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JP7559370B2 - Phenoxy resin composition and resin material - Google Patents

Phenoxy resin composition and resin material Download PDF

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JP7559370B2
JP7559370B2 JP2020104736A JP2020104736A JP7559370B2 JP 7559370 B2 JP7559370 B2 JP 7559370B2 JP 2020104736 A JP2020104736 A JP 2020104736A JP 2020104736 A JP2020104736 A JP 2020104736A JP 7559370 B2 JP7559370 B2 JP 7559370B2
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Description

本発明は、フェノキシ樹脂組成物および樹脂材料に関する。 The present invention relates to a phenoxy resin composition and a resin material.

これまで放熱絶縁材料において様々な開発がなされてきた。この種の技術として、例えば、特許文献1に記載の技術が知られている。特許文献1には、電気・電子機器等を構成する放熱・絶縁材料として、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノール系硬化剤、熱伝導性フィラーとして窒化ホウ素粒子を使用した熱硬化性樹脂組成物が記載されている(特許文献1の表1)。 So far, various developments have been made in heat dissipation and insulation materials. For example, the technology described in Patent Document 1 is known as this type of technology. Patent Document 1 describes a thermosetting resin composition that uses bisphenol A type epoxy resin, a phenolic hardener, and boron nitride particles as a thermally conductive filler as a heat dissipation and insulation material for electrical and electronic devices (Table 1 of Patent Document 1).

特開2015-193504号公報JP 2015-193504 A

しかしながら、本発明者が検討した結果、上記特許文献1に記載のビスフェノールA型エポキシ樹脂において、流動性および熱伝導性の点で改善の余地があることが判明した。 However, as a result of the inventor's investigations, it was found that there is room for improvement in terms of fluidity and thermal conductivity in the bisphenol A type epoxy resin described in Patent Document 1 above.

本発明者はさらに検討したところ、放熱・絶縁材料に用いる樹脂材料において、熱硬化性樹脂に通常使用されるビスフェノールA型エポキシ樹脂において、熱伝導性に改善の余地があることを見出した。 After further investigation, the inventors found that there was room for improvement in the thermal conductivity of bisphenol A type epoxy resin, which is commonly used as a thermosetting resin in resin materials used for heat dissipation and insulation materials.

これに対して検討を進めた結果、分子内にメソゲン構造を有するフェノキシ樹脂を使用することで、熱伝導性を向上できることが分かった。
さらに検討したところ、フェノキシ樹脂とともに含まれる低分子量成分を低減することで、その熱伝導性をさらに高められることが判明した。しかしながら、低分子量成分の含有量を過剰に低減すると、フェノキシ樹脂の流動性が低下し、樹脂材料に適用しづらくなる恐れがあった。
As a result of further investigation, it was found that thermal conductivity can be improved by using a phenoxy resin that has a mesogen structure in its molecule.
Further investigation revealed that the thermal conductivity of the phenoxy resin could be further improved by reducing the amount of low molecular weight components contained in the resin. However, excessive reduction in the amount of low molecular weight components could reduce the fluidity of the phenoxy resin, making it difficult to apply the resin to resin materials.

このような知見に基づきさらに鋭意研究したところ、GPCで得られるフェノキシ樹脂組成物の分子量分布において、Mwが1,000以下の低分子量成分のピーク面積を所定範囲内とすることで、フェノキシ樹脂の熱伝導性および流動性を向上できることを見出し、本発明を完成するに至った。 Based on this knowledge, further intensive research led to the discovery that the thermal conductivity and fluidity of the phenoxy resin can be improved by controlling the peak area of low molecular weight components with Mw of 1,000 or less within a specified range in the molecular weight distribution of the phenoxy resin composition obtained by GPC, and thus the present invention was completed.

本発明によれば、
分子内にメソゲン構造を有するフェノキシ樹脂と、
重量平均分子量Mwが1,000以下の低分子量成分と、
を含む、フェノキシ樹脂組成物であって、
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで得られる当該フェノキシ樹脂組成物の分子量分布において、前記低分子量成分のピーク面積が、全ピーク面積100%に対して、7.0%以上50.0%以下である、
フェノキシ樹脂組成物が提供される。
According to the present invention,
A phenoxy resin having a mesogen structure in its molecule;
A low molecular weight component having a weight average molecular weight Mw of 1,000 or less;
A phenoxy resin composition comprising:
In the molecular weight distribution of the phenoxy resin composition obtained by gel permeation chromatography, the peak area of the low molecular weight component is 7.0% or more and 50.0% or less with respect to 100% of the total peak area.
A phenoxy resin composition is provided.

また本発明によれば、上記フェノキシ樹脂組成物を含む、樹脂材料が提供される。 The present invention also provides a resin material containing the above-mentioned phenoxy resin composition.

本発明によれば、流動性および熱伝導性に優れたフェノキシ樹脂組成物およびそれを用いた樹脂材料が提供される。 The present invention provides a phenoxy resin composition with excellent fluidity and thermal conductivity, and a resin material using the same.

本実施形態に係る金属ベース基板の構成を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing a configuration of a metal base substrate according to an embodiment of the present invention.

以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。また、図は概略図であり、実際の寸法比率とは一致していない。 The following describes an embodiment of the present invention with reference to the drawings. Note that in all drawings, similar components are given similar reference numerals and descriptions are omitted where appropriate. Also, the drawings are schematic and do not correspond to the actual dimensional ratios.

本実施形態のフェノキシ樹脂組成物の概要を説明する。
上記フェノキシ樹脂組成物は、分子内にメソゲン構造を有するフェノキシ樹脂と、重量平均分子量Mwが1,000以下の低分子量成分と、を含む。
上記フェノキシ樹脂組成物は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで得られる当該フェノキシ樹脂組成物の分子量分布において、Mwが1,000以下の低分子量成分のピーク面積が、全ピーク面積100%に対して、7.0%以上50.0%以下という特性を有する。
The phenoxy resin composition of the present embodiment will be outlined below.
The phenoxy resin composition contains a phenoxy resin having a mesogen structure in the molecule, and a low-molecular-weight component having a weight-average molecular weight Mw of 1,000 or less.
The phenoxy resin composition has a characteristic that, in the molecular weight distribution of the phenoxy resin composition obtained by gel permeation chromatography, the peak area of a low molecular weight component having a Mw of 1,000 or less is 7.0% or more and 50.0% or less with respect to 100% of the total peak area.

本発明者の知見によれば、分子内にメソゲン構造を有するフェノキシ樹脂を使用することで、熱伝導性を向上でき、さらには、フェノキシ樹脂中に含まれる低分子量成分を低減することで、その熱伝導性をさらに高められることが判明した。
しかしながら、低分子量成分の含有量を過剰に低減すると、フェノキシ樹脂の流動性が低下してしまうことが分かった。流動性の低下によって溶融粘度が高くなり、樹脂材料に適用しづらくなる恐れがある。
According to the findings of the present inventors, it has been found that the thermal conductivity can be improved by using a phenoxy resin having a mesogenic structure in the molecule, and further, the thermal conductivity can be further increased by reducing the low molecular weight components contained in the phenoxy resin.
However, it was found that excessive reduction in the content of low molecular weight components reduces the fluidity of the phenoxy resin, which can lead to an increase in melt viscosity and make it difficult to apply the resin to resin materials.

このような知見に基づきさらに鋭意研究したところ、GPCで得られるフェノキシ樹脂組成物の分子量分布において、Mwが1,000以下の低分子量成分のピーク面積を指標とすることで、低分子量成分の含有量を適切に制御でき、フェノキシ樹脂における熱伝導性および流動性を向上できることが分かった。さらに検討した結果、低分子量成分のピーク面積を上記下限以上とすることで、流動性を向上させ、それを上記上限以下とすることで、熱伝導性を向上できることが見出された。 Further intensive research based on this knowledge revealed that by using the peak area of low molecular weight components with Mw of 1,000 or less as an index in the molecular weight distribution of the phenoxy resin composition obtained by GPC, the content of low molecular weight components can be appropriately controlled and the thermal conductivity and fluidity of the phenoxy resin can be improved. As a result of further investigation, it was found that fluidity can be improved by setting the peak area of the low molecular weight components to above the above lower limit, and that thermal conductivity can be improved by setting it to below the above upper limit.

本実施形態のフェノキシ樹脂組成物は、目的に応じて他の成分とともに、樹脂材料に適用できる。
本実施形態によれば、上記のフェノキシ樹脂組成物、必要に応じて、熱硬化性樹脂、硬化剤、硬化促進剤、その他の添加剤を含む熱硬化性樹脂組成物(熱伝導性樹脂組成物)を提供できる。
The phenoxy resin composition of the present embodiment can be applied to resin materials together with other components depending on the purpose.
According to this embodiment, it is possible to provide a thermosetting resin composition (thermally conductive resin composition) containing the above-mentioned phenoxy resin composition, and, if necessary, a thermosetting resin, a curing agent, a curing accelerator, and other additives.

熱硬化性樹脂組成物は、様々な形態で使用され得るが、例えば、シート形態や基板形態で使用されてもよい。
熱硬化性樹脂組成物は、特に限定されず、放熱材料、絶縁材料、半導体封止材料などの各種様々な用途に適用できる。
The thermosetting resin composition can be used in various forms, for example, in the form of a sheet or a substrate.
The thermosetting resin composition is not particularly limited, and can be used for a variety of purposes such as a heat dissipation material, an insulating material, and a semiconductor encapsulation material.

この熱硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、熱伝導性フィラー等の各種の機能性添加剤を含めてもよい。このような熱硬化性樹脂組成物は、電気・電子機器などの放熱絶縁材料として用いることが可能である。この放熱絶縁材料は、一例として、電子部品を搭載するための基板材料等に用いてもよい。 This thermosetting resin composition may contain various functional additives such as thermally conductive fillers, if necessary. Such a thermosetting resin composition can be used as a heat dissipation insulating material for electric and electronic devices. This heat dissipation insulating material may be used, for example, as a substrate material for mounting electronic components.

電気・電子機器は、たとえば、通常のLED照明装置(電子部品としてLEDを備える照明装置)や電源系装置(電子部品としてパワーモジュールを備える電子装置)等を用いることができる。LEDやパワーモジュールは通常の電子部品よりも発熱量が大きくなるので、高温の環境下で動作することになり、金属ベース基板が必要になる。この熱硬化性樹脂組成物によれば、金属ベース基板に用いることができる放熱絶縁材料を提供することができる。 Electrical and electronic devices can use, for example, normal LED lighting devices (lighting devices equipped with LEDs as electronic components) and power supply devices (electronic devices equipped with power modules as electronic components). LEDs and power modules generate more heat than normal electronic components, so they operate in high-temperature environments and require a metal-based substrate. This thermosetting resin composition can provide a heat dissipation and insulation material that can be used for metal-based substrates.

以下、本実施形態のフェノキシ樹脂組成物について詳述する。 The phenoxy resin composition of this embodiment is described in detail below.

上記フェノキシ樹脂組成物は、分子内にメソゲン構造を有するフェノキシ樹脂を含む。 The phenoxy resin composition contains a phenoxy resin having a mesogenic structure in the molecule.

上記フェノキシ樹脂組成物は、Mwが1k超の高分子量成分(A)と、Mwが1k以下の低分子量成分(B+C)とを含む。
低分子量成分は、上記フェノキシ樹脂に含まれるモノマー成分(C)を2種または3種以上と、モノマー成分(C)を含まないMwが1k以下の低分子量成分(B)とを含んでもよい。モノマー成分にはエポキシモノマー、フェノールモノマーが含まれてもよい。低分子量成分(B)はモノマー成分(C)の1種または2種以上の重合物で構成されてもよい。
The phenoxy resin composition contains a high molecular weight component (A) having a Mw of more than 1k and a low molecular weight component (B+C) having a Mw of 1k or less.
The low molecular weight component may contain two or more types of monomer component (C) contained in the above-mentioned phenoxy resin, and a low molecular weight component (B) having Mw of 1k or less and not including monomer component (C). The monomer components may include epoxy monomers and phenol monomers. The low molecular weight component (B) may be composed of one or more polymers of monomer component (C).

上記フェノキシ樹脂が、後述するように、多官能フェノール化合物と多官能エポキシ化合物との反応により得られる場合、上記低分子量成分は、未反応モノマー成分(多官能フェノール化合物および多官能エポキシ化合物)(C)、および当該反応物の低核体(低分子量成分(B))を含む。低核体とは未反応モノマー成分を除く当該反応物のうち重量平均分子量1000以下のものを意味する。 When the phenoxy resin is obtained by the reaction of a polyfunctional phenolic compound with a polyfunctional epoxy compound as described below, the low molecular weight component includes unreacted monomer components (polyfunctional phenolic compounds and polyfunctional epoxy compounds) (C) and low molecular weight components of the reaction product (low molecular weight components (B)). Low molecular weight components refer to those reactants excluding unreacted monomer components that have a weight average molecular weight of 1000 or less.

本明細書中、上記フェノキシ樹脂組成物は、上記の高分子量成分および低分子量成分を含み、溶剤は含まないものと定義してよい。ただし、上記フェノキシ樹脂組成物は、本発明の効果を阻害しない範囲で、高分子量成分および低分子量成分以外の不純物成分を含有してもよい。 In this specification, the phenoxy resin composition may be defined as containing the high molecular weight component and the low molecular weight component, but not containing a solvent. However, the phenoxy resin composition may contain impurity components other than the high molecular weight component and the low molecular weight component, as long as the effect of the present invention is not impaired.

