend)方式、またはIPS(In-Plane Swiching)方式の表示素子が開発され、それぞれの液晶方式に応じた、様々なレターデーション発現性を有する光学補償フィルム材料が要求されている。 In recent years, there has been a growing demand for display performance and durability in various displays, and it has become an issue to improve response speed and compensate for a wider range of viewing angles, such as contrast and color balance when the displayed image is observed from an oblique direction. To solve these issues, display elements of the VA (Vertical Alignment) type, OCB (Optical Compensated Bend) type, and IPS (In-Plane Switching) type have been developed, and optical compensation film materials with various retardation expression properties according to each liquid crystal type are required.

従来の光学補償フィルムとしては、セルロース系樹脂、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンなどの延伸フィルムが用いられている。特にセルロースアシレートなどのセルロース系樹脂からなる延伸フィルムは、その透明性、強靭性、プロセス上必要である透湿性や低い波長分散性から、液晶表示装置向けの光学補償フィルムとして広く利用されている。 Conventional optical compensation films include stretched films of cellulose resins, polycarbonates, cyclic polyolefins, etc. In particular, stretched films made of cellulose resins such as cellulose acylate are widely used as optical compensation films for liquid crystal display devices due to their transparency, toughness, moisture permeability (necessary for processing), and low wavelength dispersion.

しかしながら、セルロ-ス系樹脂からなる光学補償フィルムはいくつかの課題がある。例えば、セルロ-ス系樹脂フィルムは延伸条件を調整することで各種ディスプレイにあわせた位相差値を持つ光学補償フィルムに加工されるが、セルロ-ス系樹脂フィルムの一軸または二軸延伸により得られるフィルムの三次元屈折率は、ny≧nx>nzであり、それ以外の3次元屈折率、例えば、ny>nz>nxや、ny=nz>nxなどの3次元屈折率を有する光学補償フィルムを製造するためには、フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムの厚み方向に収縮力をかけるなど特殊な延伸方法が必要であり屈折率(位相差値)の制御も困難である(例えば、特許文献1~3参照)。ここでnxはフィルム面内の進相軸方向(最も屈折率の小さい方向)の屈折率、nyはフィルム面内の遅相軸方向(最も屈折率の大きい方向)の屈折率、nzはフィルム面外(厚み方向)の屈折率を示す。 However, optical compensation films made of cellulose-based resins have some problems. For example, cellulose-based resin films are processed into optical compensation films with retardation values suited to various displays by adjusting the stretching conditions, but the three-dimensional refractive index of the film obtained by uniaxial or biaxial stretching of cellulose-based resin films is ny≧nx>nz. In order to manufacture optical compensation films with other three-dimensional refractive indexes, such as ny>nz>nx or ny=nz>nx, a special stretching method is required, such as bonding a heat-shrinkable film to one or both sides of the film and subjecting the laminate to a heat stretching treatment to apply a shrinking force in the thickness direction of the polymer film, and it is also difficult to control the refractive index (retardation value) (see, for example, Patent Documents 1 to 3). Here, nx represents the refractive index in the fast axis direction (the direction with the smallest refractive index) in the film plane, ny represents the refractive index in the slow axis direction (the direction with the largest refractive index) in the film plane, and nz represents the refractive index outside the film plane (thickness direction).

また、セルロ-ス系樹脂フィルムは一般に溶剤キャスト法により製造されるが、キャスト法により成膜したセルロ-ス系樹脂フィルムはフィルム厚み方向に40nm程度の面外位相差(Rth)を有するため、IPSモ-ドの液晶ディスプレイなどではカラ-シフトが起こるなどの問題がある。ここで面外位相差(Rth)は以下の式で示される位相差値である。
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d
(式中、nxはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、nyはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、nzはフィルム面外の屈折率を示し、dはフィルム厚みを示す。)
また、フマル酸エステル系樹脂からなる位相差フィルム(光学補償フィルム)が提案されている(例えば、特許文献4参照)。
Furthermore, cellulose-based resin films are generally produced by a solvent casting method, but cellulose-based resin films formed by the casting method have an out-of-plane retardation (Rth) of about 40 nm in the film thickness direction, which causes problems such as color shifts in IPS mode liquid crystal displays, etc. Here, the out-of-plane retardation (Rth) is a retardation value expressed by the following formula.
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d
(In the formula, nx represents the refractive index in the fast axis direction in the film plane, ny represents the refractive index in the slow axis direction in the film plane, nz represents the refractive index outside the film plane, and d represents the film thickness.)
Further, a retardation film (optical compensation film) made of a fumaric acid ester resin has been proposed (see, for example, Patent Document 4).

しかしながら、フマル酸エステル系樹脂からなる延伸フィルムの3次元屈折率は、nz>ny>nxであり、上記3次元屈折率を示す光学補償フィルムを得るためには他の光学補償フィルム等との積層などが必要である。 However, the three-dimensional refractive index of a stretched film made of a fumaric acid ester resin is nz>ny>nx, and in order to obtain an optical compensation film that exhibits the above three-dimensional refractive index, lamination with other optical compensation films, etc. is necessary.

そこで、上記3次元屈折率を示す光学補償フィルムとして、樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルムが提案されている(例えば、特許文献5~特許文献7参照)。特許文献5~特許文献7は光学補償フィルムとして優れた性能を有するものの、より薄い膜で目的とするReを発現させる光学補償フィルムが求められている。 In response to this, resin compositions and optical compensation films using the same have been proposed as optical compensation films that exhibit the above three-dimensional refractive index (see, for example, Patent Documents 5 to 7). Although Patent Documents 5 to 7 have excellent performance as optical compensation films, there is a demand for optical compensation films that exhibit the desired Re with thinner films.

ここで、一般に光学補償フィルムは反射型液晶表示装置、タッチパネルや有機ELの反射防止層としても用いられるものであり、該用途では、特に長波長域ほどレタ-デ-ションが大きい光学補償フィルム(以下、「逆波長分散フィルム」という)が求められるものである。例えば、有機EL用円偏光板の光学補償フィルムとして逆波長分散フィルムが用いられる場合、位相差は測定波長λの1/4程度が好ましく、450nmにおけるレタ-デ-ションと550nmにおけるレタ-デ-ションの比Re(450)/Re(550)はディスプレイの構成により異なるが、一般的には0.80~0.86程度が好ましい。そして、表示装置の薄型化を鑑みた場合、使用される逆波長分散フィルムも薄いことが求められる。上記のような要求特性に対し、種々の光学補償フィルムが開発されている。 Here, optical compensation films are generally used as anti-reflection layers for reflective liquid crystal displays, touch panels, and organic electroluminescence (EL) displays, and in these applications, optical compensation films with larger retardation (hereinafter referred to as "reverse wavelength dispersion films") are required, particularly in the longer wavelength range. For example, when a reverse wavelength dispersion film is used as an optical compensation film for an organic EL circular polarizer, the phase difference is preferably about 1/4 of the measured wavelength λ, and the ratio of the retardation at 450 nm to the retardation at 550 nm, Re(450)/Re(550), varies depending on the display configuration, but is generally preferably about 0.80 to 0.86. In addition, in consideration of the trend toward thinner display devices, the reverse wavelength dispersion films used are also required to be thin. Various optical compensation films have been developed to meet the above-mentioned required characteristics.

上記3次元屈折率を示し、かつ、逆波長分散フィルムとして用いられる位相差フィルム(光学補償フィルム)としてセルロース系樹脂およびフマル酸エステル重合体を含有する位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献8および特許文献9参照)。しかしながら、特許文献8および特許文献9に記載の位相差フィルムは、エチルセルロースの分解による脆化や着色、芳香族基や多環芳香族基を多く有する負の複屈折を示すエステル系樹脂の着色等により、高温環境に対する耐久性に課題を有し、高温下においてより安定性の高い光学補償フィルムが求められている。 Retardation films containing cellulose resins and fumaric acid ester polymers have been proposed as retardation films (optical compensation films) that exhibit the above three-dimensional refractive index and are used as reverse wavelength dispersion films (see, for example, Patent Documents 8 and 9). However, the retardation films described in Patent Documents 8 and 9 have issues with durability in high-temperature environments due to embrittlement and coloring caused by decomposition of ethyl cellulose, and coloring of ester resins that have many aromatic groups or polycyclic aromatic groups and exhibit negative birefringence, and there is a demand for optical compensation films that are more stable at high temperatures.

特許2818983号公報Patent No. 2818983 特開平5-297223号公報Japanese Patent Application Publication No. 5-297223 特開平5-323120号公報Japanese Patent Application Publication No. 5-323120 特開2008-64817号公報JP 2008-64817 A 特開2013-28741号公報JP 2013-28741 A 特開2014-125609号公報JP 2014-125609 A 特開2014-125610号公報JP 2014-125610 A 特開2015-157928号公報JP 2015-157928 A 特開2019-19303号公報JP 2019-19303 A

本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、位相差特性および波長分散特性に優れた樹脂組成物を用いたフィルムであって、高温下において安定性の高い光学フィルムを提供することにある。 The present invention was made in consideration of the above problems, and its purpose is to provide an optical film that uses a resin composition that has excellent retardation properties and wavelength dispersion properties and is highly stable at high temperatures.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の酸化防止剤を含む樹脂組成物およびそれを用いた光学フィルムが上記課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive research into solving the above problems, the inventors discovered that a resin composition containing a specific antioxidant and an optical film using the same could solve the above problems, and thus completed the present invention.

すなわち、本発明は、下記一般式(1)で示されるセルロ-ス樹脂(A)を50重量%以上98.99重量%以下、
下記一般式(2)で示されるケイ皮酸エステル残基単位および下記一般式(3)で示される残基単位を含むケイ皮酸エステル共重合体(B)を1重量%以上49.99重量%以下、
分子量が350以上である酸化防止剤(C)を0.01重量%以上5.0重量%以下含有する樹脂組成物に関するものである。
That is, the present invention relates to a cellulose resin (A) represented by the following general formula (1) in an amount of 50% by weight or more and 98.99% by weight or less:
A cinnamic acid ester copolymer (B) containing a cinnamic acid ester residue unit represented by the following general formula (2) and a residue unit represented by the following general formula (3) in an amount of 1% by weight or more and 49.99% by weight or less:
The present invention relates to a resin composition containing 0.01% by weight or more and 5.0% by weight or less of an antioxidant (C) having a molecular weight of 350 or more.

(式中、R、R、Rはそれぞれ独立して水素原子または炭素数1~12の置換基を示す。) (In the formula, R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent having 1 to 12 carbon atoms.)

(式中、Rは水素原子または炭素数1~12のアルキル基を示す。R~Rは水素原子、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、フェニル基、チオール基、アミド基、アミノ基、水酸基、炭素数1~12のアルキル基または炭素数1~12のアルコキシ基を示す。Yはニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、チオール基、アミド基、エステル基を示す。) (In the formula, R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; R 5 to R 9 represent a hydrogen atom, a nitro group, a bromo group, an iodo group, a cyano group, a chloro group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a fluoro group, a phenyl group, a thiol group, an amide group, an amino group, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms; and Y represents a nitro group, a bromo group, an iodo group, a cyano group, a chloro group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a fluoro group, a thiol group, an amide group, or an ester group.)

(式中、R10はヘテロ原子として窒素原子もしくは酸素原子を1つ以上含む5員環複素環残基または6員環複素環残基(前記5員環複素環残基および前記6員環複素環残基は他の環状構造と縮合環構造を形成してもよい)を示す。) (In the formula, R 10 represents a 5-membered or 6-membered heterocyclic residue containing one or more nitrogen or oxygen atoms as heteroatoms (the 5-membered or 6-membered heterocyclic residue may form a condensed ring structure with another ring structure).)

以下に、本発明の内容について詳細に説明する。 The contents of the present invention are explained in detail below.

本発明の樹脂組成物は、前記一般式(1)で示されるセルロ-ス樹脂(A)を50重量%以上98.99重量%以下と、
前記一般式(2)で示されるケイ皮酸エステル残基単位および前記一般式(3)で示される残基単位を含むケイ皮酸エステル共重合体(B)を1重量%以上49.99重量%以下と、
分子量が350以上である酸化防止剤(C)を0.01重量%以上5.0重量%以下とを含有する樹脂組成物である。
The resin composition of the present invention comprises 50% by weight or more and 98.99% by weight or less of the cellulose resin (A) represented by the general formula (1),
a cinnamate ester copolymer (B) containing a cinnamate ester residue unit represented by the general formula (2) and a residue unit represented by the general formula (3) in an amount of 1% by weight or more and 49.99% by weight or less;
The resin composition contains 0.01% by weight or more and 5.0% by weight or less of an antioxidant (C) having a molecular weight of 350 or more.

本発明の樹脂組成物が含有するセルロース樹脂(A)は、下記一般式(1)で示される。 The cellulose resin (A) contained in the resin composition of the present invention is represented by the following general formula (1).

(式中、R、R、Rはそれぞれ独立して水素原子または炭素数1~12の置換基を示す。) (In the formula, R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent having 1 to 12 carbon atoms.)

セルロ-ス樹脂としては、例えば、セルロース及び/またはセルロース誘導体を例示できる。セルロース誘導体としては、セルロースにおける水酸基の少なくとも一部がエーテル化されたセルロ-スエ-テル、同様に水酸基の少なくとも一部がエステル化されたセルロ-スエ-テルエステル等が挙げられる。そして、本発明の樹脂組成物は、これらのセルロ-ス樹脂を1種または2種以上含有していてもよい。 Examples of cellulose resins include cellulose and/or cellulose derivatives. Examples of cellulose derivatives include cellulose ethers in which at least a portion of the hydroxyl groups in cellulose are etherified, and cellulose ether esters in which at least a portion of the hydroxyl groups are esterified. The resin composition of the present invention may contain one or more of these cellulose resins.

