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JP7493301B2 - Thermosetting composition, cured film and display device - Google Patents

Thermosetting composition, cured film and display device Download PDF

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JP7493301B2 JP2017253690A JP2017253690A JP7493301B2 JP 7493301 B2 JP7493301 B2 JP 7493301B2 JP 2017253690 A JP2017253690 A JP 2017253690A JP 2017253690 A JP2017253690 A JP 2017253690A JP 7493301 B2 JP7493301 B2 JP 7493301B2
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Description

本発明は、熱硬化性組成物、これを硬化してなる硬化膜、および当該硬化膜を有する表示装置に関する。 The present invention relates to a thermosetting composition, a cured film obtained by curing the composition, and a display device having the cured film.

従来、カラー液晶ディスプレイ(LCD)の製造に用いられるカラーフィルターの表面上には、保護層として透明な硬化膜(以下、保護膜ともいう)が形成されている。カラーフィルターの保護膜は、カラーフィルターの画素間に生じる凹凸を平坦化すること、後工程における熱処理や薬品処理に対するカラーフィルターの耐久性を向上させること、カラー液晶ディスプレイの信頼性を向上させることなどを目的として形成される。カラーフィルターの保護膜としては、平坦性、耐熱性、耐薬品性、密着性、硬度、電気的信頼性および透明性などに優れることが求められている。 Conventionally, a transparent cured film (hereinafter also referred to as a protective film) is formed as a protective layer on the surface of a color filter used in the manufacture of a color liquid crystal display (LCD). The protective film of a color filter is formed for the purposes of flattening the unevenness that occurs between the pixels of the color filter, improving the durability of the color filter against heat treatment and chemical treatment in the post-process, and improving the reliability of the color liquid crystal display. The protective film of a color filter is required to have excellent flatness, heat resistance, chemical resistance, adhesion, hardness, electrical reliability, and transparency.

例えば、平坦性としては、画素を形成する際の着色組成物の塗り重ねで生じる高さ1~2μm程度の凹凸を0.1μm以下にまで平坦化することが求められる。耐熱性としては、保護膜にITO等の透明電極をスパッタ法により作製する際に200~270℃程度の高熱がかかる場合があり、この温度条件下で保護膜が安定であることが求められる。耐薬品性としては、後工程で用いられる酸、アルカリおよび溶剤などに対する保護膜の安定性が求められる。密着性としては、液晶ディスプレイパネルを作製する際に保護膜上で基板の貼り合わせが行われることがあり、その部位の保護膜が下地から剥離しないことが求められる。硬度としては、保護膜の耐久性の観点から、高い硬度を有することが求められる。電気的信頼性としては、保護膜の絶縁性の維持や、保護膜に含まれる不純物等が液晶を汚染しないことが求められる。透明性としては、カラーフィルターの色特性を損なわないよう、保護膜が可視光波長域に吸収を持たないことが求められる。 For example, in terms of flatness, it is required to flatten the unevenness of about 1 to 2 μm caused by the overpainting of coloring compositions when forming pixels to 0.1 μm or less. In terms of heat resistance, when a transparent electrode such as ITO is formed on the protective film by sputtering, high heat of about 200 to 270°C may be applied, and the protective film is required to be stable under these temperature conditions. In terms of chemical resistance, it is required that the protective film is stable against acids, alkalis, solvents, etc. used in subsequent processes. In terms of adhesion, when a substrate is laminated on the protective film when a liquid crystal display panel is produced, it is required that the protective film at that part does not peel off from the base. In terms of hardness, it is required that the protective film has high hardness from the viewpoint of durability. In terms of electrical reliability, it is required that the insulating properties of the protective film are maintained, and that impurities contained in the protective film do not contaminate the liquid crystal. In terms of transparency, it is required that the protective film does not absorb in the visible light wavelength range so as not to impair the color characteristics of the color filter.

上記の保護膜に対する要求特性に加え、LCDパネルの高機能化に伴い広視野角、高速応答が求められ、IPS(In-plane Switching)モードに類する表示方式が用いられるようになってきた中で、保護膜に対する要求特性も厳しくなってきている。IPSモードのような表示方式においては、カラーフィルター層から発生若しくはブリードアウトするガス状または液状成分や水が保護層を経由して液晶層に進入して液晶層中の水分やイオン性不純物の濃度が増加したり、液晶中で気泡になったりすると、表示不良の原因となる。このため、前述の不純物成分の通過を防ぐことは勿論のこと、液晶層と直接接触する保護膜からのガス発生は表示不良に直結することから、低発ガス性は特に重要視される。また、近年においてはLCDパネルの薄型化に対する要求もあるため、保護膜を薄膜化することも要求されており、薄膜下での平坦化の実現という平坦性への要求も厳しさを増している。すなわち、低発ガスと平坦性を両立するといった新たな課題が生じている状況にある。 In addition to the above-mentioned required characteristics for the protective film, the high performance of LCD panels has led to the demand for a wide viewing angle and high-speed response, and as display methods such as IPS (In-plane Switching) mode have come to be used, the required characteristics for the protective film have also become stricter. In display methods such as IPS mode, if gaseous or liquid components or water generated or bled out from the color filter layer enter the liquid crystal layer through the protective layer, the concentration of moisture or ionic impurities in the liquid crystal layer increases, or bubbles form in the liquid crystal, causing display defects. For this reason, it is particularly important to prevent the passage of the above-mentioned impurity components, as well as to have low gas generation properties, since gas generation from the protective film in direct contact with the liquid crystal layer directly leads to display defects. In addition, in recent years, there has been a demand for thinner LCD panels, so there is also a demand for thinner protective films, and the demand for flatness, such as achieving flatness under a thin film, is also becoming stricter. In other words, a new challenge has arisen, such as achieving both low gas generation and flatness.

カラーフィルターの保護膜用の材料としては、エポキシ系やアクリル系の化合物の組成物等がこれまでに数多く提案されている(特許文献1~特許文献5など)が、低発ガス性と平坦性の要求特性を同時に満足する材料は見出されていない。 Many compositions of epoxy or acrylic compounds have been proposed as materials for protective films for color filters (e.g., Patent Documents 1 to 5), but no material has been found that simultaneously satisfies the required characteristics of low gas generation and flatness.

国際公開第96/34303号WO 96/34303 特開2000-103937号公報JP 2000-103937 A 特開2000-143772号公報JP 2000-143772 A 特開2001-091732号公報JP 2001-091732 A 特開2004-069930号公報JP 2004-069930 A

上述したように、カラーフィルターの保護膜においては、低発ガス性と平坦性の要求特性を満たした上で、耐熱性、耐薬品性、密着性、硬度、電気的信頼性および透明性などカラーフィルター用保護膜に必須な特性を高度に保持しなければならず、これを満足できるような、保護膜用材料は組成物としての適用範囲を狭めている状況にある。 As mentioned above, protective films for color filters must meet the required characteristics of low gas generation and flatness, while also maintaining high levels of essential properties for protective films for color filters, such as heat resistance, chemical resistance, adhesion, hardness, electrical reliability, and transparency. However, the range of application of protective film materials that can satisfy these requirements is narrowing.

更には、近年では、RGBのほかに、カラーフィルターの画素用の着色組成物を塗布しないホワイト(W)の画素を有するカラーフィルター(RGBW方式)も開発されており、保護膜には、上記着色組成物を塗布しないWの空間を充填させつつ、平坦性を満足させることも求められている。すなわち、従来の1~2μm程度の画素上の凹凸に加えて、それよりも大きい2~3μmといった凹空間も、着色画素形成箇所上での膜厚2μm以下といった薄膜で平坦化することまで要求されるようになってきている。 Furthermore, in recent years, in addition to RGB, color filters (RGBW type) have been developed that have white (W) pixels that are not coated with a coloring composition for the color filter pixels, and the protective film is required to satisfy flatness while filling the W space where the coloring composition is not applied. That is, in addition to the conventional unevenness on the pixel of about 1 to 2 μm, it is now required to flatten even larger concave spaces of 2 to 3 μm with a thin film of 2 μm or less on the color pixel formation area.

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、平坦性、低発ガス性の要求特性を満たしつつ、耐熱性、耐薬品性、密着性、硬度、電気的信頼性および透明性にも優れた保護膜の形成が可能である熱硬化性組成物、これを硬化してなる硬化膜、および当該硬化膜を有する表示装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of the above problems, and aims to provide a thermosetting composition capable of forming a protective film that satisfies the required characteristics of flatness and low gas generation while also exhibiting excellent heat resistance, chemical resistance, adhesion, hardness, electrical reliability, and transparency, a cured film obtained by curing the composition, and a display device having the cured film.

本発明者らは、上記のような、カラーフィルターの保護膜に求められる課題を解決すべく検討を行った結果、特定の配合を有する熱硬化性組成物によって上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。 As a result of investigations conducted by the inventors to solve the problems required for protective films for color filters, as described above, they discovered that the above problems could be solved by using a thermosetting composition having a specific formulation, and thus completed the present invention.

本発明は、(1):下記一般式(1)で表されるmの平均値が0~1であるエポキシ化合物(A)、常温で液状のエポキシ化合物(B)、(A)成分または(B)成分以外で重量平均分子量が900~20000かつエポキシ当量が150~500g/eqであるエポキシ化合物(C)、多価カルボン酸、多価カルボン酸の無水物、および多価カルボン酸の熱分解性エステルからなる群より選ばれる硬化剤(D)、ならびに硬化促進剤(E)を含有することを特徴とする熱硬化性組成物に関する。 The present invention relates to (1): a thermosetting composition characterized by containing an epoxy compound (A) represented by the following general formula (1) in which the average value of m is 0 to 1, an epoxy compound (B) that is liquid at room temperature, an epoxy compound (C) other than component (A) or (B) that has a weight average molecular weight of 900 to 20,000 and an epoxy equivalent of 150 to 500 g/eq, a curing agent (D) selected from the group consisting of polycarboxylic acids, anhydrides of polycarboxylic acids, and thermally decomposable esters of polycarboxylic acids, and a curing accelerator (E).