上記メソゲン構造含有フェノキシ樹脂の一例として、分子内において、フェノール化合物由来の構造単位およびエポキシ化合物由来の構造単位を含み、これらの構造単位の少なくとも一方にメソゲン構造を有する化合物を含むものが挙げられる。
また上記メソゲン構造含有フェノキシ樹脂の他の例として、分子内において、メソゲン構造含有フェノール化合物由来の構造単位を含むものが挙げられる。
An example of the mesogenic structure-containing phenoxy resin is one that contains a structural unit derived from a phenol compound and a structural unit derived from an epoxy compound in the molecule, and at least one of these structural units contains a compound having a mesogenic structure.
Other examples of the mesogenic structure-containing phenoxy resin include those that contain, in the molecule, a structural unit derived from a mesogenic structure-containing phenol compound.

上記メソゲン構造含有フェノキシ樹脂の一例は、公知の手法で製造できるが、例えば、2個以上のヒドロキシ基を分子内に有する多官能フェノール化合物と、2個以上のエポキシ基を分子内に有する多官能エポキシ化合物とを反応することにより得ることができる。
すなわち、上記フェノキシ樹脂は、多官能フェノール化合物と多官能エポキシ化合物との反応化合物を含むことができる。これらの多官能フェノール化合物および多官能エポキシ化合物のいずれか一方または両方が、メソゲン構造を有するものである。
An example of the mesogen structure-containing phenoxy resin can be produced by a known method, for example, by reacting a polyfunctional phenol compound having two or more hydroxy groups in the molecule with a polyfunctional epoxy compound having two or more epoxy groups in the molecule.
That is, the phenoxy resin may contain a reaction compound of a polyfunctional phenol compound and a polyfunctional epoxy compound, either or both of which have a mesogen structure.

また上記メソゲン構造含有フェノキシ樹脂の他例は、公知の手法で製造できるが、例えば、2個以上のフェノール基を分子内に有するメソゲン構造含有フェノール化合物をエピクロロヒドリン中に付加重合反応することにより得ることができる。
すなわち、上記フェノキシ樹脂は、メソゲン構造含有フェノール化合物の付加重合物を含むことができる。
Other examples of the mesogenic structure-containing phenoxy resins can be produced by known methods, for example, by subjecting a mesogenic structure-containing phenolic compound having two or more phenol groups in the molecule to an addition polymerization reaction in epichlorohydrin.
That is, the phenoxy resin may contain an addition polymer of a phenol compound having a mesogen structure.

上記フェノキシ樹脂の製造において、無溶媒下または反応溶媒の存在下に行うことができ、用いる反応溶媒としては、非プロトン性有機溶媒、例えば、メチルエチルケトン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトフェノン、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、スルホラン、シクロヘキサノンなどを好適に用いることができる。反応終了後に溶媒置換などを行なうことで好適な溶媒に溶解した樹脂として得ることが可能である。また、溶媒反応で得られたフェノキシ樹脂は、蒸発器等を用いた脱溶媒処理をすることにより、溶媒を含まない固形状の樹脂とすることもできる。 The above-mentioned phenoxy resin can be produced without a solvent or in the presence of a reaction solvent. The reaction solvent used can be an aprotic organic solvent, such as methyl ethyl ketone, dioxane, tetrahydrofuran, acetophenone, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, N,N-dimethylacetamide, N,N-dimethylformamide, sulfolane, or cyclohexanone. After completion of the reaction, the resin can be obtained as a solution in a suitable solvent by performing solvent replacement or the like. The phenoxy resin obtained by the solvent reaction can also be made into a solvent-free solid resin by performing a solvent removal process using an evaporator or the like.

上記フェノキシ樹脂の製造に用いることのできる反応触媒としては、従来公知の重合触媒として、アルカリ金属水酸化物、第三アミン化合物、第四アンモニウム化合物、第三ホスフィン化合物、及び第四ホスホニウム化合物、イミダゾール化合物が好適に使用される。 Reaction catalysts that can be used in the production of the above-mentioned phenoxy resin include conventionally known polymerization catalysts such as alkali metal hydroxides, tertiary amine compounds, quaternary ammonium compounds, tertiary phosphine compounds, quaternary phosphonium compounds, and imidazole compounds.

上記フェノキシ樹脂の重量平均分子量(Mw)は、通常500~200,000である。好ましくは1,000~100,000であり、より好ましくは2,000~50,000である。Mwはゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて換算した値を示す。 The weight average molecular weight (Mw) of the phenoxy resin is usually 500 to 200,000. It is preferably 1,000 to 100,000, and more preferably 2,000 to 50,000. Mw is measured by gel permeation chromatography and is converted using a standard polystyrene calibration curve.

本実施形態において、メソゲン構造は、例えば、下記一般式(1)または一般式(2)で表される構造を有するものである。
-A-x-A- ・・(1)
-x-A-x- ・・(2)
In this embodiment, the mesogenic structure has, for example, a structure represented by the following general formula (1) or (2).
-A 1 -x-A 2 -...(1)
-x-A 1 -x-...(2)

上記一般式(1)、一般式(2)中、AおよびAは、各々独立して、芳香族基、縮合芳香族基、脂環基、または脂環式複素環基を表し、xは、各々独立して、直接結合、または-O-、-C=C-、-C≡C-、-CO-、-CO-O-、-CO-NH-、-CH=N-、-CH=N-N=CH-、-N=N-および-N(O)=N-からなる群から選択される2価の結合基を示す。 In the above general formula (1) and general formula (2), A 1 and A 2 each independently represent an aromatic group, a condensed aromatic group, an alicyclic group, or an alicyclic heterocyclic group, and x each independently represent a direct bond or a divalent bonding group selected from the group consisting of -O-, -C=C-, -C≡C-, -CO-, -CO-O-, -CO-NH-, -CH=N-, -CH=N-N=CH-, -N=N-, and -N(O)=N-.

ここで、A、Aは各々独立して、ベンゼン環を有する炭素数6~12の炭化水素基、ナフタレン環を有する炭素数10~20の炭化水素基、ビフェニル構造を有する炭素数12~24の炭化水素基、ベンゼン環を3個以上有する炭素数12~36の炭化水素基、縮合芳香族基を有する炭素数12~36の炭化水素基、炭素数4~36の脂環式複素環基から選択されるものであることが好ましい。A、Aは、無置換であってもよく、または置換基を有する誘導体であってもよい。 Here, A 1 and A 2 are preferably each independently selected from a hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms and a benzene ring, a hydrocarbon group having 10 to 20 carbon atoms and a naphthalene ring, a hydrocarbon group having 12 to 24 carbon atoms and a biphenyl structure, a hydrocarbon group having 12 to 36 carbon atoms and having three or more benzene rings, a hydrocarbon group having 12 to 36 carbon atoms and having a condensed aromatic group, and an alicyclic heterocyclic group having 4 to 36 carbon atoms. A 1 and A 2 may be unsubstituted or may be a derivative having a substituent.

メソゲン構造中のA、Aの具体例としては、例えば、フェニレン、ビフェニレン、ナフチレン、アントラセニレン、シクロヘキシル、ピリジル、ピリミジル、チオフェニレン等が挙げられる。また、これらは無置換であっても良く、脂肪族炭化水素基、ハロゲン基、シアノ基、ニトロ基などの置換基を有する誘導体であってもよい。 Specific examples of A 1 and A 2 in the mesogenic structure include phenylene, biphenylene, naphthylene, anthracenylene, cyclohexyl, pyridyl, pyrimidyl, thiophenylene, etc. These may be unsubstituted or may be derivatives having a substituent such as an aliphatic hydrocarbon group, a halogen group, a cyano group, or a nitro group.

メソゲン構造中の結合基(連結基)に相当するxとしては、例えば、直接結合、または-C=C-、-C≡C-、-CO-O-、-CO-NH-、-CH=N-、-CH=N-N=CH-、-N=N-または-N(O)=N-の群から選ばれる2価の置換基が好ましい。
ここで、直接結合とは、単結合、またはメソゲン構造中のAおよびAが互いに連結して環構造を形成することを意味する。例えば、上記一般式(1)で表される構造に、ナフタレン構造が含まれていてもよい。
As x corresponding to a bonding group (linking group) in the mesogenic structure, for example, a direct bond or a divalent substituent selected from the group consisting of -C=C-, -C≡C-, -CO-O-, -CO-NH-, -CH=N-, -CH=N-N=CH-, -N=N- or -N(O)=N- is preferred.
Here, the direct bond means a single bond, or a ring structure formed by bonding A 1 and A 2 in the mesogenic structure to each other. For example, the structure represented by the above general formula (1) may contain a naphthalene structure.

上記多官能フェノール化合物としては、例えば、下記の一般式(A)で表されるメソゲン構造含有化合物を用いることができる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。 As the polyfunctional phenol compound, for example, a mesogen structure-containing compound represented by the following general formula (A) can be used. These may be used alone or in combination of two or more kinds.

Figure 0007559370000001
Figure 0007559370000001

上記一般式(A)中、RおよびRは、それぞれ独立に、ヒドロキシ基を表し、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~6の鎖状もしくは環状アルキル基、フェニル基およびハロゲン原子から選択される1種を表し、aおよびcはそれぞれ1~3の整数であり、bおよびdはそれぞれ0~2の整数である。ただし、a+bおよびc+dは、それぞれ1~3のいずれかである。a+cは3以上でもよい。nは0または1である。 In the above general formula (A), R1 and R3 each independently represent a hydroxy group, R2 and R4 each independently represent one selected from a hydrogen atom, a linear or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, and a halogen atom, a and c each represent an integer of 1 to 3, and b and d each represent an integer of 0 to 2. However, a+b and c+d each represent an integer of 1 to 3. a+c may be 3 or more. n is 0 or 1.

上記多官能エポキシ化合物としては、例えば、下記の一般式(B)で表されるメソゲン構造含有化合物を用いることができる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。 As the polyfunctional epoxy compound, for example, a mesogen structure-containing compound represented by the following general formula (B) can be used. These may be used alone or in combination of two or more types.

Figure 0007559370000002
Figure 0007559370000002

上記一般式(B)中、RおよびRは、それぞれ独立に、グリシジルエーテル基を表し、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~6の鎖状もしくは環状アルキル基、フェニル基およびハロゲン原子から選択される1種を表し、eおよびgはそれぞれ1~3の整数であり、fおよびhはそれぞれ0~2の整数である。ただし、e+fおよびg+hは、それぞれ1~3のいずれかである。nは0または1である。 In the above general formula (B), R5 and R7 each independently represent a glycidyl ether group, R6 and R8 each independently represent one selected from a hydrogen atom, a linear or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, and a halogen atom, e and g each independently represent an integer of 1 to 3, and f and h each independently represent an integer of 0 to 2, provided that e+f and g+h each independently represent an integer of 1 to 3, and n is 0 or 1.

また、上記一般式(A)および一般式(B)中のRは、それぞれ、上記の-A-x-A-、-x-A-x-、または-x-を表すものである。なお、上記一般式(A)および一般式(B)中、nが0の場合、2つのベンゼン環により縮合環を形成してもよい。 Furthermore, R in the above general formula (A) and general formula (B) represents the above-mentioned -A 1 -x-A 2 -, -x-A 1 -x-, or -x-, respectively. Note that, in the above general formula (A) and general formula (B), when n is 0, a condensed ring may be formed by two benzene rings.

上記R、R、RおよびRの具体例としては、それぞれ、例えば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、塩素原子、臭素原子等が挙げられるが、これらの中でも、特に、水素原子、またメチル基であるのが好ましい。 Specific examples of R2 , R4 , R6 and R8 include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a chlorine atom, a bromine atom and the like, with a hydrogen atom or a methyl group being particularly preferred.

上記メソゲン構造を含有する多官能エポキシ化合物としては、例えば、上記の一般式(B)で表される化合物の付加重合物を用いてもよい。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。 As the polyfunctional epoxy compound containing the mesogenic structure, for example, an addition polymer of the compound represented by the general formula (B) above may be used. These may be used alone or in combination of two or more kinds.

本実施形態のフェノキシ樹脂は、上記多官能フェノール化合物の水酸基と、上記多官能エポキシ化合物のグリシジルエーテル基とが結合して形成される下記基(a)を介して、これらの化合物由来の環構造「Ph-(R)-Ph」が連結された多分岐型構造を含む。下記基(a)において*は結合手を示す。 The phenoxy resin of this embodiment contains a multi-branched structure in which the ring structure "Ph-(R) n -Ph" derived from these compounds is linked via the following group (a) formed by bonding a hydroxyl group of the above-mentioned polyfunctional phenol compound with a glycidyl ether group of the above-mentioned polyfunctional epoxy compound. In the following group (a), * indicates a bond.

Figure 0007559370000003
Figure 0007559370000003

上記多官能フェノール化合物および上記多官能エポキシ化合物の中でも、3個以上のヒドロキシ基を分子内に有する多官能フェノール化合物、および2個以上のエポキシ基を分子内に有する多官能エポキシ化合物を用いてもよい。
すなわち、上記フェノキシ樹脂は、3個以上のヒドロキシ基を分子内に有する多官能フェノール化合物と、2個以上のエポキシ基を分子内に有する多官能エポキシ化合物との分岐状反応化合物を含むことができる。
Among the above-mentioned polyfunctional phenol compounds and polyfunctional epoxy compounds, polyfunctional phenol compounds having three or more hydroxy groups in the molecule, and polyfunctional epoxy compounds having two or more epoxy groups in the molecule may be used.
That is, the phenoxy resin may contain a branched reaction compound between a polyfunctional phenol compound having three or more hydroxy groups in the molecule and a polyfunctional epoxy compound having two or more epoxy groups in the molecule.