本発明において、セルロース樹脂の置換度(以下、「DS」という。)は、1.5以上2.95以下であることが好ましく、さらに好ましくは1.8以上2.8以下である。これにより、本発明の樹脂組成物は、その溶解性、相溶性、延伸加工性の点でより優れる。ここでDSとは、セルロ-ス誘導体において、セルロースの水酸基が置換されている割合として定義でき、100%置換している場合はDS=3を意味する。DSの測定方法は、第十七改正日本薬局方に記載のように、セルロースを誘導体とする反応後の置換基の脱離後のガスクロマトグラフィーピーク面積から計算することができる。置換基が2種類以上ある場合、それぞれ分けて置換度を表記する。エチルセルロースを用いる場合、DSはエチル基の置換度である。 In the present invention, the degree of substitution (hereinafter referred to as "DS") of the cellulose resin is preferably 1.5 to 2.95, more preferably 1.8 to 2.8. This makes the resin composition of the present invention more excellent in terms of its solubility, compatibility, and stretchability. Here, DS can be defined as the ratio of hydroxyl groups of cellulose in a cellulose derivative to which they are substituted, and DS = 3 when 100% is substituted. The DS can be measured from the gas chromatography peak area after the elimination of the substituents after the reaction of cellulose to a derivative, as described in the 17th Revised Japanese Pharmacopoeia. When there are two or more types of substituents, the degree of substitution is expressed separately for each type. When ethyl cellulose is used, DS is the degree of substitution of the ethyl group.

セルロ-ス樹脂は、機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れたものとなることから、ゲル・パ-ミエイション・クロマトグラフィ-(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が1×10~1×10であることが好ましく、5×10~2×10であることがさらに好ましい。 Since the cellulose resin has excellent mechanical properties and excellent moldability during film formation, it has a number average molecular weight (Mn) of 1×10 3 to 1×10 6 , and more preferably 5×10 3 to 2×10 5 , calculated as standard polystyrene, obtained from an elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC).

セルロ-ス樹脂は、セルロースエーテルであることが好ましい。これにより、ケイ皮酸エステル共重合体(B)との相溶性の点でより優れ、かつ、得られる組成物の面内位相差Reがより大きく、更に延伸加工性に優れる。 The cellulose resin is preferably a cellulose ether. This provides better compatibility with the cinnamate ester copolymer (B), and the resulting composition has a larger in-plane retardation Re and is excellent in stretchability.

セルロ-スエ-テルは、β-グルコース単位が直鎖状に重合した高分子であり、グルコ-ス単位の2位、3位および6位の水酸基の一部または全部をエ-テル化したポリマ-である。 Cellulose ether is a polymer in which β-glucose units are polymerized in a linear chain, and some or all of the hydroxyl groups at the 2nd, 3rd, and 6th positions of the glucose units are etherified.

式(1)のセルロ-スエ-テルにおいては、R~Rはそれぞれ独立して水素原子または炭素数1~12の置換基を表す。溶解性、相溶性の点から、R~Rは炭素数1~12の置換基であることが好ましい。炭素数1~12の置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デカニル基、ドデカニル基、イソブチル基、t-ブチル基、シクロヘキシル基、フェノニル基、ベンジル基、ナフチル基等を挙げることができる。これらの中でも、溶解性、相溶性の点から、炭素数1~5のアルキル基であるメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基が好ましい。 In the cellulose ether of formula (1), R 1 to R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent having 1 to 12 carbon atoms. From the viewpoint of solubility and compatibility, R 1 to R 3 are preferably a substituent having 1 to 12 carbon atoms. Examples of the substituent having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a decanyl group, a dodecanyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, a cyclohexyl group, a phenonyl group, a benzyl group, and a naphthyl group. Among these, from the viewpoint of solubility and compatibility, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, that is, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and a pentyl group, are preferred.

本発明で用いるセルロ-スエーテルの水酸基は、1種類のエーテル基で置換されていてもよく、2種類以上のエ-テル基で置換された、例えばエチルメチルセルロース等でもよい。また、エ-テル基の他にエステル基で置換されていてもよい。 The hydroxyl groups of the cellulose ether used in the present invention may be substituted with one type of ether group, or may be substituted with two or more types of ether groups, such as ethyl methyl cellulose. In addition to the ether groups, they may also be substituted with ester groups.

セルロ-スエ-テルとしては、例えば、メチルセルロ-ス、エチルセルロ-ス、プロピルセルロ-ス等のアルキルセルロ-ス;ヒドロキシエチルセルロ-ス、ヒドロキシプロピルセルロ-ス等のヒドロキシアルキルセルロ-ス;ベンジルセルロ-ス、トリチルセルロ-ス等のアラルキルセルロ-ス;シアノエチルセルロ-ス等のシアノアルキルセルロ-ス;カルボキシメチルセルロ-ス、カルボキシエチルセルロ-ス等のカルボキシアルキルセルロ-ス;カルボキシメチルメチルセルロ-ス、カルボキシメチルエチルセルロ-ス等のカルボキシアルキルアルキルセルロ-ス;アミノエチルセルロ-ス等のアミノアルキルセルロ-ス等が挙げられる。セルロースエーテルは、メチルセルロース、エチルセルロースまたはプロピルセルロースからなる群の少なくとも1種であることが好ましい。これにより、ケイ皮酸エステル共重合体との相溶性の点でより優れたものとなる。 Examples of cellulose ethers include alkyl celluloses such as methyl cellulose, ethyl cellulose, and propyl cellulose; hydroxyalkyl celluloses such as hydroxyethyl cellulose and hydroxypropyl cellulose; aralkyl celluloses such as benzyl cellulose and trityl cellulose; cyanoalkyl celluloses such as cyanoethyl cellulose; carboxyalkyl celluloses such as carboxymethyl cellulose and carboxyethyl cellulose; carboxyalkyl alkyl celluloses such as carboxymethyl methyl cellulose and carboxymethyl ethyl cellulose; and aminoalkyl celluloses such as aminoethyl cellulose. The cellulose ether is preferably at least one member of the group consisting of methyl cellulose, ethyl cellulose, and propyl cellulose. This provides better compatibility with the cinnamic acid ester copolymer.

セルロ-スエ-テルは一般に、木材又はコットンより得たセルロ-スパルプをアルカリ分解し、アルカリ分解したセルロ-スパルプをエ-テル化することで合成される。アルカリとしては、リチウム,カリウム,ナトリウムなどのアルカリ金属の水酸化物やアンモニアなどが利用できる。前記アルカリは一般に、水溶液として使用される。そして、アルカリ分解されたセルロ-スパルプは、エ-テル化剤と接触されることによりエ-テル化されるものである。エ-テル化剤としては、例えば、塩化メチル、塩化エチル等のハロゲン化アルキル;ベンジルクロライド、トリチルクロライド等のハロゲン化アラルキル;モノクロロ酢酸、モノクロロプロピオン酸等のハロカルボン酸;エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等のアルキレンオキサイド等が挙げられる。目的とするセルロース誘導体の種類に応じて所望のエーテル化剤を用いればよく、エ-テル化剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。 Cellulose ethers are generally synthesized by alkaline decomposition of cellulose pulp obtained from wood or cotton, and etherification of the alkaline decomposed cellulose pulp. Examples of the alkali that can be used include hydroxides of alkali metals such as lithium, potassium, and sodium, and ammonia. The alkali is generally used as an aqueous solution. The alkaline decomposed cellulose pulp is then etherified by contacting it with an etherification agent. Examples of the etherification agent include alkyl halides such as methyl chloride and ethyl chloride; aralkyl halides such as benzyl chloride and trityl chloride; halocarboxylic acids such as monochloroacetic acid and monochloropropionic acid; and alkylene oxides such as ethylene oxide, propylene oxide, and butylene oxide. The desired etherification agent can be used depending on the type of cellulose derivative to be produced, and the etherification agents can be used alone or in combination.

例えば、セルロース樹脂をエーテル化する場合には、アルカリ処理後に塩化物等でエーテル化反応を行う方法を例示できる。 For example, when etherifying cellulose resin, an example method is to carry out an etherification reaction with a chloride or the like after alkali treatment.

なお、必要であれば、エーテル化後、粘度調整のため塩化水素、臭化水素、塩酸、及び硫酸等で解重合処理してもよい。 If necessary, after etherification, depolymerization may be performed with hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc. to adjust the viscosity.

本発明の樹脂組成物は、以下の一般式(2)で示されるケイ皮酸エステル残基単位および以下の一般式(3)で示される残基単位を含むケイ皮酸エステル共重合体(B)を含む。 The resin composition of the present invention contains a cinnamate ester copolymer (B) containing a cinnamate ester residue unit represented by the following general formula (2) and a residue unit represented by the following general formula (3):

(式中、Rは水素原子または炭素数1~12のアルキル基を示す。R~Rは水素原子、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、フェニル基、チオール基、アミド基、アミノ基、水酸基、炭素数1~12のアルキル基または炭素数1~12のアルコキシ基を示す。Yはニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、チオール基を示す。) (In the formula, R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; R 5 to R 9 represent a hydrogen atom, a nitro group, a bromo group, an iodo group, a cyano group, a chloro group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a fluoro group, a phenyl group, a thiol group, an amido group, an amino group, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms; and Y represents a nitro group, a bromo group, an iodo group, a cyano group, a chloro group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a fluoro group, or a thiol group.)

(式中、R10はヘテロ原子として窒素原子もしくは酸素原子を1つ以上含む5員環複素環残基または6員環複素環残基(前記5員環複素環残基および前記6員環複素環残基は他の環状構造と縮合環構造を形成してもよい)を示す。) (In the formula, R 10 represents a 5-membered or 6-membered heterocyclic residue containing one or more nitrogen or oxygen atoms as heteroatoms (the 5-membered or 6-membered heterocyclic residue may form a condensed ring structure with another ring structure).)

ケイ皮酸エステル共重合体(B)は、負の複屈折性を示す。これは前記一般式(2)および前記一般式(3)で示される残基単位を含むことに起因する。 The cinnamate ester copolymer (B) exhibits negative birefringence. This is due to the inclusion of residue units represented by the general formula (2) and the general formula (3).

ここで、複屈折の正負は以下に示すように定義される。
負の複屈折とは延伸方向が進相軸方向となるものであり、正の複屈折とは延伸方向の垂直方向が進相軸方向となるものである。つまり、一軸延伸すると延伸軸と直交する軸方向の屈折率が小さく(進相軸:延伸方向の垂直方向)なるものを正の複屈折を示す樹脂、一軸延伸すると延伸軸方向の屈折率が小さく(進相軸:延伸方向)なるものを負の複屈折を示す樹脂という。そして、ケイ皮酸エステル共重合体(B)における負の複屈折性の発現性が大きいことにより光学補償フィルムの薄膜化が図れる。
Here, the positive and negative birefringence are defined as follows.
Negative birefringence is when the stretching direction is the fast axis direction, and positive birefringence is when the perpendicular direction to the stretching direction is the fast axis direction. In other words, a resin that exhibits positive birefringence when uniaxially stretched has a small refractive index in the direction perpendicular to the stretching axis (fast axis: perpendicular to the stretching direction), and a resin that exhibits negative birefringence when uniaxially stretched has a small refractive index in the direction of the stretching axis (fast axis: stretching direction). The high expression of negative birefringence in the cinnamate ester copolymer (B) allows the optical compensation film to be made thinner.

一般式(2)におけるRとしては、水素原子または炭素数1~12のアルキル基を示す。炭素数1~12のアルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロキル基、n-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、エチルヘキシル基を例示できる。
一般式(2)におけるR~Rとしては、水素原子、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、フェニル基、チオール基、アミノ基、水酸基、炭素数1~12のアルキル基または炭素数1~12のアルコキシ基を示す。
一般式(2)におけるYとしては、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、チオール基を示す。
R4 in the general formula (2) represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an s-butyl group, a t-butyl group, and an ethylhexyl group.
R5 to R9 in general formula (2) each represent a hydrogen atom, a nitro group, a bromo group, an iodo group, a cyano group, a chloro group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a fluoro group, a phenyl group, a thiol group, an amino group, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
Y in the general formula (2) represents a nitro group, a bromo group, an iodo group, a cyano group, a chloro group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a fluoro group, or a thiol group.

具体的な一般式(2)で表される残基単位としては、例えば、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-2,4-ジヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位等のα-シアノ-ヒドロキシケイ皮酸エステル残基単位;α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-2,3-ジカルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-2,3-ジカルボキシケイ皮酸エチル残基単位等のα-シアノ-カルボキシケイ皮酸エステル残基単位;α-シアノ-2-カルボキシ-3-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシ-3-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位等のα-シアノ-カルボキシ-ヒドロキシケイ皮酸エステル残基単位;ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジn-プロピル残基単位、ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位等のヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエステル残基単位;カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、カルボキシベンジリデンマロン酸ジn-プロピル残基単位、カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位等のカルボキシベンジリデンマロン酸ジエステル残基単位;が好ましく、α-シアノ-ヒドロキシケイ皮酸エステル残基単位;α-シアノ-カルボキシケイ皮酸エステル残基単位;カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエステル残基単位、カルボキシベンジリデンマロン酸ジエステル残基単位がさらに好ましい。 Specific examples of the residue unit represented by the general formula (2) include α-cyano-hydroxycinnamic acid ester residue units such as α-cyano-4-hydroxycinnamic acid methyl residue unit, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ethyl residue unit, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ethyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ethyl residue unit, and α-cyano-2,4-dihydroxycinnamic acid methyl residue unit; α-cyano-4-carboxycinnamic acid ester residue units such as α-cyano-4-carboxycinnamic acid methyl residue unit, α-cyano-4-carboxycinnamic acid ethyl residue unit, α-cyano-2,3-dicarboxycinnamic acid methyl residue unit, and α-cyano-2,3-dicarboxycinnamic acid ethyl residue unit; α-cyano-2-carboxy-3-hydroxycinnamic acid methyl residue unit, and α-cyano-2-carboxy-3-hydroxycinnamic acid ethyl residue unit; Acid ester residue units; hydroxybenzylidene malonate diester residue units such as dimethyl hydroxybenzylidene malonate residue units, diethyl hydroxybenzylidene malonate residue units, di-n-propyl hydroxybenzylidene malonate residue units, and diisopropyl hydroxybenzylidene malonate residue units; carboxybenzylidene malonate diester residue units such as dimethyl carboxybenzylidene malonate residue units, diethyl carboxybenzylidene malonate residue units, di-n-propyl carboxybenzylidene malonate residue units, and diisopropyl carboxybenzylidene malonate residue units; are preferred, and α-cyano-hydroxycinnamic acid ester residue units; α-cyano-carboxycinnamic acid ester residue units; carboxybenzal malononitrile residue units, hydroxybenzylidene malonate diester residue units, and carboxybenzylidene malonate diester residue units are even more preferred.