Figure 0007493301000001
Figure 0007493301000001

一般式(1)中、Arは炭素数6~12の2価の芳香族炭化水素基であり、当該2価の芳香族炭化水素基の水素原子の一部が炭素数1~10の炭化水素基、炭素数1~5のアルコキシ基、またはハロゲン基で置換されていてもよい。 In general formula (1), Ar is a divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms, and some of the hydrogen atoms of the divalent aromatic hydrocarbon group may be substituted with a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or a halogen group.

本発明はまた、(2):固形分の全質量に対して、(A)成分、(B)成分、(C)成分を含むエポキシ化合物の合計含有量が55~85質量%であり、(D)成分の含有量が5~40質量%であり、(E)成分の含有量が0.01~2質量%であることを特徴とする、(1)記載の熱硬化性組成物に関する。
本発明はまた、(3):固形分の全質量に対して1~20質量%のカップリング剤(F)を含有することを特徴とする、(1)又は(2)に記載の熱硬化性組成物に関する。
本発明はまた、(4):(A)成分、(B)成分、および(C)成分を含むエポキシ化合物の全質量に対して、(A)成分の含有量が5~50質量%であり、(B)成分の含有量が10~40質量%であり、(C)成分の含有量が10~70質量%であることを特徴とする、(1)~(3)のいずれかに記載の熱硬化性組成物に関する。
本発明はまた、(5):(1)~(4)のいずれかに記載の熱硬化性組成物を硬化させてなることを特徴とする、硬化膜に関する。
本発明はまた、(6):(5)記載の硬化膜を有することを特徴とする、表示装置に関する。
The present invention also relates to (2): the thermosetting composition according to (1), characterized in that, based on the total mass of the solid contents, the total content of the epoxy compounds including the components (A), (B), and (C) is 55 to 85 mass%, the content of the component (D) is 5 to 40 mass%, and the content of the component (E) is 0.01 to 2 mass%.
The present invention also relates to (3): the thermosetting composition according to (1) or (2), characterized in that it contains 1 to 20 mass % of a coupling agent (F) based on the total mass of the solid content.
The present invention also relates to (4): the thermosetting composition according to any one of (1) to (3), characterized in that the content of the component (A) is 5 to 50 mass%, the content of the component (B) is 10 to 40 mass%, and the content of the component (C) is 10 to 70 mass%, based on the total mass of the epoxy compound containing the components (A), (B), and (C).
The present invention also relates to (5): a cured film obtained by curing the thermosetting composition according to any one of (1) to (4).
The present invention also relates to a display device comprising the cured film according to (6): (5).

本発明に関する熱硬化性組成物は、平坦性と低発ガス性の要求特性を満たし、耐熱性、耐薬品性、密着性、硬度、電気的信頼性および透明性にも優れた保護膜の形成が可能である。本発明の熱硬化性組成物は、RGBW方式を含めたLCDのカラーフィルターの保護膜として適用できることはもちろんのこと、特に平坦性、低発ガス性に優れた透明な硬化膜を必要とする表示装置に対して適用することも可能である。すなわち、LCD以外の有機EL表示装置、μLED表示装置、量子ドットを適用した表示装置の構成要素として、特に凹凸や段差を平坦化する透明膜が必要である場合には好適に適用することが可能である。更には、カラーフィルター層を装備したCMOS等のセンサーへの適用も可能である。 The thermosetting composition of the present invention satisfies the required characteristics of flatness and low gas generation, and can form a protective film that is also excellent in heat resistance, chemical resistance, adhesion, hardness, electrical reliability and transparency. The thermosetting composition of the present invention can be applied not only as a protective film for the color filter of an LCD including an RGBW type, but also to a display device that requires a transparent cured film that is particularly excellent in flatness and low gas generation. In other words, it can be suitably applied as a component of an organic EL display device other than an LCD, a μLED display device, or a display device that uses quantum dots, especially when a transparent film that flattens unevenness or steps is required. Furthermore, it can be applied to a sensor such as a CMOS equipped with a color filter layer.

以下、本発明について詳細に説明する。
(A)成分のエポキシ化合物は、一般式(1)で表される、mの平均値が0~1のエポキシ化合物である。
The present invention will be described in detail below.
The epoxy compound of the component (A) is an epoxy compound represented by the general formula (1) in which the average value of m is 0 to 1.

Figure 0007493301000002
Figure 0007493301000002

一般式(1)中、Arは炭素数6~12の2価の芳香族炭化水素基である。また、Arで表される2価の芳香族炭化水素基の水素原子の一部は、炭素数1~10の炭化水素基、炭素数1~5のアルコキシ基、またはハロゲン基で置換されていてもよい。 In general formula (1), Ar is a divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms. In addition, some of the hydrogen atoms of the divalent aromatic hydrocarbon group represented by Ar may be substituted with a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or a halogen group.

(A)成分は、ビスフェノールフルオレン型エポキシ化合物、またはビスナフトールフルオレン型エポキシ化合物とすることができる。(A)成分は、熱硬化性組成物の粘度に与える影響が比較的少なく、低発ガス性や耐熱性を付与するのに有効な成分である。特に低発ガス性を付与するためには、ビスナフトールフルオレン型エポキシ樹脂の方がより好ましいが、(B),(C)のエポキシ樹脂との組合せと配合量を最適化することで、ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂を用いても、特定の膜厚の保護膜における平坦性と低発ガス性の要求特性を満たす熱硬化性組成物とすることが可能である。 Component (A) can be a bisphenolfluorene type epoxy compound or a bisnaphtholfluorene type epoxy compound. Component (A) has a relatively small effect on the viscosity of the thermosetting composition and is an effective component for imparting low gas generation and heat resistance. In particular, for imparting low gas generation, bisnaphtholfluorene type epoxy resins are more preferable, but by optimizing the combination and amount of epoxy resins (B) and (C), it is possible to obtain a thermosetting composition that satisfies the required characteristics of flatness and low gas generation in a protective film of a specific thickness, even when a bisphenolfluorene type epoxy resin is used.

一般式(1)中のmは、平均値が0~1であればよく、0以上であれば(A)成分の溶解性を高めることができ、1を超えると硬化膜の硬化性が不充分となる傾向がある。mの平均値は、0.01~0.5であることが好ましく、0.02以上0.2未満であることがより好ましい。
mの平均値は、(A)成分のエポキシ当量から算出することができる。
ビスナフトールフルオレン型エポキシ化合物の場合
(エポキシ当量)×2=(mの平均値)×506.6+562.7
ビスフェノールフルオレン型エポキシ化合物の場合
(エポキシ当量)×2=(mの平均値)×406.5+462.5
The average value of m in the general formula (1) may be 0 to 1, and if it is 0 or more, the solubility of the component (A) can be increased, while if it exceeds 1, the curing properties of the cured film tend to be insufficient. The average value of m is preferably 0.01 to 0.5, and more preferably 0.02 or more and less than 0.2.
The average value of m can be calculated from the epoxy equivalent of the component (A).
In the case of bisnaphtholfluorene type epoxy compounds, (epoxy equivalent) x 2 = (average value of m) x 506.6 + 562.7
In the case of bisphenol fluorene type epoxy compounds, (epoxy equivalent) x 2 = (average value of m) x 406.5 + 462.5

(A)成分は、特開平9-328534号公報に記載の方法などの、公知の方法で合成することができるが、9,9-ビス(4-ヒドロキシフェニル)フルオレンまたは9,9-ビス(4-ヒドロキシナフチル)フルオレンとエピクロロヒドリンをアルカリ存在下縮合させて得る方法が最も一般的で好ましい。mの値は、合成時の原料化合物のモル比を調整したり、反応条件を調整したりして、所望の値とすることができる。 Component (A) can be synthesized by known methods such as the method described in JP-A-9-328534, but the most common and preferred method is to obtain it by condensing 9,9-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene or 9,9-bis(4-hydroxynaphthyl)fluorene with epichlorohydrin in the presence of an alkali. The value of m can be adjusted to the desired value by adjusting the molar ratio of the raw material compounds during synthesis or by adjusting the reaction conditions.

(B)成分は、常温で液状のエポキシ化合物である。 Component (B) is an epoxy compound that is liquid at room temperature.

(B)成分は、常温で液状のエポキシ化合物であれば、鎖式脂肪族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物または芳香族エポキシ化合物を特に制限なく用いることができる。 Component (B) can be any epoxy compound that is liquid at room temperature, including chain aliphatic epoxy compounds, alicyclic epoxy compounds, and aromatic epoxy compounds, without any particular restrictions.

鎖式脂肪族エポキシ化合物としては、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、分岐アルキルエステルのモノまたはジグリシジルエーテル等が挙げられ、より多官能であるトリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、分岐アルキルエステルのジグリシジルエーテルが好ましい。脂肪族エポキシ化合物は、硬化剤との反応で架橋密度の向上により耐熱性向上に寄与する。特に粘度が30~500mPa・s(25℃)であるエポキシ化合物を好ましく用いることができる。 Examples of chain aliphatic epoxy compounds include trimethylolpropane triglycidyl ether, trimethylolethane triglycidyl ether, and mono- or diglycidyl ethers of branched alkyl esters, with the more multifunctional trimethylolpropane triglycidyl ether and diglycidyl ethers of branched alkyl esters being preferred. Aliphatic epoxy compounds contribute to improved heat resistance by improving crosslink density through reaction with a curing agent. In particular, epoxy compounds with a viscosity of 30 to 500 mPa·s (25°C) can be preferably used.