3個以上のヒドロキシ基を分子内に有する多官能フェノール化合物としては、例えば、ポリフェノールまたはポリフェノール誘導体を含むことができる。
上記ポリフェノールは、分子内に3個以上のフェノール性ヒドロキシ基を含有する化合物である。また、このポリフェノールは、分子内に上記メソゲン構造を備えるものが好ましい。例えば、メソゲン構造として、ビフェニル骨格、フェニルベンゾエート骨格、アゾベンゼン骨格、アミド骨格、スチルベン骨格等を用いることができる。
なお、ポリフェノール誘導体とは、3個以上のフェノール性ヒドロキシ基およびメソゲン構造を有するポリフェノール化合物に対して、当該化合物の置換可能な位置で他の置換基に変更される化合物を含むものである。
The polyfunctional phenol compound having three or more hydroxy groups in the molecule can include, for example, polyphenols or polyphenol derivatives.
The polyphenol is a compound containing three or more phenolic hydroxyl groups in the molecule. In addition, the polyphenol is preferably one having the above-mentioned mesogen structure in the molecule. For example, the mesogen structure may be a biphenyl skeleton, a phenylbenzoate skeleton, an azobenzene skeleton, an amide skeleton, a stilbene skeleton, or the like.
The polyphenol derivative includes a compound in which a substitutable position of a polyphenol compound having three or more phenolic hydroxy groups and a mesogenic structure is changed to another substituent.

本実施形態において、上記分岐状反応化合物は、少なくとも3個以上のヒドロキシ基を分子内に有する多官能フェノール化合物を含む、1または2種以上の上記多官能フェノール化合物と、1または2種以上の上記多官能エポキシ樹脂とを用いて得ることができる。 In this embodiment, the branched reaction compound can be obtained using one or more of the above-mentioned polyfunctional phenolic compounds, including a polyfunctional phenolic compound having at least three or more hydroxyl groups in the molecule, and one or more of the above-mentioned polyfunctional epoxy resins.

例えば、3官能フェノール化合物および2官能エポキシ化合物の組み合わせや、3官能フェノール化合物、2官能フェノール化合物および2官能エポキシ化合物の組み合わせを用いてもよい。
上記3官能フェノール化合物として、例えば、以下の化学式で表されるレスベラトロールを用いることができる。
For example, a combination of a trifunctional phenol compound and a difunctional epoxy compound, or a combination of a trifunctional phenol compound, a difunctional phenol compound and a difunctional epoxy compound may be used.
As the trifunctional phenol compound, for example, resveratrol represented by the following chemical formula can be used.

Figure 0007559370000004
Figure 0007559370000004

上記2官能フェノール化合物として、例えば、上記一般式(A)のRおよびRのヒドロキシ基が、それぞれのベンゼン環のパラ位に結合したものを用いることができる。
また、上記2官能エポキシ化合物として、上記一般式(B)のRおよびRのグリシジルエーテル基が、それぞれのベンゼン環のパラ位に結合したものを用いることができる。
As the bifunctional phenol compound, for example, a compound in which the hydroxy groups of R1 and R3 in the above general formula (A) are bonded to the para-position of each benzene ring can be used.
Furthermore, as the bifunctional epoxy compound, there can be used one in which the glycidyl ether groups of R5 and R7 in the above general formula (B) are bonded to the para-position of each benzene ring.

また、上記一般式(A)で表される多官能フェノール化合物が2官能フェノール化合物であり縮合環としてナフタレン環を備える場合、上記Rおよび/またはRの2つのヒドロキシ基が、ナフタレン環の1位と3位、1位と4位、1位と5位、1位と6位、2位と3位、2位と6位、2位と7位、または2位と8位のいずれかに結合したものを用いることができる。熱伝導特性と耐熱性の観点から、さらに好ましくはヒドロキシ基の置換位置がナフタレン環の1位と4位、1位と5位、1位と6位、2位と3位、2位と6位、または2位と7位の組み合わせである2官能フェノール化合物を用いることができる。 In addition, when the polyfunctional phenol compound represented by the general formula (A) is a bifunctional phenol compound having a naphthalene ring as a condensed ring, the two hydroxyl groups of R1 and/or R3 can be bonded to any of the 1st and 3rd positions, the 1st and 4th positions, the 1st and 5th positions, the 1st and 6th positions, the 2nd and 3rd positions, the 2nd and 6th positions, the 2nd and 7th positions, or the 2nd and 8th positions of the naphthalene ring. From the viewpoint of thermal conductivity characteristics and heat resistance, it is more preferable to use a bifunctional phenol compound in which the substitution positions of the hydroxyl groups are the 1st and 4th positions, the 1st and 5th positions, the 1st and 6th positions, the 2nd and 3rd positions, the 2nd and 6th positions, or the 2nd and 7th positions of the naphthalene ring.

また、上記一般式(B)で表される多官能エポキシ化合物が2官能エポキシ化合物であり縮合環としてナフタレン環を備える場合、上記Rおよび/またはRの2つのグリシジルエーテル基が、ナフタレン環の1位と3位、1位と4位、1位と5位、1位と6位、2位と3位、2位と6位、2位と7位、または2位と8位のいずれかに結合したものを用いることができる。熱伝導特性と耐熱性の観点から、さらに好ましくはグリシジルエーテル基の置換位置がナフタレン環の1位と4位、1位と5位、1位と6位、2位と3位、2位と6位、または2位と7位の組み合わせである2官能エポキシ化合物を用いることができる。 In addition, when the polyfunctional epoxy compound represented by the general formula (B) is a bifunctional epoxy compound having a naphthalene ring as a condensed ring, the two glycidyl ether groups of R5 and/or R7 can be bonded to any of the 1st and 3rd positions, the 1st and 4th positions, the 1st and 5th positions, the 1st and 6th positions, the 2nd and 3rd positions, the 2nd and 6th positions, the 2nd and 7th positions, or the 2nd and 8th positions of the naphthalene ring. From the viewpoint of thermal conductivity characteristics and heat resistance, it is more preferable to use a bifunctional epoxy compound in which the substitution positions of the glycidyl ether groups are the 1st and 4th positions, the 1st and 5th positions, the 1st and 6th positions, the 2nd and 3rd positions, the 2nd and 6th positions, or the 2nd and 7th positions of the naphthalene ring.

上記のような3官能フェノール化合物および2官能エポキシ化合物の組み合わせや、3官能フェノール化合物、2官能フェノール化合物および2官能エポキシ化合物の組み合わせにより、上記の分岐型反応化合物(分岐型フェノキシ樹脂)を得られる。 The above-mentioned branched reactive compound (branched phenoxy resin) can be obtained by combining a trifunctional phenolic compound and a bifunctional epoxy compound, or by combining a trifunctional phenolic compound, a bifunctional phenolic compound, and a bifunctional epoxy compound.

例えば、3官能フェノール化合物および2官能エポキシ化合物の組み合わせにより得られる分岐型反応化合物(分岐型フェノキシ樹脂)は、下記一般式(b)で表される繰り返し単位を含む。 For example, a branched reaction compound (branched phenoxy resin) obtained by combining a trifunctional phenolic compound and a difunctional epoxy compound contains a repeating unit represented by the following general formula (b):

Figure 0007559370000005
Figure 0007559370000005

一般式(b)中、b、d、R、n、RおよびRは一般式(A)と同義であり、f、h、RおよびRは一般式(B)と同義である。*は結合手を表す。
本実施形態において、分岐型反応化合物(分岐型フェノキシ樹脂)は、全ての水酸基とグリシジルエーテル基が反応した上記構造単位以外にも、未反応の水酸基及び/または未反応のグリシジルエーテル基を含む構造単位を含むことができる。
In formula (b), b, d, R, n, R2 and R4 are defined as in formula (A), and f, h, R6 and R8 are defined as in formula (B). * represents a bond.
In the present embodiment, the branched reactive compound (branched phenoxy resin) may contain structural units containing unreacted hydroxyl groups and/or unreacted glycidyl ether groups in addition to the above structural units in which all of the hydroxyl groups and glycidyl ether groups have reacted.

一方、上記多官能フェノール化合物および上記多官能エポキシ化合物の中でも、2官能フェノール化合物および2官能エポキシ化合物を用いてもよい。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
すなわち、上記フェノキシ樹脂は、2個のヒドロキシ基を分子内に有する2官能フェノール化合物と、2個のエポキシ基を分子内に有する2官能エポキシ化合物との直鎖型反応化合物を含むことができる。
Among the polyfunctional phenol compounds and polyfunctional epoxy compounds, bifunctional phenol compounds and bifunctional epoxy compounds may be used alone or in combination of two or more.
That is, the phenoxy resin may contain a linear reaction compound of a bifunctional phenol compound having two hydroxyl groups in the molecule and a bifunctional epoxy compound having two epoxy groups in the molecule.

上記2官能フェノール化合物として、上記一般式(A)のRおよびRのヒドロキシ基が、それぞれのベンゼン環のパラ位に結合したものを用いることができる。また、上記2官能エポキシ化合物として、上記一般式(B)のRおよびRのグリシジルエーテル基が、それぞれのベンゼン環のパラ位に結合したものを用いることができる。 The bifunctional phenol compound may be one in which the hydroxyl groups R1 and R3 in the general formula (A) are bonded to the para-position of the respective benzene rings, and the bifunctional epoxy compound may be one in which the glycidyl ether groups R5 and R7 in the general formula (B) are bonded to the para-position of the respective benzene rings.

また、上記一般式(A)で表される多官能フェノール化合物が2官能フェノール化合物であり縮合環としてナフタレン環を備える場合、上記Rおよび/またはRの2つのヒドロキシ基が、ナフタレン環の1位と3位、1位と4位、1位と5位、1位と6位、2位と3位、2位と6位、2位と7位、または2位と8位のいずれかに結合したものを用いることができる。熱伝導特性と耐熱性の観点から、さらに好ましくはヒドロキシ基の置換位置がナフタレン環の1位と4位、1位と5位、1位と6位、2位と3位、2位と6位または2位と7位から選ばれる2官能フェノール化合物を用いることができる。 In addition, when the polyfunctional phenol compound represented by the general formula (A) is a bifunctional phenol compound having a naphthalene ring as a condensed ring, the two hydroxyl groups of R1 and/or R3 may be bonded to any one of the 1st and 3rd positions, the 1st and 4th positions, the 1st and 5th positions, the 1st and 6th positions, the 2nd and 3rd positions, the 2nd and 6th positions, the 2nd and 7th positions, or the 2nd and 8th positions of the naphthalene ring. From the viewpoint of thermal conductivity characteristics and heat resistance, it is more preferable to use a bifunctional phenol compound in which the substitution positions of the hydroxyl groups are selected from the 1st and 4th positions, the 1st and 5th positions, the 1st and 6th positions, the 2nd and 3rd positions, the 2nd and 6th positions, or the 2nd and 7th positions of the naphthalene ring.

また、上記一般式(B)で表される多官能エポキシ化合物が2官能エポキシ化合物であり縮合環としてナフタレン環を備える場合、上記Rおよび/またはRの2つのグリシジルエーテル基が、ナフタレン環の1位と3位、1位と4位、1位と5位、1位と6位、2位と3位、2位と6位、2位と7位、または2位と8位のいずれかに結合したものを用いることができる。熱伝導特性と耐熱性の観点からさらに好ましくはグリシジルエーテル基の置換位置がナフタレン環の1位と4位、1位と5位、1位と6位、2位と3位、2位と6位または2位と7位から選ばれる2官能エポキシ化合物を用いることができる。 In addition, when the polyfunctional epoxy compound represented by the general formula (B) is a bifunctional epoxy compound having a naphthalene ring as a condensed ring, the two glycidyl ether groups of R5 and/or R7 can be bonded to any one of the 1st and 3rd positions, the 1st and 4th positions, the 1st and 5th positions, the 1st and 6th positions, the 2nd and 3rd positions, the 2nd and 6th positions, the 2nd and 7th positions, or the 2nd and 8th positions of the naphthalene ring. From the viewpoint of thermal conductivity characteristics and heat resistance, it is more preferable to use a bifunctional epoxy compound in which the substitution positions of the glycidyl ether groups are selected from the 1st and 4th positions, the 1st and 5th positions, the 1st and 6th positions, the 2nd and 3rd positions, the 2nd and 6th positions, or the 2nd and 7th positions of the naphthalene ring.

このような2官能フェノール化合物および2官能エポキシ化合物を併用することにより、上記の直鎖型反応化合物(直鎖型フェノキシ樹脂)を得られる。 By using such a bifunctional phenol compound and a bifunctional epoxy compound in combination, the above-mentioned linear reaction compound (linear phenoxy resin) can be obtained.

例えば、2官能フェノール化合物および2官能エポキシ化合物の組み合わせにより得られる直鎖型反応化合物(直鎖型フェノキシ樹脂)は、下記一般式(c)で表される構造単位(繰り返し単位)を含む。下記基において*は結合手を示す。 For example, a linear reaction compound (linear phenoxy resin) obtained by combining a bifunctional phenol compound and a bifunctional epoxy compound contains a structural unit (repeating unit) represented by the following general formula (c). In the following groups, * indicates a bond.