ケイ皮酸エステル共重合体(B)において、一般式(2)で表される残基単位は前記例示における残基単位を1種含んでいてもよく、2種以上の複数種含んでもよい。 In the cinnamic acid ester copolymer (B), the residue unit represented by the general formula (2) may contain one type of the residue unit in the above examples, or may contain two or more types.

一般式(3)におけるR10は、ヘテロ原子として窒素原子もしくは酸素原子を1つ以上含む5員環複素環残基または6員環複素環残基(前記5員環複素環残基および前記6員環複素環残基は他の環状構造と縮合環構造を形成してもよい)を示す。 In general formula (3), R10 represents a 5-membered or 6-membered heterocyclic residue containing one or more nitrogen atoms or oxygen atoms as heteroatoms (the 5-membered or 6-membered heterocyclic residue may form a condensed ring structure with another ring structure).

具体的な一般式(3)で表される残基単位としては、例えば、1-ビニルピロール残基単位、2-ビニルピロール残基単位、1-ビニルインドール残基単位、9-ビニルカルバゾール残基単位、2-ビニルキノリン残基単位、4-ビニルキノリン残基単位、N-ビニルフタルイミド残基単位、N-ビニルスクシンイミド残基単位、2-ビニルフラン残基単位、2-ビニルベンゾフラン残基単位、スチレン残基単位、2-ビニルナフタレン残基単位が好ましく、9-ビニルカルバゾール残基単位、N-ビニルフタルイミド残基単位がさらに好ましい。 Specific examples of the residue unit represented by general formula (3) include 1-vinylpyrrole residue unit, 2-vinylpyrrole residue unit, 1-vinylindole residue unit, 9-vinylcarbazole residue unit, 2-vinylquinoline residue unit, 4-vinylquinoline residue unit, N-vinylphthalimide residue unit, N-vinylsuccinimide residue unit, 2-vinylfuran residue unit, 2-vinylbenzofuran residue unit, styrene residue unit, and 2-vinylnaphthalene residue unit, and more preferably 9-vinylcarbazole residue unit and N-vinylphthalimide residue unit.

ケイ皮酸エステル共重合体(B)において、前記一般式(2)のケイ皮酸エステル残基単位に係る単量体成分は、全単量体成分の合計100mol%に対し21mol%以上50mol%以下を含むことが好ましい。 In the cinnamate ester copolymer (B), the monomer component related to the cinnamate ester residue unit of the general formula (2) preferably comprises 21 mol% or more and 50 mol% or less relative to 100 mol% of the total of all monomer components.

ケイ皮酸エステル共重合体(B)は、前記一般式(2)および(3)以外に、以下の式(4)で表される残基単位を有することが好ましい。 In addition to the general formulas (2) and (3), the cinnamic acid ester copolymer (B) preferably has a residue unit represented by the following formula (4):

(ここで、R11、R12はそれぞれ独立して水素原子、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数3~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~6の環状アルキル基を示す。) (Here, R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms.)

一般式(4)で示される残基単位におけるR11、R12はそれぞれ独立して水素原子、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数3~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~6の環状アルキル基を示す。 In the residue unit represented by formula (4), R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms.

11、R12における炭素数1~12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基等が挙げられる。
11、R12における炭素数1~12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等が挙げられる。
11、R12における炭素数3~6の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms for R 11 and R 12 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, and an n-hexyl group.
Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms for R 11 and R 12 include an isopropyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group.
Examples of the cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms for R 11 and R 12 include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, and a cyclohexyl group.

一般式(4)におけるR11、R12としては、光の波長450nmにおける面内位相差(Re)と光の波長550nmにおける面内位相差(Re)の比Re(450)/Re(550)が良好となることから、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、sec-ペンチル基、3-ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソへキシル基、ネオへキシル基が好ましく、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、イソブチル基がさらに好ましい。 As R 11 and R 12 in general formula (4), a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, an isopentyl group, a sec-pentyl group, a 3-pentyl group, a neopentyl group, a hexyl group, an isohexyl group, or a neohexyl group is preferable, since the ratio Re(450)/Re(550) of the in-plane retardation (Re) at a light wavelength of 450 nm to the in-plane retardation (Re) at a light wavelength of 550 nm is good, and a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, or an isobutyl group is more preferable.

一般式(4)で表される残基単位は、アクリル樹脂残基単位であることが好ましい。一般式(4)で表されるアクリル樹脂残基単位の具体的な例示として、アクリル酸残基単位、メタクリル酸残基単位、2-エチルアクリル酸残基単位、2-プロピルアクリル酸残基単位、2-イソプロピルアクリル酸残基単位、2-ペンチルアクリル酸残基単位、2-ヘキシルアクリル酸残基単位、アクリル酸メチル残基単位、アクリル酸エチル残基単位、アクリル酸n-プロピル残基単位、アクリル酸イソプロピル残基単位、アクリル酸n-ブチル残基単位、アクリル酸イソブチル残基単位、アクリル酸sec-ブチル残基単位、アクリル酸n-ペンチル残基単位、アクリル酸イソペンチル残基単位、アクリル酸sec-ペンチル残基単位、アクリル酸3-ペンチル残基単位、アクリル酸ネオペンチル残基単位、アクリル酸n-へキシル残基単位、アクリル酸イソへキシル残基単位、アクリル酸ネオへキシル残基単位、メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸n-プロピル残基単位、メタクリル酸イソプロピル残基単位、メタクリル酸n-ブチル残基単位、メタクリル酸イソブチル残基単位、メタクリル酸sec-ブチル残基単位、メタクリル酸n-ペンチル残基単位、メタクリル酸イソペンチル残基単位、メタクリル酸sec-ペンチル残基単位、メタクリル酸3-ペンチル残基単位、メタクリル酸ネオペンチル残基単位、メタクリル酸n-へキシル残基単位、メタクリル酸イソへキシル残基単位、メタクリル酸ネオへキシル残基単位、2-エチルアクリル酸メチル残基単位、2-エチルアクリル酸エチル残基単位、2-エチルアクリル酸n-プロピル残基単位、2-エチルアクリル酸イソプロピル残基単位、2-エチルアクリル酸n-ブチル残基単位、2-エチルアクリル酸イソブチル残基単位、2-エチルアクリル酸sec-ブチル残基単位等が挙げられる。 The residue unit represented by the general formula (4) is preferably an acrylic resin residue unit. Specific examples of the acrylic resin residue unit represented by the general formula (4) include an acrylic acid residue unit, a methacrylic acid residue unit, a 2-ethylacrylic acid residue unit, a 2-propylacrylic acid residue unit, a 2-isopropylacrylic acid residue unit, a 2-pentylacrylic acid residue unit, a 2-hexylacrylic acid residue unit, a methyl acrylate residue unit, an ethyl acrylate residue unit, an n-propyl acrylate residue unit, an isopropyl acrylate residue unit, an n-butyl acrylate residue unit, an isobutyl acrylate residue unit, a sec-butyl acrylate residue unit, an n-pentyl acrylate residue unit, an isopentyl acrylate residue unit, a sec-pentyl acrylate residue unit, a 3-pentyl acrylate residue unit, a neopentyl acrylate residue unit, an n-hexyl acrylate residue unit, an isohexyl acrylate residue unit, a neohexyl acrylate residue unit, a methyl methacrylate residue unit, Examples of the methacrylate residue unit include ethyl methacrylate residue unit, n-propyl methacrylate residue unit, isopropyl methacrylate residue unit, n-butyl methacrylate residue unit, isobutyl methacrylate residue unit, sec-butyl methacrylate residue unit, n-pentyl methacrylate residue unit, isopentyl methacrylate residue unit, sec-pentyl methacrylate residue unit, 3-pentyl methacrylate residue unit, neopentyl methacrylate residue unit, n-hexyl methacrylate residue unit, isohexyl methacrylate residue unit, neohexyl methacrylate residue unit, methyl 2-ethylacrylate residue unit, ethyl 2-ethylacrylate residue unit, n-propyl 2-ethylacrylate residue unit, isopropyl 2-ethylacrylate residue unit, n-butyl 2-ethylacrylate residue unit, isobutyl 2-ethylacrylate residue unit, and sec-butyl 2-ethylacrylate residue unit.

このなかでも、光の波長450nmにおける面内位相差(Re)と光の波長550nmにおける面内位相差(Re)の比Re(450)/Re(550)が良好となることから、アクリル酸メチル残基単位、アクリル酸エチル残基単位、アクリル酸n-プロピル残基単位、アクリル酸イソプロピル残基単位、アクリル酸n-ブチル残基単位、アクリル酸イソブチル残基単位、アクリル酸sec-ブチル残基単位、メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸n-プロピル残基単位、メタクリル酸イソプロピル残基単位、メタクリル酸n-ブチル残基単位、メタクリル酸イソブチル残基単位、メタクリル酸sec-ブチル残基単位、メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸n-プロピル残基単位、メタクリル酸イソプロピル残基単位、メタクリル酸n-ブチル残基単位、メタクリル酸イソブチル残基単位、メタクリル酸sec-ブチル残基単位が好ましく、メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸n-プロピル残基単位、メタクリル酸イソプロピル残基単位、メタクリル酸n-ブチル残基単位、メタクリル酸イソブチル残基単位、メタクリル酸sec-ブチル残基単位がさらに好ましい。 Among these, the ratio Re(450)/Re(550) of the in-plane retardation (Re) at a light wavelength of 450 nm to the in-plane retardation (Re) at a light wavelength of 550 nm is favorable, and therefore, methyl acrylate residue units, ethyl acrylate residue units, n-propyl acrylate residue units, isopropyl acrylate residue units, n-butyl acrylate residue units, isobutyl acrylate residue units, sec-butyl acrylate residue units, methyl methacrylate residue units, ethyl methacrylate residue units, n-propyl methacrylate residue units, isopropyl methacrylate residue units, n-butyl methacrylate residue units, methacrylate isobutyl methacrylate residue unit, sec-butyl methacrylate residue unit, methyl methacrylate residue unit, ethyl methacrylate residue unit, n-propyl methacrylate residue unit, isopropyl methacrylate residue unit, n-butyl methacrylate residue unit, isobutyl methacrylate residue unit, and sec-butyl methacrylate residue unit are preferred, and methyl methacrylate residue unit, ethyl methacrylate residue unit, n-propyl methacrylate residue unit, isopropyl methacrylate residue unit, n-butyl methacrylate residue unit, isobutyl methacrylate residue unit, and sec-butyl methacrylate residue unit are more preferred.

ケイ皮酸エステル共重合体(B)は、一般式(2)で表されるケイ皮酸エステル残基単位、一般式(3)で表される残基単位および一般式(4)で表される残基単位を含むことが好ましい。ケイ皮酸エステル共重合体(B)は、良好な相溶性を発現し、異種ポリマーとの複合化を容易にするのにより好適なものとなることから、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エステル-スチレン-アクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エステル-2-ビニルナフタレン-アクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エステル-1-ビニルインドール-アクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エステル-9-ビニルカルバゾール-アクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エステル-スチレン-アクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エステル-2-ビニルナフタレン-アクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エステル-1-ビニルインドール-アクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エステル-9-ビニルカルバゾール-アクリル酸エステル共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸エステル-スチレン-アクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エステル-2-ビニルナフタレン-アクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エステル-1-ビニルインドール-アクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エステル-9-ビニルカルバゾール-アクリル酸エステル共重合体、2-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸エステル-スチレン-メタクリル酸エステル共重合体、2-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸エステル-2-ビニルナフタレン-メタクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エステル-1-ビニルインドール-メタクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エステル-9-ビニルカルバゾール-メタクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エステル-スチレン-メタクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エステル-2-ビニルナフタレン-メタクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エステル-1-ビニルインドール-メタクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エステル-9-ビニルカルバゾール-メタクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エステル-スチレン-メタクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エステル-2-ビニルナフタレン-メタクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エステル-1-ビニルインドール-メタクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エステル-9-ビニルカルバゾール-メタクリル酸エステル共重合体が好ましい。 The cinnamic acid ester copolymer (B) preferably contains a cinnamic acid ester residue unit represented by the general formula (2), a residue unit represented by the general formula (3), and a residue unit represented by the general formula (4). The cinnamic acid ester copolymer (B) exhibits good compatibility and is more suitable for facilitating the formation of a composite with a different polymer, and is therefore preferably an α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-styrene-acrylic acid ester copolymer, an α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene-acrylic acid ester copolymer, an α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-1-vinylindole-acrylic acid ester copolymer, an α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-9-vinylcarbazole-acrylic acid ester copolymer, an α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-styrene-acrylic acid ester copolymer, an α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-3-vinylnaphthalene ... Hydroxycinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-1-vinylindole-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-9-vinylcarbazole-acrylic acid ester copolymer, 4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-styrene-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-1-vinylindole-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-9-vinyl α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-styrene-methacrylic acid ester copolymer, 2-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-1-vinylindole-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-9-vinylcarbazole-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-styrene-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene-methacrylic acid ester Copolymers, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-1-vinyl indole-methacrylic acid ester copolymers, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-9-vinyl carbazole-methacrylic acid ester copolymers, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-styrene-methacrylic acid ester copolymers, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-2-vinyl naphthalene-methacrylic acid ester copolymers, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-1-vinyl indole-methacrylic acid ester copolymers, and α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-9-vinyl carbazole-methacrylic acid ester copolymers are preferred.

ケイ皮酸エステル共重合体(B)は、一般式(2)で表される残基単位、一般式(3)で表される残基単位および一般式(4)で表される残基単位を含んでなることにより、より薄膜においても高い位相差を発現することを特徴とする。 The cinnamate ester copolymer (B) is characterized by having a high retardation even in a thin film because it contains a residue unit represented by general formula (2), a residue unit represented by general formula (3), and a residue unit represented by general formula (4).

ケイ皮酸エステル共重合体(B)において、前記一般式(2)のケイ皮酸エステル残基単位に係る単量体成分は、全単量体成分の合計100mol%に対し21mol%以上50mol%以下を含むことが好ましい。一般式(3)で表される残基単位は全単量体成分の合計100mol%に対し21mol%以上65mol%以下を含むことが好ましい。 In the cinnamate ester copolymer (B), the monomer component related to the cinnamate ester residue unit of the general formula (2) preferably comprises 21 mol% or more and 50 mol% or less relative to the total of 100 mol% of all monomer components. The residue unit represented by the general formula (3) preferably comprises 21 mol% or more and 65 mol% or less relative to the total of 100 mol% of all monomer components.