脂環式エポキシ化合物としては、(3’,4’-エポキシシクロヘキシルメチル)3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2-(3,4-エポキシ)シクロヘキシル-5,1-スピロ(3,4-エポキシ)シクロヘキシル-m-ジオキサンやビス(3,4-エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、水素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、1,4-シクロヘキサンジメタノール-ビス3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等を挙げることができ、粘度が50~3500mPa・s(25℃)であるエポキシ化合物を好ましく用いることができる。 Examples of alicyclic epoxy compounds include (3',4'-epoxycyclohexylmethyl) 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 2-(3,4-epoxy)cyclohexyl-5,1-spiro(3,4-epoxy)cyclohexyl-m-dioxane, bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl)adipate, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol-bis 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, etc., and epoxy compounds with a viscosity of 50 to 3500 mPa·s (25°C) can be preferably used.

芳香族エポキシ化合物としては、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物等の低分子量化合物が挙げられる。 Examples of aromatic epoxy compounds include low molecular weight compounds such as bisphenol A type epoxy compounds and bisphenol F type epoxy compounds.

これらの中でも、(3’,4’-エポキシシクロヘキシルメチル)3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビスフェノールA型エポキシ樹脂の低分子量液状化合物をより好ましく用いることができる。 Among these, low molecular weight liquid compounds such as (3',4'-epoxycyclohexylmethyl) 3,4-epoxycyclohexane carboxylate and bisphenol A type epoxy resins are more preferably used.

これら液状エポキシ樹脂を用いることにより、ビスフェノールフルオレン型やビスナフトールフルオレン型エポキシ樹脂等の(A)成分のみでは機能付与することが困難なレベルの平坦性を付与することができる。 The use of these liquid epoxy resins makes it possible to impart a level of flatness that is difficult to achieve using only component (A), such as bisphenol fluorene or bisnaphthol fluorene epoxy resins.

(C)成分は、(A)成分または(B)成分以外のエポキシ化合物であって、重量平均分子量が900~20000かつエポキシ当量が150~500g/eqであるエポキシ化合物である。 Component (C) is an epoxy compound other than components (A) and (B), and has a weight average molecular weight of 900 to 20,000 and an epoxy equivalent of 150 to 500 g/eq.

(C)成分は、上記要件を満たす限りにおいて、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、多価アルコールのグリシジルエーテル、多価カルボン酸のグリシジルエステル、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)-1-ブタノールの1,2-エポキシ-4-(2-オキシラニル)シクロヘキサン付加物(例えばダイセル社製「EHPE3150」)等の脂環式エポキシ化合物、(メタ)アクリル酸グリシジルを必須成分とする(メタ)アクリル酸エステル類の共重合体、エポキシ化ポリブタジエン(例えば日本曹達社製「NISSO-PB・JP-100」)、シリコーン骨格を有するエポキシ化合物等、公知のエポキシ化合物を特に制限なく使用できる。 As long as the above requirements are met, component (C) can be any known epoxy compound, including bisphenol A type epoxy compounds, bisphenol F type epoxy compounds, phenol novolac type epoxy compounds, cresol novolac type epoxy compounds, glycidyl ethers of polyhydric alcohols, glycidyl esters of polycarboxylic acids, alicyclic epoxy compounds such as 1,2-epoxy-4-(2-oxiranyl)cyclohexane adducts of 2,2-bis(hydroxymethyl)-1-butanol (e.g., Daicel Corporation's "EHPE3150"), copolymers of (meth)acrylic acid esters containing glycidyl (meth)acrylate as an essential component, epoxidized polybutadiene (e.g., Nippon Soda Co., Ltd.'s "NISSO-PB.JP-100"), and epoxy compounds having a silicone backbone.

(メタ)アクリル酸グリシジルを必須成分とする2種以上の(メタ)アクリル酸エステルの共重合体は、(メタ)アクリル酸グリシジルと(メタ)アクリルエステル類およびその他の重合性不飽和化合物を常法によりラジカル共重合して得られる化合物である。上記ラジカル共重合に際しては、アゾ化合物または過酸化物等の公知のラジカル重合開始剤を使用することができる。また、公知の連鎖移動剤または重合禁止剤等を利用して、重量平均分子量が900~20000となるように重合度を制御してもよい。 The copolymer of two or more (meth)acrylic acid esters, which contains glycidyl (meth)acrylate as an essential component, is a compound obtained by radical copolymerization of glycidyl (meth)acrylate with (meth)acrylic esters and other polymerizable unsaturated compounds by a conventional method. In the above radical copolymerization, a known radical polymerization initiator such as an azo compound or a peroxide can be used. In addition, the degree of polymerization can be controlled so that the weight average molecular weight is 900 to 20,000 by using a known chain transfer agent or polymerization inhibitor.

上記共重合体に用いる(メタ)アクリル酸グリシジル以外の(メタ)アクリルエステル類およびその他の重合性不飽和化合物を以下に例示するが、これらに限定されるものではない。 The (meth)acrylic esters other than glycidyl (meth)acrylate and other polymerizable unsaturated compounds used in the above copolymer are exemplified below, but are not limited to these.

(メタ)アクリル酸エステル類は、(メタ)アクリル酸((メタ)アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸をいう)とアルコール(ROH)成分とを縮合反応させて得ることができる。(ROH)成分としては、公知のものが特に制限なく利用できる。Rの具体的な例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert-ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロペンチルエチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、4-メチルシクロヘキシル基、アダマンチル基、イソボルニル基、ジシクロペンタニル基、ジシクロペンテニル基、ビニル基、アリル基、エチニル基、フェニル基、トリル基、メシチル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ベンジル基、2-フェニルエチル基、および2-フェニルビニル基等の飽和または不飽和の一価の炭化水素基、ならびに、ピリジル基、ピペリジル基、ピペリジノ基、ピロリル基、ピロリジニル基、イミダゾリル基、イミダゾリジニル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、チエニル基、テトラヒドロチエニル基、モルホリニル基、モルホリノ基、およびキノリル基等の飽和または不飽和の一価の複素環基等を挙げることができる。上記炭化水素基または複素環基等は、任意の位置に、ハロゲン原子、カルボニル基、チオカルボニル基、ニトロ基、シリル基、エーテル基、チオエーテル基、エステル基、チオエステル基、ジチオエステル基、ウレタン基、チオウレタン基、ウレイド基、およびチオウレイド基等を置換基として導入した構造であってもよい。このような一価の基は、目的とする(C)成分の構造に応じて適宜選定されればよいが、性能および経済性の点から炭素原子数1~20の飽和または不飽和の一価の炭化水素基であることが好ましく、炭素原子数1~6の飽和または不飽和の一価の炭化水素基であることがより好ましい。なお、飽和または不飽和の一価の炭化水素基は、分岐構造や環構造を有している炭化水素基でもよく、更には任意の置換基で置換されていてもよい。ただし、上記置換基は、酸性基などの反応性の構造を有さないことが好ましい。 (Meth)acrylic acid esters can be obtained by a condensation reaction between (meth)acrylic acid ((meth)acrylic acid refers to acrylic acid or methacrylic acid) and an alcohol (R 1 OH) component. As the (R 1 OH) component, any known compound can be used without any particular limitation. Specific examples of R 1 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, a tert-pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a 2-ethylhexyl group, a nonyl group, a decyl group, a dodecyl group, a tetradecyl group, a hexadecyl group, an octadecyl group, an icosyl group, a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclopentylethyl group, a cyclohexyl group, a cyclohexylmethyl group, a 4-methylcyclohexyl group, an adamantyl group, an isobornyl group, a dicyclopentamethyl group, a cyclopentyl ... Examples of the alkyl group include saturated or unsaturated monovalent hydrocarbon groups such as a pyridyl group, a piperidyl group, a piperidino group, a pyrrolyl group, a pyrrolidinyl group, an imidazolyl group, an imidazolidinyl group, a furyl group, a tetrahydrofuryl group, a thienyl group, a tetrahydrothienyl group, a morpholinyl group, a morpholino group, and a quinolyl group. The above-mentioned hydrocarbon group or heterocyclic group may have a structure in which a halogen atom, a carbonyl group, a thiocarbonyl group, a nitro group, a silyl group, an ether group, a thioether group, an ester group, a thioester group, a dithioester group, a urethane group, a thiourethane group, a ureido group, a thioureido group, or the like is introduced as a substituent at any position. Such a monovalent group may be appropriately selected depending on the structure of the intended component (C), but from the viewpoint of performance and economy, it is preferably a saturated or unsaturated monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably a saturated or unsaturated monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. The saturated or unsaturated monovalent hydrocarbon group may be a hydrocarbon group having a branched structure or a ring structure, and may further be substituted with any substituent. However, it is preferable that the above-mentioned substituent does not have a reactive structure such as an acidic group.

その他の重合性不飽和化合物としては、スチレンおよびその誘導体を挙げることができ、具体的化合物としては、スチレン、α-メチルスチレン、又はスチレンの芳香環にアルキル基、ハロゲン原子およびヒドロキシ基等を導入した化合物が使用できる。 Other polymerizable unsaturated compounds include styrene and its derivatives. Specific compounds that can be used include styrene, α-methylstyrene, and compounds in which an alkyl group, a halogen atom, a hydroxyl group, etc. is introduced into the aromatic ring of styrene.

