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JP7496417B2 - Polyimide film and its manufacturing method - Google Patents

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JP7496417B2
JP7496417B2 JP2022529520A JP2022529520A JP7496417B2 JP 7496417 B2 JP7496417 B2 JP 7496417B2 JP 2022529520 A JP2022529520 A JP 2022529520A JP 2022529520 A JP2022529520 A JP 2022529520A JP 7496417 B2 JP7496417 B2 JP 7496417B2
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gpa
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ドン ヨン キム,
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Description

ポリイミドフィルム及びその製造方法に関するものである。より詳細には、低い弾性率で高い降伏点を有し、繰り返し変形にも損傷が少ないポリイミドフィルム及びその製造方法に関するものである。 This invention relates to a polyimide film and a method for manufacturing the same. More specifically, this invention relates to a polyimide film that has a low elastic modulus, a high yield point, and is less damaged even with repeated deformation, and a method for manufacturing the same.

カーブド、ベンダーブル、フォルダブル、ローラブルなどのようなフレキシブルディスプレイは、最近、学界と産業界の両方から注目を集めている次世代ディスプレイである。フレキシブルディスプレイを構成する様々な種類の素材のうち、機能性フィルム/コーティング材料は、フレキシブルディスプレイを構成する重要な高分子基板材料であって、フレキシブルディスプレイの成功的な実現及び開発するために必ず必要な中核材料であるといえ、このような素材としてポリイミドが注目されている。 Flexible displays, such as curved, bendable, foldable, and rollable displays, are next-generation displays that have been attracting attention from both academia and industry recently. Among the various types of materials that make up flexible displays, functional film/coating materials are important polymer substrate materials that make up flexible displays, and can be said to be core materials that are absolutely necessary for the successful realization and development of flexible displays, with polyimide attracting attention as such a material.

ポリイミドは、主鎖にヘテロイミド環を有することを特徴とするポリマーであって、優れた耐熱性の他にも機械的物性、難燃性、耐薬品性、低誘電率などに優れ、コーティング材料、成形材料、複合材料などの幅広い用途に適用されている。 Polyimides are polymers that have heteroimide rings in the main chain. In addition to excellent heat resistance, they also have excellent mechanical properties, flame retardancy, chemical resistance, and low dielectric constant, and are used in a wide range of applications, including coating materials, molding materials, and composite materials.

フレキシブルディスプレイ用の高分子基板に求められる最も重要な物理的特性は、まさに柔軟性であるといえる。特に、このような高分子基板は、フレキシブルディスプレイが繰り返し変形を引き起こすカービング、ベンディング、フォールディング、ローリング、並びにストレッチングの過程でも損傷を引き起こさないだけでなく、様々な初期物性も失わななければならない。 The most important physical property required for a polymer substrate for a flexible display is flexibility. In particular, such a polymer substrate must not only not be damaged during the curving, bending, folding, rolling, and stretching processes that repeatedly cause deformation in flexible displays, but also must not lose its various initial physical properties.

本発明の目的は、低い弾性率で高い降伏点を有し、繰り返し変形にも損傷が少ないポリイミドフィルムを提供することである。 The object of the present invention is to provide a polyimide film that has a low elastic modulus, a high yield point, and is less susceptible to damage even with repeated deformation.

本発明の他の目的は、前述のポリイミドフィルムの製造方法を提供することである。 Another object of the present invention is to provide a method for producing the aforementioned polyimide film.

1.一態様によれば、二無水物単量体及びジアミン単量体の反応から形成されたポリアミック酸のイミド化から誘導されるポリイミドフィルムであって、前記二無水物単量体は、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)を、二無水物単量体の総モル量を基準にして約10モル%~約90モル%で含み、前記ポリイミドフィルムは、下記式1を満たし、約2GPa~約4.5GPaのモジュラスを有するポリイミドフィルムが提供される。 1. According to one embodiment, a polyimide film is provided which is derived from the imidization of a polyamic acid formed from the reaction of a dianhydride monomer and a diamine monomer, the dianhydride monomer comprising about 10 mol % to about 90 mol % of biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) based on the total molar amount of the dianhydride monomer, and the polyimide film satisfies the following formula 1 and has a modulus of about 2 GPa to about 4.5 GPa.

<式1>
約21MPa/%≦A/B≦約30MPa/%
<Formula 1>
About 21 MPa/%≦A/B≦about 30 MPa/%

前記式1中、Aは、ポリイミドフィルムの降伏強度であって、単位はMPaであり、Bは、ポリイミドフィルムの降伏点であって、単位は%である。 In the above formula 1, A is the yield strength of the polyimide film in MPa, and B is the yield point of the polyimide film in %.

2.前記第1具現例において、前記二無水物単量体は、ピロメリット酸二無水物(PMDA)をさらに含んでもよい。 2. In the first embodiment, the dianhydride monomer may further include pyromellitic dianhydride (PMDA).

3.前記第2具現例において、前記ピロメリット酸二無水物は、二無水物単量体の総モル量を基準にして約10モル%~約90モル%で含まれてもよい。 3. In the second embodiment, the pyromellitic dianhydride may be included in an amount of about 10 mol% to about 90 mol% based on the total molar amount of the dianhydride monomers.

4.前記第1~第3具現例のいずれかにおいて、前記ジアミン単量体は、m-トリジン(m-TD)、4,4’-オキシジアニリン(ODA)、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン(TPE-R)、2,2-ビス(4-[4-アミノフェノキシ]-フェニル)プロパン(PAPP)、またはこれらの組み合わせを含んでもよい。 4. In any of the first to third embodiments, the diamine monomer may include m-tolidine (m-TD), 4,4'-oxydianiline (ODA), 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene (TPE-R), 2,2-bis(4-[4-aminophenoxy]-phenyl)propane (PAPP), or a combination thereof.

5.前記第4具現例において、前記ジアミン単量体は、m-トリジン(m-TD)及び4,4’-オキシジアニリン(ODA)を約1:99~約20:80のモル比で含んでもよい。 5. In the fourth embodiment, the diamine monomer may include m-tolidine (m-TD) and 4,4'-oxydianiline (ODA) in a molar ratio of about 1:99 to about 20:80.

6.前記第1~第5具現例のいずれかにおいて、前記ポリイミドフィルムの降伏強度は、約50MPa~約80MPaであってもよい。 6. In any of the first to fifth embodiments, the polyimide film may have a yield strength of about 50 MPa to about 80 MPa.

7.前記第1~第6具現例のいずれかにおいて、前記ポリイミドフィルムの降伏点は、約2.2%~約2.9%であってもよい。 7. In any of the first to sixth embodiments, the yield point of the polyimide film may be about 2.2% to about 2.9%.