Figure 0007559370000006
Figure 0007559370000006

一般式(c)中、b、d、R、n、RおよびRは一般式(A)と同義であり、f、h、RおよびRは一般式(B)と同義である。*は結合手を表す。
本実施形態において、直鎖型反応化合物(直鎖型フェノキシ樹脂)は、全ての水酸基とグリシジルエーテル基が反応した上記構造単位以外にも、未反応の水酸基及び/または未反応のグリシジルエーテル基を含む構造単位を含むことができる。
In formula (c), b, d, R, n, R2 and R4 are defined as in formula (A), and f, h, R6 and R8 are defined as in formula (B). * represents a bond.
In the present embodiment, the linear reaction compound (linear phenoxy resin) may contain structural units containing unreacted hydroxyl groups and/or unreacted glycidyl ether groups in addition to the above structural units in which all of the hydroxyl groups and glycidyl ether groups have reacted.

上記分岐型フェノキシ樹脂及び直鎖型フェノキシ樹脂は、分子末端にエポキシ基またはヒドロキシ基、分子内部にエポキシ基またはヒドロキシ基を有することができる。末端または内部にエポキシ基を有することにより、架橋反応を形成できるため、耐熱性を高めることができる。
また、剛直かつ電子共役している直鎖型の構造単位を有することにより、放熱特性を向上させることができる。
The branched phenoxy resin and the linear phenoxy resin may have an epoxy group or a hydroxy group at the molecular terminal and an epoxy group or a hydroxy group inside the molecule. By having an epoxy group at the terminal or inside, a crosslinking reaction can be formed, and therefore the heat resistance can be improved.
Furthermore, by having a rigid, electron-conjugated, straight-chain structural unit, the heat dissipation characteristics can be improved.

本実施形態において、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)を用いて、上記フェノキシ樹脂組成物についての分子量分布曲線を得る。
上記フェノキシ樹脂の重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)、および分散度(PDI:Mw/Mn)は、GPC測定により得られる標準ポリスチレン(PS)の検量線から求めたポリスチレン換算値を用いて、算出する。
GPCの測定条件は、たとえば以下の通りである。
東ソー(株)社製ゲルパーミエーションクロマトグラフィー装置HLC-8320GPC
カラム:東ソー(株)社製TSK-GEL GMH、G2000H、SuperHM-M
検出器:液体クロマトグラム用RI検出器
測定温度:40℃
溶媒:THF
試料濃度:2.0mg/ミリリットル
In this embodiment, a molecular weight distribution curve for the phenoxy resin composition is obtained using GPC (gel permeation chromatography).
The weight average molecular weight (Mw), number average molecular weight (Mn), and dispersity (PDI: Mw/Mn) of the phenoxy resin are calculated using polystyrene-equivalent values obtained from a calibration curve of standard polystyrene (PS) obtained by GPC measurement.
The measurement conditions for GPC are, for example, as follows.
Gel permeation chromatography device HLC-8320GPC manufactured by Tosoh Corporation
Column: TSK-GEL GMH, G2000H, Super HM-M manufactured by Tosoh Corporation
Detector: RI detector for liquid chromatography Measurement temperature: 40°C
Solvent: THF
Sample concentration: 2.0 mg/ml

Mwが1k超の高分子量成分(A)における、重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)、および分散度(PDI:Mw/Mn)は、GPC測定により得られる標準ポリスチレン(PS)の検量線から求めたポリスチレン換算値を用いて、算出する。 The weight average molecular weight (Mw), number average molecular weight (Mn), and polydispersity (PDI: Mw/Mn) of the high molecular weight component (A) with Mw of more than 1k are calculated using polystyrene equivalent values obtained from the calibration curve of standard polystyrene (PS) obtained by GPC measurement.

上記フェノキシ樹脂組成物のうち、Mwが1k超の高分子量成分(A)の重量平均分子量(Mw)は、例えば、1,000を超え200,000以下であり、好ましくは1,500~100,000であり、より好ましくは2,000~50,000である。上記Mwを下限以上とすることで、フェノキシ樹脂の熱伝導性を向上できる。一方、上記Mwを上限以下とすることで、フェノキシ樹脂の流動性を向上できる。 In the above phenoxy resin composition, the weight average molecular weight (Mw) of the high molecular weight component (A) having an Mw of more than 1k is, for example, more than 1,000 and not more than 200,000, preferably 1,500 to 100,000, and more preferably 2,000 to 50,000. By setting the above Mw to the lower limit or more, the thermal conductivity of the phenoxy resin can be improved. On the other hand, by setting the above Mw to the upper limit or less, the fluidity of the phenoxy resin can be improved.

上記フェノキシ樹脂組成物のうち、Mwが1k超の高分子量成分(A)の分散度(Mw/Mn)は、例えば、1.00~5.00であり、好ましくは1.20~4.00であり、より好ましくは1.30~3.50である。上記分散度を下限以上とすることで、フェノキシ樹脂の熱伝導性を向上できる。一方、上記分散度を上限以下とすることで、フェノキシ樹脂の流動性を向上できる。 In the above phenoxy resin composition, the dispersity (Mw/Mn) of the high molecular weight component (A) having an Mw of more than 1k is, for example, 1.00 to 5.00, preferably 1.20 to 4.00, and more preferably 1.30 to 3.50. By setting the dispersity to the lower limit or higher, the thermal conductivity of the phenoxy resin can be improved. On the other hand, by setting the dispersity to the upper limit or lower, the fluidity of the phenoxy resin can be improved.

本明細書中、「~」は、特に明示しない限り、上限と下限を含むことを表す。 In this specification, "~" indicates that the upper and lower limits are included unless otherwise specified.

また、上記フェノキシ樹脂組成物中におけるMwが1k以下の低分子量成分(B+C)に対応するピーク面積は、たとえばGPC測定により得られた分子量に関するデータに基づき、分子量分布全体の全面積100%に占める、重量平均分子量Mwが1000以下に該当する成分の面積総和の割合から算出される。
このMwが1k以下の低分子量成分(B+C)には、モノマー成分(C)と、モノマー成分(C)を含まないMwが1,000以下の低分子量成分(B)とが含まれる。
全ピーク面積100%とは、Mwが1k超の高分子量成分(A)、モノマー成分(C)、モノマー成分(C)を含まないMwが1,000以下の低分子量成分(B)のピーク面積の合計値とする。
The peak area corresponding to the low molecular weight components (B+C) having Mw of 1k or less in the above-mentioned phenoxy resin composition is calculated from the ratio of the total area of components having a weight average molecular weight Mw of 1000 or less to the total area (100%) of the entire molecular weight distribution based on data on molecular weight obtained, for example, by GPC measurement.
The low molecular weight component (B+C) having a Mw of 1k or less includes a monomer component (C) and a low molecular weight component (B) having a Mw of 1,000 or less that does not contain a monomer component (C).
The total peak area of 100% refers to the sum of the peak areas of the high molecular weight component (A) having a Mw of more than 1 k, the monomer component (C), and the low molecular weight component (B) having a Mw of 1,000 or less and not including the monomer component (C).

上記低分子量成分(B+C)のピーク面積の下限は、全ピーク面積100%に対して、例えば、7.0%以上、好ましくは10.0%以上、より好ましくは11.0%以上である。これにより、フェノキシ樹脂の流動性を向上できる。一方、上記低分子量成分(B+C)のピーク面積の上限は、全ピーク面積100%に対して、例えば、50.0%以下、好ましくは48.0%以下、より好ましくは45.0%以下である。これにより、フェノキシ樹脂の熱伝導性を向上できる。 The lower limit of the peak area of the low molecular weight components (B+C) is, for example, 7.0% or more, preferably 10.0% or more, and more preferably 11.0% or more, relative to 100% of the total peak area. This improves the fluidity of the phenoxy resin. On the other hand, the upper limit of the peak area of the low molecular weight components (B+C) is, for example, 50.0% or less, preferably 48.0% or less, and more preferably 45.0% or less, relative to 100% of the total peak area. This improves the thermal conductivity of the phenoxy resin.

また、GPC測定で得られるフェノキシ樹脂組成物の分子量分布において、全ピーク面積100%に対する、Mwが1,000以下の低分子量成分(B)のピーク面積(%)の下限は、例えば、2.0%以上、好ましくは2.3%以上、より好ましくは2.5%以上である。これにより、フェノキシ樹脂の流動性を向上できる。全ピーク面積100%に対する、上記Mwが1,000以下の低分子量成分(B)のピーク面積(%)の上限は、例えば、25.0%以下、好ましくは24.0%以下、より好ましくは23.0%以下である。これにより、フェノキシ樹脂の熱伝導性を向上できる。 In addition, in the molecular weight distribution of the phenoxy resin composition obtained by GPC measurement, the lower limit of the peak area (%) of the low molecular weight component (B) having an Mw of 1,000 or less relative to 100% of the total peak area is, for example, 2.0% or more, preferably 2.3% or more, and more preferably 2.5% or more. This can improve the fluidity of the phenoxy resin. The upper limit of the peak area (%) of the low molecular weight component (B) having an Mw of 1,000 or less relative to 100% of the total peak area is, for example, 25.0% or less, preferably 24.0% or less, and more preferably 23.0% or less. This can improve the thermal conductivity of the phenoxy resin.

Mwが1,000以下の低分子量成分(B)は、モノマー成分(C)を含まないと定義される。このMwが1,000以下の低分子量成分(B)のピーク面積比は、低分子量成分に含まれる低核体成分(低分子量の重合体成分)の含有量割合を表す。 The low molecular weight component (B) with Mw of 1,000 or less is defined as not containing monomer component (C). The peak area ratio of this low molecular weight component (B) with Mw of 1,000 or less represents the content ratio of low-molecular weight components (low molecular weight polymer components) contained in the low molecular weight component.

また、GPC測定で得られるフェノキシ樹脂組成物の分子量分布において、全ピーク面積100%に対する、モノマー成分(C)のピーク面積(%)の下限は、例えば、1.0%以上、好ましくは2.0%以上、より好ましくは3.0%以上である。これにより、フェノキシ樹脂の流動性を向上できる。全ピーク面積100%に対する、上記モノマー成分(C)のピーク面積(%)の上限は、例えば、25.0%以下、好ましくは23.0%以下、より好ましくは22.0%以下である。これにより、フェノキシ樹脂の熱伝導性を向上できる。 In addition, in the molecular weight distribution of the phenoxy resin composition obtained by GPC measurement, the lower limit of the peak area (%) of the monomer component (C) relative to 100% of the total peak area is, for example, 1.0% or more, preferably 2.0% or more, and more preferably 3.0% or more. This can improve the fluidity of the phenoxy resin. The upper limit of the peak area (%) of the monomer component (C) relative to 100% of the total peak area is, for example, 25.0% or less, preferably 23.0% or less, and more preferably 22.0% or less. This can improve the thermal conductivity of the phenoxy resin.

本実施形態では、たとえばフェノキシ樹脂組成物中に含まれる各成分の種類や配合量、フェノキシ樹脂の調製方法等を適切に選択することにより、上記フェノキシ樹脂組成物中の低分子量成分(B+C)のピーク面積、低分子量成分(B)のピーク面積、高分子量成分(A)のMwおよびMw/Mnを制御することが可能である。これらの中でも、たとえば、反応温度、反応時間、モノマーの除去などのフェノキシ樹脂の合成条件を適切に選択すること等が、上記フェノキシ樹脂組成物中の低分子量成分(B+C)のピーク面積、低分子量成分(B)のピーク面積、高分子量成分(A)のMwおよびMw/Mnを所望の数値範囲とするための要素として挙げられる。 In this embodiment, for example, by appropriately selecting the type and amount of each component contained in the phenoxy resin composition, the preparation method of the phenoxy resin, etc., it is possible to control the peak area of the low molecular weight component (B + C), the peak area of the low molecular weight component (B), and the Mw and Mw/Mn of the high molecular weight component (A) in the phenoxy resin composition. Among these, for example, appropriately selecting the synthesis conditions of the phenoxy resin, such as the reaction temperature, reaction time, and removal of monomers, is an element for setting the peak area of the low molecular weight component (B + C), the peak area of the low molecular weight component (B), and the Mw and Mw/Mn of the high molecular weight component (A) in the phenoxy resin composition to the desired numerical range.

以下、本実施形態のフェノキシ樹脂組成物を用いた樹脂材料について説明する。 The following describes a resin material using the phenoxy resin composition of this embodiment.

上記樹脂材料は、上記フェノキシ樹脂組成物を含むものである。各種の用途や他の配合成分を踏まえ、その含有量を適切に調整できる。例えば、放熱絶縁材料に用いる熱硬化性樹脂組成物中の上記フェノキシ樹脂組成物の含有量は、フィラーを含まない熱硬化性樹脂組成物の不揮発成分(100質量%)に対して、例えば、1質量%~70質量%、好ましくは2質量%~50質量%、より好ましくは3質量%~45質量%である。 The resin material contains the phenoxy resin composition. The content can be appropriately adjusted based on various applications and other compounding components. For example, the content of the phenoxy resin composition in the thermosetting resin composition used for the heat dissipation insulating material is, for example, 1% by mass to 70% by mass, preferably 2% by mass to 50% by mass, and more preferably 3% by mass to 45% by mass, based on the non-volatile components (100% by mass) of the thermosetting resin composition not including the filler.

