[go: up one dir, main page]

JP7543779B2 - Method for producing gas barrier polyamide film - Google Patents

Method for producing gas barrier polyamide film Download PDF

Info

Publication number
JP7543779B2
JP7543779B2 JP2020143699A JP2020143699A JP7543779B2 JP 7543779 B2 JP7543779 B2 JP 7543779B2 JP 2020143699 A JP2020143699 A JP 2020143699A JP 2020143699 A JP2020143699 A JP 2020143699A JP 7543779 B2 JP7543779 B2 JP 7543779B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polyamide
film
layer
gas barrier
mass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020143699A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2022038958A (en
Inventor
考道 後藤
卓郎 遠藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyobo Co Ltd
Original Assignee
Toyobo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyobo Co Ltd filed Critical Toyobo Co Ltd
Priority to JP2020143699A priority Critical patent/JP7543779B2/en
Publication of JP2022038958A publication Critical patent/JP2022038958A/en
Priority to JP2024122137A priority patent/JP2024149534A/en
Priority to JP2024122136A priority patent/JP2024149533A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7543779B2 publication Critical patent/JP7543779B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02WCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
    • Y02W30/00Technologies for solid waste management
    • Y02W30/50Reuse, recycling or recovery technologies
    • Y02W30/80Packaging reuse or recycling, e.g. of multilayer packaging

Landscapes

  • Wrappers (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

本発明は、耐衝撃性及び耐摩擦ピンホール性に優れるとともに、廃棄ポリアミド製品からケミカルリサイクルしたポリアミド6を用いたガスバリア性ポリアミドフィルムに関するものである。本発明のガスバリア性ポリアミドフィルムは、食品包装用フィルムなどに好適に使用される。 The present invention relates to a gas-barrier polyamide film that has excellent impact resistance and abrasion pinhole resistance and uses polyamide 6 chemically recycled from waste polyamide products. The gas-barrier polyamide film of the present invention is suitable for use as a food packaging film, etc.

近年、循環型社会の構築を求める声の高まりとともに、材料分野においてもエネルギーと同様に化石燃料からの脱却が望まれている。
また近年では、海洋プラスチック汚染が大きな問題となっている。
海洋ごみのうちプラスチックが海へと流出すると、紫外線や物理的な摩耗によって破片となり、微小なプラスチック粒子(マイクロプラスチック)となる。海洋生物がこうした粒子を捕食することで、粒子中に含まれる、あるいは吸着している化学物質に曝露される可能性、さらには食物連鎖を通して、上位の捕食者にも影響が及ぶ可能性があり、このことが地球規模での問題となっている。
上記の海洋プラスチックごみの多くは陸から流れ着いたもので、そのほとんどは使い捨てを想定したプラスチック容器包装である一方、釣り糸や漁網なども含まれている。
このような背景から、海洋プラスチックごみを減らすにはこれらのプラスチックごみをリサイクルし、有効活用することでプラスチックごみを削減することが重要である。
In recent years, along with the growing calls for the creation of a recycling-oriented society, there is a desire to move away from fossil fuels in the materials sector, just as in the energy sector.
In recent years, marine plastic pollution has become a major problem.
When plastics from marine litter flow into the ocean, they break down into tiny plastic particles (microplastics) due to ultraviolet light and physical wear. When marine organisms eat these particles, they may be exposed to chemicals contained in or adsorbed to them, and this may have an impact on top predators through the food chain, making this a global problem.
Much of the marine plastic waste mentioned above has washed up from land, and while most of it is disposable plastic containers and packaging, it also includes fishing lines and nets.
Given this background, in order to reduce marine plastic waste, it is important to reduce plastic waste by recycling and making effective use of this plastic waste.

一方、従来から、ポリアミド6に代表される脂肪族ポリアミドからなる二軸延伸フィルムは、耐衝撃性と耐屈曲ピンホール性に優れており、各種の包装材料フィルムとして広く使用されている。これら包装用として用いられているこれらポリアミドフィルムにおいても、先に述べたプラスチックごみの一因であることから、リサイクル素材の利用が求められている。 On the other hand, biaxially oriented films made of aliphatic polyamides, such as polyamide 6, have been widely used as various packaging film materials due to their excellent impact resistance and resistance to pinholes caused by bending. However, these polyamide films used for packaging also contribute to the plastic waste mentioned above, so there is a demand for the use of recycled materials.

ナイロン6をリサイクルする方法としては、焼却して熱エネルギーとして回収するサーマルリサイクル法、溶融した後に再成型して再利用するマテリアルリサイクル法、および化学的に解重合してナイロンの原料にまで戻し、ナイロン製造等に再利用するケミカルリサイクル法がある。 There are three ways to recycle nylon 6: thermal recycling, in which it is incinerated and the heat energy is recovered; material recycling, in which it is melted and remolded for reuse; and chemical recycling, in which it is chemically depolymerized to return it to the raw nylon material and reused in nylon production, etc.

これらのうち、ケミカルリサイクル法はナイロン6を原料のカプロラクタムにまで分解してから回収し、ナイロン6の原料として再利用できることから、産業上有用なリサイクル方法といえる。 Of these, the chemical recycling method is an industrially useful recycling method because it breaks down nylon 6 into its raw material, caprolactam, which is then recovered and reused as a raw material for nylon 6.

例えば特許文献1では、ナイロン製衣料製品の使用済み品を回収した後、解重合を行ってε-カプロラクタムを回収し、精製し、重合し、溶融紡糸や成形によりナイロン繊維やナイロン成形品へと、リサイクル方法が開示されている。
かかる技術によれば、回収された衣料製品を素材原料まで戻して再利用するというリサイクルが可能となる。また、回収衣料製品を分解し精製することによって高純度で品質良
好な素材原料(原料モノマ)を得ることができるので、リサイクル使用により品質良好なナイロン6製品が得られるし、繰り返しリサイクルも可能となる。さらにまた、回収衣料製品の回収・選別作業が大幅に軽減されるといったものである。
For example, Patent Document 1 discloses a recycling method in which used nylon clothing products are collected, depolymerized to recover ε-caprolactam, which is then purified, polymerized, and melt-spun or molded into nylon fibers or nylon molded products.
This technology makes it possible to recycle collected clothing products by returning them to their raw materials and reusing them. In addition, by disassembling and refining collected clothing products, high-purity, high-quality raw materials (raw monomers) can be obtained, which can be recycled to produce high-quality nylon 6 products and can be recycled repeatedly. Furthermore, the work of collecting and sorting collected clothing products can be greatly reduced.

上述したケミカルリサイクル法によってリサイクルされたナイロン樹脂は、これまで主に繊維や成形品の原料として用いられてきたが、食品包装用のフィルムとしては実用化されていなかった。 Nylon resin recycled using the above-mentioned chemical recycling method has been used primarily as a raw material for fibers and molded products, but has not been put to practical use as food packaging film.

また、ポリアミドフィルムにアルミニウム、酸化アルミニウム、酸化ケイ素などの薄膜を蒸着などで積層したガスバリア性フィルムが、食品包装分野で広く使用されており、これらについてもより環境負荷を少なくすることが求められている。 In addition, gas barrier films made by laminating thin films of aluminum, aluminum oxide, silicon oxide, etc. onto polyamide films by vapor deposition or other methods are widely used in the food packaging field, and there is a demand for these to also have a reduced environmental impact.

特開平7-310204号公報Japanese Patent Application Publication No. 7-310204

本発明は、かかる従来技術に鑑み創案されたものである。本発明の目的は、耐衝撃性及び耐摩擦ピンホール性に優れるとともに、廃棄ポリアミド製品からケミカルリサイクルしたポリアミド6を用いたガスバリア性ポリアミドフィルムを提供することにある。 The present invention was devised in light of the above-mentioned conventional techniques. The object of the present invention is to provide a gas-barrier polyamide film that has excellent impact resistance and abrasion pinhole resistance and is made from polyamide 6 that is chemically recycled from waste polyamide products.

即ち、本発明は、以下の構成よりなる。
〔1〕ポリアミド6を70質量%以上含むポリアミド樹脂からなり、前記ポリアミド6のうち4~90質量%がケミカルリサイクルしたポリアミド6である二軸延伸ポリアミドフィルムの少なくとも片面に無機薄膜層が積層されたことを特徴とするガスバリア性ポリアミドフィルム。
〔2〕二軸延伸ポリアミドフィルムが、メカニカルリサイクルしたポリアミド6を5~60質量%含むことを特徴とする〔1〕に記載のガスバリア性ポリアミドフィルム。
〔3〕基材層(A層)の少なくとも片面に表面層(B層)が積層された二軸延伸ポリアミドフィルムの少なくとも片面に無機薄膜層が積層されたガスバリア性ポリアミドフィルムであって、基材層(A層)は前記の二軸延伸ポリアミドフィルムであり、B層がポリアミド6を70質量%以上含むポリアミド樹脂組成物からなることを特徴とするガスバリア性ポリアミドフィルム。
〔4〕基材層(A層)がメカニカルリサイクルしたポリアミド6を5~80質量%含有し、表面層(B層)がメカニカルリサイクルしたポリアミド6を0~30質量%含むことを特徴とする〔3〕に記載のガスバリア性ポリアミドフィルム
〔5〕ガスバリア性ポリアミドフィルムが下記の(a)~(c)を満足することを特徴とする前記〔1〕~〔4〕いずれか1項に記載のガスバリア性ポリアミドフィルム。
(a)突刺し強度が0.65N/μm以上、
(b)衝撃強度が0.9J/15μm以上。
(c)耐摩擦ピンホールテストでピンホール発生までの距離が2900cm以上。
〔6〕ガスバリア性ポリアミドフィルムが下記の(d)及び(e)を満足することを特徴とする前記〔1〕~〔5〕いずれか1項に記載のガスバリア性ポリアミドフィルム。
(d)ヘイズが2.6%以下、
(e)動摩擦係数が1.0以下。
〔7〕ポリエチレン系シーラントフィルムと貼り合わせた後の耐水ラミネート強度が4.0N/15mm以上であることを特徴とする〔1〕~〔6〕いずれか1項に記載のガスバリア性ポリアミドフィルム。
〔8〕〔1〕~〔7〕いずれか1項に記載のガスバリア性ポリアミドフィルムにシーラントフィルムを積層した積層フィルム。
〔9〕〔8〕に記載された積層フィルムを用いた包装袋。
That is, the present invention comprises the following:
[1] A gas barrier polyamide film, comprising a biaxially oriented polyamide film made of a polyamide resin containing 70% by mass or more of polyamide 6, in which 4 to 90% by mass of the polyamide 6 is chemically recycled polyamide 6, and an inorganic thin film layer is laminated on at least one side of the biaxially oriented polyamide film.
[2] The gas barrier polyamide film according to [1], wherein the biaxially oriented polyamide film contains 5 to 60% by mass of mechanically recycled polyamide 6.
[3] A gas barrier polyamide film comprising a biaxially oriented polyamide film having a surface layer (B layer) laminated on at least one side of a base layer (A layer), and an inorganic thin film layer laminated on at least one side of the biaxially oriented polyamide film, wherein the base layer (A layer) is the biaxially oriented polyamide film, and the B layer is made of a polyamide resin composition containing 70% by mass or more of polyamide 6.
[4] The gas barrier polyamide film according to [3], characterized in that the base layer (A layer) contains 5 to 80 mass % of mechanically recycled polyamide 6 and the surface layer (B layer) contains 0 to 30 mass % of mechanically recycled polyamide 6. [5] The gas barrier polyamide film according to any one of [1] to [4], characterized in that the gas barrier polyamide film satisfies the following (a) to (c):
(a) a puncture strength of 0.65 N/μm or more;
(b) Impact strength is 0.9 J/15 μm or more.
(c) In the abrasion pinhole resistance test, the distance until pinholes appear is 2,900 cm or more.
[6] The gas barrier polyamide film according to any one of [1] to [5] above, which satisfies the following (d) and (e):
(d) haze of 2.6% or less;
(e) The coefficient of kinetic friction is 1.0 or less.
[7] The gas barrier polyamide film according to any one of [1] to [6], characterized in that after being laminated with a polyethylene sealant film, the gas barrier polyamide film has a water-resistant laminate strength of 4.0 N/15 mm or more.
[8] A laminated film obtained by laminating a sealant film on the gas barrier polyamide film according to any one of [1] to [7].
[9] A packaging bag using the laminated film described in [8].

本発明によれば、廃棄ポリアミド製品からケミカルリサイクルしたポリアミド6をブレンドした二軸延伸ポリアミドに無機薄膜層を積層することにより、耐衝撃性、耐屈曲ピンホール性に優れ、かつガスバリア性の優れた環境負荷低減が可能なポリアミドフィルムが得られる。 According to the present invention, by laminating an inorganic thin film layer onto biaxially oriented polyamide blended with polyamide 6 chemically recycled from waste polyamide products, a polyamide film that has excellent impact resistance, bending pinhole resistance, and gas barrier properties and can reduce the environmental load can be obtained.

耐摩擦ピンホール性評価装置の概略図Schematic diagram of a friction pinhole resistance evaluation device

1:堅牢度試験機のヘッド部
2:段ボール板
3:サンプル保持用の台紙
4:4つ折りしたフィルムサンプル
5:擦る振幅方向
1: Head of fastness tester 2: Cardboard board 3: Mount for holding sample 4: Film sample folded in four 5: Direction of rubbing amplitude

以下、本発明のガスバリア性ポリアミドフィルムを詳細に説明する。
本発明のガスバリア性ポリアミドフィルムは、ポリアミド6を70質量%以上含むポリアミド樹脂からなり、前記ポリアミド6のうち5~90質量%がケミカルリサイクルしたポリアミド6である二軸延伸ポリアミドフィルム(A層)の少なくとも片面に無機薄膜層を有することを特徴とするガスバリア性ポリアミドフィルムである。また、前記A層の少なくとも片面にB層が積層された二軸延伸ポリアミドフィルムの少なくとも片面に無機薄膜層が積層されたガスバリア性ポリアミドフィルムであって、B層はポリアミド6樹脂70質量%以上を含むことを特徴とするガスバリア性ポリアミドフィルムである。
The gas barrier polyamide film of the present invention will be described in detail below.
The gas barrier polyamide film of the present invention is a gas barrier polyamide film comprising a biaxially oriented polyamide film (layer A) made of a polyamide resin containing 70% by mass or more of polyamide 6, with 5 to 90% by mass of the polyamide 6 being chemically recycled polyamide 6. The gas barrier polyamide film is also a gas barrier polyamide film comprising a biaxially oriented polyamide film having a layer B laminated on at least one side of the biaxially oriented polyamide film, and an inorganic thin film layer laminated on at least one side of the biaxially oriented polyamide film, with the layer B containing 70% by mass or more of polyamide 6 resin.

[二軸延伸ポリアミドフィルム又は基材層(A層)]
本発明における二軸延伸ポリアミドフィルム又は基材層(A層)は、ポリアミド6樹脂を70質量%以上含むことで、ポリアミド6樹脂からなる二軸延伸ポリアミドフィルムが本来持つ、優れた衝撃強度などの機械的強度や酸素などのガスバリア性が得られる。
本発明における二軸延伸ポリアミドフィルム又は基材層(A層)は、A層は、少なくともポリアミド6を70質量%以上含むポリアミド樹脂層であって、前記ポリアミド6のうち5~90質量%が廃棄プラスチック製品、廃棄タイヤゴム、繊維、漁網などの廃棄ポリアミド6製品からケミカルリサイクルしたポリアミド6からなる。
本発明における二軸延伸ポリアミドフィルム又はA層は、廃棄プラスチック製品、廃棄タイヤゴム、繊維、漁網などの廃棄ポリアミド6製品からケミカルリサイクルしたポリアミド6を5~90質量%含むことで、従来ごみとして廃棄されていたポリアミド製品からリサイクルされた原料を用いた環境負荷が低減された二軸延伸ポリアミドフィルムであることに加え、特定の延伸方法を選択することにより耐突き刺し性や耐摩擦ピンホール性が同時に優れたガスバリア性ポリアミドフィルムが得られる。
[ポリアミド6]
本発明に使用するポリアミド6は、通常、ε-カプロラクタムの開環重合によって製造される。開環重合で得られたポリアミド6は、通常、熱水でラクタムモノマーを除去した後、乾燥してから押出し機で溶融押出しされる。
本発明に使用するポリアミド6の相対粘度は、1.8~4.5であることが好ましく、より好ましくは、2.6~3.2である。相対粘度が1.8より小さい場合は、フィルムの衝撃強度が不足する。4.5より大きい場合は、押出機の負荷が大きくなり延伸前の未延伸フィルムを得るのが困難になる。
[Biaxially oriented polyamide film or substrate layer (A layer)]
The biaxially oriented polyamide film or base layer (layer A) in the present invention contains 70% by mass or more of polyamide 6 resin, thereby obtaining excellent mechanical strength such as impact strength and gas barrier properties such as oxygen, which are inherent to biaxially oriented polyamide films made of polyamide 6 resin.
The biaxially oriented polyamide film or base layer (layer A) in the present invention is a polyamide resin layer containing at least 70% by mass or more of polyamide 6, and 5 to 90% by mass of the polyamide 6 is polyamide 6 chemically recycled from waste polyamide 6 products such as waste plastic products, waste tire rubber, fibers, and fishing nets.
The biaxially oriented polyamide film or layer A in the present invention contains 5 to 90% by mass of polyamide 6 chemically recycled from waste polyamide 6 products such as waste plastic products, waste tire rubber, fibers, and fishing nets, and is therefore a biaxially oriented polyamide film with reduced environmental impact that uses raw materials recycled from polyamide products that were previously discarded as garbage. In addition, by selecting a specific stretching method, a gas barrier polyamide film that simultaneously has excellent puncture resistance and abrasion pinhole resistance can be obtained.
[Polyamide 6]
The polyamide 6 used in the present invention is usually produced by ring-opening polymerization of ε-caprolactam. The polyamide 6 obtained by ring-opening polymerization is usually subjected to removal of lactam monomer with hot water, followed by drying and melt extrusion in an extruder.
The relative viscosity of the polyamide 6 used in the present invention is preferably 1.8 to 4.5, and more preferably 2.6 to 3.2. If the relative viscosity is less than 1.8, the impact strength of the film is insufficient. If the relative viscosity is more than 4.5, the load on the extruder increases, making it difficult to obtain an unstretched film before stretching.

