JP7571410B2 - 歯磨剤組成物 - Google Patents
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Description
1.(A)酸化アルミニウム:0.5~5質量%、(B)シリカ顆粒:0.5~3質量%、(C)アニオン性界面活性剤:1.2~3質量%、及び(D)ノニオン性界面活性剤:0.3~2質量%を含有する歯磨剤組成物。
2.(B)シリカ顆粒の平均粒子径が80~300μmである1記載の歯磨剤組成物。
3.(C)成分が、アルキル硫酸塩、α-オレフィンスルホン酸塩及びアミノ酸系界面活性剤から選ばれる1種以上のアニオン性界面活性剤である1又は2記載の歯磨剤組成物。
4.(D)成分が、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリグリセリン脂肪酸エステル及びポリオキシエチレンアルキルアルコールエーテルから選ばれる1種以上である1~3のいずれかに記載の歯磨剤組成物。
[(A)成分]
本発明の(A)成分は酸化アルミニウムであり、ステイン除去効果を有する。(A)成分の含有量は、歯磨剤組成物中0.5~5質量%であり、0.5~5.0質量%が好ましく、1.5~3.0質量%がより好ましい。(A)成分の含有量が0.5質量%未満だと、ステイン除去効果、光沢付与効果が不十分であり、5質量%を超えると、粉っぽく、泡が重く感じ、磨き心地が悪くなる。
本発明の(B)成分はシリカ顆粒であり、1種単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。シリカ顆粒としては、湿式法のゲル法シリカ、沈降法シリカ等が好適に用いられる。シリカ顆粒の調製方法は特に限定されないが、例えば、ゲル法で4~10nm程度に一次粒子径を成長させたシリカゲルの塊を、洗浄・乾燥させた後に粉砕して平均粒子径が80~300μmであるシリカ顆粒に分級する方法、シリカヒドロゾルを空気中に噴霧させゲル化させることで顆粒を調製する方法、沈降法で一次粒子の成長を抑えながら凝集させた後に、一次粒子径を4~10nm程度に成長させる方法等が挙げられる。なお、シリカ顆粒は着色したものも使用することができる。
本発明の(C)成分はアニオン性界面活性剤であり、1種単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。(C)成分を配合することで、清掃感や口臭原因菌(フゾ菌:フゾバクテリウム ヌクレアタム)殺菌力が向上する。アニオン性界面活性剤としては、アルキル硫酸塩、α-オレフィンスルホン酸塩及びアミノ酸系界面活性剤等が挙げられる。塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、アンモニウム塩等が挙げられ、ナトリウム塩が好ましい。アルキル硫酸塩は、アルキル基の炭素数が10~14のものが好ましく、具体的には、ラウリル硫酸ナトリウム、ミリストイル硫酸ナトリウム等が挙げられる。α-オレフィンスルホン酸塩としては、炭素数14~16のα-オレフィンスルホン酸のナトリウム、カリウム塩等が挙げられる。中でも、炭素数14のα-オレフィンスルホン酸塩、特に、α-オレフィンスルホン酸ナトリウムが好ましい。アミノ酸型アニオン性界面活性剤としては、N-アシル-L-グルタミン酸、ラウロイルメチルタウリンナトリウム、ラウロイルサルコシンナトリウム等が好ましい。中でも、アルキル硫酸塩が好ましい。
本発明の(D)成分はノニオン性界面活性剤であり、1種単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。(D)成分を特定量で配合することで、口臭原因菌殺菌力及び使用中の清涼感を維持し、磨き心地を向上させることができる。ノニオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアルコールエーテル、ショ糖脂肪酸エステル、マルトース脂肪酸エステル等の糖脂肪酸エステル、マルチトール脂肪酸エステル、ラクトール脂肪酸エステル等の糖アルコール脂肪酸エステル、アルキロールアマイド、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ラウリル酸モノ又はジエタノールアミド等の脂肪酸ジエタノールアミド、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン脂肪酸エステル、プルロニック(登録商標)等が挙げられる。中でも、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアルコールエーテルが好ましい。
本発明の歯磨剤組成物は、練歯磨、液体歯磨、潤製歯磨等として、特に練歯磨剤に調製できる。製造方法は特に限定されず、公知の歯磨剤組成物の製造方法を採用できる。
下記表に示す組成の歯磨剤組成物について、下記に示す方法で評価を行った。結果を表中に併記する。なお、実施例1、3、7、8及び11以外の実施例は参考例である。
[バイオフィルムの調製]
使用した細菌は、アメリカンタイプカルチャーコレクション(ATCC)より購入し、以下の方法によりプレカルチャーを行った。
アクチノマイセス ヴィスコサス(Actinomyces viscosus)ATCC43146、フゾバクテリウム ヌクレアタム(Fusobacterium nucleatum)ATCC10953、ストレプトコッカス サリバリアス(Streptcoccus sarivalis)AC7073は、5mg/Lヘミン(Sigma社製)及び1mg/L ビタミンK(和光純薬工業(株)製)を含むトッドへヴィットブロス(Becton and Dickinson社製)培養液〔THBHM〕により培養した。なお、培養は、37℃で一晩嫌気培養(80vol%窒素、10vol%二酸化炭素、10vol%水素)した。各菌液200μLを上記培養液20mLに添加し、同条件でさらに一晩嫌気培養した。培養後、菌液は遠心分離(10,000rpm、10min)により集菌した。遠心集菌した各細菌は、ベイサルメディウムムチン培養液〔BMM〕に再懸濁した後、予め同培地1,000mLを入れた培養槽に、菌数がそれぞれ1×107個/mLになるように24穴培養プレートに接種し、37℃において嫌気条件下(95vol%窒素、5vol%二酸化炭素)で二日間培養し、バイオフィルムを得た。