ここで「フィラー」とは、後述の熱伝導性フィラー、無機フィラーまたは有機フィラー等の通常のフィラーを含む。すなわち、フィラーを含まない熱硬化性樹脂組成物は、フィラー以外の樹脂成分で構成されるものであって、樹脂成分として、例えば、熱硬化性樹脂、およびフェノキシ樹脂を含む。
また、熱硬化性樹脂組成物中における不揮発分(100質量%)を指し、水や溶媒等の溶剤を除いた残部を指す。
Here, the term "filler" includes ordinary fillers such as a thermally conductive filler, an inorganic filler, or an organic filler, which will be described later. That is, a thermosetting resin composition that does not contain a filler is composed of resin components other than a filler, and includes, as the resin components, for example, a thermosetting resin and a phenoxy resin.
It also refers to the non-volatile content (100 mass%) in the thermosetting resin composition, and refers to the remainder excluding water, solvents, and other solvents.

上記熱硬化性樹脂組成物は、フェノキシ樹脂以外の熱硬化性樹脂を含んでもよい。
上記熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、シアネート樹脂、ビスマレイミド樹脂、アクリル樹脂、フェノール誘導体またはこれらの誘導体等が挙げられる。これらの熱硬化性樹脂は、1分子内に反応性官能基を2個以上有するモノマー、オリゴマー、ポリマー全般を用いることができ、その分子量や分子構造は特に限定されない。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
The thermosetting resin composition may contain a thermosetting resin other than the phenoxy resin.
Examples of the thermosetting resin include epoxy resin, polyimide resin, benzoxazine resin, unsaturated polyester resin, phenol resin, melamine resin, silicone resin, cyanate resin, bismaleimide resin, acrylic resin, phenol derivatives, and derivatives thereof. As the thermosetting resin, a monomer, oligomer, or polymer having two or more reactive functional groups in one molecule can be used, and the molecular weight or molecular structure is not particularly limited. These may be used alone or in combination of two or more.

上記熱硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、硬化剤を含んでもよい。
上記硬化剤としては、熱硬化性樹脂の種類に応じて選択され、これと反応するものであれば特に限定されない。
上記硬化剤としては、フェノール樹脂系硬化剤、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、メルカプタン系硬化剤等を挙げることができる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
The thermosetting resin composition may contain a curing agent, if necessary.
The curing agent is selected according to the type of thermosetting resin, and is not particularly limited as long as it reacts with the thermosetting resin.
Examples of the curing agent include phenolic resin curing agents, amine curing agents, acid anhydride curing agents, mercaptan curing agents, etc. These may be used alone or in combination of two or more kinds.

(硬化促進剤)
上記熱硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、硬化促進剤を含むことができる。
上記硬化促進剤の種類や配合量は特に限定されないが、反応速度や反応温度、保管性などの観点から、適切なものを選択することができる。
(Cure Accelerator)
The thermosetting resin composition may contain a curing accelerator as necessary.
The type and amount of the curing accelerator are not particularly limited, but an appropriate one can be selected from the viewpoints of reaction rate, reaction temperature, storage property, and the like.

上記硬化促進剤としては、例えば、イミダゾール類、有機リン化合物、3級アミン類、フェノール化合物、有機酸等が挙げられる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。この中でも、耐熱性を高める観点から、イミダゾール類などの窒素原子含有化合物を用いることが好ましい。 Examples of the curing accelerator include imidazoles, organic phosphorus compounds, tertiary amines, phenolic compounds, organic acids, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, from the viewpoint of improving heat resistance, it is preferable to use nitrogen atom-containing compounds such as imidazoles.

上記熱硬化性樹脂組成物は、熱伝導性フィラーを含んでもよい。
上記熱伝導性フィラーは、たとえば、20W/m・K以上の熱伝導率を有する高熱伝導性無機粒子を含むことができる。高熱伝導性無機粒子としては、例えば、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化ケイ素、炭化ケイ素及び酸化マグネシウムから選択される少なくとも1種以上を含むことができる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
The thermosetting resin composition may contain a thermally conductive filler.
The thermally conductive filler may contain, for example, highly thermally conductive inorganic particles having a thermal conductivity of 20 W/m·K or more. The highly thermally conductive inorganic particles may contain, for example, at least one selected from alumina, aluminum nitride, boron nitride, silicon nitride, silicon carbide, and magnesium oxide. These may be used alone or in combination of two or more.

上記熱伝導性フィラーは、窒化ホウ素は、鱗片状窒化ホウ素の、単分散粒子、凝集粒子またはこれらの混合物を含むことができる。鱗片状窒化ホウ素は顆粒状に造粒されていてもよい。鱗片状窒化ホウ素の凝集粒子を用いることによって、一層に熱伝導性を高められる。凝集粒子は、焼結粒子であっても、非焼結粒子であってもよい。 The thermally conductive filler may contain boron nitride in the form of monodisperse particles, agglomerated particles, or a mixture thereof, of scaly boron nitride. The scaly boron nitride may be granulated. By using agglomerated particles of scaly boron nitride, the thermal conductivity can be further increased. The agglomerated particles may be sintered particles or non-sintered particles.

上記熱硬化性樹脂組成物は、シランカップリング剤を含んでもよい。
これにより、熱硬化性樹脂組成物中における熱伝導性フィラーの相溶性を向上させることができる。カップリング剤は、熱硬化性樹脂組成物に添加してもよいし、熱伝導性フィラー表面に処理して使用してもよい。
The thermosetting resin composition may contain a silane coupling agent.
This can improve the compatibility of the thermally conductive filler in the thermosetting resin composition. The coupling agent may be added to the thermosetting resin composition, or may be used by treating the surface of the thermally conductive filler.

本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、上述した成分以外の他の成分を含むことができる。この他の成分としては、例えば、酸化防止剤、レベリング剤が挙げられる。 The thermosetting resin composition of this embodiment may contain other components in addition to the components described above. Examples of such other components include an antioxidant and a leveling agent.

本実施形態の熱硬化性樹脂組成物の製造方法として、例えば、次のような方法がある。
上記の各成分を、溶剤中に溶解、混合、撹拌することにより樹脂ワニス(ワニス状の熱硬化性樹脂組成物)を調製することができる。この混合は、超音波分散方式、高圧衝突式分散方式、高速回転分散方式、ビーズミル方式、高速せん断分散方式、および自転公転式分散方式などの各種混合機を用いることができる。
The thermosetting resin composition of the present embodiment can be produced, for example, by the following method.
The above components can be dissolved in a solvent, mixed, and stirred to prepare a resin varnish (a thermosetting resin composition in the form of a varnish). For this mixing, various mixers such as an ultrasonic dispersion type, a high-pressure collision type dispersion type, a high-speed rotation dispersion type, a bead mill type, a high-speed shear dispersion type, and a rotation-revolution type dispersion type can be used.

上記溶剤としては特に限定されないが、アセトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、酢酸エチル、シクロヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール、セルソルブ系、カルビトール系、アニソール、およびN-メチルピロリドン等が挙げられる。 The above solvents are not particularly limited, but include acetone, methyl isobutyl ketone, toluene, ethyl acetate, cyclohexane, heptane, cyclohexanone, tetrahydrofuran, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, ethylene glycol, cellosolve-based solvents, carbitol-based solvents, anisole, and N-methylpyrrolidone.

(樹脂シート)
本実施形態の樹脂シートは、キャリア基材と、キャリア基材上に設けられた、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物からなる樹脂層と、を備えるものである。
(Resin sheet)
The resin sheet of the present embodiment includes a carrier substrate and a resin layer formed on the carrier substrate and made of the thermosetting resin composition of the present embodiment.

上記樹脂シートは、たとえばワニス状の熱硬化性樹脂組成物をキャリア基材上に塗布して得られた塗布膜(樹脂層)に対して、溶剤除去処理を行うことにより得ることができる。上記樹脂シート中の溶剤含有率が、熱硬化性樹脂組成物全体に対して10重量%以下とすることができる。たとえば80℃~200℃、1分間~30分間の条件で溶剤除去処理を行うことができる。 The resin sheet can be obtained, for example, by applying a varnish-like thermosetting resin composition onto a carrier substrate to obtain a coating film (resin layer) and then carrying out a solvent removal process. The solvent content in the resin sheet can be 10% by weight or less based on the entire thermosetting resin composition. For example, the solvent removal process can be carried out under conditions of 80°C to 200°C and 1 minute to 30 minutes.

また、本実施形態において、上記キャリア基材としては、例えば、高分子フィルムや金属箔などを用いることができる。当該高分子フィルムとしては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリカーボネート、シリコーンシート等の離型紙、フッ素系樹脂、ポリイミド樹脂などの耐熱性を有した熱可塑性樹脂シート等が挙げられる。当該金属箔としては、特に限定されないが、例えば、銅および/または銅系合金、アルミおよび/またはアルミ系合金、鉄および/または鉄系合金、銀および/または銀系合金、金および金系合金、亜鉛および亜鉛系合金、ニッケルおよびニッケル系合金、錫および錫系合金などが挙げられる。 In this embodiment, the carrier substrate may be, for example, a polymer film or a metal foil. Examples of the polymer film include, but are not limited to, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polycarbonates, release papers such as silicone sheets, and heat-resistant thermoplastic resin sheets such as fluorine-based resins and polyimide resins. Examples of the metal foil include, but are not limited to, copper and/or copper-based alloys, aluminum and/or aluminum-based alloys, iron and/or iron-based alloys, silver and/or silver-based alloys, gold and gold-based alloys, zinc and zinc-based alloys, nickel and nickel-based alloys, and tin and tin-based alloys.

(樹脂基板)
本実施形態の樹脂基板は、上記熱硬化性樹脂組成物の硬化物で構成された絶縁層を備えるものである。この樹脂基板は、例えば、LED、パワーモジュールなどの電子部品を搭載するためのプリント基板の材料として用いることができる。
(Resin substrate)
The resin substrate of the present embodiment includes an insulating layer made of the cured product of the thermosetting resin composition. This resin substrate can be used as a material for a printed circuit board on which electronic components such as LEDs and power modules are mounted.

(金属ベース基板)
本実施形態の一例として、金属ベース基板100について図1に基づいて説明する。
図1は、金属ベース基板100の構成の一例を示す断面図である。
上記金属ベース基板100は、図1に示すように、金属基板101と、金属基板101上に設けられた絶縁層102と、絶縁層102上に設けられた金属層103と、を備えることができる。この絶縁層102は、上記の熱硬化性樹脂組成物からなる樹脂層、熱硬化性樹脂組成物の硬化物および積層板からなる群から選択される一種で構成することが可能である。これらの樹脂層、積層板のそれぞれは、金属層103の回路加工の前では、Bステージ状態の熱硬化性樹脂組成物で構成されていてもよく、回路加工の後では、それを硬化処理されてなる硬化体であってもよい。
(Metal base substrate)
As an example of this embodiment, a metal base substrate 100 will be described with reference to FIG.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of a metal base substrate 100. As shown in FIG.
As shown in Fig. 1, the metal base substrate 100 may include a metal substrate 101, an insulating layer 102 provided on the metal substrate 101, and a metal layer 103 provided on the insulating layer 102. The insulating layer 102 may be made of one selected from the group consisting of a resin layer made of the above-mentioned thermosetting resin composition, a cured product of the thermosetting resin composition, and a laminate. Each of these resin layers and laminates may be made of a thermosetting resin composition in a B-stage state before the circuit processing of the metal layer 103, and may be a cured product obtained by curing the resin composition after the circuit processing.

金属層103は絶縁層102上に設けられ、回路加工されるものである。この金属層103を構成する金属としては、例えば、銅、銅合金、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、鉄、錫等から選択される一種または二種以上が挙げられる。これらの中でも、金属層103は、好ましくは銅層またはアルミニウム層であり、特に好ましくは銅層である。銅またはアルミニウムを用いることで、金属層103の回路加工性を良好なものとすることができる。金属層103は、板状で入手できる金属箔を用いてもよいし、ロール状で入手できる金属箔を用いてもよい。 The metal layer 103 is provided on the insulating layer 102 and is processed into a circuit. Examples of metals constituting the metal layer 103 include one or more selected from copper, copper alloys, aluminum, aluminum alloys, nickel, iron, tin, and the like. Among these, the metal layer 103 is preferably a copper layer or an aluminum layer, and is particularly preferably a copper layer. By using copper or aluminum, the circuit processability of the metal layer 103 can be improved. The metal layer 103 may be a metal foil available in a plate form, or a metal foil available in a roll form.

金属層103の厚みの下限は、例えば、0.01mm以上であり、好ましくは0.035mm以上であれば、高電流を要する用途に適用できる。
また、金属層103の厚みの上限は、例えば、10.0mm以下であり、好ましくは5mm以下である。このような数値以下であれば、回路加工性を向上させることができ、また、基板全体としての薄型化を図ることができる。
The lower limit of the thickness of the metal layer 103 is, for example, 0.01 mm or more, and preferably 0.035 mm or more, so that the metal layer 103 can be applied to applications requiring a high current.
The upper limit of the thickness of the metal layer 103 is, for example, 10.0 mm or less, and preferably 5 mm or less. If the thickness is less than this value, the circuit processability can be improved, and the substrate as a whole can be made thinner.

