JP7584995B2

JP7584995B2 - 活性酸素供給装置

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Publication number: JP7584995B2
Application number: JP2020181668A
Authority: JP
Inventors: 徹小熊; 匠古川; 雅基小澤
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Priority date: 2020-10-29
Filing date: 2020-10-29
Publication date: 2024-11-18
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Also published as: WO2022092325A1; JP2022072305A; US20230226235A1

Description

本発明は、活性酸素供給装置に関する。

物品等の除菌を行う手段として、紫外線、及び、オゾンが知られている。従来の方法では、紫外線による除菌を行う場合、被処理物のうち紫外線が照射される部分しか除菌されないという課題があった。特許文献１は、オゾン供給装置と紫外線発生ランプと撹拌装置とを有する除菌装置を用いて、紫外線発生ランプにより紫外線をオゾンに照射することによって活性酸素を生成する。生成した活性酸素を撹拌して被処理物の紫外線が照射されない影の部分も除菌する方法を開示している。

特開平１－２５８６５号公報

しかしながら、特許文献１に係る除菌装置においては、除菌装置内部に被処理物を配置せねばならず、除菌装置が大型化してしまう。

本出願に係る発明は、活性酸素を供給する除菌装置が被処理物の大きさによって大型化してしまうことを抑制し、被処理物を除菌することを目的とする。

前述した課題を解決するために、本発明は、以下の構成を備える。

筐体と、
前記筐体の内部に設けられ、オゾンを含む誘起流を発生させる複数のプラズマ発生装置と、
前記筐体の内部に設けられ、前記オゾンを含む誘起流に紫外光を照射する紫外光光源と、
前記筐体の内部に設けられ、前記筐体の開口部から前記筐体の外部に照射される前記紫外光を遮る遮光板と、
を有し、
前記紫外光光源によって前記オゾンを含む誘起流に対して紫外光が照射されることにより発生した活性酸素は、前記筐体の開口部から前記筐体の外部に供給されることを特徴とする活性酸素供給装置である。

以上説明したように、本発明によれば、活性酸素を供給する除菌装置の大型化を抑制し、被処理物を除菌することができる。

実施例１に係る活性酸素供給装置１０１の断面図。（ａ）実施例１に係る活性酸素供給装置１０１の透視図。（ｂ）実施例１に係る活性酸素供給装置１０１の投影図。プラズマ発生装置１０３の構成の一例を示す図。実施例１に係る活性酸素供給装置１０１の使用形態の一例を示す図。実施例１に係る活性酸素供給装置１０１の変形例を示す断面図。実施例２に係る活性酸素供給装置１０１において、シャッタ１２０を設けた構成の一例を示す断面図。実施例３に係る活性酸素供給装置１０１において、開口部１０７の近傍に近接センサ１３０および人感センサ１３１を設けた構成の一例を示す斜視図。実施例４に係る活性酸素供給装置１０１において、筐体１１０の一部に透明な窓部材１４０を設けた構成の一例を示す斜視図。実施例５に係る活性酸素供給装置１０１において、加速度センサ１５０とインジケータ１５１を設けられた構成の一例を示す斜視図。実施例６に係る活性酸素供給装置１６１において、筐体１６０が円筒形となっている構成の一例を示す斜視図。実施例７に係る処理装置１７０において、活性酸素供給装置１７１と、被処理物１０４との位置を相対的に移動させる移動手段１７２と、を設けた構成の一例を示す断面図。

以下、図面を参照して、本発明を実施するための形態を、具体的に例示する。ただし、この形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状それらの相対配置などは、本発明が適用される部材の構成や各種条件により適宜変更されるべきものである。すなわち、本発明の範囲を以下の形態に限定する趣旨のものではない。

また、本発明において、数値範囲を表す「ＸＸ以上ＹＹ以下」や「ＸＸ～ＹＹ」の記載は、特に断りのない限り、端点である下限及び上限を含む数値範囲を意味する。数値範囲が段階的に記載されている場合、各数値範囲の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。

さらに、以下の説明では、同一の機能を有する構成には図面中に同一の番号を付し、その説明を省略する場合がある。

図１～図５は本発明の実施例１に係る活性酸素供給装置１０１の構成を示す図である。図１は活性酸素供給装置１０１の断面図である。図２（ａ）は活性酸素供給装置１０１の透視図であり、図２（ｂ）は活性酸素供給装置１０１の投影図である。図３はプラズマ発生装置１０３の構成の一例を示す図である。図４は活性酸素供給装置１０１の使用形態の一例を示す図である。図５は実施例１に係る活性酸素供給装置１０１の変形例を示す図である。