(C)成分には、上記の他にも、メタクリル酸グリシジル以外のエポキシ基含有重合性不飽和化合物(例えばアクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸[4-(グリシジルオキシ)ブチル]、(メタ)アクリル酸[(3,4-エポキシシクロヘキシル)メチル]、および4-(グリシジルオキシメチル)スチレン等)、ならびに、アルコキシシリル基含有重合性不飽和化合物(例えば(メタ)アクリル酸[3-(トリメトキシシリル)プロピル]、(メタ)アクリル酸[3-(トリエトキシシリル)プロピル]、および4-(トリメトキシシリル)スチレン等)等を共重合させてもよい。 In addition to the above, component (C) may also be copolymerized with epoxy group-containing polymerizable unsaturated compounds other than glycidyl methacrylate (e.g., glycidyl acrylate, (meth)acrylate [4-(glycidyloxy)butyl], (meth)acrylate [(3,4-epoxycyclohexyl)methyl], and 4-(glycidyloxymethyl)styrene, etc.), as well as alkoxysilyl group-containing polymerizable unsaturated compounds (e.g., (meth)acrylate [3-(trimethoxysilyl)propyl], (meth)acrylate [3-(triethoxysilyl)propyl], and 4-(trimethoxysilyl)styrene, etc.).

上記に例示した共重合体の中で、好ましい例としては、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸アルキルエステル(C1~C4のアルキル基)を共重合させたものや、更にスチレンを共重合させたもので、軟化点(Tg)が10~90℃になるものを挙げることができる。共重合体のTgのより好ましい範囲は、40~90℃である。 Among the copolymers listed above, preferred examples include copolymers of glycidyl methacrylate, alkyl methacrylate esters (C1-C4 alkyl groups), and copolymers of styrene, which have a softening point (Tg) of 10-90°C. The more preferred range for the Tg of the copolymer is 40-90°C.

(C)成分の重量平均分子量(Mw)は、900~20000であり、2000~15000であることが好ましく、3000~13000であることがより好ましい。重量平均分子量が20000より大きい場合は、硬化膜の平坦性が低下しやすい。また、重量平均分子量が900より小さいエポキシ化合物を得るように重合反応を制御することは一般に困難であるため、重量平均分子量が900より小さいエポキシ化合物は想定しにくい。(C)成分の重量平均分子量は、GPC(SEC)測定により求めることができる。 The weight average molecular weight (Mw) of component (C) is 900 to 20,000, preferably 2,000 to 15,000, and more preferably 3,000 to 13,000. If the weight average molecular weight is greater than 20,000, the flatness of the cured film is likely to decrease. In addition, since it is generally difficult to control the polymerization reaction to obtain an epoxy compound with a weight average molecular weight of less than 900, it is difficult to imagine an epoxy compound with a weight average molecular weight of less than 900. The weight average molecular weight of component (C) can be determined by GPC (SEC) measurement.

また、(C)成分のエポキシ当量は、150~500g/eqであり、200~490g/eqであることが好ましい。エポキシ当量が500g/eqより大きい場合は、エポキシ基の含有量が低下して硬化性が不足し、硬化膜の特性が悪化する。また、メタクリル酸グリシジルのみを重合させた場合のエポキシ当量は142g/eqであるため、エポキシ当量が150g/eqより小さいエポキシ化合物は、化学構造上の制約があり想定しにくい。 The epoxy equivalent of component (C) is 150 to 500 g/eq, and preferably 200 to 490 g/eq. If the epoxy equivalent is greater than 500 g/eq, the epoxy group content decreases, resulting in insufficient curing and poor properties of the cured film. In addition, since the epoxy equivalent when only glycidyl methacrylate is polymerized is 142 g/eq, epoxy compounds with an epoxy equivalent of less than 150 g/eq are difficult to imagine due to restrictions in their chemical structure.

上記のエポキシ当量を上記範囲とするため、(C)成分は、(C)成分を構成する重合性不飽和化合物に由来する繰返し単位の総数におけるメタクリル酸グリシジルに由来する繰返し単位の割合が、50モル%以上であることが好ましく、65モル%以上であることがより好ましい。上記メタクリル酸グリシジルに由来する繰返し単位の割合は、通常は(C)成分を合成する際に原料として用いた重合性不飽和化合物のモル比が反映される。 In order to set the epoxy equivalent within the above range, the proportion of repeating units derived from glycidyl methacrylate in the total number of repeating units derived from the polymerizable unsaturated compounds constituting component (C) is preferably 50 mol % or more, and more preferably 65 mol % or more. The proportion of repeating units derived from glycidyl methacrylate above usually reflects the molar ratio of the polymerizable unsaturated compounds used as raw materials when synthesizing component (C).

本発明の熱硬化性組成物には、(A)成分~(C)成分に該当しないエポキシ化合物を含有させることもできる。そのようなエポキシ化合物としては、例えば、トリアジン骨格を有する3官能エポキシ化合物(日産化学社製 TEPICシリーズ)の常温で固体でありエポキシ当量が(C)成分の範囲外のエポキシ化合物、常温でロウ状またはグラニュール状であり融点が低いエポキシ化合物である(3’,4’-エポキシシクロヘキシルメチル)3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレートのε-カプロラクタム変性物(テトラケム社製 TTA2081、TTA2083)等を例示することができる。なお、TEPICシリーズやTTAシリーズで、(B)成分および(C)成分に範囲内の特性を有するエポキシ化合物が開発されれば、(B)成分および(C)成分として使用することができることは勿論のことである。 The thermosetting composition of the present invention may contain an epoxy compound that does not fall under the category of components (A) to (C). Examples of such epoxy compounds include trifunctional epoxy compounds having a triazine skeleton (TEPIC series manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) that are solid at room temperature and have an epoxy equivalent outside the range of component (C), and epoxy compounds that are waxy or granular at room temperature and have a low melting point, such as ε-caprolactam modified (3',4'-epoxycyclohexylmethyl) 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (TTA2081, TTA2083 manufactured by Tetrachem Co., Ltd.). It goes without saying that if an epoxy compound with properties within the ranges of components (B) and (C) is developed in the TEPIC series or TTA series, it can be used as components (B) and (C).

(D)成分は、多価カルボン酸、多価カルボン酸の無水物、および多価カルボン酸の熱分解性エステルからなる群より選ばれる硬化剤である。 Component (D) is a curing agent selected from the group consisting of polycarboxylic acids, anhydrides of polycarboxylic acids, and thermally decomposable esters of polycarboxylic acids.

多価カルボン酸は1分子中に2つ以上のカルボキシ基を有する化合物であり、例えばコハク酸、マレイン酸、シクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸、シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸、シクロヘキセン-4,5-ジカルボン酸、ノルボルナン-2,3-ジカルボン酸、フタル酸、ベンゼン-1,2,4-トリカルボン酸、シクロヘキサン-1,2,4-トリカルボン酸、ベンゼン-1,2,4,5-テトラカルボン酸、シクロヘキサン-1,2,4,5-テトラカルボン酸、およびブタン-1,2,3,4-テトラカルボン酸等を挙げることができる。 Polycarboxylic acids are compounds that have two or more carboxy groups in one molecule, and examples include succinic acid, maleic acid, cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid, cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, cyclohexene-4,5-dicarboxylic acid, norbornane-2,3-dicarboxylic acid, phthalic acid, benzene-1,2,4-tricarboxylic acid, cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid, benzene-1,2,4,5-tetracarboxylic acid, cyclohexane-1,2,4,5-tetracarboxylic acid, and butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid.

多価カルボン酸の無水物としては、上記例示した多価カルボン酸の酸無水物が挙げられ、これは分子間酸無水物でもよいが、一般には分子内で閉環した酸無水物が用いられる。好ましい酸無水物としては、無水トリメリット酸を例示することができる。 Examples of the anhydrides of polycarboxylic acids include the acid anhydrides of the polycarboxylic acids exemplified above. These may be intermolecular acid anhydrides, but acid anhydrides that have undergone intramolecular ring closure are generally used. An example of a preferred acid anhydride is trimellitic anhydride.

多価カルボン酸の熱分解性エステルとしては、上記例示した多価カルボン酸のt-ブチルエステル、1-(アルキルオキシ)エチルエステル、1-(アルキルスルファニル)エチルエステル(ただし、ここでいうアルキルは炭素数1~20の飽和又は不飽和の炭化水素基を表し、かかる炭化水素基は分岐構造や環構造を有していてもよく、任意の置換基で置換されていてもよい)等を挙げることができる。 Examples of thermally decomposable esters of polycarboxylic acids include t-butyl esters, 1-(alkyloxy)ethyl esters, and 1-(alkylsulfanyl)ethyl esters of the above-listed polycarboxylic acids (wherein alkyl represents a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and such a hydrocarbon group may have a branched or cyclic structure, and may be substituted with any substituent).

また、(D)成分としては2つ以上のカルボキシ基を有する重合体または共重合体も用いることができる。上記重合体または共重合体のカルボキシ基は、無水物または熱分解性エステルであってもよい。このような重合体または共重合体の例としては、(メタ)アクリル酸を構成成分として含む重合体または共重合体、無水マレイン酸を構成成分として含む共重合体、テトラカルボン酸二無水物をジアミンまたはジオールと反応させて酸無水物を開環させた化合物等を挙げることができる。 Also, as component (D), a polymer or copolymer having two or more carboxy groups can be used. The carboxy group of the polymer or copolymer may be an anhydride or a thermally decomposable ester. Examples of such polymers or copolymers include a polymer or copolymer containing (meth)acrylic acid as a constituent component, a copolymer containing maleic anhydride as a constituent component, and a compound obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride with a diamine or diol to open the ring of the acid anhydride.

(E)成分は、硬化促進剤である。 Component (E) is a curing accelerator.