ケイ皮酸エステル共重合体(B)が式(2)及び式(3)の残基単位を含む場合、式(2)に係る単量体成分は、式(2)と式(3)の合計100mol%に対し21mol%以上70mol%以下含むことが好ましく、35mol%以上60mol%以下含むことが好ましい。 When the cinnamic acid ester copolymer (B) contains residue units of formula (2) and formula (3), the monomer component of formula (2) is preferably contained in an amount of 21 mol% to 70 mol%, and more preferably 35 mol% to 60 mol%, relative to 100 mol% of the total of formula (2) and formula (3).

ケイ皮酸エステル共重合体(B)が式(2)、式(3)及び式(4)の残基単位を含む場合、各残基単位成分の含有量は
式(2) 21mol%以上49mol%以下
式(3) 35mol%以上60mol%以下
式(4) 1mol%以上30mol%以下
であることが好ましい。これにより、本発明の樹脂組成物をフィルムとして使用する際の位相差特性により優れる。
When the cinnamic acid ester copolymer (B) contains the residue units of formula (2), formula (3) and formula (4), the content of each residue unit component is preferably from 21 mol% to 49 mol% (2), from 35 mol% to 60 mol% (3), and from 1 mol% to 30 mol% (4). This provides better retardation properties when the resin composition of the present invention is used as a film.

ここで、共重合体(B)の組成比は、H-NMRにより測定することができる。 Here, the composition ratio of the copolymer (B) can be measured by 1 H-NMR.

ケイ皮酸エステル共重合体(B)は、前記一般式(2)~(4)以外の単量体残基単位を含有してもよい。そのような単量体残基単位としては、例えば、スチレン残基、α-メチルスチレン残基などのスチレン類残基;アクリル酸残基;アクリル酸エステル残基;メタクリル酸残基;メタクリル酸エステル残基;酢酸ビニル残基、プロピオン酸ビニル残基などのビニルエステル類残基;メチルビニルエ-テル残基、エチルビニルエ-テル残基、ブチルビニルエ-テル残基などのビニルエ-テル残基;N-メチルマレイミド残基、N-シクロヘキシルマレイミド残基、N-フェニルマレイミド残基などのN-置換マレイミド残基;アクリロニトリル残基;メタクリロニトリル残基;ケイ皮酸残基;フマル酸エステル残基;フマル酸残基;エチレン残基、プロピレン残基などのオレフィン類残基等の1種または2種以上を挙げることができる。 The cinnamic acid ester copolymer (B) may contain monomer residue units other than those of the general formulae (2) to (4). Examples of such monomer residue units include styrene residues such as styrene residues and α-methylstyrene residues; acrylic acid residues; acrylic acid ester residues; methacrylic acid residues; methacrylic acid ester residues; vinyl ester residues such as vinyl acetate residues and vinyl propionate residues; vinyl ether residues such as methyl vinyl ether residues, ethyl vinyl ether residues and butyl vinyl ether residues; N-substituted maleimide residues such as N-methylmaleimide residues, N-cyclohexylmaleimide residues and N-phenylmaleimide residues; acrylonitrile residues; methacrylonitrile residues; cinnamic acid residues; fumaric acid ester residues; fumaric acid residues; olefin residues such as ethylene residues and propylene residues.

ケイ皮酸エステル共重合体(B)は、特に機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れたものとなることから、ゲル・パ-ミエイション・クロマトグラフィ-(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が1×10~5×10のものであることが好ましく、5×10~3×10であることがさらに好ましい。 The cinnamic acid ester copolymer (B) has particularly excellent mechanical properties and excellent moldability during film formation, and therefore has a number average molecular weight (Mn) of preferably 1×10 3 to 5×10 6 , more preferably 5×10 3 to 3×10 5 , calculated as standard polystyrene, obtained from an elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC).

ケイ皮酸エステル共重合体(B)の製造方法としては、該共重合体が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよく、ラジカル重合を行うことにより製造することができる。 The cinnamic acid ester copolymer (B) may be produced by any method as long as the copolymer is obtained, and can be produced by radical polymerization.

ラジカル重合の方法としては、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれもが採用可能である。 As a radical polymerization method, for example, any of the following methods can be used: bulk polymerization, solution polymerization, suspension polymerization, precipitation polymerization, emulsion polymerization, etc.

本発明の樹脂組成物が含有する酸化防止剤(C)は、その分子量が350以上である。好ましくは酸化防止剤の分子量は500以上である。 The antioxidant (C) contained in the resin composition of the present invention has a molecular weight of 350 or more. Preferably, the molecular weight of the antioxidant is 500 or more.

ここで、本発明の樹脂組成物が酸化防止剤を含有することは、例えば、樹脂組成物のUV-可視吸収スペクトルの測定により判断することができる。 Here, whether the resin composition of the present invention contains an antioxidant can be determined, for example, by measuring the UV-visible absorption spectrum of the resin composition.

酸化防止剤(C)は、ラジカル補足剤、過酸化物分解剤、ラジカル連鎖開始阻害剤として機能するものである。これらは1種または2種以上の混合物を使用することもできる。ラジカル補足剤としては、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、ヒンダードアミン系安定剤が挙げられる。過酸化物分解剤としてはリン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤が挙げられる。ラジカル連鎖開始阻害剤としては金属不活性化剤、紫外線吸収剤、クエンチャーが挙げられる。この中でも特に、着色性が少なく、少量での酸化防止効果が大きいことから、フェノール系酸化防止剤およびフェノール系酸化防止剤とリン酸エステルとの併用が好ましい。 The antioxidant (C) functions as a radical scavenger, a peroxide decomposer, and a radical chain initiation inhibitor. These can be used alone or in a mixture of two or more. Examples of radical scavengers include phenol-based antioxidants, amine-based antioxidants, and hindered amine-based stabilizers. Examples of peroxide decomposers include phosphorus-based antioxidants and sulfur-based antioxidants. Examples of radical chain initiation inhibitors include metal deactivators, ultraviolet absorbers, and quenchers. Among these, phenol-based antioxidants and the combination of phenol-based antioxidants with phosphate esters are particularly preferred because they are less coloring and have a large antioxidant effect even in small amounts.

本発明において、フェノール系酸化防止剤としては、フェノール基を有する分子量350以上の化合物であり、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、セミヒンダード系酸化防止剤、レスヒンダード系酸化防止剤が挙げられる。ヒンダードフェノール系酸化防止剤としてはオクタデシル-3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)-プロピオネート、ペンタエリトリトールテトラキス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオナート]、1,3,5-トリス[[3,5-ビス(1,1-ジメチルエチル)-4-ヒドロキシフェニル]メチル]-1,3,5-トリアジン-2,4,6(1H,3H,5H)-トリオン等が市販品として入手可能である。セミヒンダード系酸化防止剤としてはビス[3-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオン酸][エチレンビス(オキシエチレン)]、3,9-ビス{2-[3-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオニルオキシ]-1,1-ジメチルエチル}-2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン等が挙げられる。レスヒンダードフェノールとしては1,1,3-トリス(2-メチル-4-ヒドロキシ-5-tert-ブチルフェニル)ブタン等が挙げられる。この中でも特に着色性が少なく、少量での酸化防止効果が大きいことからビス[3-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオン酸][エチレンビス(オキシエチレン)]、オクタデシル-3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)-プロピオネート、ペンタエリトリトールテトラキス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオナート)が好ましい。 In the present invention, the phenolic antioxidant is a compound having a phenol group and a molecular weight of 350 or more, such as a hindered phenolic antioxidant, a semi-hindered antioxidant, and a less hindered antioxidant. Examples of the hindered phenolic antioxidant include octadecyl-3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)-propionate, pentaerythritol tetrakis[3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], and 1,3,5-tris[[3,5-bis(1,1-dimethylethyl)-4-hydroxyphenyl]methyl]-1,3,5-triazine-2,4,6(1H,3H,5H)-trione, which are commercially available. Examples of semi-hindered antioxidants include bis[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propionic acid][ethylenebis(oxyethylene)], 3,9-bis{2-[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propionyloxy]-1,1-dimethylethyl}-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecane, etc. Examples of unhindered phenols include 1,1,3-tris(2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl)butane, etc. Among these, bis[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propionic acid][ethylene bis(oxyethylene)], octadecyl-3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)-propionate, and pentaerythritol tetrakis[3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate] are preferred because they are less likely to be colored and have a large antioxidant effect even in small amounts.

本発明において、リン系酸化防止剤としては、亜リン酸エステル基を有する分子量350以上の化合物であれば特に制限はなく、例えば、亜りん酸トリス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)、3,9-ビス(オクタデシルオキシ)-2,4,8,10-テトラオキサ-3,9-ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9-ビス(2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノキシ)-2,4,8,10-テトラオキサ-3,9-ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、2,2’-メチレンビス(4,6-ジ-tert-ブチル-フェニル)-2-エチルヘキシルホスファイト、テトラキス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)-4,4’-ビフェニルジホスホナイト等が挙げられる。この中でも特に加水分解の比較的少ない3,9-ビス(2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノキシ)-2,4,8,10-テトラオキサ-3,9-ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、亜りん酸トリス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)、テトラキス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)-4,4’-ビフェニルジホスホナイトが好ましい。 In the present invention, the phosphorus-based antioxidant is not particularly limited as long as it is a compound having a phosphite ester group and a molecular weight of 350 or more, and examples thereof include tris(2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, 3,9-bis(octadecyloxy)-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane, 3,9-bis(2,6-di-tert-butyl-4-methylphenoxy)-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane, 2,2'-methylenebis(4,6-di-tert-butyl-phenyl)-2-ethylhexyl phosphite, and tetrakis(2,4-di-tert-butylphenyl)-4,4'-biphenyl diphosphonite. Among these, 3,9-bis(2,6-di-tert-butyl-4-methylphenoxy)-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane, tris(2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, and tetrakis(2,4-di-tert-butylphenyl)-4,4'-biphenyl diphosphonite are particularly preferred, as they are relatively less prone to hydrolysis.

本発明において、ヒンダードアミン系安定剤としては、2,2,6,6-テトラメチルピペリジン構造を有する分子量350以上の化合物であれば特に制限はなく、セバシン酸ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)、セバシン酸1-メチル10-(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)、コハク酸ジメチル・1-(2-ヒドロキシエチル)-4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジン重合体、セバシン酸ビス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)、[6-[(1,1,3,3-テトラメチルブチル)アミノ]-1,3,5-トリアジン-2,4-ジイル][(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジニル)イミノ]-1,6-ヘキサンジイル(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジニル)イミノ]重合体、ビス(1-ウンデカノキシ-2,2,6,6-テトラメチルピぺリジン-4-イル)カーボネート、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸テトラキス(1,2,2,6,6-ペンタメチルピペリジン-4-イル)、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸テトラキス(2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-4-イル)等が挙げられる。ヒンダードアミン系安定剤の中で、相溶性・着色性が少ないことからセバシン酸ビス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)、ビス(1-ウンデカノキシ-2,2,6,6-テトラメチルピぺリジン-4-イル)カーボネートが好ましい。 In the present invention, the hindered amine stabilizer is not particularly limited as long as it is a compound having a molecular weight of 350 or more and has a 2,2,6,6-tetramethylpiperidine structure, and examples thereof include bis(1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, 1-methyl 10-(1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, dimethyl succinate/1-(2-hydroxyethyl)-4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidine polymer, bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, [6-[(1,1,3,3-tetramethylbutoxy) 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl)imino]-1,3,5-triazine-2,4-diyl] [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl)imino]-1,6-hexanediyl(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl)imino] polymer, bis(1-undecanoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)carbonate, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid tetrakis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl), 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid tetrakis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl), and the like. Among the hindered amine stabilizers, bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate and bis(1-undecanoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) carbonate are preferred due to their low compatibility and coloring.

本発明において、硫黄系酸化防止剤としては、チオエーテル基を有する分子量350以上の化合物であれば特に制限はなく、ビス[3-(ドデシルチオ)プロピオン酸]2,2-ビス[[3-(ドデシルチオ)-1-オキソプロピルオキシ]メチル]-1,3-プロパンジイル、3,3'-チオビスプロピオン酸ジトリデシル、ジステアリルチオジプロピオネート等が挙げられる。 In the present invention, the sulfur-based antioxidant is not particularly limited as long as it is a compound having a thioether group and a molecular weight of 350 or more, and examples thereof include 2,2-bis[[3-(dodecylthio)propionic acid]-1,3-propanediyl, ditridecyl 3,3'-thiobispropionate, and distearyl thiodipropionate.

本発明において、アミン系酸化防止剤としては、芳香族アミンまたはヒドロキシアミン構造を有する分子量350以上の化合物であれば特に制限はなく、ビス(オクタデシル)ヒドロキシルアミン、4,4'-ビス(α,α-ジメチルベンジル)ジフェニルアミン、ジ(4-オクチルフェニル)アミン等が挙げられる。 In the present invention, the amine-based antioxidant is not particularly limited as long as it is a compound having an aromatic amine or hydroxylamine structure and a molecular weight of 350 or more, and examples of such an antioxidant include bis(octadecyl)hydroxylamine, 4,4'-bis(α,α-dimethylbenzyl)diphenylamine, and di(4-octylphenyl)amine.

本発明において、紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール構造、トリアジン構造、ベンゾフェノン構造、シアノアクリレート構造、サリシレート構造のいずれかを有する分子量350以上の化合物であれば特に制限はなく、2,2'-メチレンビス[6-(ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-tert-オクチルフェノール]、2-(4,6-ジフェニル-1,3,5-トリアジン-2-イル)-5-(ヘキシルオキシ)フェノール、2-ビス{[(2-シアノ-3,3-ジフェニルアクリロイル)オキシ]メチル}プロパン-1,3-ジイル-ビス(2-シアノ-3,3-ジフェニルアクリラート)等が挙げられる。 In the present invention, the ultraviolet absorber is not particularly limited as long as it is a compound having a molecular weight of 350 or more and has a benzotriazole structure, triazine structure, benzophenone structure, cyanoacrylate structure, or salicylate structure, and examples thereof include 2,2'-methylenebis[6-(benzotriazol-2-yl)-4-tert-octylphenol], 2-(4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)-5-(hexyloxy)phenol, and 2-bis{[(2-cyano-3,3-diphenylacryloyl)oxy]methyl}propane-1,3-diyl-bis(2-cyano-3,3-diphenylacrylate).