プロテオースペプトン(Becton and Dickinson社製):4g/L
トリプトン(Becton and Dickinson社製):2g/L
イーストエキス(Becton and Dickinson社製):2g/L
ムチン(Sigma社製):5g/L
ヘミン(Sigma社製):2.5mg/L
ビタミンK(和光純薬工業(株)製):0.5mg/L
KCl(和光純薬工業(株)製):1g/L
システイン(和光純薬工業(株)製):0.2g/L
蒸留水:残部
フゾ選択培地は、以下のように調製した。精製水700mLに、トリプトン(Becton and Dickinson社製):2g/L、イーストエキス(Becton and Dickinson社製):3.5g/L、NaCl(富士フィルム和光社製):3.5g/L、グルコース(富士フィルム和光社製):3.5mg/L、L-トリプトファン(富士フィルム和光社製):0.14g/L、寒天を混合し、121℃、20分間オートクレーブした後、クリスタルバイオレット(5ml/mL)700μL、エリスロマイシン(5ml/ml)560μL、馬無菌脱繊血33mLを添加した。
サンプル溶液は次のように調製した。サンプルの歯磨剤組成物を人工唾液(50mM KCl,1mM CaCl2,0.1mM MgCl2,1mM KH2PO4,pH7.0)で10倍に希釈し、遠心分離(10,000回転、10分)した上清をサンプル溶液とした。
得られた24穴培養プレートのバイオフィルムに対して、培地吸引除去後、PBSで二回洗浄し、サンプル溶液を30秒間処置した。PBSで二回洗浄後、超音波を用いバイオフィルムを回収し、フゾ菌選択培地に播種、上記記載の嫌気条件下で二日間培養し、フゾ菌生菌数を測定した。得られたCFUから、下記評価基準に基づき口臭原因菌殺菌力を示す。
◎:CFUが106未満
○:CFUが106以上107未満
×:CFUが107以上
ハイドロキシアパタイト板(HAP、HOYA株式会社製、φ7mm)に以下の方法でモデルステインを付着させた。HAPを、耐水研磨紙(#400)を用いて表面を研磨した。処理したHAPを1%アルブミン溶液中で10分間1回/2秒の速さで、50℃中で回転させながらアルブミンを吸着させた。次に、粉末紅茶(柳屋茶楽社製パウティ)を人工唾液で1%に調製した溶液中、同条件で処理し、ステインを積層させた。この操作を50回繰り返したHAP(処理前)を光沢効果測定に用いた。調製したHAPを、人工だ液で歯磨剤組成物を3倍希釈したサンプル中で、200g加圧下、クリニカアドバンテージ歯ブラシ(ライオン(株)製)を用い、50回ブラッシング(宮川商店製)処理した。処理前後の光沢度を光沢度計(日本電色社製VG2000)にて測定した。得られた処理前後の光沢度から、下記評価基準に基づき光沢効果を示す。
◎:処理前と比較して、光沢度が20以上高くなった
○:処理前と比較して、光沢度が10以上20未満高くなった
×:処理前と比較して、光沢度が高くなったのが10未満である
パネラー4名による使用感評価を行った。歯ブラシ(クリニカアドバンテージハブラシ、4列コンパクトふつうタイプ:ライオン(株)製)にサンプルの歯磨剤組成物1gを乗せ、3分間歯みがきを行った。使用時の「清掃感」及び「磨き心地のよさ」について下記評点で評価し、評点の平均点に基づき使用感評価を示す。
1:非常によくない
2:よくない
3:どちらともいえない
4:よい
5:非常によい
[評価基準:使用中の清掃感]
◎:4人の平均点が4点以上
○:4人の平均点が3点以上4点未満
△:4人の平均点が2点以上3点未満
×:4人の平均点が2点未満
5:非常によい
4:よい
3:どちらともいえない
2:よくない
1:非常によくない
[評価基準:使用中の磨き心地のよさ]
◎:4人の平均点が4点以上
○:4人の平均点が3点以上4点未満
△:4人の平均点が2点以上3点未満
×:4人の平均点が2点未満
(A)日本軽金属(株)製 酸化アルミニウム
(B-1)PQコーポレーション製 BFG50
(B-2)PQコーポレーション製 BFG10
(C-1)BASFジャパン テキサポンK12GPH
(C-2)ライオン・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製 リポランLB-440
(C-3)日光ケミカルズ(株)製 NIKKOL LMT
(D-1)日光ケミカルズ(株)製 NIKKOL HCO-20
(D-2)日光ケミカルズ(株)製 NIKKOL HCO-60
(D-3)日本エマルジョン(株)製 EMALEX 705
(D-4)阪本薬品工業(株)製 ML-750
Claims (2)
- (A)酸化アルミニウム:1.5~3質量%、(B)平均粒子径が80~300μmであるシリカ顆粒:1.0~2.8質量%、(C)アルキル硫酸塩及びα-オレフィンスルホン酸塩から選ばれる1種以上のアニオン性界面活性剤:1.5~3質量%、及び(D)ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油及びポリグリセリン脂肪酸エステルから選ばれる1種以上のノニオン性界面活性剤:0.3~1.5質量%を含有し、(A)/(B)で表される、(A)成分と(B)成分との含有質量比が0.5~6である歯磨剤組成物。
- (B)シリカ顆粒の平均粒子径が100~250μmである請求項1記載の歯磨剤組成物。
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