[ケミカルリサイクルしたポリアミド6]
A層に使用する上記ポリアミド6としては、通常使用されている化石燃料由来のモノマーから重合されたものに加え、廃棄プラスチック製品、廃棄タイヤゴム、繊維、漁網などの廃棄ポリアミド6製品からケミカルリサイクルしたポリアミド6が用いられる。
[Chemically recycled polyamide 6]
The polyamide 6 used in the A layer may be polyamide 6 polymerized from commonly used monomers derived from fossil fuels, or polyamide 6 chemically recycled from waste polyamide 6 products such as waste plastic products, waste tire rubber, fibers, and fishing nets.

廃棄ポリアミド6製品からケミカルリサイクルしたポリアミド6を得る方法としては、例えば、先に挙げた特許文献1に開示された方法を用いることができる。すなわち、ナイロン(ポリアミド)製製品の使用済み品を回収した後、解重合を行ってε-カプロラクタムを回収し、精製し、重合する方法を用いることができる。 As a method for obtaining chemically recycled polyamide 6 from waste polyamide 6 products, for example, the method disclosed in the above-mentioned Patent Document 1 can be used. That is, a method can be used in which used nylon (polyamide) products are collected, depolymerized to recover ε-caprolactam, which is then purified and polymerized.

<解重合条件>
A層に用いるケミカルリサイクルしたポリアミド6を製造する際に行う解重合においては、通常、ポリアミド6繊維は加熱により解重合される。解重合は、触媒を用いても用いなくても良い。また解重合は、水の不存在下(乾式)でも、存在下(湿式)でも実施することができる。
<Depolymerization conditions>
In the depolymerization carried out in producing the chemically recycled polyamide 6 used in the A layer, the polyamide 6 fiber is usually depolymerized by heating. The depolymerization may or may not use a catalyst. The depolymerization may be carried out in the absence (dry process) or in the presence (wet process) of water.

A層で用いるケミカルリサイクルしたポリアミド6を製造する際に行う解重合の圧力は、減圧、常圧、加圧のいずれであっても良い。解重合の温度は、通常、100℃から400℃であり、好ましくは、200℃から350℃、さらに好ましくは220℃から300℃である。温度が低いと、ポリアミド6製品が溶融しないため解重合速度が遅くなる。温度が高いと、不必要なポリアミド6のモノマー(すなわちカプロラクタム)の分解が起こり、回収カプロラクタムの純度が低下する恐れがある。 The pressure of depolymerization carried out when producing the chemically recycled polyamide 6 used in layer A may be reduced pressure, normal pressure, or increased pressure. The temperature of depolymerization is usually 100°C to 400°C, preferably 200°C to 350°C, and more preferably 220°C to 300°C. If the temperature is low, the polyamide 6 product does not melt, and the depolymerization rate is slow. If the temperature is high, decomposition of unnecessary polyamide 6 monomer (i.e., caprolactam) occurs, which may reduce the purity of the recovered caprolactam.

A層で用いるケミカルリサイクルしたポリアミド6を製造する際に行う解重合において触媒を用いる場合は、通常、酸触媒、あるいは塩基触媒などが用いられる。酸触媒としては、りん酸、ホウ酸、硫酸、有機酸、有機スルホン酸、固体酸、およびこれらの塩、また塩基触媒としては、アルカリ水酸化物、アルカリ塩、アルカリ土類水酸化物、アルカリ土類塩、有機塩基、固体塩基などが挙げられる。好ましくは、リン酸、ホウ酸、有機酸、アルカリ水酸化物、アルカリ塩などが挙げられる。さらに好ましくはリン酸、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどが挙げられる。 When a catalyst is used in the depolymerization carried out in producing the chemically recycled polyamide 6 used in the A layer, an acid catalyst or a base catalyst is usually used. Examples of acid catalysts include phosphoric acid, boric acid, sulfuric acid, organic acids, organic sulfonic acids, solid acids, and salts thereof, and examples of base catalysts include alkali hydroxides, alkali salts, alkaline earth hydroxides, alkaline earth salts, organic bases, and solid bases. Preferred examples include phosphoric acid, boric acid, organic acids, alkali hydroxides, and alkali salts. More preferred examples include phosphoric acid, sodium phosphate, potassium phosphate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, and potassium hydrogen carbonate.

上記解重合において用いる酸触媒の使用量は、通常、ポリアミド6繊維成分に対して、0.01から50質量%であることが好ましい。より好ましくは0.01から20質量%、さらに好ましくは、0.5から10質量%である。触媒使用量は少ないと、反応速度が遅くなり、多いと、副反応が多くなるうえ、触媒コストがかさみ経済的に不利になる。 The amount of acid catalyst used in the above depolymerization is usually preferably 0.01 to 50% by mass relative to the polyamide 6 fiber component. More preferably, it is 0.01 to 20% by mass, and even more preferably, it is 0.5 to 10% by mass. If the amount of catalyst used is small, the reaction rate will be slow, and if it is large, side reactions will increase and the catalyst cost will increase, which is economically disadvantageous.

上記解重合は、水の不存在下(乾式)でも、存在下(湿式)でも実施することができる。湿式解重合の場合の水の使用量は繊維などのポリアミド6製品成分に対して、0.1から50質量倍が好ましい。より好ましくは、0.5から20質量倍、さらに好ましくは、1から10質量倍である。水の使用量は、少ないと、反応速度が遅くなり、多いと、回収カプロラクタム水溶液の濃度が低くなり、カプロラクタムの取得上、不利になる。 The above depolymerization can be carried out in the absence (dry) or presence (wet) of water. In the case of wet depolymerization, the amount of water used is preferably 0.1 to 50 times by mass relative to the polyamide 6 product components such as fibers. More preferably, it is 0.5 to 20 times by mass, and even more preferably, it is 1 to 10 times by mass. If the amount of water used is small, the reaction rate will be slow, and if it is large, the concentration of the recovered caprolactam aqueous solution will be low, which is disadvantageous in obtaining caprolactam.

上記の方法で回収されたカプロラクタムの回収方法は特に制限なく採用される。例えば、乾式解重合を行う場合、生成したカプロラクタムを反応装置から減圧蒸留により留出させ、回収カプロラクタムを得る。解重合反応が終了してから、減圧蒸留によりカプロラクタムを取り出しても良い。あるいは反応の進行とともに、連続的に取り出しても良い。
湿式解重合を行う場合は、生成したカプロラクタムを反応装置から水とともに留出させ、回収カプロラクタム水溶液を得る。解重合反応が終了してから、減圧蒸留によりカプロラクタムを取り出しても良い。あるいは反応の進行とともに、連続的に取り出しても良い。
さらに高純度のカプロラクタムを得る方法としては、回収したカプロラクタムを精密蒸留する方法、微量の水酸化ナトリウムを添加して減圧蒸留する方法、活性炭処理する方法、イオン交換処理する方法、再結晶する方法などの精製方法と組み合わせることができる。
The method for recovering the caprolactam recovered by the above method is not particularly limited. For example, when dry depolymerization is performed, the generated caprolactam is distilled from the reactor by vacuum distillation to obtain recovered caprolactam. After the depolymerization reaction is completed, the caprolactam may be taken out by vacuum distillation. Alternatively, the caprolactam may be taken out continuously as the reaction proceeds.
In the case of wet depolymerization, the produced caprolactam is distilled together with water from the reactor to obtain a recovered aqueous caprolactam solution. After the depolymerization reaction is completed, the caprolactam may be extracted by vacuum distillation or continuously as the reaction proceeds.
In order to obtain caprolactam of even higher purity, the recovered caprolactam can be combined with other purification methods, such as precision distillation of the recovered caprolactam, distillation under reduced pressure with the addition of a small amount of sodium hydroxide, treatment with activated carbon, ion exchange treatment, and recrystallization.

[メカニカルリサイクルしたポリアミド6]
A層には、さらに二軸延伸ポリアミドフィルムの製造工程や加工工程で発生した廃材をメカニカルリサイクルしたポリアミド6を添加することができる。
[Mechanically recycled polyamide 6]
Polyamide 6, which is mechanically recycled waste material generated during the manufacturing and processing of biaxially oriented polyamide films, can be further added to layer A.

上記で言うメカニカルリサイクルしたポリアミド6は、例えば、二軸延伸ポリアミドフィルムを製造する際に生成する規格外の出荷できないフィルムや切断端材(耳トリム)として発生する屑材を回収し、溶融押し出しや圧縮成形でペレット化させた原料である。 The mechanically recycled polyamide 6 referred to above is a raw material made by recovering scrap material generated during the manufacture of biaxially oriented polyamide film, such as non-standard, unshippable film and offcuts (edge trims), and pelletizing them through melt extrusion or compression molding.

A層に添加するメカニカルリサイクルしたポリアミド6の添加量の下限としては、10質量%が好ましく、より好ましくは15質量%、さらに好ましくは20%質量である。メカニカルリサイクルしたポリアミド6の添加量が上記未満であると、フィルム中のリサイクル比率が低くなる。
A層に添加するメカニカルリサイクルしたポリアミド6の添加量の上限としては50質量%が好ましく、さらに好ましくは40質量%、さらに好ましくは30質量%である。添加するメカニカルリサイクルポリアミドの添加量が上記を超えると、フィルムの着色が強くなる場合やヘイズ値が高く場合など、フィルムの外観を損ねる可能性がある。あるいはフィルムの製造中に劣化物が増え、製膜性を悪化させてしまう可能性がある。
The lower limit of the amount of mechanically recycled polyamide 6 added to layer A is preferably 10% by mass, more preferably 15% by mass, and even more preferably 20% by mass. If the amount of mechanically recycled polyamide 6 added is less than the above range, the recycled ratio in the film will be low.
The upper limit of the amount of mechanically recycled polyamide 6 added to layer A is preferably 50% by mass, more preferably 40% by mass, and even more preferably 30% by mass. If the amount of mechanically recycled polyamide added exceeds the above range, the film may be colored more strongly or have a higher haze value, which may impair the appearance of the film. Alternatively, the amount of degraded material may increase during the production of the film, which may deteriorate the film formability.

[副材料、添加剤]
本発明における二軸延伸ポリアミドフィルム又は基材層(A層)には、他の熱可塑性樹脂、滑剤、熱安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤や防曇剤、紫外線吸収剤、染料、顔料等の各種の添加剤を必要に応じて含有させることができる。
[Secondary materials, additives]
The biaxially oriented polyamide film or the base layer (A layer) in the present invention may contain various additives such as other thermoplastic resins, lubricants, heat stabilizers, antioxidants, antistatic agents, antifogging agents, ultraviolet absorbers, dyes, pigments, etc., as necessary.

<他の熱可塑性樹脂>
本発明における二軸延伸ポリアミドフィルム又は基材層(A層)には、本発明の目的を損なわない範囲で、上記のポリアミド6と少なくとも原料の一部がバイオマス由来であるポリアミド樹脂の他に熱可塑性樹脂を含むことができる。例えば、ポリアミド12、ポリアミド66、ポリアミド6・12共重合体、ポリアミド6・66共重合体、ポリアミドMXD6、などのポリアミド系樹脂が挙げられる。
必要に応じてポリアミド系以外の熱可塑性樹脂、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン-2,6-ナフタレート等のポリエステル系重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系重合体等を含有させてもよい。
これらの熱可塑性樹脂の原料はバイオマス由来であると、地上の二酸化炭素の増減に影響を与えないので、環境負荷を低減できるので好ましい。
<Other thermoplastic resins>
The biaxially oriented polyamide film or base layer (A layer) in the present invention may contain a thermoplastic resin in addition to the polyamide 6 and the polyamide resin at least partly derived from biomass as raw materials, within the scope of the present invention. Examples of the polyamide resin include polyamide 12, polyamide 66, polyamide 6-12 copolymer, polyamide 6-66 copolymer, polyamide MXD6, and other polyamide-based resins.
If necessary, thermoplastic resins other than polyamides, for example, polyester polymers such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene-2,6-naphthalate, and polyolefin polymers such as polyethylene and polypropylene, may be contained.
It is preferable that the raw materials for these thermoplastic resins are derived from biomass, since they do not affect the increase or decrease in carbon dioxide on the ground and therefore the environmental load can be reduced.

<滑剤>
本発明における二軸延伸ポリアミドフィルム又は基材層(A層)には、滑り性を良くして取扱い易くするために、滑剤として微粒子や脂肪酸アミドなどの有機潤滑剤を含有させることが好ましい。
<Lubricant>
In the present invention, the biaxially oriented polyamide film or the base layer (layer A) preferably contains fine particles or an organic lubricant such as a fatty acid amide as a lubricant in order to improve the slipperiness and make it easy to handle.

前記微粒子としては、シリカ、カオリン、ゼオライト等の無機微粒子、アクリル系、ポリスチレン系等の高分子系有機微粒子等の中から適宜選択して使用することができる。なお、透明性と滑り性の面から、シリカ微粒子を用いることが好ましい。
前記微粒子の好ましい平均粒子径は0.5~5.0μmであり、より好ましくは1.0~3.0μmである。平均粒子径が0.5μm未満であると、良好な滑り性を得るのに多量の添加量が要求される。一方、5.0μmを超えると、フィルムの表面粗さが大きくなりすぎて外観が悪くなる傾向がある。
The fine particles can be appropriately selected from inorganic fine particles such as silica, kaolin, zeolite, etc., polymeric organic fine particles such as acrylic and polystyrene, etc. From the viewpoints of transparency and lubricity, it is preferable to use silica fine particles.
The average particle size of the fine particles is preferably 0.5 to 5.0 μm, more preferably 1.0 to 3.0 μm. If the average particle size is less than 0.5 μm, a large amount of the fine particles is required to obtain good slip properties. On the other hand, if the average particle size exceeds 5.0 μm, the surface roughness of the film tends to become too large, resulting in poor appearance.

前記シリカ微粒子を使用する場合、シリカの細孔容積の範囲は、0.5~2.0ml/gであると好ましく、0.8~1.6ml/gであるとより好ましい。細孔容積が0.5ml/g未満であると、ボイドが発生し易くなりフィルムの透明性が悪化し、細孔容積が2.0ml/gを超えると、微粒子による表面の突起ができにくくなる傾向がある。 When using the silica fine particles, the pore volume of the silica is preferably in the range of 0.5 to 2.0 ml/g, and more preferably 0.8 to 1.6 ml/g. If the pore volume is less than 0.5 ml/g, voids are likely to occur and the transparency of the film will deteriorate, and if the pore volume exceeds 2.0 ml/g, the fine particles will tend to be less likely to form surface protrusions.

本発明における二軸延伸ポリアミドフィルム又は基材層(A層)には、滑り性を良くする目的で脂肪酸アマイド及び/又は脂肪酸ビスアマイドを含有させることができる。脂肪酸アマイド及び/又は脂肪酸ビスアマイドとしては、エルカ酸アマイド、ステアリン酸アマイド、エチレンビスステアリン酸アマイド、エチレンビスベヘン酸アマイド、エチレンビスオレイン酸アマイドなどが挙げられる。
本発明における二軸延伸ポリアミドフィルム又は基材層(A層)の脂肪酸アマイド及び/又は脂肪酸ビスアマイドの含有量は、好ましくは0.01~0.40質量%であり、さらに好ましくは0.05~0.30質量%である。脂肪酸アマイド及び/又は脂肪酸ビスアマイドの含有量が上記範囲未満となると、滑り性が悪くなる傾向がある。一方、上記範囲を越えると、濡れ性が悪くなる傾向がある。
In the present invention, the biaxially oriented polyamide film or the base layer (layer A) may contain a fatty acid amide and/or a fatty acid bisamide for the purpose of improving the slip property. Examples of the fatty acid amide and/or the fatty acid bisamide include erucic acid amide, stearic acid amide, ethylene bisstearic acid amide, ethylene bisbehenic acid amide, and ethylene bisoleic acid amide.
The content of fatty acid amide and/or fatty acid bisamide in the biaxially stretched polyamide film or base layer (A layer) in the present invention is preferably 0.01 to 0.40% by mass, more preferably 0.05 to 0.30% by mass. If the content of fatty acid amide and/or fatty acid bisamide is less than the above range, the slipping property tends to be deteriorated. On the other hand, if it exceeds the above range, the wettability tends to be deteriorated.

本発明における二軸延伸ポリアミドフィルム又は基材層(A層)には、滑り性を良くする目的でポリアミドMXD6、ポリアミド12、ポリアミド66、ポリアミド6・12共重合体、ポリアミド6・66共重合体などのポリアミド樹脂を添加することができる。特にポリアミドMXD6が好ましく、1~10質量%添加することが好ましい。 In the present invention, polyamide resins such as polyamide MXD6, polyamide 12, polyamide 66, polyamide 6-12 copolymer, and polyamide 6-66 copolymer can be added to the biaxially stretched polyamide film or substrate layer (layer A) to improve slipperiness. Polyamide MXD6 is particularly preferred, and it is preferable to add 1 to 10 mass %.

<酸化防止剤>
本発明における二軸延伸ポリアミドフィルム又は基材層(A層)には、酸化防止剤を含有させることができる。
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤が好ましい。フェノール系酸化防止剤は、完全ヒンダードフェノール系化合物又は部分ヒンダードフェノール系化合物が好ましい。例えば、テトラキス-〔メチレン-3-(3′,5′-ジ-t-ブチル-4′-ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕メタン、ステアリル-β-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート、3,9-ビス〔1,1-ジメチル-2-〔β-(3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオニルオキシ〕エチル〕2,4,8,10-テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン等が挙げられる。
上記フェノール系酸化防止剤を含有させることにより、二軸延伸ポリアミドフィルム又は基材層(A層)の製膜操業性が向上する。特に、原料にリサイクルしたフィルムを用いる場合、樹脂の熱劣化が起こりやすく、これに起因する製膜操業不良が発生し、生産コスト上昇を招く傾向にある。これに対して、酸化防止剤を含有させることで、樹脂の熱劣化が抑制され操業性が向上する。
<Antioxidants>
The biaxially oriented polyamide film or the substrate layer (layer A) in the present invention may contain an antioxidant.
The antioxidant is preferably a phenol-based antioxidant. The phenol-based antioxidant is preferably a completely hindered phenol-based compound or a partially hindered phenol-based compound. Examples of the phenol-based antioxidant include tetrakis-[methylene-3-(3',5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl)propionate]methane, stearyl-β-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate, and 3,9-bis[1,1-dimethyl-2-[β-(3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propionyloxy]ethyl]2,4,8,10-tetraoxaspiro[5,5]undecane.
By including the phenol-based antioxidant, the film-forming operability of the biaxially oriented polyamide film or the base layer (A layer) is improved. In particular, when using recycled film as a raw material, the resin is prone to thermal degradation, which tends to cause film-forming operational problems and increase production costs. On the other hand, by including the antioxidant, the thermal degradation of the resin is suppressed and the operability is improved.

