JP7513538B2 - 光走査装置および当該光走査装置を備える画像形成装置ならびに光走査方法 - Google Patents

Description

本発明は、電子写真方式の画像形成装置に適用される、光走査装置および当該光走査装置を備える画像形成装置ならびに光走査方法に関する。

電子写真方式の画像形成装置においては、画像信号に基づく画像を用紙などの画像記録媒体に形成するための画像形成処理が行われるが、その一過程として、潜像担持体の表面に当該画像信号に基づく潜像を形成するための露光処理が行われる。具体的には、光ビームを発する発光素子、たとえば当該光ビームとしてレーザ光を発するレーザダイオード、を有する光源が、画像信号に基づいて駆動される。この光源から発せられるレーザ光は、適宜の光学系要素を介して、潜像担持体の表面、たとえば概略円筒状の感光体ドラムの表面である感光面に、照射される。ここで、感光体ドラムは、その中心を軸（回転軸）として回転する。これにより、感光体ドラムの回転方向において、当該感光体ドラムの感光面に対するレーザ光の照射位置が移動され、言わば走査される。併せて、光学系要素の１つである偏向手段によって、たとえばポリゴンミラーによって、感光体ドラムの回転軸に沿う方向においても、当該感光体ドラムの感光面に対するレーザ光の照射位置が移動され、つまり走査される。また、感光体ドラムの感光面には、予め、詳しくは露光処理の前の過程として行われる帯電処理によって、静電気が付与される。この結果、感光体ドラムの感光面に画像信号に基づく２次元の静電気像である潜像が形成される。なお、感光体ドラムの回転軸に沿う方向は、主走査方向と呼ばれる。そして、感光体ドラムの回転方向は、副走査方向と呼ばれる。

このような画像形成装置において、とりわけ露光処理を担う露光装置において、詳しくは光ビームを主走査方向および副走査方向のそれぞれに走査させる光走査装置において、当該露光処理により形成される潜像の解像度を切り替えることのできる技術が、いくつか提案されている。たとえば、特許文献１には、光源と偏向手段との間の光路に解像度切替用の光学素子が出し入れされることによって、第一の解像度と第二の解像度との切替が行われる技術が、開示されている。

特開２００６－１８０７８号公報

しかしながら、特許文献１に開示された技術では、前述の解像度切替用の光学素子や、光源と偏向手段との間の光路に当該光学素子を出し入れするための駆動装置などが必要であり、その分、光走査装置の構成が複雑かつ高価になる。また、特許文献１には明記されていないが、副走査方向における解像度を上げるには、当該副走査方向における走査速度を低減する必要がある。このように副走査方向における走査速度が低減されると、露光処理の速度が低下し、ひいては当該露光処理を含む画像形成処理の速度、いわゆるプロセス速度が、低下する。

そこで、本発明は、副走査方向における解像度を切り替えることが可能であるとともに、当該解像度を上げることによる露光処理速度の低下の度合を抑制することができ、しかも、これを比較的に簡素かつ廉価な構成で実現することができる、新規な光走査装置および当該光走査装置を備える画像形成装置ならびに光走査方法を提供することを、目的とする。

この目的を達成するために、本発明は、光走査装置に係る第１の発明と、当該光走査装置を備える画像形成装置に係る第２の発明と、光走査方法に係る第３の発明とを含む。

このうちの光走査装置に係る第１の発明は、第１発光素子、第２発光素子および３発光素子を備える。さらに、第１の発明は、偏向手段および発光制御手段を備える。第１発光素子は、第１光ビームを発する。第２発光素子は、第２光ビームを発する。第３発光素子は、第３光ビームを発する。そして、偏向手段は、第１光ビームと第２光ビームと第３光ビームとのそれぞれが潜像担持体の被走査面を主走査方向へ走査するように、当該第１光ビームと第２光ビームと第３光ビームとのそれぞれを偏向する。さらに、発光制御手段は、第１発光素子と第２発光素子と第３発光素子とのそれぞれの動作を個別に有効化しまたは無効化する。ここで、潜像担持体の被走査面の副走査方向への移動速度は、第１速度と、当該第１速度よりも低速である第２速度と、のいずれかに選択的に制御される。そして、第１発光素子と第２発光素子とは、潜像担持体の被走査面上の第１光ビームの走査位置と第２光ビームの走査位置との副走査方向における相互間距離が、第１速度に応じた第１距離となるように、配される。併せて、第３発光素子は、潜像担持体の被走査面上の第１光ビームの走査位置と第３光ビームの走査位置との副走査方向における相互間距離が、第２速度に応じた第２距離となるように、配される。加えて、発光制御手段は、潜像担持体の被走査面の副走査方向への移動速度が第１速度であるときに、第１発光素子と第２発光素子とのそれぞれの動作を有効化するとともに、第３発光素子の動作を無効化する。これに対して、潜像担持体の被走査面の副走査方向への移動速度が第２速度であるときには、発光制御手段は、第１発光素子と第３発光素子とのそれぞれの動作を有効化するとともに、第２発光素子の動作を無効化する。

その上で、第１発光素子と第２発光素子と第３発光素子とのうちの２つは、１つの第１光源に設けられる。そして、第１発光素子と第２発光素子と第３発光素子とのうちの残りの１つは、第１光源とは別の第２光源に設けられる。

なお、第１光源と第２光源との一方は、Ｐ波光源であってもよい。そして、第１光源と第２光源との他方は、Ｓ波光源であってもよい。

併せて、第１光源と第２光源とは、主走査方向に沿う仮想平面において、隣接して設けられてもよい。

さらに、光学系手段が、備えられてもよい。この光学系手段は、第１光ビームと第２光ビームと第３光ビームとのうちの第１光源から発せられる第１光源ビームと、当該第１光ビームと第２光ビームと第３光ビームとのうちの第２光源から発せられる第２光源ビームとを、偏向手段へ導く。このような光学系手段は、特性平面手段および案内手段を含む。特性平面手段は、特性平面を有する。この特性平面は、第１光源ビームと第２光源ビームとの一方を透過し、当該第１光源ビームと第２光源ビームとの他方を反射する、という光学的特性を持つ。そして、案内手段は、第１光源ビームと第２光源ビームとが、特性平面手段の特性平面に対して互いに反対側から入射されるとともに、当該特性平面から互いに同じ方向へ出射されるように、第１光源ビームと第２光源ビームとの少なくとも一方を特性平面へ案内する。その上で、特性平面手段の特性平面から出射された第１光源ビームと第２光源ビームとが、偏向手段へ導かれる。

第１の発明の別の構成は、第１発光素子と第２発光素子と第３発光素子とが、それぞれ別個の光源に設けられるものである。

前述の第２速度は、第１速度の１／２であってもよい。この場合、第２距離は、第１距離の１／２とされる。

またこのように、第２速度が第１速度の１／２とされるとともに、第２距離が第１距離の１／２とされる場合には、第１発光素子と前記第２発光素子と前記第３発光素子とは、次のように配されてもよい。すなわち、第１発光素子と第２発光素子と第３発光素子とは、副走査方向における潜像担持体の被走査面上の第３光ビームの走査位置が、当該被走査面上の第１光ビームの走査位置と第２光ビームの走査位置との中間位置となるように、配されてもよい。

本発明のうちの第２の発明に係る画像形成装置は、第１の発明に係る光走査装置を備える。このような画像形成装置としては、コピー機やプリンタ、複合機（ＭＦＰ）などがある。

本発明のうちの第３の発明に係る光走査方法は、偏向ステップおよび発光制御ステップを含む。偏向ステップでは、第１発光素子から発せられる第１光ビームと、第２発光素子から発せられる第２光ビームと、第３発光素子から発せられる第３光ビームと、のそれぞれが潜像担持体の被走査面を主走査方向へ走査するように、当該第１光ビームと第２光ビームと第３光ビームとのそれぞれを偏向する。そして、発光制御ステップでは、第１発光素子と第２発光素子と第３発光素子とのそれぞれの動作を個別に有効化しまたは無効化する。ここで、潜像担持体の被走査面の副走査方向への移動速度は、第１速度と、当該第１速度よりも低速である第２速度と、のいずれかに選択的に制御される。そして、第１発光素子と第２発光素子とは、潜像担持体の被走査面上の第１光ビームの走査位置と第２光ビームの走査位置との副走査方向における相互間距離が、第１速度に応じた第１距離となるように、配される。併せて、第３発光素子は、潜像担持体の被走査面上の第１光ビームの走査位置と第３光ビームの走査位置との副走査方向における相互間距離が、第２速度に応じた第２距離となるように、配される。さらに、発光制御ステップにおいては、潜像担持体の被走査面の副走査方向への移動速度が第１速度であるときに、第１発光素子と第２発光素子とのそれぞれの動作を有効化するとともに、第３発光素子の動作を無効化する。これに対して、潜像担持体の被走査面の副走査方向への移動速度が第２速度であるときには、発光制御ステップにおいて、第１発光素子と第３発光素子とのそれぞれの動作を有効化するとともに、第２発光素子の動作を無効化する。その上で、第１発光素子と第２発光素子と第３発光素子とのうちの２つについては、１つの第１光源に設ける。そして、第１発光素子と第２発光素子と第３発光素子とのうちの残りの１つについては、第１光源とは別の第２光源に設ける。
また、第３の発明の別の構成は、第１発光素子と第２発光素子と第３発光素子とについて、それぞれ別個の光源に設けるものである。