金属基板101は、金属ベース基板100に蓄積された熱を放熱する役割を有する。金属基板101は、放熱性の金属基板であれば特に限定されないが、例えば、銅基板、銅合金基板、アルミニウム基板、アルミニウム合金基板であり、銅基板またはアルミニウム基板が好ましく、銅基板がより好ましい。銅基板またはアルミニウム基板を用いることで、金属基板101の放熱性を良好なものとすることができる。 The metal substrate 101 has the role of dissipating heat accumulated in the metal base substrate 100. The metal substrate 101 is not particularly limited as long as it is a heat-dissipating metal substrate, but may be, for example, a copper substrate, a copper alloy substrate, an aluminum substrate, or an aluminum alloy substrate, with a copper substrate or an aluminum substrate being preferred, and a copper substrate being more preferred. By using a copper substrate or an aluminum substrate, the heat dissipation properties of the metal substrate 101 can be improved.

金属基板101の厚さは、本発明の目的が損なわれない限り、適宜設定できる。
金属基板101の厚さの上限は、例えば、20.0mm以下であり、好ましくは5.0mm以下である。この数値以下の金属基板101を用いることで、金属ベース基板100の外形加工や切り出し加工等における加工性を向上させることができる。
また、金属基板101の厚さの下限は、例えば、0.01mm以上であり、好ましくは0.6mm以上である。この数値以上の金属基板101を用いることで、金属ベース基板100全体としての放熱性を向上させることができる。
The thickness of the metal substrate 101 can be appropriately set as long as the object of the present invention is not impaired.
The upper limit of the thickness of the metal substrate 101 is, for example, 20.0 mm or less, and preferably 5.0 mm or less. By using a metal substrate 101 having a thickness of this value or less, the workability of the metal base substrate 100 in the outer shaping, cutting, and the like can be improved.
The lower limit of the thickness of the metal substrate 101 is, for example, 0.01 mm or more, and preferably 0.6 mm or more. By using a metal substrate 101 having a thickness of this value or more, the heat dissipation properties of the metal base substrate 100 as a whole can be improved.

本実施形態において、金属ベース基板100は、各種の基板用途に用いることが可能であるが、熱伝導性及び耐熱性に優れることから、LEDやパワーモジュールを用いるプリント基板として用いることが可能である。
金属ベース基板100は、パターンにエッチング等することによって回路加工された金属層103を有することができる。この金属ベース基板100において、最外層に不図示のソルダーレジストを形成し、露光・現像により電子部品が実装できるよう接続用電極部が露出されていてもよい。
In this embodiment, the metal base substrate 100 can be used for various substrate applications, but because of its excellent thermal conductivity and heat resistance, it can be used as a printed circuit board that uses LEDs and power modules.
The metal base substrate 100 can have a metal layer 103 that is circuitized by etching or the like into a pattern. In this metal base substrate 100, a solder resist (not shown) may be formed on the outermost layer, and connection electrodes may be exposed so that electronic components can be mounted thereon by exposure and development.

以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することができる。また、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれる。
以下、参考形態の例を付記する。
[1]
分子内にメソゲン構造を有するフェノキシ樹脂と、
重量平均分子量Mwが1,000以下の低分子量成分と、
を含む、フェノキシ樹脂組成物であって、
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで得られる当該フェノキシ樹脂組成物の分子量分布において、前記低分子量成分のピーク面積が、全ピーク面積100%に対して、7.0%以上50.0%以下である、
フェノキシ樹脂組成物。
[2]
[1]に記載のフェノキシ樹脂組成物であって、
前記メソゲン構造が、下記一般式(1)で表される構造を有するものである、フェノキシ樹脂組成物。
-A -x-A - (1)
(上記一般式(1)中、A およびA は、各々独立して、芳香族基、縮合芳香族基、脂環基、または脂環式複素環基を表し、xは、直接結合、または-O-、-SO2-、-C=C-、-C≡C-、-CO-、-CO-O-、-CO-NH-、-CH=N-、-CH=N-N=CH-、-N=N-および-N(O)=N-からなる群から選択される2価の結合基を示す。)
[3]
[1]または[2]に記載のフェノキシ樹脂組成物であって、
前記分子内にメソゲン構造を有するフェノキシ樹脂が、
分子内に2個以上のヒドロキシ基を有する多官能フェノール化合物由来の構造単位、および分子内に2個以上のエポキシ基を有する多官能エポキシ化合物由来の構造単位を有しており、
前記多官能フェノール化合物および前記多官能エポキシ化合物の少なくとも一方が、分子中に前記メソゲン構造を有するものである、フェノキシ樹脂組成物。
[4]
[3]に記載のフェノキシ樹脂組成物であって、
前記分子内にメソゲン構造を有するフェノキシ樹脂が、下記一般式(A)で表される多官能フェノール化合物と、下記一般式(B)で表される多官能エポキシ化合物との反応により得られる、フェノキシ樹脂組成物。

Figure 0007559370000007
(一般式(A)中、R およびR は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基を表し、R およびR は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~6の鎖状もしくは環状アルキル基、フェニル基およびハロゲン原子から選択される1種を表し、aおよびcはそれぞれ1~3の整数であり、bおよびdはそれぞれ0~2の整数である。ただし、a+bおよびc+dは、それぞれ1~3のいずれかである。Rは、前記一般式(1)で表されるメソゲン構造を表す。nは0または1である。nが0の場合、2つのベンゼン環により縮合環を形成してもよい。)
Figure 0007559370000008
(一般式(B)中、R およびR は、それぞれ独立に、グリシジルエーテル基を表し、R およびR は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~6の鎖状もしくは環状アルキル基、フェニル基およびハロゲン原子から選択される1種を表し、eおよびgはそれぞれ1~3の整数であり、fおよびhはそれぞれ0~2の整数である。ただし、e+fおよびg+hは、それぞれ1~3のいずれかである。Rは、前記一般式(1)で表されるメソゲン構造を表す。nは0または1である。nが0の場合、2つのベンゼン環により縮合環を形成してもよい。)
[5]
[4]に記載のフェノキシ樹脂組成物であって、
前記分子内にメソゲン構造を有するフェノキシ樹脂が、下記一般式(b)で表される繰り返し単位を含む、フェノキシ樹脂組成物。
Figure 0007559370000009
(一般式(b)中、b、d、R、n、R およびR は一般式(A)と同義であり、f、h、R およびR は一般式(B)と同義である。*は結合手を表す。)
[6]
[4]に記載のフェノキシ樹脂組成物であって、
前記分子内にメソゲン構造を有するフェノキシ樹脂が、下記一般式(c)で表される繰り返し単位を含む、フェノキシ樹脂組成物。
Figure 0007559370000010
(一般式(c)中、b、d、R、n、R およびR は一般式(A)と同義であり、f、h、R およびR は一般式(B)と同義である。*は結合手を表す。)
[7]
[3]~[6]のいずれかに記載のフェノキシ樹脂組成物であって、
前記フェノキシ樹脂は、前記多官能フェノール化合物と前記多官能エポキシ化合物との反応により得られ、
前記低分子量成分は、未反応モノマーおよび当該未反応モノマーの低核体を含む、フェノキシ樹脂組成物。
[8]
[3]~[7]のいずれか一つに記載のフェノキシ樹脂組成物であって、
当該フェノキシ樹脂組成物の分子量分布において、全ピーク面積100%に対する、モノマー成分を含まない前記低分子量成分のピーク面積が、2.0%以上25.0%以下を満たす、
フェノキシ樹脂組成物。
[9]
[1]~[8]のいずれか一つに記載のフェノキシ樹脂組成物であって、
Mwが1,000超えの高分子量成分のMwが1,000を超え200,000以下である、フェノキシ樹脂組成物。
[10]
[1]~[9]のいずれか一つに記載のフェノキシ樹脂組成物であって、
Mwが1,000超えの高分子量成分の分子量分布(Mw/Mn)が1.00以上5.00以下である、フェノキシ樹脂組成物。
[11]
[1]~[10]のいずれか一つに記載のフェノキシ樹脂組成物であって、
熱伝導性樹脂組成物に用いる、フェノキシ樹脂組成物。
[12]
[1]~[11]のいずれか一つに記載のフェノキシ樹脂組成物を含む、樹脂材料。 Although the embodiments of the present invention have been described above, these are merely examples of the present invention, and various configurations other than those described above can be adopted. Furthermore, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and modifications and improvements within the scope of the present invention are included in the present invention.
Below, examples of reference forms are given.
[1]
A phenoxy resin having a mesogen structure in its molecule;
A low molecular weight component having a weight average molecular weight Mw of 1,000 or less;
A phenoxy resin composition comprising:
In the molecular weight distribution of the phenoxy resin composition obtained by gel permeation chromatography, the peak area of the low molecular weight component is 7.0% or more and 50.0% or less with respect to 100% of the total peak area.
Phenoxy resin composition.
[2]
The phenoxy resin composition according to [1],
The phenoxy resin composition, wherein the mesogen structure has a structure represented by the following general formula (1):
-A 1 -x-A 2 - (1)
(In the above general formula (1), A 1 and A 2 each independently represent an aromatic group, a condensed aromatic group, an alicyclic group, or an alicyclic heterocyclic group, and x represents a direct bond or a divalent bonding group selected from the group consisting of -O-, -SO2-, -C=C-, -C≡C-, -CO-, -CO-O-, -CO-NH-, -CH=N-, -CH=N-N=CH-, -N=N-, and -N(O)=N-.)
[3]
The phenoxy resin composition according to [1] or [2],
The phenoxy resin having a mesogen structure in the molecule is
The composition has a structural unit derived from a polyfunctional phenol compound having two or more hydroxy groups in the molecule, and a structural unit derived from a polyfunctional epoxy compound having two or more epoxy groups in the molecule,
A phenoxy resin composition, wherein at least one of the polyfunctional phenol compound and the polyfunctional epoxy compound has the mesogen structure in the molecule.
[4]
The phenoxy resin composition according to [3],
A phenoxy resin composition, wherein the phenoxy resin having a mesogen structure in the molecule is obtained by reacting a polyfunctional phenol compound represented by the following general formula (A) with a polyfunctional epoxy compound represented by the following general formula (B):
Figure 0007559370000007
(In general formula (A), R1 and R3 each independently represent a hydroxy group, R2 and R4 each independently represent one selected from a hydrogen atom, a linear or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, and a halogen atom, a and c each independently represent an integer from 1 to 3, and b and d each independently represent an integer from 0 to 2, provided that a+b and c+d each independently represent an integer from 1 to 3. R represents a mesogen structure represented by general formula (1) above, n is 0 or 1, and when n is 0, a condensed ring may be formed by two benzene rings.)
Figure 0007559370000008
(In general formula (B), R5 and R7 each independently represent a glycidyl ether group, R6 and R8 each independently represent one selected from a hydrogen atom, a linear or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, and a halogen atom, e and g each independently represent an integer from 1 to 3, and f and h each independently represent an integer from 0 to 2, provided that e+f and g+h each independently represent an integer from 1 to 3. R represents a mesogen structure represented by general formula (1) above, n is 0 or 1, and when n is 0, a condensed ring may be formed by two benzene rings.)
[5]
The phenoxy resin composition according to [4],
A phenoxy resin composition, wherein the phenoxy resin having a mesogenic structure in the molecule contains a repeating unit represented by the following general formula (b):
Figure 0007559370000009
(In the general formula (b), b, d, R, n, R2 and R4 are defined as in the general formula (A), and f, h, R6 and R8 are defined as in the general formula (B). * represents a bond.)
[6]
The phenoxy resin composition according to [4],
A phenoxy resin composition, wherein the phenoxy resin having a mesogenic structure in the molecule contains a repeating unit represented by the following general formula (c):
Figure 0007559370000010
(In formula (c), b, d, R, n, R2 and R4 are defined as in formula (A), and f, h, R6 and R8 are defined as in formula (B). * represents a bond.)
[7]
The phenoxy resin composition according to any one of [3] to [6],
The phenoxy resin is obtained by reacting the polyfunctional phenol compound with the polyfunctional epoxy compound,
The phenoxy resin composition, wherein the low molecular weight component includes unreacted monomer and a low molecular weight product of the unreacted monomer.
[8]
The phenoxy resin composition according to any one of [3] to [7],
In the molecular weight distribution of the phenoxy resin composition, the peak area of the low molecular weight component not containing a monomer component is 2.0% or more and 25.0% or less relative to the total peak area (100%).
Phenoxy resin composition.
[9]
The phenoxy resin composition according to any one of [1] to [8],
A phenoxy resin composition, wherein the Mw of a high molecular weight component having a Mw of more than 1,000 is more than 1,000 and not more than 200,000.
[10]
The phenoxy resin composition according to any one of [1] to [9],
A phenoxy resin composition, wherein the molecular weight distribution (Mw/Mn) of a high molecular weight component having Mw exceeding 1,000 is 1.00 or more and 5.00 or less.
[11]
The phenoxy resin composition according to any one of [1] to [10],
A phenoxy resin composition for use in a thermally conductive resin composition.
[12]
A resin material comprising the phenoxy resin composition according to any one of [1] to [11].

以下、本発明について実施例を参照して詳細に説明するが、本発明は、これらの実施例の記載に何ら限定されるものではない。 The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to the description of these examples.