[B層(表面層)]
本発明におけるB層は、ポリアミド6を70質量%以上含む層である。
本発明におけるB層は、ポリアミド6を70質量%以上含むことで優れた衝撃強度などの機械的強度や酸素などのガスバリア性を持った二軸延伸ポリアミドフィルム得られる。
上記ポリアミド6としては、前記のA層で使用するポリアミド6と同様に新たな原料から重合されたポリアミド6、ケミカルリサイクルしたポリアミド6、メカニカルリサイクルしたポリアミド6が使用できる。
本発明におけるB層には、他の熱可塑性樹脂、滑剤、熱安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤や防曇剤、紫外線吸収剤、染料、顔料等の各種の添加剤をB層の表面に持たせる機能に応じて含有させることができる。
B層を包装袋の外側に用いる場合は、耐摩擦ピンホール性が必要なので、ポリアミド系エラストマーやポリオレフィン系エラストマーのような軟らかい樹脂やボイドを多量に発生させる物質を含有させることは好ましくない。また、耐摩擦ピンホール性を良くしたい場合は、メカニカルリサイクルしたポリアミド6の含有量を30質量%より少なくした方が良く、15質量%以下がより好ましい。
[Layer B (surface layer)]
The layer B in the present invention is a layer containing polyamide 6 in an amount of 70% by mass or more.
In the present invention, layer B contains 70% by mass or more of polyamide 6, so that a biaxially oriented polyamide film having excellent mechanical strength such as impact strength and gas barrier properties such as oxygen can be obtained.
As the polyamide 6, polyamide 6 polymerized from new raw materials, chemically recycled polyamide 6, and mechanically recycled polyamide 6 can be used, similar to the polyamide 6 used in the layer A.
Layer B in the present invention may contain various additives such as other thermoplastic resins, lubricants, heat stabilizers, antioxidants, antistatic agents, antifogging agents, ultraviolet absorbers, dyes, pigments, etc., depending on the functions to be imparted to the surface of layer B.
When layer B is used on the outside of a packaging bag, it is necessary to have friction pinhole resistance, so it is not preferable to contain soft resins such as polyamide elastomers and polyolefin elastomers or substances that generate a large amount of voids. Also, when it is desired to improve friction pinhole resistance, it is better to reduce the content of mechanically recycled polyamide 6 to less than 30% by mass, and more preferably to 15% by mass or less.

本発明におけるB層には、本発明の目的を損なわない範囲で、上記のポリアミド6の他に熱可塑性樹脂を含むことができる。例えば、ポリアミドMXD6、ポリアミド11、ポリアミド12、ポリアミド66、ポリアミド6・12共重合体、ポリアミド6・66共重合体などのポリアミド系樹脂が挙げられる。
必要に応じてポリアミド系以外の熱可塑性樹脂、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン-2,6-ナフタレート等のポリエステル系重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系重合体等を含有させてもよい。
The layer B in the present invention may contain a thermoplastic resin other than the above-mentioned polyamide 6, provided that the object of the present invention is not impaired. Examples of such polyamide-based resins include polyamide MXD6, polyamide 11, polyamide 12, polyamide 66, polyamide 6-12 copolymer, and polyamide 6-66 copolymer.
If necessary, thermoplastic resins other than polyamides, for example, polyester polymers such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene-2,6-naphthalate, and polyolefin polymers such as polyethylene and polypropylene, may be contained.

本発明におけるB層には、フィルム滑り性を良くするために、滑剤として微粒子や有機潤滑剤を含有させることが好ましい。
滑り性を良くすることで、フィルムの取扱い性が向上するとともに、擦れによる包装袋の破袋を減少させる。
In the present invention, it is preferred that layer B contains fine particles or an organic lubricant as a lubricant in order to improve the film slipping property.
By improving the slipperiness, the film becomes easier to handle and the risk of packaging bags breaking due to friction is reduced.

上記の微粒子としては、シリカ、カオリン、ゼオライト等の無機微粒子、アクリル系、ポリスチレン系等の高分子系有機微粒子等の中から適宜選択して使用することができる。なお、透明性と滑り性の面から、シリカ微粒子を用いることが好ましい。 The above-mentioned fine particles can be appropriately selected from inorganic fine particles such as silica, kaolin, and zeolite, and polymeric organic fine particles such as acrylic and polystyrene fine particles. From the standpoint of transparency and slipperiness, it is preferable to use silica fine particles.

上記の微粒子の好ましい平均粒子径は0.5~5.0μmであり、より好ましくは1.0~3.0μmである。平均粒子径が0.5μm未満であると、良好な滑り性を得るのに多量の添加量が要求される。一方、5.0μmを超えると、フィルムの表面粗さが大きくなりすぎて外観が悪くなる傾向がある。 The preferred average particle size of the above fine particles is 0.5 to 5.0 μm, and more preferably 1.0 to 3.0 μm. If the average particle size is less than 0.5 μm, a large amount is required to obtain good slip properties. On the other hand, if it exceeds 5.0 μm, the surface roughness of the film tends to become too large, resulting in a poor appearance.

上記のシリカ微粒子を使用する場合、シリカの細孔容積の範囲は、0.5~2.0ml/gであると好ましく、0.8~1.6ml/gであるとより好ましい。細孔容積が0.5ml/g未満であると、ボイドが発生し易くなりフィルムの透明性が悪化する。細孔容積が2.0ml/gを超えると、微粒子による表面の突起ができにくくなる傾向がある。 When using the above silica fine particles, the silica pore volume range is preferably 0.5 to 2.0 ml/g, and more preferably 0.8 to 1.6 ml/g. If the pore volume is less than 0.5 ml/g, voids are more likely to occur, and the transparency of the film will deteriorate. If the pore volume exceeds 2.0 ml/g, the fine particles tend not to form surface protrusions.

上記の有機潤滑剤としては、脂肪酸アマイド及び/又は脂肪酸ビスアマイドを含有させることができる。脂肪酸アマイド及び/又は脂肪酸ビスアマイドとしては、エルカ酸アマイド、ステアリン酸アマイド、エチレンビスステアリン酸アマイド、エチレンビスベヘン酸アマイド、エチレンビスオレイン酸アマイドなどが挙げられる。
B層に添加する脂肪酸アマイド及び/又は脂肪酸ビスアマイドの含有量は、好ましくは0.01~0.40質量%であり、さらに好ましくは0.05~0.30質量%である。脂肪酸アマイド及び/又は脂肪酸ビスアマイドの含有量が上記範囲未満となると、滑り性が悪くなる傾向がある。一方、上記範囲を越えると、濡れ性が悪くなる傾向がある。
The organic lubricant may contain a fatty acid amide and/or a fatty acid bisamide, such as erucic acid amide, stearic acid amide, ethylene bisstearic acid amide, ethylene bisbehenic acid amide, or ethylene bisoleic acid amide.
The content of the fatty acid amide and/or fatty acid bisamide added to the layer B is preferably 0.01 to 0.40% by mass, and more preferably 0.05 to 0.30% by mass. If the content of the fatty acid amide and/or fatty acid bisamide is less than the above range, the slipping property tends to be deteriorated. On the other hand, if it exceeds the above range, the wettability tends to be deteriorated.

本発明におけるB層には、フィルムの滑り性を良くする目的でポリアミド6以外のポリアミド系樹脂、例えば、ポリアミドMXD6、ポリアミド11、ポリアミド12、ポリアミド66、ポリアミド6・12共重合体、ポリアミド6・66共重合体などを添加することができる。特にポリアミドMXD6が好ましく、1~10質量%添加することが好ましい。1質量%未満ではフィルムの滑り性改善効果が少ない。10質量%より多い場合は、フィルムの滑り性改善効果が飽和する。
ポリアミドMXD6樹脂はメタキシリレンジアミンとアジピン酸の重縮合で製造される。
上記のポリアミドMXD6の相対粘度は、1.8~4.5であることが好ましく、より好ましくは、2.0~3.2である。相対粘度が1.8より小さい場合や4.5より大きい場合は、押出機でポリアミド樹脂との混練がしにくい場合がある。
In the present invention, polyamide resins other than polyamide 6, such as polyamide MXD6, polyamide 11, polyamide 12, polyamide 66, polyamide 6-12 copolymer, polyamide 6-66 copolymer, etc., can be added to layer B for the purpose of improving the slipperiness of the film. Polyamide MXD6 is particularly preferred, and it is preferable to add 1 to 10% by mass. If it is less than 1% by mass, the effect of improving the slipperiness of the film is small. If it is more than 10% by mass, the effect of improving the slipperiness of the film becomes saturated.
Polyamide MXD6 resin is produced by the polycondensation of metaxylylenediamine and adipic acid.
The relative viscosity of the polyamide MXD6 is preferably 1.8 to 4.5, and more preferably 2.0 to 3.2. If the relative viscosity is less than 1.8 or more than 4.5, it may be difficult to knead it with the polyamide resin in the extruder.

また、B層には接着性を良くする目的でポリアミド6以外のポリアミド系樹脂を添加することもできる。この場合、ポリアミド6・12共重合体、ポリアミド6・66共重合体などの共重合ポリアミド樹脂が好ましい。 In addition, polyamide resins other than polyamide 6 can be added to layer B to improve adhesion. In this case, copolymer polyamide resins such as polyamide 6-12 copolymer and polyamide 6-66 copolymer are preferred.

本発明のガスバリア性ポリアミドフィルムのA層及び/又はB層に、滑剤、酸化防止剤などの副材料や添加剤を添加する方法としては、樹脂重合時や押出し機での溶融押出し時に添加できる。高濃度のマスターバッチを作製してマスターバッチをフィルム生産時にポリアミド樹脂に添加してもよい。こうした公知の方法により行うことができる。 Additives and auxiliary materials such as lubricants and antioxidants can be added to layer A and/or layer B of the gas barrier polyamide film of the present invention during resin polymerization or melt extrusion in an extruder. A high-concentration master batch can be prepared and added to the polyamide resin during film production. These known methods can be used.

[無機薄膜層]
本発明のガスバリア性ポリアミドフィルムは、二軸延伸ポリアミドフィルムの表面に無機薄膜層(C層)を設けることで、ガスバリア性を付与することが出来る。
無機薄膜層は金属又は無機酸化物からなる薄膜である。無機薄膜層を形成する材料は、薄膜にできるものなら特に制限はないが、ガスバリア性の観点から、酸化ケイ素(シリカ)、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化ケイ素と酸化アルミニウムとの混合物等の無機酸化物が好ましく挙げられる。特に、薄膜層の柔軟性と緻密性を両立できる点からは、酸化ケイ素と酸化アルミニウムとの複合酸化物が好ましい。この複合酸化物において、酸化ケイ素と酸化アルミニウムとの混合比は、金属分の質量比でAlが20~70質量%の範囲であることが好ましい。Al濃度が20質量%未満であると、水蒸気バリア性が低くなる場合がある。一方、70質量%を超えると、無機薄膜層が硬くなる傾向があり、印刷やラミネートといった二次加工の際に膜が破壊されてガスバリア性が低下する虞がある。なお、ここでいう酸化ケイ素とはSiOやSiO2等の各種珪素酸化物又はそれらの混合物であり、酸化アルミニウムとは、AlOやAl2O3等の各種アルミニウム酸化物又はそれらの混合物である。
[Inorganic thin film layer]
The gas barrier polyamide film of the present invention can be imparted with gas barrier properties by providing an inorganic thin film layer (C layer) on the surface of the biaxially stretched polyamide film.
The inorganic thin film layer is a thin film made of a metal or an inorganic oxide. There is no particular restriction on the material forming the inorganic thin film layer as long as it can be made into a thin film, but from the viewpoint of gas barrier properties, inorganic oxides such as silicon oxide (silica), aluminum oxide (alumina), and a mixture of silicon oxide and aluminum oxide are preferred. In particular, a composite oxide of silicon oxide and aluminum oxide is preferred from the viewpoint of achieving both flexibility and denseness of the thin film layer. In this composite oxide, the mixture ratio of silicon oxide and aluminum oxide is preferably in the range of 20 to 70 mass% Al in terms of the mass ratio of the metal content. If the Al concentration is less than 20 mass%, the water vapor barrier property may be reduced. On the other hand, if it exceeds 70 mass%, the inorganic thin film layer tends to become hard, and there is a risk that the film will be destroyed during secondary processing such as printing or lamination, resulting in a decrease in gas barrier property. Note that silicon oxide here refers to various silicon oxides such as SiO and SiO2 or a mixture thereof, and aluminum oxide refers to various aluminum oxides such as AlO and Al2O3 or a mixture thereof.

無機薄膜層の膜厚は、通常1~100nm、好ましくは5~50nmである。無機薄膜層の膜厚が1nm未満であると、満足のいくガスバリア性が得られ難くなる場合があり、一方、100nmを超えて過度に厚くしても、それに相当するガスバリア性の向上効果は得られず、耐屈曲性や製造コストの点でかえって不利となる。 The thickness of the inorganic thin film layer is usually 1 to 100 nm, preferably 5 to 50 nm. If the thickness of the inorganic thin film layer is less than 1 nm, it may be difficult to obtain satisfactory gas barrier properties. On the other hand, if the thickness is made excessively thick, exceeding 100 nm, the corresponding improvement in gas barrier properties cannot be obtained, and it is actually disadvantageous in terms of bending resistance and manufacturing costs.

無機薄膜層を形成する方法としては、特に制限はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理蒸着法(PVD法)、あるいは化学蒸着法(CVD法)等、公知の蒸着法を適宜採用すればよい。以下、無機薄膜層を形成する典型的な方法を、酸化ケイ素・酸化アルミニウム系薄膜を例に説明する。例えば、真空蒸着法を採用する場合は、蒸着原料としてSiO2とAl2O3の混合物、あるいはSiO2とAlの混合物等が好ましく用いられる。これら蒸着原料としては通常粒子が用いられるが、その際、各粒子の大きさは蒸着時の圧力が変化しない程度の大きさであることが望ましく、好ましい粒子径は1mm~5mmである。加熱には、抵抗加熱、高周波誘導加熱、電子ビーム加熱、レーザー加熱などの方式を採用することができる。また、反応ガスとして酸素、窒素、水素、アルゴン、炭酸ガス、水蒸気等を導入したり、オゾン添加、イオンアシスト等の手段を用いた反応性蒸着を採用することも可能である。さらに、被蒸着体(蒸着に供する積層フィルム)にバイアスを印加したり、被蒸着体を加熱もしくは冷却するなど、成膜条件も任意に変更することができる。このような蒸着材料、反応ガス、被蒸着体のバイアス、加熱・冷却等は、スパッタリング法やCVD法を採用する場合にも同様に変更可能である。 There are no particular limitations on the method for forming the inorganic thin film layer, and any known deposition method may be used, such as physical deposition methods (PVD methods) such as vacuum deposition, sputtering, and ion plating, or chemical deposition (CVD). Below, a typical method for forming an inorganic thin film layer will be described using a silicon oxide/aluminum oxide thin film as an example. For example, when using vacuum deposition, a mixture of SiO2 and Al2O3, or a mixture of SiO2 and Al, is preferably used as the deposition raw material. Particles are usually used as these deposition raw materials, and in this case, it is desirable that the size of each particle is large enough that the pressure during deposition does not change, and the preferred particle diameter is 1 mm to 5 mm. Heating can be performed by resistance heating, high-frequency induction heating, electron beam heating, laser heating, or other methods. It is also possible to introduce oxygen, nitrogen, hydrogen, argon, carbon dioxide, water vapor, or other reactive gases, or to use means such as ozone addition and ion assist to employ reactive deposition. Furthermore, the deposition conditions can be changed as desired, such as by applying a bias to the deposition target (the laminated film used for deposition) or by heating or cooling the deposition target. Such deposition materials, reactive gases, bias, heating/cooling of the deposition target, etc. can also be changed in the same way when using the sputtering method or CVD method.

[保護層]
本発明においては、無機薄膜層(C層)の上に保護層を形成させることもできる。無機薄膜層は完全に密な膜ではなく微小な欠損部分が点在している場合がある。そこで無機薄膜層上に後述する特定の保護層用樹脂組成物を塗布して保護層を形成することにより、無機薄膜層の欠損部分に保護層用樹脂組成物中の樹脂が浸透し、結果としてガスバリア性が安定するという効果が得られる。加えて、保護層そのものにもガスバリア性を持つ材料を使用することで、積層フィルムのガスバリア性能も大きく向上することになる。
[Protective Layer]
In the present invention, a protective layer can also be formed on the inorganic thin film layer (layer C). The inorganic thin film layer may not be a completely dense film, but may have minute defects scattered therein. Therefore, by forming a protective layer by applying a specific resin composition for protective layer described later onto the inorganic thin film layer, the resin in the resin composition for protective layer penetrates into the defective parts of the inorganic thin film layer, resulting in an effect of stabilizing the gas barrier properties. In addition, by using a material having gas barrier properties for the protective layer itself, the gas barrier performance of the laminated film is also greatly improved.