8.別の態様によれば、前記第1~第7具現例のいずれかのポリイミドフィルムの製造方法であって、前記方法は、二無水物単量体、ジアミン単量体及び有機溶媒を混合して反応させ、ポリアミック酸溶液を形成し、前記ポリアミック酸溶液に脱水剤及びイミド化剤を混合してポリイミド前駆体組成物を形成し、前記ポリイミド前駆体組成物を支持体上にキャストし、乾燥してゲルフィルムを製造し、並びに前記ゲルフィルムを熱処理してポリイミドフィルムを形成する、ステップを含んでよい。 8. According to another aspect, in the method for producing a polyimide film according to any one of the first to seventh embodiments, the method may include the steps of mixing and reacting a dianhydride monomer, a diamine monomer, and an organic solvent to form a polyamic acid solution, mixing a dehydrating agent and an imidization agent into the polyamic acid solution to form a polyimide precursor composition, casting the polyimide precursor composition on a support and drying to produce a gel film, and heat-treating the gel film to form a polyimide film.

9.前記第8具現例において、前記熱処理は、約100℃~約700℃で行われてもよい。 9. In the eighth embodiment, the heat treatment may be performed at about 100°C to about 700°C.

本発明のポリイミドフィルム及びその製造方法は、低い弾性率で高い降伏点を有するポリイミドフィルムを提供する効果を奏する。 The polyimide film and manufacturing method thereof of the present invention have the effect of providing a polyimide film having a low elastic modulus and a high yield point.

本発明を説明するにあたり、関連する公知技術の具体的な説明が、本発明の要旨を不要に曖昧にする可能性があると判断される場合、その詳細な説明は省略する。 When describing the present invention, if it is determined that a specific description of related publicly known technology may unnecessarily obscure the gist of the present invention, that detailed description will be omitted.

本明細書で言及した「含む」、「有する」、「なされる」などが使用される場合、「~のみ」が使用されない限り、他の部分が追加されてもよい。構成要素を単数で表現した場合に、特に明示的な記載事項がない限り、複数を含む場合を含む。 When the terms "include," "have," "be made," etc. are used in this specification, other parts may be added unless "only" is used. When a component is expressed in the singular, it includes the plural unless otherwise expressly stated.

また、構成要素を解析するにあたり、別途の明示的な記載がなくても誤差範囲を含むものと解釈する。 In addition, when analyzing components, it is assumed that a margin of error is included even if there is no other explicit statement.

本明細書において、数値範囲を示す「a~b」で、「~」は、≧aかつ≦bと定義する。 In this specification, when a numerical range is indicated as "a~b," "~" is defined as ≧a and ≦b.

一態様によれば、ポリイミドフィルムが提供される。本発明の発明者は、二無水物単量体及びジアミン単量体の反応から形成されたポリアミック酸のイミド化から誘導されるポリイミドフィルムにおいて、ポリイミドフィルムが二無水物単量体として、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)を約10モル%~約90モル%で含み、かつ下記式1を満たす場合、低いモジュラス(例えば、約4.5GPa以下のモジュラス)で高い降伏点(例えば、約2.2%以上の降伏点)を有し、その結果、ポリイミドフィルムに繰り返し変形が加えられても損傷の程度が少ないことを見出し、本発明を完成するようになった。 According to one embodiment, a polyimide film is provided. The inventors of the present invention have discovered that in a polyimide film derived from the imidization of a polyamic acid formed by the reaction of a dianhydride monomer and a diamine monomer, when the polyimide film contains about 10 mol% to about 90 mol% of biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) as the dianhydride monomer and satisfies the following formula 1, the polyimide film has a low modulus (e.g., a modulus of about 4.5 GPa or less) and a high yield point (e.g., a yield point of about 2.2% or more), and as a result, the polyimide film is less damaged even when repeatedly deformed, and have completed the present invention.

二無水物単量体は、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を、二無水物単量体の総モル量を基準にして約10モル%~約90モル%(例えば、10モル%、15モル%、20モル%、25モル%、30モル%、35モル%、40モル%、45モル%、50モル%、55モル%、60モル%、65モル%、70モル%、75モル%、80モル%、85モル%または90モル%)で含んでもよい。前記範囲において、ポリイミドフィルムの弾性区間を長くなり、低い弾性率で高い降伏点を有するポリイミドフィルムの製造が可能である。例えば、二無水物単量体は、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を、二無水物単量体の総モル量を基準にして約15モル%~約80モル%、他の例を挙げると、約20モル%~約70モル%、別の例を挙げると、約30モル%~約50モル%で含んでもよいが、これに限定されるものではない。 The dianhydride monomer may contain biphenyltetracarboxylic dianhydride in an amount of about 10 mol% to about 90 mol% (e.g., 10 mol%, 15 mol%, 20 mol%, 25 mol%, 30 mol%, 35 mol%, 40 mol%, 45 mol%, 50 mol%, 55 mol%, 60 mol%, 65 mol%, 70 mol%, 75 mol%, 80 mol%, 85 mol% or 90 mol%) based on the total molar amount of the dianhydride monomer. In this range, the elastic range of the polyimide film is extended, and a polyimide film having a low elastic modulus and a high yield point can be produced. For example, the dianhydride monomer may contain biphenyltetracarboxylic dianhydride in an amount of about 15 mol% to about 80 mol%, another example, about 20 mol% to about 70 mol%, and another example, about 30 mol% to about 50 mol%, based on the total molar amount of the dianhydride monomer, but is not limited thereto.