表1に示す原料は以下の通り。
(エポキシ化合物)
The raw materials shown in Table 1 are as follows:
(Epoxy Compound)

・YX4000:下記化学式で表されるテトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂(2官能エポキシ化合物、メソゲン構造あり、三菱ケミカル社製、YX4000)

Figure 0007559370000011
YX4000: Tetramethylbiphenyl type epoxy resin represented by the following chemical formula (bifunctional epoxy compound, having a mesogen structure, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, YX4000)
Figure 0007559370000011

・16DON:1,6-ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂(2官能エポキシ化合物、メソゲン構造あり、DIC社製、HP-4032D)

Figure 0007559370000012
16DON: 1,6-dihydroxynaphthalene type epoxy resin (difunctional epoxy compound, has a mesogen structure, manufactured by DIC Corporation, HP-4032D)
Figure 0007559370000012

・YL6121:下記で表されるエポキシ樹脂の1:1混合体(2官能エポキシ化合物、メソゲン構造あり、三菱ケミカル社製、YL6121)

Figure 0007559370000013
YL6121: a 1:1 mixture of the epoxy resins shown below (bifunctional epoxy compound, having a mesogen structure, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, YL6121)
Figure 0007559370000013

(フェノール化合物)
・HQHBA:エステル基含有ビスフェノール(HQHBA、2官能フェノール化合物、メソゲン構造あり、上野製薬社製)

Figure 0007559370000014
(Phenol compounds)
HQHBA: ester group-containing bisphenol (HQHBA, bifunctional phenolic compound, with mesogen structure, manufactured by Ueno Pharmaceutical Co., Ltd.)
Figure 0007559370000014

・26DON:2,6-ジヒドロキシナフタレン(2官能フェノール化合物、メソゲン構造あり、東京化成工業社製)

Figure 0007559370000015
26DON: 2,6-dihydroxynaphthalene (bifunctional phenol compound, has a mesogenic structure, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Figure 0007559370000015

・BP:4,4'-ジヒドロキシビフェニル(2官能フェノール化合物、メソゲン構造あり、東京化成工業社製)

Figure 0007559370000016
BP: 4,4'-dihydroxybiphenyl (bifunctional phenol compound, has a mesogen structure, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Figure 0007559370000016

・Resveratrol:レスベラトロール(3官能フェノール化合物、メソゲン構造あり、Evolva社製)

Figure 0007559370000017
Resveratrol: Resveratrol (trifunctional phenolic compound, has a mesogen structure, manufactured by Evolva)
Figure 0007559370000017

<フェノキシ樹脂の合成(フェノキシ樹脂組成物の調製)>
(実施例1~14)
表1に示す種類および配合量(重量部)に従って、エポキシ化合物、フェノール化合物、トリフェニルホスフィン(TPP)、及び溶剤(メチルエチルケトン)を反応器に投下し、表1に示す反応温度、反応時間に従って、溶剤を除去しながら反応させた。GPCで目的の分子量のフェノキシ樹脂が得られ、さらに重量平均分子量Mwが1,000以下の低分子量成分が所定の量であることを確認し、反応を停止させた。また、適宜精製することにより当該低分子量成分の量を低減させた。
以上により、以下の化学式で表される繰り返し単位を含むフェノキシ樹脂と、重量平均分子量Mwが1,000以下の低分子量成分を所定の量で含む樹脂組成物を得た
<Synthesis of phenoxy resin (preparation of phenoxy resin composition)>
(Examples 1 to 14)
According to the types and amounts (parts by weight) shown in Table 1, an epoxy compound, a phenol compound, triphenylphosphine (TPP), and a solvent (methyl ethyl ketone) were added to a reactor, and reacted while removing the solvent according to the reaction temperature and reaction time shown in Table 1. The reaction was stopped after it was confirmed by GPC that a phenoxy resin having the desired molecular weight was obtained and that the amount of low molecular weight components having a weight average molecular weight Mw of 1,000 or less was a predetermined amount. In addition, the amount of the low molecular weight components was reduced by appropriate purification.
As a result of the above, a resin composition was obtained that contains a phenoxy resin containing a repeating unit represented by the following chemical formula and a predetermined amount of a low molecular weight component having a weight average molecular weight Mw of 1,000 or less.

・フェノキシ樹脂(YX4000/26DON)

Figure 0007559370000018
- Phenoxy resin (YX4000/26DON)
Figure 0007559370000018

・フェノキシ樹脂(16DON/HQHBA)

Figure 0007559370000019
- Phenoxy resin (16DON/HQHBA)
Figure 0007559370000019

・フェノキシ樹脂(YX4000/HQHBA)

Figure 0007559370000020
- Phenoxy resin (YX4000/HQHBA)
Figure 0007559370000020

・フェノキシ樹脂(YX4000/BP)

Figure 0007559370000021
- Phenoxy resin (YX4000/BP)
Figure 0007559370000021

・フェノキシ樹脂(YX4000/HQHBA/Resveratrol)

Figure 0007559370000022
- Phenoxy resin (YX4000/HQHBA/Resveratrol)
Figure 0007559370000022

・フェノキシ樹脂(YL6121/HQHBA)

Figure 0007559370000023
- Phenoxy resin (YL6121/HQHBA)
Figure 0007559370000023

式中、Rは水素原子またはメチル基であり、各々のビフェニル基に結合する4つのRは同一である。フェノキシ樹脂は、R=Hが50%,R=CHが50%含まれる混合体である。 In the formula, R is a hydrogen atom or a methyl group, and the four Rs bonded to each biphenyl group are the same. The phenoxy resin is a mixture containing 50% R=H and 50% R= CH3 .

(比較例1)
フェノキシ樹脂として、直鎖型フェノキシ樹脂1:下記の化学式で表されるビスフェノールA型フェノキシ樹脂(メソゲン構造なし、三菱ケミカル社製、YP-55)を使用した。

Figure 0007559370000024
(Comparative Example 1)
As the phenoxy resin, linear phenoxy resin 1: bisphenol A type phenoxy resin (no mesogen structure, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, YP-55) represented by the following chemical formula was used.
Figure 0007559370000024

(比較例2、4、5)
表1に示すエポキシ化合物、フェノール化合物、重量比率、反応温度、反応時間を使用した以外は、実施例1と同様にして、フェノキシ樹脂を得た。
(Comparative Examples 2, 4, and 5)
A phenoxy resin was obtained in the same manner as in Example 1, except that the epoxy compound, phenol compound, weight ratio, reaction temperature, and reaction time shown in Table 1 were used.

(比較例3)
実施例9で得られたフェノキシ樹脂を、良溶剤に溶解させ、固形分濃度40%程度に調製した後、8倍量のメタノールを用いて再沈殿を行い、モノマー含有量を低減させたフェノキシ樹脂を得た。
(Comparative Example 3)
The phenoxy resin obtained in Example 9 was dissolved in a good solvent to adjust the solid concentration to about 40%, and then reprecipitation was carried out using 8 times the amount of methanol to obtain a phenoxy resin with a reduced monomer content.

(分子量、分散度、およびピーク面積)
GPCの測定条件は、以下の通りである。
・東ソー(株)社製ゲルパーミエーションクロマトグラフィー装置HLC-8320GPC
・カラム:東ソー(株)社製TSK-GEL GMH、G2000H、SuperHM-M
・検出器:液体クロマトグラム用RI検出器
・測定温度:40℃
・溶媒:THF
・試料濃度:2.0mg/ミリリットル
(Molecular weight, dispersity, and peak area)
The measurement conditions for GPC are as follows.
- Gel permeation chromatography device HLC-8320GPC manufactured by Tosoh Corporation
Column: TSK-GEL GMH, G2000H, Super HM-M manufactured by Tosoh Corporation
Detector: RI detector for liquid chromatography Measurement temperature: 40°C
Solvent: THF
Sample concentration: 2.0 mg/milliliter

重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)、および分散度(PDI:Mw/Mn)は、GPC測定により得られる標準ポリスチレン(PS)の検量線から求めたポリスチレン換算値を用いて、算出した。 The weight average molecular weight (Mw), number average molecular weight (Mn), and polydispersity index (PDI: Mw/Mn) were calculated using polystyrene equivalent values obtained from the calibration curve of standard polystyrene (PS) obtained by GPC measurement.

上記GPC測定により得られた分子量に関するデータに基づき、分子量分布について、各ピークを、Mwが1k超の高分子量成分(A)、モノマーを含まないMwが1k以下の低分子量成分(B)、モノマー(C)に分類した。(B)および(C)の合計を、Mwが1k以下の低分子量成分とする。 Based on the molecular weight data obtained by the GPC measurement, the peaks in the molecular weight distribution were classified into high molecular weight components (A) with Mw of more than 1k, low molecular weight components (B) with Mw of 1k or less that do not contain monomers, and monomers (C). The sum of (B) and (C) is the low molecular weight component with Mw of 1k or less.

上記GPC測定により得られた分子量分布の全面積を100%としたとき、測定対象のフェノキシ樹脂に含まれるMwが1k以下の低分子量成分(上記の(B)+(C))に対応するピークについて、そのピーク面積の面積割合(%)を算出した。 When the total area of the molecular weight distribution obtained by the above GPC measurement was taken as 100%, the area ratio (%) of the peak area corresponding to the low molecular weight components (above (B) + (C)) with Mw of 1k or less contained in the phenoxy resin to be measured was calculated.

Figure 0007559370000025
Figure 0007559370000025

Figure 0007559370000026
Figure 0007559370000026

得られたフェノキシ樹脂組成物について、以下の評価項目に基づいて評価を実施した。 The obtained phenoxy resin composition was evaluated based on the following evaluation items.

(流動性)
東亜工業株式会社製コーンプレート粘度計CV-1Sを用いて、約0.1gの粉砕したフェノキシ樹脂を量り取り、あらかじめ所定の温度(150℃、165℃、180℃)で予熱されたステージ上に乗せ、コーン回転数が94rpm~750rpmのときのトルク値を測定した。測定されたトルク値を用いて、フェノキシ樹脂の溶融粘度(mPa・s)を算出した。
下記の評価基準に基づいて、フェノキシ樹脂組成物の溶融粘度を評価した。
表1中、180℃時の溶融粘度が10mPa・s超の場合を×、180℃時の溶融粘度が10mPa・s以下5mPa・s超の場合を△、180℃時の溶融粘度が5mPa・s以下の場合を○とした。検出限界とは、溶融粘度が低すぎて測定できなかったことを示す。
(Liquidity)
Using a cone plate viscometer CV-1S manufactured by Toa Kogyo Co., Ltd., about 0.1 g of the pulverized phenoxy resin was weighed out and placed on a stage preheated to a predetermined temperature (150°C, 165°C, 180°C), and the torque value was measured when the cone rotation speed was 94 rpm to 750 rpm. The measured torque value was used to calculate the melt viscosity (mPa s) of the phenoxy resin.
The melt viscosity of the phenoxy resin composition was evaluated based on the following evaluation criteria.
In Table 1, melt viscosity at 180° C. exceeding 10 mPa·s was evaluated as ×, melt viscosity at 180° C. not more than 10 mPa·s but more than 5 mPa·s was evaluated as △, and melt viscosity at 180° C. not more than 5 mPa·s was evaluated as ○. The detection limit indicates that the melt viscosity was too low to measure.

(熱伝導性)
得られたフェノキシ樹脂組成物を用いて、下記の手順に従って、熱拡散率および熱伝導率を測定した。
・樹脂成形体の作製
得られたフェノキシ樹脂組成物100重量部に触媒(2-メチルイミダゾール)2重量部を混合した混合物を、離型剤を塗布した金型にセットし、コンプレッション成形を180℃、30min行い、直径10mm×厚み1mmの樹脂成形物を得た。その後、オーブンにて180℃、180minの硬化を行い、樹脂成形体(熱伝導率測定用サンプル1)を得た。
・樹脂成形体の密度
密度測定は、JIS K 6911(熱硬化性プラスチック一般試験方法)に準拠して行った。試験片は、上記の樹脂成形体から、縦2cm×横2cm×厚み2mmに切り出したものを用いた。密度(ρ)の単位をg/cm3とする。
(Thermal Conductivity)
The thermal diffusivity and thermal conductivity of the obtained phenoxy resin composition were measured according to the following procedures.
- Preparation of resin molded product 100 parts by weight of the obtained phenoxy resin composition was mixed with 2 parts by weight of a catalyst (2-methylimidazole), and the mixture was set in a mold coated with a release agent, and compression molding was performed at 180°C for 30 minutes to obtain a resin molded product with a diameter of 10 mm and a thickness of 1 mm. Then, curing was performed in an oven at 180°C for 180 minutes to obtain a resin molded product (thermal conductivity measurement sample 1).
Density of resin molded body Density measurement was performed in accordance with JIS K 6911 (general test method for thermosetting plastics). Test pieces were cut from the above resin molded body to a length of 2 cm, width of 2 cm, and thickness of 2 mm. The unit of density (ρ) is g/cm3.

・樹脂成形体の比熱
得られた上記の樹脂成形体について、DSC法により比熱(Cp)を測定した。
Specific Heat of Resin Molded Article The specific heat (Cp) of the above-obtained resin molded article was measured by a DSC method.