本発明によれば、副走査方向における解像度を切り替えることが可能であるとともに、当該解像度を上げることによる露光処理速度の低下度合を抑制することができ、しかも、これを比較的に簡素かつ廉価な構成で実現することができる。

図１は、本発明の第１実施例に係る複合機の電気的な構成を示すブロック図である。 図２は、第１実施例における感光体ドラムを概略的に示す図である。 図３は、第１実施例における光走査装置の一部分の構成を上方から見た図である。 図４は、第１実施例における光走査装置の一部分の構成を斜め上方から見た図である。 図５は、第１実施例における光走査装置の一部分の構成および感光体ドラムの感光面に対する各レーザ光の照射状態を模式的に示す図である。 図６は、第１実施例における副走査方向の解像度が通常解像度である場合の光走査要領を説明するための図である。 図７は、第１実施例における副走査方向の解像度が高解像度である場合の光走査要領を説明するための図である。 図８は、第１実施例の比較対象である第１比較例における副走査方向の解像度が通常解像度である場合の光走査要領を説明するための図である。 図９は、第１比較例における副走査方向の解像度が高解像度である場合の光走査要領を説明するための図である。 図１０は、第１実施例の別の比較対象である第２比較例における副走査方向の解像度が通常解像度である場合の光走査要領を説明するための図である。 図１１は、第２比較例における副走査方向への走査速度を当該副走査方向の解像度が通常解像度であるときの１／２に低減した場合の光走査要領を説明するための図である。 図１２は、第２比較例における副走査方向の解像度が高解像度である場合の光走査要領を説明するための図である。 図１３は、本発明の第２実施例における光走査装置の一部分の構成および感光体ドラムの感光面に対する各レーザ光の照射状態を模式的に示す図である。 図１４は、本発明の第３実施例における光走査装置の一部分の構成および感光体ドラムの感光面に対する各レーザ光の照射状態を模式的に示す図である。

［第１実施例］
本発明の第１実施例について、図１に示される複合機１０を例に挙げて説明する。

本第１実施例に係る複合機１０は、コピー機能、プリンタ機能、イメージスキャナ機能、ファクス機能などの複数の機能を有する。このため、複合機１０は、画像読取部１２、画像形成部１４、制御部１６、補助記憶部１８、通信部２０および操作表示部２２を備える。これらは、互いに共通のバス３０を介して接続される。

画像読取部１２は、画像読取手段の一例である。すなわち、画像読取部１２は、不図示の原稿の画像を読み取って、当該原稿の画像に応じた２次元の読取画像データを出力する、画像読取処理を担う。このような画像読取部１２は、不図示の原稿が載置される不図示の原稿台を備える。原稿台は、矩形平板状のガラスなどの透明硬質部材により形成される。この原稿台の下方に、不図示の光源、ミラー、レンズ、ラインセンサなどを含む画像読取ユニットと、当該画像読取ユニットによる画像読取位置を移動させるための不図示の駆動機構と、が設けられる。そして、原稿台の上方には、当該原稿台に載置された原稿を押さえるための不図示の原稿押さえカバーが設けられる。なお、原稿押さえカバーには、オプション装置である不図示の自動原稿送り装置（ＡＤＦ）が設けられる場合がある。

画像形成部１４は、画像形成手段の一例である。すなわち、画像形成部１４は、画像読取部１２から出力される読取画像データなどの適宜の画像データに基づく画像を不図示の用紙などのシート状の画像記録媒体に形成する、画像形成処理を担う。この画像形成処理は、公知の電子写真方式により行われる。このため、画像形成部１４は、潜像担持体の一例としての概略円筒状の感光体ドラム１４ａを備える。併せて、画像形成部１４は、露光手段としての露光装置を備え、詳しくは光走査装置１４ｂを含む露光装置を備える。さらに、画像形成部１４は、不図示の帯電手段としての帯電装置、現像手段としての現像装置、転写手段としての転写装置、定着手段としての定着装置、クリーニング手段としてのクリーニング装置、除電手段としての除電装置などを備える。この画像形成部１４による画像形成処理により画像が形成された後の画像記録媒体、言わば印刷物は、不図示の排紙トレイに排出される。なお、図１においては、図示を含む説明の便宜上、感光体ドラム１４ａおよび光走査装置１４ｂが１つずつ記載されているが、これらは（光走査装置１４ｂについては、当該光走査装置１４ｂを含む露光装置は）実際には、カラーの画像形成処理の実現のために、たとえばＣＭＹＫカラーモデルの４色成分に対応して、４つずつ設けられる。また、帯電装置、現像装置、転写装置、定着装置、クリーニング装置、除電装置なども、それぞれ４つずつ設けられる。

制御部１６は、複合機１０の全体的な制御を司る、制御手段の一例である。このため、制御部１６は、制御実行手段としてのコンピュータ、たとえばＣＰＵ１６ａ、を有する。併せて、制御部１６は、ＣＰＵ１６ａが直接的にアクセス可能な主記憶手段としての主記憶部１６ｂを有する。主記憶部１６ｂは、たとえば不図示のＲＯＭおよびＲＡＭを含む。このうちのＲＯＭには、ＣＰＵ１６ａの動作を制御するための制御プログラム、いわゆるファームウェアが、記憶される。そして、ＲＡＭは、ＣＰＵ１６ａが制御プログラムに基づく処理を実行する際の作業領域やバッファ領域などを構成する。

補助記憶部１８は、補助記憶手段の一例である。この補助記憶部１８には、前述の読取画像データなどの種々の画像データを含む種々のデータが適宜に記憶される。このような補助記憶部１８は、たとえば不図示のハードディスクドライブを含む。また、補助記憶部１８は、フラッシュメモリなどの書き換え可能な不揮発性の半導体メモリを含む場合がある。

通信部２０は、通信手段の一例である。この通信部２０は、不図示の通信網と接続されることで、当該通信網を介しての双方向通信を担う。ここで言う通信網としては、ＬＡＮやインターネット、公衆交換電話網などがある。また、ＬＡＮには、無線ＬＡＮ、とりわけＷｉ－Ｆｉ（登録商標）が、含まれる。

操作表示部２２は、いわゆる操作パネルであり、操作受付手段の一例としてのタッチパネル２２ａと、表示手段の一例としてのディスプレイ２２ｂと、を有し、つまりタッチパネル２２ａ付きのディスプレイ２２ｂを有する。すなわち、タッチパネル２２ａは、ほぼ透明な矩形シート状部材であり、ディスプレイ２２ｂは、概略矩形状の表示面を有する。そして、タッチパネル２２ａがディスプレイ２２ｂの表示面に重なるように設けられることで、タッチパネル２２ａ付きのディスプレイ２２ｂが構成される。なお、タッチパネル２２ａは、たとえば静電容量方式のパネルであるが、これに限らず、電磁誘導方式、抵抗膜方式、赤外線方式などの他方式のパネルであってもよい。そして、ディスプレイ２２ｂは、たとえば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）であるが、これに限らず、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイなどの他方式のディスプレイであってもよい。また、操作表示部２２は、タッチパネル２２ａ以外に、不図示の押しボタンスイッチなどの適宜のハードウェアスイッチ手段を有する。併せて、操作表示部２２は、ディスプレイ２２ｂ以外に、不図示の発光ダイオード（ＬＥＤ）などの適宜の発光手段を有する。

さて、本第１実施例に係る複合機１０によれば、とりわけ画像形成部１４によれば、前述の如く電子写真方式による画像形成処理が行われる。すなわち、帯電装置による帯電処理が行われることで、感光体ドラム１４ａの表面である感光面に静電気が付与される。そして、光走査装置１４ｂを含む露光装置による露光処理が行われることで、感光体ドラム１４ａの感光面に画像形成処理に供される画像データに基づく２次元の静電気像である潜像が形成される。さらに、現像装置による現像処理が行われることで、感光体ドラム１４ａの感光面の潜像にトナーが付着して、トナー像が形成される。そして、転写装置による転写処理が行われることで、感光体ドラム１４ａの感光面のトナー像が画像記録媒体に転写される。このトナー像が転写された画像記録媒体に対して、さらに定着装置による定着処理が施されることで、当該トナー像が画像記録媒体に定着される。これにより、画像記録媒体に画像が形成される。その後、クリーニング装置によるクリーニング処理が行われることで、感光体ドラム１４ａの感光面に残留しているトナーが取り除かれる。そして、除電装置による除電処理が行われることで、感光体ドラム１４ａの感光面に残留している静電気が除去される。