ポリイミドフィルムは、下記式1を満たしてもよい。 The polyimide film may satisfy the following formula 1:

<式1>
約21MPa/%≦A/B≦約30MPa/%
<Formula 1>
About 21 MPa/%≦A/B≦about 30 MPa/%

前記式1中、Aは、ポリイミドフィルムの降伏強度であって、単位はMpaであり、Bは、ポリイミドフィルムの降伏点であって、単位は%である。A/Bが約21MPa/%未満の場合、降伏点が低く引張強度が低い問題があり、A/Bが約30MPa/%超過の場合、本発明が求める低いモジュラスを満たさない問題があり、その結果、ポリイミドフィルムに繰り返し変形が加えられる場合、損傷が多数生じる可能性がある。ここで、「降伏強度」及び「降伏点」は、ASTM D 882基準に基づき、引張速度を200mm/minとして引張試験機を用いて測定されてもよいが、これに限定されるものではない。一具現例によれば、A/B値は、21MPa/%、22MPa/%、23MPa/%、24MPa/%、25MPa/%、26MPa/%、27MPa/%、28MPa/%、29MPa/%または30MPa/%、他の具現例によれば、約21MPa/%~約29MPa/%、別の具現例によれば、約22MPa/%~約28MPa/%であってもよいが、これに限定されるものではない。 In the above formula 1, A is the yield strength of the polyimide film in MPa, and B is the yield point of the polyimide film in %,. If A/B is less than about 21 MPa/%, there is a problem of low yield point and low tensile strength, and if A/B exceeds about 30 MPa/%, there is a problem of not meeting the low modulus required by the present invention, and as a result, when the polyimide film is repeatedly deformed, there is a possibility of a lot of damage occurring. Here, the "yield strength" and "yield point" may be measured using a tensile tester at a tensile speed of 200 mm/min based on the ASTM D 882 standard, but are not limited thereto. According to one embodiment, the A/B value may be, but is not limited to, 21 MPa/%, 22 MPa/%, 23 MPa/%, 24 MPa/%, 25 MPa/%, 26 MPa/%, 27 MPa/%, 28 MPa/%, 29 MPa/% or 30 MPa/%, according to another embodiment, about 21 MPa/% to about 29 MPa/%, according to another embodiment, about 22 MPa/% to about 28 MPa/%.

ポリイミドフィルムは、約2GPa~約4.5GPa(例えば、2GPa、2.1GPa、2.2GPa、2.3GPa、2.4GPa、2.5GPa、2.6GPa、2.7GPa、2.8GPa、2.9GPa、3GPa、3.1GPa、3.2GPa、3.3GPa、3.4GPa、3.5GPa、3.6GPa、3.7GPa、3.8GPa、3.9GPa、4GPa、4.1GPa、4.2GPa、4.3GPa、4.4GPaまたは4.5GPa)のモジュラスを有してもよい。ここで、「モジュラス」は、ASTM D 882基準に基づき、引張速度を200mm/minとして引張試験機を用いて測定されてもよいが、これに限定されるものではない。例えば、ポリイミドフィルムのモジュラスは、約2GPa~約4.2GPa、他の例を挙げると、約2.5GPa~約4.1GPa、別の例を挙げると、約2.5GPa~約4.0GPaであってもよいが、これに限定されるものではない。 The polyimide film may have a modulus of about 2 GPa to about 4.5 GPa (e.g., 2 GPa, 2.1 GPa, 2.2 GPa, 2.3 GPa, 2.4 GPa, 2.5 GPa, 2.6 GPa, 2.7 GPa, 2.8 GPa, 2.9 GPa, 3 GPa, 3.1 GPa, 3.2 GPa, 3.3 GPa, 3.4 GPa, 3.5 GPa, 3.6 GPa, 3.7 GPa, 3.8 GPa, 3.9 GPa, 4 GPa, 4.1 GPa, 4.2 GPa, 4.3 GPa, 4.4 GPa, or 4.5 GPa). Here, the "modulus" may be measured using a tensile tester at a tensile speed of 200 mm/min according to the ASTM D 882 standard, but is not limited thereto. For example, the modulus of the polyimide film may be, but is not limited to, about 2 GPa to about 4.2 GPa, or, in another example, about 2.5 GPa to about 4.1 GPa, or, in another example, about 2.5 GPa to about 4.0 GPa.

ポリイミドフィルムは、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物以外の二無水物単量体をさらに含んでもよい。このような二無水物単量体としては、本発明の効果に悪影響を及ぼさない範囲内で様々な二無水物単量体が制限なく使用されてもよい。このような二無水物単量体の例としては、ピロメリット酸二無水物(PMDA)などが挙げられる。ビフェニルテトラカルボン酸二無水物以外の二無水物単量体は、二無水物単量体の総モル量を基準にして、例えば、約10モル%~約90モル%(例えば、10モル%、15モル%、20モル%、25モル%、30モル%、35モル%、40モル%、45モル%、50モル%、55モル%、60モル%、65モル%、70モル%、75モル%、80モル%、85モル%または90モル%)、他の例を挙げると、約20モル%~約85モル%、別の例を挙げると、約30モル%~約80モル%、別の例を挙げると、約50モル%~約70モル%で含まれてもよいが、これに限定されるものではない。例えば、ピロメリット酸二無水物は、二無水物単量体の総モル量を基準にして、例えば、約10モル%~約90モル%、他の例を挙げると、約20モル%~約85モル%、別の例を挙げると、約30モル%~約80モル%、別の例を挙げると、約50モル%~約70モル%で含まれてもよいが、これに限定されるものではない。 The polyimide film may further contain a dianhydride monomer other than biphenyltetracarboxylic dianhydride. As such a dianhydride monomer, various dianhydride monomers may be used without limitation within the scope that does not adversely affect the effects of the present invention. An example of such a dianhydride monomer is pyromellitic dianhydride (PMDA). The dianhydride monomer other than biphenyltetracarboxylic dianhydride may be present in an amount, for example, from about 10 mol% to about 90 mol% (e.g., 10 mol%, 15 mol%, 20 mol%, 25 mol%, 30 mol%, 35 mol%, 40 mol%, 45 mol%, 50 mol%, 55 mol%, 60 mol%, 65 mol%, 70 mol%, 75 mol%, 80 mol%, 85 mol%, or 90 mol%), for example, from about 20 mol% to about 85 mol%, for example, from about 30 mol% to about 80 mol%, and for example, from about 50 mol% to about 70 mol%, based on the total molar amount of the dianhydride monomers, but is not limited thereto. For example, pyromellitic dianhydride may be present in an amount of, for example, about 10 mol% to about 90 mol%, for example, about 20 mol% to about 85 mol%, for example, about 30 mol% to about 80 mol%, or for example, about 50 mol% to about 70 mol%, based on the total molar amount of dianhydride monomers, but is not limited thereto.

ジアミン単量体としては、本発明の効果に悪影響を及ぼさない範囲内で様々なジアミン単量体が制限なく使用されてもよい。このようなジアミン単量体の例としては、m-トリジン(m-TD)、4,4’-オキシジアニリン(ODA)、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン(TPE-R)、2,2-ビス(4-[4-アミノフェノキシ]-フェニル)プロパン(PAPP)などが挙げられ、これらは単独でまたは2種以上組み合わせて使用されてもよいが、これに限定されるものではない。 As the diamine monomer, various diamine monomers may be used without limitation within the scope that does not adversely affect the effects of the present invention. Examples of such diamine monomers include m-tolidine (m-TD), 4,4'-oxydianiline (ODA), 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene (TPE-R), 2,2-bis(4-[4-aminophenoxy]-phenyl)propane (PAPP), etc., which may be used alone or in combination of two or more kinds, but are not limited thereto.