本発明において、金属不活性化剤としては、シュウ酸誘導体、サリチル酸誘導体、ヒドラジド誘導体など、金属イオン等をキレート化して無害化する分子量350以上の化合物であれば特に制限はない。 In the present invention, the metal deactivator is not particularly limited as long as it is a compound with a molecular weight of 350 or more that chelates and detoxifies metal ions, such as oxalic acid derivatives, salicylic acid derivatives, and hydrazide derivatives.

本発明において、クエンチャーとしては、Ni等のキレート構造を有する分子量350以上の化合物であれば特に制限はない。 In the present invention, the quencher is not particularly limited as long as it is a compound having a chelate structure such as Ni and a molecular weight of 350 or more.

本発明の樹脂組成物は、一般式(1)で示されるセルロ-ス樹脂(A)を50重量%以上98.99重量%以下、一般式(2)で示されるケイ皮酸エステル残基単位および一般式(3)で示される残基単位を含むケイ皮酸エステル系樹脂共重合体(B)を1重量%以上49.99重量%以下、分子量が350以上である酸化防止剤(C)を0.01重量%以上5.0重量%以下とを含有する。(C)の含有量が0.01重量%よりも少ないと酸化防止の効果が小さく、5.0重量%よりも多いとブリードおよびブルームや、フィルムの光学特性の安定性低下の要因となる。より好適には(A)を50重量%以上98.98重量%以下、(B)を1重量%以上49.98重量%以下、分子量が350以上である酸化防止剤(C)を0.04重量%以上1.0重量%以下とを含有する。ここで、組成物の比率は(A)~(C)の総量を100重量%とするものである。 The resin composition of the present invention contains 50% by weight or more and 98.99% by weight or less of cellulose resin (A) represented by general formula (1), 1% by weight or more and 49.99% by weight or less of cinnamic acid ester resin copolymer (B) containing cinnamic acid ester residue units represented by general formula (2) and residue units represented by general formula (3), and 0.01% by weight or more and 5.0% by weight or less of antioxidant (C) having a molecular weight of 350 or more. If the content of (C) is less than 0.01% by weight, the antioxidant effect is small, and if it is more than 5.0% by weight, it causes bleeding and blooming, and a decrease in the stability of the optical properties of the film. More preferably, it contains 50% by weight or more and 98.98% by weight or less of (A), 1% by weight or more and 49.98% by weight or less of (B), and 0.04% by weight or more and 1.0% by weight or less of antioxidant (C) having a molecular weight of 350 or more. Here, the composition ratio is 100% by weight of the total amount of (A) to (C).

本発明の樹脂組成物は、(A)~(C)以外に添加剤を含むことができる。その場合、該添加剤の重量比率は、(A)~(C)の総量を100重量%または100重量部に対する値として示せばよい。 The resin composition of the present invention may contain additives other than (A) to (C). In that case, the weight ratio of the additive may be expressed as a value relative to the total amount of (A) to (C) being 100% by weight or 100 parts by weight.

セルロース樹脂(A)、ケイ皮酸エステル共重合体(B)及び酸化防止剤(C)のブレンドの方法としては、溶融ブレンド、溶液ブレンド等の方法を用いることができる。溶融ブレンド法とは、加熱により樹脂と酸化防止剤を溶融させて混練することにより製造する方法である。溶液ブレンド法とは樹脂と酸化防止剤を溶剤に溶解しブレンドする方法である。溶液ブレンドに用いる溶剤としては、樹脂や酸化防止剤等を溶解できる溶剤であればいかなる溶剤であっても構わないが、製膜工程にて、残溶剤が残りにくい様、溶剤の沸点は200℃以下が好ましく、170℃以下がより好ましい。 The cellulose resin (A), cinnamic acid ester copolymer (B) and antioxidant (C) can be blended by melt blending, solution blending or the like. The melt blending method is a method of manufacturing by melting the resin and antioxidant by heating and kneading them. The solution blending method is a method of dissolving the resin and antioxidant in a solvent and blending them. The solvent used for solution blending may be any solvent that can dissolve the resin, antioxidant, etc., but the boiling point of the solvent is preferably 200°C or less, more preferably 170°C or less, so that residual solvent is less likely to remain in the film formation process.

該溶剤としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類;フェノール、クロロフェノールなどのフェノール類; ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、メシチレン、ジメトキシベンゼンなどの芳香族炭化水素類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ キサノン、シクロペンタノン、2-ピロリドン、N-メチル-2-ピロリドンなどのケトン系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒;t-ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、2-メチル-2,4-ペンタンジオールのようなアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒;アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル系溶媒;ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル系溶媒;二硫化炭素、エチルセロソルブ、ブチルセルソルブなどを単独または混合した溶媒が挙げられる。 Examples of the solvent include halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, dichloroethane, tetrachloroethane, trichloroethylene, tetrachloroethylene, chlorobenzene, and dichlorobenzene; phenols such as phenol and chlorophenol; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, methoxybenzene, mesitylene, and dimethoxybenzene; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexane, and the like. These include ketone solvents such as xanone, cyclopentanone, 2-pyrrolidone, and N-methyl-2-pyrrolidone; ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; alcohol solvents such as t-butyl alcohol, glycerin, ethylene glycol, triethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol, dipropylene glycol, and 2-methyl-2,4-pentanediol; amide solvents such as dimethylformamide and dimethylacetamide; nitrile solvents such as acetonitrile and butyronitrile; ether solvents such as diethyl ether, dibutyl ether, and tetrahydrofuran; and carbon disulfide, ethyl cellosolve, and butyl cellosolve, used alone or in mixture.

本発明の樹脂組成物を用いたフィルムの製造方法としては、如何なる方法を用いてもよいが、溶液キャスト法により製造することが好ましい。ここで、溶液キャスト法とは、樹脂溶液(一般にはド-プと称する。)を支持基材上に流延した後、加熱することにより溶媒を蒸発させてフィルムを得る方法である。塗工方法は特に制限されず、通常の方法を採用できる。例えば、Tダイ法、ドクタ-ブレ-ド法、バ-コ-タ-法、スロットダイ法、リップコ-タ-法、リバースグラビアコート法、マイクログラビア法、スピンコート法、刷毛塗り法、ロールコート法、フレキソ印刷法などがあげられる。また、用いられる支持基材としては、特に制限はないが、例えばポリエステルやポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエチレンやポリプロピレン、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニリデン、トリアセチルセルロースやポリビニルアルコール、ポリイミドやポリアリレート、ポリスルホンやポリエーテルスルホン、エポキシ系樹脂等からなる高分子基材、ガラス板や石英基板などのガラス基材、アルミやステンレスやフェロタイプ等の金属基材、セラミックス基板などの無機基材等が挙げられる。上記基材として好ましくは、高分子基材または金属基材である。 Any method may be used as a method for producing a film using the resin composition of the present invention, but it is preferable to produce the film by a solution casting method. Here, the solution casting method is a method in which a resin solution (generally called a dope) is cast onto a support substrate, and then the solvent is evaporated by heating to obtain a film. The coating method is not particularly limited, and a normal method can be used. For example, the T-die method, doctor blade method, bar coater method, slot die method, lip coater method, reverse gravure coat method, microgravure method, spin coat method, brush coating method, roll coat method, flexographic printing method, etc. are included. In addition, the support substrate to be used is not particularly limited, and examples thereof include polymer substrates made of polyester, polycarbonate, polystyrene, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, triacetyl cellulose, polyvinyl alcohol, polyimide, polyarylate, polysulfone, polyether sulfone, epoxy resin, etc., glass substrates such as glass plates and quartz substrates, metal substrates such as aluminum, stainless steel, and ferrotype, and inorganic substrates such as ceramic substrates. The substrate is preferably a polymer substrate or a metal substrate.

本発明のフィルムは、透明性に優れることから、光学フィルムとして好適に用いることができる。 The film of the present invention has excellent transparency and can be suitably used as an optical film.

本発明の樹脂組成物を用いた光学フィルムを製造する際の樹脂溶液の粘度は、各成分の分子量、濃度、溶媒の種類で調整可能である。樹脂溶液の粘度としては特に制限はないが、フィルム塗工性をより容易にするため、好ましくは100~30000cps、さらに好ましくは300~20000cps、特に好ましくは500~15000cpsである。 The viscosity of the resin solution when manufacturing an optical film using the resin composition of the present invention can be adjusted by the molecular weight and concentration of each component and the type of solvent. There are no particular limitations on the viscosity of the resin solution, but in order to facilitate easier film coating, it is preferably 100 to 30,000 cps, more preferably 300 to 20,000 cps, and particularly preferably 500 to 15,000 cps.

塗工溶液の乾燥工程における乾燥方法は特に制限されず、通常の加熱手段を採用できる。例えば、熱風器、加熱ロール、遠赤外線ヒーター等があげられる。 There are no particular limitations on the drying method used in the drying process of the coating solution, and any conventional heating means can be used. Examples include a hot air blower, a heating roll, and a far-infrared heater.

本発明の樹脂組成物を用いたフィルムの製造方法では、乾燥温度が1段のみの条件でも構わないし、外観保持や乾燥時間短縮のため、1段階目に低温で乾燥し、2段階目以降に高温で乾燥するような多段階乾燥でも構わない。 In the method for producing a film using the resin composition of the present invention, the drying temperature may be in a single stage, or in order to maintain the appearance and shorten the drying time, multi-stage drying may be used, in which the first stage is dried at a low temperature and the second and subsequent stages are dried at a high temperature.

本発明において、ドープに対するセルロース樹脂(A)、ケイ皮酸エステル共重合体(B)および酸化防止剤(C)の濃度は、溶解、製膜が可能な限り特に限定されない。セルロース樹脂(A)、ケイ皮酸エステル共重合体(B)および酸化防止剤(C)の溶解を実施する方法は、溶解する段階で所定の濃度になるように実施してもよく、また予め低濃度溶液として作製した後に濃縮工程で所定の高濃度溶液に調整してもよい。さらに、予めセルロース樹脂(A)及びケイ皮酸エステル共重合体(B)の高濃度の樹脂溶液とした後に、酸化防止剤や種々の添加物を添加することで所定の低濃度の樹脂溶液としてもよい。 In the present invention, the concentrations of the cellulose resin (A), the cinnamic acid ester copolymer (B) and the antioxidant (C) in the dope are not particularly limited as long as dissolution and film formation are possible. The method of dissolving the cellulose resin (A), the cinnamic acid ester copolymer (B) and the antioxidant (C) may be carried out so that the desired concentration is reached at the dissolution stage, or a low-concentration solution may be prepared in advance and then adjusted to a desired high-concentration solution in a concentration process. Furthermore, a high-concentration resin solution of the cellulose resin (A) and the cinnamic acid ester copolymer (B) may be prepared in advance, and then an antioxidant and various additives may be added to prepare a resin solution of a desired low concentration.

本発明の光学フィルムは、位相差特性に優れることから、光学補償フィルムとして好適に用いることができる。 The optical film of the present invention has excellent retardation characteristics and can therefore be suitably used as an optical compensation film.

本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムの製造方法は、レターデーションを発現する方法として特に制約はない。光学補償フィルムを延伸する方法としては、ロール延伸による縦一軸延伸法やテンター延伸による横一軸延伸法や斜め延伸法、これらの組み合わせによるアンバランス逐次二軸延伸法やアンバランス同時二軸延伸法等を用いることができる。 The method for producing an optical compensation film using the resin composition of the present invention is not particularly limited as a method for expressing retardation. As a method for stretching the optical compensation film, a longitudinal uniaxial stretching method using roll stretching, a transverse uniaxial stretching method or an oblique stretching method using tenter stretching, or an unbalanced sequential biaxial stretching method or an unbalanced simultaneous biaxial stretching method that combines these methods can be used.

延伸する前の未延伸フィルムの厚みは、延伸処理のし易さおよび光学部材の薄膜化への適合性の観点から、5~200μmが好ましく、5~150μmがさらに好ましく、5~100μmが特に好ましい。 From the viewpoints of ease of stretching and suitability for thinning optical components, the thickness of the unstretched film before stretching is preferably 5 to 200 μm, more preferably 5 to 150 μm, and particularly preferably 5 to 100 μm.

また、延伸後の光学補償フィルムの厚みは、画像表示装置の薄型化のため、5~100μmが好ましく、5~60μmがさらに好ましい。 In addition, the thickness of the optical compensation film after stretching is preferably 5 to 100 μm, and more preferably 5 to 60 μm, in order to reduce the thickness of the image display device.

延伸の温度は特に制限はないが、良好な位相差特性が得られることから、好ましくは50~200℃、さらに好ましくは100~200℃である。延伸の延伸倍率は特に制限はないが、良好な位相差特性が得られることから、1.05~4.0倍が好ましく、1.1~3.5倍がさらに好ましい。延伸温度、延伸倍率によりレターデーションを制御することができる。 The stretching temperature is not particularly limited, but is preferably 50 to 200°C, more preferably 100 to 200°C, since good retardation properties are obtained. The stretching ratio is not particularly limited, but is preferably 1.05 to 4.0 times, more preferably 1.1 to 3.5 times, since good retardation properties are obtained. The retardation can be controlled by the stretching temperature and stretching ratio.

本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムにおいては、セルロース樹脂(A)の含有率、含有するセルロース樹脂(A)のDS、置換基の2位、3位、及び6位の置換度分布、並びに延伸倍率によってレターデーションを調整することができる。 In the optical compensation film using the resin composition of the present invention, the retardation can be adjusted by the content of cellulose resin (A), the DS of the cellulose resin (A) contained, the substitution degree distribution at the 2nd, 3rd, and 6th positions of the substituent, and the stretching ratio.

本発明の樹脂組成物を用いたフィルムは、光学補償フィルムとして用いるのに好適であり、該光学補償フィルムは、優れた位相差特性および優れた波長分散特性を有することを特徴とする。 A film using the resin composition of the present invention is suitable for use as an optical compensation film, which is characterized by having excellent retardation properties and excellent wavelength dispersion properties.