ここで、感光体ドラム１４ａは、図２に示されるように、その中心を通る直線１００を軸として回転し、たとえば矢印１１０で示される方向へ回転する。そして、光走査装置１４ｂを含む露光装置による露光処理においては、後述する如く感光体ドラム１４ａの露光面に３つのレーザ光Ｂ１，Ｂ２およびＣＢが照射され、厳密には当該３つのレーザ光Ｂ１，Ｂ２およびＣＢのうちの２つが選択的に照射される。併せて、感光体ドラム１４ａの露光面に対する各レーザ光Ｂ１，Ｂ２およびＣＢの照射位置（レーザスポット）が、感光体ドラム１４ａの回転軸１００に沿う方向へ、たとえば矢印１２０で示される方向へ、一定の速度で移動され、つまり走査される。なお、感光体ドラム１４ａが回転することにより、感光体ドラム１４ａの回転方向１１０においても、感光体ドラム１４ａの露光面に対する各レーザ光Ｂ１，Ｂ２およびＣＢの照射位置が移動され、つまり走査される。この感光体ドラム１４ａの回転軸１００に沿う方向１２０は、主走査方向と定義される。そして、感光体ドラム１４ａの回転方向１１０は、副走査方向と定義される。また、本第１実施例においては、感光体ドラム１４ａの回転軸１００は、たとえば水平方向に沿って延伸しており、つまりはそうなるように感光体ドラム１４ａが設けられる。

光走査装置１４ｂは、副走査方向における潜像の解像度を切り替えることが可能であり、たとえば当該解像度を６００ｄｐｉという通常解像度と、１２００ｄｐｉという高解像度との、２つの解像度に切り替えることが可能である。そして特に、副走査方向における解像度が１２００ｄｐｉであるときの露光処理速度の低下度合を抑制するために、光走査装置１４ｂは、図３および図４に示されるように、２つの光源としての２つのレーザダイオード２０２および２０４を有する。

一方のレーザダイオード、言わば第１レーザダイオード２０２は、後述する如く（図５参照）第１発光素子および第２発光素子という２つの発光素子（発振素子）を有する、２ビーム型のレーザダイオードである。すなわち、第１レーザダイオード２０２は、第１発光素子２０２ａから第１レーザ光Ｂ１を発するとともに、第２発光素子２０２ｂから第２レーザ光Ｂ２を発することが可能であり、つまり２つのレーザ光Ｂ１およびＢ２を発することが可能である。なお、第１レーザダイオード２０２は、たとえばＰ波光源である。ゆえに、第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２は、いずれもＰ波（偏光）のレーザ光である。

これに対して、他方のレーザダイオードである言わば第２レーザダイオード２０４は、後述する如く（図５参照）発光素子２０４ａを１つのみ有する、１ビーム型のレーザダイオードである。この第２レーザダイオード２０４は、たとえばＳ波光源である。すなわち、第２レーザダイオード２０４が有する言わば第３発光素子２０４ａから発せられる第３レーザ光ＣＢは、Ｓ波（偏光）のレーザ光である。

これらの第１レーザダイオード２０２および第２レーザダイオード２０４は、つまり第１発光素子２０２ａ、第２発光素子２０２ｂおよび第３発光素子２０４ａは、不図示のレーザ駆動回路により駆動される。レーザ駆動回路は、画像形成処理に供される画像データに基づいて、第１発光素子２０２ａ、第２発光素子２０２ｂおよび第３発光素子２０４ａを個別に駆動する。

具体的には、たとえば副走査方向における解像度が６００ｄｐｉのときには、つまりはそのように設定されているときには、レーザ駆動回路は、第１発光素子２０２ａおよび第２発光素子２０２ｂのみを駆動対象とし、言わば当該第１発光素子２０２ａおよび第２発光素子２０２ｂそれぞれの動作を有効化する。そして、レーザ駆動回路は、第３発光素子２０４ａを駆動対象とせず、つまり当該第３発光素子２０４ａの動作を無効化する。その上で、レーザ駆動回路は、画像データに含まれるたとえば奇数ライン（行）のデータに基づいて、第１発光素子２０２ａを駆動するとともに、当該画像データに含まれる偶数ラインのデータに基づいて、第２発光素子２０２ｂを駆動する。これにより、第１発光素子２０２ａから画像データの奇数ラインのデータに基づく態様で第１レーザ光Ｂ１が発せられるとともに、第２発光素子２０２ｂから当該画像データの偶数ラインのデータに基づく態様で第２レーザ光Ｂ２が発せられる。これらの第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２は、水平方向に向けて発せられ、つまりはそうなるように第１レーザダイオード２０２が設けられる。なお、第３発光素子２０４ａからは、第３レーザ光ＣＢは発せられない。

これに対して、副走査方向における解像度が１２００ｄｐｉのときには、レーザ駆動回路は、第１発光素子２０２ａおよび第３発光素子２０４ａのみを駆動対象とし、つまり当該第１発光素子２０２ａおよび第３発光素子２０４ａそれぞれの動作を有効化する。そして、レーザ駆動回路は、第２発光素子２０２ｂを駆動対象とせず、つまり当該第２発光素子２０２ｂの動作を無効化する。その上で、レーザ駆動回路は、画像データに含まれるたとえば奇数ラインのデータに基づいて、第１発光素子２０２ａを駆動するとともに、当該画像データに含まれる偶数ラインのデータに基づいて、第３発光素子２０４ａを駆動する。これにより、第１発光素子２０２ａから画像データの奇数ラインのデータに基づく態様で第１レーザ光Ｂ１が発せられるとともに、第３発光素子２０４ａから当該画像データの偶数ラインのデータに基づく態様で第３レーザ光ＣＢが発せられる。なお、第３レーザ光ＣＢもまた、水平方向に向けて発せられ、つまりはそうなるように第２レーザダイオード２０４が設けられる。そして、第２発光素子２０２ｂからは、第２レーザ光Ｂ２は発せられない。

第１レーザダイオード２０２（第１発光素子２０２ａおよび第２発光素子２０２ｂ）から発せられた第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２は、コリメートレンズ２１２により平行光（コリメート光）に補正された後、アパーチャ２２２を介して、キューブ型の偏光ビームスプリッタ（偏光プリズム）２３０に入射され、詳しくは当該偏光ビームスプリッタ２３０内の境界面（分離面）２３０ａに入射される。より詳しくは、境界面２３０ａは、水平方向に対して直角を成しており、第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２は、当該境界面２３０ａに対して４５度の角度で入射され、つまりはそうなるように偏光ビームスプリッタ２３０が設けられる。

一方、第２レーザダイオード２０４（第３発光素子２０４ａ）から発せられた第３レーザ光ＣＢは、前述とは別のコリメートレンズ２１４により平行光に補正された後、前述とは別のアパーチャ２２４を介して、平面ミラー２４０に入射される。そして、平面ミラー２４０に入射された第３レーザ光ＣＢは、当該平面ミラー２４０により反射された後、偏光ビームスプリッタ２３０の境界面２３０ａに入射される。より詳しくは、平面ミラー２４０により反射された第３レーザ光ＣＢは、水平方向に沿って進行し、つまりはそうなるように平面ミラー２４０が設けられる。そして、平面ミラー２４０により反射された第３レーザ光ＣＢは、偏光ビームスプリッタ２３０の境界面２３０ａに対して、第１レーザ光Ｂ１（および第２レーザ光Ｂ２）が入射される側とは反対側から、かつ、第１レーザ光Ｂ１の入射方向と直角を成すように、つまり第１レーザ光Ｂ１の入射角度と共役な角度で、入射される。

偏光ビームスプリッタ２３０の境界面２３０ａは、Ｐ波の第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２については、これを透過させる一方、Ｓ波の第３レーザ光ＣＢについては、これを反射させる、光学的特性を有する。したがって、境界面２３０ａに入射された第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２は、当該境界面２３０ａを透過する。これに対して、境界面２３０ａに入射された第３レーザ光ＣＢは、当該境界面２３０ａにより反射された後、第１レーザ光Ｂ１（および第２レーザ光Ｂ２）と同じ方向に向かって出射され、進行する。すなわち、偏光ビームスプリッタ２３０は、副走査方向における解像度が１２００ｄｐｉであるときに、第１レーザ光Ｂ１と第３レーザ光ＣＢとを合成する合成手段として機能する。

偏光ビームスプリッタ２３０の境界面２３０ａを透過した第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２、ならびに、当該境界面２３０ａにより反射された第３レーザ光ＣＢは、シリンドリカルレンズ２４５を介して、前述とは別の平面ミラー２５０に入射される。この平面ミラー２５０に入射された第１レーザ光Ｂ１、第２レーザ光Ｂ２および第３レーザ光ＣＢは、当該平面ミラー２５０により反射された後、偏向手段の一例としてのポリゴンミラー２６０に入射され、厳密にはポリゴンミラー２６０の反射面２６０ａに入射される。なお、平面ミラー２５０により反射された第１レーザ光Ｂ１、第２レーザ光Ｂ２および第３レーザ光ＣＢもまた、水平方向に沿って進行し、つまりはそうなるように平面ミラー２５０が設けられる。