＜全体の構成＞
図１および図２に示すように、本実施例の活性酸素供給装置１０１は、筐体１１０と、筐体１１０の内部に設けられた紫外光光源１０２、プラズマ発生装置１０３、遮光板１０８、および、不図示の電源回路、基盤等から構成される。また、本実施例の活性酸素供給装置１０１は、長手方向と短手方向と、を有する筒状の装置である。

筐体１１０には、図１および図２に示すように、開口部１０７がある。開口部１０７は、図２に示すように長手方向と短手方向と、を有する。本実施例では、開口部１０７の形状は例えば矩形であっても良い。

また、筐体１１０は、図２に示すように、開口部１０７の開口面に垂直な方向に設けられ、開口部１０７の開口面に平行な方向に互いに対向している第１の面と第２の面を備える。このとき筐体１１０は、開口部１０７の開口面に平行な方向における第１の面と第２の面の間の距離であり、且つ、紫外光光源１０２の軸方向に対して直交する方向の距離が、１２ｃｍ以下となる部分を有している。この時の第１の面と第２の面は、使用者によって把持される把持部として機能する。なお、この時の距離を１２ｃｍ以下としたのは、使用者によって把持されやすい長さとするためである。さらに、本実施例において、第１の面と第２の面は、図２に示すように平面であるとしたが、第１の面と第２の面の形状は必ずしも平面でなくても良い。例えば、曲面や凸凹面であっても良い。また、第１の面と第２の面のうち、使用者によって把持される領域の素材は、筐体１１０を形成する素材と異なっても良く、例えばゴム等の素材を用いても良い。

筐体１１０は、図１に示すように、第１の面と第２の面を連結する面であり開口部１０７の開口面に対向する連結面を有する。本実施例において、連結面は、図１に示すように平面であるとしたが、連結面の形状は必ずしも平面でなくても良い。例えば、曲面や凸凹面であっても良い。

なお、本実施例において、活性酸素供給装置１０１は、被処理物１０４の除菌を行う。

本実施例の複数のプラズマ発生装置１０３（プラズマアクチュエータとも称する）は、図２（ａ）、図２（ｂ）に示すように、紫外光光源１０２と平行に並んでいる。また、プラズマ発生装置１０３は、筐体１１０の内部のうち開口部１０７の両端に、開口部１０７に沿って配置されている。本実施例では、筐体１１０の開口部１０７の一方の端部に沿ってプラズマ発生装置１０３－１～１０３－４が配置されており、筐体１１０の開口部１０７を挟んだ他方の端部に沿ってプラズマ発生装置１０３－５～１０３－８が配置されている。このとき、筐体１１０の開口部１０７の一方の端部に沿って設けられているプラズマ発生装置１０３を第１のプラズマ発生装置、筐体１１０の開口部１０７の他方の端部に沿って設けられているプラズマ発生装置１０３を第２のプラズマ発生装置とも称する。また、第１のプラズマ発生装置と第２のプラズマ発生装置の配置の順番は逆であっても良い。さらに、筐体１１０の開口部１０７の一方の端部を第１の長辺の端部、筐体１１０の開口部１０７の他方の端部を第２の長辺の端部とも称する。第１の長辺の端部と第２の長辺の端部の配置の順番は逆であっても良い。プラズマ発生装置１０３－１～１０３－４は電気的に直列に接続されている。同様に、プラズマ発生装置１０３－５～１０３－８は電気的に直列に接続されている。また、開口部１０７と紫外光光源１０２とプラズマ発生装置１０３に囲まれた位置に、筐体１１０とは別体である遮光板１０８が設けられている。遮光板１０８は、紫外光光源１０２によって照射される紫外光を遮光する。なお、遮光板１０８は筐体１１０と一体となっていても良い。

＜プラズマ発生装置＞
図３は、プラズマ発生装置の構成の一例を示す模式図である。プラズマ発生装置１０３は、図３に示すように、誘電体２０１の一方の表面（以降、「第１の表面」ともいう）に第１の電極２０３、第１の表面とは反対側の表面（以降、「第２の表面」ともいう）に第２の電極２０５が設けられている。プラズマ発生装置１０３－１～１０３－８はいずれも同じ構造となっている。