本発明のガスバリア性ポリアミドフィルムの無機薄膜層の表面に形成する保護層に用いる樹脂組成物としては、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、チタネート系樹脂、イソシアネート系樹脂、イミン系樹脂、ポリブタジエン系樹脂等の樹脂に、エポキシ系硬化剤、イソシアネート系硬化剤、メラミン系硬化剤等の硬化剤を添加したものが挙げられる。
前記ウレタン樹脂は、ウレタン結合の極性基が無機薄膜層と相互作用するとともに、非晶部分の存在により柔軟性をも有するため、屈曲負荷がかかった際にも無機薄膜層へのダメージを抑えることができるため好ましい。
前記ウレタン樹脂の酸価は10~60mgKOH/gの範囲内であるのが好ましい。より好ましくは15~55mgKOH/gの範囲内、さらに好ましくは20~50mgKOH/gの範囲内である。ウレタン樹脂の酸価が前記範囲であると、水分散液とした際に液安定性が向上し、また保護層は高極性の無機薄膜上に均一に堆積することができるため、コート外観が良好となる。
Examples of the resin composition used for the protective layer formed on the surface of the inorganic thin film layer of the gas barrier polyamide film of the present invention include resins such as urethane-based resins, polyester-based resins, acrylic-based resins, titanate-based resins, isocyanate-based resins, imine-based resins, and polybutadiene-based resins to which a curing agent such as an epoxy-based curing agent, an isocyanate-based curing agent, or a melamine-based curing agent has been added.
The urethane resin is preferred because the polar group of the urethane bond interacts with the inorganic thin film layer and the presence of amorphous portions gives it flexibility, so that damage to the inorganic thin film layer can be suppressed even when a bending load is applied.
The acid value of the urethane resin is preferably within the range of 10 to 60 mgKOH/g, more preferably within the range of 15 to 55 mgKOH/g, and even more preferably within the range of 20 to 50 mgKOH/g. When the acid value of the urethane resin is within the above range, the liquid stability is improved when the resin is made into an aqueous dispersion, and the protective layer can be uniformly deposited on the highly polar inorganic thin film, resulting in a good coat appearance.

前記ウレタン樹脂は、ガラス転移温度(Tg)が80℃以上であることが好ましく、より好ましくは90℃以上である。Tgを80℃以上にすることで、湿熱処理過程(昇温~保温~降温)における分子運動による保護層の膨潤を低減できる。 The urethane resin preferably has a glass transition temperature (Tg) of 80°C or higher, more preferably 90°C or higher. By making the Tg 80°C or higher, it is possible to reduce swelling of the protective layer due to molecular motion during the moist heat treatment process (heating - keeping the temperature - cooling).

前記ウレタン樹脂は、ガスバリア性向上の面から、芳香族又は芳香脂肪族ジイソシアネート成分を主な構成成分として含有するウレタン樹脂を用いることがより好ましい。
その中でも、メタキシリレンジイソシアネート成分を含有することが特に好ましい。上記樹脂を用いることで、芳香環同士のスタッキング効果によりウレタン結合の凝集力を一層高めることができ、結果として良好なガスバリア性が得られる。
From the viewpoint of improving gas barrier properties, it is more preferable to use a urethane resin containing an aromatic or araliphatic diisocyanate component as a main constituent component as the urethane resin.
Among these, it is particularly preferable to contain a metaxylylene diisocyanate component. By using the above resin, the cohesive strength of the urethane bond can be further increased due to the stacking effect between aromatic rings, and as a result, good gas barrier properties can be obtained.

本発明においては、ウレタン樹脂中の芳香族又は芳香脂肪族ジイソシアネートの割合を、ポリイソシアネート成分(F)100モル%中、50モル%以上(50~100モル%)の範囲とすることが好ましい。芳香族又は芳香脂肪族ジイソシアネートの合計量の割合は、60~100モル%が好ましく、より好ましくは70~100モル%、さらに好ましくは80~100モル%である。このような樹脂として、三井化学株式会社から市販されている「タケラック(登録商標)WPB」シリーズは好適に用いることが出来る。芳香族又は芳香脂肪族ジイソシアネートの合計量の割合が50モル%未満であると、良好なガスバリア性が得られない可能性がある。 In the present invention, the proportion of aromatic or araliphatic diisocyanate in the urethane resin is preferably 50 mol% or more (50 to 100 mol%) out of 100 mol% of the polyisocyanate component (F). The total proportion of aromatic or araliphatic diisocyanate is preferably 60 to 100 mol%, more preferably 70 to 100 mol%, and even more preferably 80 to 100 mol%. As such a resin, the "Takelac (registered trademark) WPB" series available from Mitsui Chemicals, Inc. can be suitably used. If the total proportion of aromatic or araliphatic diisocyanate is less than 50 mol%, good gas barrier properties may not be obtained.

前記ウレタン樹脂は、無機薄膜層との親和性向上の観点から、カルボン酸基(カルボキシル基)を有することが好ましい。ウレタン樹脂にカルボン酸(塩)基を導入するためには、例えば、ポリオール成分として、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸等のカルボン酸基を有するポリオール化合物を共重合成分として導入すればよい。また、カルボン酸基含有ウレタン樹脂を合成後、塩形成剤により中和すれば、水分散体のウレタン樹脂を得ることができる。塩形成剤の具体例としては、アンモニア、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ-n-プロピルアミン、トリ-n-ブチルアミン等のトリアルキルアミン類、N-メチルモルホリン、N-エチルモルホリン等のN-アルキルモルホリン類、N-ジメチルエタノールアミン、N-ジエチルエタノールアミン等のN-ジアルキルアルカノールアミン類等が挙げられる。これらは単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
溶媒(溶剤)としては、例えば、ベンゼン、トルエン等の芳香族系溶剤;メタノール、エタノール等のアルコール系溶剤;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル等の多価アルコール誘導体等が挙げられる。
The urethane resin preferably has a carboxylic acid group (carboxyl group) from the viewpoint of improving the affinity with the inorganic thin film layer. In order to introduce a carboxylic acid (salt) group into the urethane resin, for example, a polyol compound having a carboxylic acid group, such as dimethylolpropionic acid or dimethylolbutanoic acid, may be introduced as a copolymerization component as a polyol component. In addition, after synthesizing the urethane resin containing a carboxylic acid group, the urethane resin in a water dispersion can be obtained by neutralizing it with a salt forming agent. Specific examples of the salt forming agent include ammonia, trialkylamines such as trimethylamine, triethylamine, triisopropylamine, tri-n-propylamine, and tri-n-butylamine, N-alkylmorpholines such as N-methylmorpholine and N-ethylmorpholine, and N-dialkylalkanolamines such as N-dimethylethanolamine and N-diethylethanolamine. These may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the solvent include aromatic solvents such as benzene and toluene; alcohol solvents such as methanol and ethanol; ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; and polyhydric alcohol derivatives such as ethylene glycol monomethyl ether.

[ガスバリア性ポリアミドフィルムの製造方法]
本発明のガスバリア性ポリアミドフィルムは、本発明における二軸延伸ポリアミドフィルムに前記の方法で無機薄膜層を形成することで製造する。
<二軸延伸ポリアミドフィルムの製膜方法>
本発明における二軸延伸ポリアミドフィルムは、公知の製造方法により製造することができる。例えば、逐次二軸延伸法、同時二軸延伸法が挙げられる。逐次二軸延伸法は、製膜速度が上げられるので、製造コスト的に有利であるので好ましい。
本発明における二軸延伸ポリアミドフィルムの作製方法についてさらに説明する。
まず、押出機を用いて原料樹脂を溶融押出しし、Tダイからフィルム状に押出し、冷却ロール上にキャストして冷却し、未延伸フィルムを得る。
樹脂の溶融温度は好ましくは200~300℃である。上記未満であると未溶融物などが発生し、欠点などの外観不良が発生することがあり、上記を超えると樹脂の劣化などが観察され、分子量低下、外観低下が発生することがある。
基材層(A層)に表面層(B層)を積層する場合は、フィードブロックやマルチマニホールドなどを使用した共押出法で未延伸フィルムを得ることが好ましい。
[Method of producing gas barrier polyamide film]
The gas barrier polyamide film of the present invention is produced by forming an inorganic thin film layer on the biaxially oriented polyamide film of the present invention by the above-mentioned method.
<Method for producing biaxially oriented polyamide film>
The biaxially stretched polyamide film of the present invention can be produced by a known production method. For example, a sequential biaxial stretching method or a simultaneous biaxial stretching method can be mentioned. The sequential biaxial stretching method is preferable because it can increase the film production speed and is advantageous in terms of production costs.
The method for producing the biaxially stretched polyamide film of the present invention will now be described in further detail.
First, a raw material resin is melt-extruded using an extruder, extruded from a T-die into a film, and cast onto a cooling roll for cooling to obtain an unstretched film.
The melting temperature of the resin is preferably 200 to 300° C. If it is lower than the above, unmelted matter may occur, resulting in defects and other poor appearance, whereas if it exceeds the above, deterioration of the resin may be observed, resulting in a decrease in molecular weight and a decrease in appearance.
When a surface layer (layer B) is laminated onto a base layer (layer A), it is preferable to obtain an unstretched film by coextrusion using a feed block, a multi-manifold, or the like.

冷却ロール温度は、-30~80℃が好ましく、更に好ましくは0~50℃である。
Tダイから押出されたフィルム状溶融物を回転冷却ドラムにキャストし冷却して未延伸フィルムを得るには、例えば、エアナイフを使用する方法や静電荷を印荷する静電密着法等が好ましく適用できる。特に後者が好ましく使用される。
The cooling roll temperature is preferably from -30 to 80°C, and more preferably from 0 to 50°C.
In order to obtain an unstretched film by casting the film-like molten material extruded from a T-die onto a rotating cooling drum and cooling it, for example, a method using an air knife or an electrostatic adhesion method in which a static charge is applied can be preferably used. The latter method is particularly preferably used.

また、キャストした未延伸フィルムの冷却ロールの反対面も冷却することが好ましい。例えば、未延伸フィルムの冷却ロールの反対面に、槽内の冷却用液体を接触させる方法、スプレーノズルで蒸散する液体を塗布する方法、高速流体を吹き付けて冷却する方法等を併用することが好ましい。このようにして得られた未延伸フィルムを二軸方向に延伸して二軸延伸ポリアミドフィルムを得る。 It is also preferable to cool the side of the cast unstretched film opposite the cooling roll. For example, it is preferable to use a combination of a method of contacting the side of the unstretched film opposite the cooling roll with a cooling liquid in a tank, a method of applying a liquid that evaporates with a spray nozzle, and a method of cooling by spraying a high-speed fluid. The unstretched film obtained in this manner is stretched biaxially to obtain a biaxially stretched polyamide film.

MD方向の延伸方法としては、一段延伸又は二段延伸等の多段延伸が使用できる。後述するように、一段での延伸ではなく、二段延伸などの多段のMD方向の延伸が物性面およびMD方向及びTD方向の物性の均一さ(等方性)の面で好ましい。
逐次二軸延伸法におけるMD方向の延伸は、ロール延伸が好ましい。
As a method for stretching in the MD direction, multi-stage stretching such as one-stage stretching or two-stage stretching can be used. As described later, multi-stage MD stretching such as two-stage stretching is preferred in terms of physical properties and uniformity of physical properties in the MD direction and the TD direction (isotropy) rather than one-stage stretching.
In the sequential biaxial stretching method, stretching in the MD direction is preferably performed by roll stretching.

MD方向の延伸温度の下限は好ましくは50℃であり、より好ましくは55℃であり、さらに好ましくは60℃である。50℃未満であると樹脂が軟化せず、延伸が困難となることがある。
MD方向の延伸温度の上限は好ましくは120℃であり、より好ましくは115℃であり、さらに好ましくは110℃である。120℃を超えると樹脂が軟らかくなりすぎ安定した延伸ができないことがある。
The lower limit of the MD stretching temperature is preferably 50° C., more preferably 55° C., and further preferably 60° C. If the temperature is less than 50° C., the resin does not soften, and stretching may become difficult.
The upper limit of the stretching temperature in the MD direction is preferably 120° C., more preferably 115° C., and further preferably 110° C. If the temperature exceeds 120° C., the resin becomes too soft and stable stretching may not be possible.

MD方向の延伸倍率(多段で延伸する場合は、それぞれの倍率を乗じた全延伸倍率)の下限は好ましくは2.2倍であり、より好ましくは2.5倍であり、さらに好ましくは2.8倍である。2.2倍未満であるとMD方向の厚み精度が低下するほか、結晶化度が低くなりすぎて衝撃強度が低下することがある。
MD方向の延伸倍率の上限は好ましくは5.0倍であり、より好ましくは4.5倍であり、最も好ましくは4.0倍である。5.0倍を超えると後続の延伸が困難となることがある。
The lower limit of the stretch ratio in the MD direction (when stretching in multiple stages, the total stretch ratio multiplied by each stretch ratio) is preferably 2.2, more preferably 2.5, and even more preferably 2.8. If it is less than 2.2, the thickness accuracy in the MD direction decreases, and the crystallinity becomes too low, which may reduce the impact strength.
The upper limit of the stretching ratio in the MD direction is preferably 5.0 times, more preferably 4.5 times, and most preferably 4.0 times. If it exceeds 5.0 times, the subsequent stretching may become difficult.

また、MD方向の延伸を多段で行う場合には、それぞれの延伸で上述のような延伸が可能であるが、倍率については、全MD方向の延伸倍率の積は5.0以下となるよう、延伸倍率を調整することが必要である。例えば、二段延伸の場合であれば、一段目の延伸を1.5~2.1倍、二段目の延伸を1.5~1.8倍が好ましい。 When stretching in the MD direction is performed in multiple stages, the above-mentioned stretching is possible for each stretch, but the stretching ratios must be adjusted so that the product of all stretching ratios in the MD direction is 5.0 or less. For example, in the case of two-stage stretching, it is preferable to stretch the first stage at 1.5 to 2.1 times and the second stage at 1.5 to 1.8 times.

MD方向に延伸したフィルムは、テンターでTD方向に延伸し、熱固定し、リラックス処理(緩和処理ともいう)する。
TD方向の延伸温度の下限は好ましくは50℃であり、より好ましくは55℃であり、さらに好ましくは60℃である。50℃未満であると樹脂が軟化せず、延伸が困難となることがある。
TD方向の延伸温度の上限は好ましくは190℃であり、より好ましくは185℃であり、さらに好ましくは180℃である。190℃を超えると結晶化してしまい、延伸が困難となることがある。
The film stretched in the MD direction is stretched in the TD direction by a tenter, heat-set, and then subjected to a relaxation treatment (also called a relaxation treatment).
The lower limit of the TD stretching temperature is preferably 50° C., more preferably 55° C., and further preferably 60° C. If the temperature is less than 50° C., the resin does not soften, and stretching may become difficult.
The upper limit of the stretching temperature in the TD direction is preferably 190° C., more preferably 185° C., and further preferably 180° C. If the temperature exceeds 190° C., crystallization may occur, making stretching difficult.

TD方向の延伸倍率(多段で延伸する場合は、それぞれの倍率を乗じた全延伸倍率)の下限は好ましくは2.8であり、より好ましくは3.2倍であり、さらに好ましくは3.5倍であり、特に好ましくは3.8倍である。2.8未満であるとTD方向の厚み精度が低下するほか、結晶化度が低くなりすぎて衝撃強度が低下することがある。
TD方向の延伸倍率の上限は好ましくは5.5倍であり、より好ましくは5.0倍であり、さらに好ましくは4.7であり、特に好ましくは4.5であり、最も好ましくは4.3倍である。5.5倍を超えると著しく生産性が低下することがある。
The lower limit of the stretch ratio in the TD direction (when stretching in multiple stages, the total stretch ratio multiplied by each stretch ratio) is preferably 2.8, more preferably 3.2, even more preferably 3.5, and particularly preferably 3.8. If it is less than 2.8, the thickness accuracy in the TD direction decreases, and the crystallinity becomes too low, which may reduce the impact strength.
The upper limit of the stretching ratio in the TD direction is preferably 5.5 times, more preferably 5.0 times, still more preferably 4.7 times, particularly preferably 4.5 times, and most preferably 4.3 times. If it exceeds 5.5 times, the productivity may be significantly reduced.

熱固定温度の選択は本発明において重要な要素である、熱固定温度を高くするに従い、フィルムの結晶化および配向緩和が進み、衝撃強度を向上させ、熱収縮率を低減させることができる。一方、熱固定温度が低い場合には結晶化および配向緩和が不十分で熱収縮率を十分に低減させることができない。)また、熱固定温度が高くなりすぎると、樹脂の劣化が進み、急速に衝撃強度などフィルムの強靱性が失われる。 The selection of the heat setting temperature is an important factor in the present invention. As the heat setting temperature is increased, the crystallization and orientation relaxation of the film progresses, improving the impact strength and reducing the heat shrinkage rate. On the other hand, if the heat setting temperature is low, the crystallization and orientation relaxation are insufficient and the heat shrinkage rate cannot be sufficiently reduced. ) Also, if the heat setting temperature is too high, the resin deteriorates and the film rapidly loses its toughness, such as its impact strength.

熱固定温度の下限は好ましくは180℃であり、より好ましくは200℃である。熱固定温度が低いと熱収縮率が大きくなりすぎてラミネート後の外観が低下する、ラミネート強度が低下する傾向がある。
熱固定温度の上限は好ましくは230℃であり、より好ましくは220℃である。熱固定温度が高すぎると、衝撃強度が低下する傾向がある。
The lower limit of the heat setting temperature is preferably 180° C., more preferably 200° C. If the heat setting temperature is too low, the heat shrinkage rate becomes too large, which tends to deteriorate the appearance after lamination and to reduce the laminate strength.
The upper limit of the heat setting temperature is preferably 230° C., more preferably 220° C. If the heat setting temperature is too high, the impact strength tends to decrease.

熱固定の時間は0.5~20秒であることが好ましい。さらには1~15秒である。熱固定時間は熱固定温度や熱固定ゾーンでの風速とのかね合いで適正時間とすることができる。熱固定条件が弱すぎると、結晶化及び配向緩和が不十分となり上記問題が起こる。熱固定条件が強すぎるとフィルム強靱性が低下する。 The heat setting time is preferably 0.5 to 20 seconds. More preferably, it is 1 to 15 seconds. The heat setting time can be set appropriately by balancing the heat setting temperature and the wind speed in the heat setting zone. If the heat setting conditions are too weak, crystallization and orientation relaxation will be insufficient, causing the above problems. If the heat setting conditions are too strong, the film toughness will decrease.