ポリゴンミラー２６０は、たとえば６つの反射面２６０ａ，２６０ａ，…を有する６面体ミラーであり、その中心Ｏを通る不図示の直線を軸として回転し、たとえば矢印２６２で示される方向へ回転する。このポリゴンミラー２６０の回転軸は、垂直方向に沿って延伸しており、つまりはそうなるようにポリゴンミラー２６０が設けられる。したがって、前述の平面ミラー２５０により反射された第１レーザ光Ｂ１、第２レーザ光Ｂ２および第３レーザ光ＣＢは、ポリゴンミラー２６０の各反射面２６０ａ，２６０ａ，…に順次入射されて、当該各反射面２６０ａ，２６０ａ，…により順次反射される。そして、それぞれの反射面２６０ａによる第１レーザ光Ｂ１、第２レーザ光Ｂ２および第３レーザ光ＣＢの反射方向が、水平方向に沿って連続的に変化され、言わば偏向される。

ポリゴンミラー２６０のそれぞれの反射面２６０ａにより反射された第１レーザ光Ｂ１、第２レーザ光Ｂ２および第３レーザ光ＣＢは、ｆθレンズ２７０を介して、感光体ドラム１４ａの露光面に照射される。そして、感光体ドラム１４ａの露光面に照射された第１レーザ光Ｂ１、第２レーザ光Ｂ２および第３レーザ光ＣＢが前述の如く偏向されることにより、当該感光体ドラム１４ａの露光面に対する第１レーザ光Ｂ１、第２レーザ光Ｂ２および第３レーザ光ＣＢそれぞれの照射位置が感光体ドラム１４ａの回転軸１００に沿う方向１２０へ移動し、つまり主走査方向へ走査される。併せて、感光体ドラム１４ａが前述の如く回転することにより、感光体ドラム１４ａの回転方向１１０においても、つまり副走査方向においても、感光体ドラム１４ａの露光面に対する第１レーザ光Ｂ１、第２レーザ光Ｂ２および第３レーザ光ＣＢそれぞれの照射位置が移動され、つまり走査される。

図５は、とりわけ図５における中央の図は、図３における一部分の構成を模式的に示す図である。そして、図５における左下の２点鎖線の矩形枠αで囲まれた図は、第１レーザダイオード２０２の第１発光素子２０２ａおよび第２発光素子２０２ｂを、厳密には第１発光素子２０２ａおよび第２発光素子２０２ｂの各発光点を、第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２が発せられる方向とは逆の方向（図５の中央の図における下方側）から見た図である。

この矩形枠αで囲まれた図から分かるように、第１発光素子２０２ａおよび第２発光素子２０２ｂは、たとえば副走査方向に対応する垂直方向に並ぶのではなく、斜め方向に並ぶように配され、つまりはそうなるように第１レーザダイオード２０２が設けられる。これは、第１発光素子２０２ａおよび第２発光素子２０２ｂの相互間距離（互いの中心間の最短距離）が第１レーザダイオード２０２として採用される部品の仕様により決まっている一方、後述する如く感光体ドラム１４ａの感光面に対する第１レーザ光Ｂ１の照射位置（走査位置）と当該感光面に対する第２レーザ光Ｂ２の照射位置との副走査方向における相互間距離Ｄａを所定の距離とする必要があるためである。なお、第１レーザダイオード２０２は、概略円筒形の筐体を有する、いわゆるＣＡＮパッケージ型のものであり、第１発光素子２０２ａおよび第２発光素子２０２ｂは、当該筐体の中心に関して対称的に配される。

また、図５における右下の２点鎖線の矩形枠βで囲まれた図は、第２レーザダイオード２０４の第３発光素子２０４ａを、厳密には第３発光素子２０４ａの発光点を、第３レーザ光ＣＢが発せられる方向とは逆の方向（図５の中央の図における下方側）から見た図である。なお、第２レーザダイオード２０４もまた、ＣＡＮパッケージ型のものであり、第３発光素子２０４ａは、当該第２レーザダイオード２０４の筐体の中心に配される。

さらに、図５における上部の２点鎖線の矩形枠γで囲まれた図は、感光体ドラム１４ａの感光面（被走査面）に対する第１レーザ光Ｂ１、第２レーザ光Ｂ２および第３レーザ光ＣＢそれぞれの照射状態を模式的に示す図である。この矩形枠γで囲まれた図における左右方向は、主走査方向に対応し、当該矩形枠γで囲まれた図における上下方向は、副走査方向に対応する。

この矩形枠γで囲まれた図において、たとえば副走査方向における解像度が６００ｄｐｉのときの露光処理に供される第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２の各照射位置に注目すると、当該各照射位置は、それぞれの出射源である第１発光素子２０２ａおよび第２発光素子２０２ｂの配置と同様、斜め方向に並んだ状態となる。そして、副走査方向において、第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２の各照射位置は、Ｄａという距離を置く。この距離Ｄａは、６００ｄｐｉという副走査方向における解像度に応じた値であり、つまり約４２．３μｍ（＝２５．４ｍｍ／６００）である。この副走査方向における第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２の各照射位置の相互間距離Ｄａを約４２．３μｍという所定の距離とするために、前述の如く第１発光素子２０２ａおよび第２発光素子２０２ｂが斜め方向に並ぶように配される。

なお、第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２の各照射位置の相互の関係は、第１発光素子２０２ａおよび第２発光素子２０２ｂの配置の関係と逆になる。すなわち、矩形枠αで囲まれた図においては、第１発光素子２０２ａが第２発光素子２０２ｂの左下方に配されているのに対して、矩形枠γで囲まれた図においては、第１レーザ光Ｂ１の照射位置が第２レーザ光Ｂ２の照射位置の右上方に存在する。これは、第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２の光路に介在するコリメートレンズ２１２の入射側と出射側とで、当該第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２の光路が入れ替わるからである。

これに対して、副走査方向における解像度が１２００ｄｐｉのときの露光処理に供される第１レーザ光Ｂ１および第３レーザ光ＣＢの各照射位置、とりわけ第３レーザ光ＣＢの照射位置、に注目すると、当該第３レーザ光ＣＢの照射位置は、第１レーザ光Ｂ１の照射位置と第２レーザ光Ｂ２の照射位置との並びの中間位置にある。すなわち、第３レーザ光ＣＢの照射位置は、主走査方向および副走査方向のいずれにおいても、第１レーザ光Ｂ１の照射位置と第２レーザ光Ｂ２の照射位置と中間位置にある。
言い換えれば、そうなるように第３レーザ光ＣＢの出射源である第３発光素子２０４ａを有する第２レーザダイオード２０４が設けられる。
したがって、第１レーザ光Ｂ１および第３レーザ光ＣＢの各照射位置の副走査方向における相互間距離Ｄｂは、第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２の各照射位置の副走査方向における相互間距離Ｄａの１／２となり、つまり約２１．２μｍ（＝Ｄａ／２）となる。この約２１．２μｍという相互間距離Ｄｂは、１２００ｄｐｉという副走査方向における解像度に応じた値（＝２５．４ｍｍ／１２００）である。

このような構成の光走査装置１４ｂによれば、たとえば副走査方向における解像度が６００ｄｐｉのときには、前述の如く第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２が露光処理に供される。そして、ポリゴンミラー２６０の或る１つの反射面２６０ａにより第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２が主走査方向へ１回走査されることで、２ライン分の潜像が形成される。併せて、第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２が主走査方向へ１回走査されるたびに、感光体ドラム１４ａの感光面が副走査方向へ２ライン分、つまり約８４．７μｍ（＝約４２．３μｍ×２）、移動する。言い換えれば、そのような速度で感光体ドラム１４ａが回転する。これが繰り返されることにより、副走査方向における解像度が６００ｄｐｉの潜像が形成される。なお、前述の如く第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２の各照射位置が斜め方向に並んだ状態にあることから、主走査方向において、当該第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２の各照射位置にズレが生ずる。このズレによる影響は、第１発光素子２０２ａおよび第２発光素子２０２ｂそれぞれの駆動タイミングにより補正される。

一方、副走査方向における解像度が１２００ｄｐｉのときには、第１レーザ光Ｂ１および第３レーザ光ＣＢが露光処理に供される。そして、ポリゴンミラー２６０の或る１つの反射面２６０ａにより第１レーザ光Ｂ１および第３レーザ光ＣＢが主走査方向へ１回走査されることで、２ライン分の潜像が形成される。併せて、第１レーザ光Ｂ１および第３レーザ光ＣＢが主走査方向へ１回走査されるたびに、感光体ドラム１４ａの感光面が副走査方向へ２ライン分、つまり約４２．３μｍ（＝約２１．２μｍ×２）、移動する。言い換えれば、そのような速度で感光体ドラム１４ａが回転する。これが繰り返されることにより、副走査方向における解像度が１２００ｄｐｉの潜像が形成される。すなわち、副走査方向における解像度が１２００ｄｐｉのときは、副走査方向における解像度が６００ｄｐｉのときと比べて、副走査方向への走査速度が１／２に低減される。言い換えれば、副走査方向における解像度が１２００ｄｐｉのときの感光体ドラム１４ａの回転速度は、副走査方向における解像度が６００ｄｐｉのときの感光体ドラム１４ａの回転速度の１／２である。
なお、第１レーザ光Ｂ１および第３レーザ光ＣＢの各照射位置もまた、斜め方向に並んだ状態にあり、つまり主走査方向において、当該第１レーザ光Ｂ１および第３レーザ光ＣＢの各照射位置にズレが生ずる。このズレによる影響は、第１発光素子２０２ａおよび第３発光素子２０４ａそれぞれの駆動タイミングにより補正される。