(E)成分としては、エポキシ化合物の硬化促進剤、硬化触媒または潜在性硬化剤等として知られる公知の化合物を利用できる。(E)成分としては、例えば、三級アミン、四級アンモニウム塩、三級ホスフィン、四級ホスホニウム塩、ホウ酸エステル、ルイス酸、有機金属化合物、およびイミダゾール類等を挙げることができるが、特に1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エン若しくは1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ-5-エンまたはそれらの塩が好ましい。 Component (E) may be a known compound known as a curing accelerator, curing catalyst, or latent curing agent for epoxy compounds. Examples of component (E) include tertiary amines, quaternary ammonium salts, tertiary phosphines, quaternary phosphonium salts, boric acid esters, Lewis acids, organometallic compounds, and imidazoles, with 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-ene or 1,5-diazabicyclo[4.3.0]non-5-ene or salts thereof being particularly preferred.

(F)成分は、カップリング剤である。 Component (F) is a coupling agent.

(F)成分としては、シランカップリング剤(3-(グリシジルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、および3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン等)、チタン系カップリング剤、ならびにアルミニウム系カップリング剤などを利用できる。 Component (F) can be a silane coupling agent (such as 3-(glycidyloxy)propyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, and 3-ureidopropyltriethoxysilane), a titanium-based coupling agent, or an aluminum-based coupling agent.

本発明の熱硬化性組成物には、溶剤(G)を含有させることができる。溶剤としては公知の化合物を利用でき、例えばエステル系溶剤(ブチルアセテート、およびシクロヘキシルアセテート等)、ケトン系溶剤(メチルイソブチルケトン、およびシクロヘキサノン等)、エーテル系溶剤(ジエチレングリコールジメチルエーテル、およびジエチレングリコールエチルメチルエーテル等)、アルコール系溶剤(3-メトキシブタノール、およびエチレングリコールモノ-t-ブチルエーテル等)、芳香族系溶剤(トルエン、およびキシレン等)、脂肪族系溶剤、アミン系溶剤、ならびにアミド系溶剤等を特に制限なく使用することができる。安全性の点からはプロピレングリコール骨格を有するエステル系やエーテル系の溶剤、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、およびプロピレングリコールジアセテート等が好ましい。また、これらに類似の構造を有する3-メトキシブチルアセテート、3-メトキシ-3-メチルブチルアセテート、および1,3-ブチレングリコールジアセテート等も好ましい。 The thermosetting composition of the present invention may contain a solvent (G). Known compounds may be used as the solvent, and examples of such solvents include ester-based solvents (butyl acetate, cyclohexyl acetate, etc.), ketone-based solvents (methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), ether-based solvents (diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, etc.), alcohol-based solvents (3-methoxybutanol, ethylene glycol mono-t-butyl ether, etc.), aromatic solvents (toluene, xylene, etc.), aliphatic solvents, amine-based solvents, and amide-based solvents, etc., may be used without particular limitation. From the standpoint of safety, ester-based and ether-based solvents having a propylene glycol skeleton, such as propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and propylene glycol diacetate, are preferred. Also preferred are 3-methoxybutyl acetate, 3-methoxy-3-methylbutyl acetate, and 1,3-butylene glycol diacetate, which have a similar structure.

熱硬化性組成物の固形分濃度については特に制限はないが、カラーフィルターの保護膜用途としては、溶剤以外の成分の合計量である固形分濃度が10~30質量%の範囲に調整されることが一般的である。また、カラーフィルターの保護膜の平坦性を高めるため、常圧における沸点が150℃未満の溶剤40~90質量%及び常圧における沸点が150℃以上の溶剤10~60質量%を併用して、熱硬化性組成物の乾燥性を制御することが好ましい。 There are no particular restrictions on the solids concentration of the thermosetting composition, but for use as a protective film for a color filter, the solids concentration, which is the total amount of components other than the solvent, is generally adjusted to a range of 10 to 30 mass %. In addition, in order to improve the flatness of the protective film for a color filter, it is preferable to control the drying property of the thermosetting composition by using a combination of 40 to 90 mass % of a solvent with a boiling point of less than 150°C at normal pressure and 10 to 60 mass % of a solvent with a boiling point of 150°C or higher at normal pressure.

本発明の熱硬化性組成物は、固形分の全質量に対して、(A)成分、(B)成分、(C)成分を含むエポキシ化合物の合計含有量(A+B+C)が55~85質量%であることが好ましく、60~80質量%であることがより好ましい。(A+B+C)が55質量%未満であると、(A+B+C)に対する硬化剤の比率が大きくなり、エポキシ化合物の硬化物としての特性が十分に得られなかったり、硬化反応に寄与しない余剰の硬化物が発ガス性に悪影響を及ぼしたりする。また、(A+B+C)が85質量%を超えると、(A+B+C)に対する硬化剤の比率が極端に少なくなり、硬化反応が十分に進まず、硬化物の耐熱性が不足したり、特に(B)成分が余剰になった場合は発ガス性への悪影響も大きくなる。 In the thermosetting composition of the present invention, the total content (A+B+C) of the epoxy compounds including the (A), (B) and (C) components is preferably 55 to 85% by mass, more preferably 60 to 80% by mass, based on the total mass of the solid content. If (A+B+C) is less than 55% by mass, the ratio of the curing agent to (A+B+C) becomes large, and the properties of the cured product of the epoxy compound are not sufficiently obtained, or the excess cured product that does not contribute to the curing reaction adversely affects the gas generation. If (A+B+C) exceeds 85% by mass, the ratio of the curing agent to (A+B+C) becomes extremely small, the curing reaction does not proceed sufficiently, the heat resistance of the cured product is insufficient, and the adverse effect on the gas generation is also large, especially when the (B) component becomes excessive.

本発明の熱硬化性組成物は、エポキシ化合物の全質量に対して、(A)成分の含有量が5~50質量%であることが好ましく、10~50質量%であることがより好ましい。また、本発明の熱硬化性組成物は、エポキシ化合物の全質量に対して、(B)成分の含有量が10~40質量%であることが好ましく、20~40質量%であることがより好ましい。また、本発明の熱硬化性組成物は、エポキシ化合物の全質量に対して、(C)成分の含有量が10~70質量%であることが好ましく、10~50質量%であることがより好ましい。 In the thermosetting composition of the present invention, the content of component (A) is preferably 5 to 50 mass%, more preferably 10 to 50 mass%, based on the total mass of the epoxy compound. In addition, in the thermosetting composition of the present invention, the content of component (B) is preferably 10 to 40 mass%, more preferably 20 to 40 mass%, based on the total mass of the epoxy compound. In addition, in the thermosetting composition of the present invention, the content of component (C) is preferably 10 to 70 mass%, more preferably 10 to 50 mass%, based on the total mass of the epoxy compound.

本発明の熱硬化性組成物は、固形分の全質量に対して、(D)成分の含有量が5~40質量%であることが好ましく、10~30質量%であることがより好ましい。(D)成分が5質量%未満であると、硬化反応が十分に進まず、硬化物の耐熱性が不足するなど硬化物の物性が十分に得られず、また、特に(B)成分が余剰になった場合は発ガス性への悪影響も大きくなる。(D)成分が40質量%を超えると、硬化反応に寄与しない余剰の硬化物が発ガス性に悪影響を及ぼし、硬化物としての特性が十分に得られなかったりする。 In the thermosetting composition of the present invention, the content of component (D) is preferably 5 to 40% by mass, and more preferably 10 to 30% by mass, based on the total mass of solids. If the content of component (D) is less than 5% by mass, the curing reaction does not proceed sufficiently, and the cured product does not have sufficient physical properties, such as insufficient heat resistance, and in particular, if there is an excess of component (B), this has a significant adverse effect on gas generation. If the content of component (D) exceeds 40% by mass, the excess cured product that does not contribute to the curing reaction has an adverse effect on gas generation, and the properties of the cured product may not be sufficient.

本発明の熱硬化性組成物は、硬化膜の透明性を確保しつつ、硬化を促進させる効果と保存安定性のバランスをとる観点から、固形分の全質量に対して、(E)成分の含有量が0.01~2質量%であることが好ましく、0.05~1.5質量%であることがより好ましい。(E)成分が0.01質量%未満では促進剤としての効力に乏しく、十分な硬化物物性の硬化物を得るのが難しい。また、(E)成分が2質量%を超えると、熱硬化性組成物溶液としたときに十分な保存安定性が得られなかったり、加熱時の着色に悪影響を及ぼしたりする。 In the thermosetting composition of the present invention, from the viewpoint of balancing the effect of promoting curing and storage stability while ensuring the transparency of the cured film, the content of component (E) is preferably 0.01 to 2 mass%, and more preferably 0.05 to 1.5 mass%, based on the total mass of solids. If the content of component (E) is less than 0.01 mass%, the accelerator effect is poor, and it is difficult to obtain a cured product with sufficient physical properties. If the content of component (E) is more than 2 mass%, the thermosetting composition solution may not have sufficient storage stability or may have an adverse effect on coloring during heating.