熱固定処理した後にリラックス処理をすることは熱収縮率の制御に有効である。リラックス処理する温度は熱固定処理温度から樹脂のガラス転移温度(Tg)までの範囲で選べるが、好ましくは熱固定処理温度-10℃~Tg+10℃が好ましい。リラックス温度が高すぎると、収縮速度が速すぎて歪みなどの原因となるため好ましくない。逆にリラックス温度が低すぎるとリラックス処理とならず、単に弛むだけとなり熱収縮率が下がらず、寸法安定性が悪くなる。 Relaxation treatment after heat setting is effective in controlling the thermal shrinkage rate. The temperature for relaxation treatment can be selected in the range from the heat setting temperature to the glass transition temperature (Tg) of the resin, but it is preferably from the heat setting temperature -10°C to Tg +10°C. If the relaxation temperature is too high, the shrinkage rate will be too fast, which is undesirable and can cause distortion. Conversely, if the relaxation temperature is too low, relaxation treatment will not occur and the material will simply slacken, the thermal shrinkage rate will not decrease, and dimensional stability will deteriorate.

リラックス処理のリラックス率の下限は、好ましくは0.5%であり、より好ましくは1%である。0.5%未満であると熱収縮率が十分に下がらないことがある。
リラックス率の上限は好ましくは20%であり、より好ましくは15%であり、さらに好ましくは10%である。20%を超えるとテンター内でたるみが発生し、生産が困難になることがある。
The lower limit of the relaxation rate in the relaxation treatment is preferably 0.5%, more preferably 1%. If it is less than 0.5%, the heat shrinkage rate may not be reduced sufficiently.
The upper limit of the relaxation rate is preferably 20%, more preferably 15%, and further preferably 10%. If it exceeds 20%, sagging occurs in the tenter, which may make production difficult.

無機薄膜層やシーラントフィルムとの接着強度を上げるため、積層延伸ポリアミドフィルム表面及び/又は接着改質層の表面にコロナ処理や火炎処理等を施してもよい。また、積層延伸ポリアミドフィルムと接着改質層の接着強度を上げるため、積層延伸ポリアミドフィルムの接着改質層側の表面にコロナ処理や火炎処理等を施してもよい。 To increase the adhesive strength with the inorganic thin film layer or the sealant film, the surface of the laminated stretched polyamide film and/or the surface of the adhesive modification layer may be subjected to corona treatment, flame treatment, etc. Also, to increase the adhesive strength between the laminated stretched polyamide film and the adhesive modification layer, the surface of the laminated stretched polyamide film on the adhesive modification layer side may be subjected to corona treatment, flame treatment, etc.

[ガスバリア性フィルムの厚み構成]
本発明におけるガスバリア性ポリアミドフィルムの厚みは、特に制限されるものではないが、包装材料として使用する場合、通常100μm以下であり、一般には5~50μmの厚みのものが使用され、特に8~30μmのものが使用される。
[Gas Barrier Film Thickness Configuration]
The thickness of the gas barrier polyamide film in the present invention is not particularly limited, but when used as a packaging material, it is usually 100 μm or less, and generally, a thickness of 5 to 50 μm is used, and particularly, a thickness of 8 to 30 μm is used.

本発明におけるガスバリア性ポリアミドフィルムが基材層と表面層の積層構成である場合、B層に滑り性を付与する場合と耐摩擦ピンホール性を付与する場合は、これらの機能を発現させるために、表面層(B層)の厚みは0.5~8μmが好ましい。また、リサイクル比率を高くするためには、基材層(A層)の厚みを、A層とB層の合計厚みの50~93%が好ましく、70~93%とすることがより好ましい。 When the gas barrier polyamide film of the present invention has a laminated structure of a base layer and a surface layer, and when the B layer is to be imparted with slipperiness and abrasion pinhole resistance, the thickness of the surface layer (B layer) is preferably 0.5 to 8 μm in order to realize these functions. In addition, in order to increase the recycling rate, the thickness of the base layer (A layer) is preferably 50 to 93%, and more preferably 70 to 93%, of the total thickness of the A layer and the B layer.

[ガスバリア性ポリアミドフィルムの特性]
本発明のガスバリア性ポリアミドフィルムは、実施例に記載した測定方法によるゲルボフレックステスターを用いたひねり屈曲試験を温度1℃で1000回実施した時のピンホール欠点数が20個未満であることが好ましい。より好ましくは10個未満である。屈曲試験後のピンホール欠点数が少ないほど耐屈曲ピンホール性が優れており、ピンホール数が10個以下であれば、輸送時などに包装袋に負荷がかかってもピンホールが発生しにくい包装袋が得られる。
[Properties of gas barrier polyamide film]
The gas barrier polyamide film of the present invention preferably has less than 20 pinhole defects when a twist bending test is performed 1000 times at a temperature of 1° C. using a Gelbo flex tester according to the measurement method described in the Examples. More preferably, the number of pinhole defects is less than 10. The fewer the number of pinhole defects after the bending test, the better the bending pinhole resistance is. If the number of pinholes is 10 or less, a packaging bag that is less likely to develop pinholes even when a load is applied to the packaging bag during transportation, etc. can be obtained.

更に、本発明のガスバリア性ポリアミドフィルムは、耐摩擦ピンホールテストでピンホール発生までの距離が2000cm以上であることが好ましい。より好ましくは2900cm以上、更に好ましくは3000cm以上である。ピンホールが発生する距離が長いほど耐摩擦ピンホール性に優れており、ピンホールが発生する距離が2900cm以上であれば、輸送時などに包装袋が段ボール箱などと擦れてもピンホールが発生しにくい包装袋が得られる。
本発明においては、A層とB層の原料組成物を適正化することで、上記の耐屈曲ピンホール性と耐摩擦ピンホール性の両方の特性が優れているガスバリア性ポリアミドフィルムを得ることができる。これらの特性を持った本発明のガスバリア性ポリアミドフィルムは、輸送時にピンホールが発生しにくいので包装用フィルムとして極めて有用である。
Furthermore, the gas barrier polyamide film of the present invention preferably has a distance until pinholes appear in a friction pinhole resistance test of 2000 cm or more, more preferably 2900 cm or more, and even more preferably 3000 cm or more. The longer the distance until pinholes appear, the better the friction pinhole resistance is, and if the distance until pinholes appear is 2900 cm or more, a packaging bag that is less likely to have pinholes even if the packaging bag rubs against a cardboard box or the like during transportation can be obtained.
In the present invention, a gas barrier polyamide film having excellent properties in both bending pinhole resistance and friction pinhole resistance can be obtained by optimizing the raw material compositions of layers A and B. The gas barrier polyamide film of the present invention having these properties is highly useful as a packaging film because it is less likely to develop pinholes during transportation.

本発明のガスバリア性ポリアミドフィルムは、160℃、10分での熱収縮率が流れ方向(以下MD方向と略記する)及び幅方向(以下TD方向と略記する)ともに0.6~5.0%の範囲が好ましく、より好ましくは、0.6~3.0%である。熱収縮率が、5.0%を超える場合には、ラミネートや印刷など、次工程で熱がかかる場合にカールや収縮が発生する場合がある。また、シーラントフィルムとのラミネート強度が弱くなる場合がある。熱収縮率を0.6%未満とすることは可能ではあるが、力学的に脆くなる場合がある。また、生産性が悪化するので好ましくない。 The gas barrier polyamide film of the present invention preferably has a heat shrinkage rate at 160°C for 10 minutes in the range of 0.6 to 5.0% in both the machine direction (hereinafter abbreviated as MD direction) and the width direction (hereinafter abbreviated as TD direction), more preferably 0.6 to 3.0%. If the heat shrinkage rate exceeds 5.0%, curling or shrinkage may occur when heat is applied in the next process, such as lamination or printing. Furthermore, the lamination strength with the sealant film may be weakened. Although it is possible to reduce the heat shrinkage rate to less than 0.6%, it may become mechanically fragile. Furthermore, this is not preferable because it reduces productivity.

耐衝撃性に優れることが二軸延伸ポリアミドフィルムの特長であるので、本発明の易接着性ポリアミドフィルムの衝撃強度は、0.7J/15μm以上が好ましい。より好ましい衝撃強度は、0.9J/15μm以上である。衝撃強度は大きい方が好ましいが、1.5J/15μmより大きくすることは難しい。
本発明の易接着性ポリアミドフィルムの突刺し強度は、0.65N/μm以上が好ましい。より好ましい耐突刺し強度は、0.70N/μm以上である。突刺し強度は、大きい方が好ましいが、1.0N/μmより大きくすることは難しい。
本発明の易接着性ポリアミドフィルムの面配向係数は、0.045以上が好ましい。より好ましい面配向係数は、0.050以上である。面配向係数は大きい方が衝撃強度及び突刺し強度が大きくなり好ましいが、0.080より大きくするには延伸倍率をより高くする必要があり、延伸工程で破断しやすくなり難しい。
Since excellent impact resistance is a feature of biaxially oriented polyamide films, the impact strength of the highly adhesive polyamide film of the present invention is preferably 0.7 J/15 μm or more. More preferably, the impact strength is 0.9 J/15 μm or more. Although a higher impact strength is preferable, it is difficult to make it higher than 1.5 J/15 μm.
The puncture strength of the highly adhesive polyamide film of the present invention is preferably 0.65 N/μm or more. The more preferable puncture resistance strength is 0.70 N/μm or more. Although a higher puncture strength is preferable, it is difficult to make the puncture strength higher than 1.0 N/μm.
The plane orientation coefficient of the highly adhesive polyamide film of the present invention is preferably 0.045 or more. More preferably, the plane orientation coefficient is 0.050 or more. The larger the plane orientation coefficient, the greater the impact strength and puncture strength, which is preferable. However, in order to make the plane orientation coefficient greater than 0.080, the stretch ratio must be increased, which is difficult because the film is prone to breakage during the stretching process.

本発明のガスバリア性ポリアミドフィルムのヘイズ値は、10%以下であることが好ましい。より好ましくは5%以下、更に好ましくは2.6%以下である。
ヘイズ値が小さいと透明性や光沢が良いので、包装袋に使用した場合、きれいな印刷ができ商品価値を高める。
フィルムの滑り性を良くするために微粒子を添加するとヘイズ値が大きくなるので、微粒子は表面層のB層のみに入れるかより多く含有させ、A層の含有量は少なくする方が、滑り性が良くヘイズ値が小さいフィルムが得られるので好ましい。
The haze value of the gas barrier polyamide film of the present invention is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, and further preferably 2.6% or less.
A small haze value means good transparency and gloss, so when used for packaging bags, beautiful printing is possible and the product value is increased.
Adding fine particles to improve the slipperiness of the film increases the haze value, so it is preferable to add fine particles only to the surface layer, layer B, or to contain a larger amount of fine particles therein and to reduce the content in layer A, since this will result in a film with good slipperiness and a small haze value.

本発明のガスバリア性ポリアミドフィルムは、実施例に記載したポリエチレン系シーラントと貼り合わせた後のラミネート強度は、4.0N/15mm以上が好ましい。
本発明のガスバリア性ポリアミドフィルムは、通常シーラントフィルムとラミネートしてから包装袋に加工される。上記のラミネート強度が4.0N/15mm以上であれば、各種の積層構成で本発明のガスバリア性ポリアミドフィルムを使用して包装袋を作製した場合に、シール部の強度が十分に得られ、破れにくい強い包装袋が得られる。
ラミネート強度を4.0N/15mm以上にするために、本発明のガスバリア性ポリアミドフィルムは、コロナ処理、コーティング処理、火炎処理等を施すことができる。
The gas barrier polyamide film of the present invention preferably has a laminate strength of 4.0 N/15 mm or more after being laminated with the polyethylene sealant described in the Examples.
The gas barrier polyamide film of the present invention is usually laminated with a sealant film and then processed into a packaging bag. If the laminate strength is 4.0 N/15 mm or more, when a packaging bag is produced using the gas barrier polyamide film of the present invention in various lamination configurations, the strength of the seal portion is sufficient, and a strong packaging bag that is difficult to tear can be obtained.
In order to increase the lamination strength to 4.0 N/15 mm or more, the gas barrier polyamide film of the present invention can be subjected to corona treatment, coating treatment, flame treatment, or the like.

さらに、本発明のガスバリア性ポリアミドフィルムは、用途に応じて寸法安定性を良くするために熱処理や調湿処理を施すことも可能である。加えて、フィルム表面の接着性を良好にするためにコロナ処理、コーティング処理や火炎処理等を施したり、印刷加工、金属物や無機酸化物等の蒸着加工を施したりすることも可能である。なお蒸着加工にて形成される蒸着膜としては、アルミニウムの蒸着膜、ケイ素酸化物やアルミニウム酸化物の単一物もしくは混合物の蒸着膜が好適に用いられる。さらにこれらの蒸着膜上に保護層などをコーティングすることにより、酸素や水素バリア性などを向上させることができる。 The gas barrier polyamide film of the present invention can be subjected to heat treatment or humidity conditioning treatment to improve dimensional stability depending on the application. In addition, to improve the adhesion of the film surface, corona treatment, coating treatment, flame treatment, printing, deposition of metals, inorganic oxides, etc. are also possible. As the deposition film formed by deposition processing, aluminum deposition film, and deposition film of silicon oxide or aluminum oxide alone or a mixture are preferably used. Furthermore, by coating a protective layer on these deposition films, oxygen and hydrogen barrier properties can be improved.

本発明のガスバリア性ポリアミドフィルムは、シーラントフィルムなどを積層した積層フィルムにしてから、ボトムシール袋、サイドシール袋、三方シール袋、ピロー袋、スタンディングパウチ、ガゼット袋、角底袋などの包装袋に加工される。
シーラントフィルムとしては、未延伸線状低密度ポリエチレンフィルム、未延伸ポリプロピレンフィルム、エチレン-ビニルアルコール共重合樹脂フィルムなどが挙げられる。
本発明のガスバリア性ポリアミドフィルムを使用した積層フィルムの層構成としては、本発明の実施形態に係るガスバリア性ポリアミドフィルムを積層フィルム中に有するものであれば特に限定されない。また、積層フィルムに使用するフィルムは、石化由来原料でもバイオマス由来原料でも良いが、バイオマス由来の原料を用いて重合されたポリ乳酸、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンサクシネート、ポリエチレン、ポリエチレンフラノエートなどの方が環境負荷の低減という点で好ましい。
The gas barrier polyamide film of the present invention is laminated with a sealant film or the like to form a laminate film, and then processed into packaging bags such as bottom-sealed bags, side-sealed bags, three-side-sealed bags, pillow bags, standing pouches, gusseted bags, and square-bottom bags.
Examples of the sealant film include an unstretched linear low density polyethylene film, an unstretched polypropylene film, and an ethylene-vinyl alcohol copolymer resin film.
The layer structure of the laminated film using the gas barrier polyamide film of the present invention is not particularly limited as long as the gas barrier polyamide film according to the embodiment of the present invention is contained in the laminated film. The film used for the laminated film may be made of either petrochemically derived raw materials or biomass-derived raw materials, but polylactic acid, polyethylene terephthalate, polybutylene succinate, polyethylene, polyethylene furanoate, etc., polymerized using biomass-derived raw materials are preferred in terms of reducing environmental load.

本発明の積層フィルムの層構成の例としては、/で層の境界を表わすと、例えば、ONY/接/LLDPE、ONY/接/CPP、ONY/接/Al/接/CPP、ONY/接/Al/接/LLDPE、ONY/PE/Al/接/LLDPE、ONY/接/Al/PE/LLDPE、PET/接/ONY/接/LLDPE、PET/接/ONY/PE/LLDPE、PET/接/ONY/接/Al/接/LLDPE、PET/接/Al/接/ONY/接/LLDPE、PET/接/Al/接/ONY/PE/LLDPE、PET/PE/Al/PE/ONY/PE/LLDPE、PET/接/ONY/接/CPP、PET/接/ONY/接/Al/接/CPP、PET/接/Al/接/ONY/接/CPP、ONY/接/PET/接/LLDPE、ONY/接/PET/PE/LLDPE、ONY/接/PET/接/CPP、ONY//Al//PET//LLDPE、ONY/接/Al/接/PET/PE/LLDPE、ONY/PE/LLDPE、ONY/PE/CPP、ONY/PE/Al/PE、ONY/PE/Al/PE/LLDPE、OPP/接/ONY/接/LLDPE、ONY/接/EVOH/接/LLDPE、ONY/接/EVOH/接/CPP、ONY/接/アルミ又は無機酸化物蒸着PET/接/LLDPE、ONY/接/アルミ蒸着PET/接/ONY/接/LLDPE、ONY/接/アルミ蒸着PET/PE/LLDPE、ONY/PE/アルミ蒸着PET/PE/LLDPE、ONY/接/アルミ蒸着PET/接/CPP、PET/接/アルミ蒸着PET/接/ONY/接/LLDPE、CPP/接/ONY/接/LLDPE、ONY/接/アルミ蒸着LLDPE、ONY/接/アルミ蒸着CPPなどが挙げられる。
なお上記層構成に用いた各略称は以下の通りである。
ONY:本発明のガスバリア性ポリアミドフィルム、PET:延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、LLDPE:未延伸線状低密度ポリエチレンフィルム、CPP:未延伸ポリプロピレンフィルム、OPP:延伸ポリプロピレンフィルム、PE:押出しラミネート又は未延伸の低密度ポリエチレンフィルム、Al:アルミニウム箔、EVOH:エチレン-ビニルアルコール共重合樹脂、接:フィルム同士を接着させる接着剤層、アルミ又は無機酸化物蒸着はアルミニウム又は無機酸化物が蒸着されていることを表わす。
Examples of layer configurations of the laminated film of the present invention, where the boundary between layers is represented by /, include ONY/joint/LLDPE, ONY/joint/CPP, ONY/joint/Al/joint/CPP, ONY/joint/Al/joint/LLDPE, ONY/PE/Al/joint/LLDPE, ONY/joint/Al/PE/LLDPE, PET/joint/ONY/joint/LLDPE, PET/joint/ONY/PE/LLDPE, PET/joint/ONY/joint/Al/joint/LLDP. E, PET/Contact/Al/Contact/ONY/Contact/LLDPE, PET/Contact/Al/Contact/ONY/PE/LLDPE, PET/PE/Al/PE/ONY/PE/LLDPE, PET/Contact/ONY/Contact/CPP, PET/Contact/ONY/Contact/Al/Contact/CPP, PET/Contact/Al/ Contact/ONY/Contact/CPP, ONY/Contact/PET/Contact/LLDPE, ONY/Contact/PET/PE/LLDPE, ONY/Contact/PET/Contact/CPP , ONY//Al//PET//LLDPE, ONY/bond/Al/bond/PET/PE/LLDPE, ONY/PE/LLDPE, ONY/PE/CPP, ONY/PE/Al/PE, ONY/PE/Al/PE/LLDPE, OPP/bond/ONY/bond/LLDPE, ONY/bond/EVOH/bond/LLDPE, ONY/bond/EVOH/bond/CPP, ONY/bond/aluminum or inorganic oxide vapor-deposited PET/bond/LLDPE, Examples include ONY/bond/aluminum-vapor-deposited PET/bond/ONY/bond/LLDPE, ONY/bond/aluminum-vapor-deposited PET/PE/LLDPE, ONY/PE/aluminum-vapor-deposited PET/PE/LLDPE, ONY/bond/aluminum-vapor-deposited PET/bond/CPP, PET/bond/aluminum-vapor-deposited PET/bond/ONY/bond/LLDPE, CPP/bond/ONY/bond/LLDPE, ONY/bond/aluminum-vapor-deposited LLDPE, ONY/bond/aluminum-vapor-deposited CPP, etc.
The abbreviations used in the above layer structure are as follows:
ONY: gas barrier polyamide film of the present invention, PET: stretched polyethylene terephthalate film, LLDPE: unstretched linear low density polyethylene film, CPP: unstretched polypropylene film, OPP: stretched polypropylene film, PE: extrusion laminate or unstretched low density polyethylene film, Al: aluminum foil, EVOH: ethylene-vinyl alcohol copolymer resin, Ad: adhesive layer for bonding films together, aluminum or inorganic oxide vapor deposition means that aluminum or inorganic oxide is vapor-deposited.