なお、主走査方向における解像度については、副走査方向における解像度に拘らず一定であり、たとえば６００ｄｐである。言い換えれば、ポリゴンミラー２６０の回転速度は、つまり主走査方向への走査速度は、副走査方向における解像度に拘らず一定である。

このような光走査装置１４ｂを含む露光装置による露光処理の要領を図で表現すると、とりわけ副走査方向における解像度が６００ｄｐｉという通常解像度であるときの露光要領を図で表現すると、たとえば図６のようになる。この図６は、ポリゴンミラー２６０の各反射面２６０ａ，２６０ａ，…と、それぞれの反射面２６０ａにより反射された第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２とが、露出処理にどのように関係するのかを、主走査方向および副走査方向を絡めて概念的に示す。なお、図６におけるポリゴンミラー２６０の各反射面２６０ａ，２６０ａ，…に付されている「１」～「６」の数値は、当該各反射面２６０ａ，２６０ａ，…の番号を表す。

この図６に示されるように、ポリゴンミラー２６０の或る１つの反射面２６０ａにより反射された第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２が主走査方向へ１回走査されることで、２ライン分の主走査ライン３００および４００が形成され、つまり２ライン分の潜像が形成される。そして、第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２が主走査方向へ１回走査されるたびに、つまり第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２を反射させる反射面２６０ａが切り替わるたびに、主走査ライン３００および４００の位置が副走査方向へ２ライン分、詳しくは約８４．７μｍ（＝２・Ｄａ）というピッチで、移動する。これが繰り返されることにより、副走査方向における解像度が６００ｄｐｉの潜像が形成される。

なお、ポリゴンミラー２６０のそれぞれの反射面２６０ａの副走査方向における寸法Ｄｃは、主走査方向への走査の繰り返し周期に対応し、つまりポリゴンミラー２６０が６０度（＝３６０度／６）回転するのに要する時間に対応する。前述したように、ポリゴンミラー２６０の回転速度は一定であることから、主走査方向への走査の繰り返し周期（Ｄｃ）もまた一定である。

そして、図６における第１レーザ光Ｂ１による主走査ライン３００を構成する複数の矩形状の要素３０２，３０２，…のそれぞれは、１画素分の潜像を表し、厳密には当該１画素分の潜像を形成するための第１レーザ光Ｂ１の照射位置を表す。このことは、第２レーザ光Ｂ２による主走査ライン４００を構成する複数の矩形状要素４０２，４０２，…についても、同様である。また、これらの矩形状要素３０２，３０２，…（あるいは４０２，４０２，…）の主走査方向における間隔Ｄｅは、６００ｄｐｉという主走査方向における解像度に応じた値であり、つまり約４２．３μｍである。

さらに、図６において、５００という符号が付された破線は、第３発光素子２０４ａの動作が有効化されていると仮定した場合の第３レーザ光ＣＢの主走査ラインを表す。加えて、図６においては、各反射面２６０ａ，２６０ａ，…間で、主走査方向における主走査ライン３００および４００の位置がずれているが、これは、当該図６の見易さを考慮しての意図的な措置である。

これに対して、副走査方向における解像度が１２００ｄｐｉという高解像度であるときの露光要領を図で表現すると、たとえば図７のようになる。前述したように、副走査方向における解像度が１２００ｄｐｉであるときには、第１レーザ光Ｂ１および第３レーザ光ＣＢが露光処理に供される。そして、第２レーザ光Ｂ２の出射源である第２発光素子２０２ｂの動作は、無効化される。なお、図７においては、第２発光素子２０２ｂの動作が有効化されていると仮定した場合の第２レーザ光Ｂ２の主走査ライン４００を破線で示す。

この図７に示されるように、副走査方向における解像度が１２００ｄｐｉであるときには、ポリゴンミラー２６０の或る１つの反射面２６０ａにより反射された第１レーザ光Ｂ１および第３レーザ光ＣＢが主走査方向へ１回走査されることで、２ライン分の主走査ライン３００および５００が形成され、つまり２ライン分の潜像が形成される。そして、第１レーザ光Ｂ１および第３レーザ光ＣＢが主走査方向へ１回走査されるたびに、つまり第１レーザ光Ｂ１および第３レーザ光ＣＢを反射させる反射面２６０ａが切り替わるたびに、主走査ライン３００および５００の位置が副走査方向へ２ライン分、詳しくは約４２．３μｍ（＝２・Ｄｂ）というピッチで、移動する。これが繰り返されることにより、副走査方向における解像度が１２００ｄｐｉの潜像が形成される。

なお、図７における第３レーザ光ＣＢによる主走査ライン５００を構成する複数の矩形状要素５０２，５０２，…のそれぞれもまた、１画素分の潜像を表し、厳密には当該１画素分の潜像を形成するための第３レーザ光ＣＢの照射位置を表す。そして、図７においても、その見易さを考慮して、各反射面２６０ａ，２６０ａ，…間で、主走査方向における主走査ライン３００および５００の位置を意図的にずらしている。

本第１実施例における光走査装置１４ｂの優越性を説明するために、たとえば次のような第１比較例を仮想する。

すなわち、光源として１ビーム型のレーザダイオードを１つのみ設け、副走査方向における解像度を６００ｄｐｉと１２００ｄｐｉとの２つの解像度に切り替える構成を、仮想する。これ以外は、とりわけポリゴンミラー２６０については、本第１実施例におけるのと同様のものを採用するものとする。

このような第１比較例において、たとえば副走査方向における解像度が６００ｄｐｉであるときの露光要領を図で表現すると、図８のようになる。この図８に示されるように、光源として１ビーム型のレーザダイオードが１つのみ設けられる構成においては、つまり当該レーザダイオードから１つのレーザ光ＬＢのみが発せられる構成においては、ポリゴンミラー２６０の或る１つの反射面２６０ａによる主走査方向への１回の走査によって、主走査ライン６００が１ライン分のみ形成される。そして、主走査方向への１回の走査が行われるたびに、つまりレーザ光ＬＢを反射させる反射面２６０ａが切り替わるたびに、主走査ライン６００の位置が副走査方向へ１ライン分、詳しくは約４２．３μｍというピッチＤｆ（＝Ｄａ）で、移動する。なお、図８における主走査ライン６００を構成する複数の矩形状要素６０２，６０２，…のそれぞれは、１画素分の潜像を形成するためのレーザ光ＬＢの照射位置を表す。

これに対して、本第１実施例によれば、前述の如く副走査方向における解像度が６００ｄｐｉであるときには（図６参照）、ポリゴンミラー２６０の或る１つの反射面２６０ａによる主走査方向への１回の走査によって、２ライン分の主走査ライン３００および４００が形成される。そして、主走査方向への１回の走査が行われるたびに、主走査ライン３００および４００の位置が副走査方向へ２ライン分、詳しくは約８４．７μｍというピッチ（２・Ｄａ）で、移動する。

要するに、本第１実施例によれば、第１比較例と比べて、副走査方向における解像度が６００ｄｐｉであるときの当該副走査方向への走査速度が２倍となる。ゆえに、本第１実施例によれば、第１比較例と比べて、副走査方向における解像度が６００ｄｐｉであるときの露光処理の速度を２倍に上げることができ、ひいては当該露光処理を含む画像形成処理の速度、いわゆるプロセス速度を、２倍に上げることができる。

また、第１比較例において、副走査方向における解像度が１２００ｄｐｉであるときの露光要領を図で表現すると、図９のようになる。この図９に示されるように、副走査方向における解像度が１２００ｄｐｉであるときも、ポリゴンミラー２６０の或る１つの反射面２６０ａによる主走査方向への１回の走査によって、主走査ライン６００が１ライン分のみ形成される。そして、主走査方向への１回の走査が行われるたびに、主走査ライン６００の位置が副走査方向へ１ライン分、詳しくは約２１．２μｍというピッチＤｇ（＝Ｄｂ）で、移動する。

これに対して、本第１実施例によれば、前述の如く副走査方向における解像度が１２００ｄｐｉであるときには（図７参照）、ポリゴンミラー２６０の或る１つの反射面２６０ａによる主走査方向への１回の走査によって、２ライン分の主走査ライン３００および５００が形成される。そして、主走査方向への１回の走査が行われるたびに、主走査ライン３００および５００の位置が副走査方向へ２ライン分、詳しくは約４２．３μｍというピッチ（２・Ｄｂ）で、移動する。

要するに、副走査方向における解像度が１２００ｄｐｉであるときにも、本第１実施例によれば、第１比較例と比べて、当該副走査方向への走査速度が２倍となる。ゆえに、本第１実施例によれば、第１比較例と比べて、副走査方向における解像度が１２００ｄｐｉであるときの露光処理速度を２倍に上げることができ、ひいてはプロセス速度を２倍に上げることができる。

さらに、本第１実施例の別の比較対象として、たとえば次のような第２比較例を仮想する。

すなわち、光源として２ビーム型のレーザダイオードを１つのみ設け、副走査方向における解像度を６００ｄｐｉと１２００ｄｐｉとの２つの解像度に切り替える構成を、仮想する。これ以外は、とりわけポリゴンミラー２６０については、本第１実施例におけるのと同様のものを採用するものとする。