一具現例によれば、ジアミン単量体は4,4’-オキシジアニリンを含んでもよく、このような場合、低い弾性率で高い降伏点を有するポリイミドフィルムの製造が可能である。このとき、4,4’-オキシジアニリンの含有量は、例えば、ジアミン単量体の総モル数を基準にして0モル%超過~約100モル%(例えば、1モル%、5モル%、10モル%、15モル%、20モル%、25モル%、30モル%、35モル%、40モル%、45モル%、50モル%、55モル%、60モル%、65モル%、70モル%、75モル%、80モル%、85モル%、90モル%、95モル%、または100モル%)、他の例を挙げると、約50モル%~約100モル%、別の例を挙げると、約70モル%~約100モル%、別の例を挙げると、約75モル%~約100モル%、別の例を挙げると、約80モル%~約100モル%であってもよいが、これに限定されるものではない。 According to one embodiment, the diamine monomer may include 4,4'-oxydianiline, in which case it is possible to produce a polyimide film having a low elastic modulus and a high yield point. In this case, the content of 4,4'-oxydianiline may be, for example, from more than 0 mol% to about 100 mol% (e.g., 1 mol%, 5 mol%, 10 mol%, 15 mol%, 20 mol%, 25 mol%, 30 mol%, 35 mol%, 40 mol%, 45 mol%, 50 mol%, 55 mol%, 60 mol%, 65 mol%, 70 mol%, 75 mol%, 80 mol%, 85 mol%, 90 mol%, 95 mol%, or 100 mol%) based on the total number of moles of the diamine monomer, or from about 50 mol% to about 100 mol%, or from about 70 mol% to about 100 mol%, or from about 75 mol% to about 100 mol%, or from about 80 mol% to about 100 mol%, but is not limited thereto.

他の具現例によれば、ジアミン単量体はm-トリジンを含んでもよく、このような場合、低い弾性率で高い降伏点を有するポリイミドフィルムの製造が可能である。このとき、m-トリジンの含有量は、例えば、ジアミン単量体の総モル数を基準にして0モル%超過~約100モル%(例えば、1モル%、5モル%、10モル%、15モル%、20モル%、25モル%、30モル%、35モル%、40モル%、45モル%、50モル%、55モル%、60モル%、65モル%、70モル%、75モル%、80モル%、85モル%、90モル%、95モル%または100モル%)、他の例を挙げると、0モル%超過~約50モル%、別の例を挙げると、0モル%超過~約30モル%、別の例を挙げると、0モル%超過~約25モル%、別の例を挙げると、0モル%超過~約20モル%であってもよいが、これに限定されるものではない。 In another embodiment, the diamine monomer may include m-tolidine, in which case it is possible to produce a polyimide film having a low elastic modulus and a high yield point. In this case, the content of m-tolidine may be, for example, from more than 0 mol% to about 100 mol% (e.g., 1 mol%, 5 mol%, 10 mol%, 15 mol%, 20 mol%, 25 mol%, 30 mol%, 35 mol%, 40 mol%, 45 mol%, 50 mol%, 55 mol%, 60 mol%, 65 mol%, 70 mol%, 75 mol%, 80 mol%, 85 mol%, 90 mol%, 95 mol% or 100 mol%) based on the total number of moles of the diamine monomer, or from more than 0 mol% to about 50 mol%, or from more than 0 mol% to about 30 mol%, or from more than 0 mol% to about 25 mol%, or from more than 0 mol% to about 20 mol%, but is not limited thereto.

別の具現例によれば、ジアミン単量体は、m-トリジンと4,4’-オキシジアニリンとを含んでもよく、このような場合、m-トリジンと4,4’-オキシジアニリンとが発揮するそれぞれの効果がシナジーを引き起こし、低い弾性率で高い降伏点を有するポリイミドフィルムの製造が可能である。このとき、m-トリジンと4,4’-オキシジアニリンとのモル比は、約1:99~約99:1(例えば、1:99、5:95、10:90、15:85、20:80、25:75、30:70、35:65、40:60、45:55、50:50、55:45、60:40、65:35、70:30、75:25、80:20、85:15、90:10、95:5、または99:1)、例えば、約1:99~約50:50、他の例を挙げると、約1:99~約30:70、別の例を挙げると、約1:99~約25:75、別の例を挙げると、約1:99~約30:70、別の例を挙げると、約1:99~約20:80、別の例を挙げると、約5:95~約20:80であってもよいが、これに限定されるものではない。m-トリジンと4,4’-オキシジアニリンとの合計量は、ジアミン単量体の総モル数を基準にして、例えば、約11モル%~約100モル%、他の例を挙げると、約50モル%~約100モル%、別の例を挙げると、約90モル%~約100モル%であってもよいが、これに限定されるものではない。 According to another embodiment, the diamine monomer may include m-tolidine and 4,4'-oxydianiline. In this case, the respective effects of m-tolidine and 4,4'-oxydianiline cause synergy, making it possible to produce a polyimide film having a low elastic modulus and a high yield point. In this case, the molar ratio of m-tolidine to 4,4'-oxydianiline is about 1:99 to about 99:1 (e.g., 1:99, 5:95, 10:90, 15:85, 20:80, 25:75, 30:70, 35:65, 40:60, 45:55, 50:50, 55:45, 60:40, 65:35, 70:30, 75:25, 80:20, 85:15, 90:10, 95 :5, or 99:1), for example, about 1:99 to about 50:50, for example, about 1:99 to about 30:70, for example, about 1:99 to about 25:75, for example, about 1:99 to about 30:70, for example, about 1:99 to about 20:80, for example, about 5:95 to about 20:80, but is not limited thereto. The total amount of m-tolidine and 4,4'-oxydianiline may be, for example, about 11 mol% to about 100 mol%, for example, about 50 mol% to about 100 mol%, for example, about 90 mol% to about 100 mol%, based on the total number of moles of diamine monomer, but is not limited thereto.

一具現例によれば、ポリイミドフィルムは、約50MPa~約80MPa(例えば、50MPa、55MPa、60MPa、65MPa、70MPa、75MPaまたは80Mpa)が降伏強度を有してもよい。例えば、ポリイミドフィルムの降伏強度は、約50MPa~約75MPa、他の例を挙げると、約50MPa~約70MPa、別の例を挙げると、約60MPa~約70MPaであってもよいが、これに限定されるものではない。 According to one embodiment, the polyimide film may have a yield strength of about 50 MPa to about 80 MPa (e.g., 50 MPa, 55 MPa, 60 MPa, 65 MPa, 70 MPa, 75 MPa, or 80 MPa). For example, the yield strength of the polyimide film may be, but is not limited to, about 50 MPa to about 75 MPa, for example, about 50 MPa to about 70 MPa, and for another example, about 60 MPa to about 70 MPa.