次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、フィルムの評価は次の測定法によって行った。特に記載しない場合は、測定は23℃、相対湿度65%の環境の測定室で行った。 Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples. The films were evaluated using the following measurement methods. Unless otherwise specified, measurements were performed in a measurement room with an environment of 23°C and a relative humidity of 65%.

(1)フィルムのリサイクル比率
フィルムのリサイクル比率はフィルム全体の原料に対して、ケミカルリサイクルした原料とメカニカルリサイクルした原料の割合を計算して%で示した。
(2)フィルムの厚み
フィルムのTD方向に10等分して(幅が狭いフィルムについては厚みを測定できる幅が確保できる幅になるよう当分する)、MD方向に100mmのフィルムを10枚重ねで切り出し、温度23℃、相対湿度65%の環境下で2時間以上コンディショニングする。テスター産業製厚み測定器で、それぞれのサンプルの中央の厚み測定し、その平均値を厚みとした。
(1) Recycled film ratio The recycled film ratio is calculated as the proportion of chemically recycled and mechanically recycled materials to the total raw materials of the film, and expressed as a percentage.
(2) Film Thickness Divide the film into 10 equal parts in the TD direction (for narrow films, divide them so that the width is sufficient to measure the thickness), cut out 10 pieces of 100 mm film in the MD direction, and condition them for 2 hours or more in an environment of 23°C and 65% relative humidity. The thickness of the center of each sample was measured using a thickness measuring device manufactured by Tester Sangyo, and the average value was taken as the thickness.

(3)フィルムのヘイズ値
(株)東洋精機製作所社製の直読ヘイズメーターを使用し、JIS-K-7105に準拠し測定した。
(4)フィルムの動摩擦係数
JIS-C2151に準拠し、下記条件によりフィルム巻外面同士の動摩擦係数を評価した。なお、試験片の大きさは、幅130mm、長さ250mm、試験速度は150mm/分で行った。
(3) Haze Value of Film: Measured using a direct-reading haze meter manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd. in accordance with JIS-K-7105.
(4) Dynamic Friction Coefficient of Film The dynamic friction coefficient between the outer surfaces of the film rolls was evaluated under the following conditions in accordance with JIS-C2151. The test specimen had a width of 130 mm and a length of 250 mm, and the test speed was 150 mm/min.

(5)フィルムの衝撃強度
(株)東洋精機製作所製のフィルムインパクトテスターを使用し測定した。測定値は、厚み15μm当たりに換算してJ(ジュール)/15μmで表した。
(6)フィルムの面配向度
サンプルについてJIS K 7142-1996 A法により、ナトリウムD線を光源としてアッベ屈折計によりフィルム長手方向の屈折率(Nx)、幅方向の屈折率(Ny)、厚み方向の屈折率(Nz)を測定し、式(1)の計算式により面配向係数を算出した。
面配向係数(ΔP)=(Nx+Ny)/2-Nz (1)
(7)フィルムの突刺し強度
得られたポリエステルフィルムを5cm角にサンプリングし、株式会社イマダ製デジタルフォースゲージ「ZTS-500N」、電動計測スタンド「MX2-500N」及び突刺し治具「TKS-250N」を用いて、JIS Z1707に準じてフィルムの突刺し強度を測定した。単位はN/μmで示した。
(5) Impact strength of film: Measured using a film impact tester manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd. The measured value was converted to a value per 15 μm thickness and expressed as J (joule)/15 μm.
(6) Planar Orientation Degree of Film For a sample, the refractive index in the longitudinal direction (Nx), the refractive index in the width direction (Ny), and the refractive index in the thickness direction (Nz) of the film were measured using an Abbe refractometer with sodium D line as a light source according to JIS K 7142-1996, Method A, and the planar orientation coefficient was calculated according to the calculation formula (1).
Planar orientation coefficient (ΔP) = (Nx+Ny)/2-Nz (1)
(7) Puncture strength of film The obtained polyester film was sampled into a 5 cm square, and the puncture strength of the film was measured in accordance with JIS Z1707 using a digital force gauge "ZTS-500N", an electric measuring stand "MX2-500N" and a puncture jig "TKS-250N" manufactured by Imada Co., Ltd. The unit was N/μm.

(8)フィルムの耐屈曲ピンホール性
理学工業社製のゲルボフレックステスターを使用し、下記の方法により屈曲疲労ピンホール数を測定した。
実施例で作製したガスバリア性ポリアミドフィルムの無機薄膜層の面にポリエステル系接着剤を塗布後、厚み40μmの線状低密度ポリエチレンフィルム(L-LDPEフィルム:東洋紡株式会社製、L4102)をドライラミネートし、40℃の環境下で3日間エージングを行いラミネートフィルムとした。得られたラミネートフィルムを12インチ×8インチに裁断し、直径3.5インチの円筒状にし、円筒状フィルムの一方の端をゲルボフレックステスターの固定ヘッド側に、他方の端を可動ヘッド側に固定し、初期の把持間隔を7インチとした。ストロークの最初の3.5インチで440度のひねりを与え、その後2.5インチは直線水平運動で全ストロークを終えるような屈曲疲労を、40回/分の速さで1000回行い、ラミネートフィルムに発生したピンホール数を数えた。なお、測定は1℃の環境下で行った。テストフィルムのL-LDPEフィルム側を下面にしてろ紙(アドバンテック、No.50)の上に置き、4隅をセロテープ(登録商標)で固定した。インク(パイロット製インキ(品番INK-350-ブルー)を純水で5倍希釈したもの)をテストフィルム上に塗布し、ゴムローラーを用いて一面に延展させた。不要なインクをふき取った後、テストフィルムを取り除き、ろ紙に付いたインクの点の数を計測した。
(8) Bending Fatigue Pinhole Resistance of Film The number of pinholes due to bending fatigue was measured by the following method using a Gelbo Flex Tester manufactured by Rigaku Kogyosha.
After applying a polyester adhesive to the surface of the inorganic thin film layer of the gas barrier polyamide film prepared in the examples, a linear low density polyethylene film (L-LDPE film: Toyobo Co., Ltd., L4102) having a thickness of 40 μm was dry laminated and aged for 3 days in an environment of 40° C. to obtain a laminate film. The obtained laminate film was cut into 12 inches x 8 inches to form a cylindrical shape with a diameter of 3.5 inches, one end of the cylindrical film was fixed to the fixed head side of the Gelbo flex tester and the other end was fixed to the movable head side, and the initial gripping distance was set to 7 inches. A flex fatigue was performed 1000 times at a speed of 40 times/min, in which a 440 degree twist was given in the first 3.5 inches of the stroke, and the entire stroke was completed in a linear horizontal motion for the next 2.5 inches, and the number of pinholes generated in the laminate film was counted. The measurement was performed in an environment of 1° C. The test film was placed on a filter paper (Advantec, No. 50) with the L-LDPE film side facing down, and the four corners were fixed with Cellophane Tape (registered trademark). Ink (Pilot ink (product number INK-350-Blue) diluted 5 times with pure water) was applied to the test film and spread over the entire surface using a rubber roller. After wiping off unnecessary ink, the test film was removed, and the number of ink dots on the filter paper was counted.

(9)フィルムの耐摩擦ピンホール性
堅牢度試験機(東洋精機製作所)を使用し、下記の方法により摩擦試験を行い、ピンホール発生距離を測定した。
上記耐屈曲ピンホール性評価で作製したものと同様のラミネートフィルムを、四つ折りにして角を尖らせたテストサンプルを作製し、堅牢度試験機にて、振幅:25cm、振幅速度:30回/分、加重:100g重で、段ボール内面に擦りつけた。段ボールは、K280×P180×K210(AF)=(表材ライナー×中芯材×裏材ライナー(フルートの種類))を使用した。
ピンホール発生距離は、以下の手順に従い算出した。ピンホール発生距離が長いほど、耐摩擦ピンホール性が優れている。
まず、振幅100回距離2500cmで摩擦テストを行った。ピンホールが開かなかった場合は振幅回数20回距離500cm増やして摩擦テストを行った。またピンホールが開かなかった場合は更に振幅回数20回距離500cm増やして摩擦テストを行った。これを繰り返しピンホールが開いた距離に×をつけて水準1とした。振幅100回距離2500cmでピンホールが開いた場合は振幅回数20回距離500cm減らして摩擦テストを行った。またピンホールが開いた場合は更に振幅回数20回距離500cm減らして摩擦テストを行った。これを繰り返しピンホールが開かなかった距離に○をつけて水準1とした。
次に水準2として、水準1で最後が○だった場合は、振幅回数を20回増やして摩擦テストを行い、ピンホールが開かなかったら○、ピンホールが開いたら×を付けた。水準1で最後が×だった場合は、振幅回数を20回減らして摩擦テストを行い、ピンホールが開かなかったら○、ピンホールが開いたら×を付けた。
更に水準3~20として、前の水準で○だった場合は、振幅回数を20回増やして摩擦テストを行い、ピンホールが開かなかったら○、ピンホールが開いたら×を付ける。前の水準で×だった場合は、振幅回数を20回減らして摩擦テストを行い、ピンホールが開かなかったら○、ピンホールが開いたら×を付ける。これを繰り返し、水準3~20に○又は×をつける。
例えば、表1のような結果が得られた。表1を例にしてピンホール発生距離の求め方を説明する。
各距離の○と×の試験数を数える。
最もテスト回数の多かった距離を中央値とし、係数をゼロとする。それより距離が長い場合は、500cmごとに係数を+1、+2、+3・・・、距離が短い場合は、500cmごとに係数を-1、-2、-3・・・とした。
水準1~20までの全ての試験で、穴が開かなかった試験数と穴が開いた試験数を比較して、次のA及びBの場合についてそれぞれの式で摩擦ピンホール発生距離を算出した。
A;全ての試験で、穴が開かなかった試験数が穴が開いた試験数以上の場合
摩擦ピンホール発生距離=中央値+500×(Σ(係数×穴が開かなかった試験数)/穴が開かなかった試験数)+1/2)
B:全ての試験で、穴が開かなかった試験数が穴が開いた試験数未満の場合
摩擦ピンホール発生距離=中央値+500×(Σ(係数×穴が開いた試験数)/穴が開いた試験数)-1/2)
(9) Resistance to Pinholes Caused by Abrasion of Film A friction test was carried out by the following method using a fastness tester (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho) to measure the distance at which pinholes appeared.
A test sample was prepared by folding the same laminate film as that prepared in the above-mentioned evaluation of pinhole resistance against bending in four to make sharp corners, and rubbing it against the inner surface of a cardboard with a fastness tester at an amplitude of 25 cm, an amplitude speed of 30 times/min, and a weight of 100 g. The cardboard used was K280 x P180 x K210 (AF) = (surface liner x core material x backing liner (type of flute)).
The pinhole occurrence distance was calculated according to the following procedure. The longer the pinhole occurrence distance, the better the abrasion pinhole resistance.
First, a friction test was performed with an amplitude of 100 times and a distance of 2500 cm. If no pinholes were found, the friction test was performed with an amplitude of 20 times and a distance of 500 cm increased. If no pinholes were found, the friction test was performed with an amplitude of 20 times and a distance of 500 cm increased. This was repeated, and the distance at which a pinhole was found was marked with an X, and the test was set to level 1. If a pinhole was found with an amplitude of 100 times and a distance of 2500 cm, the friction test was performed with an amplitude of 20 times and a distance of 500 cm reduced. If a pinhole was found, the friction test was performed with an amplitude of 20 times and a distance of 500 cm reduced. This was repeated, and the distance at which a pinhole was not found was marked with an O, and the test was set to level 1.
Next, for level 2, if the final result in level 1 was ○, the number of amplitudes was increased by 20, and a friction test was conducted. If no pinholes were formed, a ○ was marked, and if a pinhole was formed, a × was marked. If the final result in level 1 was ×, the number of amplitudes was decreased by 20, and a friction test was conducted. If no pinholes were formed, a ○ was marked, and if a pinhole was formed, a × was marked.
Furthermore, for levels 3 to 20, if the previous level was rated as ○, increase the number of amplitudes by 20 and conduct a friction test; if no pinholes are created, mark it as ○, if a pinhole is created, mark it as ×. If the previous level was rated as ×, reduce the number of amplitudes by 20 and conduct a friction test; if no pinholes are created, mark it as ○, if a pinhole is created, mark it as ×. Repeat this process and mark levels 3 to 20 as ○ or ×.
For example, the results shown in Table 1 were obtained. Using Table 1 as an example, a method for determining the pinhole occurrence distance will be explained.
Count the number of O and X trials for each distance.
The distance with the most tests was used as the median, and the coefficient was set to 0. For distances longer than that, the coefficient was set to +1, +2, +3... for every 500 cm, and for distances shorter than that, the coefficient was set to -1, -2, -3... for every 500 cm.
In all tests from levels 1 to 20, the number of tests in which no holes were formed was compared with the number of tests in which holes were formed, and the friction pinhole generation distance was calculated for each of the following cases A and B using the respective formulas.
A: In all tests, the number of tests in which no holes were formed is equal to or greater than the number of tests in which holes were formed. Distance at which pinholes were generated by friction = median + 500 x (Σ (coefficient x number of tests in which no holes were formed) / number of tests in which no holes were formed) + 1/2)
B: In all tests, the number of tests without holes is less than the number of tests with holes. Distance at which pinholes occur due to friction = median + 500 x (Σ (coefficient x number of tests with holes) / number of tests with holes) - 1/2)

(10)フィルムの熱収縮率
試験温度160℃、加熱時間10分間とした以外は、JIS C2318に記載の寸法変化試験法に準じて下記式によって熱収縮率を測定した。
熱収縮率=[(処理前の長さ-処理後の長さ)/処理前の長さ]×100(%)
(10) Heat Shrinkage of Film The heat shrinkage of film was measured according to the following formula in accordance with the dimensional change test method described in JIS C2318, except that the test temperature was 160° C. and the heating time was 10 minutes.
Heat shrinkage rate = [(length before treatment - length after treatment) / length before treatment] x 100 (%)

(11)ポリエチレン系シーラントとのラミネート強度
耐屈曲ピンホール性評価の説明に記載した方法と同様にして作製したラミネートフィルムを幅15mm×長さ200mmの短冊状に切断し、ラミネートフィルムの一端をポリアミドフィルムと線状低密度ポリエチレンフィルムとの界面で剥離し、(株式会社島津製作所製、オートグラフ)を用い、温度23℃、相対湿度50%、引張り速度200mm/分、剥離角度90°の条件下でラミネート強度をMD方向とTD方向にそれぞれ3回測定しその平均値で評価した。
(11) Laminate strength with polyethylene sealant A laminate film prepared in the same manner as described in the evaluation of pinhole resistance was cut into a strip of 15 mm width × 200 mm length, and one end of the laminate film was peeled off at the interface between the polyamide film and the linear low-density polyethylene film. Using an autograph (manufactured by Shimadzu Corporation), the laminate strength was measured three times in each of the MD and TD directions under the conditions of a temperature of 23°C, a relative humidity of 50%, a pulling speed of 200 mm/min, and a peel angle of 90°, and the average value was used to evaluate.

(12)耐水ラミネート強度(水付着条件下でのラミネート強度)
(11)のラミネート強度を測定する際に、上記短冊状ラミネートフィルムの剥離界面に水をスポイトで垂らしながらラミネート強度を測定した。MD方向とTD方向にそれぞれ3回測定し平均値で評価した。
(12) Water-resistant laminate strength (laminate strength under water adhesion conditions)
(11) When measuring the laminate strength, water was dropped onto the peeled interface of the strip-shaped laminate film with a dropper, and the laminate strength was measured. Measurements were made three times in each of the MD and TD directions, and the average value was used for evaluation.

(13)原料ポリアミドの相対粘度
0.25gのポリアミドを25mlのメスフラスコ中で1.0g/dlの濃度になるように96%硫酸で溶解したポリアミド溶液を20℃にて相対粘度を測定した。
(14)原料ポリアドの融点
JIS K7121に準じてセイコーインスルメンツ社製、SSC5200型示差走査熱量測定器を用いて、窒素雰囲気中で、試料重量:10mg、昇温開始温度:30℃、昇温速度:20℃/分で測定し、吸熱ピーク温度(Tmp)を融点として求めた。
(13) Relative Viscosity of Raw Material Polyamide 0.25 g of polyamide was dissolved in 96% sulfuric acid in a 25 ml measuring flask to a concentration of 1.0 g/dl, and the relative viscosity of the polyamide solution was measured at 20° C.
(14) Melting Point of Raw Material Polyad In accordance with JIS K7121, a differential scanning calorimeter SSC5200 manufactured by Seiko Instruments Inc. was used in a nitrogen atmosphere at a sample weight of 10 mg, a heating start temperature of 30° C., and a heating rate of 20° C./min. The endothermic peak temperature (Tmp) was determined as the melting point.