本発明の熱硬化性組成物は、固形分の全質量に対して、(F)成分の含有量を1~20質量%にして用いることができる。(F)成分が1質量%未満であると塗布した下層との密着性が不足する傾向があり、20質量%を超えると密着性に寄与しない余剰の(F)成分が発ガス性を悪化させてしまう。カラーフィルターの保護膜として用いる場合、下層がRGB画素といった有機層である場合は、1~10質量%であることが好ましく、RGBW方式のようにガラス基板と直接接触する場合のように有機層以外との密着性も問題になる場合には、5~20質量%であることが好ましい。下層種類に依存しない場合に、より好ましい範囲は5~15質量%である。 The thermosetting composition of the present invention can be used with a content of component (F) of 1 to 20% by mass based on the total mass of the solid content. If the content of component (F) is less than 1% by mass, adhesion to the coated lower layer tends to be insufficient, and if the content of component (F) exceeds 20% by mass, the excess component (F) that does not contribute to adhesion will deteriorate gas generation. When used as a protective film for a color filter, if the lower layer is an organic layer such as an RGB pixel, the content is preferably 1 to 10% by mass, and if adhesion to layers other than the organic layer is also an issue, such as in the case of direct contact with a glass substrate as in the RGBW method, the content is preferably 5 to 20% by mass. If it does not depend on the type of lower layer, a more preferable range is 5 to 15% by mass.

本発明の熱硬化性組成物は、必要に応じてその他の任意の成分を含んだものであってもよく、例えば着色材、フィラー、樹脂、添加剤等を含有させることができる。ここで、着色材としては染料、有機顔料、無機顔料、カーボンブラック顔料等を、フィラーとしてはシリカ、タルク等を、樹脂としてはビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテル樹脂、メラミン樹脂等を、添加剤としては架橋剤、分散剤、界面活性剤、シランカップリング剤、粘度調整剤、湿潤剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等をそれぞれ挙げることができる。これら任意の成分としては、公知の化合物を特に制限なく使用することができる。カラーフィルターの保護膜として使用する場合は、界面活性剤(フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等)等を使用してもよく、ただし、その含有量の合計は熱硬化性組成物の固形分中10質量%を上限とすることが好ましい。 The thermosetting composition of the present invention may contain other optional components as necessary, for example, coloring materials, fillers, resins, additives, etc. Here, examples of coloring materials include dyes, organic pigments, inorganic pigments, carbon black pigments, etc.; examples of fillers include silica, talc, etc.; examples of resins include vinyl resins, polyester resins, polyamide resins, polyimide resins, polyurethane resins, polyether resins, melamine resins, etc.; examples of additives include crosslinking agents, dispersants, surfactants, silane coupling agents, viscosity modifiers, wetting agents, defoamers, antioxidants, ultraviolet absorbers, etc. As these optional components, known compounds can be used without particular restrictions. When used as a protective film for a color filter, surfactants (fluorine-based surfactants, silicone-based surfactants, etc.) may be used, but it is preferable that the total content of the surfactants is up to 10 mass% of the solid content of the thermosetting composition.

本発明の熱硬化性組成物の硬化物を作製する方法としては公知の方法が利用できる。たとえば、目的や用途に合わせた適切な基材や型へ熱硬化性組成物を塗布または注入した後、加熱により溶剤の除去及び硬化が行われればよい。溶剤の除去には減圧乾燥等も適用できる。 A known method can be used to prepare a cured product of the thermosetting composition of the present invention. For example, the thermosetting composition can be applied or injected into an appropriate substrate or mold according to the purpose and application, and then the composition can be heated to remove the solvent and harden the composition. Reduced pressure drying or the like can also be used to remove the solvent.

本発明の熱硬化性組成物の硬化物は、膜状の硬化膜とすることができる。当該硬化膜は、カラーフィルターの基材上に塗布した画素用の着色組成物の表面に塗布して、硬化させて作製することで、カラーフィルターの保護膜とすることができる。このとき、RGBのほかに、カラーフィルターの画素用の着色組成物を塗布しないホワイト(W)の画素を有するカラーフィルターを作製する際に、本発明の熱硬化性組成物を塗布および硬化させて保護膜を作製すると、着色組成物を塗布しなかったために形成された深さ1.0~3.0μm程度のWの空間を充填させつつ、基材に塗布されたRGBの着色組成物上に形成された保護膜の表面とWの空間上に形成された保護膜の表面との間での、平坦性を満足させることができる。 The cured product of the thermosetting composition of the present invention can be a film-like cured film. The cured film can be prepared by applying it to the surface of a coloring composition for pixels applied to a substrate of a color filter and curing it to prepare a protective film for the color filter. In this case, when preparing a color filter having white (W) pixels in which a coloring composition for pixels of a color filter is not applied in addition to RGB, if the thermosetting composition of the present invention is applied and cured to prepare a protective film, the space W of about 1.0 to 3.0 μm deep formed due to the absence of application of the coloring composition can be filled, and the flatness between the surface of the protective film formed on the RGB coloring composition applied to the substrate and the surface of the protective film formed on the space W can be satisfied.

本発明の熱硬化性組成物の硬化物は、RGBW方式を含めたLCDのカラーフィルターの保護膜として適用できることはもちろんのこと、特に平坦性、低発ガス性に優れた透明な硬化膜を必要とする表示装置に対して適用することも可能である。すなわち、LCD以外の有機EL表示装置、μLED表示装置、量子ドットを適用した表示装置の構成要素として、特に凹凸や段差を平坦化する透明膜が必要である場合には好適に適用することが可能である。更には、カラーフィルター層を装備したCMOS等のセンサーへの適用も可能である。また、本発明の熱硬化性組成物の硬化物は、上述したような段差部の穴埋めをしつつ、表面の平坦性を高くすることができるため、ソルダーレジスト層、メッキレジスト層、エッチングレジスト層などのレジスト層、多層プリント配線板などの層間絶縁層、ガスバリア用のフィルム、レンズおよび発光ダイオード(LED)等の半導体発光素子用の封止材、塗料やインキのトップコート、プラスチック類のハードコート、金属類の防錆膜等にも用いることができる。また、コーティング剤としてだけではなく、熱硬化性組成物そのものを成形してフィルム、基板、プラスチック部品、光学レンズ等の作製にも応用できることから極めて有用である。 The cured product of the thermosetting composition of the present invention can be used as a protective film for the color filter of LCDs including RGBW type, and can also be used for display devices that require a transparent cured film with excellent flatness and low gas generation. That is, it can be suitably used as a component of organic EL display devices other than LCDs, μLED display devices, and display devices using quantum dots, especially when a transparent film that flattens unevenness and steps is required. Furthermore, it can be applied to sensors such as CMOS equipped with a color filter layer. In addition, the cured product of the thermosetting composition of the present invention can fill the above-mentioned step parts while increasing the flatness of the surface, so it can be used for resist layers such as solder resist layers, plating resist layers, and etching resist layers, interlayer insulating layers such as multilayer printed wiring boards, gas barrier films, sealing materials for lenses and semiconductor light-emitting elements such as light-emitting diodes (LEDs), top coats for paints and inks, hard coats for plastics, and rust-proof films for metals. In addition, it is extremely useful not only as a coating agent, but also because the thermosetting composition itself can be molded to produce films, substrates, plastic parts, optical lenses, etc.

以下、実施例及び比較例に基づいて、本発明の実施形態を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 The following describes the embodiments of the present invention in detail based on examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these.

[合成例1]
攪拌装置、コンデンサー、油水分離管を備えた減圧反応ができる反応容器に9,9-ビス(4-ヒドロキシナフチル)フルオレン451質量部、エピクロルヒドリン555質量部を仕込み、完全に溶解した後、系内を減圧にして20kPa、73℃にし、その後、129.2質量部の49%NaOH水溶液を3時間かけて滴下した。反応中は、還流状態で行い還流留出した水とエピクロルヒドリンとを油水分離管で分離し、エピクロルヒドリンは反応容器に戻し、水は系外に除いて反応させた。反応終了後、エピクロルヒドリンを留去し、トルエン600質量部に溶解した。その後生成した塩を除去し、更に水洗した後、49%NaOH溶液36.5質量部と水14.5質量部とを投入して80℃で3時間、加熱撹拌して精製した。精製後、水洗を繰り返し、塩類などの不純物を洗浄した。洗浄したトルエン溶液からトルエンを回収してエポキシ化合物380質量部を得た(エポキシ化合物(A)-1)。得られた樹脂のエポキシ当量は296g/eqであった。
[Synthesis Example 1]
451 parts by mass of 9,9-bis(4-hydroxynaphthyl)fluorene and 555 parts by mass of epichlorohydrin were charged into a reaction vessel equipped with a stirrer, a condenser, and an oil-water separation tube capable of a reduced pressure reaction, and after complete dissolution, the pressure in the system was reduced to 20 kPa and 73°C, and then 129.2 parts by mass of a 49% NaOH aqueous solution was dropped over 3 hours. During the reaction, the reaction was carried out in a reflux state, and the water and epichlorohydrin distilled from the reflux were separated using an oil-water separation tube, and the epichlorohydrin was returned to the reaction vessel, and the water was removed from the system and reacted. After the reaction was completed, epichlorohydrin was distilled off and dissolved in 600 parts by mass of toluene. The salt formed was then removed, and the mixture was further washed with water, after which 36.5 parts by mass of a 49% NaOH solution and 14.5 parts by mass of water were added and heated and stirred at 80°C for 3 hours to purify. After purification, the mixture was repeatedly washed with water to wash out impurities such as salts. Toluene was recovered from the washed toluene solution to obtain 380 parts by mass of an epoxy compound (epoxy compound (A)-1). The epoxy equivalent of the obtained resin was 296 g/eq.

[合成例2]
合成例1において、9,9-ビス(4-ヒドロキシナフチル)フルオレン451質量部のかわりに9,9-ビス(4-ヒドロキシフェニル)フルオレン350質量部を用いた以外は、合成例1と同様に反応、精製することにより、エポキシ化合物(A)-2を得た。得られた樹脂のエポキシ当量は257g/eqであった。
[Synthesis Example 2]
Epoxy compound (A)-2 was obtained by carrying out reaction and purification in the same manner as in Synthesis Example 1, except that 350 parts by mass of 9,9-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene was used instead of 451 parts by mass of 9,9-bis(4-hydroxynaphthyl)fluorene in Synthesis Example 1. The epoxy equivalent of the obtained resin was 257 g/eq.