一具現例によれば、ポリイミドフィルムは、約2.2%~約2.9%(例えば、2.2%、2.25%、2.3%、2.35%、2.4%、2.45%、2.5%、2.55%、2.6%、2.65%、2.7%、2.75%、2.8%、2.85%、または2.9%)の降伏点を有してもよい。例えば、ポリイミドフィルムの降伏点は、約2.2%~約2.7%、他の例を挙げると、約2.2%~約2.65%であってもよいが、これに限定されるものではない。 According to one embodiment, the polyimide film may have a yield point of about 2.2% to about 2.9% (e.g., 2.2%, 2.25%, 2.3%, 2.35%, 2.4%, 2.45%, 2.5%, 2.55%, 2.6%, 2.65%, 2.7%, 2.75%, 2.8%, 2.85%, or 2.9%). For example, the yield point of the polyimide film may be about 2.2% to about 2.7%, or another example, about 2.2% to about 2.65%, but is not limited thereto.

ポリイミドフィルムの厚さは、ポリイミドフィルムの用途、使用環境、物性などを考慮して適宜選択されてもよい。例えば、ポリイミドフィルムの厚さは、約10μm~約500μm、他の例を挙げると、約20μm~約50μm、別の例を挙げると、約40μm~約50μmであってもよいが、これに限定されるものではない。 The thickness of the polyimide film may be appropriately selected taking into consideration the application, usage environment, physical properties, etc. of the polyimide film. For example, the thickness of the polyimide film may be about 10 μm to about 500 μm, as another example, about 20 μm to about 50 μm, as another example, about 40 μm to about 50 μm, but is not limited thereto.

前述のポリイミドフィルムは、ポリイミドフィルムの製造分野において通常使用されている様々な方法で製造されてもよい。例えば、ポリイミドフィルムは、二無水物単量体、ジアミン単量体及び有機溶媒を混合して反応させ、ポリアミック酸溶液を形成し、前記ポリアミック酸溶液に脱水剤及びイミド化剤を混合してポリイミド前駆体組成物を形成し、前記ポリイミド前駆体組成物を支持体上にキャストし、乾燥してゲルフィルムを製造し、並びに前記ゲルフィルムを熱処理してポリイミドフィルムを形成する、ステップを含んで製造されてもよい。二無水物単量体、ジアミン単量体に関する説明は前述したので、その説明は省略する。 The polyimide film may be manufactured by various methods commonly used in the field of polyimide film manufacturing. For example, the polyimide film may be manufactured by the steps of mixing and reacting a dianhydride monomer, a diamine monomer, and an organic solvent to form a polyamic acid solution, mixing a dehydrating agent and an imidizing agent into the polyamic acid solution to form a polyimide precursor composition, casting the polyimide precursor composition on a support and drying it to form a gel film, and heat-treating the gel film to form a polyimide film. The dianhydride monomer and the diamine monomer have been described above, so their description will be omitted.

まず、二無水物単量体及びジアミン単量体を反応させ、ポリアミック酸を製造することができる。より詳細には、二無水物単量体及びジアミン単量体を有機溶媒中で重合してポリアミック酸溶液を製造することができる。この場合、すべての単量体は一度に添加されるか、または各単量体は順次添加されてもよく、この場合、単量体間の部分的重合が起こることもある。 First, a dianhydride monomer and a diamine monomer are reacted to produce a polyamic acid. More specifically, a dianhydride monomer and a diamine monomer are polymerized in an organic solvent to produce a polyamic acid solution. In this case, all the monomers may be added at once, or each monomer may be added sequentially, in which case partial polymerization between the monomers may occur.

有機溶媒としては、ポリアミック酸が溶解できる溶媒であれば特に限定されず、例えば、非プロトン性極性有機溶媒(aprotic polar organic solvent)であってもよい。非プロトン性極性有機溶媒の非限定的な例として、N,N’-ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N’-ジメチルアセトアミド(DMAc)などのアミド系溶媒、p-クロロフェノール、o-クロロフェノールなどのフェノール系溶媒、N-メチルピロリドン(NMP)、ガンマ-ブチロラクトン(GBL)、ジグリム(Diglyme)などが挙げられ、これらは単独でまたは2種以上組み合わせて使用されてもよい。場合によっては、トルエン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、水などの補助溶媒を使用してポリアミック酸の溶解度を調節することもできる。一具現例において、有機溶媒はアミド系溶媒であってもよく、例えば、N,N-ジメチルホルムアミドまたはN,N-ジメチルアセトアミドであってもよいが、これに限定されるものではない。 The organic solvent is not particularly limited as long as it is a solvent in which polyamic acid can be dissolved, and may be, for example, an aprotic polar organic solvent. Non-limiting examples of the aprotic polar organic solvent include amide-based solvents such as N,N'-dimethylformamide (DMF) and N,N'-dimethylacetamide (DMAc), phenol-based solvents such as p-chlorophenol and o-chlorophenol, N-methylpyrrolidone (NMP), gamma-butyrolactone (GBL), diglyme, etc., which may be used alone or in combination of two or more. In some cases, the solubility of the polyamic acid may be adjusted using an auxiliary solvent such as toluene, tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, water, etc. In one embodiment, the organic solvent may be an amide-based solvent, for example, N,N-dimethylformamide or N,N-dimethylacetamide, but is not limited thereto.

その後、ポリアミック酸溶液に脱水剤及びイミド化剤を混合してポリイミド前駆体組成物を形成することができる。 Then, a dehydrating agent and an imidizing agent can be mixed into the polyamic acid solution to form a polyimide precursor composition.

脱水剤とは、ポリアミック酸に対する脱水作用によって閉環反応を促進するものであり、例えば、脂肪族酸無水物、芳香族酸無水物、N,N’-ジアルキルカルボジイミド、低級脂肪族ハロゲン化物、ハロゲン化低級脂肪酸無水物、アリールホスホン酸ジハロゲン化物、チオニルハロゲン化物などが挙げられ、これらは単独でまたは2種以上混合して使用されてもよい。その中でも、入手の容易性、及びコストの観点から、酢酸無水物、プロピオン酸無水物、乳酸無水物などの脂肪族酸無水物を単独でまたは2種以上混合して使用してもよい。 The dehydrating agent promotes the ring-closing reaction by dehydrating the polyamic acid. Examples of the dehydrating agent include aliphatic acid anhydrides, aromatic acid anhydrides, N,N'-dialkylcarbodiimides, lower aliphatic halides, halogenated lower fatty acid anhydrides, arylphosphonic acid dihalides, and thionyl halides. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, from the viewpoints of availability and cost, aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and lactic anhydride may be used alone or in combination of two or more.