この第２比較例において、たとえば副走査方向における解像度が６００ｄｐｉであるときの露光要領を図で表現すると、図１０のようになる。この図１０に示されるように、光源として２ビーム型のレーザダイオードが１つのみ設けられる構成においては、つまり当該レーザダイオードから２つのレーザ光Ｂ１’およびＢ２’が発せられる構成においては、ポリゴンミラー２６０の或る１つの反射面２６０ａによる主走査方向への１回の走査によって、２ライン分の主走査ライン７００および８００が形成される。そして、主走査方向への１回の走査が行われるたびに、つまり２つのレーザ光Ｂ１’およびＢ２’を反射させる反射面２６０ａが切り替わるたびに、主走査ライン７００および８００の位置が副走査方向へ２ライン分、詳しくは約８４．７μｍというピッチＤｈ（＝２．Ｄａ）で、移動する。なお、図１０における一方のレーザ光Ｂ１’による主走査ライン７００を構成する複数の矩形状要素７０２，７０２，…のそれぞれは、１画素分の潜像を形成するための当該レーザ光Ｂ２’の照射位置を表す。このことは、他方のレーザ光Ｂ１’による主走査ライン８００を構成する複数の矩形状要素８０２，８０２，…についても、同様である。

要するに、副走査方向における解像度が６００ｄｐｉであるときには、第２比較例によっても、本第１実施例と同等の露光処理速度が得られ、ひいては本第１実施例と同等のプロセス速度が得られる。

ただし、第２比較例において、副走査方向における解像度を１２００ｄｐｉにするには、当該副走査方向における解像度が６００ｄｐｉのときと比べて、副走査方向への走査速度を１／４にまで低減する必要がある。これに対して、本第１実施例によれば、前述の如く副走査方向における解像度が１２００ｄｐｉであるときの当該副走査方向への走査速度は、副走査方向における解像度が６００ｄｐｉであるときの１／２である。

たとえば、第２比較例において、単に副走査方向への走査速度を当該副走査方向における解像度が６００ｄｐｉであるときの１／２に低減する、とする。このときの露光要領を図で表現すると、図１１のようになる。この図１１に示されるように、単に副走査方向への走査速度を当該副走査方向における解像度が６００ｄｐｉであるときの１／２に低減した場合は、ポリゴンミラー２６０の或る１つの反射面２６０ａによる主走査方向への１回の走査によって、２ライン分の主走査ライン７００および８００が形成される。その一方で、主走査方向への１回の走査が行われるたびに、主走査ライン７００および８００の位置は、副走査方向へ１ライン分のみ、つまり約４２．３μｍというピッチＤｉ（＝Ｄａ）で、移動する。この結果、２つのレーザ光Ｂ１’およびＢ２’の各照射位置が互いに重複することになる。ゆえに、２つのレーザ光Ｂ１’およびＢ２’のいずれかの出射源の動作を無効化する必要がある。なお、図１１は、レーザ光Ｂ２’の出射源の動作が無効化された状態、つまり当該レーザ光Ｂ２’が発せられない状態を、示す。そうすると、図１１に示される露光要領では、副走査方向における解像度が６００ｄｐｉとなるだけであり、つまりは図８に示される露光要領を呈する第１比較例と何ら変わらない。これでは、光源として２ビーム型のレーザダイオードを採用することが、全く無意味となる。

したがって、第２比較例において、副走査方向における解像度を１２００ｄｐｉにするには、前述の如く副走査方向への走査速度を当該副走査方向における解像度が６００ｄｐｉのときの１／４にまで低減する必要がある。このときの露光要領を図で表現すると、図１２のようになる。この図１２に示されるように、副走査方向への走査速度を当該副走査方向における解像度が６００ｄｐｉであるときの１／４に低減した場合もまた、ポリゴンミラー２６０の或る１つの反射面２６０ａによる主走査方向への１回の走査によって、２ライン分の主走査ライン７００および８００が形成される。そして、主走査方向への１回の走査が行われるたびに、主走査ライン７００および８００の位置が副走査方向へ１ライン分、つまり約２１．２μｍというピッチＤｊ（＝Ｄｂ）で、移動する。併せて、２つのレーザ光Ｂ１’およびＢ２’の各照射位置が互いに重複するため、これら２つのレーザ光Ｂ１’およびＢ２’のいずれかの出射源の動作を無効化し、たとえばレーザ光Ｂ２’の出射源の動作を無効化する。これにより、副走査方向における解像度が１２００ｄｐｉという高解像度での露光処理が実現される。

このように第２比較例において、副走査方向における解像度を１２００ｄｐｉにするには、当該副走査方向における解像度が６００ｄｐｉのときと比べて、副走査方向への走査速度を１／４にまで低減する必要がある。これに対して、本第１実施例によれば、前述の如く副走査方向における解像度が１２００ｄｐｉであるときの当該副走査方向への走査速度は、副走査方向における解像度が６００ｄｐｉであるときの１／２である。要するに、本第１実施例によれば、副走査方向における解像度が１２００ｄｐｉという高解像度であるときに、第２比較例と比べて、副走査方向への走査速度の低減度合を抑制することができ、換言すれば露光処理速度の低下度合を抑制することができ、ひいてはプロセス速度の低下度合を抑制することができる。

以上の説明から分かるように、本第１実施例によれば、副走査方向における解像度を、６００ｄｐｉという通常解像度と、１２００ｄｐｉという高解像度との、２つの解像度に切り替えることが可能であるとともに、当該解像度が１２００ｄｐｉであるときの露光処理速度の低下度合を抑制することができる。しかも、本第１実施例によれば、前述の特許文献１に開示された技術のような解像度切替用の光学素子や当該光学素子を出し入れするための駆動装置などが不要であり、また、２ビーム型のレーザダイオードよりも多数の発光素子を有する光源を採用する必要もない。すなわち、本第１実施例によれは、副走査方向における解像度を上げることによる露光処理速度の低下度合を抑制することができるとともに、これを比較的に簡素かつ廉価な構成で実現することができる。

なお、本第１実施例においては、第１発光素子２０２ａ、第２発光素子２０２ｂおよび第３発光素子２０４ａそれぞれの動作が、不図示のレーザ駆動回路により個別に有効化または無効化されるが、当該レーザ駆動回路は、ＣＰＵ１６ａにより制御される。このようなレーザ駆動回路の制御を担うＣＰＵ１６ａは、厳密には当該レーザ駆動回路とＣＰＵ１６ａとの組合せの構成は、本発明に係る発光制御手段の一例である。併せて、感光体ドラム１４ａの回転速度についても、ＣＰＵ１６ａがその制御を担うが、このような感光体ドラム１４ａの回転速度の制御を担うＣＰＵ１６ａは、言わば速度制御手段としても機能する。

また、本第１実施例において、副走査方向における解像度が６００ｄｐｉのときの当該副走査方向への感光体ドラム１４ａの感光面の移動速度は、本発明に係る第１速度の一例である。そして、副走査方向における解像度が１２００ｄｐｉのときの当該副走査方向への感光体ドラム１４ａの感光面の移動速度は、本発明に係る第２速度の一例である。

さらに、感光体ドラム１４ａの感光面に対する第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２の各照射位置の副走査方向における相互間距離Ｄａは、つまり約４２．３μｍという値は、本発明に係る第１距離の一例である。そして、感光体ドラム１４ａの感光面に対する第１レーザ光Ｂ１および第３レーザ光ＣＢの各照射位置の副走査方向における相互間距離Ｄｂは、つまり約２１．２μｍという値は、本発明に係る第２距離の一例である。

加えて、第１レーザダイオード２０２は、本発明に係る第１光源の一例である。そして、第１レーザダイオード２０２（第１発光素子２０２ａおよび第２発光素子２０２ｂ）から発せられる第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２は、本発明に係る第１光源ビームの一例である。併せて、第２レーザダイオード２０４は、本発明に係る第２光源の一例である。そして、第２レーザダイオード２０４（第３発光素子２０４ａ）から発せられる第３レーザ光ＣＢは、本発明に係る第２光源ビームの一例である。

さらに、偏向ビームスプリッタ２３０は、本発明に係る特性平面手段の一例である。そして、偏向ビームスプリッタ２３０の境界面２３０ａは、本発明に係る特性平面の一例である。加えて、平面ミラー２４０は、本発明に係る案内手段の一例である。すなわち、偏向ビームスプリッタ２３０および平面ミラー２４０は、本発明に係る光学系手段の一例を構成する。別の平面ミラー２５０もまた、本発明に係る光学系手段の一例を構成する。

本第１実施例においては、第１レーザダイオード２０２がＰ波光源とされ、第２レーザダイオード２０４がＳ波光源とされたが、これらは互いに逆であってもよい。すなわち、第１レーザダイオード２０２がＳ波光源とされ、第２レーザダイオード２０４がＰ波光源とされてもよい。この場合は、偏光ビームスプリッタ２３０として、本第１実施例におけるのとは逆の光学的特性を有するものが採用される。すなわち、偏光ビームスプリッタ２３０として、Ｓ波を透過させ、Ｐ波を反射させる、という光学的特性を有するものが採用される。

