JP7548670B2 - 検査装置、制御方法及び制御プログラム - Google Patents
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Description
被検査体の検査を行う際の、載置台における該被検査体の位置を示す第1座標情報と、該載置台における複数の温度センサの位置を示す複数の第2座標情報とを取得する取得部と、
前記第1座標情報の平均ベクトルにより特定される位置と、前記複数の温度センサの位置との間のマハラノビス距離を算出する算出部と、
前記マハラノビス距離が最小となる温度センサを含む少なくとも1つの温度センサを選択する選択部と、
選択された温度センサにより測定された温度データを用いて前記被検査体の温度制御を行う制御部とを有する。
<検査装置の構成例>
はじめに、第1の実施形態に係る検査装置の構成例について説明する。図1は、検査装置の構成例を示す断面模式図である。図1に示すように、検査装置100は、ローダ室110、収容室120、テストヘッド130、テスタ140、表示装置150を有する。
次に、制御装置125のハードウェア構成について説明する。図2は、制御装置125のハードウェア構成の一例を示す図である。
次に、検査装置100の各構成のうち、検査時に電子デバイスの温度制御を行う温度制御機能に関わる構成について説明する。図3は、検査装置の各構成のうち温度制御機能に関わる構成を示す図である。
・メインチャック121内に取り付けられた、温調器310、温度センサ220_1~220_4、
・温調器制御回路124、
・制御装置125において実現される、温度センサ選択部320、温度制御部330、
が含まれる。
次に、検査対象となる電子デバイスと温度センサとの検査時の位置関係について説明する。図4は、電子デバイスと温度センサとの検査時の位置関係の一例を示す図であり、検査時にメインチャック121にウェハWが固定された状態でウェハW上に配置された電子デバイスと温度センサとの位置関係を、上方から見た様子を示している。
次に、制御装置125において、制御プログラムが実行されることで実現される機能のうち、温度センサ選択部の機能について説明する。図5は、制御装置の温度センサ選択部の機能構成の一例を示す図である。図5に示すように、温度センサ選択部320は、電子デバイス位置情報取得部501、温度センサ位置情報取得部502、平均ベクトル算出部503、マハラノビス距離算出部504、選択部505を有する。
・電子デバイス位置情報取得部501から通知された、検査対象となる電子デバイスの位置を示す座標、
・平均ベクトル算出部503から通知された、検査対象となる電子デバイスの平均ベクトル、
・温度センサ位置情報取得部502から通知された、温度センサの位置を示す座標、
に基づいて、検査対象となる電子デバイスの平均ベクトルにより特定される位置と、各温度センサの位置との間のマハラノビス距離を算出する。また、マハラノビス距離算出部504は、算出した各温度センサの位置との間のマハラノビス距離を、選択部505に通知する。
次に、温度センサ選択部320による処理の具体例について説明する。図6は、温度センサ選択部による処理の具体例を示す図であり、図4(a)~(c)に示した電子デバイスと温度センサとの各位置関係に対して、温度センサ選択部320が、1つの温度センサを選択する場合の処理の具体例を示している。
次に、電子デバイスの平均ベクトルにより特定される位置と、温度センサ220_1~220_4それぞれの位置との間のマハラノビス距離を算出する場合の、マハラノビス距離算出部504による処理の詳細について説明する。図7は、マハラノビス距離算出部による処理の詳細を示す図である。
次に、検査装置100における検査処理の流れについて説明する。図8は、検査装置における検査処理の流れを示すフローチャートである。このうち、図8(a)は、デバイス配置情報を読み出すことで、検査対象となる電子デバイスの数及び位置を取得する場合の検査処理の流れを示している。
次に、図8のステップS802、813で示した温度センサ選択処理の流れについて説明する。図9は、温度センサ選択処理の流れを示すフローチャートである。
以上の説明から明らかなように、第1の実施形態に係る検査装置100は、
・電子デバイスの電気的特性についての検査を行う際の、メインチャックにおける電子デバイスの位置を示す座標と、メインチャックにおける複数の温度センサの位置を示す座標とを取得する。
・メインチャックにおける電子デバイスの位置を示す座標から平均ベクトルを算出し、算出した平均ベクトルにより特定される位置と、複数の温度センサそれぞれの位置との間のマハラノビス距離を算出する。
・算出したマハラノビス距離が最小となる温度センサを選択する。
・選択した温度センサにより測定された温度データを用いて電子デバイスの温度制御を行う。
上記第1の実施形態では、検査対象となる電子デバイスと温度センサとの位置関係として、図4に示すケースについて例示した。しかしながら、検査対象となる電子デバイスと温度センサとの位置関係は、図4に示すケースに限定されない。図10は、電子デバイスと温度センサとの検査時の位置関係の他の一例を示す図である。
上記各実施形態では、電子デバイスの平均ベクトルにより特定される位置からのマハラノビス距離が最小となる温度センサを1つ選択するものとして説明した。しかしながら、温度センサの選択方法はこれに限定されず、例えば、マハラノビス距離が短い上位m個(mは1以上の整数)の温度センサを選択するように構成してもよい。
110 :ローダ室
120 :収容室
121 :メインチャック
122 :プローブカード
122A :プローブ群
123 :アライメント機構
124 :温調器制御回路
125 :制御装置
130 :テストヘッド
131 :テスタ
220_1~220_4 :温度センサ
310 :温調器
320 :温度センサ選択部
330 :温度制御部
501 :電子デバイス位置情報取得部
502 :温度センサ位置情報取得部
503 :平均ベクトル算出部
504 :マハラノビス距離算出部
505 :選択部
Claims (8)
- 被検査体の検査を行う際の、載置台における該被検査体の位置を示す第1座標情報と、該載置台における複数の温度センサの位置を示す複数の第2座標情報とを取得する取得部と、
前記第1座標情報の平均ベクトルにより特定される位置と、前記複数の温度センサの位置との間のマハラノビス距離を算出する算出部と、
前記マハラノビス距離が最小となる温度センサを含む少なくとも1つの温度センサを選択する選択部と、
選択された温度センサにより測定された温度データを用いて前記被検査体の温度制御を行う制御部と
を有する検査装置。 - 前記第1座標情報の平均ベクトルは、前記被検査体の位置を示す座標のx座標の平均値及びy座標の平均値である、請求項1に記載の検査装置。
- 前記選択部は、前記マハラノビス距離が短い上位m個(mは1以上の整数)の温度センサを選択する、請求項1に記載の検査装置。
- 前記選択部により、複数の温度センサが選択された場合、前記制御部は、選択された複数の温度センサにより測定されたそれぞれの温度データを、前記マハラノビス距離に応じて重み付け加算する、請求項3に記載の検査装置。
- 前記取得部は、検査位置に移動した被検査体を撮影することで、前記第1座標情報を取得する、請求項1に記載の検査装置。