本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムの位相差特性は、目的とする光学補償フィルムにより異なるものであり、例えば、下記式(5)で示されるレタ-デ-ション(Re)が好ましくは50~300nm、さらに好ましくは100~300nm、特に好ましくは120~280nmであって、下記式(6)で示されるNz係数が好ましくは0.3~1.0、さらに好ましくは0.4~0.8であるもの等が挙げられる。このときの位相差特性は全自動複屈折計(王子計測機器株式会社製、商品名KOBRA-21ADH)を用い、測定波長589nmの条件で測定されるものである。 The phase difference characteristics of the optical compensation film using the resin composition of the present invention vary depending on the intended optical compensation film, and examples thereof include those in which the retardation (Re) shown in the following formula (5) is preferably 50 to 300 nm, more preferably 100 to 300 nm, and particularly preferably 120 to 280 nm, and the Nz coefficient shown in the following formula (6) is preferably 0.3 to 1.0, and more preferably 0.4 to 0.8. The phase difference characteristics are measured using a fully automatic birefringence meter (manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd., product name KOBRA-21ADH) at a measurement wavelength of 589 nm.

これらは、従来のセルロ-ス系樹脂からなる光学補償フィルムでは発現が困難な位相差特性を有している。
Re=(ny-nx)×d (5)
Nz=(ny-nz)/(ny-nx) (6)
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (7)
(式中、nxはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、nyはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、nzはフィルム面外の屈折率を示し、dはフィルム厚みを示す。)
These films have retardation properties that are difficult to achieve with conventional optical compensation films made of cellulose-based resins.
Re=(ny-nx)×d (5)
Nz=(ny-nz)/(ny-nx) (6)
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (7)
(In the formula, nx represents the refractive index in the fast axis direction in the film plane, ny represents the refractive index in the slow axis direction in the film plane, nz represents the refractive index outside the film plane, and d represents the film thickness.)

本発明の光学フィルムの位相差特性としては、円偏光板用位相差フィルムおよびIPS液晶用位相差フィルムに好適なため、測定波長589nmのレタ-デ-ション(Re)は30nm以上300nm以下が好ましく、65nm以上300nm以下がより好ましく、130nm以上300nm以下が更に好ましい。 The retardation properties of the optical film of the present invention are suitable for use as a retardation film for circular polarizers and IPS liquid crystals, so the retardation (Re) at a measurement wavelength of 589 nm is preferably 30 nm or more and 300 nm or less, more preferably 65 nm or more and 300 nm or less, and even more preferably 130 nm or more and 300 nm or less.

本発明の光学フィルムの位相差特性としては、円偏光板用位相差フィルムおよびIPS液晶用位相差フィルムに好適なため、測定波長589nmのNz係数は0.3以上1.5以下が好ましく、0.4以上1.1以下がより好ましい。 The retardation properties of the optical film of the present invention are suitable for use as a retardation film for circular polarizers and IPS liquid crystals, so the Nz coefficient at a measurement wavelength of 589 nm is preferably 0.3 to 1.5, more preferably 0.4 to 1.1.

本発明の光学フィルムの波長分散特性としては、色ずれ抑制のため、好ましくは0.60<Re(450)/Re(550)<1.05であり、さらに好ましくは0.70<Re(450)/Re(550)<1.02であり、特に好ましくは0.75<Re(450)/Re(550)<1.00である。 The wavelength dispersion characteristics of the optical film of the present invention are preferably 0.60<Re(450)/Re(550)<1.05, more preferably 0.70<Re(450)/Re(550)<1.02, and particularly preferably 0.75<Re(450)/Re(550)<1.00, in order to suppress color shift.

本発明のセルロ-ス系樹脂を使用した場合、単独では、低波長分散の光学フィルムを提供することができる。このフィルムに、延伸方向に対して負の複屈折性を示すエステル系樹脂をブレンドした樹脂組成物は、一般的に逆波長分散性を示す光学フィルムを提供することができるものである。 When the cellulose-based resin of the present invention is used alone, it is possible to provide an optical film with low wavelength dispersion. A resin composition obtained by blending this film with an ester-based resin that exhibits negative birefringence in the stretching direction can generally provide an optical film that exhibits reverse wavelength dispersion.

これらの位相差特性および波長分散特性を同時に満足することは、一般にセルロ-ス系樹脂を用いた光学補償フィルムでは発現が困難であるが、本発明に係る光学補償フィルムはこれらの特性を同時に満足するものである。 It is generally difficult for optical compensation films using cellulose-based resins to simultaneously satisfy these retardation characteristics and wavelength dispersion characteristics, but the optical compensation film of the present invention satisfies both of these characteristics simultaneously.

本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、フィルムの取扱い性及び光学部材の薄膜化への適合性の観点から、厚みが5~200μmであることが好ましく、10~100μmがさらに好ましく、20~80μmが特に好ましく、10~60μmがもっとも好ましい。 From the viewpoints of film handling and suitability for thinning optical components, the optical compensation film using the resin composition of the present invention preferably has a thickness of 5 to 200 μm, more preferably 10 to 100 μm, particularly preferably 20 to 80 μm, and most preferably 10 to 60 μm.

本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、画像表示装置とした際の色調の変化をさけるため、フィルムにしたときのYIが好ましくは1.7以下、さらに好ましくは1.5以下、より好ましくは1.0以下である。ここでYIは、JIS-K 7373に準拠し、光源としてC光源のハロゲンランプを用い、視野 2°で測定した値を採用した。樹脂組成物により構成されたフィルムの厚さは30μmで測定を行った。 In order to avoid changes in color tone when used in an image display device, the optical compensation film using the resin composition of the present invention has a YI of preferably 1.7 or less, more preferably 1.5 or less, and even more preferably 1.0 or less when made into a film. Here, the YI was measured in accordance with JIS-K 7373 using a halogen lamp with a C light source as the light source and with a field of view of 2°. The thickness of the film made of the resin composition was measured at 30 μm.

本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、高温の環境における画面表示装置の色調変化をさけ、色調を維持するため、85℃環境下500時間後におけるYIが1.5以下であることがさらに好ましい。 In order to avoid color tone changes in the screen display device in a high-temperature environment and to maintain the color tone, it is further preferable that the optical compensation film using the resin composition of the present invention has a YI of 1.5 or less after 500 hours in an 85°C environment.

本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、画像表示装置の光量低下を避けるため、フィルムにしたときの透過率が好ましくは85%以上、さらに好ましくは90%以上である。ここで光線透過率は全光線透過率を表し、JIS K 7361-1(1997版)に準拠し、白色光源を用い、波長380nmから780nmで測定した値を採用した。樹脂組成物により構成されたフィルムの厚さは30μmで測定を行った。 In order to avoid a decrease in the amount of light in an image display device, the optical compensation film using the resin composition of the present invention preferably has a transmittance of 85% or more, and more preferably 90% or more when made into a film. Here, the light transmittance represents the total light transmittance, and is measured in accordance with JIS K 7361-1 (1997 edition) using a white light source at wavelengths of 380 nm to 780 nm. The thickness of the film made of the resin composition was measured at 30 μm.

本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、ヘーズが好ましくは3.0%以下、さらに好ましくは1.5%以下である。前記範囲にヘーズを制御することにより、位相差フィルムとして表示装置に組み込んだ際に高コントラストの画像が得られる。ここでヘーズは、JIS-K 7136(2000年版)に準拠し、白色光源を用い、波長380nmから780nmで測定した値を採用した。樹脂組成物により構成されたフィルムの厚さは30μmで測定を行った。 The optical compensation film using the resin composition of the present invention preferably has a haze of 3.0% or less, more preferably 1.5% or less. By controlling the haze within the above range, a high-contrast image can be obtained when the film is incorporated into a display device as a retardation film. The haze used here is a value measured using a white light source at wavelengths of 380 nm to 780 nm in accordance with JIS-K 7136 (2000 edition). The film made of the resin composition was measured at a thickness of 30 μm.

本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、高温の環境における画面表示装置の光量低下をさけ、高コントラストの画像を維持するため、85℃環境下500時間後におけるヘーズが3%以下であり、透過率が85%以上であることが好ましく、90%であることがさらに好ましい。 In order to avoid a decrease in the amount of light of a screen display device in a high-temperature environment and to maintain a high-contrast image, the optical compensation film using the resin composition of the present invention has a haze of 3% or less after 500 hours in an 85°C environment and a transmittance of preferably 85% or more, and more preferably 90%.

本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、85℃環境下500時間の高温処理後の黄色度YIの変化量が1.0未満であることが好ましい。ここで、黄色度YIの変化量とは、(高温処理後のYI)-(高温処理前のYI)で表すことができる。 The optical compensation film using the resin composition of the present invention preferably has a change in yellowness index YI of less than 1.0 after high-temperature treatment for 500 hours in an 85°C environment. Here, the change in yellowness index YI can be expressed as (YI after high-temperature treatment) - (YI before high-temperature treatment).

本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、85℃環境下500時間の高温処理後のヘーズの変化量が2.0%未満であることが好ましい。ここで、ヘーズの変化量とは、(高温処理後のヘーズ)-(高温処理前のヘーズ)で表すことができる。 The optical compensation film using the resin composition of the present invention preferably has a haze change of less than 2.0% after high-temperature treatment for 500 hours in an 85°C environment. Here, the haze change can be expressed as (haze after high-temperature treatment) - (haze before high-temperature treatment).

本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、必要に応じて他樹脂を含むフィルムと積層することができる。他樹脂としては、例えば、ポリエーテルサルフォン、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリナフタレンテレフタレート、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン、マレイミド系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド等が挙げられる。また、液晶層やハードコート層、ガスバリア層、屈折率を制御した層(低反射層)を積層することも可能である。 The optical compensation film using the resin composition of the present invention can be laminated with a film containing other resins as necessary. Examples of other resins include polyethersulfone, polyarylate, polyethylene terephthalate, polynaphthalene terephthalate, polycarbonate, cyclic polyolefin, maleimide resin, fluorine resin, polyimide, etc. It is also possible to laminate a liquid crystal layer, a hard coat layer, a gas barrier layer, or a layer with a controlled refractive index (low reflection layer).

本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、液晶表示装置用、有機EL表示装置用等の用途に用いられる偏光板において、好適に用いられる。また、該偏光板は画像表示装置として好適に用いられる。 The optical compensation film using the resin composition of the present invention is preferably used in a polarizing plate for applications such as liquid crystal display devices and organic EL display devices. The polarizing plate is also preferably used as an image display device.

本発明の樹脂組成物およびそれを用いたフィルムは位相差特性および波長分散性に優れるため、偏光板、液晶表示装置、有機EL表示装置等に好適に用いることができ、優れた表示性能および高温高湿下における高い安定性を発揮することができる。 The resin composition of the present invention and the film using the same have excellent retardation properties and wavelength dispersion, and therefore can be suitably used in polarizing plates, liquid crystal displays, organic EL displays, etc., and can exhibit excellent display performance and high stability under high temperature and high humidity conditions.

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。
<位相差特性の測定>
全自動複屈折計(王子計測機器株式会社製、商品名KOBRA-21ADH)を用いて波長589nmの光を用いて位相差フィルムの位相差特性(Re及びNz係数)を測定した。
<全光線透過率およびヘーズの測定>
作成したフィルムの全光線透過率およびヘーズは、ヘーズメーター(日本電色工業製、商品名:NDH5000、光源:白色LED(5V3W、波長域380nmから780nm、全光線透過率およびヘーズ値はこの範囲の総和値))を使用し、全光線透過率の測定はJIS K 7361-1(1997版)に、ヘーズの測定はJIS-K 7136(2000年版)に、それぞれ準拠して測定した。
<黄色度YIの測定>
作成したフィルムの黄色度YIは、分光色彩計(日本電色工業製、商品名:SD-5000、光源:C光源ハロゲンランプ(12V50W、)、視野:2°)を使用し、JIS-K 7373に準拠して測定した。
<耐熱試験>
ギヤーオーブン(東洋精機製作所製、商品名:STD60P)(置換率3回/min)を用いて85℃の高温環境下とし、500時間後のヘーズと全光線透過率とYIと分子量変化を調べることで耐熱性の測定をした。
分子量変化は、高温環境を曝す前後のフィルムに対して、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)測定を行い、得られた標準ポリスチレン換算の重量平均分子量の差分を変化率とした。ここで、重量平均分子量はフィルムの含有する個々の成分ではなく、組成物そのものに対してGPC測定を行い、得られた測定データを用いた。
<位相差及び波長分散性>
位相差及び波長分散性は、延伸後の光学補償フィルムに対して、全自動複屈折計(王子計測機器株式会社製、商品名KOBRA-21ADH、光源:ハロゲンランプ(12V100W))を用い、測定波長550nm及び450nmの条件でR450/R550を測定した。
The physical properties shown in the examples were measured by the following methods.
<Measurement of Phase Difference Characteristics>
The retardation properties (Re and Nz coefficients) of the retardation film were measured using a fully automatic birefringence meter (manufactured by Oji Scientific Instruments, trade name KOBRA-21ADH) with light having a wavelength of 589 nm.
<Measurement of total light transmittance and haze>
The total light transmittance and haze of the prepared film were measured using a haze meter (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., product name: NDH5000, light source: white LED (5V3W, wavelength range 380 nm to 780 nm, total light transmittance and haze values are the sum values within this range)) in accordance with JIS K 7361-1 (1997 edition) for the measurement of total light transmittance and JIS-K 7136 (2000 edition) for the measurement of haze.
<Measurement of Yellowness Index YI>
The yellowness index YI of the prepared film was measured in accordance with JIS-K 7373 using a spectrophotometer (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., trade name: SD-5000, light source: C light source halogen lamp (12V50W), field of view: 2°).
<Heat resistance test>
The heat resistance was measured by examining the haze, total light transmittance, YI, and molecular weight change after 500 hours in a high-temperature environment of 85° C. using a gear oven (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho, product name: STD60P) (replacement rate 3 times/min).
The change in molecular weight was measured by gel permeation chromatography (GPC) on the film before and after exposure to a high temperature environment, and the difference in the weight average molecular weight calculated as standard polystyrene was used as the rate of change. Here, the weight average molecular weight was measured by GPC on the composition itself, not on the individual components contained in the film, and the measurement data obtained was used.
<Phase difference and wavelength dispersion>
The retardation and wavelength dispersion were measured for the stretched optical compensation film using a fully automatic birefringence meter (manufactured by Oji Scientific Instruments, product name KOBRA-21ADH, light source: halogen lamp (12V100W)) at measurement wavelengths of 550 nm and 450 nm, measuring R450/R550 .