また、第１レーザダイオード２０２に、第１発光素子２０２ａおよび第２発光素子２０２ｂの一方と、第３発光素子２０４ａと、が設けられてもよい。そして、第２レーザダイオード２０４に、第１発光素子２０２ａおよび第２発光素子２０２ｂの他方が設けられてもよい。これとは逆に、第２レーザダイオード２０４に、第１発光素子２０２ａおよび第２発光素子２０２ｂの一方と、第３発光素子２０４ａと、が設けられてもよい。そして、第１レーザダイオード２０２に、第１発光素子２０２ａおよび第２発光素子２０２ｂの他方が設けられてもよい。いずれの場合も、偏光ビームスプリッタ２３０として、適宜の光学的特性を有するものが採用される。

さらに、本第１実施例においては、第１レーザダイオード２０２および第２レーザダイオード２０４が、水平方向に沿う同一平面上に隣接して配され、換言すれば主走査方向に沿う仮想的な平面上に隣接して配される。このことは、第１レーザダイオード２０２および第２レーザダイオード２０４の取り付けにおいて、とりわけ両者の取り付け位置や向きの調整において、極めて有益である。

［第２実施例］
次に、本発明の第２実施例について、説明する。

本第２実施例においては、第１実施例と比較して、図１３に示されるように、第１レーザダイオード２０２および第２レーザダイオード２０４の位置が入れ替えられる。併せて、偏光ビームスプリッタ２３０として、第１実施例におけるのとは逆の光学的特性を有するものが、つまりＳ波を透過させ、Ｐ波を反射させる、という光学的特性を有するものが、採用される。なお、図１３においては、第１レーザダイオード２０２側のコリメートレンズ２１２およびアパーチャ２２２と、第２レーザダイオード２０４側のコリメートレンズ２１４およびアパーチャ２２４と、についても、入れ替えられているが、これらが同じ仕様のものである場合には、入れ替えられなくてもよい。本第２実施例におけるこれ以外の構成は、第１実施例と同様である。

このような本第２実施例によっても、第１実施例と同様の作用および効果を奏する。すなわち、本第２実施例によっても、副走査方向における解像度を上げることによる露光処理速度の低下度合を抑制することができるとともに、これを比較的に簡素かつ廉価な構成で実現することができる。

なお、本第２実施例においても、第１レーザダイオード２０２がＳ波光源とされ、第２レーザダイオード２０４がＰ波光源とされてもよい。この場合は、偏光ビームスプリッタ２３０として、Ｐ波を透過させ、Ｓ波を反射させる、という光学的特性を有するものが採用される。

また、第１レーザダイオード２０２に、第１発光素子２０２ａおよび第２発光素子２０２ｂの一方と、第３発光素子２０４ａと、が設けられてもよい。そして、第２レーザダイオード２０４に、第１発光素子２０２ａおよび第２発光素子２０２ｂの他方が設けられてもよい。これとは逆に、第２レーザダイオード２０４に、第１発光素子２０２ａおよび第２発光素子２０２ｂの一方と、第３発光素子２０４ａと、が設けられてもよい。そして、第１レーザダイオード２０２に、第１発光素子２０２ａおよび第２発光素子２０２ｂの他方が設けられてもよい。いずれの場合も、偏光ビームスプリッタ２３０として、適宜の光学的特性を有するものが採用される。

［第３実施例］
次に、本発明の第３実施例について、説明する。

本第３実施例においては、図１４に示されるように、たとえば第２実施例における第１レーザダイオード２０２に代えて、１ビーム型の２つのレーザダイオード、言わば第３レーザダイオード２０６および第４レーザダイオード２０８が、設けられる。第３レーザダイオード２０６は、１ビーム型のＰ波光源であり、つまりＰ波のレーザ光を発する発光素子２０６ａを有する。第４レーザダイオード２０８もまた、１ビーム型のＰ波光源であり、つまりＰ波のレーザ光を発する発光素子２０８ａを有する。そして、第３レーザダイオード２０６が有する発光素子２０６ａから発せられるレーザ光が、第１レーザ光Ｂ１として取り扱われるとともに、第４レーザダイオード２０８が有する発光素子２０８ａから発せられるレーザ光が、第２レーザ光Ｂ２として取り扱われる。併せて、第３レーザダイオード２０６に対応して、コリメートレンズ２１６およびアパーチャ２２６が設けられるとともに、第４レーザダイオード２０８に対応して、コリメートレンズ２１６およびアパーチャ２２６が設けられる。

加えて、第２レーザ光Ｂ２については、ハーフミラー２８０により反射された後、偏光ビームスプリッタ２３０の境界面２３０ａに入射され、つまりはそうなるようにハーフミラー２８０が設けられる。そして、第１レーザ光Ｂ１については、平面ミラー（全反射ミラー）２９０により反射された後、ハーフミラー２８０を介して、偏光ビームスプリッタ２３０の境界面２３０ａに入射され、つまりはそうなるように平面ミラー２９０が設けられる。また、ハーフミラー２８０が介在することに伴い、第１レーザ光Ｂ１の出射源である第３レーザダイオード２０６（発光素子２０６ａ）および第２レーザ光Ｂ２の出射源である第４レーザダイオード２０８（発光素子２０８ａ）それぞれの出力が適宜に増大される。

なお、二点鎖線の矩形枠δで囲まれた図は、第３レーザダイオード２０６の発光素子２０６ａを、厳密には当該発光素子２０６ａの発光点を、第１レーザ光Ｂ１が発せられる方向とは逆の方向（図１４の中央の図における下方側）から見た図である。そして、別の二点鎖線の矩形枠εで囲まれた図は、第４レーザダイオード２０８の発光素子２０８ａを、厳密には当該発光素子２０８ａの発光点を、第２レーザ光Ｂ２が発せられる方向とは逆の方向（図１４の中央の図における下方側）から見た図である。本第３実施例におけるこれ以外の構成は、第２実施例と同様であり、つまり第１実施例と同様である。

このような本第３実施例によっても、つまり第１レーザ光Ｂ１、第２レーザ光Ｂ２および第３レーザ光ＣＢが、第３レーザダイオード２０６、第４レーザダイオード２０８および第２レーザダイオード２０４というそれぞれ別個の光源から発せられる構成の、本第３実施例によっても、第１実施例と同様の作用および効果を奏する。すなわち、本第３実施例によっても、副走査方向における解像度を上げることによる露光処理速度の低下度合を抑制することができるとともに、これを比較的に簡素かつ廉価な構成で実現することができる。

なお、本第３実施例においても、Ｐ波とＳ波との関係が逆であってもよい。すなわち、第１レーザ光Ｂ１および第２レーザ光Ｂ２がＳ波とされ、第３レーザ光ＣＢがＰ波とされてもよい。この場合は、偏光ビームスプリッタ２３０として、Ｐ波を透過させ、Ｓ波を反射させる、という光学的特性を有するものが採用される。

また、第２レーザダイオード２０４、第３レーザダイオード２０６および第４レーザダイオード２０８の位置が適宜に入れ替えられてもよい。この場合も、偏光ビームスプリッタ２３０として、適宜の光学的特性を有するものが採用される。

［その他の適用例］
以上の各実施例は、本発明の具体例であり、本発明の技術的範囲を限定するものではない。これら各実施例以外の局面にも、本発明を適用することができる。

たとえば、偏光ビームスプリッタ２３０については、キューブ型のものに限らず、平面型などの他の形状のものであってもよい。そして、ポリゴンミラー２６０については、６面体ミラーに限らず、６面以外の面数の多面体ミラーが採用されてもよい。また、ポリゴンミラー２６０に代えて、ガルバノスキャナなどの他方式の偏向手段が採用されてもよい。加えて、ポリゴンミラー２６０を含む光学系２００の構成は、本第１実施例で説明した構成に限らない。

さらに、副走査方向における解像度については、６００ｄｐｉという通常解像度と、１２００ｄｐｉという高解像度と、を例示したが、これらの解像度に限らない。極端には、２つの解像度の比率について、６００ｄｐｉおよび１２００ｄｐｉというような１対２の関係ではなく、それ以外の関係であってもよい。

加えて、潜像担持体として、円筒状の感光体ドラム１４ａではなく、感光体ベルトなどの平面状（無端帯状）のものが採用される構成にも、本発明を適用することができる。

そして、本発明は、複合機１０に限らず、コピー機やプリンタなどの当該複合機１０以外の画像形成装置にも、適用することができる。

また、本発明は、光走査装置として提供することもできるし、光走査方法として提供することもできる。

１０ … 複合機
１４ … 画像形成部
１４ａ … 感光体ドラム
１４ｂ … 光走査装置
１６ … 制御部
１６ａ … ＣＰＵ
２００ … 光学系
２０２ … 第１レーザダイオード
２０２ａ … 第１発光素子
２０２ｂ … 第２発光素子
２０４ … 第２レーザダイオード
２０４ａ … 第３発光素子
２０６ … 第３レーザダイオード
２０６ａ … 発光素子
２０８ … 第４レーザダイオード
２０８ａ … 発光素子
Ｂ１ … 第１レーザ光
Ｂ２ … 第２レーザ光
ＣＢ … 第３レーザ光
Ｄａ，Ｄｂ … 相互間距離