(15)接着性改質層の塗布量
ガスバリア性ポリアミドフィルムを10cm×10cmの面積に切り出し、フィルムの接着性改質層面をメチルエチルケトン/トルエン=1/1の混合有機溶剤を染み込ませた布で拭き取り、拭き取り前後の重量を精密天秤(島津製作所社製AUW120D)で測定した。測定した重量差から平方メートル当たりに換算し、塗布量(g/m)を算出した。
(15) Coating amount of adhesive modification layer A gas barrier polyamide film was cut into an area of 10 cm x 10 cm, and the adhesive modification layer surface of the film was wiped with a cloth soaked in a mixed organic solvent of methyl ethyl ketone/toluene = 1/1, and the weight before and after wiping was measured with a precision balance (AUW120D manufactured by Shimadzu Corporation). The coating amount (g/ m2 ) was calculated by converting the measured weight difference into per square meter.

[石油化学由来の原料から新たに重合したポリアミド6(a-1)]
石油化学由来の原料から新たに重合したポリアミド6(a-1)としては、東洋紡株式会社製、相対粘度2.8、融点220℃のポリアミド6を使用した。
[ケミカルリサイクルしたポリアミド6(a-2)の製造]
廃材から回収したポリアミド6繊維と、解重合触媒である75質量%のリン酸水溶液を解重合装置に仕込み、窒素雰囲気下で260℃まで加熱した。過熱水蒸気を解重合装置へ吹き込みながら反応を開始し、解重合装置から連続的に留出するε-カプロラクタム・水蒸気を冷却して、ε-カプロラクタム留出液を回収した。回収した留出液をエバポレーターで濃縮し得られたε-カプロラクタムを再重合してケミカルリサイクルポリアミド6を得た。ポリアミド6(a-2)の相対粘度は、2.7、融点は221℃であった。
[Polyamide 6 (a-1) newly polymerized from petrochemical-derived raw materials]
As the polyamide 6 (a-1) newly polymerized from petrochemical-derived raw materials, polyamide 6 having a relative viscosity of 2.8 and a melting point of 220° C. manufactured by Toyobo Co., Ltd. was used.
[Production of chemically recycled polyamide 6 (a-2)]
The polyamide 6 fibers recovered from the waste materials and a 75% by mass aqueous phosphoric acid solution as a depolymerization catalyst were charged into a depolymerization apparatus and heated to 260°C under a nitrogen atmosphere. The reaction was started while blowing superheated steam into the depolymerization apparatus, and the ε-caprolactam and steam continuously distilled from the depolymerization apparatus were cooled to recover an ε-caprolactam distillate. The recovered distillate was concentrated with an evaporator, and the resulting ε-caprolactam was repolymerized to obtain chemically recycled polyamide 6. The relative viscosity of polyamide 6 (a-2) was 2.7, and the melting point was 221°C.

[メカニカルリサイクルしたポリアミド6(a-3)の製造]
後述する実施例1で示した方法により得られた延伸フィルムから出た規格外フィルムおよび切断端材(耳トリム)として発生した屑材を回収・粉砕し、シリンダー温度270℃の押出機で混練り、ペレット化させた後、100℃、減圧下で乾燥してメカニカルリサイクルしたポリアミド6を得た。ポリアミド6(a-3)の相対粘度は2.6、融点は221℃であった。
[Production of mechanically recycled polyamide 6 (a-3)]
Off-standard films and scraps generated as cut ends (edge trims) from stretched films obtained by the method shown in Example 1 described later were collected and pulverized, kneaded in an extruder with a cylinder temperature of 270°C, pelletized, and then dried at 100°C under reduced pressure to obtain mechanically recycled polyamide 6. Polyamide 6 (a-3) had a relative viscosity of 2.6 and a melting point of 221°C.

(実施例1)
押出機1台と380mm巾の単層Tダイよりなる装置を使用し、Tダイから下記の樹脂組成物の溶融樹脂をフィルム状に押出し、20℃に温調した冷却ロールにキャストし静電密着させて厚み200μmの未延伸フィルムを得た。
樹脂組成物はポリアミドA(ポリアミド6、東洋紡株式会社製、相対粘度2.8、融点220℃)85質量部、及びポリアミドBが5.0質量部、多孔質シリカ微粒子(富士シリシア化学株式会社製、平均粒子径2.0μm、細孔容積1.6ml/g)0.45質量部及び脂肪酸ビスアマイド(共栄社化学株式会社製エチエンビスステアリン酸アミド)0.15質量部からなるポリアミド樹脂組成物である。
なお、二軸延伸ポリアミドフィルムの厚みは、合計厚みが15μmになるように押出し機の吐出量を調整した。
得られた未延伸フィルムを、ロール式延伸機に導き、ロールの周速差を利用して、80℃でMD方向に1.73倍延伸した後、70℃でさらに1.85倍延伸した。引き続き、連続的にテンター式延伸機に導き、110℃で予熱した後、TD方向に120℃で1.2倍、130℃で1.7倍、160℃で2.0倍延伸して、218℃で熱固定処理した後、218℃で7%緩和処理を行い、ついで無機薄膜層を積層する側の表面をコロナ放電処理してフィルムをロール状に巻き取った後スリットし、400mmの幅のフィルムロールを得た。
Example 1
Using an apparatus consisting of one extruder and a 380 mm wide single layer T-die, a molten resin of the following resin composition was extruded from the T-die into a film, which was then cast onto a cooling roll whose temperature was controlled at 20°C and electrostatically adhered to obtain an unstretched film having a thickness of 200 µm.
The resin composition is a polyamide resin composition consisting of 85 parts by mass of polyamide A (polyamide 6, manufactured by Toyobo Co., Ltd., relative viscosity 2.8, melting point 220°C), 5.0 parts by mass of polyamide B, 0.45 parts by mass of porous silica fine particles (manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd., average particle size 2.0 μm, pore volume 1.6 ml/g), and 0.15 parts by mass of fatty acid bisamide (ethylene bisstearic acid amide, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.).
The extrusion rate of the extruder was adjusted so that the biaxially oriented polyamide film had a total thickness of 15 μm.
The unstretched film obtained was introduced into a roll-type stretching machine, and by utilizing the difference in peripheral speed of the rolls, it was stretched 1.73 times in the MD direction at 80° C., and then further stretched 1.85 times at 70° C. Then, it was continuously introduced into a tenter-type stretching machine, preheated at 110° C., and then stretched 1.2 times in the TD direction at 120° C., 1.7 times at 130° C., and 2.0 times at 160° C., heat-set at 218° C., and then relaxed by 7% at 218° C., and then the surface on the side on which the inorganic thin film layer was to be laminated was corona discharge-treated, and the film was wound into a roll and slit to obtain a film roll having a width of 400 mm.

スリットしたフィルムに無機薄膜層として二酸化ケイ素と酸化アルミニウムの複合酸化物層を電子ビーム蒸着法で形成した。蒸着源としては、3mm~5mm程度の粒子状SiO(純度99.9%)とA1(純度99.9%)とを用いた。このようにして得られたフィルム(無機薄膜層/接着層含有フィルム)における無機薄膜層(SiO/A1複合酸化物層)の膜厚は13nmであった。またこの複合酸化物層の組成は、SiO/A1(質量比)=60/40であった。
A composite oxide layer of silicon dioxide and aluminum oxide was formed as an inorganic thin film layer on the slit film by electron beam deposition. Particulate SiO 2 (purity 99.9%) and Al 2 O 3 (purity 99.9%) of about 3 mm to 5 mm were used as deposition sources. The inorganic thin film layer (SiO 2 /A1 2 O 3 composite oxide layer) in the film thus obtained (inorganic thin film layer/adhesive layer-containing film) had a thickness of 13 nm. The composition of this composite oxide layer was SiO 2 /A1 2 O 3 (mass ratio) = 60/40.

更にワイヤーバーコート法によって、上記の蒸着で形成された無機薄膜層上にメタキシリレン基含有ウレタン樹脂のディスパージョン(三井化学社製「タケラック(登録商標)WPB341」;固形分30%)からなる水/アルコール系塗工液を塗布し、200℃で15秒乾燥させ、保護層を積層した。乾燥後の塗布量は固形分として0.19g/mであった。
以上のようにして、二軸延伸ポリアミドフィルム/無機薄膜層/保護層の順に積層されたガスバリア性ポリアミドフィルムを作製した。
Furthermore, a water/alcohol-based coating liquid consisting of a dispersion of a metaxylylene group-containing urethane resin ("Takelac (registered trademark) WPB341" manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.; solid content 30%) was applied by wire bar coating method onto the inorganic thin film layer formed by the above vapor deposition, and dried at 200°C for 15 seconds to laminate a protective layer. The coating amount after drying was 0.19 g/ m2 in terms of solid content.
In this manner, a gas barrier polyamide film having a biaxially oriented polyamide film, an inorganic thin film layer and a protective layer laminated in this order was produced.

(実施例2~7)
ポリアミド樹脂組成物、延伸倍率、熱固定温度などの製膜条件を表2のように変更した以外は、実施例1と同様の方法でガスバリア性ポリアミドフィルムを得た。得られたガスバリア性ポリアミドフィルムの評価結果を表2に示した。
(Examples 2 to 7)
A gas barrier polyamide film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the film-forming conditions such as the polyamide resin composition, the stretching ratio, and the heat setting temperature were changed as shown in Table 2. The evaluation results of the obtained gas barrier polyamide film are shown in Table 2.

ただし実施例7においては、無機薄膜層として以下の方法で酸化アルミニウムからなる無機薄膜層を積層した。
フィルムを連続式真空蒸着機の巻出し側にセットし、連続式真空蒸着機を10-4Torr以下に減圧し、冷却金属ドラムを介して走行させ、冷却ドラムの下部よりアルミナ製るつぼに純度99.99%の金属アルミニウムを装填し、金属アルミニウムを加熱蒸発させ、その蒸気中に酸素を供給し酸化反応させながらフィルム上に付着堆積させ、厚さ30nmの酸化アルミニウム膜を形成した。
In Example 7, however, an inorganic thin film layer made of aluminum oxide was laminated as the inorganic thin film layer by the following method.
The film was set on the unwinding side of a continuous vacuum deposition machine, the continuous vacuum deposition machine was depressurized to 10 −4 Torr or less, and the machine was run over a cooled metal drum. Aluminum metal with a purity of 99.99% was loaded into an alumina crucible from the bottom of the cooling drum, and the aluminum metal was heated and evaporated. Oxygen was supplied into the vapor to cause an oxidation reaction, which caused the aluminum metal to adhere and accumulate on the film, forming an aluminum oxide film with a thickness of 30 nm.

(実施例8)
実施例8においては、以下の同時二軸延伸方法を用いてガスバリア性ポリアミドフィルムを得た。
押出機1台と380mm巾の単層Tダイよりなる装置を使用し、Tダイから実施例4と同じ樹脂組成物の溶融樹脂をフィルム状に押出し、20℃に温調した冷却ロールにキャストし静電密着させて厚み160μmのシートを得た。得られたシートを50℃に調整した温水槽に送り2分間の浸水処理を施して水分率約4%に調整した。このシートの幅方向の端部をテンター式同時二軸延伸機のクリップに保持させ、180℃で縦横両軸方向に3.3倍に延伸した後、210℃で熱固定処理し、さらに210℃で5%横方向に緩和処理を行い、ついで無機薄膜層を積層する側の表面をコロナ放電処理してフィルムをロール状に巻き取った後スリットし、400mmの幅のフィルムロールを得た。
(Example 8)
In Example 8, a gas barrier polyamide film was obtained using the following simultaneous biaxial stretching method.
Using an apparatus consisting of one extruder and a single-layer T-die with a width of 380 mm, the molten resin of the same resin composition as in Example 4 was extruded from the T-die into a film shape, cast onto a cooling roll adjusted to 20°C, and electrostatically adhered to obtain a sheet with a thickness of 160 μm. The obtained sheet was sent to a hot water bath adjusted to 50°C and subjected to a water immersion treatment for 2 minutes to adjust the moisture content to about 4%. The end of the width direction of this sheet was held by the clip of a tenter-type simultaneous biaxial stretching machine, stretched 3.3 times in both the longitudinal and transverse directions at 180°C, heat-set at 210°C, and further relaxed in the transverse direction by 5% at 210°C. Then, the surface on the side on which the inorganic thin film layer was laminated was corona discharge-treated, and the film was wound into a roll shape and slit to obtain a film roll with a width of 400 mm.

(比較例1)
ポリアミド樹脂組成物、延伸倍率、熱固定温度などの製膜条件を表2のように変更した以外は、実施例1と同様の方法で、石油化学由来の原料から新たに重合したポリアミド6(a-1)のみを原料として使用した無機薄膜層を持たない二軸延伸ポリアミドフィルムを得た。
(Comparative Example 1)
A biaxially oriented polyamide film without an inorganic thin film layer was obtained using only polyamide 6(a-1) newly polymerized from petrochemical raw materials in the same manner as in Example 1, except that the film-forming conditions such as the polyamide resin composition, the stretching ratio, and the heat setting temperature were changed as shown in Table 2.

表2に示したとおり、実施例に示したケミカルリサイクルしたポリアミド6(a-2)を使用したガスバリア性ポリアミドフィルムまたはケミカルリサイクルしたポリアミド6(a-2)とメカニカルリサイクルしたポリアミド6(a-3)を使用したガスバリア性ポリアミドフィルムは、耐衝撃性や突刺し強度、耐屈曲ピンホール性、ガスバリア性のいずれの特性も良好であり、ガスバリア性が要求される包装用フィルムとして優れていた。
一方、比較例1のリサイクルしていない石油化学由来の原料から新たに重合したポリアミド6(a-1)のみを原料として使用した無機薄膜層を持たない二軸延伸ポリアミドフィルムは、実施例と同等の衝撃強度や突刺し強度を持った二軸延伸ポリアミドフィルムを得ることができたが、酸素透過度が高くガスバリア性が要求される包装用フィルムには適していなかった。
As shown in Table 2, the gas barrier polyamide films using the chemically recycled polyamide 6 (a-2) shown in the Examples or the gas barrier polyamide films using the chemically recycled polyamide 6 (a-2) and the mechanically recycled polyamide 6 (a-3) had good properties such as impact resistance, puncture strength, bending pinhole resistance, and gas barrier properties, and were excellent as packaging films requiring gas barrier properties.
On the other hand, in Comparative Example 1, a biaxially oriented polyamide film without an inorganic thin film layer was obtained using only polyamide 6 (a-1) newly polymerized from non-recycled petrochemical-derived raw materials as the raw material. Although a biaxially oriented polyamide film having impact strength and puncture strength equivalent to those of the Examples was obtained, it was not suitable for use as a packaging film, which requires high oxygen permeability and gas barrier properties.

(実施例9)
押出機2台と380mm巾の共押出Tダイよりなる装置を使用し、フィードブロック法でB層/A層/B層の構成で積層してTダイから溶融樹脂をフィルム状に押出し、20℃に温調した冷却ロールにキャストし静電密着させて厚み200μmの未延伸フィルムを得た。
A層とB層の樹脂組成物は以下のとおりである。
A層を構成する樹脂組成物:ポリアミド樹脂(a-1)としてポリアミド6(東洋紡株式会社製、相対粘度2.8、融点220℃)95質量部、及びポリアミド樹脂(a-2)5質量部からなるポリアミド樹脂組成物。
B層を構成する樹脂組成物:ポリアミド樹脂(a-1)としてポリアミド6(東洋紡株式会社製、相対粘度2.8、融点220℃)95質量部、及びポリアミド樹脂(a-2)5.0質量部、多孔質シリカ微粒子(富士シリシア化学株式会社製、平均粒子径2.0μm、細孔容積1.6ml/g)0.45質量部及び脂肪酸ビスアマイド(共栄社化学株式会社製エチエンビスステアリン酸アミド)0.15質量部からなる樹脂組成物。
Example 9
Using an apparatus consisting of two extruders and a 380 mm wide co-extrusion T-die, the layers were laminated in a B layer/A layer/B layer configuration using the feed block method, and the molten resin was extruded from the T-die into a film. This was then cast onto a cooling roll whose temperature was controlled at 20°C and electrostatically adhered to obtain an unstretched film with a thickness of 200 μm.
The resin compositions of layers A and B are as follows.
Resin composition constituting layer A: a polyamide resin composition consisting of 95 parts by mass of polyamide 6 (manufactured by Toyobo Co., Ltd., relative viscosity 2.8, melting point 220°C) as polyamide resin (a-1) and 5 parts by mass of polyamide resin (a-2).
Resin composition constituting layer B: A resin composition consisting of 95 parts by mass of polyamide 6 (manufactured by Toyobo Co., Ltd., relative viscosity 2.8, melting point 220°C) as polyamide resin (a-1), 5.0 parts by mass of polyamide resin (a-2), 0.45 parts by mass of porous silica fine particles (manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd., average particle size 2.0 μm, pore volume 1.6 ml/g), and 0.15 parts by mass of fatty acid bisamide (ethene bisstearic acid amide, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.).