プラズマ発生装置１０３－１～１０３－８はシート状の構造である。第１の電極２０３と第２の電極２０５は、誘電体２０１を挟んで斜向かいにずれて配置されており、誘電体基板２０６の上に重なるように設けられている。電源２０７は、第１の電極２０３と第２の電極２０５に電圧を印加することにより、第１の電極２０３から第２の電極２０５に向けてプラズマ２０２を発生させる。第１の電極２０３から第２の電極２０５に向けてプラズマ２０２が発生すると、第１の電極２０３の縁部２０４から誘電体２０１の第１の表面の露出部（第１の電極２０３で被覆されていない部分）２０１－１に沿ってプラズマ２０２による噴流状の流れが誘起される。また同時に、空間中の空気が電極に向かう、空気の吸い込み流れも発生する。プラズマ２０２中の電子は、空気中の酸素分子に衝突し、該酸素分子を解離させ、酸素原子を生じさせる。生じた酸素原子は未解離の酸素分子と衝突して、オゾンが発生する。したがって、プラズマ２０２による噴流状の流れと空気の吸い込み流れとの作用により、第１の電極２０３の縁部２０４から誘電体２０１の表面に沿って、高濃度のオゾンを含む誘起流１０５が発生する。

また、プラズマ発生装置１０３は、第１の電極２０３と第２の電極２０５の最短距離が短いほどプラズマが発生しやすい。そのため誘電体２０１の膜厚は電気絶縁破壊しない範囲であれば薄膜であるほど好ましく、１０μｍ～１０００μｍ、好ましくは１０μｍ～２００μｍとすることができる。また、第１の電極２０３と第２の電極２０５の最短距離は、２００μｍ以下であることが好ましい。

なお、本実施例では、プラズマ発生装置１０３によって誘起された、高濃度のオゾンを含む誘起流１０５が、開口部１０７に向けて流れるように、プラズマ発生装置１０３は開口部１０７の端部に沿って設けられている。なお、プラズマ発生装置１０３が設けられる位置は必ずしも開口部１０７の端部に沿っていなくても良い。プラズマ発生装置１０３は、筐体１１０の内部において開口部１０７の端部が存在する面に設けられており、誘起流１０５が開口部１０７に向けて流れるのであれば、この配置に限らない。

＜紫外光光源および紫外光＞
続いて、紫外光光源１０２について説明する。紫外光光源１０２は、プラズマ発生装置１０３によって発生する、オゾンを含む誘起流１０５に紫外光を照射する。紫外光光源１０２によってオゾンを含む誘起流１０５に紫外光が照射されると、誘起流１０５に含まれるオゾンが励起され、活性酸素が生成される。このとき、オゾンの光吸収スペクトルのピーク値が２６０ｎｍであることから、紫外光光源１０２によって照射される紫外光のピーク波長は、２２０ｎｍ～３１０ｎｍであることが好ましい。さらに、効率よく活性酸素を生成させるために、紫外光光源１０２の紫外光のピーク波長は、２５３ｎｍ～２８５ｎｍであることがより好ましく、２５３ｎｍ～２６６ｎｍであることがさらに好ましい。

紫外光光源１０２に用いる具体的な紫外光光源としては、石英ガラス内にアルゴンやネオン等の不活性ガスと共に水銀が封入されてなる低圧水銀ランプや、冷陰極管紫外光ランプ（ＵＶ－ＣＣＬ）、紫外ＬＥＤなどが使用できる。低圧水銀ランプや冷陰極管紫外光ランプの波長は、２５４ｎｍなどから選択するとよい。一方、紫外ＬＥＤの波長は、出力性能の観点から、２６５ｎｍ、２７５ｎｍ、２８０ｎｍなどから選択するとよい。なお、本実施例における紫外光光源１０２については、活性酸素を生成することができる紫外光を照射できるものであれば上記の構成に限定されない。

＜プラズマ発生装置１０３、紫外光光源１０２および被処理物１０４の配置＞
続いて、活性酸素供給装置１０１におけるプラズマ発生装置１０３、紫外光光源１０２および被処理物１０４の配置について説明する。活性酸素供給装置１０１においてオゾンを含む誘起流１０５を発生させるプラズマ発生装置１０３は、前述のように、誘起流１０５が開口部１０７に向けて流れるように、筐体１１０の開口部１０７の端部に沿って設けられている。また、誘起流１０５において発生した活性酸素が分解される前に開口部１０７から被処理物１０４に供給されるのであれば、この配置に限らない。

