JP7508744B2 - 複数範囲構造を有するセンサ組立体 - Google Patents
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Description
そのような公知の力センサとしては、埋込みキャビティの設計(buried cavity design)を有するものが挙げられ、この場合、ダイヤフラムまたは膜体はセンサダイの表面から埋込みキャビティまで延在してもよく、ダイヤフラム表面に外力が加わると、このことによりダイヤフラムが埋込みキャビティ内へとたわむ。他の公知の力センサは、裏側キャビティの設計(backside cavity design)を有し、この場合、ダイヤフラムまたは膜体はセンサダイの表面から裏側キャビティまで延在してもよく、ダイヤフラム表面に外力が加わると、このことによりダイヤフラムが裏側キャビティ内へとたわむ。そのような公知の力センサ設計の特徴は、正確に判定できる外力の範囲が、ダイヤフラムのたわみの動作範囲およびそこに加わる力を検出する際のダイヤフラムの感度の両方によって、制限されることである。これらのタイプの公知のセンサの各々において、このことにより、正確に測定できる外力の範囲が制限される。
第1の膜体は、第2の膜体の厚さとは異なる厚さを有してもよい。センサダイはまた、その中に配設されている、第1および第2の検知膜体の移動を測定するための電気検知素子も含む。一例では、電気検知素子は、センサダイの、第1の外側表面と埋込みキャビティとの間に挟まれている領域内に配設されている。一例では、電気検知素子は、第1の膜体と隣り合って配置されている第1組の電気検知素子と、第2の膜体と隣り合って配置されている第2組の電気検知素子と、を備える。センサデバイスは、電気検知素子と電気接続されている、センサダイの第1の外側表面に沿って露出している電気コンタクトを更に備える。一例では、センサデバイスは力センサである。
一例では、第2の膜体40は、約5ミクロン超であってもよく約50から550ミクロンであってもよい、端部部分46の厚さを有する。第2の膜体40の中央部44および端部部分46の厳密な厚さは、第1の膜体24の厚さ、第2の部材16の全体厚さ、および特定の最終使用センサ組立体の用途、といった要因に応じて異なり得ることを理解されたい。
センサダイ12は、センサダイ12、例えばセンサダイ12の第1の部材14の外側表面18に沿って、第2の膜体40の周縁部と隣り合って配置されている、第2組の電気検知素子54を備える。第2組の電気検知素子54は、第2の膜体40の表面に沿ってセンサダイ12に加わっている外力に応じた変化を検出するためのホイートストンブリッジ回路として構成されており、そのような力の量を判定するための電気信号出力を提供する、ピエゾ抵抗素子などの形態であってよい。第2組の電気コネクタ56は、第2組の電気検知素子54から第2組の電気コンタクト58まで延在し、電気コネクタ56および電気コンタクト58は、外側表面18と隣り合って配置されている。
そのような例示的なセンサ組立体80をこの様式で構成する目的は、第1の膜体24を大きくした構成によって、加わる力の量が比較的小さい場合に比較的程度の大きい力感度および正確な力測定を、ならびに、第2の膜体40を小さくした構成によって、加わる力の量が比較的大きい場合に比較的程度の小さい力感度および正確な力測定を、実現するためであり得る。
プロット204は、力をかけ続けると第2の膜体40が引き続きたわむことを示している。したがって、このグラフは、センサ組立体の第1の膜体24および第2の膜体40の、印加力の範囲(この例では第1の膜体24のたわみについてはゼロから約0.7N、および第2の膜体40のたわみについては約0.7から10N)に沿ったたわみ特性を示すように機能し、このことにより、これらの膜体にかかる力を力の圧力の範囲の間で判定するための情報を、正確に提供するように機能する。
この時点以降は、プロット302は、第1の膜体24の感度の急激な低下を示しているが、これとは対照的にプロット304は、増大する印加力の関数としてほぼ直線的なまたは線形の感度レベルを示している。測定の正確さを目的として、第2の膜体40がそのような線形の感度特性を示すことが望まれる。したがって、このグラフは、センサ組立体の第1の膜体24および第2の膜体40の、印加力の範囲(この例では第1の膜体24の感度についてはゼロから約0.7N、および第2の膜体40の感度については約0.7から10N)に沿った感度特性を示すように機能し、このことにより、これらの膜体にかかる力を力の圧力の範囲の間で判定するための情報を、正確に提供するように機能する。
Claims (10)
- センサダイ(12)を備えるセンサデバイス(10)であって、前記センサダイ(12)は、
- 前記センサダイの第1の外側表面(18)と、前記センサダイ内の埋込みキャビティ(27)との間に配設されている、前記第1の外側表面からある深さだけ延在する第1の膜体(24)と、
- 前記埋込みキャビティ(27)と、前記第1の外側表面の反対側の前記センサダイの第2の外側表面(34)の凹部(32)との間に配設されている、第2の膜体(44)と、
- 前記センサダイ(12)内に配設されている、検知用の前記第1の膜体(24)および検知用の前記第2の膜体の移動を測定するための電気検知素子(48、54)と、備えるとともに、
前記センサダイ(12)は、貼り合わされている第1の部材(14)および第2の部材(16)を備え、
前記埋込みキャビティ(27)は、前記第1の部材(14)と前記第2の部材(16)との間に形成されており、
前記第1の膜体(24)は前記第1の部材(14)と一体であり、