合成例1(ケイ皮酸エステル共重合体(B-1)(9-ビニルカルバゾール/4-ヒドロキシ-α―シアノケイ皮酸イソブチル/アクリル酸イソブチル)の合成)
容量50mLのガラスアンプルに9-ビニルカルバゾール5.0g(0.026モル)、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル3.2g(0.013モル)、アクリル酸イソブチル1.7g(0.013モル)、重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.093g(0.00022モル)およびエチルセロソルブ24.6gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを47℃の恒温槽に入れ、24時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン41gを加え、このポリマー溶液を330gのメタノール/水混合溶剤(重量比80/20)中に滴下して析出させ、ろ過した後、ろ過物を45gのメタノール/水混合溶剤(重量比90/10)で5回洗浄、ろ過した。得られた樹脂を80℃で10時間真空乾燥することにより、負の複屈折性を示すケイ皮酸エステル共重合体(B-1)9.2gを得た(収率:94%)。得られたB-1の数平均分子量は77,000であり、残基単位の比率は、9-ビニルカルバゾール残基単位50モル%、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位25モル%、アクリル酸イソブチル残基単位25モル%であった
Synthesis Example 1 (Synthesis of cinnamic acid ester copolymer (B-1) (9-vinylcarbazole/ 4-hydroxy- α-isobutyl cyanocinnamate/isobutyl acrylate))
A 50 mL glass ampoule was charged with 5.0 g ( 0.026 mol ) of 9-vinylcarbazole, 3.2 g (0.013 mol) of isobutyl 4-hydroxy-α-cyanocinnamate, 1.7 g (0.013 mol) of isobutyl acrylate, 0.093 g (0.00022 mol) of 2,5-dimethyl-2,5-di(2-ethylhexanoylperoxy)hexane as a polymerization initiator, and 24.6 g of ethyl cellosolve, and the ampoule was sealed under reduced pressure after repeated nitrogen replacement and depressurization. The ampoule was placed in a thermostatic chamber at 47°C and held for 24 hours to carry out radical polymerization. After the polymerization reaction was completed, the polymer was removed from the ampoule, 41 g of tetrahydrofuran was added, and the polymer solution was dropped into 330 g of a methanol/water mixed solvent (weight ratio 80/20) to precipitate, filtered, and the filtrate was washed five times with 45 g of a methanol/water mixed solvent (weight ratio 90/10) and filtered. The resin obtained was vacuum dried at 80° C. for 10 hours to obtain 9.2 g of a cinnamic acid ester copolymer (B-1) exhibiting negative birefringence (yield: 94%). The number average molecular weight of the obtained B-1 was 77,000, and the ratio of the residue units was 50 mol % of 9-vinylcarbazole residue units, 25 mol % of 4-hydroxy-α-cyanocinnamate isobutyl residue units, and 25 mol % of isobutyl acrylate residue units.

合成例2(ケイ皮酸エステル共重合体(B-2)(4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸エチル/9-ビニルカルバゾール共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルに4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸エチル5.0g、9-ビニルカルバゾール4.4g、重合開始剤である2,5-ジメチル- 2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.17gおよびテトラヒドロフラン8.5gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、負の複屈折性を示すケイ皮酸エステル共重合体(B-2)7.7gを得た(収率:82%)。得られたB-2の数平均分子量は22,000であり、残基単位の比率は9-ビニルカルバゾール残基単位58モル%、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位42モル%であった。
Synthesis Example 2 (Synthesis of cinnamic acid ester copolymer (B-2) (4-hydroxy-α-ethyl cyanocinnamate/9-vinylcarbazole copolymer)
5.0 g of ethyl 4-hydroxy-α-cyanocinnamate, 4.4 g of 9-vinylcarbazole, 0.17 g of 2,5-dimethyl-2,5-di(2-ethylhexanoylperoxy)hexane as a polymerization initiator, and 8.5 g of tetrahydrofuran were placed in a 50 mL glass ampoule, and after repeated nitrogen replacement and depressurization, the ampoule was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a thermostatic chamber at 62°C and held for 48 hours to carry out radical polymerization. After the polymerization reaction was completed, the polymer was removed from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. The polymer solution was dropped into 500 mL of methanol to precipitate, and then vacuum dried at 60°C for 10 hours to obtain 7.7 g of cinnamic acid ester copolymer (B-2) exhibiting negative birefringence (yield: 82%). The number average molecular weight of the obtained B-2 was 22,000, and the ratio of the residue units was 58 mol % of 9-vinylcarbazole residue units and 42 mol % of ethyl 4-hydroxy-α-cyanocinnamate residue units.

実施例1
セルロース樹脂(A)としてエチルセルロース(ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード(ETHOCEL standard)100、数平均分子量Mn=58,000、重量平均分子量Mw=180,000、Mw/Mn=3.2、全置換度DS=2.51)31.15g、合成例1により得られたケイ皮酸エステル系樹脂(B-1)8.75g、セミヒンダードフェノール系酸化防止剤Irganox245(BASF製、化合物名:ビス[3-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオン酸][エチレンビス(オキシエチレン)]、Fw:587)0.10gとを、トルエン/酢酸エチル=8/2(重量比)溶液に溶解させて15重量%の樹脂溶液とした。該溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃6分の後、155℃5分にて2段乾燥した後、幅150mm×膜厚39μmのフィルム(樹脂組成物)を得た(セルロース樹脂:77.87重量%、ケイ皮酸エステル共重合体(B-1):21.88重量%、セミヒンダードフェノール系酸化防止剤:0.25重量%)。また、得られたフィルムを50mm角に切り出した後、155℃で2.0倍に一軸延伸し(延伸後の厚み30μm)、光学補償フィルムを得た。得られたフィルムは全光線透過率93%、ヘーズ0.4%、YI0.5であり、耐熱試験後の全光線透過率は93%、ヘーズは0.5%、YIは0.9であった。
得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、耐熱性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。
Example 1
As the cellulose resin (A), 31.15 g of ethyl cellulose (ETHOCEL standard 100, manufactured by Dow Chemical Company, number average molecular weight Mn = 58,000, weight average molecular weight Mw = 180,000, Mw / Mn = 3.2, total substitution degree DS = 2.51), 8.75 g of the cinnamic acid ester resin (B-1) obtained in Synthesis Example 1, and 0.10 g of a semi-hindered phenol-based antioxidant Irganox 245 (manufactured by BASF, compound name: bis [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionic acid] [ethylene bis (oxyethylene)], Fw: 587) were dissolved in a toluene / ethyl acetate = 8 / 2 (weight ratio) solution to prepare a 15 wt% resin solution. The solution was cast onto a polyethylene terephthalate film using a coater, and after drying at 40°C for 6 minutes and then drying in two stages at 155°C for 5 minutes, a film (resin composition) with a width of 150 mm and a thickness of 39 μm was obtained (cellulose resin: 77.87% by weight, cinnamic acid ester copolymer (B-1): 21.88% by weight, semi-hindered phenol-based antioxidant: 0.25% by weight). The obtained film was cut into a 50 mm square, and then uniaxially stretched 2.0 times at 155°C (thickness after stretching: 30 μm) to obtain an optical compensation film. The obtained film had a total light transmittance of 93%, a haze of 0.4%, and a YI of 0.5, and after a heat resistance test, the total light transmittance was 93%, the haze was 0.5%, and the YI was 0.9.
The total light transmittance, haze, retardation characteristics, wavelength dispersion characteristics, and heat resistance of the obtained optical compensation film were measured. The results are shown in Table 1.

得られた光学補償フィルムの全光線透過率は高く、ヘーズとYIは低く、耐熱性の高いものであった。 The resulting optical compensation film had high total light transmittance, low haze and YI, and high heat resistance.

実施例2
実施例1で用いたエチルセルロース31.15gと合成例2により得られた負の複屈折性を示すケイ皮酸エステル共重合体(B-2)8.75gと、セミヒンダードフェノール系酸化防止剤Irganox245(BASF製、Fw:587)0.05gと亜リン酸エステル系酸化防止剤アデカスタブPEP-36(ADEKA製、化合物名:3,9-ビス(2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノキシ)-2,4,8,10-テトラオキサ-3,9-ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、Fw:633)0.05gの2種の酸化防止剤を、トルエン/酢酸エチル=8/2(重量比)溶液に溶解して15重量%の樹脂溶液とした。該溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃6分の後、155℃5分にて2段乾燥した後、幅150mm×膜厚39μmのフィルム(樹脂組成物)を得た(セルロース系樹脂:77.88重量%、ケイ皮酸エステル共重合体(B-2):21.88重量%、セミヒンダードフェノール系酸化防止剤:0.12重量%、亜リン酸エステル系酸化防止剤:0.12重量%)。また、得られたフィルムを50mm角に切り出した後、157℃で2.0倍に一軸延伸し(延伸後の厚み30μm)、光学補償フィルムを得た。得られたフィルムは全光線透過率92%、ヘーズ0.6%、YI0.5、耐熱試験後の全光線透過率は92%、ヘーズは0.6%、YIは0.9であった。
得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、耐熱性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。
得られた光学補償フィルムの全光線透過率は高く、ヘーズとYIは低く、耐熱性の高いものであった。

Example 2
31.15 g of the ethyl cellulose used in Example 1, 8.75 g of the cinnamic acid ester copolymer (B-2) exhibiting negative birefringence obtained in Synthesis Example 2, and two kinds of antioxidants, namely, 0.05 g of a semi-hindered phenol-based antioxidant Irganox 245 (manufactured by BASF, Fw: 587) and 0.05 g of a phosphite- based antioxidant Adeka STAB PEP-36 (manufactured by ADEKA, compound name: 3,9-bis(2,6-di-tert-butyl-4-methylphenoxy)-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane, Fw: 633), were dissolved in a toluene/ethyl acetate=8/2 (weight ratio) solution to prepare a 15 wt % resin solution. The solution was cast onto a polyethylene terephthalate film using a coater, and after drying at 40° C. for 6 minutes, it was dried in two stages at 155° C. for 5 minutes, and a film (resin composition) with a width of 150 mm and a thickness of 39 μm was obtained (cellulose resin : 77.88% by weight, cinnamic acid ester copolymer (B-2): 21.88% by weight, semi-hindered phenol-based antioxidant: 0.12% by weight, phosphite -based antioxidant: 0.12% by weight). The obtained film was cut into a 50 mm square, and then uniaxially stretched 2.0 times at 157° C. (thickness after stretching: 30 μm) to obtain an optical compensation film. The obtained film had a total light transmittance of 92%, a haze of 0.6%, and a YI of 0.5, and after a heat resistance test, the total light transmittance was 92%, the haze was 0.6%, and the YI was 0.9.
The total light transmittance, haze, retardation characteristics, wavelength dispersion characteristics, and heat resistance of the obtained optical compensation film were measured. The results are shown in Table 1.
The optical compensation film thus obtained had a high total light transmittance, low haze and YI, and high heat resistance.

実施例3
実施例1で用いたエチルセルロース31.10gと、実施例1で用いたケイ皮酸エステル共重合体(B-1)8.70gとセミヒンダードフェノール系酸化防止剤Irganox245(BASF製、Fw:587)0.20gとを、トルエン/酢酸エチル=8/2(重量比)溶液に溶解させて15重量%の樹脂溶液とした。該溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃6分の後、155℃5分にて2段乾燥した後、幅150mm×膜厚39μmのフィルム(樹脂組成物)を得た(セルロース系樹脂:77.75重量%、ケイ皮酸エステル共重合体(B-1):21.75重量%、セミヒンダードフェノール系酸化防止剤:0.50重量%)。また、得られたフィルムを50mm角に切り出した後、152℃で2.0倍に一軸延伸し(延伸後の厚み30μm)、光学補償フィルムを得た。
得られたフィルムは全光線透過率93%、ヘーズ0.4%、YI0.5、耐熱試験後の全光線透過率は93%、ヘーズは0.5%、YIは0.8であった。
得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、耐熱性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。
得られた光学補償フィルムの全光線透過率は高く、ヘーズとYIは低く、耐熱性の高いものであった。
Example 3
31.10 g of the ethyl cellulose used in Example 1, 8.70 g of the cinnamic acid ester copolymer (B-1) used in Example 1, and 0.20 g of the semi-hindered phenol-based antioxidant Irganox 245 (manufactured by BASF, Fw: 587) were dissolved in a toluene/ethyl acetate = 8/2 (weight ratio) solution to obtain a 15 wt% resin solution. The solution was cast onto a polyethylene terephthalate film by a coater, and after drying at a drying temperature of 40 ° C. for 6 minutes and then at 155 ° C. for 5 minutes in two stages, a film (resin composition) with a width of 150 mm and a thickness of 39 μm was obtained (cellulose-based resin: 77.75 wt%, cinnamic acid ester copolymer (B-1): 21.75 wt%, semi-hindered phenol-based antioxidant: 0.50 wt%). The obtained film was cut into a 50 mm square and then uniaxially stretched 2.0 times at 152° C. (thickness after stretching: 30 μm) to obtain an optical compensation film.
The obtained film had a total light transmittance of 93%, a haze of 0.4% and a YI of 0.5, and after a heat resistance test, the total light transmittance was 93%, the haze was 0.5% and the YI was 0.8.
The total light transmittance, haze, retardation characteristics, wavelength dispersion characteristics, and heat resistance of the obtained optical compensation film were measured. The results are shown in Table 1.
The optical compensation film thus obtained had a high total light transmittance, low haze and YI, and high heat resistance.