(熱硬化性組成物の作製)
表1~表5に示す組成によって配合を行い、室温で3時間攪拌混合して固形分成分を溶剤に溶解させ、熱硬化性組成物を作製した。組成の数値は質量部であり、固形分の合計が100質量部となるように記載されている。固形分成分の中にははじめから溶剤(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)に溶解した状態で合成されたものもあるが、その場合は組成の数値には固形分としての質量部を示し、持ち込まれる溶剤分は溶剤の質量部に含めて記した。実施例の配合に使用した成分を以下に示す。
(Preparation of Thermosetting Composition)
The compositions shown in Tables 1 to 5 were blended, and the solid components were dissolved in the solvent by stirring and mixing at room temperature for 3 hours to prepare thermosetting compositions. The composition values are in parts by mass, and are listed so that the total solid content is 100 parts by mass. Some solid components were synthesized in a state dissolved in a solvent (propylene glycol monomethyl ether acetate) from the beginning, and in that case the composition values show the parts by mass of the solid content, and the solvent content brought in is included in the parts by mass of the solvent. The components used in the blends of the examples are shown below.

(成分(A):一般式(1)で表されるエポキシ化合物)
(A)-1:合成例1で調製した一般式(1)において、mの平均値が0.06であるビスナフトールフルオレン型エポキシ化合物
(A)-2:合成例2で調製した一般式(1)において、mの平均値が0.12であるビスフェノールフルオレン型エポキシ化合物
(Component (A): Epoxy compound represented by general formula (1))
(A)-1: Bisnaphtholfluorene type epoxy compound having an average value of m of 0.06 in general formula (1) prepared in Synthesis Example 1. (A)-2: Bisphenolfluorene type epoxy compound having an average value of m of 0.12 in general formula (1) prepared in Synthesis Example 2.

(成分(B):常温で液状のエポキシ化合物)
(B)-1:(3’,4’-エポキシシクロヘキシルメチル)3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(ダイセル社製 セロキサイド2021P、エポキシ当量135)
(B)-2:ビスフェノールA型エポキシ化合物(三菱ケミカル製JER828、エポキシ当量190)
(Component (B): Epoxy compound that is liquid at room temperature)
(B)-1: (3',4'-epoxycyclohexylmethyl) 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (Celloxide 2021P, manufactured by Daicel Corporation, epoxy equivalent: 135)
(B)-2: Bisphenol A type epoxy compound (JER828 manufactured by Mitsubishi Chemical, epoxy equivalent: 190)

(成分(C):で重量平均分子量が900~20000かつエポキシ当量が150~500g/eqであるエポキシ化合物)
(C)-1:2,2-ビス(ヒドロキシメチル)-1-ブタノールの1,2-エポキシ-4-(2-オキシラニル)シクロヘキサン付加物(株式会社ダイセル製、EHPE3150、Mw:約1400、エポキシ当量:170~190g/eq)
(C)-2:グリシジルメタクリレート:メチルメタクリレート:n-ブチルメタクリレート=5:3:2の共重合組成のグリシジルメタクリレート共重合ポリマー(Mw:約9000、エポキシ当量:295g/eq)
(C)-3:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱ケミカル株式会社製、JER1001、Mw:約900、エポキシ当量:450~500g/eq)
(Component (C): an epoxy compound having a weight average molecular weight of 900 to 20,000 and an epoxy equivalent of 150 to 500 g/eq)
(C)-1: 1,2-epoxy-4-(2-oxiranyl)cyclohexane adduct of 2,2-bis(hydroxymethyl)-1-butanol (manufactured by Daicel Corporation, EHPE3150, Mw: about 1400, epoxy equivalent: 170 to 190 g/eq)
(C)-2: glycidyl methacrylate copolymer having a copolymerization composition of glycidyl methacrylate:methyl methacrylate:n-butyl methacrylate=5:3:2 (Mw: about 9000, epoxy equivalent: 295 g/eq)
(C)-3: Bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, JER1001, Mw: about 900, epoxy equivalent: 450 to 500 g/eq)

(成分(D):硬化剤)
(D):無水トリメリット酸
(Component (D): Curing Agent)
(D): Trimellitic anhydride

(成分(E):硬化促進剤)
(E):1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エンのオクチル酸塩
(Component (E): Curing Accelerator)
(E): Octylate salt of 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-ene

(成分(F):カップリング剤)
(F):3-(グリシジルオキシ)プロピルトリメトキシシラン
(Component (F): Coupling Agent)
(F): 3-(glycidyloxy)propyltrimethoxysilane

(成分(G):溶剤)
(G)-1:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
(G)-2:3-メトキシプロピオン酸メチル
(G)-3:ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
(Component (G): Solvent)
(G)-1: Propylene glycol monomethyl ether acetate (G)-2: Methyl 3-methoxypropionate (G)-3: Diethylene glycol ethyl methyl ether

(成分(S):その他の成分)
(S):フッ素系界面活性剤(DIC株式会社製、メガファックF-556)
(Component (S): Other Components)
(S): Fluorine-based surfactant (MEGAFAC F-556, manufactured by DIC Corporation)

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(熱硬化性組成物の評価:平坦性)
カラーフィルター基板として、ブラックマトリクス及びレッド・グリーン・ブルーの画素およびモザイク状にブルーの画素が無いパターンが形成されており、画素上で高さ2.5μmの凹凸が生じているものを用意した。上記熱硬化性組成物をカラーフィルター基板にスピンコーターを用いて塗布し、90℃のホットプレートで2分間乾燥させて試験片を作製した。このとき、画素上に膜厚1.5μmの硬化膜が得られるように塗布条件(スピン回転数)を調節した。次に試験片を230℃の熱風オーブンで30分間焼成し、熱硬化性組成物の硬化膜を得た。
(Evaluation of Thermosetting Composition: Flatness)
A color filter substrate was prepared in which a black matrix, red, green, and blue pixels, and a mosaic pattern without blue pixels were formed, and unevenness of 2.5 μm in height was generated on the pixels. The above-mentioned thermosetting composition was applied to the color filter substrate using a spin coater, and dried on a hot plate at 90° C. for 2 minutes to prepare a test piece. At this time, the application conditions (spin rotation speed) were adjusted so that a cured film with a film thickness of 1.5 μm was obtained on the pixel. Next, the test piece was baked in a hot air oven at 230° C. for 30 minutes to obtain a cured film of the thermosetting composition.

画素を保護するように形成された硬化膜の表面のうち任意に選択した2点の凹凸の高さを、接触式表面粗さ計(商品名 株式会社小坂研究所社製 微細形状測定器 ET-4000A)で測定し、次の基準により3段階評価を行った。
◎(良好) :凹凸の高さの差は0.10μm以下だった
○(やや良好) :凹凸の高さの差は0.10μmを超え0.15μm以下だった
△(やや不良) :凹凸の高さの差は0.15μmを超え0.20μm以下だった
×(不良) :凹凸の高さの差は0.2μmを超えていた
The height of the unevenness at two arbitrarily selected points on the surface of the cured film formed to protect the pixels was measured with a contact surface roughness meter (product name: Microprofile Measuring Instrument ET-4000A, manufactured by Kosaka Laboratory Co., Ltd.), and evaluated into three levels according to the following criteria.
◎ (Good): The difference in height of the unevenness was 0.10 μm or less. ○ (Fair): The difference in height of the unevenness was more than 0.10 μm and 0.15 μm or less. △ (Fair): The difference in height of the unevenness was more than 0.15 μm and 0.20 μm or less. × (Fair): The difference in height of the unevenness was more than 0.2 μm.

(熱硬化性組成物の評価:発ガス性)
上記熱硬化性組成物を無アルカリガラス基板にスピンコーターを用いて塗布し、90℃のホットプレートで2分間乾燥させて試験片を作製した。このとき、膜厚1.5μmの硬化膜が得られるように塗布条件(スピン回転数)を調節した。次に試験片を230℃の熱風オーブンで30分間焼成し、熱硬化性組成物の硬化膜を得た。試験片の硬化膜を10mg削り取ってサンプリングし、これを大気気流下、室温から120℃を10℃/分で昇温して120℃において30分保持後、120℃から230℃を10℃/分で230℃にて3時間保持した際の重量減少を、熱重量分析装置(商品名株式会社リガク社製 示差熱天秤 Thermo plus EVO2)で測定し、次の基準により3段階評価を行った。
◎ :重量減少は5%未満だった
○ :重量減少は5%以上7%未満だった
△ :重量減少は7%以上10%未満だった
× :重量減少は10%以上だった
(Evaluation of Thermosetting Composition: Gas Generation)
The above thermosetting composition was applied to an alkali-free glass substrate using a spin coater, and dried on a hot plate at 90 ° C for 2 minutes to prepare a test piece. At this time, the application conditions (spin rotation speed) were adjusted so that a cured film with a film thickness of 1.5 μm was obtained. Next, the test piece was baked in a hot air oven at 230 ° C for 30 minutes to obtain a cured film of the thermosetting composition. 10 mg of the cured film of the test piece was scraped off and sampled, and the sample was heated from room temperature to 120 ° C at a rate of 10 ° C / min under air flow, held at 120 ° C for 30 minutes, and then held at 230 ° C for 3 hours at a rate of 10 ° C / min from 120 ° C to 230 ° C. The weight loss was measured with a thermogravimetric analyzer (product name: Rigaku Corporation Differential Thermobalance Thermo plus EVO2), and three-stage evaluation was performed according to the following criteria.
◎: Weight loss was less than 5%. ○: Weight loss was 5% or more but less than 7%. △: Weight loss was 7% or more but less than 10%. ×: Weight loss was 10% or more.