イミド化剤とは、ポリアミック酸に対する閉環反応を促進する効果を有する成分を意味し、例えば、脂肪族3級アミン、芳香族3級アミン、及び複素環式3級アミンなどが用いられる。その中でも、触媒としての反応性の観点から、複素環式3級アミンを使用されてもよい。その例としては、キノリン、イソキノリン、β-ピコリン、ピリジンなどがあり、これらは単独でまたは2種以上混合して使用されてもよい。 The imidizing agent means a component that has the effect of promoting the ring-closing reaction of polyamic acid, and examples of the imidizing agent include aliphatic tertiary amines, aromatic tertiary amines, and heterocyclic tertiary amines. Among these, heterocyclic tertiary amines may be used from the viewpoint of reactivity as a catalyst. Examples of the imidizing agent include quinoline, isoquinoline, β-picoline, and pyridine, and these may be used alone or in combination of two or more kinds.

脱水剤及びイミド化剤の添加量は特に限定されるものではないが、脱水剤は、ポリアミック酸のうち、アミック酸基1モルに対して約0.5モル~約5モル(例えば、0.5モル、1モル、1.5モル、2モル、2.5モル、3モル、3.5モル、4モル、4.5モルまたは5モル)、例えば、約1.0モル~約4モルの割合で添加されてもよく、イミド化剤は、ポリアミック酸のうち、アミック酸基1モルに対して約0.05モル~約3モル(例えば、0.05モル、0.1モル、0.5モル、1モル、1.5モル、2モル、2.5モルまたは3モル)、例えば、約0.2モル~約2モルの割合で添加されてもよく、前記範囲でイミド化が十分であり、フィルム状にキャストすることが容易である。 The amounts of the dehydrating agent and the imidizing agent to be added are not particularly limited, but the dehydrating agent may be added in an amount of about 0.5 mol to about 5 mol (e.g., 0.5 mol, 1 mol, 1.5 mol, 2 mol, 2.5 mol, 3 mol, 3.5 mol, 4 mol, 4.5 mol, or 5 mol) per mol of amic acid groups in the polyamic acid, for example, about 1.0 mol to about 4 mol, and the imidizing agent may be added in an amount of about 0.05 mol to about 3 mol (e.g., 0.05 mol, 0.1 mol, 0.5 mol, 1 mol, 1.5 mol, 2 mol, 2.5 mol, or 3 mol) per mol of amic acid groups in the polyamic acid, for example, about 0.2 mol to about 2 mol, and within the above ranges, imidization is sufficient and it is easy to cast into a film.

一具現例によれば、ポリアミック酸は、ポリイミド前駆体組成物の総重量を基準にして約5重量%~約35重量%(例えば、5重量%、10重量%、15重量%、20重量%、25重量%、30重量%、または35重量%)で含まれてもよい。前記範囲内において、前駆体組成物は、フィルムを形成するのに適した分子量及び溶液粘度を有する。前駆体組成物の総重量を基準にして、ポリアミック酸は、例えば、約10重量%~約30重量%、他の例を挙げると、約15重量%~約20重量%で含まれてもよいが、これに限定されるものではない。 According to one embodiment, the polyamic acid may be present in an amount of about 5 wt % to about 35 wt % (e.g., 5 wt %, 10 wt %, 15 wt %, 20 wt %, 25 wt %, 30 wt %, or 35 wt %) based on the total weight of the polyimide precursor composition. Within this range, the precursor composition has a molecular weight and solution viscosity suitable for forming a film. Based on the total weight of the precursor composition, the polyamic acid may be present in an amount of, for example, about 10 wt % to about 30 wt %, and in another example, about 15 wt % to about 20 wt %, but is not limited thereto.

一具現例によれば、ポリイミド前駆体組成物は、25℃で、約100,000cP~約500,000cP(例えば、100,000cP、150,000cP、200,000cP、250,000cP、300,000cP、350,000 cP、400,000cP、450,000cPまたは500,000cP)の粘度を有してもよい。前記範囲において、ポリアミック酸が所定の重量平均分子量を有するようにしながらも、ポリイミドフィルム製膜時に工程性に優れたものとすることができる。ここで、「粘度」はブルックフィールド(Brookfield)粘度計を用いて測定されてもよい。前駆体組成物は、25℃で、例えば、約150,000cP~約450,000cP、他の例を挙げると、約200,000cP~約400,000cP、別の例を挙げると、約250,000cP~約350,000cPの粘度を有してもよいが、これに限定されるものではない。 According to one embodiment, the polyimide precursor composition may have a viscosity of about 100,000 cP to about 500,000 cP (e.g., 100,000 cP, 150,000 cP, 200,000 cP, 250,000 cP, 300,000 cP, 350,000 cP, 400,000 cP, 450,000 cP, or 500,000 cP) at 25°C. In this range, the polyamic acid may have a predetermined weight average molecular weight while exhibiting excellent processability during the formation of a polyimide film. Here, the "viscosity" may be measured using a Brookfield viscometer. The precursor composition may have a viscosity at 25°C of, for example, but not limited to, about 150,000 cP to about 450,000 cP, in other examples, about 200,000 cP to about 400,000 cP, and in other examples, about 250,000 cP to about 350,000 cP.

その後、ポリイミド前駆体組成物を支持体上にキャストし、乾燥してゲルフィルムを製造することができる。 The polyimide precursor composition can then be cast onto a substrate and dried to produce a gel film.

支持体は、当技術分野において通常使用される支持体が制限なく使用されてもよく、このような支持体の例としては、ガラス板、アルミニウム箔、無端(endless)ステンレスベルト、ステンレスドラムなどが挙げられる。 The support may be any support commonly used in the art without limitation, and examples of such supports include glass plates, aluminum foil, endless stainless steel belts, stainless steel drums, etc.