実施例4
実施例1で用いたエチルセルロース31.18gと、実施例1で用いたケイ皮酸エステル共重合体(B-1)8.78gとセミヒンダードフェノール系酸化防止剤Irganox245(BASF製、Fw:587)0.04gとをトルエン/酢酸エチル=8/2(重量比)溶液に溶解させて15重量%の樹脂溶液とした。該溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃6分の後、155℃5分にて2段乾燥した後、幅150mm×膜厚39μmのフィルム(樹脂組成物)を得た(セルロース系樹脂:77.95重量%、ケイ皮酸エステル共重合体(B-1):21.95重量%、セミヒンダードフェノール系酸化防止剤:0.10重量%)。また、得られたフィルムを50mm角に切り出した後、155℃で2.0倍に一軸延伸し(延伸後の厚み30μm)、光学補償フィルムを得た。
得られたフィルムは全光線透過率93%、ヘーズ0.4%、YI0.5、耐熱試験後の全光線透過率は93%、ヘーズは0.5%、YIは0.9であった。
得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、耐熱性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。
得られた光学補償フィルムの全光線透過率は高く、ヘーズとYIは低く、耐熱性の高いものであった。
Example 4
31.18 g of the ethyl cellulose used in Example 1, 8.78 g of the cinnamic acid ester copolymer (B-1) used in Example 1, and 0.04 g of the semi-hindered phenol-based antioxidant Irganox 245 (manufactured by BASF, Fw: 587) were dissolved in a toluene/ethyl acetate = 8/2 (weight ratio) solution to obtain a 15 wt% resin solution. The solution was cast onto a polyethylene terephthalate film by a coater, and after drying at a drying temperature of 40 ° C. for 6 minutes and then at 155 ° C. for 5 minutes in two stages, a film (resin composition) with a width of 150 mm and a thickness of 39 μm was obtained (cellulose-based resin: 77.95 wt%, cinnamic acid ester copolymer (B-1): 21.95 wt%, semi-hindered phenol-based antioxidant: 0.10 wt%). The obtained film was cut into a 50 mm square and then uniaxially stretched 2.0 times at 155° C. (thickness after stretching: 30 μm) to obtain an optical compensation film.
The obtained film had a total light transmittance of 93%, a haze of 0.4% and a YI of 0.5, and after a heat resistance test, the total light transmittance was 93%, the haze was 0.5% and the YI was 0.9.
The total light transmittance, haze, retardation characteristics, wavelength dispersion characteristics, and heat resistance of the obtained optical compensation film were measured. The results are shown in Table 1.
The optical compensation film thus obtained had a high total light transmittance, low haze and YI, and high heat resistance.

実施例5
実施例1で用いたエチルセルロース31.18gと、実施例1で用いたケイ皮酸エステル共重合体(B-1)8.78gと硫黄系酸化防止剤アデカスタブ AO―412S(ADEKA製、化合物名:ビス[3-(ドデシルチオ)プロピオン酸]2,2-ビス[[3-(ドデシルチオ)-1-オキソプロピルオキシ]メチル]-1,3-プロパンジイル、Fw:1162)0.04gとをトルエン/酢酸エチル=8/2(重量比)溶液に溶解させて15重量%の樹脂溶液とした。該溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃5分の後、155℃6分にて2段乾燥した後、幅150mm×膜厚39μmのフィルム(樹脂組成物)を得た(セルロース系樹脂:77.95重量%、ケイ皮酸エステル共重合体(B-1):21.95重量%、硫黄系酸化防止剤:0.10重量%)。また、得られたフィルムを50mm角に切り出した後、155℃で2.0倍に一軸延伸し(延伸後の厚み30μm)、光学補償フィルムを得た。
得られたフィルムは全光線透過率93%、ヘーズ0.4%、YI0.5、耐熱試験後の全光線透過率は93%、ヘーズは0.5%、YIは1.2であった。
得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、耐熱性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。
得られた光学補償フィルムの全光線透過率は高く、ヘーズとYIは低く、耐熱性の高いものであった。
Example 5
31.18 g of the ethyl cellulose used in Example 1, 8.78 g of the cinnamic acid ester copolymer (B-1) used in Example 1, and 0.04 g of a sulfur-based antioxidant, ADK STAB AO-412S (manufactured by ADEKA Corporation, compound name: bis[3-(dodecylthio)propionic acid]2,2-bis[[3-(dodecylthio)-1-oxopropyloxy]methyl] -1,3 -propanediyl, Fw: 1162), were dissolved in a toluene/ethyl acetate=8/2 (weight ratio) solution to prepare a 15 wt % resin solution. The solution was cast onto a polyethylene terephthalate film using a coater, and then dried in two stages at 40°C for 5 minutes and then 155°C for 6 minutes, to obtain a film (resin composition) with a width of 150 mm and a thickness of 39 μm (cellulose resin: 77.95% by weight, cinnamic acid ester copolymer (B-1): 21.95% by weight, sulfur-based antioxidant: 0.10% by weight). The obtained film was cut into a 50 mm square, and then uniaxially stretched 2.0 times at 155°C (thickness after stretching: 30 μm) to obtain an optical compensation film.
The obtained film had a total light transmittance of 93%, a haze of 0.4% and a YI of 0.5, and after a heat resistance test, the total light transmittance was 93%, the haze was 0.5% and the YI was 1.2.
The total light transmittance, haze, retardation characteristics, wavelength dispersion characteristics, and heat resistance of the obtained optical compensation film were measured. The results are shown in Table 1.
The optical compensation film thus obtained had a high total light transmittance, low haze and YI, and high heat resistance.

比較例1
酸化防止剤を含まないほかは実施例1と同様の条件で光学補償フィルムを得た。得られたフィルムは全光線透過率93%、ヘーズ0.4%、YI0.5、耐熱試験後の全光線透過率は93%、ヘーズは0.4%、YIは1.8であった。その結果を表2に示す。
得られた光学補償フィルムのYIは高く、耐熱性の低いものであった。
Comparative Example 1
An optical compensation film was obtained under the same conditions as in Example 1, except that no antioxidant was used. The obtained film had a total light transmittance of 93%, a haze of 0.4%, and a YI of 0.5. After the heat resistance test, the total light transmittance was 93%, the haze was 0.4%, and the YI was 1.8. The results are shown in Table 2.
The optical compensation film thus obtained had a high YI and low heat resistance.

比較例2
セミヒンダードフェノール系酸化防止剤Irganox245 10重量%を含むほかは実施例1と同様の条件で光学補償フィルムを得た。得られたフィルムは全光線透過率91%、ヘーズ1.3%、YI0.6%、耐熱試験後の全光線透過率は89%、ヘーズは3.5%であった。その結果を表2に示す。
得られた光学補償フィルムのヘーズは高く、耐熱性の低いものであった。
Comparative Example 2
An optical compensation film was obtained under the same conditions as in Example 1, except that the film contained 10% by weight of the semi-hindered phenol-based antioxidant Irganox 245. The obtained film had a total light transmittance of 91%, a haze of 1.3%, and a YI of 0.6%, and after a heat resistance test, the total light transmittance was 89% and the haze was 3.5%. The results are shown in Table 2.
The obtained optical compensation film had high haze and low heat resistance.

比較例3
セミヒンダードフェノール系酸化防止剤Irganox245(BASF製、Fw:587)の代わりに低分子量セミヒンダードフェノール系酸化防止剤スミライザーMDP―S(住友化学製、化合物名:2,2'-メチレンビス(6-tert-ブチル-p-クレゾール)、Fw:341)を用いたほかは実施例1と同様の条件で光学補償フィルムを得た。得られたフィルムは全光線透過率92%、ヘーズ0.5%、YI0.5、耐熱試験後の全光線透過率は92%、ヘーズは0.8%、YIは1.6であった。その結果を表2に示す。
得られた光学補償フィルムのYIは高く、耐熱性の低いものであった。
Comparative Example 3
An optical compensation film was obtained under the same conditions as in Example 1, except that a low molecular weight semi-hindered phenol-based antioxidant Sumilizer MDP-S (manufactured by Sumitomo Chemical, chemical name: 2,2'-methylenebis(6-tert-butyl-p-cresol), Fw: 341) was used instead of the semi-hindered phenol-based antioxidant Irganox 245 (manufactured by BASF, Fw: 587). The obtained film had a total light transmittance of 92%, a haze of 0.5%, and a YI of 0.5, and after a heat resistance test, the total light transmittance was 92%, the haze was 0.8%, and the YI was 1.6. The results are shown in Table 2.
The optical compensation film thus obtained had a high YI and low heat resistance.

Claims (12)

下記一般式(1)で示されるセルロース残基単位からなるセルロース樹脂(A)を50重量%以上98.98重量%以下と、
下記一般式(2)で示されるケイ皮酸エステル残基単位および下記一般式(3)で示される残基単位を含むケイ皮酸エステル共重合体(B)1重量%以上49.98重量%以下と、分子量350以上の酸化防止剤であって、フェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤からなる群の少なくとも1種である酸化防止剤(C)0.01重量%以上1.0重量%以下含有する樹脂組成物。
(式中、R、R、Rはそれぞれ独立して水素原子または炭素数1~12の置換基を示す。)
(式中、Rは水素原子または炭素数1~12のアルキル基を示す。R~Rは水素原子、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、フェニル基、チオール基、アミド基、アミノ基、水酸基、炭素数1~12のアルコキシ基、または炭素数1~12のアルキル基を示す。Yはニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、チオール基を示す。)
(式中、R10はヘテロ原子として窒素原子もしくは酸素原子を1つ以上含む5員環複素環残基またはヘテロ原子として窒素原子もしくは酸素原子を1つ以上含む6員環複素環残基(前記5員環複素環残基および前記6員環複素環残基は他の環状構造と縮合環構造を形成してもよい)を示す。)
A cellulose resin (A) having a cellulose residue unit represented by the following general formula (1) of 50% by weight or more and 98.98% by weight or less,
A resin composition comprising: 1% by weight or more and 49.98% by weight or less of a cinnamic acid ester copolymer (B) containing a cinnamic acid ester residue unit represented by the following general formula (2) and a residue unit represented by the following general formula (3); and 0.01% by weight or more and 1.0% by weight or less of an antioxidant (C) having a molecular weight of 350 or more and being at least one member selected from the group consisting of phenol-based antioxidants and sulfur-based antioxidants.
(In the formula, R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent having 1 to 12 carbon atoms.)
(In the formula, R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; R 5 to R 9 represent a hydrogen atom, a nitro group, a bromo group, an iodo group, a cyano group, a chloro group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a fluoro group, a phenyl group, a thiol group, an amido group, an amino group, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; and Y represents a nitro group, a bromo group, an iodo group, a cyano group, a chloro group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a fluoro group, or a thiol group.)
(In the formula, R 10 represents a 5-membered heterocyclic residue containing one or more nitrogen atoms or oxygen atoms as heteroatoms, or a 6-membered heterocyclic residue containing one or more nitrogen atoms or oxygen atoms as heteroatoms (the 5-membered heterocyclic residue and the 6-membered heterocyclic residue may form a condensed ring structure with another ring structure).)
ケイ皮酸エステル共重合体(B)が、前記一般式(2)で示される残基単位および前記一般式(3)で示される残基単位を含み、さらに以下の一般式(4)で表される残基単位を有する請求項1に記載の樹脂組成物。
(ここで、R11、R12はそれぞれ独立して水素原子、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数3~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~6の環状アルキル基を示す。)
The resin composition according to claim 1, wherein the cinnamic acid ester copolymer (B) contains a residue unit represented by the general formula (2) and a residue unit represented by the general formula (3), and further contains a residue unit represented by the following general formula (4).
(Here, R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms.)
ケイ皮酸エステル共重合体(B)において、前記一般式(2)のケイ皮酸エステル残基単位に係る単量体成分の比率が、全単量体成分の合計100mol%に対し21mol%以上50mol%以下である請求項1または2に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1 or 2, wherein in the cinnamate ester copolymer (B), the ratio of the monomer component related to the cinnamate ester residue unit of the general formula (2) is 21 mol% or more and 50 mol% or less with respect to 100 mol% of the total of all monomer components. 請求項1乃至3いずれか一項に記載の樹脂組成物を含むフィルム。 A film comprising the resin composition according to any one of claims 1 to 3. 下記式(5)で示されるレタ-デ-ション(Re)が30nm以上300nm以下であり、下記式(6)で示されるNz係数が0.3以上1.5以下であり、かつ、450nmにおけるレタ-デ-ション(Re(450))と550nmにおけるレタ-デ-ション(Re(550))の比Re(450)/Re(550)が0.60を超え1.05未満である請求項4に記載のフィルム。
Re=(ny-nx)×d (5)
Nz=(ny-nz)/(ny-nx) (6)
(式中、nxはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、nyはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、nzはフィルム面外の屈折率を示し、dはフィルム厚みを示す。)
The film according to claim 4, wherein the retardation (Re) represented by the following formula (5) is 30 nm or more and 300 nm or less, the Nz coefficient represented by the following formula (6) is 0.3 or more and 1.5 or less, and the ratio Re(450)/Re(550) of the retardation at 450 nm (Re(450)) to the retardation at 550 nm (Re(550)) is more than 0.60 and less than 1.05.
Re=(ny-nx)×d (5)
Nz=(ny-nz)/(ny-nx) (6)
(In the formula, nx represents the refractive index in the fast axis direction in the film plane, ny represents the refractive index in the slow axis direction in the film plane, nz represents the refractive index outside the film plane, and d represents the film thickness.)
厚さ30μm、測定波長500nmから650nmにおける全光線透過率が85%以上である請求項4または5に記載のフィルム。 The film according to claim 4 or 5, which has a thickness of 30 μm and a total light transmittance of 85% or more at measurement wavelengths of 500 nm to 650 nm. 黄色度YIが1.7以下である請求項4乃至6いずれか一項に記載のフィルム。 The film described in any one of claims 4 to 6, having a yellowness index YI of 1.7 or less. 厚さ30μm、測定波長500nmから650nmにおけるヘーズが3.0%以下である請求項4乃至7いずれか一項に記載のフィルム。 A film according to any one of claims 4 to 7, having a thickness of 30 μm and a haze of 3.0% or less at measurement wavelengths of 500 nm to 650 nm. 85℃環境下500時間後におけるYIが1.7以下である請求項4乃至8いずれか一項に記載のフィルム。 The film described in any one of claims 4 to 8 has a YI of 1.7 or less after 500 hours in an 85°C environment. 85℃環境下500時間の高温処理後の黄色度YIの変化量が1.0未満である請求項4乃至9いずれか一項に記載のフィルム。 The film described in any one of claims 4 to 9, in which the change in yellowness index YI after high-temperature treatment for 500 hours in an 85°C environment is less than 1.0. 85℃環境下500時間の高温処理後のヘーズの変化量が2.0%未満である請求項4乃至10いずれか一項に記載のフィルム。 A film according to any one of claims 4 to 10, in which the change in haze after high-temperature treatment for 500 hours in an 85°C environment is less than 2.0%. 請求項4乃至11いずれか一項に記載のフィルムを用いた偏光板。 A polarizing plate using the film according to claim 4 .
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