さらに、図３において、プラズマ発生装置１０３の第１の電極の縁部２０４から誘電体の第１の表面の露出部２０１－１に沿う方向の延長線が、被処理物１０４の処理表面１０４－１に対して所定の角度となるように設けられる。つまり、図１において誘起流１０５として示した点線矢印が、被処理物１０４の処理表面１０４－１に対して所定の角度となるように設けられる。このときの所定の角度は、０°～９０°であることが好ましく、さらに０°～４５°であることがより好ましい。

上記のように配置することによって、紫外光光源１０２によってオゾンを含む誘起流１０５に対して紫外光が照射されることにより発生した活性酸素は、開口部１０７から被処理物１０４に供給される。また、ある程度の流速を有する、活性酸素を含む誘起流１０５を、被処理物１０４の処理表面１０４－１に局所的に供給することができる。

＜作用＞
本実施例の活性酸素供給装置１０１は、紫外光光源１０２によってオゾンを含む誘起流１０５に紫外光を照射し、誘起流１０５において活性酸素を発生させる。そして、誘起流１０５において発生した活性酸素を、被処理物１０４の処理表面１０４－１、或いは、例えば処理表面１０４－１から高さ１ｍｍ程度までの空間領域に供給することができる。そのため、生成した活性酸素が酸素及び水に分解される前に、活性酸素を被処理物１０４の処理表面１０４－１に供給することができる。その結果として、被処理物１０４の処理表面１０４－１は、活性酸素によって除菌される。

＜使用形態＞
次に、本実施例における活性酸素供給装置１０１の使用形態の一例について説明する。図４では、開口部１０７が下向きになるように被処理物１０４の上に置かれている。図４に示すように、使用者は、活性酸素供給装置１０１のうち、上述のような第１の面と第２の面を把持する。使用者は、活性酸素供給装置１０１の開口部１０７（破線で示す）を被処理物１０４の処理表面１０４－１に向け、開口部１０７と処理表面１０４－１とが平行となる状態で、活性酸素供給装置１０１を駆動させる。処理表面１０４－１の面積が開口部１０７の面積よりも大きい場合、使用者は、開口部１０７によって処理表面１０４－１をスキャンするように、活性酸素供給装置１０１を処理表面１０４－１に沿って矢印Ｓの方向に動かす。使用者は、このように活性酸素供給装置１０１を動かすことにより、処理表面１０４－１全体を除菌することができる。また、本実施例の活性酸素供給装置１０１は図１に示すように、遮光板１０８が設けられている。遮光板１０８は、筐体１１０の開口部１０７と紫外光光源１０２の間に配置され、筐体１１０の開口部１０７から筐体１１０の外部に照射される紫外光を遮る。なお、遮光板１０８と被処理物１０４との距離は、プラズマ発生装置１０３と被処理物１０４との距離よりも長くなるように配置される。このように、遮光板１０８を設けることによって、使用者が活性酸素供給装置１０１を使用する際に、紫外光光源１０２によって照射される紫外光を直視することや、使用者の肌が紫外光に曝されることを抑制できる。なお、遮光板１０８は、図５に示すように、開口部１０７の開口面を、開口面と垂直の方向（矢印Ａの方向）から見た場合に、遮光板１０８の一部（矢印Ｂで示す）が、開口部１０７を形成する筐体１１０と重なるように配置してもよい。このように配置することにより、使用者が紫外光に曝されることをさらに抑制できる。また、遮光板１０８を配置することにより、誘起流１０５において発生した活性酸素が、誘起流１０５によってプラズマ発生装置１０３と遮光板１０８の間へ流れ、被処理物１０４に供給される。このため、誘起流１０５において発生した活性酸素が筐体１１０に滞留することを抑制でき、活性酸素を効率的に処理表面１０４－１に供給することができる。

次に実施例２の構成について図６を用いて説明する。図６は、本実施例の活性酸素供給装置１０１においてシャッタ１２０を設けた構成の一例である。シャッタ１２０は筐体１１０に設けられ、閉じた位置と開いた位置とを切り替える。シャッタ１２０が閉じた位置にある場合（図６（ａ））開口部１０７が覆われる状態となり、シャッタ１２０が開いた位置にある場合（図６（ｂ））開口部１０７が露出する状態となる。また、シャッタ１２０は不図示の付勢部材によって閉じた位置となるように付勢されている。