Claims (10)

1. 第１光ビームを発する第１発光素子、第２光ビームを発する第２発光素子、および、第３光ビームを発する第３発光素子を備え、さらに、
   前記第１光ビームと前記第２光ビームと前記第３光ビームとのそれぞれが潜像担持体の被走査面を主走査方向へ走査するように、当該第１光ビームと当該第２光ビームと当該第３光ビームとのそれぞれを偏向する偏向手段、および、
   前記第１発光素子と前記第２発光素子と前記第３発光素子とのそれぞれの動作を個別に有効化しまたは無効化する発光制御手段を備え、
   前記被走査面の副走査方向への移動速度は、第１速度と、当該第１速度よりも低速である第２速度と、のいずれかに選択的に制御され、
   前記第１発光素子と前記第２発光素子とは、前記被走査面上の前記第１光ビームの走査位置と前記第２光ビームの走査位置との前記副走査方向における相互間距離が前記第１速度に応じた第１距離となるように配され、
   前記第３発光素子は、前記被走査面上の前記第１光ビームの走査位置と前記第３光ビームの走査位置との前記副走査方向における相互間距離が前記第２速度に応じた第２距離となるように配され、
   前記発光制御手段は、前記被走査面の前記副走査方向への移動速度が前記第１速度であるときに、前記第１発光素子と前記第２発光素子とのそれぞれの動作を有効化するとともに、前記第３発光素子の動作を無効化し、当該被走査面の当該副走査方向への移動速度が前記第２速度であるときに、当該第１発光素子と当該第３発光素子とのそれぞれの動作を有効化するとともに、当該第２発光素子の動作を無効化し、
   前記第１発光素子と前記第２発光素子と前記第３発光素子とのうちの２つは、１つの第１光源に設けられ、
   前記第１発光素子と前記第２発光素子と前記第３発光素子とのうちの残りの１つは、前記第１光源とは別の第２光源に設けられる、光走査装置。
2. 前記第１光源と前記第２光源との一方は、Ｐ波光源であり、
   前記第１光源と前記第２光源との他方は、Ｓ波光源である、請求項１に記載の光走査装置。
3. 前記第１光源と前記第２光源とは、前記主走査方向に沿う仮想平面において隣接して設けられる、請求項２に記載の光走査装置。
4. 前記第１光ビームと前記第２光ビームと前記第３光ビームとのうちの前記第１光源から発せられる第１光源ビームと、当該第１光ビームと当該第２光ビームと当該第３光ビームとのうちの前記第２光源から発せられる第２光源ビームと、を前記偏向手段へ導く光学系手段をさらに備え、
   前記光学系手段は、
   前記第１光源ビームと前記第２光源ビームとの一方を透過し、当該第１光源ビームと当該第２光源ビームとの他方を反射する、特性を持つ特性平面を有する特性平面手段、および、
   前記第１光源ビームと前記第２光源ビームとが、前記特性平面に対して互いに反対側から入射されるとともに、当該特性平面から互いに同じ方向へ出射されるように、当該第１光源ビームと当該第２光源ビームとの少なくとも一方を当該特性平面へ案内する案内手段を含み、
   前記特性平面から出射された前記第１光源ビームと前記第２光源ビームとが前記偏向手段へ導かれる、請求項２または３に記載の光走査装置。
5. 第１光ビームを発する第１発光素子、第２光ビームを発する第２発光素子、および、第３光ビームを発する第３発光素子を備え、さらに、
   前記第１光ビームと前記第２光ビームと前記第３光ビームとのそれぞれが潜像担持体の被走査面を主走査方向へ走査するように、当該第１光ビームと当該第２光ビームと当該第３光ビームとのそれぞれを偏向する偏向手段、および、
   前記第１発光素子と前記第２発光素子と前記第３発光素子とのそれぞれの動作を個別に有効化しまたは無効化する発光制御手段を備え、
   前記被走査面の副走査方向への移動速度は、第１速度と、当該第１速度よりも低速である第２速度と、のいずれかに選択的に制御され、
   前記第１発光素子と前記第２発光素子とは、前記被走査面上の前記第１光ビームの走査位置と前記第２光ビームの走査位置との前記副走査方向における相互間距離が前記第１速度に応じた第１距離となるように配され、
   前記第３発光素子は、前記被走査面上の前記第１光ビームの走査位置と前記第３光ビームの走査位置との前記副走査方向における相互間距離が前記第２速度に応じた第２距離となるように配され、
   前記発光制御手段は、前記被走査面の前記副走査方向への移動速度が前記第１速度であるときに、前記第１発光素子と前記第２発光素子とのそれぞれの動作を有効化するとともに、前記第３発光素子の動作を無効化し、当該被走査面の当該副走査方向への移動速度が前記第２速度であるときに、当該第１発光素子と当該第３発光素子とのそれぞれの動作を有効化するとともに、当該第２発光素子の動作を無効化し、
   前記第１発光素子と前記第２発光素子と前記第３発光素子とは、それぞれ別個の光源に設けられる、光走査装置。
6. 前記第２速度は、前記第１速度の１／２であり、
   前記第２距離は、前記第１距離の１／２である、請求項１から５までのいずれかに記載の光走査装置。
7. 前記第１発光素子と前記第２発光素子と前記第３発光素子とは、前記副走査方向における前記被走査面上の前記第３光ビームの走査位置が前記第１光ビームの走査位置と前記第２光ビームの走査位置との中間位置となるように配される、請求項６に記載の光走査装置。
8. 請求項１から７までのいずれかに記載の光走査装置を備える、画像形成装置。
9. 第１発光素子から発せられる第１光ビームと第２発光素子から発せられる第２光ビームと第３発光素子から発せられる第３光ビームとのそれぞれが潜像担持体の被走査面を主走査方向へ走査するように、当該第１光ビームと当該第２光ビームと当該第３光ビームとのそれぞれを偏向する偏向ステップ、および
   前記第１発光素子と前記第２発光素子と前記第３発光素子とのそれぞれの動作を個別に有効化しまたは無効化する発光制御ステップを含み、
   前記被走査面の副走査方向への移動速度は、第１速度と、当該第１速度よりも低速である第２速度と、のいずれかに選択的に制御され、
   前記第１発光素子と前記第２発光素子とについて、前記被走査面上の前記第１光ビームの走査位置と前記第２光ビームの走査位置との前記副走査方向における相互間距離が前記第１速度に応じた第１距離となるように配し、
   前記第３発光素子について、前記被走査面上の前記第１光ビームの走査位置と前記第３光ビームの走査位置との前記副走査方向における相互間距離が前記第２速度に応じた第２距離となるように配し、
   前記発光制御ステップにおいて、前記被走査面の前記副走査方向への移動速度が前記第１速度であるときに、前記第１発光素子と前記第２発光素子とのそれぞれの動作を有効化するとともに、前記第３発光素子の動作を無効化し、当該被走査面の当該副走査方向への移動速度が前記第２速度であるときに、当該第１発光素子と当該第３発光素子とのそれぞれの動作を有効化するとともに、当該第２発光素子の動作を無効化し、
   前記第１発光素子と前記第２発光素子と前記第３発光素子とのうちの２つについては、１つの第１光源に設け、
   前記第１発光素子と前記第２発光素子と前記第３発光素子とのうちの残りの１つについては、前記第１光源とは別の第２光源に設ける、光走査方法。
10. 第１発光素子から発せられる第１光ビームと第２発光素子から発せられる第２光ビームと第３発光素子から発せられる第３光ビームとのそれぞれが潜像担持体の被走査面を主走査方向へ走査するように、当該第１光ビームと当該第２光ビームと当該第３光ビームとのそれぞれを偏向する偏向ステップ、および
    前記第１発光素子と前記第２発光素子と前記第３発光素子とのそれぞれの動作を個別に有効化しまたは無効化する発光制御ステップを含み、
    前記被走査面の副走査方向への移動速度は、第１速度と、当該第１速度よりも低速である第２速度と、のいずれかに選択的に制御され、
    前記第１発光素子と前記第２発光素子とについて、前記被走査面上の前記第１光ビームの走査位置と前記第２光ビームの走査位置との前記副走査方向における相互間距離が前記第１速度に応じた第１距離となるように配し、
    前記第３発光素子について、前記被走査面上の前記第１光ビームの走査位置と前記第３光ビームの走査位置との前記副走査方向における相互間距離が前記第２速度に応じた第２距離となるように配し、
    前記発光制御ステップにおいて、前記被走査面の前記副走査方向への移動速度が前記第１速度であるときに、前記第１発光素子と前記第２発光素子とのそれぞれの動作を有効化するとともに、前記第３発光素子の動作を無効化し、当該被走査面の当該副走査方向への移動速度が前記第２速度であるときに、当該第１発光素子と当該第３発光素子とのそれぞれの動作を有効化するとともに、当該第２発光素子の動作を無効化し、
    前記第１発光素子と前記第２発光素子と前記第３発光素子とについて、それぞれ別個の光源に設ける、光走査方法。

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