前記電気検知素子(48、54)は前記第1の部材(14)に設けられ、
前記第2の膜体(44)は前記第2の部材(16)と一体であり、
前記第2の部材(16)が前記埋込みキャビティ(27)を画定する凹部(26)と、前記センサダイの前記第2の外側表面(34)の前記凹部(32)を有する、
センサデバイス(10)。
- 前記電気検知素子は、
- 前記第1の膜体(24)と隣り合って配置されている第1組の電気検知素子(48)と、
- 前記第2の膜体(44)と隣り合って配置されている第2組の電気検知素子(54)と、を備える、
請求項1に記載のセンサデバイス。
- 前記センサデバイス(10)は、前記電気検知素子と電気接続されている、前記センサダイ(12)の前記第1の外側表面に沿って露出している電気コンタクト(58)を更に備える、
請求項1に記載のセンサデバイス。
- 前記電気検知素子(48、54)は、前記センサダイ(12)の、前記第1の外側表面と前記埋込みキャビティ(27)との間に挟まれている領域内に配設されている、
請求項1に記載のセンサデバイス。
- 前記第1の膜体(24)は、前記第2の膜体(44)の長さとは異なる長さを有するサイズとなっている、
請求項1に記載のセンサデバイス。
- 前記第1の膜体(24)は、前記第2の膜体(44)の厚さとは異なる厚さを有する、請求項1に記載のセンサデバイス。
- 前記埋込みキャビティ(27)は、前記センサダイ(12)の外部の環境まで延在するポートを含む、
請求項1に記載のセンサデバイス。
- 前記第1の部材(14)および前記第2の部材(16)はシリコンから形成されており、
前記第1の部材(14)および前記第2の部材(16)は直接接合されている、
請求項1から7のいずれか一項に記載のセンサデバイス(10)。
- 検知用の第1の膜体(24)と前記第1の膜体と垂直方向に隣り合っている第2の膜体(44)とが中に配設されているセンサダイ(12)を備えるセンサデバイス(10)に、外力をかけるステップであって、
前記センサデバイス(10)は請求項1から8のいずれか一項に記載のセンサデバイス(10)であり、
前記センサダイ(12)は、検知用の前記第1の膜体(24)と隣り合っている埋込みキャビティ(27)を備え、前記外力は検知用の前記第1の膜体(24)に向けられる、外力をかけるステップと、
前記センサダイ(12)内に配設されている電気検知素子(48、54)から、前記外力に応じて前記第1の膜体(24)および前記第2の膜体(44)の一方または両方がたわむ量を検出するステップと、
前記センサダイ(12)の表面上に配設されている電気コンタクト(58)を通して伝送されるセンサデバイス(10)として、前記電気検知素子(48、54)の出力から、前記外力の前記量を判定するステップと、
を含む、力を検知するための方法。
- 前記第1の膜体(24)は、外力量の第1の範囲内で外力を検出するように構成されており、
前記第2の膜体(44)は、前記外力量の第1の範囲とは異なる外力量の第2の範囲内で外力を検出するように構成されている、
請求項9に記載の方法。
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---|---|---|---|---|
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US11650110B2 (en) * | 2020-11-04 | 2023-05-16 | Honeywell International Inc. | Rosette piezo-resistive gauge circuit for thermally compensated measurement of full stress tensor |
US20240125658A1 (en) * | 2022-10-18 | 2024-04-18 | Measurement Specialties, Inc. | Membrane of a sensor with multiple ranges |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009503445A (ja) | 2005-07-22 | 2009-01-29 | エスティーマイクロエレクトロニクス エス.アール.エル. | 二重測定スケールおよび高フルスケール値を有する集積化圧力センサ |
US20160349129A1 (en) | 2015-05-27 | 2016-12-01 | Stmicroelectronics S.R.L. | Integrated pressure sensor with double measuring scale, pressure measuring device including the integrated pressure sensor, braking system, and method of measuring a pressure using the integrated pressure sensor |
JP2018159594A (ja) | 2017-03-22 | 2018-10-11 | アズビル株式会社 | 圧力センサチップ、圧力発信器、および圧力センサチップの製造方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4121334A (en) | 1974-12-17 | 1978-10-24 | P. R. Mallory & Co. Inc. | Application of field-assisted bonding to the mass production of silicon type pressure transducers |