本実施例では、使用者が活性酸素供給装置１０１を使用する場合、シャッタ１２０が開いた位置に保持される。使用者が活性酸素供給装置１０１を使用した後、開いた位置に保持されていたシャッタ１２０は、閉じた位置に戻る。このように、使用後にシャッタ１２０が閉じた位置に戻ることにより、活性酸素供給装置１０１において発生した活性酸素やオゾンが装置外に流出することを抑制できる。これにより使用者が活性酸素やオゾンに曝されることを抑制できる。なお、シャッタ１２０は、使用者が不図示のスイッチを押すことにより開閉させても良い。

また、シャッタ１２０の開閉と活性酸素供給装置１０１を駆動させるスイッチのＯＮ／ＯＦＦを連動させても良い。このとき、シャッタ１２０が開いた位置となるとスイッチがＯＮとなり、活性酸素供給装置１０１が駆動される。シャッタ１２０が閉じた位置となるとスイッチがＯＦＦとなり、活性酸素供給装置１０１の駆動が停止する。また、活性酸素供給装置１０１にタイマーを設け、シャッタ１２０が開いた位置となりスイッチがＯＮとなってから所定の時間が経過すると、シャッタ１２０が閉じた位置となり、スイッチがＯＦＦとなってもよい。

このように制御することにより操作性を向上させることができるとともに、使用者が活性酸素や紫外光、オゾンに曝されることを抑制できる。

次に実施例３の構成について図７を用いて説明する。図７は、本実施例の活性酸素供給装置１０１において、開口部１０７の近傍に近接センサ１３０および人感センサ１３１を設けた構成の一例である。なお、近接センサ１３０は近接検知手段とも称し、人感センサ１３１は人体検知手段とも称する。近接センサ１３０は活性酸素供給装置１０１と被処理物１０４との距離を検出する。そして、活性酸素供給装置１０１は、近接センサ１３０による検知結果に応じて、被処理物１０４との距離が所定の距離以下である場合に活性酸素供給装置１０１のスイッチをＯＮにする。このとき、被処理物１０４として人が近づく場合、肌が活性酸素に曝されてしまう虞がある。このような場合を鑑みて、人感センサ１３１は活性酸素供給装置１０１と人体との距離を検出する。そして、活性酸素供給装置１０１は、人感センサ１３１による検知結果に応じて、人体との距離が所定の距離以上である場合に、活性酸素供給装置１０１のスイッチをＯＮにする。これにより、活性酸素供給装置１０１によって発生させた活性酸素を、除菌したい被処理物１０４の処理表面１０４－１に確実に供給することができる。また、人が活性酸素に曝されることを抑制できる。

次に実施例４の構成について図８を用いて説明する。図８は、本実施例の活性酸素供給装置１０１において、筐体１１０の一部に透明な窓部１４０を設けた構成の一例である。筐体１１０の一部に、紫外光を遮断する材質を用いた窓部１４０が設けられることにより、使用者は、紫外光光源１０２が紫外光を照射していることを視認可能となり、活性酸素供給装置１０１が作動していることを確認できる。窓部材１４０は、透明色でなくてもよく、半透明や淡色の材料としてもよい。これにより、使用者が紫外光に曝されることを抑制しつつ視認性を確保することができる。なお、紫外光光源１０２により紫外光が照射されていることを報知する報知手段が筐体１０１に設けられても良い。