乾燥は、例えば、約40℃~約300℃、他の例を挙げると、約80℃~約200℃、別の例を挙げると、約100℃~約180℃、別の例を挙げると、約100℃~約130℃の温度で行われてもよく、これによって脱水剤及びイミド化剤が活性化し、部分的に硬化及び/または乾燥が起こることによってゲルフィルムが形成されてもよい。ゲルフィルムは、ポリアミック酸からポリイミドへの硬化の中間段階にあり、自己支持性を有する。 Drying may be performed at a temperature of, for example, about 40°C to about 300°C, or, for example, about 80°C to about 200°C, or, for example, about 100°C to about 180°C, or, for example, about 100°C to about 130°C, which may activate the dehydrating agent and imidizing agent and partially cure and/or dry to form a gel film. The gel film is in an intermediate stage of curing from polyamic acid to polyimide and is self-supporting.

場合によっては、最終的に得られるポリイミドフィルムの厚さ及び大きさを調節し、配向性を向上させるためにゲルフィルムを延伸するステップをさらに含んでもよく、延伸は、機械搬送方向(MD)及び機械搬送方向に対する横方向(TD)のうち少なくとも1つの方向で行われてもよい。 In some cases, the method may further include a step of stretching the gel film to adjust the thickness and size of the final polyimide film and improve orientation, and the stretching may be performed in at least one of the machine direction (MD) and the transverse direction (TD) to the machine direction.

前記ゲルフィルムの揮発分含有量は、これに限定されるものではないが、約5重量%~約500重量%、例えば、約5重量%~約200重量%、他の例を挙げると、約5重量%~約150重量%であってもよく、前記範囲において、後にポリイミドフィルムを得るために熱処理する過程中、フィルム破断、色調ムラ、特性変動などの欠点が生じることを回避する効果がある。ここで、ゲルフィルムの揮発分含有量は、下記式2を用いて算出することができ、式2のうち、Cは、ゲルフィルムの重量、Dは、ゲルフィルムを450℃で20分間加熱した後の重量を意味する。 The volatile content of the gel film may be, but is not limited to, about 5% to about 500% by weight, for example, about 5% to about 200% by weight, or another example, about 5% to about 150% by weight. In this range, defects such as film breakage, color unevenness, and characteristic fluctuations can be avoided during the subsequent heat treatment process to obtain a polyimide film. Here, the volatile content of the gel film can be calculated using the following formula 2, in which C is the weight of the gel film and D is the weight of the gel film after heating at 450°C for 20 minutes.

<式2>
(C-D)×100/D
<Formula 2>
(C-D) x 100/D

一具現例によれば、ゲルフィルムを熱処理するステップでは、ゲルフィルムを約50℃~約700℃、例えば、約150℃~約600℃、他の例を挙げると、約200℃~約600℃の範囲の可変的な温度で熱処理してゲルフィルムに残存する溶媒などを除去し、残っているほとんどのアミック酸基をイミド化してポリイミドフィルムを得ることができる。 According to one embodiment, in the step of heat treating the gel film, the gel film is heat treated at a variable temperature ranging from about 50°C to about 700°C, for example, from about 150°C to about 600°C, for example, from about 200°C to about 600°C, to remove the solvent remaining in the gel film and imidize most of the remaining amic acid groups to obtain a polyimide film.

場合によっては、前記のように得られたポリイミドフィルムを約400℃~約650℃の温度で約5秒~約400秒間加熱して仕上げ、ポリイミドフィルムをさらに硬化することもでき、得られたポリイミドフィルムに残留し得る内部応力を緩和するために、所定の張力下でこれを行うこともできる。 In some cases, the polyimide film obtained as described above can be finished by heating it at a temperature of about 400°C to about 650°C for about 5 seconds to about 400 seconds to further harden the polyimide film, and this can also be done under a predetermined tension to relieve internal stress that may remain in the obtained polyimide film.

以下、本発明の好ましい実施例を通じて本発明の構成及び作用をさらに詳細に説明することにする。ただし、これは、本発明の好ましい例として提示されたものであり、いかなる意味でもこれによって本発明が制限されるものと解釈されてはいけない。 The configuration and operation of the present invention will be described in more detail below through preferred embodiments of the present invention. However, these are presented as preferred examples of the present invention and should not be construed as limiting the present invention in any way.

実施例
実施例1~13及び比較例1~3
ジメチルホルムアミド(DMF)中に二無水物単量体として、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)と、ピロメリット酸二無水物、ジアミン単量体として、m-トリジン(m-TD)と、4,4’-オキシジアニリン(ODA)とを下記表1に記載されたモル比率で混合した後、重合して固形分含有量が18.5重量%のポリアミック酸溶液を製造した。このとき、二無水物単量体とジアミン単量体とのモル数は実質的に等モルをなすようにした。
Example
Examples 1 to 13 and Comparative Examples 1 to 3
A polyamic acid solution having a solid content of 18.5 wt % was prepared by mixing dianhydride monomers, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) and pyromellitic dianhydride, and diamine monomers, m-tolidine (m-TD) and 4,4'-oxydianiline (ODA), in dimethylformamide (DMF) at the molar ratios shown in Table 1 below, and then polymerizing the mixture. The molar amounts of the dianhydride monomer and the diamine monomer were substantially equimolar.

このように製造されたポリアミック酸溶液に、アミック酸基1モル当たり3.5モル比の酢酸無水物及び1.1モル比のイソキノリンを添加してポリイミドフィルム製造用組成物を得て、前記組成物をドクターブレードを用いてSUSプレート(100SA、Sandvik社)上にキャストし、90℃で4分間乾燥してゲルフィルムを製造した。前記ゲルフィルムをSUSプレートと分離した後、250~380℃で14分間熱処理し、50μmの平均厚さを有するポリイミドフィルムを製造した。 To the polyamic acid solution thus prepared, 3.5 molar ratios of acetic anhydride and 1.1 molar ratios of isoquinoline per mole of amic acid group were added to obtain a composition for preparing a polyimide film, which was then cast onto a SUS plate (100SA, Sandvik) using a doctor blade and dried at 90°C for 4 minutes to prepare a gel film. The gel film was separated from the SUS plate and then heat-treated at 250-380°C for 14 minutes to prepare a polyimide film with an average thickness of 50 μm.

ただし、比較例3の場合、ポリイミドフィルムが製造されなかった。 However, in the case of Comparative Example 3, no polyimide film was produced.

評価例:モジュラス(単位:GPa)、降伏点(単位:%)、降伏強度(単位:Mpa)の測定 Evaluation example: Measurement of modulus (unit: GPa), yield point (unit: %), and yield strength (unit: MPa)

製造したポリイミドフィルムを15mm×50mmに切断して試験片を製造し、ASTM D 882基準に基づき、引張速度を200mm/分として引張試験機(Instron 5564、Instron社)を用いて室温(room temp.)でモジュラス、降伏点及び降伏強度を測定し、その結果を下記表1に示した。 The polyimide film thus produced was cut into test pieces measuring 15 mm x 50 mm, and the modulus, yield point, and yield strength were measured at room temperature (room temp.) using a tensile tester (Instron 5564, Instron) at a tensile speed of 200 mm/min according to the ASTM D 882 standard, and the results are shown in Table 1 below.