(熱硬化性組成物の評価:耐薬品性)
上記発ガス性評価と同様にして熱硬化性組成物の硬化膜が形成された試験片を作製した。試験片をN-メチルピロリドンに40℃で30分間浸漬させた後、硬化膜の状態を観察し、次の基準により3段階評価を行った。
○ :外観に変化なく膜厚変化が2%以内だった
△ :外観に変化はなかったが膜厚変化が2%を超えていた
× :外観に変化が見られた
(Evaluation of Thermosetting Composition: Chemical Resistance)
Test pieces on which a cured film of the thermosetting composition was formed were prepared in the same manner as in the gas generation evaluation described above. The test pieces were immersed in N-methylpyrrolidone at 40° C. for 30 minutes, and then the state of the cured film was observed and evaluated on a three-level scale according to the following criteria.
○: No change in appearance and change in film thickness was within 2%. △: No change in appearance, but change in film thickness was more than 2%. ×: Change in appearance was observed.

(熱硬化性組成物の評価:密着性)
上記発ガス性評価と同様にして熱硬化性組成物の硬化膜が形成された試験片を作製した。環境試験機を用いて試験片を121℃で湿度100%の環境下に5時間保持した後、硬化膜に対してクロスカット-テープ剥離試験を行い、ASTM D3359の基準により5Bから0Bまでの6段階にて評価を行った。
(Evaluation of Thermosetting Composition: Adhesion)
Test pieces on which a cured film of the thermosetting composition was formed were prepared in the same manner as in the gas generation evaluation described above. The test pieces were held in an environment of 121°C and 100% humidity for 5 hours using an environmental tester, and then a cross-cut tape peel test was performed on the cured film, and the film was evaluated on a 6-level scale from 5B to 0B according to the standard of ASTM D3359.

(熱硬化性組成物の評価:電気的信頼性)
上記発ガス性評価と同様にして熱硬化性組成物の硬化膜が形成された試験片を作製した。試験片の硬化膜を40mg削り取ってサンプリングし、これを液晶(メルク社製「MLC-6608」)1gに浸漬させて100℃で72時間保持した後、液晶の電圧保持率を測定し、次の基準により3段階評価を行った。
○ :電圧保持率は95%以上だった
△ :電圧保持率は90%以上95%未満だった
× :電圧保持率は90%未満だった
(Evaluation of Thermosetting Composition: Electrical Reliability)
A test piece having a cured film of the thermosetting composition formed thereon was prepared in the same manner as in the gas generation evaluation described above. 40 mg of the cured film of the test piece was scraped off to obtain a sample, which was then immersed in 1 g of liquid crystal ("MLC-6608" manufactured by Merck) and held at 100°C for 72 hours, after which the voltage holding rate of the liquid crystal was measured and evaluated on a three-level scale according to the following criteria:
○: The voltage retention rate was 95% or more. △: The voltage retention rate was 90% or more but less than 95%. ×: The voltage retention rate was less than 90%.

(熱硬化性組成物の評価:透明性)
上記発ガス性評価と同様にして熱硬化性組成物の硬化膜が形成された試験片を作製した。波長400nmにおける硬化膜の透過率を分光光度計で測定し、次の基準により3段階評価を行った。
○ :透過率は95%以上だった
△ :透過率は93%以上95%未満だった
× :透過率は93%未満だった
(Evaluation of Thermosetting Composition: Transparency)
Test pieces each having a cured film of the thermosetting composition formed thereon were prepared in the same manner as in the gas generation evaluation described above. The transmittance of the cured film at a wavelength of 400 nm was measured with a spectrophotometer and evaluated on a three-level scale according to the following criteria.
○: The transmittance was 95% or more. △: The transmittance was 93% or more but less than 95%. ×: The transmittance was less than 93%.

それぞれの熱硬化性組成物の評価結果を表6~表10に示す。 The evaluation results for each thermosetting composition are shown in Tables 6 to 10.

Figure 0007493301000008
Figure 0007493301000008

Figure 0007493301000009
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Figure 0007493301000010
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Figure 0007493301000011
Figure 0007493301000011

Figure 0007493301000012
Figure 0007493301000012

実施例1~18と比較例21~32の結果から、各実施例の熱硬化性組成物はカラーフィルターの保護膜に求められる平坦性、耐熱性、密着性及び硬度を同時に満足しており、更に耐薬品性、電気的信頼性及び透明性にも優れていることがわかる。 The results of Examples 1 to 18 and Comparative Examples 21 to 32 show that the thermosetting compositions of each Example simultaneously satisfy the flatness, heat resistance, adhesion, and hardness required for a protective film for a color filter, and furthermore have excellent chemical resistance, electrical reliability, and transparency.

Claims (5)

下記一般式(1)で表されるmの平均値が0~1であるエポキシ化合物(A)、常温で液状のエポキシ化合物(B)、(A)成分または(B)成分以外で重量平均分子量が900~20000かつエポキシ当量が200~490g/eqであるエポキシ化合物(C)、多価カルボン酸および多価カルボン酸の無水物からなる群より選ばれる硬化剤(D)(下記一般式(I)で表される化合物を除く)、ならびに硬化促進剤(E)を含有し、
(A)成分、(B)成分、および(C)成分を含むエポキシ化合物の全質量に対して、(A)成分の含有量が5~50質量%であり、(B)成分の含有量が10~40質量%であり、(C)成分の含有量が10~70質量%であり、凹凸または段差を平坦化する膜を作製する用途に用いられることを特徴とする熱硬化性組成物。
Figure 0007493301000013
(一般式(1)中、Arは炭素数6~12の2価の芳香族炭化水素基であり、当該2価の芳香族炭化水素基の水素原子の一部が炭素数1~10の炭化水素基、炭素数1~5のアルコキシ基、またはハロゲン基で置換されていてもよい。)
Figure 0007493301000014
(一般式(I)中、R はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数1~15のアルキル基、もしくはカルボキシル基を表し、qは置換基R の数を表し、1~4の整数である。Pは下記x、y及びzのいずれかである。
Figure 0007493301000015
(式x中、R は1つの環当たり複数存在してもよく、それぞれ独立して、水素原子、もしくはメチル基を表す。*は酸素原子との結合部分である)
y. 炭素数6~20の鎖状アルキレンリンカーであって、炭素数3以上の主鎖を有し、少なくとも1箇所がアルキル基で置換されているもの
Figure 0007493301000016
(式z中、Rは、それぞれ独立して水素原子、炭素数1~15のアルキル基、もしくはカルボキシル基を表す。4つの*のうち2つは酸素原子との結合部分であり、残りの2つには水酸基が結合している。*は酸素原子との結合部分である))
The epoxy compound (A) is represented by the following general formula (1) and has an average value of m of 0 to 1; an epoxy compound (B) which is liquid at room temperature; an epoxy compound (C) other than component (A) or component (B) which has a weight average molecular weight of 900 to 20,000 and an epoxy equivalent of 200 to 490 g/eq; a curing agent (D) selected from the group consisting of polycarboxylic acids and anhydrides of polycarboxylic acids (excluding compounds represented by the following general formula (I)) ; and a curing accelerator (E);
A thermosetting composition characterized in that, relative to the total mass of an epoxy compound containing components (A), (B), and (C), the content of component (A) is 5 to 50 mass%, the content of component (B) is 10 to 40 mass%, and the content of component (C) is 10 to 70 mass%, and the composition is used for producing a film for planarizing unevenness or steps .
Figure 0007493301000013
In general formula (1), Ar is a divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms, and some of the hydrogen atoms of the divalent aromatic hydrocarbon group may be substituted with a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or a halogen group.
Figure 0007493301000014
In general formula (I), R 1 's each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or a carboxyl group; q represents the number of substituents R 1 and is an integer of 1 to 4; and P is any one of x, y, and z as follows:
Figure 0007493301000015
(In formula x, a plurality of R2 may exist per ring, and each R2 independently represents a hydrogen atom or a methyl group. * represents a bond to an oxygen atom.)
y. A chain alkylene linker having 6 to 20 carbon atoms, a main chain having 3 or more carbon atoms, and at least one alkyl group substituted thereon.
Figure 0007493301000016
(In formula z, R each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or a carboxyl group. Of the four *'s, two are bonding sites to oxygen atoms, and the remaining two are bonding to hydroxyl groups. *'s are bonding sites to oxygen atoms.)
固形分の全質量に対して、(A)成分、(B)成分、(C)成分を含むエポキシ化合物の合計含有量が55~85質量%であり、(D)成分の含有量が5~40質量%であり、(E)成分の含有量が0.01~2質量%であることを特徴とする、請求項1記載の熱硬化性組成物。 The thermosetting composition according to claim 1, characterized in that the total content of the epoxy compounds including the components (A), (B), and (C) is 55 to 85 mass%, the content of the component (D) is 5 to 40 mass%, and the content of the component (E) is 0.01 to 2 mass%, based on the total mass of the solid content. 固形分の全質量に対して1~20質量%のカップリング剤(F)を含有することを特徴とする、請求項1又は2に記載の熱硬化性組成物。 The thermosetting composition according to claim 1 or 2, characterized in that it contains 1 to 20 mass % of a coupling agent (F) based on the total mass of the solid content. 請求項1~3のいずれか1項に記載の熱硬化性組成物を硬化させてなることを特徴とする、硬化膜。 A cured film formed by curing the thermosetting composition according to any one of claims 1 to 3. 請求項4記載の硬化膜を有することを特徴とする、表示装置。 A display device having the cured film according to claim 4.
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