次に実施例５の構成について図９を用いて説明する。図９は、本実施例の活性酸素供給装置１０１において、加速度センサ１５０とインジケータ１５１が設けられた構成の一例である。なお、加速度センサ１５０は加速度検知手段とも称し、インジケータ１５１は速度報知手段とも称する。活性酸素供給装置１０１は、使用者によって速い速度で動かされると、被処理物１０４に所定の量あるいは所定の濃度の活性酸素が供給されない場合がある。また、活性酸素供給装置１０１は、使用者によって速い速度で動かされることにより発生する空気の流れによって、誘起流１０５の流れに影響が及ぶ場合がある。このような場合を鑑みて、本実施例の活性酸素供給装置１０１は、加速度センサ１５０を有する。加速度センサ１５０は活性酸素供給装置１０１が動かされたことを検出する。活性酸素供給装置１０１は加速度センサ１５０の検出値に基づいて活性酸素供給装置１０１を動かす速さが所定の速度の範囲内であるか否かを判定し、判定結果をインジケータ１５１によって使用者に通知する。このとき、例えば、活性酸素供給装置１０１が所定の速度の範囲内で動かされた場合、インジケータ１５１を点灯する。なお、活性酸素供給装置１０１が所定の速度の範囲外で動かされた場合に、警告としてインジケータ１５１を点灯しても良い。このような構成により、使用者は、インジケータ１５１の点灯状態を目視し、動かす速さを調節しながら活性酸素供給装置１０１を操作することができる。これにより、活性酸素供給装置１０１が速い速度で動かされることにより被処理物１０４に所定の量あるいは所定の濃度の活性酸素が供給されなくなることを抑制できる。また、本実施例では、活性酸素供給装置１０１が速い速度で動かされることにより発生する空気の流れによって、誘起流１０５の流れに影響が及ぶことを抑制できる。

次に実施例６の構成について図１０を用いて説明する。図１０は、本実施例の活性酸素供給装置１６１において、筐体１６０が円筒形となっている構成の一例であり、中心で切断した状態を示している。実施例１における活性酸素供給装置１０１は、図２に示すように長手方向と短手方向を有する筒状の装置であった。また、活性酸素供給装置１０１の開口部１０７も長手方向と短手方向を有し、使用者が活性酸素供給装置１０１を長手方向に動かす場合と、使用者が活性酸素供給装置１０１を短手方向に動かす場合とでは、除菌できる範囲が異なる。このような、装置を動かす方向に応じて除菌できる範囲が異なる場合を鑑みて、本実施例においては、筐体１６０が円筒形となっている。プラズマ発生装置１６３（図中１６３－１～１６３－５）は、円形の開口部１６７を挟んで対向するように、開口部１６７の周囲に放射状に配置されている。また、開口部１６７と紫外光光源１６２の間には遮光板１６８が設けられている。本実施例の構成によれば、どの方向に動かしても実施例１における除菌と同様の除菌効果が得られる。

次に実施例７の構成について図１１を用いて説明する。図１１は、本実施例の処理装置１７０であり、活性酸素供給装置１７１と、被処理物１０４との位置を相対的に移動させる移動手段１７２と、を設けた構成の一例である。なお、処理装置１７０は、活性酸素供給処理装置とも称する。移動手段１７２は、図１１（ａ）に示すように、被処理物１０４に対して活性酸素供給装置１７１を動かす構成としてもよい。この場合の移動手段１７２を第１の移動手段とも称する。移動手段１７２は、図１１（ｂ）に示すように、活性酸素供給装置１７１に対して被処理物１０４を動かす構成としてもよい。この場合の移動手段１７２を第２の移動手段とも称する。本実施例の構成によれば、被処理物１０４を処理装置１７０の所定の位置に置くことで、活性酸素供給装置１７１または被処理物１０４が移動し、自動的に除菌処理が行われる。このため、使用者が活性酸素供給装置１７１を動かす負担を低減することができる。また、最適な速さで活性酸素供給装置１７１を移動することで、確実に処理効果を得ることができる。なお、本実施例においては、図１１に示すように、筐体１７３が活性酸素供給装置１７１や移動手段１７２などを覆う構成としている。筐体１７３を配置することにより、使用者が紫外光に曝されることを抑制できる。このため、実施例１で説明した遮光板１０８を設けなくともよい。

なお、以上の実施例における活性酸素供給装置１０１の用途は、被処理物１０４の除菌に限らない。例えば、被処理物１０４に活性酸素を供給することにより、被処理物１０４の消臭、被処理物１０４の漂白、被処理物１０４の親水化表面処理等も、実行することができる。

１０１活性酸素供給装置
１０２紫外光光源
１０３プラズマ発生装置
１０３－１～１０３－８プラズマ発生装置
１０４被処理物
１０４－１処理表面
１０５誘起流
１０７開口部
１０８遮光板
１１０筐体
２０１誘電体
２０１－１露出部
２０２プラズマ
２０３第１の電極
２０４縁部