・樹脂成形体の熱伝導率の測定
得られた樹脂成形体から、厚み方向測定用として、直径10mm×厚み1mmに加工したものを試験片とした。次に、ULVAC社製のXeフラッシュアナライザーTD-1RTVを用いて、レーザーフラッシュ法により板状の試験片の厚み方向の熱拡散係数(α)の測定を行った。測定は、大気雰囲気下、25℃の条件下で行った。
樹脂成形体について、得られた熱拡散係数(α)、比熱(Cp)、密度(ρ)の測定値から、下記式に基づいて熱伝導率を算出した。
熱伝導率[W/m・K]=α[m/s]×Cp[J/kg・K]×ρ[g/cm
表1中、樹脂成形体の熱伝導率を「樹脂熱伝導率」とした。
Measurement of thermal conductivity of resin molded body From the obtained resin molded body, a test piece was processed to a diameter of 10 mm and a thickness of 1 mm for thickness direction measurement. Next, the thermal diffusion coefficient (α) in the thickness direction of the plate-shaped test piece was measured by the laser flash method using a Xe flash analyzer TD-1RTV manufactured by ULVAC. The measurement was performed under the condition of air atmosphere and 25°C.
For the resin molded body, the thermal conductivity was calculated based on the measured values of the thermal diffusion coefficient (α), specific heat (Cp), and density (ρ) obtained, according to the following formula.
Thermal conductivity [W/m・K] = α [m 2 /s] × Cp [J/kg・K] × ρ [g/cm 3 ]
In Table 1, the thermal conductivity of the resin molded body is indicated as "resin thermal conductivity."

得られた樹脂熱伝導率について、下記の基準に基づいて評価した。
表1中、樹脂熱伝導率が0.26W/m・K以下の場合を×、樹脂熱伝導率が0.26W/m・K超0.29W/m・K未満の場合を△、樹脂熱伝導率が0.29W/m・K以上の場合を○とした。
The thermal conductivity of the resulting resin was evaluated based on the following criteria.
In Table 1, the resin thermal conductivity was indicated as × when it was 0.26 W/m·K or less, as △ when it was greater than 0.26 W/m·K and less than 0.29 W/m·K, and as ○ when it was 0.29 W/m·K or more.

実施例1~11のフェノキシ樹脂組成物は、比較例2、3と比較して流動性に優れており、比較例1、4、5と比較して熱伝導性に優れる結果が示された。このようなフェノキシ樹脂組成物は、樹脂材料に用いることができ、さらに、放熱絶縁基板やシートなどの放熱絶縁材料に好適に用いることができる。 The phenoxy resin compositions of Examples 1 to 11 showed superior fluidity compared to Comparative Examples 2 and 3, and superior thermal conductivity compared to Comparative Examples 1, 4, and 5. Such phenoxy resin compositions can be used as resin materials, and can be suitably used as heat dissipating insulating materials such as heat dissipating insulating substrates and sheets.

100 金属ベース基板
101 金属基板
102 絶縁層
103 金属層
100 Metal base substrate 101 Metal substrate 102 Insulating layer 103 Metal layer

Claims (12)

分子内にメソゲン構造を有するフェノキシ樹脂と、
重量平均分子量Mwが1,000以下の低分子量成分と、
を含む、フェノキシ樹脂組成物であって、
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで得られる当該フェノキシ樹脂組成物の分子量分布において、前記低分子量成分のピーク面積が、全ピーク面積100%に対して、7.0%以上50.0%以下であり、
前記低分子量成分は、前記フェノキシ樹脂に含まれる未反応のモノマー成分および前記モノマー成分の重合物である、フェノキシ樹脂組成物。
A phenoxy resin having a mesogen structure in its molecule;
A low molecular weight component having a weight average molecular weight Mw of 1,000 or less;
A phenoxy resin composition comprising:
In the molecular weight distribution of the phenoxy resin composition obtained by gel permeation chromatography, the peak area of the low molecular weight component is 7.0% or more and 50.0% or less with respect to 100% of the total peak area;
The phenoxy resin composition, wherein the low molecular weight component is an unreacted monomer component contained in the phenoxy resin and a polymer of the monomer component.
請求項1に記載のフェノキシ樹脂組成物であって、
前記メソゲン構造が、下記一般式(1)で表される構造を有するものである、フェノキシ樹脂組成物。
-A-x-A- (1)
(上記一般式(1)中、AおよびAは、各々独立して、芳香族基、縮合芳香族基、脂環基、または脂環式複素環基を表し、xは、直接結合、または-O-、-SO -、-C=C-、-C≡C-、-CO-、-CO-O-、-CO-NH-、-CH=N-、-CH=N-N=CH-、-N=N-および-N(O)=N-からなる群から選択される2価の結合基を示す。)
The phenoxy resin composition according to claim 1,
The phenoxy resin composition, wherein the mesogen structure has a structure represented by the following general formula (1):
-A 1 -x-A 2 - (1)
(In the above general formula (1), A 1 and A 2 each independently represent an aromatic group, a condensed aromatic group, an alicyclic group, or an alicyclic heterocyclic group, and x represents a direct bond or a divalent bonding group selected from the group consisting of -O-, -SO 2 -, -C=C-, -C≡C-, -CO-, -CO-O-, -CO-NH-, -CH=N-, -CH=N-N=CH-, -N=N-, and -N(O)=N-.)
請求項1または2に記載のフェノキシ樹脂組成物であって、
前記分子内にメソゲン構造を有するフェノキシ樹脂が、
分子内に2個以上のヒドロキシ基を有する多官能フェノール化合物由来の構造単位、および分子内に2個以上のエポキシ基を有する多官能エポキシ化合物由来の構造単位を有しており、
前記多官能フェノール化合物および前記多官能エポキシ化合物の少なくとも一方が、分子中に前記メソゲン構造を有するものである、フェノキシ樹脂組成物。
The phenoxy resin composition according to claim 1 or 2,
The phenoxy resin having a mesogen structure in the molecule is
The composition has a structural unit derived from a polyfunctional phenol compound having two or more hydroxy groups in the molecule, and a structural unit derived from a polyfunctional epoxy compound having two or more epoxy groups in the molecule,
A phenoxy resin composition, wherein at least one of the polyfunctional phenol compound and the polyfunctional epoxy compound has the mesogen structure in the molecule.
請求項3に記載のフェノキシ樹脂組成物であって、
前記分子内にメソゲン構造を有するフェノキシ樹脂が、下記一般式(A)で表される多官能フェノール化合物と、下記一般式(B)で表される多官能エポキシ化合物との反応により得られ、
前記メソゲン構造が、下記一般式(1)で表される構造を有するものである、フェノキシ樹脂組成物。
Figure 0007559370000027
(一般式(A)中、RおよびRは、それぞれ独立に、ヒドロキシ基を表し、RおよびRは、それぞれ独立に、炭素数1~6の鎖状もしくは環状アルキル基、フェニル基およびハロゲン原子から選択される1種を表し、aおよびcはそれぞれ1~3の整数であり、bおよびdはそれぞれ0~2の整数である。ただし、a+bおよびc+dは、それぞれ1~3のいずれかである。Rは、前記一般式(1)で表されるメソゲン構造を表す。nは0または1である。nが0の場合、2つのベンゼン環により縮合環を形成してもよい。)
Figure 0007559370000028
(一般式(B)中、RおよびRは、それぞれ独立に、グリシジルエーテル基を表し、RおよびRは、それぞれ独立に、炭素数1~6の鎖状もしくは環状アルキル基、フェニル基およびハロゲン原子から選択される1種を表し、eおよびgはそれぞれ1~3の整数であり、fおよびhはそれぞれ0~2の整数である。ただし、e+fおよびg+hは、それぞれ1~3のいずれかである。Rは、前記一般式(1)で表されるメソゲン構造を表す。nは0または1である。nが0の場合、2つのベンゼン環により縮合環を形成してもよい。)
-A -x-A - (1)
(上記一般式(1)中、A およびA は、各々独立して、芳香族基、縮合芳香族基、脂環基、または脂環式複素環基を表し、xは、直接結合、または-O-、-SO -、-C=C-、-C≡C-、-CO-、-CO-O-、-CO-NH-、-CH=N-、-CH=N-N=CH-、-N=N-および-N(O)=N-からなる群から選択される2価の結合基を示す。)
The phenoxy resin composition according to claim 3,
The phenoxy resin having a mesogen structure in the molecule is obtained by reacting a polyfunctional phenol compound represented by the following general formula (A) with a polyfunctional epoxy compound represented by the following general formula (B) :
The phenoxy resin composition , wherein the mesogen structure has a structure represented by the following general formula (1) :
Figure 0007559370000027
(In general formula (A), R1 and R3 each independently represent a hydroxy group, R2 and R4 each independently represent one selected from a chain or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, and a halogen atom, a and c each independently represent an integer from 1 to 3, and b and d each independently represent an integer from 0 to 2, provided that a+b and c+d each independently represent an integer from 1 to 3. R represents a mesogen structure represented by general formula (1) above, n is 0 or 1, and when n is 0, a condensed ring may be formed by two benzene rings.)
Figure 0007559370000028
(In general formula (B), R5 and R7 each independently represent a glycidyl ether group, R6 and R8 each independently represent one selected from a linear or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, and a halogen atom, e and g each independently represent an integer from 1 to 3, and f and h each independently represent an integer from 0 to 2, provided that e+f and g+h each independently represent an integer from 1 to 3. R represents a mesogen structure represented by general formula (1) above, n is 0 or 1, and when n is 0, a condensed ring may be formed by two benzene rings.)
-A 1 -x-A 2 - (1)
(In the above general formula (1), A 1 and A 2 each independently represent an aromatic group, a condensed aromatic group, an alicyclic group, or an alicyclic heterocyclic group, and x represents a direct bond or a divalent bonding group selected from the group consisting of -O-, -SO 2 -, -C=C-, -C≡C-, -CO-, -CO-O-, -CO-NH-, -CH=N-, -CH=N-N=CH-, -N=N-, and -N(O)=N-.)
請求項4に記載のフェノキシ樹脂組成物であって、
前記分子内にメソゲン構造を有するフェノキシ樹脂が、下記一般式(b)で表される繰り返し単位を含む、フェノキシ樹脂組成物。
Figure 0007559370000029
(一般式(b)中、b、d、R、n、RおよびRは一般式(A)と同義であり、f、h、RおよびRは一般式(B)と同義である。*は結合手を表す。)
The phenoxy resin composition according to claim 4,
A phenoxy resin composition, wherein the phenoxy resin having a mesogenic structure in the molecule contains a repeating unit represented by the following general formula (b):
Figure 0007559370000029
(In the general formula (b), b, d, R, n, R2 and R4 are defined as in the general formula (A), and f, h, R6 and R8 are defined as in the general formula (B). * represents a bond.)
請求項4に記載のフェノキシ樹脂組成物であって、
前記分子内にメソゲン構造を有するフェノキシ樹脂が、下記一般式(c)で表される繰り返し単位を含む、フェノキシ樹脂組成物。
Figure 0007559370000030
(一般式(c)中、b、d、R、n、RおよびRは一般式(A)と同義であり、f、h、RおよびRは一般式(B)と同義である。*は結合手を表す。)
The phenoxy resin composition according to claim 4,
A phenoxy resin composition, wherein the phenoxy resin having a mesogenic structure in the molecule contains a repeating unit represented by the following general formula (c):
Figure 0007559370000030
(In formula (c), b, d, R, n, R2 and R4 are defined as in formula (A), and f, h, R6 and R8 are defined as in formula (B). * represents a bond.)
請求項3~6のいずれかに記載のフェノキシ樹脂組成物であって、
前記フェノキシ樹脂は、前記多官能フェノール化合物と前記多官能エポキシ化合物との反応により得られる、フェノキシ樹脂組成物。
The phenoxy resin composition according to any one of claims 3 to 6,
The phenoxy resin is a phenoxy resin composition obtained by reacting the polyfunctional phenol compound with the polyfunctional epoxy compound.
請求項3~7のいずれか一項に記載のフェノキシ樹脂組成物であって、
当該フェノキシ樹脂組成物の分子量分布において、全ピーク面積100%に対する、モノマー成分を含まない前記低分子量成分のピーク面積が、2.0%以上25.0%以下を満たす、フェノキシ樹脂組成物。
The phenoxy resin composition according to any one of claims 3 to 7,
A phenoxy resin composition, wherein in the molecular weight distribution of the phenoxy resin composition, the peak area of the low molecular weight component not containing a monomer component is 2.0% or more and 25.0% or less relative to 100% of the total peak area.
請求項1~8のいずれか一項に記載のフェノキシ樹脂組成物であって、
Mwが1,000超えの高分子量成分のMwが1,000を超え200,000以下である、フェノキシ樹脂組成物。
The phenoxy resin composition according to any one of claims 1 to 8,
A phenoxy resin composition, wherein the Mw of a high molecular weight component having a Mw of more than 1,000 is more than 1,000 and not more than 200,000.
請求項1~9のいずれか一項に記載のフェノキシ樹脂組成物であって、
Mwが1,000超えの高分子量成分の分子量分布(Mw/Mn)が1.00以上5.00以下である、フェノキシ樹脂組成物。
The phenoxy resin composition according to any one of claims 1 to 9,
A phenoxy resin composition, wherein the molecular weight distribution (Mw/Mn) of a high molecular weight component having Mw exceeding 1,000 is 1.00 or more and 5.00 or less.
請求項1~10のいずれか一項に記載のフェノキシ樹脂組成物であって、
熱伝導性樹脂組成物に用いる、フェノキシ樹脂組成物。
The phenoxy resin composition according to any one of claims 1 to 10,
A phenoxy resin composition for use in a thermally conductive resin composition.
請求項1~11のいずれか一項に記載のフェノキシ樹脂組成物を含む、樹脂材料。 A resin material comprising the phenoxy resin composition according to any one of claims 1 to 11.
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