- 前記取得部は、前記被検査体の各頂点の座標である第1座標情報を取得する、請求項1に記載の検査装置。
- 被検査体の検査を行う際の、載置台における該被検査体の位置を示す第1座標情報と、該載置台における複数の温度センサの位置を示す複数の第2座標情報とを取得する取得工程と、
前記第1座標情報の平均ベクトルにより特定される位置と、前記複数の温度センサの位置との間のマハラノビス距離を算出する算出工程と、
前記マハラノビス距離が最小となる温度センサを含む少なくとも1つの温度センサを選択する選択工程と、
選択された温度センサにより測定された温度データを用いて前記被検査体の温度制御を行う制御工程と
を有する制御方法。 - 被検査体の検査を行う際の、載置台における該被検査体の位置を示す第1座標情報と、該載置台における複数の温度センサの位置を示す複数の第2座標情報とを取得する取得工程と、
前記第1座標情報の平均ベクトルにより特定される位置と、前記複数の温度センサの位置との間のマハラノビス距離を算出する算出工程と、
前記マハラノビス距離が最小となる温度センサを含む少なくとも1つの温度センサを選択する選択工程と、
選択された温度センサにより測定された温度データを用いて前記被検査体の温度制御を行う制御工程と
をコンピュータに実行させるための制御プログラム。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021006267A JP7548670B2 (ja) | 2021-01-19 | 2021-01-19 | 検査装置、制御方法及び制御プログラム |
CN202210020744.4A CN114814509A (zh) | 2021-01-19 | 2022-01-10 | 检查装置、控制方法和控制程序 |
TW111100901A TW202238143A (zh) | 2021-01-19 | 2022-01-10 | 檢查裝置、控制方法及控制程式 |
KR1020220003099A KR20220105125A (ko) | 2021-01-19 | 2022-01-10 | 검사 장치, 제어 방법 및 기억 매체 |
EP22150751.0A EP4036589B1 (en) | 2021-01-19 | 2022-01-10 | Inspection apparatus, control method, and storage medium |
US17/573,680 US11719744B2 (en) | 2021-01-19 | 2022-01-12 | Inspection apparatus, control method, and storage medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021006267A JP7548670B2 (ja) | 2021-01-19 | 2021-01-19 | 検査装置、制御方法及び制御プログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022110701A JP2022110701A (ja) | 2022-07-29 |
JP7548670B2 true JP7548670B2 (ja) | 2024-09-10 |
Family
ID=79287841
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021006267A Active JP7548670B2 (ja) | 2021-01-19 | 2021-01-19 | 検査装置、制御方法及び制御プログラム |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11719744B2 (ja) |
EP (1) | EP4036589B1 (ja) |
JP (1) | JP7548670B2 (ja) |
KR (1) | KR20220105125A (ja) |
CN (1) | CN114814509A (ja) |
TW (1) | TW202238143A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2007129091A (ja) | 2005-11-04 | 2007-05-24 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | プローバ |
JP2018190428A (ja) | 2015-02-17 | 2018-11-29 | 富士通株式会社 | 判定装置、判定方法および判定プログラム |
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-
2021
- 2021-01-19 JP JP2021006267A patent/JP7548670B2/ja active Active
-
2022
- 2022-01-10 CN CN202210020744.4A patent/CN114814509A/zh active Pending
- 2022-01-10 TW TW111100901A patent/TW202238143A/zh unknown
- 2022-01-10 EP EP22150751.0A patent/EP4036589B1/en active Active
- 2022-01-10 KR KR1020220003099A patent/KR20220105125A/ko active Pending
- 2022-01-12 US US17/573,680 patent/US11719744B2/en active Active
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JP2007129091A (ja) | 2005-11-04 | 2007-05-24 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | プローバ |
JP2018190428A (ja) | 2015-02-17 | 2018-11-29 | 富士通株式会社 | 判定装置、判定方法および判定プログラム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US11719744B2 (en) | 2023-08-08 |
EP4036589A1 (en) | 2022-08-03 |
KR20220105125A (ko) | 2022-07-26 |
EP4036589B1 (en) | 2023-10-04 |
US20220229105A1 (en) | 2022-07-21 |
JP2022110701A (ja) | 2022-07-29 |
TW202238143A (zh) | 2022-10-01 |
CN114814509A (zh) | 2022-07-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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