Claims

筐体と、
前記筐体の内部に設けられ、オゾンを含む誘起流を発生させる複数のプラズマ発生装置と、
前記筐体の内部に設けられ、前記オゾンを含む誘起流に紫外光を照射する紫外光光源と、
前記筐体の内部に設けられ、前記筐体の開口部から前記筐体の外部に照射される前記紫外光を遮る遮光板と、
を有し、
前記紫外光光源によって前記オゾンを含む誘起流に対して紫外光が照射されることにより発生した活性酸素は、前記筐体の開口部から前記筐体の外部に供給され、
前記筐体の開口部の開口面を、前記開口面と垂直の方向から見た場合、前記遮光板の少なくとも一部が前記開口部を形成する前記筐体と重なるように配置することを特徴とする活性酸素供給装置。
前記誘起流は前記筐体の開口部に向けて流れていることを特徴とする請求項１に記載の活性酸素供給装置。
前記複数のプラズマ発生装置は、前記筐体の内部において開口部の端部が存在する面に配置されることを特徴とする請求項１または２に記載の活性酸素供給装置。
筐体と、
前記筐体の内部に設けられ、オゾンを含む誘起流を発生させる複数のプラズマ発生装置と、
前記筐体の内部に設けられ、前記オゾンを含む誘起流に紫外光を照射する紫外光光源と、
前記筐体の内部に設けられ、前記筐体の開口部から前記筐体の外部に照射される前記紫外光を遮る遮光板と、
を有し、
前記紫外光光源によって前記オゾンを含む誘起流に対して紫外光が照射されることにより発生した活性酸素は、前記筐体の開口部から前記筐体の外部に供給され、
前記遮光板と被処理物との距離は、前記プラズマ発生装置と前記被処理物との距離よりも長いことを特徴とする活性酸素供給装置。
筐体と、
前記筐体の内部に設けられ、オゾンを含む誘起流を発生させる複数のプラズマ発生装置と、
前記筐体の内部に設けられ、前記オゾンを含む誘起流に紫外光を照射する紫外光光源と、
前記筐体の内部に設けられ、前記筐体の開口部から前記筐体の外部に照射される前記紫外光を遮る遮光板と、
を有し、
前記紫外光光源によって前記オゾンを含む誘起流に対して紫外光が照射されることにより発生した活性酸素は、前記筐体の開口部から前記筐体の外部に供給され、
前記複数のプラズマ発生装置は、前記筐体の内部の前記開口部の端部に沿って設けられ、前記開口部を挟んで対向するように設けられることを特徴とする活性酸素供給装置。
前記筐体は、前記筐体の開口部の開口面に垂直な方向に第１の面と第２の面を備え、前記筐体の開口部の開口面に平行な方向に互いに対向していることを特徴とする請求項１に記載の活性酸素供給装置。
前記筐体の開口部の開口面に平行な方向における前記第１の面と前記第２の面の距離は、１２ｃｍ以下であることを特徴とする請求項６に記載の活性酸素供給装置。
前記筐体の開口部の形状は矩形であり、
前記複数のプラズマ発生装置は少なくとも第１のプラズマ発生装置と第２のプラズマ発生装置を含み、前記第１のプラズマ発生装置は前記筐体の開口部の第１の長辺の端部に沿って設けられ、前記第２のプラズマ発生装置は前記筐体の開口部の第２の長辺の端部に沿って設けられ、前記第１のプラズマ発生装置と前記第２のプラズマ発生装置は、前記開口部を挟んで対向していることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の活性酸素供給装置。
前記筐体の開口部の形状は円形であり、
前記複数のプラズマ発生装置は少なくとも第１のプラズマ発生装置と第２のプラズマ発生装置を含み、前記第１のプラズマ発生装置と前記第２のプラズマ発生装置は、前記開口部の端部に沿って設けられていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の活性酸素供給装置。
筐体と、
前記筐体の内部に設けられ、オゾンを含む誘起流を発生させる複数のプラズマ発生装置と、
前記筐体の内部に設けられ、前記オゾンを含む誘起流に紫外光を照射する紫外光光源と、
前記筐体の内部に設けられ、前記筐体の開口部から前記筐体の外部に照射される前記紫外光を遮る遮光板と、
閉じた位置と開いた位置とが切り替わるシャッタと、
を有し、
前記紫外光光源によって前記オゾンを含む誘起流に対して紫外光が照射されることにより発生した活性酸素は、前記筐体の開口部から前記筐体の外部に供給され、