US4625561A (en) * | 1984-12-06 | 1986-12-02 | Ford Motor Company | Silicon capacitive pressure sensor and method of making |
US5323656A (en) * | 1992-05-12 | 1994-06-28 | The Foxboro Company | Overpressure-protected, polysilicon, capacitive differential pressure sensor and method of making the same |
DE4333099A1 (de) * | 1993-09-29 | 1995-03-30 | Bosch Gmbh Robert | Kraftsensor und Verfahren zur Herstellung eines Kraftsensors |
US6645833B2 (en) * | 1997-06-30 | 2003-11-11 | Max-Planck-Gesellschaft Zur Foerderung Der Wissenschaften E. V. | Method for producing layered structures on a substrate, substrate and semiconductor components produced according to said method |
US6899137B2 (en) * | 1999-06-28 | 2005-05-31 | California Institute Of Technology | Microfabricated elastomeric valve and pump systems |
US7166910B2 (en) * | 2000-11-28 | 2007-01-23 | Knowles Electronics Llc | Miniature silicon condenser microphone |
EP2275793A1 (en) * | 2006-05-23 | 2011-01-19 | Sensirion Holding AG | A pressure sensor having a chamber and a method for fabricating the same |
EP1860418A1 (en) * | 2006-05-23 | 2007-11-28 | Sensirion AG | A method for fabricating a pressure sensor using SOI wafers |
US8375799B2 (en) * | 2010-12-10 | 2013-02-19 | Honeywell International Inc. | Increased sensor die adhesion |
US20140090485A1 (en) * | 2012-10-02 | 2014-04-03 | Robert Bosch Gmbh | MEMS Pressure Sensor Assembly |
US9731961B2 (en) * | 2015-07-10 | 2017-08-15 | Invensense, Inc. | MEMS-CMOS-MEMS platform |
US10571348B2 (en) * | 2016-08-30 | 2020-02-25 | Honeywell International Inc. | Overforce control through sense die design |
US10036676B1 (en) * | 2017-03-15 | 2018-07-31 | Honeywell International Inc. | Microelectromechanical systems (MEMS) force die with buried cavity vented to the edges |
-
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009503445A (ja) | 2005-07-22 | 2009-01-29 | エスティーマイクロエレクトロニクス エス.アール.エル. | 二重測定スケールおよび高フルスケール値を有する集積化圧力センサ |
US20160349129A1 (en) | 2015-05-27 | 2016-12-01 | Stmicroelectronics S.R.L. | Integrated pressure sensor with double measuring scale, pressure measuring device including the integrated pressure sensor, braking system, and method of measuring a pressure using the integrated pressure sensor |
JP2018159594A (ja) | 2017-03-22 | 2018-10-11 | アズビル株式会社 | 圧力センサチップ、圧力発信器、および圧力センサチップの製造方法 |
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