なお、二軸延伸ポリアミドフィルムの厚みは、合計厚みが15μm、基材層(A層)の厚みが12μm、表裏の表層(B層)の厚みがそれぞれ1.5μmずつになるように、フィードブロックの構成と押出し機の吐出量を調整した。
得られた未延伸フィルムを、ロール式延伸機に導き、ロールの周速差を利用して、80℃でMD方向に1.73倍延伸した後、70℃でさらに1.85倍延伸した。引き続き、この一軸延伸フィルムにロールコーターで下記の塗布液(A)を塗布した後、70℃の温風で乾燥させつつ、連続的にテンター式延伸機に導き、110℃で予熱した後、TD方向に120℃で1.2倍、130℃で1.7倍、160℃で2.0倍延伸して、218℃で熱固定処理した後、218℃で7%緩和処理を行い、ついで無機薄膜層を積層する側の表面をコロナ放電処理してフィルムをロール状に巻き取った後スリットし、400mmの幅のフィルムロールを得た。
The feed block configuration and the extrusion rate of the extruder were adjusted so that the biaxially oriented polyamide film had a total thickness of 15 μm, a thickness of the base layer (A layer) of 12 μm, and a thickness of each of the front and back surface layers (B layer) of 1.5 μm.
The obtained unstretched film was introduced into a roll-type stretching machine, and by utilizing the difference in peripheral speed of the rolls, it was stretched 1.73 times in the MD direction at 80° C., and then further stretched 1.85 times at 70° C. Subsequently, the following coating solution (A) was applied to this uniaxially stretched film by a roll coater, and then it was continuously introduced into a tenter-type stretching machine while drying with hot air at 70° C., and after preheating at 110° C., it was stretched 1.2 times at 120° C., 1.7 times at 130° C., and 2.0 times at 160° C. in the TD direction, heat-set at 218° C., and then relaxed by 7% at 218° C., and then the surface on the side on which the inorganic thin film layer was to be laminated was corona discharge-treated, and the film was wound into a roll and slit to obtain a film roll having a width of 400 mm.

スリットしたフィルムに実施例1と同様に無機薄膜層と保護層を積層し、二軸延伸ポリアミドフィルム/無機薄膜層/保護層の順に積層されたガスバリア性ポリアミドフィルムを作製した。 An inorganic thin film layer and a protective layer were laminated on the slit film in the same manner as in Example 1, producing a gas barrier polyamide film laminated in the order of biaxially oriented polyamide film/inorganic thin film layer/protective layer.

(実施例10~17)
ポリアミド樹脂組成物、延伸倍率、熱固定温度などの製膜条件を表3のように変更した以外は、実施例9と同様の方法でガスバリア性ポリアミドフィルムを得た。得られたガスバリア性ポリアミドフィルムの評価結果を表3に示した。
ただし、実施例16においては、無機薄膜層として実施例7と同じく酸化アルミニウム薄膜層を積層した。
また、実施例17においては、実施例8と同じく同時二軸延伸法を用いて、ガスバリア性ポリアミドフィルムを得た。
(Examples 10 to 17)
A gas barrier polyamide film was obtained in the same manner as in Example 9, except that the film-forming conditions such as the polyamide resin composition, the stretching ratio, and the heat setting temperature were changed as shown in Table 3. The evaluation results of the obtained gas barrier polyamide film are shown in Table 3.
However, in Example 16, an aluminum oxide thin film layer was laminated as the inorganic thin film layer, as in Example 7.
In Example 17, a gas barrier polyamide film was obtained by using the simultaneous biaxial stretching method as in Example 8.

(比較例1)
ポリアミド樹脂組成物、延伸倍率、熱固定温度などの製膜条件を表3のように変更した以外は、実施例1と同様の方法で、石油化学由来の原料から新たに重合したポリアミド6(a-1)のみを原料として使用した無機薄膜層を持たない二軸延伸ポリアミドフィルムを得た。
(Comparative Example 1)
A biaxially oriented polyamide film without an inorganic thin film layer was obtained using only polyamide 6(a-1) newly polymerized from petrochemical-derived raw materials in the same manner as in Example 1, except that the film-forming conditions such as the polyamide resin composition, the stretching ratio, and the heat setting temperature were changed as shown in Table 3.

(参考例1、2)
ポリアミド樹脂組成物、延伸倍率、熱固定温度などの製膜条件を表3のように変更した以外は、実施例9と同様の方法で、表面層(B層)にメカニカルリサイクルしたポリアミド6(a-3)を多く配合したガスバリア性ポリアミドフィルムを得た。得られたガスバリア性ポリアミドフィルムの評価結果を表3に示した。
(Reference Examples 1 and 2)
A gas barrier polyamide film containing a large amount of mechanically recycled polyamide 6 (a-3) in the surface layer (B layer) was obtained in the same manner as in Example 9, except that the film-forming conditions such as the polyamide resin composition, the stretching ratio, and the heat setting temperature were changed as shown in Table 3. The evaluation results of the obtained gas barrier polyamide film are shown in Table 3.

表3に示したとおり、実施例に示したケミカルリサイクルしたポリアミド6(a-2)を使用したガスバリア性ポリアミドフィルムまたはケミカルリサイクルしたポリアミド6(a-2)とメカニカルリサイクルしたポリアミド6(a-3)を使用したガスバリア性ポリアミドフィルムは、耐衝撃性や突刺し強度、耐屈曲ピンホール性、ガスバリア性のいずれの特性も良好であり、ガスバリア性が要求される包装用フィルムとして優れていた。
一方、比較例2のリサイクルしていない石油化学由来の原料から新たに重合したポリアミド6(a-1)のみを原料として使用した無機薄膜層を持たない二軸延伸ポリアミドフィルムは、実施例と同等の衝撃強度や突刺し強度を持った二軸延伸ポリアミドフィルムを得ることができたが、酸素透過度が高くガスバリア性が要求される包装用フィルムには適していなかった。
As shown in Table 3, the gas barrier polyamide films using the chemically recycled polyamide 6 (a-2) shown in the Examples or the gas barrier polyamide films using the chemically recycled polyamide 6 (a-2) and the mechanically recycled polyamide 6 (a-3) had good properties such as impact resistance, puncture strength, bending pinhole resistance, and gas barrier properties, and were excellent as packaging films requiring gas barrier properties.
On the other hand, in Comparative Example 2, a biaxially oriented polyamide film without an inorganic thin film layer was obtained using only polyamide 6 (a-1) newly polymerized from non-recycled petrochemical-derived raw materials as the raw material. Although a biaxially oriented polyamide film having impact strength and puncture strength equivalent to those of the Examples was obtained, it was not suitable for use as a packaging film, which requires high oxygen permeability and gas barrier properties.

なお、参考例1及び2では表面層(B層)にメカニカルリサイクルしたポリアミド6を多く使用した。この場合、実施例8~15の表面層のメカニカルリサイクルしたポリアミド6の含有量が10質量%以下のフィルムに比べて、透明性(ヘイズ)と耐摩擦ピンホール性が劣っていた。 In addition, in Reference Examples 1 and 2, a large amount of mechanically recycled polyamide 6 was used in the surface layer (layer B). In this case, the transparency (haze) and abrasion pinhole resistance were inferior to the films in Examples 8 to 15, in which the content of mechanically recycled polyamide 6 in the surface layer was 10 mass % or less.

(施例18)
実施例1-2で作製したガスバリア性ポリアミドフィルムを使用して以下の(1)~(9)の構成の積層体を作製し、(1)~(9)の積層体を使用して三方シールタイプ及びピロータイプの包装袋を作製した。外観が良好で落下衝撃テストで破れにくい包装袋を作製できた。
(1)ガスバリア性ポリアミドフィルム層/印刷層/ポリウレタン系接着剤層/直鎖状低密度ポリエチレンフィルムシーラント層。
(2)ガスバリア性ポリアミドフィルム層/印刷層/ポリウレタン系接着剤層/無延伸ポリプロピレンフィルムシーラント層。
(3)二軸延伸PETフィルム層/印刷層/ポリウレタン系接着剤層/ガスバリア性ポリアミドフィルム層/ポリウレタン系接着剤層/無延伸ポリプロピレンフィルムシーラント層。
(4)二軸延伸PETフィルム層/印刷層/ポリウレタン系接着剤層/ガスバリア性ポリアミドフィルム層/ポリウレタン系接着剤層/直鎖状低密度ポリエチレンフィルムシーラント層。
(Example 18)
The gas barrier polyamide film produced in Example 1-2 was used to produce laminates having the following configurations (1) to (9), and the laminates (1) to (9) were used to produce three-side sealed and pillow-type packaging bags. The packaging bags had good appearance and were resistant to tearing in a drop impact test.
(1) Gas barrier polyamide film layer/printed layer/polyurethane adhesive layer/linear low density polyethylene film sealant layer.
(2) Gas barrier polyamide film layer/printed layer/polyurethane adhesive layer/unoriented polypropylene film sealant layer.
(3) Biaxially oriented PET film layer/printed layer/polyurethane-based adhesive layer/gas barrier polyamide film layer/polyurethane-based adhesive layer/unoriented polypropylene film sealant layer.
(4) Biaxially oriented PET film layer/printed layer/polyurethane adhesive layer/gas barrier polyamide film layer/polyurethane adhesive layer/linear low density polyethylene film sealant layer.

本発明のガスバリア性ポリアミドフィルムは、耐衝撃性及び耐屈曲ピンホール性と耐摩擦ピンホール性が同時に優れ、かつガスバリア性が優れているので、各種のガスバリア性必要とされる食品包装及び工業用の包装材料として好適に用いることができる。更に、廃棄ポリアミド製品からケミカルリサイクルしたポリアミド6を用いたることで、環境負荷を低減に寄与することができる。 The gas barrier polyamide film of the present invention has excellent impact resistance, bending pinhole resistance, and abrasion pinhole resistance, and also has excellent gas barrier properties, so it can be suitably used as a food packaging material and an industrial packaging material that require various gas barrier properties. Furthermore, by using polyamide 6 that is chemically recycled from waste polyamide products, it can contribute to reducing the environmental load.

Claims (7)

ポリアミド6を70質量%以上含むポリアミド樹脂からなり、前記ポリアミド6のうち4~90質量%がケミカルリサイクルしたポリアミド6であり、メカニカルリサイクルしたポリアミド6を5~60質量%含む二軸延伸ポリアミドフィルムの少なくとも片面に無機薄膜層が積層されたことを特徴とするガスバリア性ポリアミドフィルムの製造方法 A method for producing a gas barrier polyamide film, comprising: a biaxially oriented polyamide film made of a polyamide resin containing 70% by mass or more of polyamide 6, wherein 4 to 90% by mass of said polyamide 6 is chemically recycled polyamide 6; and a method for producing a gas barrier polyamide film, comprising laminating an inorganic thin film layer on at least one side of said biaxially oriented polyamide film containing 5 to 60% by mass of mechanically recycled polyamide 6. 基材層(A層)の少なくとも片面に表面層(B層)が積層された二軸延伸ポリアミドフィルムの少なくとも片面に無機薄膜層が積層されたガスバリア性ポリアミドフィルムの製造方法であって、基材層(A層)はポリアミド6を100質量%含むポリアミド樹脂からなり、前記ポリアミド6のうち5~90質量%がケミカルリサイクルしたポリアミド6であり、メカニカルリサイクルしたポリアミド6を5~80質量%含む二軸延伸ポリアミドフィルムであり、B層がポリアミド6を70質量%以上含み、メカニカルリサイクルしたポリアミド6を0~30質量%含むポリアミド樹脂組成物からなることを特徴とするガスバリア性ポリアミドフィルムの製造方法 A method for producing a gas barrier polyamide film, comprising laminating an inorganic thin film layer on at least one side of a biaxially oriented polyamide film having a surface layer (B layer) laminated on at least one side of a base layer (A layer), the base layer (A layer) being made of a polyamide resin containing 100% by mass of polyamide 6, of which 5 to 90% by mass is chemically recycled polyamide 6, the biaxially oriented polyamide film containing 5 to 80% by mass of mechanically recycled polyamide 6, and the B layer being made of a polyamide resin composition containing 70% by mass or more of polyamide 6 and 0 to 30% by mass of mechanically recycled polyamide 6. ガスバリア性ポリアミドフィルムが下記の(a)~(c)を満足することを特徴とする前記請求項1又は2に記載のガスバリア性ポリアミドフィルムの製造方法
(a)突刺し強度が0.65N/μm以上、
(b)衝撃強度が0.9J/15μm以上。
(c)耐摩擦ピンホールテストでピンホール発生までの距離が2900cm以上。
3. The method for producing a gas barrier polyamide film according to claim 1, wherein the gas barrier polyamide film satisfies the following (a) to (c):
(a) a puncture strength of 0.65 N/μm or more;
(b) Impact strength is 0.9 J/15 μm or more.
(c) In the abrasion pinhole resistance test, the distance until pinholes appear is 2,900 cm or more.
ガスバリア性ポリアミドフィルムが下記の(d)及び(e)を満足することを特徴とする前記請求項1~いずれか1項に記載のガスバリア性ポリアミドフィルムの製造方法
(d)ヘイズが2.6%以下、
(e)動摩擦係数が1.0以下。
The method for producing a gas barrier polyamide film according to any one of claims 1 to 3 , wherein the gas barrier polyamide film satisfies the following (d) and (e):
(d) haze of 2.6% or less;
(e) The coefficient of kinetic friction is 1.0 or less.
ポリエチレン系シーラントフィルムと貼り合わせた後の耐水ラミネート強度が4.0N/15mm以上であることを特徴とする請求項1~いずれか1項に記載のガスバリア性ポリアミドフィルムの製造方法 5. The method for producing a gas barrier polyamide film according to claim 1, wherein the gas barrier polyamide film has a water-resistant laminate strength of 4.0 N/15 mm or more after being laminated with a polyethylene sealant film. 請求項1~いずれか1項に記載のガスバリア性ポリアミドフィルムの製造方法によって得られたガスバリア性ポリアミドフィルムにシーラントフィルムを積層した積層フィルムの製造方法 A method for producing a laminated film, comprising laminating a sealant film on the gas barrier polyamide film obtained by the method for producing a gas barrier polyamide film according to any one of claims 1 to 5 . 請求項に記載された積層フィルムの製造方法によって得られた積層フィルムを用いた包装袋の製造方法 A method for producing a packaging bag using the laminated film obtained by the method for producing a laminated film according to claim 6 .
JP2020143699A 2020-08-27 2020-08-27 Method for producing gas barrier polyamide film Active JP7543779B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020143699A JP7543779B2 (en) 2020-08-27 2020-08-27 Method for producing gas barrier polyamide film
JP2024122137A JP2024149534A (en) 2020-08-27 2024-07-29 Method for producing gas barrier polyamide film
JP2024122136A JP2024149533A (en) 2020-08-27 2024-07-29 Method for producing gas barrier polyamide film for food packaging

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020143699A JP7543779B2 (en) 2020-08-27 2020-08-27 Method for producing gas barrier polyamide film

Related Child Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2024122137A Division JP2024149534A (en) 2020-08-27 2024-07-29 Method for producing gas barrier polyamide film
JP2024122136A Division JP2024149533A (en) 2020-08-27 2024-07-29 Method for producing gas barrier polyamide film for food packaging

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2022038958A JP2022038958A (en) 2022-03-10
JP7543779B2 true JP7543779B2 (en) 2024-09-03

Family

ID=80498217

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020143699A Active JP7543779B2 (en) 2020-08-27 2020-08-27 Method for producing gas barrier polyamide film
JP2024122136A Pending JP2024149533A (en) 2020-08-27 2024-07-29 Method for producing gas barrier polyamide film for food packaging
JP2024122137A Pending JP2024149534A (en) 2020-08-27 2024-07-29 Method for producing gas barrier polyamide film

Family Applications After (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2024122136A Pending JP2024149533A (en) 2020-08-27 2024-07-29 Method for producing gas barrier polyamide film for food packaging
JP2024122137A Pending JP2024149534A (en) 2020-08-27 2024-07-29 Method for producing gas barrier polyamide film

Country Status (1)

Country Link
JP (3) JP7543779B2 (en)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003251772A (en) 2002-02-28 2003-09-09 Toyobo Co Ltd Polyamide laminated film
JP2005271467A (en) 2004-03-25 2005-10-06 Mitsubishi Plastics Ind Ltd Gas-barrier laminate
JP2010253713A (en) 2009-04-22 2010-11-11 Toyobo Co Ltd Laminated biaxially oriented polyamide film
WO2016067727A1 (en) 2014-10-30 2016-05-06 東洋紡株式会社 Gas barrier laminated film and packaging bag
WO2019065161A1 (en) 2017-09-28 2019-04-04 東洋紡株式会社 Laminated stretched polyamide film
JP2020121496A (en) 2019-01-31 2020-08-13 東洋紡株式会社 Easily adhesive polyamide film

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003251772A (en) 2002-02-28 2003-09-09 Toyobo Co Ltd Polyamide laminated film
JP2005271467A (en) 2004-03-25 2005-10-06 Mitsubishi Plastics Ind Ltd Gas-barrier laminate
JP2010253713A (en) 2009-04-22 2010-11-11 Toyobo Co Ltd Laminated biaxially oriented polyamide film
WO2016067727A1 (en) 2014-10-30 2016-05-06 東洋紡株式会社 Gas barrier laminated film and packaging bag
WO2019065161A1 (en) 2017-09-28 2019-04-04 東洋紡株式会社 Laminated stretched polyamide film
JP2020121496A (en) 2019-01-31 2020-08-13 東洋紡株式会社 Easily adhesive polyamide film

Also Published As

Publication number Publication date
JP2024149533A (en) 2024-10-18
JP2024149534A (en) 2024-10-18
JP2022038958A (en) 2022-03-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7444056B2 (en) Biaxially oriented polyamide film and laminated film
CN115243892B (en) Biaxially stretched polyamide film
WO2021117736A1 (en) Biaxially oriented polyester film and production method therefor
JP7631806B2 (en) Gas barrier polyamide film
JP7543779B2 (en) Method for producing gas barrier polyamide film
WO2021199461A1 (en) Biaxially oriented polyamide film
EP4461506A1 (en) Biaxially stretched polyamide film roll
JP7567907B2 (en) Method for producing biaxially oriented polyamide film
TWI868331B (en) Biaxially oriented polyamide films, laminated films and packaging bags
CN117615909A (en) Laminated film and packaging bag
JP7521331B2 (en) Method for producing highly adhesive polyamide film
TWI872224B (en) Biaxially oriented polyamide film, polyamide film, laminated film and packaging bag
WO2023157930A1 (en) Polyamide film roll
US20240359386A1 (en) Laminated film
WO2024157875A1 (en) Biaxially stretched polyamide film, and packaging material
JP2004025484A (en) Easy tear film excellent in gas barrier performance
CN113631368A (en) Gas barrier polyamide film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20230721

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20240321

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20240402

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20240412

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20240723

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240805

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7543779

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150