前記シャッタが閉じた位置にある場合、前記開口部が覆われる状態となり、前記シャッタが開いた位置にある場合、前記開口部が露出する状態となることを特徴とする活性酸素供給装置。
前記シャッタが開いた位置にある場合、前記複数のプラズマ発生装置が駆動することを特徴とする請求項１０に記載の活性酸素供給装置。
前記シャッタが開いた位置となり前記複数のプラズマ発生装置が駆動してから、所定の時間が経過することにより、前記シャッタが閉じた位置となり前記複数のプラズマ発生装置の駆動が停止することを特徴とする請求項１１に記載の活性酸素供給装置。
筐体と、
前記筐体の内部に設けられ、オゾンを含む誘起流を発生させる複数のプラズマ発生装置と、
前記筐体の内部に設けられ、前記オゾンを含む誘起流に紫外光を照射する紫外光光源と、
前記筐体の内部に設けられ、前記筐体の開口部から前記筐体の外部に照射される前記紫外光を遮る遮光板と、
前記開口部と前記筐体の外部において活性酸素が供給される被処理物との距離を検知する近接検知手段と、
を有し、
前記紫外光光源によって前記オゾンを含む誘起流に対して紫外光が照射されることにより発生した活性酸素は、前記筐体の開口部から前記筐体の外部に供給され、
前記近接検知手段は、前記開口部と前記被処理物との距離が所定の距離よりも短くなることにより、前記複数のプラズマ発生装置を駆動させることを特徴とする活性酸素供給装置。
筐体と、
前記筐体の内部に設けられ、オゾンを含む誘起流を発生させる複数のプラズマ発生装置と、
前記筐体の内部に設けられ、前記オゾンを含む誘起流に紫外光を照射する紫外光光源と、
前記筐体の内部に設けられ、前記筐体の開口部から前記筐体の外部に照射される前記紫外光を遮る遮光板と、
前記開口部と人体との距離を検知する人体検知手段と、
を有し、
前記紫外光光源によって前記オゾンを含む誘起流に対して紫外光が照射されることにより発生した活性酸素は、前記筐体の開口部から前記筐体の外部に供給され、
前記人体検知手段は、前記開口部と前記人体との距離が所定の距離よりも短くなることにより、前記複数のプラズマ発生装置の駆動を停止させることを特徴とする活性酸素供給装置。
前記筐体において前記紫外光を遮断する材質であり、前記紫外光光源が駆動していることを視認可能である窓部を有することを特徴とする請求項１に記載の活性酸素供給装置。
前記筐体において前記紫外光光源により前記紫外光が照射されていることを報知する報知手段を有することを特徴とする請求項１に記載の活性酸素供給装置。
筐体と、
前記筐体の内部に設けられ、オゾンを含む誘起流を発生させる複数のプラズマ発生装置と、
前記筐体の内部に設けられ、前記オゾンを含む誘起流に紫外光を照射する紫外光光源と、
前記筐体の内部に設けられ、前記筐体の開口部から前記筐体の外部に照射される前記紫外光を遮る遮光板と、
前記活性酸素供給装置の加速度を検知する加速度検知手段と、
前記加速度検知手段による検知結果に応じて、前記活性酸素供給装置が所定の速度の範囲内で動かされているか否かを判定し、判定結果を報知する速度報知手段と、を有し、
前記紫外光光源によって前記オゾンを含む誘起流に対して紫外光が照射されることにより発生した活性酸素は、前記筐体の開口部から前記筐体の外部に供給されることを特徴とする活性酸素供給装置。
請求項１乃至１７のいずれか一項に記載の前記活性酸素供給装置を移動させる第１の移動手段を有し、
前記第１の移動手段により、前記開口部と前記筐体の外部において活性酸素が供給される被処理物の表面とが平行となる状態で、前記被処理物の表面に沿って前記活性酸素供給装置を移動させることにより前記被処理物の表面に活性酸素を供給することを特徴とする活性酸素供給処理装置。
前記筐体の外部において活性酸素が供給される被処理物の位置を、請求項１乃至１７のいずれか一項に記載の前記活性酸素供給装置に対して移動させる第２の移動手段を有し、
前記第２の移動手段により、前記開口部と前記被処理物の表面とが平行となる状態で、前記活性酸素供給装置の前記開口部に沿って前記被処理物を移動させることにより前記被処理物の表面に活性酸素を供給することを特徴とする活性酸素供給処理装置。