Figure 0007496417000001
Figure 0007496417000001

前記表1から確認できるように、BPDAの含有量及び式1による値が、本発明の範囲を満たす実施例1~13は、本発明の範囲に属する低いモジュラスを有すると共に高い降伏点を有し、その結果、ポリイミドフィルムに加えられる繰り返し変形に対する損傷の程度が少ないことが容易に予測される。 As can be seen from Table 1, Examples 1 to 13, in which the BPDA content and the value according to Formula 1 fall within the range of the present invention, have a low modulus within the range of the present invention and a high yield point, and as a result, it is easily predicted that the polyimide film will be less damaged by repeated deformation.

一方、BPDAの含有量が本発明の範囲に及ばず、式1による値が本発明の範囲に及ばない比較例1のポリイミドフィルムは、降伏点が2.16%と低かった。BPDAの含有量が本発明の範囲に属するが、式1による値が本発明の範囲から外れる比較例2のポリイミドフィルムは、モジュラスが4.6GPaと高かった。したがって、比較例1、2のポリイミドフィルムは、繰り返し変形が加えられる場合、損傷の程度が大きいことが予測される。 On the other hand, the polyimide film of Comparative Example 1, in which the BPDA content was outside the range of the present invention and the value according to Formula 1 was outside the range of the present invention, had a low yield point of 2.16%. The polyimide film of Comparative Example 2, in which the BPDA content was within the range of the present invention but the value according to Formula 1 was outside the range of the present invention, had a high modulus of 4.6 GPa. Therefore, it is predicted that the polyimide films of Comparative Examples 1 and 2 will be significantly damaged when repeatedly deformed.

一方、BPDAの含有量が、本発明の範囲を超過する比較例3の場合、前述の製造方法の適用時にポリイミドフィルムの製造が不可能であった。 On the other hand, in the case of Comparative Example 3, where the BPDA content exceeded the range of the present invention, it was impossible to produce a polyimide film when applying the above-mentioned manufacturing method.

本発明の単なる変形または変更は、この分野における通常の知識を有する者によって容易に実施することができ、このような変形や変更はいずれも、本発明の領域に含まれるものと認められる。 Simple variations or modifications of the present invention can be easily implemented by a person having ordinary skill in the art, and all such variations or modifications are deemed to be within the scope of the present invention.

Claims (5)

二無水物単量体及びジアミン単量体の反応から形成されたポリアミック酸のイミド化から誘導されるポリイミドフィルムであって、
前記二無水物単量体は、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)およびピロメリット酸二無水物(PMDA)を含み、
前記二無水物単量体は、前記ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を、二無水物単量体の総モル量を基準にして10モル%~90モル%で含み、
前記ジアミン単量体は、m-トリジン(m-TD)及び4,4’-オキシジアニリン(ODA)からなり、
前記m-トリジンと前記4,4’-オキシジアニリンとのモル比は、前者:後者=1:99~20:80であり、
前記ポリイミドフィルムの降伏強度は、50MPa~80MPaであり、
前記ポリイミドフィルムは、下記式1を満たし、2GPa~4.5GPaのモジュラスを有するポリイミドフィルム。
<式1>
21MPa/%≦A/B≦30MPa/%
前記式1中、Aは、ポリイミドフィルムの降伏強度であって、単位はMPaであり、Bは、ポリイミドフィルムの降伏点であって、単位は%である。
1. A polyimide film derived from the imidization of a polyamic acid formed from the reaction of a dianhydride monomer and a diamine monomer,
The dianhydride monomers include biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) and pyromellitic dianhydride (PMDA);
The dianhydride monomer contains the biphenyltetracarboxylic dianhydride in an amount of 10 mol % to 90 mol % based on the total molar amount of the dianhydride monomer;
The diamine monomer comprises m-tolidine (m-TD) and 4,4'-oxydianiline (ODA);
the molar ratio of the m-tolidine to the 4,4'-oxydianiline is 1:99 to 20:80;
The polyimide film has a yield strength of 50 MPa to 80 MPa;
The polyimide film satisfies the following formula 1 and has a modulus of 2 GPa to 4.5 GPa.
<Formula 1>
21 MPa/%≦A/B≦30 MPa/%
In the above formula 1, A is the yield strength of the polyimide film in MPa, and B is the yield point of the polyimide film in %.
前記ピロメリット酸二無水物は、二無水物単量体の総モル量を基準にして10モル%~90モル%で含まれる、請求項に記載のポリイミドフィルム。 2. The polyimide film according to claim 1 , wherein the pyromellitic dianhydride is contained in an amount of 10 mol % to 90 mol % based on the total molar amount of the dianhydride monomers. 前記ポリイミドフィルムの降伏点は、2.2%~2.9%である、請求項1または2記載のポリイミドフィルム。 3. The polyimide film according to claim 1 , wherein the polyimide film has a yield point of 2.2% to 2.9%. 請求項1~のいずれか一項に記載のポリイミドフィルムの製造方法であって、
前記方法は、
二無水物単量体、ジアミン単量体及び有機溶媒を混合して反応させ、ポリアミック酸溶液を形成し、
前記ポリアミック酸溶液に脱水剤及びイミド化剤を混合してポリイミド前駆体組成物を形成し、
前記ポリイミド前駆体組成物を支持体上にキャストし、乾燥してゲルフィルムを製造し、並びに
前記ゲルフィルムを熱処理してポリイミドフィルムを形成する、
ステップを含む、ポリイミドフィルムの製造方法。
A method for producing the polyimide film according to any one of claims 1 to 3 ,
The method comprises:
mixing and reacting a dianhydride monomer, a diamine monomer, and an organic solvent to form a polyamic acid solution;
a dehydrating agent and an imidizing agent are mixed with the polyamic acid solution to form a polyimide precursor composition;
casting the polyimide precursor composition onto a support and drying to produce a gel film; and heat treating the gel film to form a polyimide film.
A method for producing a polyimide film, comprising the steps of:
前記熱処理は、100℃~700℃で行われる、請求項に記載のポリイミドフィルムの製造方法。 The method for producing a polyimide film according to claim 4 , wherein the heat treatment is carried out at 100°C to 700°C.
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